CN107229152A - 液晶显示面板的制作方法及液晶显示面板 - Google Patents

液晶显示面板的制作方法及液晶显示面板 Download PDF

Info

Publication number
CN107229152A
CN107229152A CN201710539587.7A CN201710539587A CN107229152A CN 107229152 A CN107229152 A CN 107229152A CN 201710539587 A CN201710539587 A CN 201710539587A CN 107229152 A CN107229152 A CN 107229152A
Authority
CN
China
Prior art keywords
layer
liquid crystal
frame glue
area
display panel
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201710539587.7A
Other languages
English (en)
Other versions
CN107229152B (zh
Inventor
邓竹明
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
Original Assignee
Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority to CN201710539587.7A priority Critical patent/CN107229152B/zh
Publication of CN107229152A publication Critical patent/CN107229152A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN107229152B publication Critical patent/CN107229152B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/136209—Light shielding layers, e.g. black matrix, incorporated in the active matrix substrate, e.g. structurally associated with the switching element
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/136227—Through-hole connection of the pixel electrode to the active element through an insulation layer

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)

Abstract

本发明提供一种液晶显示面板的制作方法及液晶显示面板。该液晶显示面板的制作方法，在利用一光罩制程对有效显示区中的平坦层进行图案化形成暴露TFT层的第二过孔的同时，将位于框胶区中的平坦层进行去除，使后续制作了BPS遮光层后，BPS遮光层中覆盖框胶区的黑色边框上表面与主隔垫物上表面之间的高度差增加，从而使设置在彩膜基板与阵列基板的黑色边框之间的框胶的厚度增加，使框胶可掺杂更大粒径的纤维，相比于现有技术，可将框胶内掺杂的纤维的粒径控制在量产纤维的粒径范围内，有效地降低了液晶显示面板的成本。

