CN1727975A - 液晶显示装置及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

液晶显示装置及其制造方法。提供了一种具有液晶板的液晶显示装置，该液晶板包括用作显示区的有源区和用作非显示区的外区。该液晶显示装置包括：第一基板，包括形成在有源区中的阵列单元和滤色器；形成在外区中的静电放电电路；形成在静电放电电路上的图案间隔物；面对第一基板的第二基板；以及用于将第一基板与第二基板接合起来的密封剂。

Description

液晶显示装置及其制造方法
技术领域
本发明涉及液晶显示装置，更具体来说，涉及一种防止静电放电电路中的损害的液晶显示装置及其制造方法。
背景技术
随着电子工业的发展，曾仅限于在TV布劳恩管等中使用的显示装置被扩展应用于个人计算机(PC)、笔记本计算机、无线终端、车辆仪表板、电子显示板等。而且，随着信息通信技术的发展，由于可以传送大容量图像信息，所以能够处理并显示大容量图像信息的下一代显示装置的重要性日益增强。
这种下一代显示装置需要实现更轻、更薄、更短并且更小的特性，需要实现高亮度、大尺寸屏幕、低功耗以及低价。下一代显示装置的示例包括液晶显示板(LCD)、等离子显示板(PDP)、电致发光显示器(ELD)、真空荧光显示器(VFD)等。其中，LCD是关注的焦点。
LCD展现了比其他平面显示器更卓越的分辨率，并且在实现运动图像方面具有与CRT相当的响应速率。
LCD因其亮度和对比度高并且功耗低，而被广泛用于各种技术领域，如PC监视器、笔记本计算机监视器、电视接收器、车载电视接收器以及导航装置等。
在LCD中，将两块基板布置成相互面对。分别在这两块基板的相面对的表面上形成多个电极。将液晶注入这两块基板之间的间隙中。通过由施加给所述多个电极的电压产生的电场改变液晶的配向状态。因此，改变了透光性从而显示图像。
LCD包括用于显示图像的液晶板和用于向该液晶板施加驱动信号的驱动单元。该液晶板包括：接合起来的第一基板和第二基板，其间具有预定间隙；和注入第一基板与第二基板之间的间隙中的液晶层。
在第一基板上包括：多条选通线，按一个方向排列并且相互隔开预定距离；多条数据线，被排列成垂直于所述多条选通线并且相互隔开预定间隙；多个像素电极，在由所述多条选通线和多条数据线限定的各像素区中形成为矩阵图案；以及多个薄膜晶体管(TFT)，由所述多条选通线的信号导通以向各像素电极传送所述多条数据线的信号。
在第二基板上包括：黑底层，用于阻挡来自除像素区以外的其他区的光；用于表示颜色的滤色器层；以及用于再现图像的公共电极。
当将滤色器形成在包括TFT的阵列基板(即，第一层)上时，可以改进产品合格率和接合容限。
下面对其中把TFT和滤色器形成在同一基板上的TFT上滤色器(COT)型LCD和滤色器上TFT(TOC)型LCD进行描述。
图1是示出现有技术的COT型LCD的阵列基板的一部分的平面图。
参照图1，在基板150上沿一个方向排列多条选通线152。选通连接线154连接到选通线152的一端，而选通焊盘156连接到该选通连接线154。把多条数据线158排列成垂直于选通线152以限定多个像素区P。数据连接线(未示出)连接到数据线158的一端，而数据焊盘(未示出)连接到该数据连接线。
在选通焊盘156处设有岛形选通焊盘端口153。该选通焊盘端口153连接到外部驱动电路以直接接收来自该外部驱动电路的驱动信号。
在选通线152与数据线158之间的交叉处形成有TFT T。该TFT T包括栅极160、有源层162以及源极164/漏极166。
在由选通线152和数据线158限定的像素区P中形成有透明像素电极168。
在TFT T、选通线152以及数据线158上形成有黑底170。在透明像素电极168上顺序地形成有R滤色器172a、G滤色器172b以及B滤色器172c。
在上述结构中，选通连接线154和选通焊盘156构成非显示区E，而TFT阵列区对应于显示区C。在现有技术中，在该非显示区E与显示区C之间的边界区D处存在漏光。
