TWI821234B - 具光改變特徵之塗覆製品及用於製造彼等之方法 - Google Patents

Abstract

根據本文所述的一或多個實施方式，塗覆製品可包括：具有主表面的透明基板，該主表面包含引起光散射的紋理或粗糙表面；光學塗層，該光學塗層設置在透明基板的主表面上並形成空氣側表面，該光學塗層包括一或多層材料，該光學塗層的物理厚度大於300nm，其中塗層製品顯現藉由Berkovich壓頭硬度試驗在空氣側表面上沿著約50nm或更大的壓痕深度所量測的最大硬度為約10GPa或更高。

Description

具光改變特徵之塗覆製品及用於製造彼等之方法

本申請案要求2018年1月9日所申請之美國臨時申請案號62 / 615,226的優先權，其內容被依賴於此且藉由引用方式將其全部併入本文中(如同在下文中所完全闡述地)。

本申請案係關於塗覆製品及其製造方法；更具體來說，本申請案係關於具有在透明基板上的耐用及/或耐刮痕光學塗層的塗覆製品。

外覆製品通常用於保護電子產品內的關鍵裝置，以提供用於輸入及/或顯示的使用者界面，及/或許多其他功能。這些產品包括行動裝置，如智慧型手機、mp3播放器和平板電腦。外覆製品還包括建築製品、運輸製品（例如，用於汽車應用、火車、飛機及海上工藝等的製品）、電器製品或任何需要一些透明度、耐刮痕性、耐磨性或其組合的製品。就最大透光率和最小反射率而言，這些應用通常要求耐刮痕性和強光學效能特性。此外，一些外覆應用要求在反射及/或透射率中呈現或感知的顏色在視角改變時不會明顯改變。在顯示器應用中，這是因為若反射或透射中的顏色隨著視角變化到可觀的程度，則產品的使用者將感知到顯示器的顏色或亮度的變化，這會降低顯示器的感知品質。在其他應用中，顏色的變化可能會對美學要求或其他功能要求產生負面影響。

藉由使用各種抗反射（「AR」）塗層可改善外覆製品的光學效能；然而，已知的抗反射塗層易於磨耗或磨損。這種磨損會損害由抗反射塗層所產生的任何光學效能改善。例如，濾光器通常由具有不同折射率的多層塗層製成且由光學透明的介電材料（例如，氧化物、氮化物和氟化物）製成。用於這種濾光器的大多數典型氧化物皆是寬的能隙材料，其不具有必要之用於行動裝置、建築製品、運輸製品或電器製品的機械屬性(如硬度)。

磨損傷害可包括來自相對面物體（例如，手指）的往復滑動接觸。此外，磨損傷害可產生熱量，這可降低薄膜材料中的化學鍵並導致外覆玻璃的剝落和其他類型的損壞。由於經常長期經歷磨損傷害，而非引起刮痕的單一事件，因此經歷磨損傷害的塗層材料也會氧化，這會進一步降低塗層的耐久性。

已知的抗反射塗層也易受刮痕傷害，且通常比其上設置有這種塗層的下方的基板更容易受到刮痕傷害。在一些情況下，這種刮痕傷害的多數部分包括微生物刮痕，其通常包括具有延伸長度且深度在約100nm至約500nm範圍內的材料中的單個凹槽。微生物刮痕可伴隨其他類型的可見損傷，如表面下裂開、摩擦裂開、碎裂及/或磨損。有證據表明，大多數此類刮痕和其他可見傷害是由單次接觸事件中發生的尖銳接觸引起的。一旦在外覆基板上出現明顯的刮痕，製品的外觀就會降級，因刮痕會導致光散射的增加，這可能導致顯示器上圖像的亮度、清晰度和對比度的顯著降低。顯著的刮痕也會影響包括觸控顯示器在內的製品的準確性和可靠性。單事件刮痕傷害可與磨損傷害形成對比。單事件刮痕傷害不是由如來自硬質對立面物體（例如，沙子、礫石和砂紙）的往復滑動接觸的多個接觸事件引起的；單事件刮痕傷害也不會產生會降解薄膜材料中的化學鍵並導致剝落和其他類型的傷害的熱。另外，單事件刮痕通常不會引起氧化或涉及引起磨損的相同條件；因此，經常用於防止磨損的解決方案也可能不防止刮痕。此外，已知的刮痕和磨損傷害解決方案通常會損害光學性質。

已製造出用於顯示螢幕之具有光散射「防眩光」功能的粗糙或紋理化表面。這些表面藉由漫射或模糊反射圖像及減少鏡面反射來增加環境照明下的顯示可讀性。在這些紋理表面上添加了薄（＜300nm）的抗反射塗層，以結合光散射（來自紋理表面）和基於干涉的抗反射（來自塗層）的效果。這些類型的塗層通常有低耐刮痕性和高刮痕可見性之缺點。

最近，已演示了具有高耐刮痕性和低刮痕可見度的高硬度抗反射塗層。參見(例如)美國專利號9,079,802、9,359,261號、9,366,784號、9,335,444號和9,726,786號，及美國授權前公開案號US2015 / 0322270和US2017 / 0307790。這些塗層通常包括＞ 500nm（在某些情況下，係大於1000、大於1500或大於2000nm）的厚度，以實現有益於顯示應用之高硬度、高抗刮痕性、低反射率和低色移的組合。

本文所示的是相對厚的光學防刮痕塗層可均勻地沉積在紋理防眩光表面上，而不破壞來自表面紋理的光散射或來自光學塗層的受控顏色抗反射效果。此外，獲得了有利的特性。具體來說，藉由光散射表面與低反射率光學塗層的組合來最大化隱藏刮痕和抑制環境反射的能力。

本文描述了紋理化光散射化學強化玻璃表面與均勻的、顏色受控的且低反射的光學硬塗層的組合。高硬度最小化了刮痕的形成。低反射率和光散射共同作用，以提高顯示可讀性、減少眩光或最小化眼睛疲勞。光散射表面（光改變特徵）還提供了二次刮痕隱藏機制，因光散射背景有助於隱藏來自某些常見表面刮痕和相關類型的損傷的散射光。光散射和低反射特性相結合，以最小化眩光及最大化顯示可讀性、視色域及/或視亮度(特別是在戶外環境中)。

附加的特徵和優勢將在隨後的詳細描述中闡述，且對於所屬技術領域中具有通常知識者來說將從該描述中顯而易見部分的附加特徵和優勢，或藉由實施本文所述的實施例來認識到部分的附加特徵和優勢，該等實施例包括下文的詳細描述、申請專利範圍及附加圖式。例如，可根據以下實施例來組合各種特徵。

實施例1：一種塗覆製品，包括： 透明基板，該透明基板具有主表面，該主表面包括引起光散射的粗糙表面； 光學塗層，該光學塗層設置在該透明基板的該主表面上並形成空氣側表面，該光學塗層包括一或多層材料，該光學塗層具有大於300nm的一物理厚度； 其中該塗覆製品顯現藉由Berkovich壓頭硬度試驗在該空氣側表面上沿著約50nm或更大的壓痕深度所量測的最大硬度為約10GPa或更高。

實施例2：如實施例1所述的塗覆製品，其中該主表面包括以下中的至少一者的粗糙度：Rq為100nm或更大，及（ii）Ra為100nm或更大。

實施例3：如實施例2所述的塗覆製品，其中該光學塗層的物理厚度大於紋理表面的Ra或Rq。

實施例4：如先前實施例的任一者所述的塗覆製品，其中該光學塗層具有大於600nm的物理厚度。

實施例5：如先前實施例的任一者所述的塗覆製品，進一步包括以下中的至少一者的雙側鏡面反射率（SCI-SCE）：小於4.5％；或低於4％。

實施例6：如先前實施例的任一者所述的塗覆製品，進一步包括以下中的至少一者的單側鏡面反射率：小於約0.5％、或小於約0.25％、或小於0.2％、或小於0.15％或小於0.1％；或更少地為適光平均值。

實施例7：如先前實施例的任一者所述的塗覆製品，進一步包括以下至少一者的單側鏡面反射率：從接近垂直入射角到高達40度的入射角下小於約0.5％；在60度入射角下低於3％、或低於1.5％，或低於1％。

實施例8：如先前實施例的任一者所述的塗覆製品，進一步包括大於約0.05或大於0.1、及小於或等於約0.5、或約1.0、或約1.5、或約2.0或約3.0的雙側漫射反射率（SCE）。

實施例9：如先前實施例的任一者所述的塗覆製品，進一步包括小於約5.5的雙側全反射率（SCI）。

實施例10：如先前實施例的任一者所述的塗覆製品，進一步包含a*和b*反射顏色值，該等值具有小於16、小於12、小於10、小於5或小於2的絕對值。

實施例11：如先前實施例的任一者所述的塗覆製品，進一步包括： a*及 /或b*，其絕對值至少為以下之一者：大於約6、從大約10到大約16、大於約16、從大約10到大約20、大約10到大約30、大約10到大約40及大約10至大約50及 在該主表面上的透射霧度值中的至少一者：約4％至約7％，及小於10％。

實施例12：如先前實施例的任一者所述的塗覆製品，進一步包括： a*及/或b*的絕對值至少為以下之一者：小於6、小於5、小於4及小於2；及 在該主表面上的透射霧度值中的至少一者：大於10％、 大於20％、大於25％、大於27％、大於40％、大於50％及大於60％。

實施例13：如先前實施例的任一者所述的塗覆製品，進一步包括以下中的至少一者的一20度DOI：小於95、小於90、小於80或小於70。

實施例14：如先前實施例的任一者所述的塗覆製品，進一步包括小於80或小於60的60度光澤度值。

實施例15：如先前實施例的任一者所述的塗覆製品，進一步包括以下中的至少一者的總(包括雙側、可見鏡面加漫射)透光率：高於80％、高於90％、高於94％。

實施例16：如先前實施例的任一者所述的塗覆製品，進一步包括藉由像素功率偏差（PPD）量測的(與具有140像素/每英吋顯示器相關的)閃光效能中的至少一者：小於10％或低於5％。

實施例17：如先前實施例的任一者所述的塗覆製品，其中在以4kg負荷(總負荷包括花鍵、軸、夾頭和重量支架的重量)及以25循環/分鐘的速率進行一次循環所進行的150粒度的石榴石(Garnet)刮痕試驗之後，該製品包括以下中的至少一者： 雙側鏡面反射率（SCI-SCE）：小於6.0％或小於5.0％；及/或從未磨損值改變小於2.0％、小於1.0％或小於0.5％； 雙側漫射反射率（SCE）：小於3.0％、小於2.0％、小於1.0％或小於0.5％；及/或從該未磨損值改變小於1.0％、小於0.5％或小於0.2％；及 雙側全反射率（SCI）：小於6.0％或小於5.0％，從該未磨損值改變小於2％、小於1％、小於0.5％或小於0.2％。

實施例18：如先前實施例的任一者所述的塗覆製品，其中在使用400粒度Kovax研磨紙、及在1kg總重量的負荷下以25循環/分鐘的速率進行50次循環的Taber磨損試驗之後，該製品包括以下中的至少一者： 雙側鏡面反射率（SCI-SCE）：小於7.5％、小於6.0％或小於5.0％；及/或從該未磨損值改變小於3.0％、小於2.0％或小於1.0％； 雙側漫射反射率（SCE）：小於5.0％、小於3.0％、小於2.0％或小於1.0％；及/或從該未磨損值改變小於3.0％、小於2.0％、小於1.0％或小於0.5％；及/或 雙側全反射率（SCI）：小於8.0％；及/或從該未磨損值改變小於3.0％、小於2.0％、小於1.0％或小於0.5％。

實施例19：如先前實施例的任一者所述的塗覆製品，進一步包括以下至少一種硬度：12GPa或更高、14 GPa或更高、16 GPa或更高。

實施例20：如先前實施例的任一者所述的塗覆製品，進一步包括至少12GPa或更大的硬度和大於300nm的光學塗層厚度。

實施例21：如先前實施例的任一者所述的塗層製品，進一步包括至少14GPa或更高的硬度和至少500nm的光學塗層厚度。

實施例22：如實施例1所述的塗層製品，其中國際照明光源委員會的L* a* b*比色法系統在垂直入射下的該製品透射率及/或反射率色座標顯現出小於約10之從在該空氣側表面所量測的參考點開始的參考點色移，該參考點包括色座標（a*=0，b*=0）及（a*=-2，b*=-2）或該基板之相應的透射率或反射率色座標，其中： 當該參考點是色座標（a*=0，b*=0）時，色移由√（（a*_製品 ）² +（b*_製品 ）² ）定義； 當該參考點是色座標（a*=-2，b*=-2）時，色移由√（（a*_製品 + 2）² +（b*_製品 +2）² ）定義；及 當該參考點是該基板的色坐標時，色移由√（（a*_製品 - a*基板）² +（b*_製品 - b*基板）² ）定義。

實施例23：如實施例1所述的塗覆製品，其中該塗覆製品具有約50％或更少的透射霧度值。

實施例24：如先前實施例的任一者所述的塗覆製品，其中該基板包括無定形基板或結晶基板。

實施例25：如先前實施例的任一者所述的塗覆製品，其中該塗覆製品具有約50％或更高的平均適光透射率。

實施例26：一種電子裝置，其包括如先前實施例的任一者中的塗覆製品。

現在將詳細參考各種實施例，該各種實施例之示例在附加圖式中示出。本文描述了塗覆製品的實施例，該等塗覆製品包括設置在基板上的光學塗層（其可包括一或多個不連續的層）。光學塗層包括一種或多種光改變特徵。如本文所述，結合到光學塗層中的光改變特徵可減少反射振盪、減少可見顏色和/或減少角度色移。可包括在本文所述的光學塗層中的光改變特徵可包括光散射結構元件，該等光散射結構元件如(但不限於)層界面處的粗糙度或在光學塗層之層的邊緣中或邊緣處光散射構件的包含。層和光散射構件的粗糙界面可在光學塗層中散射光，使得來自整個塗層製品的反射的光學干涉是非相干的，從而導致塗層製品的反射率和/或透射光譜減少振盪。替代地或除上述之外，光改變特徵可存在於其上設置有光學塗層的基板上或其中及/或存在於基板和光學塗層之間的界面處。

大體來說，一些反射可存在於塗層製品中任何不具有相同的折射率的兩層之間的界面處。在塗覆製品的實施例中，這可包括光學塗層與空氣之間的界面、光學塗層與其沉積在其上的基板之間的界面，及任何兩層光學塗層之間的界面。來自每個界面的反射率有助於塗覆製品的總反射光譜。在塗覆製品的一些實施例中，藉由在頻率，相位、極化、空間、時間或這些參數的組合上具有固定或明確定義的關係(且這種固定或明確定義的關係在空間和時間的範圍內保持足夠大以便觀察者注意)，與塗覆製品的兩個或更多個界面相互作用的反射、透射或入射光波可為相干。例如，由兩個不同界面產生的反射光譜可具有相似的波長，且每個反射光譜可建設性地有助於塗覆製品的總反射光譜。產生相干干涉的界面可來自光學塗層中的單層或來自不共享共用層的塗層製品的兩個或更多個界面。

本領域需要低反射率、受控制的顏色及光散射的硬塗層玻璃製品，其可最大化顯示可讀性並提供低反射率、低眩光、高度耐刮痕的元件，該等元件其也可具有對可見光、IR光、或微波/RF電磁輻射之透明度。光散射表面與低反射塗層的結合使顯示器在明亮的周圍環境中的可讀性最大化，既可降低到達使用者的鏡面反射的絕對強度，亦可降低從顯示表面反射的圖像之明顯的銳度（清晰度）。

光散射表面（其具有光改變特徵）可藉由(例如)噴砂和蝕刻玻璃表面及接著藉由化學強化該玻璃表面（例如GORILLA®玻璃基板）來形成。在紋理形成之後可例如經由使用設計成具有低反射率和低顏色的高硬度多層光學干涉膜的紋理化玻璃表面的薄膜塗層（如蒸發、濺射或CVD塗層）來賦予高硬度。

光散射表面（其具有光改變特徵）與共形光學硬塗層的組合藉由以下一或多種機制減少了刮痕可見性： （i）由於表面的高硬度，不會形成刮痕； （ii）藉由表面的粗糙度減少了由如沙子的磨擦顆粒與表面的摩擦接觸。例如，光改變特徵可減小製品表面和磨料之間的接觸面積，從而減小製品表面區域受到可能的磨損及/或降低製品表面和磨料之間的摩擦係數，這允許磨料更容易離開製品表面。藉由在硬塗層的頂表面上添加有機「單層」塗層，如矽烷或氟矽烷「易清潔」層，可進一步減少摩擦；及/或 （iii）形成的刮痕對使用者來說較不可見（「隱藏」），因紋理表面產生的光散射看起來類似於某些類型刮痕產生的光散射。