Description

液晶显示面板的制作方法及液晶显示面板
技术领域
本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种液晶显示面板的制作方法及液晶显示面板。
背景技术
随着显示技术的发展，液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)等平面显示装置因具有高画质、省电、机身薄及应用范围广等优点，而被广泛的应用于手机、电视、个人数字助理、数字相机、笔记本电脑、台式计算机等各种消费性电子产品，成为显示装置中的主流。
通常液晶显示面板由彩膜(Color Filter，CF)基板、薄膜晶体管(Thin FilmTransistor，TFT)基板、夹于彩膜基板与薄膜晶体管基板之间的液晶(LC，Liquid Crystal)及密封胶框(Sealant)组成，其成型工艺一般包括：前段阵列(Array)制程(薄膜、黄光、蚀刻及剥膜)、中段成盒(Cell)制程(TFT基板与CF基板贴合)及后段模组组装制程(驱动IC与印刷电路板压合)。其中，前段Array制程主要是形成TFT基板，以便于控制液晶分子的运动；中段Cell制程主要是在TFT基板与CF基板之间添加液晶；后段模组组装制程主要是驱动IC压合与印刷电路板的整合，进而驱动液晶分子转动，显示图像。
现有技术中，通常在CF基板上制作光阻隔垫物(Photo Spacer，PS)用于支撑液晶盒厚，而为了防止液晶显示面板产生色偏或漏光，需要在CF基板中制作黑色矩阵(BM)，光阻隔垫物及黑色矩阵分别需要一道黄光制程才能形成。为了简化制程、节约成本，现有的另一种技术利用具有遮光性及弹性的黑色光阻隔垫物(Black Photo Spacer，BPS)材料通过一道黄光制程将黑色矩阵和主、辅助隔垫物同时制作在阵列基板上，如图1所示，为现有的一种采用BPS技术的液晶显示面板的结构示意图，该液晶显示面板包括相对设置的阵列基板100’与彩膜基板200’、设于阵列基板100’与彩膜基板200’之间的液晶层300’、及位于液晶层300’外侧连接阵列基板100’与彩膜基板200’的框胶400’，所述液晶显示面板具有对应液晶层300’的有效显示区510’及对应框胶400’的框胶区520’，其中，阵列基板100’包括第一衬底110’、设于第一衬底110’上的TFT层120’、设于有效显示区510’内的TFT层120’上的色阻层130’、覆盖色阻层130’及TFT层120’的平坦层140’、设于有效显示区510’内的平坦层140’上的像素电极150’、设于像素电极150’及平坦层140’上的BPS遮光层160’，彩膜基板200’包括第二衬底210’、及设于第二衬底210’上的公共电极220’，所述BPS遮光层160’包括位于有效显示区510’内的黑色矩阵161’、设于黑色矩阵161’上的间隔的主隔垫物162’及辅助隔垫物163’、及覆盖框胶区520’的黑色边框164’，框胶400’设于黑色边框164’与公共电极220’之间，该框胶400’中掺杂有纤维(Fiber)410’以对框胶400’进行支撑，为了在框胶区520’获得较好的遮光效果，一般设置黑色边框164’的厚度同主隔垫物162’与黑色矩阵161’的厚度之和保持一致，在此情况下将阵列基板100’及彩膜基板200’对组贴合后，黑色边框164’与公共电极220’之间的距离也即框胶400’的厚度很小，约为1μm，对应地，需要选择粒径约为1μm的纤维410’掺杂在框胶400’内，然而，现有的量产的纤维的粒径范围为3-5μm，因此需要额外定制纤维以满足上述液晶显示面板的要求，小粒径纤维的制作难度高，产品成本高，为BPS技术的应用带来局限。
发明内容
本发明的目的在于提供一种液晶显示面板的制作方法，能够有效地降低液晶显示面板的成本。
本发明的另一目的在于提供一种液晶显示面板，产品成本低。
为实现上述目的，本发明首先提供一种液晶显示面板的制作方法，包括如下步骤：
步骤S1、提供第一衬底，在第一衬底上定义有效显示区、及位于有效显示区外侧的框胶区；
步骤S2、在第一衬底上形成TFT层，在TFT层上于有效显示区内形成色阻层，在色阻层上形成第一过孔；
步骤S3、在色阻层及TFT层上形成平坦层，利用一道光罩制程对平坦层进行图案化，形成与第一过孔对应的第二过孔的同时去除位于框胶区内的平坦层；
步骤S4、在剩余的平坦层上形成像素电极，所述像素电极经第二过孔与TFT层接触；
步骤S5、在平坦层、像素电极、及TFT层上形成BPS遮光层，得到阵列基板；
所述BPS遮光层包括位于有效显示区内的黑色矩阵、位于黑色矩阵上的主隔垫物及辅助隔垫物、及覆盖框胶区的黑色边框；