图2是沿图1中的线I-I′所截取的侧面的放大截面图。即，图2示出了现有技术的COT型LCD的外部。
参照图2，COT型LCD 190包括相互面对的第一基板150和第二基板192。使用密封剂194将第一基板150与第二基板192接合起来。选通焊盘152和连接到选通焊盘152的选通焊盘端口153暴露在密封剂194的外部。
在第二基板192的外表面上形成有偏光片196a，在第一基板150的外表面上形成有偏光片196b。其中，偏光片196a的偏光轴与偏光片196b的偏光轴相垂直。形成顶盖198以遮盖第一基板150和第二基板192的外缘附近。
在第一基板150上包括：TFT阵列区(未示出)，形成在该TFT阵列区上的滤色器172a、172b以及172c，以及形成在这些滤色器上的黑底170。第二基板192上包括透明电极199。
在COT型LCD 190中，在非显示区E与显示区C之间的边界区D处存在漏光，从而导致图像质量的劣化。
为防止这种漏光，在显示板的外部上和TFT区上也必须形成黑底170。
然而，当在面对第一基板150的第二基板192上也形成黑底170时，必须在黑底170上附加形成第二外覆层以减小黑底170的台阶差。
在黑底上附加形成第二外覆层会不希望地导致LCD厚度及其制造成本的增加。
而且，当在第一基板中的阵列部分的端部上形成静电放电(ESD)电路时，必须在外部的黑底上形成接触孔。
当在黑底上形成接触孔时，黑底的材料会转移到接触孔中，从而在接触孔中形成不希望的有机层。结果，制造工艺变得不稳定，并且接触孔与像素电极之间的接触特性会劣化。
发明内容
因此，本发明旨在提供一种液晶显示装置及其制造方法，其基本上克服了由于现有技术的局限和缺点而导致的一个或更多个问题。
本发明的一个目的是提供一种液晶显示装置及其制造方法，其中，在一个基板上形成有阵列单元和滤色器层，在该基板上还形成有黑底，并在该基板的外部处的ESD电路处设有图案间隔物，从而保护ESD电路并防止因静电放电而导致的电短路。
在下面的说明中将阐述本发明的其它优点、目的以及特征，对于本领域的技术人员，其部分地通过对以下说明的考察即可显见，或者可以通过对本发明的实践来获知。通过下述文字说明及其权利要求以及附图中具体指出的结构，可以实现并获得本发明的目的和其它优点。
为了实现这些目的和其他优点并根据本发明的目的，如所具体实现和广泛描述的，提供了一种具有液晶板的LCD，该液晶板包括用作显示区的有源区和用作非显示区的外区，该LCD包括：第一基板，包括形成在有源区中的阵列单元和滤色器；形成在所述外区中的ESD电路；形成在该ESD上的图案间隔物；面对第一基板的第二基板；以及用于将第一基板与第二基板接合起来的密封剂。
在本发明的另一方面中，提供了一种LCD制造方法，该方法包括以下步骤：在第一基板上的显示区中形成阵列单元、滤色器以及黑底，并在非显示区中形成ESD电路和外黑底；在显示区中形成图案间隔物并在ESD电路的一部分表面或整个表面上形成图案间隔物；使用密封剂将第一基板与面对第一基板的第二基板接合起来；以及在第一基板与第二基板之间形成液晶层。
在本发明的又一方面中，提供了一种具有液晶板的LCD，该液晶板包括用作显示区的有源区和用作非显示区的外区，该LCD包括：沿一个方向形成在第一基板上的选通线；形成在第一基板上的栅极；形成在外区处的选通焊盘；形成在选通线上的栅绝缘层；形成在栅绝缘层的与TFT对应的位置处的半导体层；与选通线相交叉以限定像素区的数据线；从半导体层突出的源极和漏极；形成在TFT、选通线以及数据线上的黑底；形成在像素区中的滤色器；形成在黑底和滤色器上的外覆层；形成在外覆层上的待连接到漏极的像素电极；形成为与像素电极相交替的透明公共电极；形成在外区中的ESD电路；形成在ESD、TFT以及选通焊盘上的图案间隔物；面对第一基板的第二基板；以及用于将第一基板与第二基板接合起来的密封剂。