因此，已產生了表面紋理化的硬塗層製品，其組合如本文所述的一些或所有結構特徵和性質屬性，例如： - 在未磨損的狀態中： （a）雙側鏡面反射率（SCI-SCE）小於4.5％或甚至小於4％； （b）單側鏡面反射率小於約0.5％，例如對於波長為450nm至550nm、600nm或650nm來說低於0.25％，或低於約0.2％或約0.15％或低於0.1％的作為適光平均； （c）單側鏡面反射率小於約0.5％，從接近法線入射角到高達40度入射角；在60度入射角下低於3％、低於1.5％或低於1％； （d）雙側漫射反射率（SCE）大於約0.05或大於0.1、小於或等於約0.5、或約1、或約1.5、或約2.0或約3.0； （e）雙側全反射率（SCI）小於約5.5； （f）a*和b*反射的顏色值具有小於16、小於12、小於10、小於5或甚至小於2的絕對值。更高的顏色值（例如，a*及/或b*的絕對值大於6或10-16或更高）可與下層基板上的較低霧度值（例如，4-7％或小於10％）一起使用，以增強（或不降低）高色效。低色值（例如，a*及/或b*的絕對值小於6、或小於5或小於4或小於2）可與下層基板上的較高的霧度值（例如大於10％、或大於20％、或大於25％、或大於27％、或大於40％、或大於50％或大於60％）一起使用，以進一步促進低色。例如，下層基板上的較高霧度可用於使不希望反射的顏色較柔和（以用於某些應用）； （g）20度DOI小於95、或小於90、或小於80、或小於70； （h）60度光澤度值小於80、或小於60； （i）總透明度（雙側，可見鏡面加漫射）透光率高於80％、或高於90％、或高於94％；及/或 （j）經由PPD量測之小於10％或小於5％的閃光效能（其與每英寸140像素的顯示器相關）。 - 在刮痕/磨損狀態下，在以4kg(總負荷包括花鍵、軸、夾頭和重量支架的重量)及以25循環/分鐘的速率進行一次循環所進行的石榴石(Garnet)刮痕試驗之後： （k）雙側鏡面反射率（SCI-SCE）小於6.0％或小於5.0％；從未磨損值改變小於2％、小於1％或小於0.5％； （l）雙側漫射反射率（SCE）：小於3％、小於2％、小於1％或小於0.5％；及/或從未磨損值改變小於1％、小於0.5％或小於0.2％；及/或 （m）雙側全反射率（SCI）：小於6.0％或小於5.0％，從未磨損值改變小於2％、小於1％、小於0.5％或小於0.2％。 - 在刮痕/磨損狀態下，在Kovax 1kg（總重量）之後，以25次循環/分鐘的速率進行50次循環試驗： （n）雙側鏡面反射率（SCI-SCE）：小於7.5％、小於6.0％或小於5.0％；從未磨損值改變小於3％、小於2％或小於1％； （o）雙側漫射反射率（SCE）：小於5％、小於3％、小於2％或小於1％；從未磨損值改變小於3％、小於2％、小於1％或小於0.5％；及/或 （p）雙側全反射率（SCI）：小於8.0％；及/或從未磨損值改變小於3％、小於2％、小於1％或小於0.5％。

也就是說，上述（a-p）中的任何一者或多者可與（a-p）中的任何其他組合及/或如本文所述的製品的物理性質的任何和所有組合一起使用，該等物理性質包括(但不限於)：製品及/或光學塗層的硬度、表面粗糙度、光學塗層、基板、及/或頂部塗層、厚度、光學塗層內的層厚度（物理及/或光學）及/或配置、用於基板的材料、光改變特徵、光學塗層及/或頂部塗層、光改變特徵的配置、基板組成及/或強化屬性及/或霧度。

儘管存在粗糙的光散射表面紋理，但發明人驚奇地發現，可在此紋理化表面上塗覆厚的光學塗層，同時保持光學硬塗層內的光學干涉層的光學相干性，從而保持所期望的低反射率及來自光學塗層內的光學干涉層之受控的顏色效能。此結果可被認為是令人驚訝的，因散射光的粗糙表面也傾向於降低光線的相干性(這會降低光學塗層中基於干涉的光管理層的光學效率；例如，破壞該等基於干涉的光管理層的抗反射或受控顏色特性)。對於如本發明的較佳實施例中的厚度顯著大於紋理化表面的平均表面粗糙度的光學塗層而言(其中表面粗糙度在40-500nm RMS的範圍內，及光學塗層厚度為在0.6-3微米的範圍內)，這是特別令人驚訝的。不希望受理論束縛，我們將其歸因於紋理化表面之相對大的橫向特徵尺寸(該等橫向特徵尺寸傾向於大於塗層厚度)及來自隨機紋理之相對受限的繞射效應。

在一些實施例中，不期望的相長干涉可能特別是由來自光學塗層的單層的空氣側和基板側處的界面的相干反射波引起的，該光學塗層在本文中稱為「耐刮痕」層。在本文所述的實施例中，一或多個耐刮痕層可包括在光學塗層中。這些耐刮痕層可以是相對厚的（如大於約300nm，且最多10微米）且是硬的（如具有大於10GPa的Berkovich硬度）。這些耐刮痕層可賦予塗覆製品所需的物理特性，如增加硬度和耐磨性。然而，這些耐刮痕層可能在其空氣側和基板側與其他層的界面處產生相干的反射波，從而導致由於干涉引起的反射振盪增加。在一或多個實施例中，可在耐刮痕層的邊緣中或邊緣處的光學塗層中提供光改變特徵。替代地或除上述之外，光改變特徵可存在於其上設置有光學塗層的基板上或其中，及/或存在於基板和光學塗層之間的界面處。

參照圖1，根據一或多個實施例的塗覆製品100可包括基板110及設置在基板110上的光學塗層120。基板110包括相對的主表面112及114與相對的副表面116及118。光學塗層120在圖1中示出成設置在第一相對的主表面112上；然而，除了或代替設置在第一相對主表面112上之外，光學塗層120可設置在第二相對主表面114及/或相對副表面116及118中的一者或兩者上。光學塗層120形成空氣側表面122。可在光學塗層120中提供一或多個光改變特徵，該一或多個光改變特徵的實施例在本文中描述。替代地或除上述之外，光改變特徵可存在於其上設置有光學塗層120的基板上或其中，及/或存在於基板110與光學塗層120之間的界面處。

光學塗層120包括至少一種材料的至少一層。術語「層」可包括單層或可包括一或多個子層。這些子層可彼此直接接觸。子層可由相同材料或兩種或更多種不同材料形成。在一或多個替代實施例中，這種子層可具有設置在其間的不同材料的中間層。在一或多個實施例中，層可包括一或多個連續和不間斷的層及/或一或多個不連續和間斷的層（即，具有彼此相鄰形成的不同材料的層）。可藉由本領域中的任何已知方法來形成層或子層，該任何已知方法包括離散沉積或連續沉積處理。在一或多個實施例中，可僅使用連續沉積處理來形成層，或者，僅使用離散沉積處理來形成層。

如本文所使用的術語「設置」包括使用本領域中任何已知的或待開發的方法將材料塗覆、沉積及/或形成在表面上。佈置的材料可構成如本文所定義的層。如本文所使用的術語「設置在其上」包括在表面上形成材料使得材料與表面直接接觸，或者包括其中材料在具有一或多種中間材料的表面上形成的實施例；該一或多種材料設置在材料和表面之間。(多種)中間材料可構成如本文所定義的層。

在一或多個實施例中，可藉由真空沉積技術將單層或多層光學塗層120沉積到基板110上，該真空沉積技術例如為化學氣相沉積（例如，電漿增強化學氣相沉積(PECVD)、低壓化學氣相沉積、大氣壓化學氣相沉積及電漿增強大氣壓化學氣相沉積）、物理氣相沉積（例如，反應性或非反應性濺射或雷射燒蝕）、熱或電子束蒸發及/或原子層沉積。也可使用基於液體的方法，如噴塗、浸塗、旋塗或槽塗（例如，使用溶膠 - 凝膠材料）。大體上，氣相沉積技術可包括可用於生產薄膜的各種真空沉積方法。例如，物理氣相沉積使用物理處理（如加熱或濺射）來產生材料蒸氣，然後將該材料蒸氣沉積在被塗覆的物體上。

光學塗層120可具有約100nm至約10微米的厚度。例如，光學塗層可具有大於或等於約200nm、300nm、325nm、350nm、375nm、 400 nm、500 nm、600 nm、700 nm、800 nm、900 nm、1微米、2微米、3微米、4微米、5微米、6微米、7微米或甚至8微米，及小於或等於約10微米的厚度。

在一或多個實施例中，光學塗層120可包括耐刮痕層或由耐刮痕層組成。現在參考圖2A，描繪了塗覆製品100，其包括設置在下層154上的耐刮痕層150。根據一實施例，耐刮痕層150可包含選自Si_u Al_v O_x N_y 、Ta₂ O₅ 、Nb₂ O₅ 、AlN、 Si₃ N₄ 、AlO_x N_y 、SiO_x N_y 、SiN_x 、SiN_x ：H_y 、HfO₂ 、TiO₂ 、ZrO₂ 、Y₂ O₃ 、Al₂ O₃ 、MoO₃ 、類金剛石碳或上述組合的一或多種材料。用於耐刮痕層150的示例性材料可包括無機碳化物、氮化物、氧化物、類金剛石材料或其組合。用於耐刮痕層150的合適材料的實例包括金屬氧化物、金屬氮化物、金屬氧氮化物、金屬碳化物、金屬碳氧化物及/或其組合。示例性金屬包括B、Al、Si、Ti、V、Cr、Y、Zr、Nb、Mo、Sn、Hf、Ta和W。可在耐刮痕層150中使用的材料的具體實例可包括Al₂ O₃ 、 AlN、AlO_x N_y 、Si₃ N₄ 、SiO_x N_y 、Si_u Al_v O_x N_y 、金剛石、類金剛石碳、Si_x C_y 、Si_x O_y C_z 、ZrO₂ 、TiO_x N_y 及其組合。耐刮痕層150還可包括奈米複合材料或具有受控微結構的材料，以改善硬度、韌性或耐磨損性/耐磨性。例如，耐刮痕層150可包括尺寸範圍為約5nm至約30nm的奈米微晶。在實施例中，耐刮痕層150可包含轉變 - 增韌的氧化鋯、部分穩定的氧化鋯或氧化鋯 - 增韌的氧化鋁。在實施例中，耐刮痕層150表現出大於約1MPa·√m的斷裂韌性值，且同時表現出大於約10GPa的硬度值。

在一或多個實施例中，耐刮痕層150可包括組分梯度。例如，耐刮痕層150可包括Si_u Al_v O_x N_y 的組分梯度，其中改變Si、Al、O和N中的任何一種或多種的濃度以增加或降低折射率。還可使用孔隙率來形成折射率梯度。在2014年4月28日所申請的名稱為「具有梯度層的抗刮痕物品」的美國專利申請號14 / 262224中更全面地描述了這種梯度，該申請經由引用整體而併入本文中。

與其他層相比，耐刮痕層150可相對較厚，如大於或等於約300nm、325nm、350nm、375nm、400nm、425nm、450nm、475nm、500nm、525nm、550nm、575nm、600nm、700nm、800nm、900nm、1微米、2微米、3微米、4微米、5微米、6微米、7微米或甚至8微米。例如，耐刮痕層可具有約300nm至約10微米的厚度。當耐刮痕層的厚度變得太薄時（例如低於500nm、低於475nm、低於450nm、低於425nm、低於400nm、低於375nm、低於350nm或低於325nm），則製品的硬度降低且更容易刮傷。例如，藉由使用約500nm或更大的耐刮痕層厚度，可適當地獲得14GPa的硬度。

在一或多個實施例中，下層154可由折射率與基板110的折射率相似的材料構成。例如，下層154可具有約0.1、0.05的折射率或甚至在基板110的折射率的0.01內，或下層154的材料可取決於基板110的組成，但在基板是玻璃的實施例中，BaF₂ 可為下層154的合適材料。使下層154的折射率與基板110的折射率匹配可減少源自基板表面112的反射。

本文所述的光學塗層可包含一或多種光改變特徵。例如，如圖2A中示意性地示出，光學塗層120可包括光學塗層中兩個相鄰層(如下層154和耐刮痕層150)之間的粗糙界面124。塗層製品100的其他界面可以是粗糙的，如在光學塗層120的基板表面112（未在圖2A中描繪為粗糙，但由基板本身的粗糙表面產生，或藉由表面112處的光學塗層中的光改變特徵）和在空氣側表面122處的界面。在一或多個實施例中，粗糙界面可由其算術平均粗糙度（Ra）或其均方根粗糙度（Rq）特徵化。 Ra和Rq可從下列公式確定： 其中n表示量測位置的數量，及y表示量測的高度。在一或多個實施例中，粗糙界面可具有大於或等於5nm、10nm、15nm、20nm、25nm、30nm、35nm、40nm、50nm、60nm、70nm、80nm、90nm、100nm、110nm、120nm、130nm、140nm、150nm、160nm、165nm、170nm、175nm、180nm、190nm或甚至200nm、40nm、50nm、60nm、70nm、80nm、90nm、100nm、110nm、120nm、130nm、140nm、150nm、160nm、165nm、170nm、175nm、180nm 、190nm、200nm、210nm、220nm、225nm、230nm、240nm、250nm、260nm、270nm或甚至275nm的Ra。在一或多個實施例中，粗糙界面可具有大於或等於5nm、10nm、15nm、20nm、25nm、30nm、35nm、40nm、50nm、60nm、70nm、80nm、90nm、100nm、110nm、120nm、130nm、140nm、150nm、160nm、165nm、170nm、175nm、180nm、190nm、200nm、210nm、 220nm、225nm、230nm、240nm、250nm、260nm、270 nm、275nm、300 nm、350nm、400nm、400 nm、500 nm或甚至600nm、最大1微米（μm）、或在某些情況下最多2微米及上述數字之間的任何範圍或子範圍的Rq，其中該等的任何範圍或子範圍為例如40nm至300nm、50nm至350nm、或50nm至400nm、或50nm至500nm、或50nm至550nm、或50nm至600nm、或50nm至650nm、或50nm至700nm、或50nm至1000nm、或60nm至350nm、或60nm至400nm、或60nm至500 nm、或60nm至550nm、或60 nm至600nm、或60nm至650 nm、或60 nm至700 nm、或60 nm至1000nm，或70nm至350 nm，或70nm至400nm，或70nm至500nm，或70nm至550nm、或70nm至600nm、或70 nm至650nm、或70nm至700nm、或70nm至1000nm、或90nm至350nm、或90nm至400nm、或90nm至500nm、或90nm至550n、或90nm至600nm nm、或90nm至650nm、或90nm至700nm、或90nm至1000nm、或100nm至350nm、或100nm至400nm，、或100nm至500nm、或100nm至550nm ，或100nm至600nm、或100nm至650nm、或100nm至700nm、或100nm至1000nm、或120nm至350nm、或120nm至400nm、或120nm至500nm、或120nm至550nm、或120nm至600nm、或120nm至650nm、或120nm至700nm、或120nm至1000nm、或140nm至350nm、或140nm至400nm、或140nm至500nm、或140nm至550nm、或140nm至600nm、或140nm至650nm、或140nm至700nm、或140nm至1000nm、或160nm至350nm、或160nm至400nm、或160nm至500nm、或160nm至550nm、或160nm至600nm、或160nm至650nm、或160nm至700nm、或160nm至1000nm、或180nm至350 nm、或180nm至400nm、或180nm至500nm、或180nm至550nm、或180nm至600nm、或180nm至650nm、或180nm至700nm、或180nm至1000nm、或200nm至350nm、或200nm至400nm、或200nm至500nm、或200nm至550nm、或200nm至600nm、或200nm至650nm、或200nm至700nm、或200nm至1000nm、或220至350nm、或220nm至400nm、或200nm至500nm、或220nm至550nm、或220nm至600nm、或220nm至650nm、或220nm至700nm、或220nm至1000nm、或240nm至350nm、或240nm至400nm、或240nm至500nm、或240nm至550nm、或240nm至600nm、或240nm至650nm、或240 nm至700nm、或240nm至1000nm、或260至350nm、或260nm至400nm、或260nm至500nm、或260nm至550nm、或260nm至600nm、或260nm至650nm、或260nm至700nm、或260nm至1000nm、或280至350nm、或280nm至400nm、或280nm至500nm、或280nm至550nm、或280nm至600nm、或280nm至650nm、或280nm至700nm、或280nm至1000nm、或300nm至350nm、或300nm至400nm、或300nm至500nm、或300nm至550nm、或300nm至600nm、或300nm至650nm、或300nm至700nm、或300nm至1000nm。

可使用任何已知的用於量測粗糙度的技術來量測粗糙度，如光學輪廓測定法(例如，使用Zygo干涉儀)和表面接觸輪廓測定法(例如，使用原子力顯微鏡，AFM)。量測的表面積足夠大，以捕獲可在樣本上找到的表面特徵類型的統計代表性樣品。例如，對於在x-y平面中具有約50μm×50μm量級的特徵的防眩光表面，合適的量測表面積可為至少500μm×500μm。在一些示例中，樣本區域的邊長可在10到30個橫向特徵尺寸之間，這取決於紋理或粗糙度的表面形貌。