步骤S6、提供彩膜基板，在彩膜基板一侧于框胶区内或黑色边框上涂布框胶，在彩膜基板一侧或阵列基板具有黑色边框的一侧于有效显示区内滴注液晶，将阵列基板与彩膜基板进行对组，得到液晶显示面板。
所述步骤S2具体包括：
步骤S21、在第一衬底上于有效显示区内形成栅极；
步骤S22、在栅极上方形成覆盖有效显示区及框胶区的栅极绝缘层；
步骤S23、在栅极绝缘层上对应栅极的上方形成有源层；
步骤S24、在有源层上方形成覆盖有效显示区及框胶区的层间绝缘层，在层间绝缘层上对应有源层两端上方形成两个第三过孔；
步骤S25、在层间绝缘层上于有效显示区内形成间隔的源极与漏极；所述源极与漏极分别经第三过孔与有源层两端接触，得到TFT层；
步骤S26、在TFT层上于有效显示区内形成色阻层，利用一道光罩制程在色阻层上形成暴露所述漏极的第一过孔；
所述步骤S3形成的第二过孔暴露出所述漏极，所述像素电极经第二过孔连接所述漏极。
所述步骤S22在形成栅极绝缘层之后还包括对位于框胶区内的栅极绝缘层进行去除的步骤。
所述步骤S24在形成层间绝缘层的第三过孔的同时去除位于框胶区内的层间绝缘层。
所述平坦层的材料为高分子材料；
所述主隔垫物与黑色矩阵的厚度之和等于黑色边框的厚度；
所述彩膜基板包括第二衬底、及形成于第二衬底上的公共电极；所述步骤S6中，将彩膜基板具有公共电极的一侧与阵列基板具有黑色边框的一侧对组。
本发明还提供一种液晶显示面板，包括相对设置的阵列基板及彩膜基板、设于阵列基板与彩膜基板之间的液晶层、及设于液晶层外侧连接阵列基板与彩膜基板的框胶；所述液晶显示面板具有对应液晶层的有效显示区、及对应框胶的框胶区；所述阵列基板包括：第一衬底、设于第一衬底上的TFT层、于有效显示区内设于TFT层上的色阻层、于有效显示区内覆盖色阻层的平坦层、设于平坦层上的像素电极、及设于像素电极、平坦层及TFT层上的BPS遮光层；所述色阻层上于有效显示区内设有第一过孔，所述平坦层设有对应第一过孔的第二过孔，所述像素电极经第二过孔连接所述TFT层；所述BPS遮光层包括：于有效显示区内设于像素电极及平坦层上的黑色矩阵、设于黑色矩阵上的主隔垫物及辅助隔垫物、及设于TFT层上且覆盖框胶区的黑色边框，所述框胶设于黑色边框与彩膜基板之间。
所述TFT层包括：于有效显示区内设在第一衬底上的栅极、覆盖栅极的栅极绝缘层、对应栅极上方设于栅极绝缘层上的有源层、覆盖有源层的层间绝缘层、设于层间绝缘层上对应有源层两端上方的两个第三过孔、于有效显示区内设在层间绝缘层上的间隔的源极与漏极；所述源极与漏极分别经第三过孔与有源层接触；所述第一过孔及所述第二过孔暴露出所述漏极，所述像素电极经第二过孔连接所述漏极。
所述栅极绝缘层设于有效显示区内。
所述层间绝缘层设于有效显示区内。
所述平坦层的材料为高分子材料；
所述主隔垫物与黑色矩阵的厚度之和等于黑色边框的厚度；
所述彩膜基板包括第二衬底、及设于第二衬底上的公共电极；所述框胶设于黑色边框与公共电极之间。
本发明的有益效果：本发明提供的一种液晶显示面板的制作方法，在利用一光罩制程对有效显示区中的平坦层进行图案化形成暴露TFT层的第二过孔的同时，将位于框胶区中的平坦层进行去除，使后续制作了BPS遮光层后，BPS遮光层中覆盖框胶区的黑色边框上表面与主隔垫物上表面之间的高度差增加，从而使设置在彩膜基板与阵列基板的黑色边框之间的框胶的厚度增加，使框胶可掺杂更大粒径的纤维，相比于现有技术，可将框胶内掺杂的纤维的粒径控制在量产纤维的粒径范围内，有效地降低了液晶显示面板的成本。本发明提供的一种液晶显示面板，采用上述液晶显示面板的制作方法制得，产品成本低。
附图说明
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
附图中，
图1为现有的采用BPS技术的液晶显示面板的结构示意图；
图2为本发明的液晶显示面板的制作方法的流程图；
图3为本发明的液晶显示面板的制作方法的步骤S1及步骤S2的示意图；
图4为本发明的液晶显示面板的制作方法的步骤S3的示意图；
图5为本发明的液晶显示面板的制作方法的步骤S4的示意图；
图6为本发明的液晶显示面板的制作方法的步骤S5的示意图；
图7为本发明的液晶显示面板的制作方法的步骤S6的示意图暨本发明的液晶显示面板的结构示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图2，本发明提供一种液晶显示面板的制作方法，包括如下步骤：
步骤S1、请参阅图3，提供第一衬底110，在第一衬底110上定义有效显示区510、及位于有效显示区510外侧的框胶区520。
具体地，所述第一衬底110的材料可为玻璃。
步骤S2、请参阅图3，在第一衬底110上形成TFT层120，在TFT层120上于有效显示区510内形成色阻层130，在色阻层130上形成第一过孔131。
具体地，所述步骤S2具体包括：