在本发明的再一方面中，提供了一种LCD制造方法，该LCD具有液晶板，该液晶板包括用作显示区的有源区和用作非显示区的外区，该方法包括以下步骤：在第一基板上的有源区中形成选通线、选通焊盘以及与选通线相交叉以限定像素区的数据线，并在选通线与数据线的交叉处形成TFT，该TFT包括栅极、有源层、源极以及漏极；在第一基板的外区中形成ESD电路；在TFT、选通线、数据线以及所述外区上形成黑底；在像素区中形成R/G/B滤色器；在滤色器上形成外覆层；在外覆层上形成像素电极和透明公共电极；在ESD电路和选通焊盘上形成图案间隔物；使用密封剂将第一基板与面对第一基板的第二基板接合起来；以及在第一基板与第二基板之间形成液晶层。
应当明白，以上一般性描述和以下详细描述都是示例性和说明性的，旨在提供对如权利要求所述的本发明的进一步说明。
附图说明
附图被包括进来以提供对本发明进一步的理解，其被并入且构成本申请的一部分，示出了本发明的实施例，并与说明一起用于解释本发明的原理。附图中：
图1是示出现有技术的COT型LCD的阵列基板的一部分的平面图；
图2是沿图1中的线I-I′所截取的侧面的放大截面图；
图3是根据本发明第一实施例的COT型LCD的截面图；
图4是根据本发明第二实施例的COT型LCD的截面图；
图5是根据本发明第三实施例的COT型LCD的截面图；
图6是根据本发明第四实施例的通过4道掩模工艺制造的COT型LCD的截面图；
图7是根据本发明第五实施例的COT型IPS模式LCD的截面图；以及
图8是根据本发明第六实施例的COT型IPS模式LCD的截面图。
具体实施方式
以下对本发明多个优选实施例进行详细描述，在附图中示出了它们的示例。只要有可能，将在所有附图中使用相同的标号表示相同或相似的部分。
图3是根据本发明第一实施例的COT型LCD的截面图。
参照图3，COT型LCD包括第一基板200。在该第一基板200上形成有栅极212，在该栅极212上形成有栅绝缘层232a。
在连接到栅极212的选通线的一端处形成有选通焊盘。
在与栅极212对应的栅绝缘层232a上顺序地层叠有源层214和欧姆接触层215。在欧姆接触层215上形成有源极216和漏极218，该源极216和漏极218与欧姆接触层215相接触并相互隔开预定距离。
在其上已形成有源极216和漏极218的第一基板200的整个表面上方由无机材料形成用于保护有源层214的第一外覆层232b。
在与像素区对应的栅绝缘层232a上形成有与漏极218相接触的滤色器220。
在TFT T上形成有黑底222。
在其上已形成有滤色器220和黑底222的第一基板200的整个表面上进一步形成有第二外覆层228。
在第二外覆层228上形成有与漏极218相接触并与像素区相对应的像素电极224。
在形成黑底222和滤色器220的同时，在第一基板200的外部(即，与选通连接线对应的漏光区)还可以同时形成另一黑底222。
当在黑底222和滤色器220上形成第二外覆层228时，还在位于外部处的黑底上同时形成第二外覆层228。
对第一外覆层232b和栅绝缘层232a进行刻蚀，使得漏极218可以与像素电极224相接触。
在第一基板200的外部处形成ESD电路。
该ESD电路包括预定数量个TFT，并在产生静电时与板中的线进行电连接，从而防止这些线电短路。
该ESD电路包括：位于第一基板200的外部处的栅极261，位于该栅极261上的栅绝缘层232a，位于该栅绝缘层232a上的半导体层263，以及在该半导体层263上相互隔开的源极266和漏极268。在漏极接触孔167和栅极接触孔267b中分别形成有像素电极图案265，这些像素电极图案265相互电连接。
在ESD电路上形成有图案间隔物288。
由密封剂294将第一基板200与第二基板280接合起来，选通焊盘252和连接到该选通焊盘252的选通焊盘端口253暴露在密封剂294的外部。
在第二基板280的外表面上形成有偏光片296a，在第一基板200的外表面上形成有偏光片296b。其中，偏光片296a的偏光轴与偏光片296b的偏光轴相垂直。形成一顶盖以遮盖第一基板200和第二基板280的外缘附近。