根據實施例，粗糙界面可藉由各種方法產生，例如(但不限於)在產生粗糙度的層中的晶體形態的生長、如化學蝕刻的化學處理、或如機械蝕刻的機械處理、切斷及工具等。例如，在一實施例中，BaF₂可沉積為光學塗層120的層(如下層154)，該層具有冠型微晶形態。在下文實施例中解釋了這種BaF₂沉積的實施例。在沉積之後，下層154的頂表面(在粗糙界面124處)可以是粗糙的，並且另一層(如耐刮痕層150)，可在粗糙界面124處沉積在下層154上。若耐刮痕層150的沉積相對一致， 則粗糙表面可存在於空氣側表面122處，如圖2A所示。在另一個實施例中，空氣側表面122可以是光滑的。例如，空氣側表面122可經由拋光(化學或機械)或經由層壓來光滑，如圖2B的實施例中所示。在另一個實施例中，空氣側表面122可以是光滑的，因結合了如PECVD的塗覆處理，該塗覆處裡被調整成具有平坦化效果，因此導致在粗糙埋界面的頂部沉積的層中的光滑的空氣側表面122。

應當理解，可將粗糙或光滑的層沉積為光學塗層120的任何層。例如，塗覆製品100中的任何界面可藉由(例如)本文所述的方法(如生長粗糙的結晶層或在粗糙界面上生長具有一致厚度的層)而被製成粗糙的。藉由促進平面表面形成的拋光或沉積技術可使粗糙界面光滑。

在圖2A及圖2B中描繪的實施例中，若下層154具有與基板110相似或相同的折射率，則在基板110的主表面112處將僅有很少反射，且大部分反射將來自空氣側112及粗糙界面124。然而，不受理論束縛，咸信粗糙界面124處的光散射導致來自粗糙界面124和空氣側表面122的反射干涉被散射。

在一或多個實施例中，光散射構件可設置在光學塗層120的一或多個層中或一或多個界面處。例如，現在參考圖3，光散射構件180可設置在光學塗層120中的兩個相鄰層(如下層154和耐刮痕層150)之間。如圖3所示，光散射構件180可設置在光學塗層120的層內，如耐 刮痕層150。在一些實施例中，光散射構件180設置在耐刮痕層中但不設置在粗糙界面124處；反之亦然。替代地或除上述之外，光散射構件180可存在於其上設置有光學塗層的基板上或其中，及/或存在於基板和光學塗層之間的界面處。

如圖3所示，光散射構件180可以是基本上球形的形狀。然而，在其他實施例中，光散射構件180可具有其他形狀或外形參數，如具有圓形或基本平坦表面的不規則形狀的主體，其包含了包括銳角特徵的顆粒。光散射構件180可具有不同的尺寸。在一實施例中，每個光散射構件180的最大尺寸可為約1nm至約1微米(如約1nm至約900nm、約1nm至約800nm、約1nm至約700nm、約1nm至約600nm、約1nm至約500nm、約1nm至約400nm、約1nm至約300nm、約1nm至約200nm、約1nm至約100nm、約1nm至約50nm或約1nm至約25nm)。如本文所使用的「最大尺寸」是指單個光散射構件180的表面之間穿過光散射構件180的最大距離。例如，球形光散射構件180的最大尺寸是球體直徑。「平均最大尺寸」是指玻璃製品100的所有光散射構件180的最大尺寸的平均值。

光散射構件180可包括與光學塗層120之與光散射構件180相鄰的其他部分不同的組合物或相。在實施例中，光散射構件180可包括固體及/或氣體，或可包 括空隙空間。還應該理解的是，一些光散射構件180可具有彼此不同的組成或相。

光散射構件180可具有不同的尺寸和形狀，使得它們不同地影響具有不同波長的光。在一實施例中，光散射構件180具有適於在整個可見光譜上散射光的尺寸分佈(即，在約400nm至約700nm範圍內的光)。光散射顆粒的量可根據界面的表面積而變化。然而，應該理解的是，如本文所述之用於製造塗覆製品100的方法可以能夠控制光散射構件180的尺寸、形狀、尺寸分佈及/或相對量。

在另外的實施例中，光改變特徵可包括設計的光學相位修改表面或界面，如在高折射率層150下方、上方或內部的光柵或超材料表面。例如，光柵可定位在本文所描述之各種實施例的粗糙介面所在之處。如本文所使用的「超材料」是指由週期性排列的材料元素組成以產生所需的電磁特性的結構。電磁特性源於原子或分子的週期性排列。超材料可經由光刻或自組裝來生產(但不限於此)，以產生週期性的物質排列，從而產生自然界中未發現的性質。

在另一個實施例中，光改變特徵可包括在耐刮痕層150內、上方或下方的折射率的圖案化或隨機變化。這些變化可引起反射或透射光的重定向或相位修改。在一或多個實施例中，變化可主要引起前向散射，以便最小化外部反射的霧度。例如，下層154可不包括離散的粒子或 界面。取而代之的是，在一些實施例中，下層154可包括折射率的平滑或逐漸變化、沒有明顯的尖銳界面，其中下層154也可具有折射率的空間變化，其可具有(例如)類似光柵或類似散射的效果，這導致反射或透射光波的相位或局部角度內容的變化。這在美國專利號9,588,263中有所描述，該專利在此引入作為參考。

應該理解的是，本文描述的光改變特徵(如參考圖2和圖3描述的那些在耐刮痕層120中的光改變特徵)可結合到光學塗層120的其他實施例中。例如，這裡參考圖4和圖5提供了另外的實施例。所描述的光改變特徵可結合到圖4和5的實施例的耐刮痕層150中。然而，應該理解的是，本文所述的光改變特徵可結合到塗覆製品100的許多實施例中，特別是塗覆製品100的耐刮痕層150中。所描述的光改變特徵的定位應不限於本文具體描述的塗覆製品100的實施例，因該等特徵可摻入任何塗覆製品100的任何層中。替代地或除上述之外，光改變特徵可存在於在其上設置光學塗層的基板之上或中，及/或在基板和光學塗層之間的界面處。

光散射組件的材料可具有與光學塗層120的相鄰材料不同的折射率。例如，光散射組件180的材料的折射率可至少約為1%、至少約2%、至少約3%、至少約4%、至少約5%、至少約10%、至少約20%、至少約30%、至少約40%或者甚至與光學塗層120中的相鄰材料的折射率相差(即，大於或小於)至少約50%。

在一或多個實施例中，如圖4所示，光學塗層120可包括抗反射塗層130，該反射塗層130可包括複數個層(130A，130B)。在一或多個實施例中，抗反射塗層130可包括包括兩層的週期132，該兩層如低RI層130A和高RI層130B。如圖4所示，抗反射塗層130可包括複數個週期132。在其他實施例中，單個週期可包括三層，如低RI層、中RI層和高RI層。從本申請內容整體內容上來看應理解，圖4是具有週期132的光學塗層120的示例性實施例，且本文所述的光學塗層120的特性(例如，顏色及硬度等)和材料不應限於圖4的實施例。

如本文所使用地，術語「低RI」、「高RI」和「中等RI」是指折射率(「RI」)彼此的相對值(即，低RI<中RI<高RI)。在一或多個實施例中，術語「低RI」當與低RI層一起使用時會包括約1.3至約1.7或1.75的範圍。在一或多個實施例中，術語「高RI」當與高RI層一起使用時會包括約1.7至約2.5(例如，約1.85或更高)的範圍。在一或多個實施例中，術語「中等RI」當與週期的第三層一起使用時會包括約1.55至約1.8的範圍。在一些實施例中，低RI、高RI及/或中RI的範圍可重疊；然而，在大多數情況下，抗反射塗層130的層具有關於RI的一般關係：低RI<中RI<高RI(其中「中RI」適用於三層週期的情況)。在一或多個實施例中，低RI層和高RI層的折射率差可為約0.01或更高、約0.05或更高、約0.1或更高，或甚至約0.2或更高。

例如，在圖4中，週期132可包括低RI層130A和高RI層130B。當光學塗層120中包括複數個週期時，低RI層130A(表示為「L」)和高RI層130B(表示為「H」)在下列層序列中交替：L/H/L/H...或H/L/H/L...，使得低RI層和高RI層沿著光學塗層120的物理厚度交替。在圖4所示的實施例中，抗反射塗層130包括四個週期132，其中每個週期132包括低RI層130A和高RI層130B。在一些實施例中，抗反射塗層130可包括多達25個週期。例如，抗反射塗層130可包括約2至約20個週期、約2至約15個週期、約2至約10個週期、約2至約12個週期、約3至約8個週期、或約3至約6個週期。

適用於抗反射塗層130的示例材料包括但不限於SiO₂、Al₂O₃、GeO₂、SiO、AlO_xN_y、AlN、SiN_x、SiO_xN_y、Si_uAl_vO_xN_y、Ta₂O₅、Nb₂O₅、TiO₂、ZrO₂、TiN、MgO、MgF₂、BaF₂、CaF₂、SnO₂、HfO₂、Y2O₃、MoO₃、DyF₃、YbF₃、YF₃、CeF₃、聚合物、含氟聚合物、電漿聚合聚合物、矽氧烷聚合物、倍半矽氧烷、聚酰亞胺、氟化聚酰亞胺、聚醚酰亞胺、聚醚砜、聚苯砜、聚碳酸酯、聚乙烯對苯二甲酸酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、丙烯酸聚合物、氨基甲酸酯聚合物、聚甲基丙烯酸甲酯、下文引用的適用於耐刮痕層的其它材料及本領域已知的其它材料。用於低RI層130A的合適材料的一些實例包括(但不限於)SiO₂、Al₂O₃、GeO₂、SiO、AlO_xN_y、SiO_xN_y、Si_uAl_vO_xN_y、MgO、MgAl₂O₄、 MgF₂、BaF₂、CaF₂、DyF₃、YbF₃、YF₃和CeF₃。用於低RI層130A的材料的氮含量可被最小化(例如，在如Al₂O₃和MgAl₂O₄的材料中)。用於高RI層130B的合適材料的一些實例包括(但不限於)Si_uAl_vO_xN_y、Ta₂O₅、Nb₂O₅、AlN、Si₃N₄、AlO_xN_y、SiO_xN_y、SiN_x、SiN_x：H_y、HfO₂、TiO₂、ZrO₂、Y₂O₃、Al₂O₃、MoO₃和類金剛石碳。在一或多個實施例中，高RI層130B可具有高硬度(例如，大於8GPa的硬度)，並且上文列出的高RI材料可包括高硬度及/或耐刮痕性。用於高RI層130B的材料的氧含量可被最小化，尤其是在SiN_x或AlN_x材料中。AlO_xN_y材料可被認為是氧摻雜的AlN_x(即，其可具有AlN_x晶體結構(例如，纖鋅礦)且不需要具有AlON晶體結構)。示例性的AlO_xN_y高RI材料可包含約0原子%至約20原子%的氧，或約5原子%至約15原子%的氧，同時包含30原子%至約50原子%的氮。示例性Si_uAl_vO_xN_y高RI材料可包含約10原子%至約30原子%或約15原子%至約25原子%的矽、約20原子%至約40原子%或約25原子%至約35原子%鋁、約0原子%至約20原子%或約1原子%至約20原子%的氧、和約30原子%至約50原子%的氮。上述材料可氫化至約30%重量。在需要具有中等折射率的材料的情況下，一些實施例可使用AlN及/或SiO_xN_y。應該理解的是，耐刮痕層150可包括任何經揭露而適合用於高RI層的材料。

在一或多個實施例中，如圖4中所示，光學塗層120可包括作為高RI層整合的耐刮痕層150，及一或多個低RI層130A和高RI層130B可定位在耐刮痕層150上。在整個光學塗層120或整個塗層製品100中，耐刮痕層可交替地定義為最厚的高RI層。不受理論的束縛，咸信當在耐刮痕層150上沉積相對少量材料時，塗層製品100可在壓痕深度處表現出所增加的硬度。然而，在耐刮痕層150上包含低RI和高RI層可增強塗覆製品100的光學性質。在一些實施例中，相對較少的層(例如，僅1、2、3、4或5層)可定位在耐刮痕層150上方，且這些層可各自相對較薄(例如小於100nm、小於75nm、小於50nm、甚至小於25nm)。

根據一或多個實施例，耐刮痕層150可包括一或多個光改變特徵。將光改變特徵結合到耐刮痕層150中可用於減少塗覆製品100的反射率及/或透射光譜的振盪，其中塗覆製品的大部分反射干涉係發生在耐刮痕層的界面155處。例如，如圖4所示，與耐刮痕層150相鄰的界面155可如本文所述為粗糙的，界面155中的一者或兩者可為粗糙的。在一些實施例中，附加界面(如層130A和130B之間的界面)及/或130B和140之間的界面、或甚至塗層製品100的空氣側表面122可以是粗糙的。替代地或除上述之外，基板表面112可以是粗糙的、及/或在基板表面112和光學塗層130A之間的界面處可以是粗糙的。

在一或多個實施例中，其他光改變特徵可存在於耐刮痕層150中。例如，如本文所述的光散射構件180可沉積在耐刮痕層150中者在耐刮痕層150處。在另外的實施例中，光學塗層120的其他層可包括光改變特徵，該等其他層如高RI層130B或低RI層130A。替代地或除上述之外，光散射構件180可存在於基板110上或基板110中(包括在表面112和114中的一者或多者上)，及/或在基板110與光學塗層120之間的界面處。

在一或多個實施例中，光學塗層120可包括設置在抗反射塗層130上的一或多個另外的頂部塗層140，如圖4所示。在一或多個實施例中，附加的頂部塗層140可包括易於清潔的塗層。合適的易清潔塗層的實例描述於美國專利公開案號2014/0113083，其全部內容經由引用併入本文中。易於清潔的塗層可具有約5nm至約50nm的厚度，且可包括已知材料，如氟化矽烷。易於清潔的塗層可替代地或另外地包括低摩擦塗層或表面處理。示例性的低摩擦塗層材料可包括類金剛石碳、矽烷(例如氟矽烷)、膦酸鹽，烯烴和炔烴。在一些實施例中，易於清潔的塗層可具有約1nm至約40nm、約1nm至約30nm、約1nm至約25nm、約20nm、約1nm至約15nm、約1nm至約10nm、約5nm至約50nm、約10nm至約50nm、約15nm至約50nm、約7nm至約20nm、約7nm至約15nm、約7nm至約12nm、約7nm至約10nm、約1nm至約90nm，約5nm至約90nm、約10nm至約 90nm、或約5nm至約100nm，及它們之間的所有範圍和子範圍的厚度範圍。

頂部塗層140可包括一或多個耐刮痕層，其包括任何所揭露適合用於耐刮痕層150的材料。在一些實施例中，附加塗層140包括易清潔材料和耐刮痕材料的組合。在一示例中，組合包括易清潔的材料和類金剛石碳。這種額外的頂部塗層140可具有約5nm至約20nm範圍的厚度。可用分開的層提供附加塗層140的組分。例如，類金剛石碳可作為第一層設置，且易清潔層可作為第二層設置在第一層類金剛石碳上。第一層和第二層的厚度可在上文提供之附加塗層的範圍內。例如，第一層類金剛石碳可具有約1nm至約20nm或約4nm至約15nm(或更具體地約10nm)的厚度，且第二層易清潔層可具有約1nm至約10nm(或更具體地約6nm)的厚度。類金剛石塗層可包括四面體無定形碳(Ta-C)、Ta-C：H及/或a-C-H。

在一或多個實施例中，抗反射塗層130的至少一個層(如低RI層130A或高RI層130B)可包括特定的光學厚度(或光學厚度範圍)。如本文所使用的術語「光學厚度」是指層的物理厚度和折射率的乘積。在一或多個實施例中，抗反射塗層130的至少一個層的光學厚度可為約2nm至約200nm、約10nm至約100nm、約15nm至約100nm、約15至約500nm，或約15至約5000nm。在一些實施例中，抗反射塗層130中的所有層可各自具有約2nm至約200nm、約10nm至約100nm、約15nm至 約100nm、約15至約500nm、或約15至約5000nm範圍內的光學厚度。在一些實施例中，抗反射塗層130的至少一層具有約50nm或更大的光學厚度。在一些實施例中，每個低RI層103A的光學厚度在約2nm至約200nm、約10nm至約100nm、約15nm至約100nm、約15nm至約500nm或約15至約5000nm的範圍內。在一些實施例中，每個高RI層130B的光學厚度在約2nm至約200nm、約10nm至約100nm、約15nm至約100nm、約15nm至約500nm或約15nm至約5000nm的範圍內。在具有三層週期的實施例中，每個中間RI層的光學厚度為約2nm至約200nm、約10nm至約100nm、約15nm至約100nm、約50nm至約500nm或約15至約5000nm。在一些實施例中，耐刮痕層是光學塗層中最厚的層，及/或具有高於光學塗層中任何其他層的折射率的折射率。

