CN106547137A - 一种液晶面板及制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开一种液晶显示面板，其中，所述液晶显示面板包括彩膜基板，所述彩膜基板包括第一玻璃层，所述第一玻璃层的上方设有保护层；所述彩膜基板的显示区的边缘设有黑色矩阵层和框胶层，所述黑色矩阵层位于所述第一玻璃层和所述保护层之间，所述黑色矩阵层的长度小于所述第一玻璃层的长度，所述黑色矩阵层的上表面含有挡墙；所述框胶层设在所述保护层的端部的上方。本发明的液晶显示面板能够有效避免PI与Sealant的重叠，即有效的避免框胶脱落，提高液晶显示面板的良好率。

Description

一种液晶面板及制造方法
技术领域
本发明涉及液晶显示技术领域，特别涉及一种液晶面板及其制造方法。
背景技术
液晶面板生产时，显示区域(Active Area)会涂布PI液进行液晶的配向，现阶段主流产品都是窄边框及曲面，相应的设计常为POA(PS on Array)或COA(Color Filter onArray)。窄边框设计AA(Active Area)边缘与框胶(Sealant)的距离小，加上PI涂布偏差，易导致PI与Sealant的重叠(Overlap)，从而导致框胶脱落(Sealant Peeling)，带来严重的产品问题，导致产品将无法显示以及产品良率将受到严重影响。
为解决上述问题，本发明提出一种液晶面板及其制造方法。
发明内容
本发明的液晶面板，能够有效防止PI与Sealant的重叠，即有效的避免框胶脱落，提高产品的合格率。
为实现上述目的，本发明提出一种液晶面板，所述液晶面板包括包括彩膜基板，所述彩膜基板包括第一玻璃层，所述第一玻璃层的上方设有保护层；
所述彩膜基板的显示区的边缘设有黑色矩阵层和框胶层，所述黑色矩阵层位于所述第一玻璃层和所述保护层之间，所述黑色矩阵层的长度小于所述第一玻璃层的长度，所述黑色矩阵层的上表面含有挡墙；
所述框胶层设在所述保护层的端部的上方。
如上所述的液晶显示面板，其中，所述挡墙为在所述黑色矩阵层的上表面开设的凹槽，所述凹槽的深度小于所述黑色矩阵层的厚度。
如上所述的液晶显示面板，其中，所述挡墙为在所述黑色矩阵层的上表面凸设的凸起。
如上所述的液晶显示面板，其中，所述液晶显示面板还包括阵列基板，所述阵列基板与所述彩膜基板相对的区域设置有第二玻璃层，所述第二玻璃层上方设有金属层，所述金属层两侧分别设有栅极绝缘层，所述栅极绝缘层的上方设有能保护所述金属层的第一钝化层，所述框胶层覆盖所述金属层及一个所述第一钝化层，另一个所述第一钝化层的上方设有色阻层。
如上所述的液晶显示面板，其中，所述色阻层的上方设有能保护所述色阻层的第二钝化层。
如上所述的液晶显示面板，其中，所述色阻层的上方设有间隙子，所述间隙子与所述保护层相抵接。
如上所述的液晶显示面板，其中，所述色阻层为蓝色色阻层。
如上所述的液晶显示面板，其中，所述凸起的高度小于所述彩膜基板与所述阵列基板之间的距离。
本发明还提出一种如上所述的液晶显示面板的制造方法，其中，光罩设于彩膜基板的上方，所述光罩包括第一光罩、第二光罩和第三光罩，所述第一光罩与第一玻璃层的上方设有黑色矩阵层的之外的区域相对设置，所述第二光罩与所述黑色矩阵层相对设置，所述第三光罩与挡墙的区域相对设置，将光通过所述光罩入射到所述彩膜基板上，所述第一光罩的透光率为0，所述第二光罩的透光率大于所述第三光罩的透光率或所述第二光罩的透光率小于所述第三光罩的透光率。
如上所述的液晶显示面板的制造方法，其中，所述第二光罩的透光率为100％和所述第三光罩部分透光或所述第二光罩部分透光，所述第三光罩的透光率为100％。
本发明的液晶显示面板的彩膜基板侧设有挡墙，能够有效避免PI与Sealant的重叠，即有效的避免框胶脱落，提高产品的合格率，本发明的液晶显示面板的制造方法能够有效的生产挡墙，操作过程简单，且不影响彩膜基板的黑色矩阵层及ITO层的质量。
附图说明
在此描述的附图仅用于解释目的，而不意图以任何方式来限制本发明公开的范围。另外，图中的各部件的形状和比例尺寸等仅为示意性的，用于帮助对本发明的理解，并不是具体限定本发明各部件的形状和比例尺寸。本领域的技术人员在本发明的教导下，可以根据具体情况选择各种可能的形状和比例尺寸来实施本发明。
图1为液晶显示面板的结构示意图；