优选地，将所述顶盖形成为覆盖密封剂294以防止漏光。
按此方式，在板的外部处形成黑底222以防止外部处的漏光，将ESD电路置于黑底222的外侧。
在ESD电路上形成图案间隔物288以保护ESD电路。
其中，可以将ESD电路形成在密封剂294之下，或者可以将它形成在密封剂294的内侧或外侧。
该结构使得可以保护ESD电路并防止由于产生静电而导致电短路。
而且，在形成在密封剂294的外侧的选通焊盘252上形成有图案间隔物288。
该结构的目的在于防止在选通焊盘252与选通焊盘端口253之间出现电腐蚀现象。
图4是根据本发明第二实施例的COT型LCD的截面图。
在本实施例中，为简要起见，略去有关与图3中相同的元件的详细描述。
参照图4，在板的外部处形成有ESD电路，并在该ESD电路上形成有图案间隔物。
其中，将ESD电路形成在密封剂294的内侧。
此时，可以将该ESD电路形成在密封剂294与形成在外部处的黑底222之间。
图5是根据本发明第三实施例的COT型LCD的截面图。
在本实施例中，为简要起见，略去有关与图3中相同的元件的详细描述。
参照图5，在板的外部处形成有ESD电路，并在该ESD电路上形成有图案间隔物288。
其中，将ESD电路形成在密封剂264的外侧。
此时，可以将该ESD电路形成在密封剂264与选通焊盘252之间。
当将ESD电路形成在密封剂264的外侧并在该ESD电路上形成图案间隔物288时，可以防止对ESD电路的电化学腐蚀。
这些实施例中描述的LCD是通过5道掩模工艺制造的。
可以将上述结构类似地应用于TOC型LCD。
而且，可以将上述结构类似地应用于通过4道掩模工艺制造的LCD。
此外，可以将上述结构类似地应用于IPS模式LCD。
图6是根据本发明第四实施例的通过4道掩模工艺制造的COT型LCD的截面图。
参照图6，在第一掩模工艺中，在第一基板200上形成栅极212，在该栅极212上形成栅绝缘层232a。
其后，在连接到栅极212的选通线的一端部处形成选通焊盘。
在第二掩模工艺中，在栅绝缘层232a上顺序地层叠有源矩阵材料、欧姆接触层材料以及源极和漏极材料。其后，通过衍射曝光，在与栅极212对应的栅绝缘层232a上顺序地层叠有源层214和欧姆接触层215，并在欧姆接触层215上形成与该欧姆接触层215相接触并且相互隔开预定距离的源极216和漏极218。
在其上已形成有源极216和漏极218的第一基板200的整个表面上由无机材料(如SiNx)形成用于保护有源层214的第一外覆层232b。这里，可以略去第一外覆层232b。
接着，在TFT T、板的外区以及ESD电路上形成用于防止漏光的黑底222。
其后，按对应于像素区的方式在第一外覆层232b上形成滤色器220。
在其上已形成有滤色器220和黑底222的第一基板200的整个表面上进一步形成第二外覆层228。
第二外覆层228可由诸如SiNx的无机绝缘材料形成，或者可由诸如光压克力(photo acryl)的有机绝缘材料形成。
此时，使用光压克力来克服滤色器与黑底之间的台阶差并获得介电性。近来，随着滤色器树脂的厚度的增加(以实现优异的色彩再现)减小了台阶差，并获得了黑底材料的介电性，因此可以使用厚度薄的SiNx层。
在第三掩模工艺中，将接触孔形成得穿透第一外覆层232b和第二外覆层228。
在第四掩模工艺中，在第二外覆层228上形成像素电极224，该像素电极224通过所述接触孔与漏极218相接触并与像素区相对应。
此时，在形成黑底222和滤色器220时，在第一基板200的外部(即，与选通连接线对应的漏光区)还可以同时形成另一黑底222。
当在黑底222和滤色器220上形成第二外覆层228时，还在位于外部处的黑底上同时形成第二外覆层228。
对第一外覆层232b和栅绝缘层232a进行刻蚀，使得漏极218可以与像素电极224相接触。
在第一基板200的外部处形成ESD电路。
该ESD电路包括预定数量个TFT，并在产生静电时与板中的线电连接，从而防止这些线电短路。