在一或多個實施例中，光學塗層可包括一或多個梯度層，每個梯度層可包括沿其各自厚度的成分梯度，如圖5所示。在一實施例中，光學塗層120可包括底部梯度層170、耐刮痕層150(如上所述)和頂部梯度層160。圖6描繪了圖5的光學塗層120的示例性折射率分佈。基板110、底部梯度層170、耐刮痕層150和頂部梯度層160在其相應部分中標記在圖6的折射率分佈上。底部梯度層170可定位成與基板110直接接觸。耐刮痕層150可在底部梯度層170上方，且頂部梯度層可直接接觸耐刮痕層且 在耐刮痕層上方。耐刮痕層150可包括一或多種具有高折射率的相對硬的材料，如SiN_x。在實施例中，耐刮痕層150的厚度可從大約300nm到幾微米，如在其他實施例中參考耐刮痕層150所描述的。底部梯度層170可具有折射率，該折射率從約部分接觸基板110的基板的折射率(可為相對低的)變化到部分接觸耐刮痕層150的耐刮痕層150的折射率(可為相對高的)。底部梯度層170可具有從約10nm到幾微米的厚度，如50nm到1000nm、100nm到1000nm、或500nm到1000nm。頂部梯度層160可具有折射率，該折射率從接觸耐刮痕層150的部分處的耐刮痕層150的折射率(可為相對高的)變化到在空氣側表面122處的空氣界面處的相對低的折射率。在頂部梯度層160的最上部分(在空氣側表面122處)可包括折射率為1.35至1.55的材料，例如但不限於矽酸鹽玻璃、二氧化矽、磷玻璃或氟化鎂。

如塗覆製品100的其他實施例中所述，耐刮痕層150可包括光改變特徵，如粗糙界面165或(在其他實施例中所描繪的)光散射構件。替代地或除上述之外，光改變特徵可存在於其上設置有光學塗層的基板上或其中，及/或基板與光學塗層之間的界面處(具體來說為底部梯度層)。

在一或多個實施例中，底部梯度層170在基板處的折射率可在基板110的折射率的0.2(如0.15、0.1、0.05、0.02或0.01)內。在耐刮痕層150處的底 部梯度層170的折射率可在耐刮痕層150的折射率的0.2(如0.15、0.1、0.05、0.02或0.01)內。耐刮痕層150處的頂部梯度層160的折射率可在耐刮痕層150的折射率的0.2(如0.15、0.1、0.05、0.02或0.01)內。空氣側表面122處的頂部梯度層160的折射率可為約1.35至約1.55。在實施例中，耐刮痕層的折射率可為至少約1.75、1.8或甚至1.9。

基板110可包括無機材料，且可包括非晶基板、結晶基板或其組合。基板110可由人造材料及/或天然存在的材料(例如，石英和聚合物)形成。例如，在一些情況下，基板110可被表徵為有機的且可具體地為聚合物。合適的聚合物的實例包括(但不限於)：熱塑性塑料，其包括聚苯乙烯(PS，包括苯乙烯共聚物和共混物)、聚碳酸酯(PC，其包括共聚物和共混物)、聚酯(其包括共聚物和共混物，包括了聚對苯二甲酸乙二醇酯和聚對苯二甲酸乙二醇酯共聚物)、聚烯烴(PO)和環狀聚烯烴(環狀-PO)、聚氯乙烯(PVC)、丙烯酸聚合物(其包括聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)(包括了共聚物和共混物))、熱塑性聚氨酯(TPU)、聚醚酰亞胺(PEI)和這些聚合物彼此的共混物。其他示例性聚合物包括環氧樹脂、苯乙烯樹脂、酚醛樹脂、三聚氰胺樹脂和矽樹脂。

在一些具體實施例中，基板110可具體地排除聚合物、塑料及/或金屬基板。基板110可被表徵為包含鹼的基板(即，基板包括一或多種鹼)。在一或多個實施 例中，基板表現出約1.45至約1.55的折射率。在特定實施例中，基板110可在一或多個相對的主表面上的表面處表現出使用球環試驗所量測的0.5%或更大、0.6%或更大、0.7%或更大、0.8%或更大、0.9%或更大、1%或更大、1.1%或更大、1.2%或更大、1.3%或更大、1.4%或更大、1.5%或更大或甚至2%或更大的平均失效應變，該球環試驗使用至少5、至少10、至少15或至少20個樣本。在特定實施例中，基板110可在其一或多個相對的主表面上的表面處表現出平均應變至約1.2%、約1.4%、約1.6%、約1.8%、約2.2%、約2.4%、約2.6%、約2.8%或約3%或更高。

術語「失效應變」是指在不施加額外載荷的情況下的裂紋在光學塗層120、基板110或兩者中同時傳播應變，通常導致了給定材料、層或薄膜中的災難性故障，甚至可能與本文定義的另一種材料、層或薄膜連動。也就是說，在沒有破壞基板構成失敗的情況下的光學塗層120的破裂，基板110的破裂也會構成失敗。當與平均應變失效或任何其他性質一起使用時，術語「平均」係基於5個樣本上的此種性質的量測的數學平均值。通常來說，裂紋起始應變量測在正常實驗室條件下是可重複的，且在多個樣本中量測的裂紋起始應變的標準差可小至觀察到的應變的0.01%。使用環上拉伸試驗來量測本文所用的平均失效應變。然而，除非另有說明，否則本文所述的失效應變量測是指如國際公開號WO18/125676之題為「具 有殘餘壓縮應力的光學塗層的塗覆製品」(此文獻以引用的方式整體併入本文中)中所述的來自環上拉伸試驗的量測。

合適的基板110可表現出約30GPa至約120GPa範圍的彈性模量(或楊氏模量)。在一些情況下，基板的彈性模量可為約30GPa至約110GPa、約30GPa至約100GPa、約30GPa至約90GPa、約30GPa至約80Gpa、約30GPa至約70GPa、約40GPa至約120GPa、約50GPa至約120GPa、約60GPa至約120GPa、約70GPa至約120GPa，及上述其間的所有範圍和子範圍。在一些實例中，可藉由聲共振(ASTM E1875)、共振超聲波光譜法或使用Berkovich壓頭的奈米壓痕來量測楊氏模量。

在一或多個實施例中，無定形基板可包括玻璃，該玻璃可為強化的或非強化的。合適玻璃的實例包括鈉鈣玻璃、鹼金屬鋁矽酸鹽玻璃、含鹼的硼矽酸鹽玻璃和鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃。在一些變型中，玻璃可以不含鋰。在一或多個替代實施例中，基板110可包括結晶基板，如玻璃陶瓷基板(可為強化的或非強化的)或可包括單晶結構(如藍寶石)。在一或多個特定實施例中，基板110包括無定形基板(例如，玻璃)和結晶包層(例如，藍寶石層、多晶氧化鋁層級/或尖晶石(MgAl₂O₄)層)。

一或多個實施例的基板110可具有小於製品硬度的硬度(該硬度係藉由本文所述的Berkovich壓頭硬度試驗法量測）。使用Berkovich壓頭硬度試驗來量測基板110的硬度。

基板110可以是基本上光學透明的、透明的且沒有光散射。在這樣的實施例中，基板110可在光學波長範圍內表現出約85％或更高、約86％或更高、約87％或更高、約88％或更高、約89％或更高、90％或更高、約91％或更高、或約92％或更高的平均透光率。在一或多個替代實施例中，基板110可為不透明的，或在光學波長範圍內表現出小於約10％、小於約9％、小於約8％、小於約7％、小於約6％、小於約5％、小於約4％、小於約3％、小於約2％、小於約1％或小於約0.5％的平均透光率。在一些實施例中，這些光反射率和透射率值可為全反射率或總透射率（考慮到基板的兩個主表面上的反射率或透射率）或可在基板的單側上被觀察（即，僅在空氣側表面122上，而不考慮相對表面）。除非另有說明，否則單獨的基板的平均反射率或透射率是在相對於基板表面112的0度的入射照射角下量測的（然而，這種量測可在45度或60度的入射照射角下提供）。基板110可以可選地呈現顏色，如白色、黑色、紅色、藍色、綠色、黃色及橙色等。

附加地或替代地，出於美觀及/或功能原因，基板110的物理厚度可沿其一個或多個尺寸變化。例如，與基板110的更靠近中心區域相比，基板110的邊緣可更厚。基板110的長度、寬度和物理厚度尺寸也可根據製品100的應用或用途而變化。

可使用各種不同的製程來提供基板110。例如，在包括如玻璃的無定形基板的基板110的情況下，各種形成方法可包括浮法玻璃製程及如熔合拉製和槽拉製的下拉製程。

一旦形成基板110，可加強基板110以形成強化基板。如本文所使用地，術語「強化基板」可指已化學強化的基板，例如經由用於基板表面中的較小離子換成較大離子的離子交換。然而，本領域已知的其他強化方法(如熱回火或利用基板部分之間的熱膨脹係數的不匹配以產生壓縮應力和中心張力區域)，可用於形成強化基板。

在藉由離子交換處理來化學強化基板110的情況下，基板表面層中的離子被具有相同價態或氧化態的較大離子替換或交換。離子交換過程通常藉由將基板浸入含有與基板中較小離子交換的較大離子的熔融鹽浴中來進行。所屬技術領域中具有通常知識者將理解到，大體由基板的組成和所需的壓縮應力（CS）及起因於加強操作之基板的壓縮應力層的深度（或層的深度）來決定用於離子交換處理的參數，該等參數包括(但不限於)浴組合物和溫度、浸漬時間、基板在鹽浴（或浴中）中的浸入次數、使用複數個鹽浴及附加步驟(如退火及洗滌等)。舉例來說，含鹼金屬的玻璃基板的離子交換可藉由浸入至少一個含有鹽的熔浴中來實現，該鹽如(但不限於)較大鹼金屬離子的硝酸鹽、硫酸鹽和氯化物。熔融鹽浴的溫度通常在約380℃至約450℃的範圍內，而浸漬時間在約15分鐘至約40小時的範圍內。然而，也可使用與上述溫度和浸漬時間不同的溫度和浸漬時間。

此外，在美國專利號8,561,429及美國專利號8,312,739中描述了其中玻璃基板浸入多個離子交換浴中的離子交換處理的非限制性實例，在美國專利號8,561,429中浸漬之間具有洗滌及/或退火步驟，其中玻璃基板是藉由在不同濃度的鹽浴中浸泡多次連續離子交換處理來加強；及在美國專利號8,312,739中用流出物離子來稀釋藉由第一浴中的離子交換所強化的玻璃基板，接著浸入第二浴中，該第二浴具有比第一浴更小濃度的流出物離子。美國專利號8,561,429和美國專利號8,312,739的內容經由引用其整體之方式併入本文中。

可基於中心張力（CT）、表面CS、壓縮深度（DOC）和鉀離子層（DOL）的深度之參數來量化經由離子交換實施的化學強化程度。藉由表面應力計（FSM）來量測壓應力（包括表面CS），該表面應力計使用市售儀器(如日本有限公司Orihara Industrial製造的FSM-6000)。表面應力量測依賴於應力光學係數（SOC）的精確量測，其與玻璃的雙折射有關。根據ASTM標準C770-16中描述的程序C（玻璃盤法）之其標題為「用於玻璃應力 - 光學係數的量測的標準試驗方法」(其內容經由引用整體之方式併入本文中)來依次量測SOC。折射近場（RNF）方法或SCALP可用於量測應力分佈。當RNF方法用於量測應力分佈時，SCALP所提供的最大CT值用於RNF方法。特別地，由RNF量測的應力分佈是力平衡的且校準到由SCALP量測所提供的最大CT值。RNF方法被描述在題為「用於量測玻璃樣本的輪廓特徵的系統和方法」的美國專利號8,854,623中，其全部內容經由引用方式併入本文中。特別地，RNF方法包括以下步驟：將玻璃製品放置在參考區塊附近、產生偏振切換光束(該光束在正交偏振之間以1Hz和50Hz之間的速率切換)、量測偏振切換光束中的功率量，及產生偏振切換參考信號，其中每個正交偏振中的量測功率量在彼此的50％之內。方法還包括以下步驟：將偏振切換光束經由用於不同深度的玻璃樣本和參考區塊傳輸到玻璃樣本中及接著使用中繼光學系統來將透射的偏振切換光束中繼到信號光電偵測器，其中信號光電偵測器產生偏振切換偵測器信號。方法還包括以下步驟：將偵測器信號除以參考信號以形成正規化的偵測器信號，並從正規化的偵測器信號確定玻璃樣本的輪廓特徵。折射近場（RNF）方法或SCALP可用於量測應力分佈。當RNF方法用於量測應力分佈時，SCALP提供的最大CT值用於RNF方法。特別來說，由RNF所量測的應力分佈是力平衡的且經校準到由SCALP量測所提供的最大CT值。特別地，RNF方法包括以下步驟：將玻璃製品放置在參考區塊附近、產生偏振切換光束(該光束在正交偏振之間以1Hz和50Hz之間的速率切換)、量測偏振切換光束中的功率量並產生偏振切換參考信號，其中每個正交偏振中的量測功率量在彼此的50％之內。方法還包括以下步驟：將偏振切換光束經由用於不同深度的玻璃樣本和參考區塊傳輸到玻璃樣本中，接著使用中繼光學系統將透射的偏振切換光束中繼到信號光電偵測器，其中信號光電偵測器產生偏振切換偵測器信號。方法還包括以下步驟：將偵測器信號除以參考信號以形成正規化的偵測器信號，並從正規化的偵測器信號確定玻璃樣品的輪廓特徵。使用本領域已知的散射光偏光鏡（SCALP）技術來量測最大CT值。

在一實施例中，強化基板110可具有250MPa或更高、300MPa或更高，例如400MPa或更高、450MPa或更高、500MPa或更高、550MPa或更高、600MPa或更高、650MPa或更高、700MPa或更高、750MPa或更高或800MPa或更高的表面CS。強化的基板可具有10μm或更大、15μm或更大、20μm或更大（例如，25μm、30μm、35μm、40μm、45μm、50μm或更大）的DOL及/或10MPa或更高、20MPa或更高、30MPa或更高、40MPa或更高（例如，42MPa、45MPa、或50MPa或更高）但低於100MPa（例如，95、90、85、80、 75、70、65、60、55MPa或更低）的CT。DOC可為基板厚度（t）的0.05倍至約0.3•t，例如約0.05·t至約0.25·t、或約0.05·t至約0.24·t、或約0.05•t至約0.23•t、或約0.05•t至約0.22•t、或約0.05•t至約0.21•t、或約0.05•t至約0.20•t、或約0.05•t至約0.19•t、或約0.05•t至約0.18•t。在一或多個具體實施例中，強化基板具有以下中的一或多種：大於500MPa的表面CS、大於15μm的DOL、為約0.05·t至約0.22·t的DOC及大於18MPa的CT。

可用於基板110中的示​​例性玻璃可包括鹼金屬鋁矽酸鹽玻璃組合物或鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃組合物，但也可考慮其他玻璃組合物。這種玻璃組合物能夠藉由離子交換製程來被化學強化。一個示例性玻璃組合物包含SiO₂ 、B₂ O₃ 和Na₂ O，其中（SiO₂ + B₂ O₃ ）≥66mol％及Na₂ O≥9mol％。在一實施例中，玻璃組合物包含至少6重量％的氧化鋁。在另一個實施例中，基板110包括具有一或多種鹼土金屬氧化物的玻璃組合物，使得鹼土金屬氧化物的含量為至少5重量％。在一些實施例中，合適的玻璃組合物還包含K₂ O、MgO和CaO中的至少一者。在具體實施例中，基板中使用的玻璃組合物可包含61-75mol％的SiO₂ 、7-15 mol％Al₂ O₃ 、0-12 mol％B₂ O₃ 、9-21 mol％Na₂ O、0-4 mol％K₂ O、0-7 mol％MgO及0-3mol％的CaO。

適用於基板的另一實例玻璃組合物包含：60-70mol％SiO₂ 、6-14 mol％Al₂ O₃ 、0-15 mol％B₂ O₃ 、0-15 mol％Li₂ O、0-20 mol％Na₂ O、0-10 mol％K₂ O、0-8 mol％MgO、0-10 mol％CaO、0-5 mol％ZrO₂ 、0-1mol％SnO₂ 、0-1 mol％CeO₂ 、低於50ppm的 As₂ O₃ 和低於50ppm的Sb₂ O₃ ；其中12mol％＜=（Li₂ O + Na₂ O + K₂ O）＜=20mol％和0mol％＜=（MgO + CaO）＜=10mol％。

適用於基板的又一實例玻璃組合物包含：63.5-66.5mol％的SiO₂ 、8-12 mol％Al₂ O₃ 、 0-3mol％B₂ O₃ 、0-5mol％Li₂ O、8-18 mol％Na₂ O、0-5 mol％K₂ O、1-7 mol％MgO、0-2.5 mol％CaO、0-3 mol％ZrO₂ 、0.05-0.25 mol％SnO₂ 、 0.05-0.5 mol％CeO₂ 、低於50ppm的As₂ O₃ 和低於50ppm的Sb₂ O₃ ；其中14mol％＜=（Li₂ O + Na₂ O + K₂ O）＜=18mol％和2mol％＜=（MgO + CaO）＜=7mol％。