图2为本发明的彩膜基板的结构示意图(一)；
图3为本发明的彩膜基板的结构示意图(二)；
图4为本发明的挡墙的生产示意图(一)；
图5为本发明的挡墙的生产示意图(二)。
具体实施方式
结合附图和本发明具体实施方式的描述，能够更加清楚地了解本发明的细节。但是，在此描述的本发明的具体实施方式，仅用于解释本发明的目的，而不能以任何方式理解成是对本发明的限制。在本发明的教导下，技术人员可以构想基于本发明的任意可能的变形，这些都应被视为属于本发明的范围，下面将结合附图对本发明作进一步说明。
图1至图5分别为液晶显示面板的结构示意图、彩膜基板的结构示意图(一)、彩膜基板的结构示意图(二)、挡墙的生产示意图(一)和挡墙的生产示意图(二)。
如图2和图3本发明的液晶显示面板包括彩膜基板1，彩膜基板1包括第一玻璃层11，第一玻璃层11的上方设有保护层12，该保护层12由ITO制成，彩膜基板1的显示区的边缘13设有黑色矩阵层14和框胶层15，黑色矩阵层14位于第一玻璃层11和保护层12之间，黑色矩阵层14的长度小于第一玻璃层11的长度，黑色矩阵层14的上表面含有挡墙16，框胶层15设在保护层12的端部的上方。
在本发明中，挡墙16的结构有两种形式，其中第一种的结构具体是，如图2所示，挡墙16为在黑色矩阵层14的上表面开设的凹槽141，凹槽141的深度小于黑色矩阵层14的厚度。
如图3所示，本发明的挡墙16的第二种结构具体是，在黑色矩阵层14的上表面凸设的凸起142。
进一步的，如图1所示，本发明的液晶显示面板还包括阵列基板2，阵列基板2与彩膜基板1相对的区域设置有第二玻璃层21，第二玻璃层21上方设有金属层22，具体的，金属层22为栅极，金属层22的两侧分别设有栅极绝缘层23，栅极绝缘层23的上方设有能保护金属层22的第一钝化层24，框胶层15覆盖金属层22及一个第一钝化层24，另一个第一钝化层24的上方设有色阻层25，在一具体实施方式中，色阻层25为蓝色色阻层。
进一步地，色阻层25的上方设有能保护色阻层25的第二钝化层26，从而起到对色阻层25起到保护的作用，在一具体实施方式中，在第二钝化层26上方设有ITO层28。
进一步地，色阻层25的上方设有间隙子27(又称为PS挡墙)，间隙子27与保护层12相抵接，从而在阵列基板2与彩膜基板1之间起到支撑的作用。
在本发明中，凸起142的高度小于彩膜基板1与阵列基板2之间的距离，从而防止凸起142对阵列基板2造成破坏。
本发明的彩膜基板1与阵列基板2对位之前会在彩膜基板1与阵列基板2上分别会涂布PI液17，PI液17涂布偏差，易导致PI液17与框胶层15的重叠(Overlap)，从而导致框胶层15脱落，本发明的挡墙16能够有效阻止PI液17与框胶层15的重叠，从而提高液晶显示面板的质量，提高液晶显示面板的良好率。
如图4和图5所示，本发明还提出一种针对本发明的液晶显示面板的制造方法，该制造方法为，彩膜基板1的上方设有光罩3，光罩3包括第一光罩31、第二光罩32和第三光罩33，第一光罩31与第一玻璃层11的上方设有黑色矩阵层14之外的区域相对设置，第二光罩32与黑色矩阵层14相对设置，第三光罩33与挡墙16的区域相对设置，光9通过光罩3入射到彩膜基板1上，其中，第一光罩31的透光率为0，第二光罩32的透光率大于第三光罩33的透光率或第二光罩32的透光率小于第三光罩33的透光率。
在一具体实施方式中，第二光罩32的透光率为100％及第三光罩33为部分透光，在一具体实施例中，第三光罩33的透光率为50％。
在另一具体实施方式中，第二光罩32部分透光，第三光罩33的透光率为100％，在一具体实施例中，第二光罩32的透光率为50％。当然第三光罩33和第二光罩32的透光率可以设定为其他值，只要不相同即可，在此不做具体限制。
本发明对光罩3有两种实施例，实施例一为：光罩3可使用HTM光罩类型，HTM光罩上不同区域设计不同材料，不同材料对光的吸收量不一样，从而可以实现不同区域的光的透过量不同，显影后可以得到不同膜厚的黑色矩阵层14。因彩膜基板1常用负性光阻，见光后的光阻不会被洗掉，该处的黑色矩阵层将会留下。图4中无黑色矩阵层14的地方在光罩3设计上为不透光，即Tr＝0％(对应图4中的第一光罩31部分)，该区域对应第一玻璃层11上区域黑色矩阵层14会被显影液洗掉；正常黑色矩阵层14区在光罩3设计上为全透光，即Tr＝100％(对应图4中的第二光罩32部分)，黑色矩阵层14会留在彩膜基板1上；而黑色矩阵层14的凹槽141部分采用在光罩3设计上为部分透光，即Tr＝50％(对应图4中的第三光罩33部分)，该穿透率可以根据实验结果做出调整，这里只是给出一个示例透过率，部分透光则该区域光阻较薄，会被洗掉一部分，从而形成图4中的凹槽141结构。另外可以通过调控黑色矩阵层14膜的涂布厚度及光罩3上半透区的透光率的大小来调控凹槽141的形状位置和深浅，从而达到最佳阻挡PI液17的效果，ITO层采用正面蒸镀，不需要使用光罩3。