该ESD电路包括：位于第一基板200的外部处的栅极261，位于该栅极261上的栅绝缘层232a，位于该栅绝缘层232a上的半导体层263，以及在该半导体层263上相互隔开的源极266和漏极268。在漏极接触孔167和栅极接触孔267b中分别形成有像素电极图案265，这些像素电极图案265相互电连接。
在ESD电路上形成图案间隔物288。
由密封剂294将第一基板200与第二基板280接合起来，选通焊盘252和连接到该选通焊盘252的选通焊盘端口253暴露在密封剂294的外部。
在第二基板280的外表面上形成偏光片296a，在第一基板200的外表面上形成偏光片296b。其中，偏光片296a的偏光轴与偏光片296b的偏光轴相垂直。形成一顶盖以遮盖第一基板200和第二基板280的外缘附近。
优选地，将所述顶盖形成为覆盖密封剂294以防止漏光。
按此方式，在板的外部处形成黑底222以防止外部处的漏光，并将ESD电路置于黑底222的外侧。
在ESD电路上形成图案间隔物288以保护ESD电路。
其中，可以将ESD电路形成在密封剂294之下，或者可以将它形成在密封剂294的内侧或外侧。
该结构使得可以保护ESD电路并防止由于产生静电而导致电短路。
而且，在形成在密封剂294外侧的选通焊盘252上形成图案间隔物288。
该结构的目的在于防止在选通焊盘252与选通焊盘端口253之间出现电腐蚀现象。
这里，为简明起见，略去有关与图3到6中相同的元件的详细描述。
图7是根据本发明第五实施例的通过5道掩模工艺制造的COT型IPS模式LCD的截面图。
参照图7，在第一基板300上形成栅极312和公共电极，在该栅极312上形成栅绝缘层332a。
其后，在连接到栅极312的选通线的一端处形成选通焊盘352。
其后，在与栅极312对应的栅绝缘层332a上顺序地层叠有源层314和欧姆接触层315。
其后，形成与选通线相交叉的数据线311。形成从数据线311向有源层314突出的源极316，并形成与源极316隔开预定距离的漏极318。
此时，源极316和漏极318与欧姆接触层315相接触。去除该欧姆接触层315，使得有源层314可以暴露出来，由此可以形成沟道。
在其上已形成有源极316和漏极318的第一基板300的整个表面上由无机材料(如SiNx)形成用于保护有源层314的第一外覆层332b。这里，可以略去第一外覆层332b。
接着，在TFT T、板的外区以及ESD电路上形成用于防止漏光的黑底322。
其后，按对应于像素区的方式在第一外覆层332b上形成滤色器320。
在其上已形成有滤色器320和黑底322的第一基板300的整个表面上方进一步形成第二外覆层328。
第二外覆层328可由诸如SiNx的无机绝缘材料形成，或者可由诸如光压克力的有机绝缘材料形成。
此时，使用光压克力来克服滤色器与黑底之间的台阶差并获得介电性。近来，由于随着滤色器树脂的厚度的增加(以实现优异的色彩再现)而减小了台阶差并获得了黑底材料的介电性，所以可以使用厚度薄的SiNx层。
同时，将接触孔形成得穿透第一外覆层332b和第二外覆层328。
接着，在第二外覆层328上形成像素电极324，该像素电极324通过所述接触孔与漏极318相接触并与像素区对应。
此时，在形成黑底322和滤色器320时，还可以在第一基板300的外部(即，与选通连接线对应的漏光区)同时形成另一黑底322。
其后，形成与像素电极324相交叉的梳状透明公共电极329a。
其中，透明公共电极329a和公共电极329b同时经由公共电极连接部从置于板的外部处的公共电压提供线(未示出)接收公共信号。
当在黑底322和滤色器320上形成第二外覆层328时，还可在位于外部处的黑底上同时形成第二外覆层328。
对第一外覆层332b和栅绝缘层332a进行刻蚀，使得漏极318可以与像素电极324相接触。
在第一基板300的外部处形成ESD电路。
在ESD电路上形成图案间隔物388以保护该ESD电路。