在一具體實施例中，適用於基板110的鹼金屬鋁矽酸鹽玻璃組合物包含氧化鋁及至少一種鹼金屬(在一些實施例中其大於50mol％SiO₂ ；在其它實施例中，至少為58mol％SiO₂ ；在其他實施例中，至少為60mol％SiO₂ )，其中（Al₂ O₃ + B₂ O₃ ）/Σ改性劑（即改性劑的總和）的比率大於1，其中組分的比例以mol％表示且改性劑是鹼金屬氧化物。在特定實施例中，此玻璃組合物包含：58-72mol％的SiO₂ 、9-17mol％的Al₂ O₃ 、 2-12mol％的B₂ O₃ 、8-16mol％的Na₂ O和0-4mol％的K₂ O，其中（Al₂ O₃ + B₂ O₃ ）/Σ改性劑（即改性劑之和）的比率大於1。

在另一個實施例中，基板可包括鹼金屬鋁矽酸鹽玻璃組合物，其包含：64-68mol％SiO₂ 、12-16mol％Na₂ O、8-12mol％Al₂ O₃ 、0-3mol％B₂ O₃ 、2-5mol％K₂ O、4-6mol％MgO、 0-5mol％CaO，其中：66mol％＜=SiO₂ + B₂ O₃ + CaO＜=69mol％；Na₂ O + K₂ O + B₂ O₃ + MgO + CaO + SrO＞ 10mol％；5mol％＜=MgO + CaO + SrO＜=8mol％；（Na₂ O + B₂ O₃ ）-Al₂ O₃ ＜=2mol％；2mol％＜=Na₂ O - Al₂ O₃ ＜=6mol％；及4mol％（Na₂ O + K₂ O）-Al₂ O₃ ＜=10mol％。

在替代實施例中，基板110可包括鹼金屬鋁矽酸鹽玻璃組合物，其包含：2mol％或更多的Al₂ O₃ 及/或ZrO₂ ，或4mol％或更多的Al₂ O₃ 及/或ZrO₂ 。

在基板110包括結晶基板的情況下，基板可包括單晶，其可包括Al₂ O₃ 。這種單晶基板稱為藍寶石。用於結晶基板的其他合適材料包括多晶氧化鋁層及/或尖晶石（MgAl₂ O₄ ）。

可選地，結晶基底110可包括玻璃陶瓷基板，其可以是強化的或非強化的。合適的玻璃陶瓷的實例可包括Li₂ O-Al₂ O₃ -SiO₂ 系統（即LAS-系統）玻璃陶瓷、MgO-Al₂ O₃ -SiO₂ 系統（即MAS-系統）玻璃陶瓷，及/或包括主要晶相的玻璃陶瓷，其包括β- 石英固溶體、β-鋰輝石、堇青石和二矽酸鋰。可使用本文所揭露的化學強化方法來強化玻璃陶瓷基板。在一或多個實施例中，MAS-系統玻璃陶瓷基板可在Li₂ SO₄ 熔鹽中強化，由此可發生2Li⁺ 替換Mg²⁺ 。

根據一或多個實施例的基板110可具有在基板110的各個部分中具有範圍從約100μm到約5mm的物理厚度。示例基板110的物理厚度範圍從大約100μm到大約500μm（例如， 100、200、300、400或500μm）。另外的示例性基板110的物理厚度範圍為約500μm至約1000μm（例如，500、600、700、800、900或1000μm）。基板110可具有大於約1mm（例如，約2、3、4或5mm）的物理厚度。在一或多個特定實施例中，基板110可具有2mm或更小、或小於1mm的物理厚度。可對基板110進行酸拋光或以其他方式處理以去除或減少表面缺陷的影響。

可就由Berkovich壓頭硬度試驗所量測的硬度來描述光學塗層120及/或製品100。如本文所使用的「Berkovich壓頭硬度試驗」包括步驟：藉由用金剛石Berkovich壓頭對表面進行壓痕來量測其表面上的材料的硬度。 Berkovich壓頭硬度試驗包括步驟：用金剛石的Berkovich壓頭將塗層製品100的空氣側表面122（或抗反射塗層中任何一層或多層的表面）壓痕以形成至壓痕深度的壓痕，該壓痕在約50nm至約1000nm的範圍內（或光學塗層120的整個厚度，看哪個更小）、大體使用Oliver，W.C. Pharr，G.M.中所述的方法而沿著整個壓痕深度範圍或此壓痕深度的一部分(例如，在約100nm至約600nm的範圍內)來量測此壓痕的最大硬度。Oliver，W.C. Pharr，G.M.中所述的方法是使用載荷和位移傳感壓痕實驗來確定硬度和彈性模量的一種改進技術，其在J. Mater .Res ,Vol.7, No.6,1992,1564-1583中發表;及在J. Mater .Res ,Vol.19, No.1, 2004,3-20中所發表的Oliver，W.C. Pharr，G.M.所著的「Measurement of Hardness and Elastic Modulus by Instrument Indentation: Advances in Understaing and Refinements to Methodology」中闡述。如本文所使用的，硬度是指沿著壓痕深度範圍量測的最大硬度，而不是平均硬度。

通常，在奈米壓痕量測方法（如藉由使用Berkovich壓頭）中，其中塗層比下面的基板更硬，由於在淺的壓痕深度處（例如，小於25nm或小於50nm）塑性區的發展，量測的硬度最初可能看起來增加，接著該量測的硬度增加並在更深的壓痕深度（例如，從50nm到約500nm或1000nm）達到最大值或穩定。此後，由於下面的基板的作用，硬度在甚至更深的壓痕深度處開始減少。在使用與塗層相比具有更大硬度的基板的情況下，可看到相同的效果；然而，由於下面的基板的作用，硬度在更深的壓痕深度處增加。

可選擇壓痕深度範圍和在某些壓痕深度範圍的硬度值以識別本文所述的光學塗層120及其層的特定硬度回應，而不受下面的基板110的影響。當以Berkovich壓頭量測光學塗層120（當設置在基板110上時）的硬度時，材料的永久變形區域（塑性區域）與材料的硬度相關聯。在壓痕期間，彈性應力場遠遠超出此永久變形區域。隨著壓痕深度增加，表觀硬度和模量受到與下面的基板110的應力場相互作用的影響。基板對硬度的影響發生在更深的壓痕深度處（即，通常在大於光學塗層120的約10％的深度處）。此外，進一步的複雜性是硬度回應需要一定的最小載荷以在壓痕過程中產生完全可塑性。在特定的最小載荷之前，硬度顯示出大體增加的趨勢。

在小的壓痕深度（也可表徵為小負載）（例如，高達約50nm）處，材料的表觀硬度似乎相對於壓痕深度顯著增加。此種小的壓痕深度範圍並不代表硬度的真實度量，而是反映了上述塑性區的發展，這與壓頭的有限曲率半徑有關。在中間壓痕深度處，表觀硬度接近最大值。在更深的壓痕深處，隨著壓痕深度的增加，基板的影響變得更加明顯。一旦壓痕深度超過光學塗層厚度的約30％，硬度可能開始顯著下降。

在一或多個實施例中，塗覆製品100可顯現出藉由Berkovich壓頭硬度試驗在空氣側表面122上所量測之約10GPa或更高或約12GPa或更高（例如，14GPa或更高、16GPa或更高、18GPa或更高或甚至20GPa或更高）的硬度。在一或多個實施例中，光學塗層120可顯現出藉由Berkovich壓頭硬度試驗在空氣側表面122上所量測之約10GPa或更大、或約12GPa或更大（例如，14GPa或更大、16GPa或更大、18GPa或更大或甚至20GPa或更大）的最大硬度。另外，可具體表徵高RI層130B及/或耐刮痕層150的材料的硬度。在一些實施例中，藉由Berkovich壓頭硬度試驗所量測的高RI層及/或耐刮痕層150的最大硬度可為約8GPa或更高、約10GPa或更高、約12GPa或更高、約15GPa或更高、約18GPa或更高或甚至約20GPa或更高。層的硬度可藉由分析塗層製品來量測，其中所量測的層是最上層。若要量測的硬度層是埋層，則可藉由製備不包括覆蓋層的塗覆製品並隨後試驗塗覆製品的硬度來量測其硬度。這樣量測的硬度值可藉由沿著約50nm或更大或約100nm或更大的壓痕深度（例如，約100nm至約300nm、約100nm至約400nm、約100nm至約500nm、約100nm至約600nm、約200nm至約300nm、約200nm至約400nm、約200nm至約500nm或約200nm至約600nm）的塗覆製品100、光學塗層120、高RI層130B及/或耐刮痕層150來顯現。在一或多個實施例中，製品表現出的硬度大於基板的硬度（其可在與空氣側表面122相對的表面上量測）。

來自光學塗層120 /空氣界面的反射波與光學塗層120 /基板110界面之間的光學干涉可導致光譜反射及/或透射振盪，該光譜反射及/或透射振盪在製品100中產生表觀顏色。如本文所使用地，術語「透射率」定義成透過材料（例如，製品、基板或光學膜或其部分）之給定波長範圍內的入射光功率的百分比。術語「反射率」類似地定義成在給定波長範圍內從材料（例如，製品、基板或光學膜或其部分）反射的入射光功率的百分比。使用特定線寬來量測透射率和反射率。如本文所使用地，「平均透射率」是指在限定的波長範圍內透過材料透射的入射光功率的平均量。如本文所使用地，「平均反射率」是指由材料反射的平均入射光功率量。當僅在空氣側表面122處量測時（例如，當從塗覆製品100的未塗覆的後表面（例如，圖3中的114）移除反射時，可(如)經由在與吸收器偶接的後表面上使用折射率匹配油或其他已知方法將反射率量測為單側（或第一側）反射率）。在一或多個實施例中，透射率和反射率的表徵的光譜解析度小於5nm或0.02eV。在反射中，顏色可能更明顯。由於光譜反射率振盪隨入射照射角度的偏移，角度顏色可能隨著視角而在反射中移動。透射率隨視角的角度色移也是由於光譜透射率振盪與入射照射角度的相同偏移。觀察到的顏色和角度顏色隨入射照射角度的變化經常使裝置使用者分散注意力或令人討厭(特別是在具有如螢光照明和一些LED照明的尖銳光譜特徵的照明下)。透射率的角度色移也可能在反射中的色移中起作用；反之亦然。透射率及/或反射率的角度色移的因素還可包括由於視角或角度顏色自某個白點偏移(其可由特定照明或試驗系統鎖定義的材料吸收（稍微獨立於角度）所導致的)而導致的角度色移。

本文所述的製品在可見光譜中的(或接近可見光譜的)特定波長範圍上顯現出平均透光率和單側平均光反射率。另外，本文所述的製品在可見光譜中的(或接近可見光譜的)特定波長範圍上顯現出平均可見光適應反射率和平均可見光適應反射率。在實施例中，用於量測平均光透射率、單側平均光反射率，平均可見光適應反射率和平均可見光適應反射率的波長範圍（在本文中有時稱為「波長範圍」）可為約450nm至約650nm、約420nm至約680nm、約420nm至約700nm、約420nm至約740nm、約420nm至約850nm、或約420nm至約950nm；除非另有說明，否則這些量是針對約420nm至約700nm的波長範圍給出的。除非另有說明，否則平均透光率、單面平均光反射率、平均可見光適應反射率和平均可見光適應反射率是在垂直接近空氣側表面122的入射照射角(如以從約0度到約10度的入射角（然而，可在如例如30度、45度或60度的其他入射照射角度處收集這種量測）)處量測的。

在一或多個實施例中，當僅在空氣側表面122處量測時（例如，當如經由在偶接到吸收器的後表面上使用折射率匹配的油或其他已知方法從製品的未塗覆背面去除反射時），塗覆製品100可表現出在光學波長範圍內之約50％或更低、40％或更低、30％或更低、20％或更低、10％或更低、9％或更低、約8％或更低、約7％或更低、約6％或更低、約5％或更低、約4％或更低、約3％或更低、約2％或更低、約1％或更低、約0.5％或更低、約0.4％或更低、約0.3％或更低、或約0.2％或更低、約0.15％或更低、約0.1％或更低或甚至約0.05％或更低的平均單側光反射率（其可為適光平均值，且可為鏡面反射率）。在實施例中，平均單側光反射率範圍可為約0.4％至約9％、約0.4％至約8％、約0.4％至約7％、約0.4％至約6％或約0.4％至約5％。在實施例中，平均單側光反射率範圍可為約0.2％至約9％、約0.2％至約8％、約0.2％至約7％、約0.2％至約6％或約0.2％至約5％。在一或多個實施例中，塗覆製品100在光學波長範圍內表現出約50％或更高、60％或更高、70％或更高、80％或更高、90％或更高、92％或更高、94％或更高、96％或更大、98％或更大、或99％或更大的平均透光率。在實施例中，塗覆製品100可表現出範圍約99.5至約90％、92％、94％、96％、98％或99％的透光率。

在一些實施例中，塗覆製品100可表現出在光學波長範圍內之約50％或更低、40％或更低、30％或更低、20％或更低、10％或更低、約9％或更低、約8％或更低、約7％或更低、約6％或更低、約5％或更低、約4％或更低、約3％或更低、約2％或更低、約1％或更低、約0.8％或更少、約0.7％或更少、約0.6％或更少、約0.5％或更少、約0.4％或更少、約0.3％或更少、或約0.25％或更少、約0.15％或更少、約0.1％或甚至約0.05％或更少的平均適光反射率。如本文所使用地，適光反射率藉由根據人眼的靈敏度來對反射率與波長光譜進行加權，以模擬人眼的回應。根據如CIE顏色空間慣例的已知慣例，適光反射率也可被定義為反射光的亮度或三刺激Y值。平均適光反射率在下文等式中定義為光譜反射率；R（λ）乘以光源光譜I（λ）和CIE的顏色匹配函數（λ），該函數與眼睛的光譜回應相關：

在一些實施例中，製品100可表現出在光學波長範圍內之約50％或更高、60％或更高、70％或更高、80％或更高、約85％或更高、約90％或更高、約92％或更高、約94％或更高、約96％或更高或甚至約98％或更高的平均可見適光透射率。平均適光透射率在下文等式中被定義成光譜透射率；T（λ）乘以光源光譜I（λ）和CIE的顏色匹配函數（λ），該函數與與眼睛的光譜回應相關：

在一或多個實施例中，塗覆製品100在CIE L* a* b*比色法系統（在本文中稱為「色坐標」）中顯示出可量測的顏色（或其缺乏）的反射率和透射率。透射率色座標是指透射率中觀察到的L* a* b*色座標；反射率色座標是指反射率中觀察到的L* a* b*色座標。透射色坐標或反射色坐標可在各種光源類型下量測，其可包括由CIE確定的標準照明，該等標準照明包括A照明（代表鎢絲燈光）、B照明（日光模擬照明）、C照明（日光模擬照明）、D系列照明（代表自然日光）和F系列照明（代表各種類型的螢光燈）。特定照明包括如CIE所定義的F2、F10、F11、F12或D65。另外，可在不同的觀察入射角(如法線（0度）、5度、10度、15度、20度、30度、40度、45度或60度)下量測反射色坐標和透射色坐標。

在一或多個實施例中，當以法向入射角(或入射角為5度、10度、15度、20度、30度、40度、45度或60度)觀察時，塗覆製品100具有在透射率及/或反射率中小於或等於約10、8、6、5、4、3、2或甚至1的a*。在一或多個實施例中，當以法向入射角(或入射角為5度、10度、15度、20度、30度、40度、45度或60度)觀察時，塗覆製品100具有在透射率及/或反射率中小於或等於約10、8、6、5、4、3、2或甚至1的b*。在一或多個實施例中，當以法向入射角(或入射角為5度、10度、15度、20度、30度、40度、45度或60度)觀察時，塗覆製品100具有在透射率及/或反射率中大於或等於約-10、-8、-6、-5、-4、-3、-2或甚至-1的a*。在一或多個實施例中，當以法向入射角(或入射角為5度、10度、15度、20度、30度、40度、45度或60度)觀察時，塗覆製品100具有在透射率及/或反射率中大於或等於約-10、-8、-6、-5、-4、-3、-2或甚至-1的b*。

在一或多個實施例中，可在參考點與透射色座標或反射色座標之間量測參考點色移。參考點色移量測參考點色座標和觀察到的色座標（反射或透射）之間的顏色差異。反射率參考點色移（有時稱為反射率中的參考點色移）是指反射色座標和參考點之間的差異。透射參考點色移（有時稱為透射率中的參考點色移）是指透射色座標和參考點之間的差異。為了確定參考點色移，選擇參考點。根據本文所述的實施例，參考點可以是CIE L* a* b*比色系統中的原點（色座標a*=0，b*=0）、坐標（a*=-2，b*=-2），或基板的透射率或反射率色座標。應當理解，除非另有說明，否則本文所述製品的L*坐標與參考點相同且不影響色移。在相對於基板限定製品的參考點色移的情況下，將製品的透射色座標與基板的透射色座標進行比較，並將製品的反射色座標與基板的反射色座標進行比較。除非另有說明，否則參考點色移是指在相對於塗覆製品100的空氣側表面122的法向角度處所量測之在參考點和色座標之間所量測的透射率或反射率的偏移。但是，應當理解，可基於非法向入射角確定參考點色移，該等非法向入射角如5度、10度、15度、20度、30度、40度、45度或60度。另外，除非另有說明，否則僅在製品的空氣側表面122上量測反射色坐標。然而，可使用2面量測（包括來自製品兩側的反射）或單面量測（僅量測來自製品的空氣側表面122的反射）在製品的空氣側表面122和製品的相對側（即，圖1中的主表面114）兩者上來量測本文所描述的反射色座標。在上述其中，1表面反射率量測通常是實現抗反射塗層的低參考點色移值之更具挑戰性的度量，且這與製品背面粘合到光吸收介質(如黑色墨水或LCD或OLED裝置)上的應用（如智慧型手機等）相關。