步骤S21、在第一衬底110上于有效显示区510内形成栅极121；
步骤S22、在栅极121上方形成覆盖有效显示区510及框胶区520的栅极绝缘层122；
步骤S23、在栅极绝缘层122上对应栅极121的上方形成有源层123；
步骤S24、在有源层123上方形成覆盖有效显示区510及框胶区520的层间绝缘层124，在层间绝缘层124上对应有源层123两端上方形成两个第三过孔125；
步骤S25、在层间绝缘层124上于有效显示区510内形成间隔的源极126与漏极127；所述源极126与漏极127分别经第三过孔125与有源层123两端接触，得到TFT层120；
步骤S26、在TFT层120上于有效显示区510内形成色阻层130，利用一道光罩制程在色阻层130上形成暴露所述漏极127的第一过孔131。
步骤S3、请参阅图4，在色阻层130及TFT层120上形成平坦层140，利用一道光罩制程对平坦层140进行图案化，形成与第一过孔131对应的第二过孔141的同时去除位于框胶区520内的平坦层140。
具体地，所述第二过孔141形成于第一过孔131内。
具体地，所述平坦层140的材料为高分子材料。
具体地，所述步骤S3形成的第二过孔141暴露出所述漏极127。
步骤S4、请参阅图5，在剩余的平坦层140上形成像素电极150，所述像素电极150经第二过孔141与TFT层120接触。
具体地，所述像素电极150经第二过孔141连接所述漏极127。
步骤S5、请参阅图6，在平坦层140、像素电极150、及TFT层120上形成BPS遮光层160，得到阵列基板100；
其中，所述BPS遮光层160包括位于有效显示区510内的黑色矩阵161、位于黑色矩阵161上的主隔垫物162及辅助隔垫物163、及覆盖框胶区520的黑色边框164。
具体地，所述步骤S5具体为：在平坦层140、像素电极150及TFT层120上形成一层BPS遮光材料，利用一半色调光罩或灰阶光罩对所述BPS遮光材料进行图案化，得到BPS遮光层160。
优选地，所述黑色边框164的厚度等于主隔垫物162与黑色矩阵161的厚度之和，以对框胶区520进行有效地遮光。
步骤S6、请参阅图7，提供彩膜基板200，在彩膜基板200一侧于框胶区520内或黑色边框164上涂布框胶400，在彩膜基板200一侧或阵列基板100具有黑色边框164的一侧于有效显示区510内滴注液晶，将阵列基板100与彩膜基板200进行对组，在阵列基板100与彩膜基板200之间对应有效显示区510形成液晶层300，得到液晶显示面板。
具体地，所述框胶400中掺有纤维410，用于对框胶400进行支撑。
具体地，所述彩膜基板200包括第二衬底210、及形成于第二衬底210上的公共电极220；所述步骤S6中，在彩膜基板200的公共电极220上于框胶区520内或黑色边框164上涂布框胶400，在彩膜基板200具有公共电极220的一侧或阵列基板100具有黑色边框164的一侧于有效显示区510内滴注液晶，将彩膜基板200具有公共电极220的一侧与阵列基板100具有黑色边框164的一侧对组。
需要说明的是，现有的采用高分子材料制作的平坦层厚度一般为2μm，本发明的液晶显示面板的制作方法，在利用一光罩制程对有效显示区510中的采用PFA材料制作的平坦层140进行图案化形成暴露TFT层120的第二过孔141的同时，将位于框胶区520中的平坦层140进行去除，使后续制作了BPS遮光层160后，BPS遮光层160中覆盖框胶区520的黑色边框164直接制作在TFT层120上，使其上表面与主隔垫物162上表面之间的高度差增加了平坦层140的厚度，从而使在将阵列基板100及彩膜基板200对组得到液晶显示面板后，彩膜基板200的公共电极220与阵列基板100的黑色边框164之间的距离增大，也即使设置在彩膜基板200的公共电极220与阵列基板100的黑色边框164之间的框胶400的厚度增加，使框胶400可掺杂更大粒径的纤维410，相比于现有技术，可将框胶400内掺杂的纤维410的粒径控制在量产纤维的粒径范围内，有效地降低了液晶显示面板的成本。
值得一提的是，为了进一步增加主隔垫物162的上表面与黑色边框164上表面间的高度差也即增加框胶400的厚度，以提高框胶400内纤维410的粒径，在去除框胶区520内的平坦层140的基础上，还可以选择性地去除TFT层120中的一层或多层的绝缘材料层位于框胶区520中的部分。例如，在本发明的一实施例中，将TFT层120中的栅极绝缘层122位于框胶区520中的部分去除，具体的操作方法为，在所述步骤S22形成了栅极绝缘层122之后，利用一光罩对栅极绝缘层122进行图案化，以对位于框胶区520内的栅极绝缘层122进行去除；又例如，在本发明的另一实施例中，将TFT层120中的层间绝缘层124位于框胶区520中的部分去除，具体的操作方法为，在所述步骤S24形成层间绝缘层124的第三过孔125的同时去除位于框胶区510内的层间绝缘层124。通过这种方式，进一步增加可使用的纤维410的粒径。