实施例为如图5所示，光罩3使用HTM光罩类型。因彩膜基板1常用负性光阻，图5中无黑色矩阵层14的地方在光罩3设计上为不透光，Tr＝0％(对应图5中的第一光罩31部分)，正常黑色矩阵层14区为在光罩3设计上为半透光，Tr＝50％(对应图5中的第二光罩32部分)，该穿透率可以根据实验结果做出调整，这里只是给出一个示例透过率，而黑色矩阵层14的凸起142部分在光罩3设计上采用全透光的设计，Tr＝100％(对应图5中的第三光罩33部分)。同实施例一中可以通过调控黑色矩阵层14膜的涂布厚度及光罩3上的半透区的透光率的大小来调控凸起142的形状位置和深浅，从而达到最佳阻挡PI液的效果，ITO层采用正面蒸镀，不需要使用光罩。
虽然已经参考优选实施例对本发明进行了描述，但在不脱离本发明的范围的情况下，可以对其进行各种改进并且可以用等效物替换其中的部件。尤其是，只要不存在结构冲突，各个实施例中所提到的各项技术特征均可以任意方式组合起来。本发明并不局限于文中公开的特定实施例，而是包括落入权利要求的范围内的所有技术方案。

Claims (10)

1.一种液晶显示面板，其特征在于，所述液晶显示面板包括彩膜基板，所述彩膜基板包括第一玻璃层，所述第一玻璃层的上方设有保护层；
所述彩膜基板的显示区的边缘设有黑色矩阵层和框胶层，所述黑色矩阵层位于所述第一玻璃层和所述保护层之间，所述黑色矩阵层的长度小于所述第一玻璃层的长度，所述黑色矩阵层的上表面含有挡墙；
所述框胶层设在所述保护层的端部的上方。
2.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述挡墙为在所述黑色矩阵层的上表面开设的凹槽，所述凹槽的深度小于所述黑色矩阵层的厚度。
3.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述挡墙为在所述黑色矩阵层的上表面凸设的凸起。
4.如权利要求3所述的液晶显示面板，其特征在于，所述液晶显示面板还包括阵列基板，所述阵列基板与所述彩膜基板相对的区域设置有第二玻璃层，所述第二玻璃层上方设有金属层，所述金属层两侧分别设有栅极绝缘层，所述栅极绝缘层的上方设有能保护所述金属层的第一钝化层，所述框胶层覆盖所述金属层及一个所述第一钝化层，另一个所述第一钝化层的上方设有色阻层。
5.如权利要求4所述的液晶显示面板，其特征在于，所述色阻层的上方设有能保护所述色阻层的第二钝化层。
6.如权利要求4所述的液晶显示面板，其特征在于，所述色阻层的上方设有间隙子，所述间隙子与所述保护层相抵接。
7.如权利要求4至6中任意一项所述的液晶显示面板，其特征在于，所述色阻层为蓝色色阻层。
8.如权利要求5所述的液晶显示面板，其特征在于，所述凸起的高度小于所述彩膜基板与所述阵列基板之间的距离。
9.一种如权利要求1至7中任一项所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，光罩设于彩膜基板的上方，所述光罩包括第一光罩、第二光罩和第三光罩，所述第一光罩与第一玻璃层的上方设有黑色矩阵层之外的区域相对设置，所述第二光罩与所述黑色矩阵层相对设置，所述第三光罩与挡墙的区域相对设置，将光通过所述光罩入射到所述彩膜基板上，所述第一光罩的透光率为0，所述第二光罩的透光率大于所述第三光罩的透光率或所述第二光罩的透光率小于所述第三光罩的透光率。
10.如权利要求9中所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，所述第二光罩的透光率为100％和所述第三光罩部分透光或所述第二光罩部分透光，所述第三光罩的透光率为100％。
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