在參考點是色座標a*=0，b*=0（原點）的情況下，藉由以下等式計算參考點色移：參考點色移=√（（a*_製品 ）² +（b*_製品 ）² ）。

在參考點是色座標a*=-2，b*=-2的情況下，藉由以下等式計算參考點色移：參考點色移=√（（a*_製品 +2）² +（b*_製品 +2）² ）。

在參考點是基板的色座標的情況下，藉由以下等式計算參考點色移：參考點色移=√（（a*_製品 -a*_基板 ）² +（b*_製品 - b*_基板 ）² ）。

在一或多個實施例中，相對於所揭露的參考點之一者所量測的反射率及/或透射率的參考點色移小於約10、小於約9、小於約8、小於約7、小於約6、小於約5、小於約4、小於約3、小於約2.5、小於約2、小於約1.8、小於約1.6、小於約1.4、小於約1.2、小於約1、小於約0.8、小於約0.6、小於約0.4或甚至小於約0.25。

本申請案的一個態樣係涉及一種塗覆製品100，該塗覆製品100即使在照明下以非垂直入射角觀看時也顯現出反射率及/或透射率中的無色。在一或多個實施例中，本文所述的塗覆製品100可在改變視角時在反射率及/或透射率方面具有最小的可見顏色變化，或可用角度偏移來感知到相同的顏色。這可藉由塗層製品100的反射率或透射率的角度色移來表徵。角度色移可使用以下等式來確定，其中：角度色移=√（（a*₂ -a*₁ ）² +（b*₂ -b*₁ ）² ）。在角度色移等式中，a*₁ 和b*₁ 表示當以參考照射角度（可包括垂直入射）觀察時製品的a*和b*坐標；a*₂ 及b*₂ 表示在入射照射角度(假設該入射照射角度與參考照射角度不同且在某些情況下與參考照射角度相差至少約1度、2度或約5度)下觀察時製品的a*和b*坐標。應當理解，除非另有說明，否則本文所述製品的L*坐標在任何角度或參考點處是相同的且不影響色移。

參考照射角度可包括垂直入射（即，0度），或者例如，距垂直入射5度、10度、15度、20度、30度、40度、45度或60度。然而，除非另有說明，否則參考照射角度是法向入射角或為接近法線（即，在法線的10度內）的入射角。入射照射角度可以是例如距參考照射角度約5度、10度、15度、20度、30度、40度、45度或60度。在一或多個實施例中，參考照射角度可在0到10度的範圍內，且入射照射角度可在30到60度的範圍內。

在一或多個實施例中，塗覆製品100具有在照明下之從0至10度（例如，5或更少、4或更少、3或更少、或者2或更少）入射照射角度到30至60度範圍中的入射照射角度的反射率及/或透射率的角度色移。在一些實施例中，反射率及/或透射率的角度偏移為約10或更少、9或更少、8或更少、7或更少、6或更少、5或更少、4或更少、3或更少、2或更少、1.9或更少、1.8或更少、1.7或更少、1.6或更少、1.5或更少、1.4或更少、1.3或更少、1.2或更少、1.1或更少、1或更少、0.9或更少、0.8或更少、0.7或更小、0.6或更小、0.5或更小、0.4或更小、0.3或更小、0.2或更小、或0.1或更小。在一些實施例中，角度色移可以是大約0。照明可包括由CIE確定的標準照明，該等標準照明包括A照明（代表鎢絲燈光）、B照明（日光模擬光源）、C照明（日光模擬光源）、D系列照明（代表自然日光）和F系列照明（代表各種類型的螢光燈）。在具體示例中，當在CIE F2、F10、F11、F12或D65照明下(或更具體來說，係在CIE F2光源下)從參考照射角度的入射照射角度觀察時，製品表現出約2或更小的反射率及/或透射率的角度色移。

在一或多個實施例中，塗覆製品100在相對於參考照射角度的給定範圍內的所有入射照射角度處在反射率及/或透射率下具有約10或更小（例如，5或更小、4或更小、3或更小、或2或更小）的角度色移。例如，塗覆製品100在距參考照射角度5度、10度、15度、20度、30度、40度、45度或60度的範圍內的所有入射照射角度處可具有約10或更小、5或更小、4或更小、3或更小、或2或更小的角度色移。在另外的實施例中，塗覆製品100在距參考照射角度5度、10度、15度、20度、30度、40度、45度或60度的範圍內的所有入射照射角度處可具有約1.9或更小、1.8或更小、1.7或更小、1.6或更小，1.5或更小、1.4或更小、1.3或更小、1.2或更小、1.1或更小、1或更小、0.9或更小、0.8或更小、0.7或更小、0.6或更小、0.5或更小、0.4或更小、0.3或更小、0.2或更小、或0.1或更小的角度色移。

在一或多個實施例中，塗覆製品100顯現霧度值為約10％或更小，該霧度值係使用由BYK Gardner以商標Haze-Gard plus®所提供的霧度計(其使用在源端口上之直徑為8mm的孔)在磨損側所量測的。在一些示例中，首先可磨樣本，接著在磨後量測霧度以量化磨損的嚴重程度。除非另有說明，否則本文中使用的所有霧度值均以前述方式量測。在一些實施例中，霧度可為約70％或更低、50％或更低、約25％或更低、約20％或更低、約15％或更低、約10％或更低、約9％或更低、約8％或更少、約7％或更少、約6％或更少、約5％或更少、約4％或更少、約3％或更少、約2％或更少、約1％或更少、約0.5％或更少或約0.3％或更少。在一些具體實施例中，製品100的霧度範圍為約0.1％至約10％、約0.1％至約9％、約0.1％至約8％、約0.1％至約7％、約0.1％至約6％、約0.1％至約5％、約0.1％至約4％、約0.1％至約3％、約0.1％至約2％、約0.1％至約1％、0.3％至約10％、約0.5％至約10％、約1％至約10％、約2％至約10％、約3％至約10％、約4％至約10％、約5％至約10％、約6％至約10％、約7％至約10％、約1％至約8％、約2％至約6％ 、約3％至約5％及上述範圍之間的所有範圍和子範圍。

反射量測 - SCI ， SCE 和（ SCI-SCE ）

在一或多個實施例中，製品表現出全反射率（SCI）、漫反射率（SCE）及/或鏡面反射率（SCI-SCE）。使用具有6mm直徑孔徑的Konica-Minolta CM700D，並藉由依次執行以下步驟1-19來量測這些反射率值。

1.執行CM700d的每日台架認證以確保其正常運行(按照Konica-Minolta規定的單獨程序)。

2.打開儀器電源。

3.打開程式並與儀器建立連接。

4.按照程式的指示校準儀器。

5.在程式中加載新的SCE / SCI資料接收電子表格模板

6.使用壓縮空氣清潔樣品架、蓋子仍然附著在 CM700d上以避免顆粒從開口孔滲入儀器。

7.按照步驟a-d的清潔程序來依次清潔樣本。 a.用甲醇浸濕一塊乾淨的布擦拭兩個樣本表面。小心不要擦除任何指示樣本方向的標記。 b.在濕式清潔後，立即用新布擦乾樣本並再次擦拭兩個表面直至甲醇殘留物/污跡已被清除。將樣本放在黑 色背景下進行頻繁檢查。 c.在樣本的兩個表面噴灑壓縮空氣，以清除布上任何鬆散的灰塵顆粒和纖維。 d.將樣本移動到後續步驟。

8.使用標記物作為指示器來將樣本放置在機器夾具上。將磨損面向下朝向CM700d的孔徑。請注意，標記朝上但仍沿著樣品的頂部邊緣。箭頭將指向左上角；數字現在位於右上角。

9.在程式上標記量測值。量測三個未磨損的位置（軌道之間的區域）作為基線並標記該等位置。靠近操作員的軌道被指定成底部軌道，而另一個軌道被稱為頂部軌道。

10.將樣本滑動到固定裝置的左上角以量測頂部軌道上的右側點並標記該右側點。

11.將樣本相對於頂部邊緣滑動直到邊緣與標記對齊，以量測頂部軌道上的中間點並標記該中間點。

12.將樣本相對於頂部邊緣滑動到右上角以量測頂部軌道上的左側點並標記該左側點。每個軌道的右側、中間和左側點的中心應與用於該特定試驗的孔的直徑（除非另有說明，不然為6mm）間隔開。此外，作為整體的右、中、左點應在被測軌道的長度和寬度上大致居中。

13.使用底部邊緣和兩個底部拐角對底部軌道重複整個過程。

14.確保記錄了九個量測值（每個軌道3個，及軌道之間的空間3個）。若是，則存儲此樣本並量測另一個（若有的話）。

資料分析 - 使用資料計算程式（例如，Matlab）

15.出口量測。複製CM700d程式中的整個相關資料集並將其貼到Excel檔案中。將Excel檔案保存到指定的文件夾，並確保該文件夾還包含另一個Excel檔案以接收輸出。

16.使用資料計算程式（例如，Matlab）為9個點中的每一者來計算以下等式，以獲得用於SCE的9個值。 其中：SCE*是加權平均值SCE；SCE是CM700d對每個波長的原始量測值；λ是400nm至700nm的波長，每次計算增加10nm；S是D65光譜照度（CIE 1931 10度），及Y是光譜發光效率函數（CIE 1931 10度）。

17.每個數字（SCE *）是該點的不包括散射元件（SCE）的加權平均值。

18.取一個軌道（磨損軌道中之一者或磨損軌道之間的空間）中的三個點中的每一者的平均SCE值。這是該樣本軌道磨損後的SCE值。5.可藉由獲取磨損前的SCE值（如來自磨損軌道之間的空間）和由步驟1至4為每個磨損軌道計算的SCE值之間的差值來計算SCE值的變化。

19.量測全反射率（SCI），接著藉由從SCI減去SCE來計算鏡面反射率。

Taber 磨損試驗

在一或多個實施例中，在量測其各種性質（SCI、SCE和SCI-SCE）之前磨損製品。為了磨損製品，藉由按順序執行以下步驟（1至18- Taber磨損試驗）來使用Taber產業線性磨損器5750。

1.檢查並確保使用數位角度計將Taber研磨器和線性磨損器5750的樣品夾具調平（Taber軸和樣品架之間的差值應小於0.3度）。

2.檢查花鍵的潤滑。在其沒有任何重量的情況下上下移動鋼花鍵，以查看在開始每個操作之前是否有明顯的摩擦跡象。若有明顯的摩擦跡象，則潤滑花鍵。

3.檢查樣本就座區域。在夾具上噴射壓縮空氣並用甲醇擦拭，以除去鬆散的顆粒/灰塵和油，以避免在磨損軌道的另一側的任何潛在的刮痕和污染。

4.藉由噴射壓縮空氣來清潔樣本，以除去鬆散的灰塵顆粒。若需要，則使用甲醇來清潔樣本以去除油脂和其他類型的污染物(特別是在預期磨損側)。

5.識別樣本的側面以進行磨損/刮痕。

6.在樣本上進行任何標記，以在與預期磨損側相對的一側上進行定向配準。在預期磨損側的相反方向上標記樣品的定向配準(重要)。使用指向一個角的箭頭，並沿同一邊緣在另一側上放下樣本編號。

7.將樣本安裝在就座區域上。預期磨損側朝上。

8.重磨磨擦頭尖端。應使用深度計來調整尖端的暴露深度並藉由擰緊夾頭來固定橡皮擦。在重磨板上粘上重磨帶。每次皆使用Taber單元上配備的雷射導向器來將軌道路徑的位置對準帶的新區域。打開磨損器上的蓋子，並將軌道長度設置為3英寸(75mm)。重磨條件應設置為25個循環/分鐘，持續25個週期。此步驟不需要放置額外的重量。總重量應為花鍵、軸、夾頭及支架重量的單獨重量的總和（花鍵+軸+支架重量+夾頭= 350g）。

9.藉由按Taber單元上的綠色開始按鈕來開始重磨過程。

10.在重磨完成後將夾頭從花鍵上取下並將空氣噴射到磨擦頭的尖端以除去任何鬆散顆粒。

11.由於表面去除了一定深度的磨擦頭，因此縮短了暴露的深度。使用深度計重新調整磨擦頭的暴露深度，並將夾頭重新安裝到花鍵上。

12.將Taber單元上的磨損軌跡長度重置為1英寸（25mm）。

13.堆疊另外1kg的外部重量，使得總重量為1350g。有關組件的各個重量，請參閱Taber手冊。

14.手動或藉由使用電動螺絲刀來將固定裝置移動到目標位置。將雷射光對準樣本固定區域旁邊的標記線中之一者。

15.設置Taber上的循環速度（25圈/分鐘，除非另有說明）和循環計數（10，除非另有說明）。

16.按下綠色開始按鈕開始磨損。

17.從步驟8開始重複以研磨同一樣本上的另一個軌道，直到產生所需數量的軌道為止。

18.在已磨損所需數量的軌道（兩個，除非另有說明）之後，將樣本從夾具上取下以用於臨時存儲。對於每個額外的樣本，從步驟3開始重複。

Kovax 試驗

對於Kovax試驗來說，根據Taber磨損試驗（如上所述）使用Taber線性磨損器，但有以下例外。使用由日本東京Kovax提供的400粒「Eagle」氧化鋁砂紙製成的磨損物代替了磨擦頭的尖端。接著，試驗的步驟8和9簡單地減少在尖端上安裝新的砂紙(而不是重磨尖端)。可使用如本文所述的各種限定的負荷和循環來執行Kovax試驗。

石榴石(Garnet)刮痕試驗

對於石榴石刮痕試驗來說，根據Taber磨損試驗（如上所述）使用Taber線性磨損器，但有以下例外。使用由明尼蘇達州聖保羅市的3M公司製造的150粒度石榴石砂紙製成的磨損物(而不是摩擦頭的尖端)。接著，試驗的步驟8和9簡化成在尖端上安裝新的砂紙(而不是重磨尖端)。可使用如本文所述的各種限定的負荷和循環來執行石榴石刮痕試驗。一般來說，石榴石刮痕試驗在Taber線性磨損機上以1kg、2 kg或4 kg的總重量（包括花鍵、軸、夾頭和重量支架的重量）進行。

光澤度值試驗

在一或多個實施例中，本文所述的製品顯現出光澤度值。光澤度值的量測在Rhopoint Instruments Ltd.的Rhopoint IQ^TM 儀器上進行，如下所述。光澤度是與表面中反射的直射光的亮度相關的視覺感受，並描述當光從其反射時表面看起來「有光澤」的感覺。具有高反射率的表面被確定為有光澤的；較少反射的表面是半光澤或無光澤。光澤計藉由以所定義的角度來量測樣本的光反射來量化這種效應。光澤單元（GU）在國際標準中被定義成包括ISO 2813和ASTM D523。GU由來自已知折射率的玻璃標準的反射光量確定。傳統的光澤度計光學元件用於60度和85度角，這些光學元件完全符合上述國際光澤度標準。

圖像試驗的顯著性

在一或多個實施例中，本文描述的製品顯現圖像清晰度（DOI）值。 DOI的量測在可從英國Rhopoint Instruments公司獲得的Rhopoint IQ^TM （在20度入射的設置下的測角光度計）上進行。表面的DOI值是0到100之間的數字；顯現出完美無失真圖像的表面回傳值100，隨著值減小圖像會變得不太清晰。

像素功率偏差試驗

在一或多個實施例中，本文描述的製品顯現出像素功率偏差（PPD）值。PPD值的量測如題為「Apparatus and Method for Determining Sparkle」的美國專利號9,411,180中所述地進行，該專利全文以引用方式併入本文中。例如，沒有試驗樣本的參考顯示圖像與有試驗樣本的顯示圖像的比較（即，在沒有來自顯示背景的變化的情況下，PPD值對應於樣本的值）。

示例 1

為了製備塗覆製品，在離子交換的玻璃基板（可從康寧公司商構獲得的GORILLA®玻璃）上沉積BaF₂ 作為粗糙誘導光散射層。具體來說，BaF₂ 膜經由升高溫處的電子束蒸發沉積生長，以產生導致粗糙的冠狀微晶形態。BaF₂ 薄膜以3埃/秒的速度沉積在Temescal BJD-1800電子束蒸發單元中，該蒸發單元其中的石英燈將基板加熱至約200℃。沉積前的基礎壓力為1.2×10^-6 托。由於微晶成核和生長的動力學，隨著膜厚度的增加，BaF₂ 膜的粗糙度增加。使用Veeco Dimension原子力顯微鏡來量測粗糙度。圖7A至圖7D描繪了在玻璃基板上沉積的BaF₂ 膜的顯微圖像。表1顯示了每個塗覆樣本的BaF₂ 厚度和粗糙度量測值，並另外提供了圖7A至圖7D的圖例。粗糙度被量測為R_a （絕對值粗糙度的算術平均值）和R_q （均方根粗糙度）。作為比較，玻璃基板的粗糙度（R_a 或R_q ）小於1nm。表 1