请参阅图7，基于同一发明构思，本发明还提供一种采用上述的液晶显示面板的制作方法制得的液晶显示面板，包括相对设置的阵列基板100与彩膜基板200、设于阵列基板100与彩膜基板200之间的液晶层300、及设于液晶层300外侧连接阵列基板100与彩膜基板200的框胶400；所述液晶显示面板具有对应液晶层300的有效显示区510、及对应框胶400的框胶区520；所述阵列基板100包括：第一衬底110、设于第一衬底110上的TFT层120、于有效显示区510内设于TFT层120上的色阻层130、于有效显示区510内覆盖色阻层130的平坦层140、设于平坦层140上的像素电极150、及设于像素电极150、平坦层140及TFT层120上的BPS遮光层160；所述色阻层130上于有效显示区510内设有第一过孔131，所述平坦层140设有对应第一过孔131的第二过孔141，所述像素电极150经第二过孔141连接所述TFT层120；所述BPS遮光层160包括：于有效显示区510内设于像素电极150及平坦层140上的黑色矩阵161、设于黑色矩阵161上的主隔垫物162及辅助隔垫物163、及设于TFT层120上且覆盖框胶区520的黑色边框164，所述框胶400设于黑色边框164与彩膜基板200之间。
具体地，所述框胶400中掺有纤维410。
具体地，所述TFT层120包括：于有效显示区510内设在第一衬底110上的栅极121、覆盖栅极121的栅极绝缘层122、对应栅极121上方设于栅极绝缘层122上的有源层123、覆盖有源层123的层间绝缘层124、设于层间绝缘层124上对应有源层123两端上方的两个第三过孔125、于有效显示区510内设在层间绝缘层124上的间隔的源极126与漏极127；所述源极126与漏极127分别经第三过孔125与有源层123接触；所述第一过孔131及所述第二过孔141暴露出所述漏极127，所述像素电极150经第二过孔141连接所述漏极127。
具体地，所述栅极121为整面覆盖第一衬底110的结构，所述层间绝缘层124也为整面覆盖第一衬底110的结构。
具体地，所述平坦层140的材料为高分子材料。
优选地，所述主隔垫物162与黑色矩阵161的厚度之和等于黑色边框164的厚度。
具体地，所述彩膜基板200包括第二衬底210、及设于第二衬底210上的公共电极220；所述框胶400设于黑色边框164与公共电极220之间。
需要说明的是，本发明的液晶显示面板仅在有效显示区510中设置覆盖色阻层130的平坦层140，而在框胶区520不设置平坦层140，从而使BPS遮光层160中的覆盖框胶区520的黑色边框164直接制作在TFT层120上，相比于现有技术中使平坦层整面覆盖阵列基板的第一衬底，本发明中黑色边框164的上表面与主隔垫物162上表面之间的高度差增加了平坦层140的厚度，从而使彩膜基板200的公共电极220与阵列基板100的黑色边框164之间的距离增大，也即使设置在彩膜基板200的公共电极220与阵列基板100的黑色边框164之间的框胶400的厚度增加，使框胶400可掺杂更大粒径的纤维410，能够将框胶400内掺杂的纤维410的粒径控制在量产纤维的粒径范围内，有效地降低了液晶显示面板的成本。
值得一提的是，为了进一步增加主隔垫物162的上表面与黑色边框164上表面间的高度差也即增加框胶400的厚度，以提高框胶400内纤维410的粒径，在仅于有效显示区510内设置平坦层140的基础上，还可以选择性地使TFT层120中的一层或多层的绝缘材料层仅在有效显示区510内设置，例如，在本发明的一实施例中，所述栅极绝缘层122仅设于有效显示区510内；又例如，在本发明的另一实施例中，所述层间绝缘层124仅设于有效显示区510内。通过这种方式，进一步增加可使用的纤维410的粒径。
综上所述，本发明的液晶显示面板的制作方法，在利用一光罩制程对有效显示区中的平坦层进行图案化形成暴露TFT层的第二过孔的同时，将位于框胶区中的平坦层进行去除，使后续制作了BPS遮光层后，BPS遮光层中覆盖框胶区的黑色边框上表面与主隔垫物上表面之间的高度差增加，从而使设置在彩膜基板与阵列基板的黑色边框之间的框胶的厚度增加，使框胶可掺杂更大粒径的纤维，相比于现有技术，可将框胶内掺杂的纤维的粒径控制在量产纤维的粒径范围内，有效地降低了液晶显示面板成本。本发明的液晶显示面板，采用上述液晶显示面板的制作方法制得，产品成本低。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明后附的权利要求的保护范围。

