KR960026110A - 포토마스크를 세척하기 위한 장치 및 방법 - Google Patents

포토마스크를 세척하기 위한 장치 및 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 포토마스크 및 반도체 웨이퍼와 같은 대상으로부터 매우 작은 불순물 입자를 제거하기 위한 장치 및 방법에 관한 것이다. 이 장치에 목표 대상의 임의의 불순물 입자의 위치를 식별하기 위해 검사장치를 이용한다. 일단 다양한 불순물 입자의 위치가 식별되면, 프로브는 불순물 입자의 위치로 신속하게 이동시킨다. 이 프로브는 목표 대상으로부터 불순물 입자를 제거한 다음 세척부로 이동하여, 불순물 입자는 프로브로부터 제거된다. 그때, 프로브는 모든 불순물이 목표대상으로부터 제거될 때까지 다음 불순물 입자로 이동된다. 목표대상으로부터 불순물 입자를 하나씩 제거함으로서, 무결점 생산품의 제조분야는 대단히 향상된다.

Description

포토마스크를 세척하기 위한 장치 및 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명의 바람직한 일 실시예에 대한 개략적인 블럭도.

Claims (18)

  1. 박막층(pellicle layer)에 의해 보호된 포토마스크의 표면으로부터 불순물 입자를 제거하기 위한 장치에 있어서, 포토마스크 및 박막층 사이에 위치할 수 있으며 불순물 입자와 접촉하여 불순물 입자를 제거할 수 있는 수단을 가지는 프로브; 및 불순물 입자와 연관된 위치에 근접하게 프로브를 위치시키는 위치조정 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 포토마스크의 표면으로부터 불순물 입자를 제거하기 위한 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 포토마스크상의 불순물 입자의 위치를 지정하는 위치 지정수단을 더 포함하는 것을특징으로 하는 포토마스크의 표면으로부터 불순물 입자를 제거하기 위한 장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 위치 지정수단은 불순물 입자의 위치를 계산하기 위한 마이크로프로세서를 포함하며, 상기 마이크로프로세서는 상기 프로브를 불순물 입자의 위치로 선택적으로 이동시키는 상기 위치지정 수단을 제어하는 것을 특징으로 하는 포토마스크의 표면으로부터 불순물 입자를 제거하기 위한 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 프로브는 정전기 전하를 선택적으로 유지할 수 있는 것을 특징으로 하는 포토마스크의 표면으로부터 불순물 입자를 제거하기 위한 장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 위치 수단이 상기 프로브를 주어진 위치에서 불순물에 근접하게 위치시키며 상기 프로브가 불순물 입자를 끌어당겨서, 상기 포토마스크로부터 불순물 입자가 제거되는 것을 특징으로 하는 포토마스크의 표면으로부터 불순물 입자를 제거하기 위한 장치.
  6. 제1항에 있어서, 상기 위치조정 수단이 상기 프로브를 불순물 입자에 접촉시키며 상기 프로브가 불순물 입자를 끌어당겨서, 포토마스크로부터 상기 불순물 입자가 제거되는 것을 특징으로 하는 포토마스크의 표면으로부터 불순물 입자를 제거하기 위한 장치.
  7. 제1항에 있어서, 상기 프로브로부터 불순물 입자를 세척하기 위한 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 포토마스크의 표면으로부터 불순물 입자를 제거하기 위한 장치.
  8. 포토마스크 위에서 보호 박막층을 지지하는 박막 프레임에 있어서, 상기 박막 프레임은 프로브가 포토마스크 및 보호 박막층 사이에 삽입될 수 있게 하는 적어도 하나의 폐쇄가능한 개구부를 가지는 것을 특징으로 하는 박막 프레임.
  9. a) 포토마스크상의 불순물 입자의 위치를 지정하는 단계; b) 프로브를 불순물 입자의 위치에서 구동시키는 단계; c) 불순물 입자를 상기 프로브로 끌어당기는 단계; 및 d) 불순물 입자가 제거되도록, 프로브를 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토마스크로부터 불순물을 제거하기 위한 방법.
  10. 제9항에 있어서, 프로브로부터 불순물 입자를 세척하는 단계 및 단계(a)를 반복하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 포토마스크로부터 불순물을 제거하기 위한 방법.
  11. 제9항에 있어서, 단계(a) 전에 포토마스크를 세척하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 포토마스크로부터 불순물을 제거하기 위한 방법.
  12. 제9항에 있어서, 상기 프로브를 구동하는 상기 단계는 프로브를 불순물 입자에 근접하게 위치시키는 단계를 포함하며, 상기 프로브는 정전기력을 사용하여 포토마스크에 떨어진 불순물 입자를 끌어당기는 것을 특징으로 하는 포토마스크로부터 불순물을 제거하기 위한 방법.
  13. 제9항에 있어서, 상기 프로브를 구동하는 상기 단계는 프로브를 불순물 입자에 접촉시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토마스크로부터 불순물을 제거하기 위한 방법.
  14. 제10항에 있어서, 상기 프로브로부터 불순물 입자를 세척하는 상기 단계는, 대상에 떨어진 불순물 입자로 상기 프로브를 수축시키는 부단계; 세척실내에 상기 프로브를 위치시키는 부단계; 상기 프로브로부터 불순물 입자를 제거하는 부단계; 및 상기 프로브를 포토마스크로 복원시키는 부단계를 포함하는 것을 특징으로하는 포토마스크로부터 불순물을 제거하기 위한 방법.
  15. 제9항에 있어서, 불순물 입자가 프로브에 의해 완전히 제거되는 지의 여부를 결정하기 위한 단계(d) 후에 포토마스크를 검사하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 포토마스크로부터 불순물을 제거하기 위한 방법.
  16. 제15항에 있어서, 만일 대상을 검사하는 단계가 완전히 제거되지 않은 불순물 입자를 발견한다면, 소정수만큼 단계(b) 및 (c)를 반복하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 포토마스크로부터 불순물을 제거하기 위한 방법.
  17. 제16항에 있어서, 만일 불순물 입자가 상기 소정수만큼 단계(b) 및 (c)를 반복한 후에 완전히 제거되지 않는다면 대상을 제거하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 포토마스크로부터 불순물을 제거하기 위한 방법.
  18. 제9항에 있어서, 불순물 입자의 위치에서 상기 프로브를 구동하는 상기 단계는 포토마스크 및 포토마스크에 장착된 보호 박막층 사이에 프로브를 위치시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토마스크로부터 불순물을 제거하기 위한 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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