另外，藉由使用Plasma-Therm HDPCVD的PECVD在150℃下將2微米的SiN_x 層沉積在先前所述的BaF₂ 層之上。沉積利用電感耦合電漿源以獲得與基板偏置無關的高電離，該基板偏置是由驅動基板所在的壓板的RF電源設定。PECVD是一種相當保形的塗層處理，沉積時具有相對較小的粗糙度。在BaF₂ 層頂部沉積2微米SiN_x 之後，BaF₂ 層的粗糙度大大保持不變。圖8至圖8D描繪了沉積在玻璃基板上的BaF₂ 膜上之沉積的SiN_x 膜的顯微圖像。表1顯示了每個塗覆樣本的SiN_x 層的SiN_x 層和BaF₂ 層厚度和粗糙度量測值，且另外提供了圖8A至圖8D的圖例。表 2

玻璃基板/ BaF₂ / SiN_x 塗覆的製品具有17-21GPa的Berkovich壓痕硬度值，而未塗覆的基板具有約7GPa的硬度。量測這些樣本的模量值，其範圍為192-212GPa。

評估製造的樣本在可見光譜上的總透射率和鏡面反射率。圖9描繪了作為波長函數的總透射率（鏡面光和漫射光的總和）。圖10描繪了作為波長函數的鏡面反射率（在6°入射角下）。分別參考圖9和10，元件符號502表示具有300nm BaF₂ 層和2000nm SiN_x 塗層的樣本、元件符號504表示具有600nm BaF₂ 層和2000nm SiN_x 塗層的樣本、元件符號506表示具有1200nm BaF₂ 層和2000nm SiN_x 塗層的樣本，及元件符號508表示具有2400nm的BaF₂ 層和2000nm的SiN_x 塗層的樣本。另外，元件符號510表示未塗覆基板的比較例，及元件符號512表示僅塗覆有2微米SiN_x （相對光滑的塗層）的玻璃基板。如圖9和圖10所示，藉由添加粗糙層使得銳利的光譜振盪在透射率和反射率中光滑，並且振蕩光滑且粗糙度增加。

另外評估樣本的反射角色移（用F2照明從6度到40度，在40度下量測的樣本與其自身在6度下量測時相比）、霧度和總平均適光透射率（ D65光源）。結果如表3所示。表 3

雖然藉由包含粗糙的BaF₂ 層顯著降低了鏡面反射率，但大體上保持了總透射率，僅非常輕微地下降（從總平均適光透射率的約85％到2400nm厚的BaF₂ 層的約78％）如表3所示。可認為較厚的BaF₂ 層會引入更多的光散射，從而使光譜振蕩平滑並降低鏡面反射率。還認為鏡面反射效應的降低與傳統的粗糙表面的「防眩光」效應有關。此外，由於光散射產生的光譜平滑，包含粗糙BaF₂ 光散射中心的樣本顯示出較小的反射顏色變化範圍和角度變化。具有較厚BaF₂ 層的樣本具有更多光散射並具有更多的光譜平滑。根據散射中心的橫向尺寸，光散射也可產生一種顏色效果（如Rayleigh或Mie散射中眾所周知的）。

示例 2

為了製備塗覆製品，藉由噴砂接著酸拋光在其一表面上提供具有光改變特徵之離子交換的玻璃基板（可從康寧公司商購獲得的GORILLA®玻璃），以在其表面上產生7％的霧度。圖11A和圖11B顯示了在表面的80微米方形窗口上量測的兩種不同樣本的顯微照片。藉由原子力顯微鏡（AFM）所量測的表面粗糙度示於表4中。 表4：具有光改變特徵基板的表面屬性

接著將光學塗層設置在具有光改變特徵的每個表面上。光學塗層具有表5中列出的結構。 表5：光學塗層的結構

在將光學塗層設置在每個基板表面上之後，再次量測樣本的粗糙度；結果示於表6中。圖12A和圖12B分別顯示了圖11A和圖11B之在光學塗層的沉積後的樣本的表面。 表6：具有光改變特徵及光學塗層的基板的表面屬性

從表4和表6中的值的比較可看出，即使在其上設置相對較厚(微米級)的光學塗層之後，最初設置在基板表面上的光改變特徵（以表面粗糙度的形式）仍然存在。因此，相對厚的光學塗層對光改變特徵的有益特性沒有不利影響。取而代之的是，發現相對厚的光學塗層為樣本提供了額外的有益特性，而不會不利地影響光改變特徵的有益特性。例如，發現相對厚的光學塗層以為製品提供更高的最大硬度和更高的彈性模量、減少製品的第一表面反射率；並增加製品的2面總透射率。

圖13A和圖13B分別是按照圖11A至圖11B的描述製備的樣本及按照圖12A至圖12B的描述製備的樣本的硬度和彈性模量（均由本文所述的Berkovich壓頭試驗量測）的圖。在圖13A和13B的曲線圖中，線1302代表圖11A至圖11B和13的樣本，及線1304代表圖12A至圖12B的樣本。彈性模量和最大硬度示於下表7中。如圖13A至圖13B和表7所示，光學塗層增加了製品的模量和最大硬度兩者。較高的模量和硬度使製品具有有益的抗刮痕性。例如，較高的抗刮痕性可為顯示裝置提供更堅固的外蓋；即使在掉落到粗糙表面上及/或磨損之後，該外蓋將在更長的時間段內於美學上更令人愉悅。 表7：各種基板的楊氏模量及硬度

圖18A至圖18B和圖19A至圖19B顯示了圖12A至圖12B中的樣本的光學塗層有助於減少磨損事件時的刮痕。

圖18A至圖18B顯示了石榴石刮痕試驗的結果（如上所述），其中圖18A是用於不具有光改變特徵的GORILLA®玻璃基板，而圖18B是用於與圖12A至圖12B的樣本一致的塗覆製品。圖18A至圖18B的每個圖中有三個刮痕軌跡：最頂部的刮痕軌跡（圖18A至圖18B中標記為1）是以25週期/分鐘的速率和1千克（kg）的負荷進行的單週期試驗、中間刮痕軌跡（圖18A至圖18B中標記為2）是以25週期/分鐘的速率和2kg的負荷進行的單週期試驗，及最底部的刮痕軌跡（圖18A至圖18B中標記為4）是以25週期/分鐘的速率和4kg的負荷進行的單週期試驗。以設置在圖像捕獲裝置和樣品之間的「環形光」獲得圖18A至圖18B。從圖18A與圖18B的比較中可看出對應圖12A至圖12B的製備的樣本的刮痕比其他樣本的刮痕更看不見，因此在美學上更令人愉悅。

圖19A至圖19B顯示Taber磨損試驗的結果（如上所述），其中圖19A是用於不具有光改變特徵的GORILLA®玻璃基板，而圖19B是用於與圖12A至圖12B的樣本一致的方式製備的塗覆製品。圖19A至圖19B的每個圖中有兩個刮痕軌跡。每個刮痕軌跡是用（可從Taber Industries獲得的）CS17磨料以25週期/分鐘的速率和1350kg的負荷進行的十循環試驗的結果。以設置在圖像捕獲裝置和樣品之間的「環形光」獲得圖19A至圖19B。從圖19A與圖19B的比較中可看出對應於圖12A至圖12B的製備的樣本的刮痕比其他樣本的刮痕更看不見，因此在美學上更令人愉悅。

另外，光學塗層為製品提供減少的鏡面第一表面反射率和增加的雙表面（或總）透射率。圖14示出了不具有光改變特徵的基板的第一表面反射率（線1400）、具有光改變特徵的根據圖11A至圖11B的基板（線1402）及具有光改變特徵和光學塗層的根據圖12A至圖12B的基板（線1404）。圖15示出了用於不具有光改變特徵的基板的兩個表面（或全部）透射率（線1500）、具有光改變特徵的根據圖11A至圖11B所示的基板（線1502），及具有光改變特徵和光學塗層的根據圖12A至圖12B所示的基板（線1504）。從圖14和圖15中可看出，根據此實施例的樣本能夠在光學波長範圍內實現小於1％的第一表面反射率，且在相同波長範圍內也實現大於92％的總透射率。減少的鏡面反射率和增加的透射率為顯示裝置提供了更好的可讀性(特別是在高環境光條件下)。

此外，塗覆製品的顏色主要由光學塗層本身的顏色驅動。圖16示出了在D65照明下之6度、20度、40度和60度入射角的第一表面反射顏色，而圖17示出了D65照明在垂直入射時的雙表面透射顏色。菱形資料點（1602,1702）示出了與圖11A和圖11B的樣本一致的樣本的顏色，而圓形資料點（1604,1704）顯示與圖12A和圖12B的樣本一致的樣本的顏色。從圖16和圖17中可看出，沒有塗層（但具有光改變特徵，樣本11A至11B）的製品的顏色非常緊密地集中在（0,0）的a*,b*坐標上。儘管塗覆製品（具有光改變特徵和光學塗層，樣本12A至圖12B）具有來自未塗覆製品之增加的顏色（圖11A至圖B），但顏色仍然非常小(特別是在40和60度入射角的反射中及雙表面透射中)。因此，若需要有色基板，可藉由調整光學塗層來實現這一點。

示例 3

(示例 3A )為了製備塗覆製品，藉由噴砂接著進行酸拋光以在其一個表面上提供具有光改變特徵之離子交換的玻璃基板（可從康寧公司購得的GORILLA®玻璃），以在其表面上產生4％的霧度。接著將光學塗層設置在具有光改變特徵的表面上。光學塗層具有表8中列出的結構。 表8：光學塗層的結構

( 示例 3B ） 以與示例3A相同的方式製備塗覆製品，不同之處在於形成光改變特徵以便在其表面上產生7％的霧度。

（示例 3C ） 以與示例3A相同的方式製備塗覆製品，不同之處在於形成光改變特徵以便在其表面上產生27％的霧度。

（示例 3D ） 以與示例3A相同的方式製備塗覆製品，不同之處在於形成光改變特徵以便在其表面上產生42％的霧度。

（示例 3E ） 以與示例3A相同的方式製備塗覆製品，不同之處在於形成光改變特徵以便在其表面上產生50％的霧度。

（示例 3F ） 以與示例3A相同的方式製備塗覆製品，不同之處在於形成光改變特徵以便在其表面上產生60％的霧度。

（比較例 3G ） 以與示例3A相同的方式製備塗覆製品，不同之處在於形成光改變特徵以在其表面上產生7％的霧度，且在光改變特徵上沒有設置光學塗層。

（比較例 3H ） 以與示例3A相同的方式製備塗覆製品，不同之處在於形成光改變特徵以在其表面上產生27％的霧度，且在光改變特徵上沒有設置光學塗層。

示例3A至示例3F在各種入射角下實現了低的單側鏡面反射率。圖20至圖22示出了示例3A至示例3F的沿y軸之以百分比為單位的第一表面鏡面反射率與沿x軸之以nm為單位的波長的關係，其中圖20表示六度入射角、圖21表示40度入射角及圖22表示60度入射角。在圖20中，線203A是示例3A的反射率、線203B是示例3B的反射率、線203C是示例3C的反射率、線203D是示例3D的反射率、線203E是示例3E的反射率、線203F是示例3F的反射率。在圖21中，線213A是示例3A的反射率、線213B是示例3B的反射率、線213C是示例3C的反射率、線213D是示例3D的反射率、線213E是示例3E的反射率及線213F是示例3F的反射率。在圖22中，線223A是示例3A的反射率、線223B是示例3B的反射率、線223C是示例3C的反射率、線223D是示例3D的反射率、線223E是示例3E的反射率及線223F是示例3F的反射率。可從圖20至圖22看出，對於450nm至550nm、600nm或650nm的波長來說，本發明的硬塗層紋理樣本的單側（第一表面）鏡面反射率可低於0.5％或甚至低於0.25％。這些反射率值可從接近法線入射角到高達40度入射角（見圖20和圖21）皆保持低於0.5％，且對某些以60度入射角的樣本來說保持低於3％、低於1.5％或低於1％（參見圖22和下文的表9）。 表9

圖23示出了示例3A至示例3F在D65照明下在6度、20度、40度和60度入射角下的的第一表面反射顏色。在圖23中，線233A是示例3A的反射顏色、線233B是示例3B的反射顏色、線233C是示例3C的反射顏色、線233D是示例3D的反射顏色、線233E是示例3E的反射顏色，及線233F是實施例3F的反射顏色。如在具有42％、50％和60％的相應霧度值的示例3C至示例3E中之在沉積光學塗層之前在下面基板上的較高霧度導致更柔和的反射顏色。因此，在低顏色係較佳的情況下(如在顯示器應用中)，例如可使用下面基板上的較高霧度值。替代地，在高顏色係較佳的情況下(如在眼鏡中)，如在具有4％和7％的霧度值的示例3A和示例3B中，可使用下面基板上的較低霧度值。在任一情況下，a*和b*反射顏色值可具有小於16、小於12、小於10、小於5或甚至小於2的絕對值，如(例如)圖23所示。

接著使用如下的反射率值試驗實例3A至3F和對比例3G和3H的耐刮痕性和耐磨性。具體來說，研究了三個反射率值：全反射率（SCI）、漫反射率（SCE）和鏡面反射率（SCI-SCE）。根據如上所述的程序，用Konica-Minolta CM700D儀器量測SCI、SCE和鏡面反射率（SCI-SCE）。對於每個示例3A至示例3F和每個比較例3G和3H，作為參考點，在對樣本進行任何磨損之前量測反射率。接著根據Kovax試驗（如上所述）使用1kg負載（總重量）和50個循環以25個循環/分鐘的速率磨損每個示例3A至示例3F的一樣本。接著根據石榴石試驗（如上所述）使用4kg負載（包括花鍵、軸、夾頭和重量保持器的重量的總負載）和一循環以25循環/分鐘的速率磨損每個示例3A至3F的另一個樣本。磨損前、Kovax磨損後和石榴石磨損後的每個樣本的全反射率SCI，及磨損前、Kovax磨損後和石榴石磨損後的每個樣本的漫反射率SCE，及​​磨損前、Kovax磨損後和石榴石磨損後的每個樣本的鏡面反射率（SCI-SCE）如下文表10中所示。 表10

具有單個刮痕循環的石榴石試驗被認為與現實世界的刮痕更相關，因大多數現實世界的刮痕是單週期事件。 50個循環的Kovax試驗與智慧型手機、觸控螢幕、智慧型手錶和汽車顯示器等應用中的現實世界的刮痕不太相關，但Kovax試驗可提供更高的重複性(由於大量循環和由此導致的高密度刮痕)的水平，這導致了更光學均勻的刮痕/磨損區域。

表10中的值代表D65、SCE和SCI的適視平均值；使用3個樣本重複中的每一者上的3個量測點的平均值，每個樣本上有一個刮痕軌跡用於石榴石刮痕試驗，及每個樣本上有兩個刮痕軌跡用於Kovax試驗。每個平均資料點的值範圍對於SCI來說大體為+/- 0.5或更小，及對於SCE來說為+/- 0.1或更小。

表10中的SCE和SCI值包括來自玻璃樣本的後未處理表面的約4％的反射率。至少對於低散射樣本來說，藉由從所示的SCE和SCI值中減去4％可近似樣本的前表面反射率。當量測被表示為「雙側」量測時，樣本的後表面具有包括在量測中的反射率，且不經由光學耦合至吸收體去除該反射率，（若去除後表面反射率，則這是表示為「單側」或「第一表面」量測值）。

示例 4

（示例 4A 至 4L ） 為了製備塗覆製品，藉由噴砂處理接著進行酸拋光在其一個表面上提供具有光改變特徵的離子交換玻璃基板（可從康寧公司商購獲得的GORILLA®玻璃）以產生表面上的各種霧度水平。接著將光學塗層設置在具有光改變特徵的表面上。光學塗層具有如上表8中所列的結構。製備示例4A至4L，其霧度水平列於下表11中。

（比較例 4M 至 4S ） 以與示例4A至4L相同方式製備比較例4M至4S，不同之處在於在這些比較例上沒有設置光學塗層。比較例4M至4S具有下表11中列出的霧度水平。 表11

接著研究示例4A至4L在如下的各種防眩光和光學顯示 – 外蓋 - 玻璃度量下的效能。研究如上所述量測之在60度的光澤度、如上所述之在20度入射下量測的圖像清晰度(DOI)量測、和如上所述量測的像素功率偏差（PPD）。 PPD與在具有光改變特徵的表面覆蓋的像素化顯示器上的顆粒或閃光的視覺外觀相關。

圖24是在y軸上的光澤度（在60度下量測）與在x軸上的％霧度的關係圖。圖24包括：對應於作為雙側量測的比較例4M至4S的三角形資料點、對應於作為雙側量測的示例4A至4L的圓形資料點、對應於作為單側量測的比較例4M至4S的菱形資料點，及對應於作為單側量測的示例4A至4L的正方形資料點。為了進行單側量測，將待測樣本的後表面耦合到光吸收器以去除後表面反射，而雙側量測不包括這種耦合光吸收器。