Claims (10)

1.一种液晶显示面板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤S1、提供第一衬底(110)，在第一衬底(110)上定义有效显示区(510)、及位于有效显示区(510)外侧的框胶区(520)；
步骤S2、在第一衬底(110)上形成TFT层(120)，在TFT层(120)上于有效显示区(510)内形成色阻层(130)，在色阻层(130)上形成第一过孔(131)；
步骤S3、在色阻层(130)及TFT层(120)上形成平坦层(140)，利用一道光罩制程对平坦层(140)进行图案化，形成与第一过孔(131)对应的第二过孔(141)的同时去除位于框胶区(520)内的平坦层(140)；
步骤S4、在剩余的平坦层(140)上形成像素电极(150)，所述像素电极(150)经第二过孔(141)与TFT层(120)接触；
步骤S5、在平坦层(140)、像素电极(150)、及TFT层(120)上形成BPS遮光层(160)，得到阵列基板(100)；
所述BPS遮光层(160)包括位于有效显示区(510)内的黑色矩阵(161)、位于黑色矩阵(161)上的主隔垫物(162)及辅助隔垫物(163)、及覆盖框胶区(520)的黑色边框(164)；
步骤S6、提供彩膜基板(200)，在彩膜基板(200)一侧于框胶区(520)内或黑色边框(164)上涂布框胶(400)，在彩膜基板(200)一侧或阵列基板(100)具有黑色边框(164)的一侧于有效显示区(510)内滴注液晶，将阵列基板(100)与彩膜基板(200)进行对组，得到液晶显示面板。
2.如权利要求1所述的液晶显示面板的制作方法，其特征在于，所述步骤S2具体包括：
步骤S21、在第一衬底(110)上于有效显示区(510)内形成栅极(121)；
步骤S22、在栅极(121)上方形成覆盖有效显示区(510)及框胶区(520)的栅极绝缘层(122)；
步骤S23、在栅极绝缘层(122)上对应栅极(121)的上方形成有源层(123)；
步骤S24、在有源层(123)上方形成覆盖有效显示区(510)及框胶区(520)的层间绝缘层(124)，在层间绝缘层(124)上对应有源层(123)两端上方形成两个第三过孔(125)；
步骤S25、在层间绝缘层(124)上于有效显示区(510)内形成间隔的源极(126)与漏极(127)；所述源极(126)与漏极(127)分别经第三过孔(125)与有源层(123)两端接触，得到TFT层(120)；
步骤S26、在TFT层(120)上于有效显示区(510)内形成色阻层(130)，利用一道光罩制程在色阻层(130)上形成暴露所述漏极(127)的第一过孔(131)；
所述步骤S3形成的第二过孔(141)暴露出所述漏极(127)，所述像素电极(150)经第二过孔(141)连接所述漏极(127)。
3.如权利要求2所述的液晶显示面板的制作方法，其特征在于，所述步骤S22在形成栅极绝缘层(122)之后还包括对位于框胶区(510)内的栅极绝缘层(122)进行去除的步骤。
4.如权利要求2所述的液晶显示面板的制作方法，其特征在于，所述步骤S24在形成层间绝缘层(124)的第三过孔(125)的同时去除位于框胶区(510)内的层间绝缘层(124)。
5.如权利要求1所述的液晶显示面板的制作方法，其特征在于，所述平坦层(140)的材料为高分子材料；
所述主隔垫物(162)与黑色矩阵(161)的厚度之和等于黑色边框(164)的厚度；
所述彩膜基板(200)包括第二衬底(210)、及形成于第二衬底(210)上的公共电极(220)；所述步骤S6中，将彩膜基板(200)具有公共电极(220)的一侧与阵列基板(100)具有黑色边框(164)的一侧对组。
6.一种液晶显示面板，其特征在于，包括相对设置的阵列基板(100)与彩膜基板(200)、设于阵列基板(100)与彩膜基板(200)之间的液晶层(300)、及设于液晶层(300)外侧连接阵列基板(100)与彩膜基板(200)的框胶(400)；所述液晶显示面板具有对应液晶层(300)的有效显示区(510)、及对应框胶(400)的框胶区(520)；所述阵列基板(100)包括：第一衬底(110)、设于第一衬底(110)上的TFT层(120)、于有效显示区(510)内设于TFT层(120)上的色阻层(130)、于有效显示区(510)内覆盖色阻层(130)的平坦层(140)、设于平坦层(140)上的像素电极(150)、及设于像素电极(150)、平坦层(140)及TFT层(120)上的BPS遮光层(160)；所述色阻层(130)上于有效显示区(510)内设有第一过孔(131)，所述平坦层(140)设有对应第一过孔(131)的第二过孔(141)，所述像素电极(150)经第二过孔(141)连接所述TFT层(120)；所述BPS遮光层(160)包括：于有效显示区(510)内设于像素电极(150)及平坦层(140)上的黑色矩阵(161)、设于黑色矩阵(161)上的主隔垫物(162)及辅助隔垫物(163)、及设于TFT层(120)上且覆盖框胶区(520)的黑色边框(164)，所述框胶(400)设于黑色边框(164)与彩膜基板(200)之间。
7.如权利要求6所述的液晶显示面板，其特征在于，所述TFT层(120)包括：于有效显示区(510)内设在第一衬底(110)上的栅极(121)、覆盖栅极(121)的栅极绝缘层(122)、对应栅极(121)上方设于栅极绝缘层(122)上的有源层(123)、覆盖有源层(123)的层间绝缘层(124)、设于层间绝缘层(124)上对应有源层(123)两端上方的两个第三过孔(125)、于有效显示区(510)内设在层间绝缘层(124)上的间隔的源极(126)与漏极(127)；所述源极(126)与漏极(127)分别经第三过孔(125)与有源层(123)接触；所述第一过孔(131)及所述第二过孔(141)暴露出所述漏极(127)，所述像素电极(150)经第二过孔(141)连接所述漏极(127)。
8.如权利要求7所述的液晶显示面板，其特征在于，所述栅极绝缘层(122)设于有效显示区(510)内。
9.如权利要求7所述的液晶显示面板，其特征在于，所述层间绝缘层(124)设于有效显示区(510)内。
10.如权利要求6所述的液晶显示面板，其特征在于，所述平坦层(140)的材料为高分子材料；
所述主隔垫物(162)与黑色矩阵(161)的厚度之和等于黑色边框(164)的厚度；
所述彩膜基板(200)包括第二衬底(210)、及设于第二衬底(210)上的公共电极(220)；所述框胶(400)设于黑色边框(164)与公共电极(220)之间。
CN201710539587.7A 2017-07-04 2017-07-04 液晶显示面板的制作方法及液晶显示面板 Active CN107229152B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710539587.7A CN107229152B (zh) 2017-07-04 2017-07-04 液晶显示面板的制作方法及液晶显示面板