其中，可以将ESD电路形成在密封剂394之下，或者可以将它形成在密封剂394的内侧或外侧。
而且，在形成在密封剂394的外侧的选通焊盘352上形成图案间隔物388。
该结构的目的在于防止在选通焊盘352与选通焊盘端口353之间出现电腐蚀现象。
也可以将图案间隔物388形成在公共电极连接部上以防止在该处出现电腐蚀现象。
图8是根据本发明第六实施例的通过5道掩模工艺制造的COT型IPS模式LCD的截面图。
这里，为简明起见，略去有关与图3到7中相同的元件的详细描述。
参照图8，在第一基板300上形成栅极312和公共电极，在该栅极312上形成栅绝缘层332a。
其后，在连接到栅极312的选通线的一端处形成选通焊盘352。
在第二掩模工艺中，同时形成有源层314、欧姆接触层315以及数据线311。具体来说，在栅绝缘层332a上顺序地层叠有源矩阵材料、欧姆接触层材料以及源极和漏极材料。其后，通过衍射曝光，形成从数据线311突出的数据线311、源极316以及漏极318，并在源极316和漏极318的下方形成有源层314和欧姆接触层315。
即，在与栅极312对应的栅绝缘层332a上形成有源层314和欧姆接触层315，并在欧姆接触层315上形成与该欧姆接触层315相接触并相互隔开预定距离的源极316和漏极318。
因此，在数据线311的下方附加地形成有源层314和欧姆接触层315，并且源极316和漏极318与欧姆接触层315相接触。去除该欧姆接触层315，使得有源层314可以暴露出来，由此可以形成沟道。
在其上已形成有源极316和漏极318的第一基板300的整个表面上由无机材料(如SiNx)形成用于保护有源层314的第一外覆层332b。这里，可以略去第一外覆层332b。
接着，在TFT T、板的外区以及ESD电路上形成用于防止漏光的黑底322。
其后，按对应于像素区的方式在第一外覆层332b上形成滤色器320。
在其上已形成有滤色器320和黑底322的第一基板300的整个表面上进一步形成第二外覆层328。
第二外覆层328可由诸如SiNx的无机绝缘材料形成，或者可由诸如光压克力的有机绝缘材料形成。
此时，使用光压克力用于克服滤色器与黑底之间的台阶差并获得介电性。近来，由于随着滤色器树脂的厚度的增加(以实现优异的色彩再现)而减小了台阶差并获得了黑底材料的介电性，所以可以使用厚度薄的SiNx层。
同时，将接触孔形成得穿透第一外覆层332b和第二外覆层328。
接着，在第二外覆层328上形成像素电极324，该像素电极324通过所述接触孔与漏极318相接触并与像素区对应。
此时，在形成黑底322和滤色器320时，在第一基板300的外部(即，与选通连接线对应的漏光区)同时还可以形成另一黑底322。
其后，形成与像素电极324相交叉的梳状透明公共电极329a。
其中，透明公共电极329a和公共电极329b同时经由公共电极连接线从置于板的外部处的公共电压提供线(未示出)接收公共信号。
当在黑底322和滤色器320上形成第二外覆层328时，还可以在位于外部处的黑底上同时形成第二外覆层328。
对第一外覆层332b和栅绝缘层332a进行刻蚀，使得漏极318可以与像素电极324相接触。
在第一基板300的外部处形成ESD电路。
在ESD电路上形成图案间隔物388以保护该ESD电路。
其中，可以将ESD电路形成在密封剂394之下，或者可以将它形成在密封剂394的内侧或外侧。
而且，在形成在密封剂394的外侧的选通焊盘352上形成图案间隔物388。
该结构的目的在于防止在选通焊盘352与选通焊盘端口353之间出现电腐蚀现象。
也可以将图案间隔物388形成在公共电极连接线上以防止在该处出现电腐蚀现象。
如上所述，在同一基板上形成阵列单元和滤色器层，并在板的外区中形成ESD电路。此时，在ESD电路上形成图案间隔物，从而保护ESD电路并防止由于静电而导致电短路。因此，可以改进产品可靠性。
而且，通过在板的外区中形成黑底可以防止漏光。
此外，在其上形成有阵列单元和滤色器层的基板上形成板的外黑底，从而减小了LCD的厚度。因此，可以降低LCD的重量并降低其材料成本。
对于本领域的技术人员，很明显，可以对本发明进行各种修改和变型。由此，本发明旨在覆盖落在所附权利要求及其等同物的范围内的对本发明的修改和变型。

Claims (43)

1、一种具有液晶板的液晶显示装置，该液晶板包括用作显示区的有源区和用作非显示区的外区，该液晶显示装置包括：
第一基板，包括形成在有源区中的阵列单元和滤色器；
形成在外区中的静电放电电路；
形成在静电放电电路上的图案间隔物；
面对第一基板的第二基板；以及
用于将第一基板与第二基板接合起来的密封剂。
2、如权利要求1所述的液晶显示装置，其中，还在有源区中形成有用于保持第一基板与第二基板之间的间隙的图案间隔物。
3、如权利要求1所述的液晶显示装置，其中，所述静电放电电路包括多个薄膜晶体管。
4、如权利要求1所述的液晶显示装置，其中，所述图案间隔物形成在静电放电电路的一部分表面或整个表面上。
5、如权利要求1所述的液晶显示装置，其中，所述静电放电电路形成在密封剂之下。
6、如权利要求1所述的液晶显示装置，其中，所述静电放电电路形成在密封剂的内侧。
7、如权利要求1所述的液晶显示装置，其中，所述静电放电电路形成在密封剂的外侧。
8、如权利要求1所述的液晶显示装置，其中，第一基板包括：
沿一个方向形成在第一基板上的选通线；
形成在第一基板上的栅极；
形成在所述外区处的选通焊盘；
形成在选通线上的栅绝缘层；
在与薄膜晶体管对应的位置处形成在栅绝缘层上的半导体层；
与选通线交叉以限定像素区的数据线；
从半导体层突出的源极和漏极；
形成在薄膜晶体管、选通线以及数据线上的黑底；
形成在像素区中的滤色器；
形成在黑底和滤色器上的外覆层；以及
形成在外覆层上的待连接到漏极的像素电极。
9、如权利要求8所述的液晶显示装置，其中，在源极和漏极上还形成有外覆层。
10、如权利要求8所述的液晶显示装置，其中，在数据线的下方还形成有半导体层。
11、如权利要求8所述的液晶显示装置，其中，所述外覆层由光压克力或无机材料形成。
12、如权利要求8所述的液晶显示装置，其中，在选通焊盘上还形成有图案间隔物。
13、如权利要求1所述的液晶显示装置，其中，第一基板包括：
形成在第一基板上的滤色器；
沿一个方向形成在第一基板上的选通线；
形成在第一基板上的栅极；
形成在所述外区处的选通焊盘；
形成在选通线上的栅绝缘层；
在与薄膜晶体管对应的位置处形成在栅绝缘层上的半导体层；
与选通线交叉以限定像素区的数据线；
从半导体层突出的源极和漏极；
形成在薄膜晶体管、选通线以及数据线上的黑底；
形成在黑底上的外覆层；以及
形成在外覆层上的待连接到漏极的像素电极。
14、一种用于制造液晶显示装置的方法，该方法包括以下步骤：
在第一基板上的显示区中形成阵列单元、滤色器以及黑底，并在非显示区中形成静电放电电路和外黑底；
在显示区中形成图案间隔物，并在静电放电电路的一部分表面或整个表面上形成图案间隔物；
使用密封剂将第一基板与面对第一基板的第二基板接合起来；以及在第一基板与第二基板之间形成液晶层。
15、如权利要求14所述的方法，其中，所述静电放电电路包括多个薄膜晶体管。
16、如权利要求14所述的方法，其中，所述静电放电电路形成在密封剂之下。
17、如权利要求14所述的方法，其中，所述静电放电电路形成在密封剂的内侧。
18、如权利要求14所述的方法，其中，所述静电放电电路形成在密封剂的外侧。
19、如权利要求14所述的方法，其中，所述形成第一基板的步骤包括以下步骤：
在基板上形成选通线、选通焊盘以及与选通线相交叉以限定像素区的数据线；
在选通线与数据线的交叉处形成薄膜晶体管，该薄膜晶体管包括栅极、有源层、源极以及漏极；
在薄膜晶体管、选通线以及数据线上形成黑底；
在像素区中形成R/G/B滤色器；以及
在滤色器上形成像素电极。
20、如权利要求14所述的方法，其中，所述形成第一基板的步骤包括以下步骤：
在基板上形成滤色器；