圖25是在y軸上的DOI（在20度處量測）與在x軸上的％霧度的關係圖。圖25包括：對應於作為雙側量測的比較例4M至4S的三角形資料點、對應於作為雙側量測的示例4A至4L的圓形資料點、對應於作為單側量測的比較例4M至4S的菱形資料點，及對應於作為單側量測的示例4A至4L的正方形資料點。為了進行單側量測，將待測樣本的後表面耦合到光吸收器以去除後表面反射，而雙側量測不包括這種耦合光吸收器。

圖26是在y軸上的PPD（用每英寸140個像素的基礎顯示器量測）與x軸上的％霧度的關係圖。圖26包括：對應於比較例4M至4S的三角形資料點及對應於示例4A至4L的圓形資料點。

圖24至圖26分別表明，與沒有光學塗層的樣本相比，藉由在具有紋理光改變（或防眩光）特徵的基板表面上添加光學防刮塗層，保持、略微改善或基本上不降低光澤度、DOI和PPD。

如本文所使用地，術語「約」是指量、尺寸、配方及參數，其他數量和特徵不是且不必是精確的，但可根據需要近似及/或更大或更小、為反映公差、為轉換因子、四捨五入及量測誤差等，及所屬技術領域中具有通常知識者已知的其他因素。當術語「約」用於描述範圍的值或端點時，應該將本申請案理解為包括所指的具體值或端點。無論說明書中的範圍的數值或端點是否記載「約」，範圍的數值或端點旨在包括兩個實施例：一個由「約」修飾的實施例，一個未由「約」修飾的實施例。為進一步理解，每個範圍的端點相對於另一個端點皆是重要的且獨立於另一個端點。

如本文所使用的術語「實質的」、「大體上」及其變體旨在注意所描述的特徵等於或近似等於值或描述。例如，「基本上平面的」表面旨在表示平面或近似平面的表面。而且，「大體上」旨在表示兩個值相等或近似相等。在一些實施例中，「大體上」可表示彼此的約10％內(如彼此的約5％內或彼此的約2％內)的值。

本文使用的定向術語 ( 例如上、下、右、左、前、後、頂部、底部、向內、向外) 僅參照所繪製的附圖進行，且不旨在暗示絕對定向。

除非有明確相反指出，不然如本文所使用的術語「該」、「一」係表示「至少一個」，且不應限於「僅一個」。因此，例如，除非上下文另有明確說明，不然對「一個組件」的引用包括具有兩個或更多個這樣的組件的實施例。

對於所屬技術領域中具有通常知識者顯而易見的是，在不脫離本申請案的精神和範疇的情況下，可對本申請案做出各種修改和變化。因此，本申請案旨在包含這些修改和變化，只要其落入所附申請專利範圍及其等同物的範疇內即可。

100‧‧‧塗覆製品 110‧‧‧基板 112‧‧‧主表面 114‧‧‧主表面 116‧‧‧副表面 118‧‧‧副表面 120‧‧‧光學塗層 122‧‧‧空氣側表面 124‧‧‧粗糙界面 130‧‧‧抗反射塗層 130A‧‧‧低RI層 130B‧‧‧高RI層 132‧‧‧週期 140‧‧‧頂部塗層 150‧‧‧耐刮痕層 154‧‧‧下層 160‧‧‧頂部梯度層 165‧‧‧粗糙界面 170‧‧‧底部梯度層 180‧‧‧光散射構件 203A-203F‧‧‧線 213A-213F‧‧‧線 223A-223F‧‧‧線 233A-233F‧‧‧線 502‧‧‧元件符號 504‧‧‧元件符號 506‧‧‧元件符號 508‧‧‧元件符號 510‧‧‧元件符號 512‧‧‧元件符號 1302‧‧‧線 1304‧‧‧線 1400‧‧‧線 1402‧‧‧線 1404‧‧‧線 1500‧‧‧線 1502‧‧‧線 1504‧‧‧線 1602‧‧‧菱形資料點 1604‧‧‧圓形資料點 1702‧‧‧菱形資料點 1704‧‧‧圓形資料點

應理解的是，前文的一般性描述和以下的詳細描述都僅是示例性的且旨在提供瞭解申請專利範圍的性質和特徵的概述或框架。包括附加圖式以提供進一步的理解，且附加圖式包含在本說明書中且構成本說明書的一部分。附加圖式示出了一或多個實施例，且與說明書一起用於解釋各種實施例的原理和操作，其中：

圖1是根據本文描述的一或多個實施例的塗覆製品的橫截面側視圖；

圖2A是根據本文描述的一或多個實施例的塗覆製品的橫截面側視圖；

圖2B是根據本文描述的一或多個實施例的塗覆製品的橫截面側視圖；

圖3是根據本文描述的一或多個實施例的塗覆製品的橫截面側視圖；

圖4是根據本文描述的一或多個實施例的塗覆製品的橫截面側視圖；

圖5是根據本文描述的一或多個實施例的塗覆製品的橫截面側視圖；

圖6是根據本文描述的一或多個實施例之作為圖5的塗覆製品中的距離的函數的折射率的曲線圖；

圖7A至圖7D描繪了根據本文所述的一或多個實施例之玻璃基板上的示例性BaF₂ 塗層的原子力顯微照片；

圖8A至圖8D描繪了根據本文描述的一個或多個實施例之玻璃基板上的沉積在BaF₂ 塗層上的示例性SiN_x 塗層的原子力顯微照片；

圖9是根據本文描述的一或多個實施例之描繪作為例如塗層的波長的函數的總透射率的圖表；

圖10是根據本文描述的一或多個實施例之描繪作為例如塗層的波長的函數的鏡面反射率的圖表；

圖11A及圖11B是其上具有光改變特徵的基板表面的原子力顯微照片；

圖12A及圖12B是圖11A及11B中的基板表面的原子力顯微照片，圖11A及圖11B分別具有設置在其上之根據本文所述的一或多個實施例的光學塗層；

圖13A是用於其上具有光改變特徵的基板之每個楊氏模量（在左y軸上的GPa中）和硬度（在右y軸上的GPa中）與在表面中的位移（在x軸上以nm為單位）的曲線圖；

圖13B是用於其上具有根據本文所述的一或多個實施例的光改變特徵及光學塗層的基板之每個楊氏模量（在左y軸上的GPa中）和硬度（在右y軸上的GPa中）與在表面中的位移（在x軸上以nm為單位）的曲線圖；

圖14是y軸上的第一表面反射率（以％表示）相對於基板(該等基板包括具有設置在其上之根據本文所描述的一或多個實施例的光改變特徵和光學塗層的那些基板)的x軸上的波長（以nm為單位）的曲線圖；

圖15是y軸上的透射率（以％表示）相對於基板(該等基板包括具有設置在其上之根據本文所描述的一或多個實施例的光改變特徵和光學塗層的那些基板)的x軸上的波長（以nm為單位）的曲線圖；

圖16是用於基板的光色坐標（在D65照射下針對各種視角的第一表面反射顏色）的圖，該等基板包括具有光改變特徵的那些基板及具有設置在其上之根據本文所描述的一或多個實施例的光改變特徵及光學塗層的那些基板；

圖17是用於基板的光色坐標（在D65照射下在六度入射角處的雙表面透射顏色）的圖，該等基板包括具有光改變特徵的那些基板及具有設置在其上之根據本文所描述的一或多個實施例的光改變特徵及光學塗層的那些基板；

圖18A及圖18B分別是用於玻璃基板和具有根據本文所述的一或多個實施例之光改變特徵和設置在其上的光學塗層兩者的玻璃基板的石榴石(Garnet)刮痕試驗的圖像；

圖19A及圖19B分別是用於玻璃基板和具有根據本文所述的一或多個實施例之光改變特徵和設置在其上的光學塗層兩者的玻璃基板的Taber磨損試驗的圖像；

圖20是用於(例如)根據本文描述的一或多個實施例之具有各種AG（防眩光）霧度的製品的第一表面鏡面反射率（在y軸上以％單位；6度入射角）對波長（在x軸上以nm為單位）的曲線圖；

圖21是用於(例如)根據本文描述的一或多個實施例之具有各種AG霧度的製品的第一表面鏡面反射率（在y軸上以％單位；40度入射角）對波長（在x軸上以nm為單位）的曲線圖；

圖22是用於(例如)根據本文描述的一或多個實施例之具有各種AG霧度的製品的第一表面鏡面反射率（在y軸上以％單位；60度入射角）對波長（在x軸上以nm為單位）的曲線圖；

圖23是用於(例如) 根據本文描述的一或多個實施例之具有各種AG霧度水平的製品的光色坐標（在D65照射下各種入射角的第一表面反射顏色）的圖；

圖24是基板的光澤度（在60度處以沿y軸之單位量測）相對於霧度（沿x軸以％表示）的關係圖，該等基板包含具有光改變特徵的那些基板及具有設置在其上之根據本文所述的一或多個實施例的光改變特徵及光學塗層的那些基板；

圖25是基板的圖像清晰度（DOI）（在20度入射角下以沿y軸之單位量測）與霧度（沿x軸以％表示）的關係圖；該等基板包含具有光改變特徵的那些基板及具有設置在其上之根據本文所述的一或多個實施例的光改變特徵及光學塗層的那些基板；及

圖26是基板的像素功率偏差（PPD）（沿y軸以％表示）與霧度（沿x軸以％表示）的關係圖；該等基板包含具有光改變特徵的那些基板及具有設置在其上之根據本文所述的一或多個實施例的光改變特徵及光學塗層的那些基板。

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100‧‧‧塗覆製品

110‧‧‧基板

112‧‧‧主表面

114‧‧‧主表面

116‧‧‧副表面

118‧‧‧副表面

120‧‧‧光學塗層

122‧‧‧空氣側表面

Claims (29)

1. 一種塗覆製品，包括：一透明基板，該透明基板具有一主表面，該主表面包括引起光散射的一粗糙表面；一光學塗層，該光學塗層設置在該透明基板的該主表面上並形成一空氣側表面，該光學塗層包括一或多層材料，該光學塗層具有大於200nm的一物理厚度；其中該塗覆製品顯現藉由Berkovich壓頭硬度試驗在該空氣側表面上沿著約50nm或更大的一壓痕深度所量測的一最大硬度為約10GPa或更高，其中該主表面包括以下中的至少一者的一粗糙度：R_q為100nm或更大，及(ii)R_a為100nm或更大，及進一步其中該空氣側表面包括以下中的至少一者的一粗糙度：R_q為100nm或更大，及(ii)R_a為100nm或更大。
2. 如請求項1所述的塗覆製品，其中該光學塗層的物理厚度大於該粗糙表面的R_a或R_q。
3. 如請求項1所述的塗覆製品，其中該光學塗層具有大於250nm的一物理厚度。
4. 如請求項1所述的塗覆製品，進一步包括小於4.5%的一雙側鏡面反射率(SCI-SCE)。
5. 如請求項1所述的塗覆製品，進一步包括小於約0.5%的單側鏡面反射率為適光平均值。
6. 如請求項1所述的塗覆製品，進一步包括以下至少一者的單側鏡面反射率：從接近垂直入射角到高達40度的入射角下小於約0.5%；及在60度入射角下低於3%。
7. 如請求項1所述的塗覆製品，進一步包括大於約0.05及小於或等於約3.0的一雙側漫射反射率(SCE)。
8. 如請求項1所述的塗覆製品，進一步包括小於約5.5的一雙側全反射率(SCI)。
9. 如請求項1所述的塗覆製品，進一步包含一a*和b*反射顏色值，該等值具有小於16的一絕對值。
10. 如請求項1所述的塗覆製品，進一步包括：一a*及/或b*，其絕對值為大於約6；及在該主表面上的一透射霧度值為小於10%。
11. 如請求項1所述的塗覆製品，進一步包括：a*及/或b*的絕對值為小於6；及在該主表面上的一透射霧度值為大於10%。
12. 如請求項1所述的塗覆製品，進一步包括小於95的一20度DOI。
13. 如請求項1所述的塗覆製品，進一步包括小於80的一60度光澤度值。
14. 如請求項1所述的塗覆製品，進一步包括高於80%的一總透光率。
15. 如請求項1所述的塗覆製品，進一步包括藉由像素功率偏差(PPD)量測的一閃光效能為小於10%。
16. 如請求項1所述的塗覆製品，其中在以4kg負荷及以25循環/分鐘的一速率進行一次循環所進行的150粒度的一石榴石(Garnet)刮痕試驗之後，該製品包括以下中的至少一者：一雙側鏡面反射率(SCI-SCE)：小於6.0%；及/或從一未磨損值改變小於2.0%；一雙側漫射反射率(SCE)：小於3.0%；及/或從該未磨損值改變小於1.0%；及一雙側全反射率(SCI)：小於6.0%，從該未磨損值改變小於2.0%。
17. 如請求項1所述的塗覆製品，其中在使用400粒度Kovax研磨紙、及在1kg總重量的負荷下以25循環/分鐘的一速率進行50次循環的一Taber 磨損試驗之後，該製品包括以下中的至少一者：一雙側鏡面反射率(SCI-SCE)：小於7.5%；及/或從該未磨損值改變小於3.0%；一雙側漫射反射率(SCE)：小於5.0%；及/或從該未磨損值改變小於3.0%；及/或一雙側全反射率(SCI)：小於8.0%；及/或從該未磨損值改變小於3.0%。
18. 如請求項1所述的塗覆製品，進一步包括一種硬度：12GPa或更高。
19. 如請求項1所述的塗覆製品，進一步包括至少12GPa或更大的一硬度和大於300nm的一光學塗層厚度。
20. 如請求項1所述的塗層製品，進一步包括至少14GPa或更高的一硬度和至少500nm的一光學塗層厚度。
21. 如請求項1所述的塗層製品，其中國際照明光源委員會的L*a*b*比色法系統在垂直入射下的該製品透射率及/或反射率色座標顯現出小於約10之從在該空氣側表面所量測的一參考點開始的一參考點色移，該參考點包括色座標(a*=0，b*=0)及(a*=-2，b*=-2)或該基板之相應的透射率或反射率色座標，其中： 當該參考點是色座標(a*=0，b*=0)時，色移由√((a*_製品)²+(b*_製品)²)定義；當該參考點是色座標(a*=-2，b*=-2)時，色移由√((a*_製品+2)²+(b*_製品+2)²)定義；及當該參考點是該基板的色坐標時，色移由√((a*_製品-a*_基板)²+(b*_製品-b*_基板)²)定義。
22. 如請求項1所述的塗覆製品，其中該基板的該主表面的該粗糙表面包括多個光改變噴砂特徵。
23. 如請求項22所述的塗覆製品，其中該塗覆製品顯現從約4%至約60%的一透射霧度及從450nm至650nm於入射角從6°至40°的一單側鏡面反射率小於約0.5%。
24. 如請求項23所述的塗覆製品，其中該光學塗層進一步包括複數個交替的高折射率層與低折射率層，及進一步其中每個高折射率層包括一氮化物或一氧氮化物及每個低折射率層包括一氧化物。
25. 如請求項1所述的塗覆製品，其中該塗覆製品具有約50%或更高的一平均適光透射率。
26. 一種電子裝置，其包括如請求項1-25中任一項的塗覆製品。
27. 一種塗覆製品，包括：一透明基板，該透明基板具有一主表面，該主表面 包括引起光散射的一粗糙表面；及一光學塗層，該光學塗層設置在該透明基板的該主表面上並形成一空氣側表面，該光學塗層包括一或多層材料，該光學塗層具有從約100nm至約10微米的一物理厚度；其中該塗覆製品顯現藉由Berkovich壓頭硬度試驗在該空氣側表面上沿著約50nm或更大的一壓痕深度所量測的一最大硬度為約8GPa或更高，及進一步其中該主表面包括一均方根粗糙度(R_q)為從20nm至2000nm。
28. 一種塗覆製品，包括：一透明基板，該透明基板具有一主表面，該主表面包括一紋理化光散射表面；及一光學塗層，該光學塗層設置在該透明基板的該主表面上並形成一空氣側表面，該光學塗層包括一或多層材料，該光學塗層具有從約100nm至約10微米的一物理厚度；其中該塗覆製品顯現藉由Berkovich壓頭硬度試驗在該空氣側表面上沿著約50nm或更大的一壓痕深度所量測的一最大硬度為約8GPa或更高，及進一步其中該塗覆製品包括一單側鏡面適光平均值反射率為約1%或更小。
29. 一種塗覆製品，包括：一透明基板，該透明基板具有一主表面；一光學塗層，該光學塗層設置在該透明基板的該主表面上並形成一空氣側表面，該光學塗層包括一或多層材料；及複數個光改變特徵，該複數個光改變特徵引起光散射，其中該光學塗層與該基板的該主表面中的一者或多者包括該複數個光改變特徵，其中該塗覆製品顯現藉由Berkovich壓頭硬度試驗在該空氣側表面上沿著約50nm或更大的一壓痕深度所量測的一最大硬度為約8GPa或更高，及其中該塗覆製品包括一單側鏡面適光平均值反射率為約1%或更小。