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710539587.7A CN107229152B (zh) 2017-07-04 2017-07-04 液晶显示面板的制作方法及液晶显示面板

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN107229152A true CN107229152A (zh) 2017-10-03
CN107229152B CN107229152B (zh) 2020-01-31

Family

ID=59956245

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201710539587.7A Active CN107229152B (zh) 2017-07-04 2017-07-04 液晶显示面板的制作方法及液晶显示面板

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN107229152B (zh)

Cited By (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109031801A (zh) * 2018-07-16 2018-12-18 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 一种液晶显示面板及其制备方法
CN109188764A (zh) * 2018-10-23 2019-01-11 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示面板及其制作方法
CN109782493A (zh) * 2018-01-29 2019-05-21 友达光电（昆山）有限公司 一种显示面板
CN109782495A (zh) * 2019-03-19 2019-05-21 京东方科技集团股份有限公司 一种显示模组及其制作方法和显示设备
CN110136571A (zh) * 2019-04-29 2019-08-16 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 一种阵列基板及其显示面板
CN110162203A (zh) * 2018-08-17 2019-08-23 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板、显示面板、显示装置、指纹识别方法和触控方法
CN110333635A (zh) * 2019-06-24 2019-10-15 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 一种阵列基板及显示面板
CN110646967A (zh) * 2019-10-12 2020-01-03 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 一种显示面板及其制作方法
CN110888276A (zh) * 2019-11-13 2020-03-17 Tcl华星光电技术有限公司 液晶显示面板
WO2020062474A1 (zh) * 2018-09-30 2020-04-02 重庆惠科金渝光电科技有限公司 显示面板及显示终端
CN111458977A (zh) * 2020-04-15 2020-07-28 Tcl华星光电技术有限公司 一种光刻胶及其制备的显示面板
CN111610660A (zh) * 2020-05-29 2020-09-01 厦门天马微电子有限公司 一种阵列基板、显示面板及显示装置
CN111650790A (zh) * 2020-05-06 2020-09-11 福建华佳彩有限公司 一种coa显示屏及制作方法
CN111766733A (zh) * 2020-07-31 2020-10-13 京东方科技集团股份有限公司 透明显示面板及其制备方法、显示装置
WO2021072835A1 (zh) * 2019-10-14 2021-04-22 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 液晶显示面板及其制备方法
CN113031350A (zh) * 2021-04-15 2021-06-25 北海惠科光电技术有限公司 一种显示面板及显示器
CN113126356A (zh) * 2021-04-15 2021-07-16 北海惠科光电技术有限公司 一种显示面板及其制作方法
WO2021184426A1 (zh) * 2020-03-16 2021-09-23 Tcl华星光电技术有限公司 阵列基板及液晶显示面板
CN113589582A (zh) * 2021-08-13 2021-11-02 信利(仁寿)高端显示科技有限公司 一种液晶显示屏制作方法及液晶显示屏
US11300875B2 (en) 2020-04-15 2022-04-12 Tcl China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Photoresist, display panel and display device
WO2024041174A1 (zh) * 2022-08-25 2024-02-29 武汉华星光电技术有限公司 液晶显示面板

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10142595A (ja) * 1996-11-08 1998-05-29 Rohm Co Ltd 液晶表示素子およびその製法
US20040233375A1 (en) * 2003-05-20 2004-11-25 Hyun-Sang Chung Liquid crystal display device and method of manufacturing the same
CN1727975A (zh) * 2004-07-30 2006-02-01 Lg.菲利浦Lcd株式会社 液晶显示装置及其制造方法
CN103901671A (zh) * 2012-12-26 2014-07-02 乐金显示有限公司 液晶显示装置及其制造方法
CN104865754A (zh) * 2015-06-19 2015-08-26 合肥鑫晟光电科技有限公司 显示面板及其制作方法、显示装置
CN104965366A (zh) * 2015-07-15 2015-10-07 深圳市华星光电技术有限公司 阵列彩膜集成式液晶显示面板的制作方法及其结构

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10142595A (ja) * 1996-11-08 1998-05-29 Rohm Co Ltd 液晶表示素子およびその製法
US20040233375A1 (en) * 2003-05-20 2004-11-25 Hyun-Sang Chung Liquid crystal display device and method of manufacturing the same
CN1727975A (zh) * 2004-07-30 2006-02-01 Lg.菲利浦Lcd株式会社 液晶显示装置及其制造方法
CN103901671A (zh) * 2012-12-26 2014-07-02 乐金显示有限公司 液晶显示装置及其制造方法
CN104865754A (zh) * 2015-06-19 2015-08-26 合肥鑫晟光电科技有限公司 显示面板及其制作方法、显示装置
CN104965366A (zh) * 2015-07-15 2015-10-07 深圳市华星光电技术有限公司 阵列彩膜集成式液晶显示面板的制作方法及其结构