在滤色器上由选通线和与选通线相交叉的数据线限定的像素区中形成薄膜晶体管，该薄膜晶体管包括栅极、有源层、源极以及漏极；
在薄膜晶体管、选通线以及数据线上形成黑底；以及
在像素区上形成像素电极。
21、如权利要求19所述的方法，其中，在选通焊盘上形成有图案间隔物。
22、一种具有液晶板的液晶显示装置，该液晶板包括用作显示区的有源区和用作非显示区的外区，该液晶显示装置包括：
沿一个方向形成在第一基板上的选通线；
形成在第一基板上的栅极；
形成在外区处的选通焊盘；
形成在选通线上的栅绝缘层；
在与薄膜晶体管对应的位置处形成在栅绝缘层上的半导体层；
与选通线相交叉以限定像素区的数据线；
从半导体层突出的源极和漏极；
形成在薄膜晶体管、选通线以及数据线上的黑底；
形成在像素区中的滤色器；
形成在黑底和滤色器上的外覆层；
形成在该外覆层上的待连接到漏极的像素电极；
形成为与像素电极相交替的透明公共电极；
形成在外区中的静电放电电路；
形成在静电放电电路、薄膜晶体管以及选通焊盘上的图案间隔物；
面对第一基板的第二基板；以及
用于将第一基板与第二基板接合起来的密封剂。
23、如权利要求22所述的液晶显示装置，其中，所述静电放电电路包括多个薄膜晶体管。
24、如权利要求22所述的液晶显示装置，其中，所述图案间隔物形成在静电放电电路的一部分表面或整个表面上。
25、如权利要求22所述的液晶显示装置，其中，所述静电放电电路形成在密封剂之下。
26、如权利要求22所述的液晶显示装置，其中，所述静电放电电路形成在密封剂的内侧。
27、如权利要求22所述的液晶显示装置，其中，所述静电放电电路形成在密封剂的外侧。
28、如权利要求22所述的液晶显示装置，其中，在靠近数据线的选通线层上还形成有金属公共电极。
29、如权利要求28所述的液晶显示装置，其中，所述金属公共电极由公共电极连接部连接到所述透明公共电极。
30、如权利要求29所述的液晶显示装置，其中，在公共电极连接部区上还形成有图案间隔物。
31、如权利要求22所述的液晶显示装置，其中，所述像素电极和透明公共电极由透明导电材料形成。
32、如权利要求22所述的液晶显示装置，其中，在所述源极和漏极上还形成有外覆层。
33、如权利要求22所述的液晶显示装置，其中，在数据线的下方还形成有半导体层。
34、如权利要求22所述的液晶显示装置，其中，所述外覆层由光压克力或无机材料形成。
35、一种用于制造液晶显示装置的方法，该液晶显示装置具有液晶板，该液晶板包括用作显示区的有源区和用作非显示区的外区，该方法包括以下步骤：
在第一基板上的有源区中形成选通线、选通焊盘以及与选通线相交叉以限定像素区的数据线，并在选通线与数据线的交叉处形成薄膜晶体管，该薄膜晶体管包括栅极、有源层、源极以及漏极；
在第一基板的外区中形成静电放电电路；
在薄膜晶体管、选通线、数据线以及外区上形成黑底；
在像素区中形成R/G/B滤色器；
在滤色器上形成外覆层；
在外覆层上形成像素电极和透明公共电极；
在静电放电电路和选通焊盘上形成图案间隔物；
使用密封剂将第一基板与面对第一基板的第二基板接合起来；以及
在第一基板与第二基板之间形成液晶层。
36、如权利要求35所述的方法，还包括：在所述形成选通线的步骤期间，靠近数据线形成金属公共电极。
37、如权利要求35所述的方法，还包括：在源极和漏极上形成外覆层。
38、如权利要求36所述的方法，其中，所述金属公共电极由公共电极连接部连接到透明公共电极。
39、如权利要求38所述的方法，其中，还在公共电极连接部区上形成一图案间隔物。
40、如权利要求36所述的方法，其中，所述像素电极和透明公共电极由透明导电材料形成。
41、如权利要求36所述的方法，其中，所述静电放电电路形成在密封剂之下。
42、如权利要求36所述的方法，其中，所述静电放电电路形成在密封剂的内侧。
43、如权利要求36所述的方法，其中，所述静电放电电路形成在密封剂的外侧。
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