Cited By (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109782493A (zh) * 2018-01-29 2019-05-21 友达光电（昆山）有限公司 一种显示面板
CN109031801A (zh) * 2018-07-16 2018-12-18 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 一种液晶显示面板及其制备方法
WO2020015083A1 (zh) * 2018-07-16 2020-01-23 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 一种液晶显示面板及其制备方法
CN110162203A (zh) * 2018-08-17 2019-08-23 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板、显示面板、显示装置、指纹识别方法和触控方法
CN110162203B (zh) * 2018-08-17 2022-11-18 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板、显示面板、显示装置、指纹识别方法和触控方法
WO2020062474A1 (zh) * 2018-09-30 2020-04-02 重庆惠科金渝光电科技有限公司 显示面板及显示终端
US11237434B2 (en) 2018-09-30 2022-02-01 Chongqing HHC Optoelectronics Technology Co., Ltd Display panel and display terminal
CN109188764A (zh) * 2018-10-23 2019-01-11 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示面板及其制作方法
CN109188764B (zh) * 2018-10-23 2021-07-20 Tcl华星光电技术有限公司 液晶显示面板及其制作方法
CN109782495A (zh) * 2019-03-19 2019-05-21 京东方科技集团股份有限公司 一种显示模组及其制作方法和显示设备
CN110136571A (zh) * 2019-04-29 2019-08-16 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 一种阵列基板及其显示面板
CN110333635A (zh) * 2019-06-24 2019-10-15 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 一种阵列基板及显示面板
CN110646967A (zh) * 2019-10-12 2020-01-03 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 一种显示面板及其制作方法
WO2021072835A1 (zh) * 2019-10-14 2021-04-22 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 液晶显示面板及其制备方法
CN110888276A (zh) * 2019-11-13 2020-03-17 Tcl华星光电技术有限公司 液晶显示面板
CN110888276B (zh) * 2019-11-13 2022-11-01 Tcl华星光电技术有限公司 液晶显示面板
WO2021184426A1 (zh) * 2020-03-16 2021-09-23 Tcl华星光电技术有限公司 阵列基板及液晶显示面板
CN111458977A (zh) * 2020-04-15 2020-07-28 Tcl华星光电技术有限公司 一种光刻胶及其制备的显示面板
US11300875B2 (en) 2020-04-15 2022-04-12 Tcl China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Photoresist, display panel and display device
CN111650790A (zh) * 2020-05-06 2020-09-11 福建华佳彩有限公司 一种coa显示屏及制作方法
US11815776B2 (en) 2020-05-29 2023-11-14 Xiamen Tianma Micro-Electronics Co., Ltd. Array substrate, display panel and display device
CN111610660B (zh) * 2020-05-29 2021-08-06 厦门天马微电子有限公司 一种阵列基板、显示面板及显示装置
CN111610660A (zh) * 2020-05-29 2020-09-01 厦门天马微电子有限公司 一种阵列基板、显示面板及显示装置
CN111766733A (zh) * 2020-07-31 2020-10-13 京东方科技集团股份有限公司 透明显示面板及其制备方法、显示装置
CN113126356A (zh) * 2021-04-15 2021-07-16 北海惠科光电技术有限公司 一种显示面板及其制作方法
CN113031350A (zh) * 2021-04-15 2021-06-25 北海惠科光电技术有限公司 一种显示面板及显示器
CN113589582A (zh) * 2021-08-13 2021-11-02 信利(仁寿)高端显示科技有限公司 一种液晶显示屏制作方法及液晶显示屏
WO2024041174A1 (zh) * 2022-08-25 2024-02-29 武汉华星光电技术有限公司 液晶显示面板

Also Published As

Publication number Publication date
CN107229152B (zh) 2020-01-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107229152A (zh) 液晶显示面板的制作方法及液晶显示面板
CN107039352B (zh) Tft基板的制作方法及tft基板
CN104965333B (zh) Coa型液晶显示面板及其制作方法
CN107275288A (zh) Tft基板的制作方法及tft基板
CN102692777B (zh) 液晶显示装置
WO2016086539A1 (zh) 液晶面板及其制作方法
CN104965366A (zh) 阵列彩膜集成式液晶显示面板的制作方法及其结构
US20190219865A1 (en) Bps array substrate and manufacturing method thereof
WO2017124673A1 (zh) 阵列基板的制作方法及液晶显示面板
CN106501988A (zh) Cf基板及其制作方法与液晶显示面板
CN205248273U (zh) 一种用于液晶显示器的阵列基板
WO2018036027A1 (zh) Ips型阵列基板的制作方法及ips型阵列基板
CN106992149B (zh) Tft基板的制作方法
WO2017128576A1 (zh) Ltps显示面板及其制作方法
CN109188764B (zh) 液晶显示面板及其制作方法
US20190049804A1 (en) Active switch array substrate, manufacturing method therfor, and display panel
CN106842687A (zh) 彩膜基板及其制作方法
US20180188597A1 (en) Color filter substrate, method for manufacturing the same and display device
CN110174803A (zh) 阵列基板及其制作方法
CN106847836A (zh) Tft基板及其制作方法
CN105652508A (zh) 彩膜基板的制作方法及制得的彩膜基板
CN109616443A (zh) 阵列基板的制作方法及阵列基板
CN105137645B (zh) 一种彩膜阵列基板及其制造方法、显示装置
WO2021068316A1 (zh) 一种显示面板及其制作方法
CN104503156A (zh) 显示基板及其制造方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
TA01 Transfer of patent application right

Effective date of registration: 20171016

Address after: 518132 No. 9-2 Ming Avenue, Gongming street, Guangming District, Guangdong, Shenzhen

Applicant after: Shenzhen Huaxing photoelectric semiconductor display technology Co., Ltd.

Address before: 518132 9-2, Guangming Road, Guangming New District, Guangdong, Shenzhen

Applicant before: Shenzhen Huaxing Optoelectronic Technology Co., Ltd.

TA01 Transfer of patent application right
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant