CN105445820A - 光学膜组件 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种光学膜组件，包含一基板、一抗眩层、一第一抗反射层以及一第二抗反射层。抗眩层设置于基板上，且抗眩层具有一微粗糙结构，位于相反于基板的一侧。第一抗反射层设置于抗眩层的微粗糙结构上，且抗眩层位于基板以及第一抗反射层之间。第二抗反射层设置于第一抗反射层上，且第一抗反射层位于抗眩层以及第二抗反射层之间。其中，第一抗反射层的折射率相异于抗眩层的折射率。藉此，本发明可以提升光学膜组件的抗眩以及抗反射的功效，同时亦可具有高穿透效果。

Description

光学膜组件

技术领域

本发明是关于一种光学膜组件，尤其是一种具有良好抗眩以及抗反射的光学膜组件。

背景技术

随着科技的发展，目前各种电子产品已广泛地使用触控面板(touchpanel)。此外，为了减轻电子产品的重量以达到「轻薄短小」的目标，因此在设计电子产品时常会省略例如键盘等传统输入设备。也就是说，目前触控面板已成为电子产品的重要组件。

如上所述，触控面板的质量已成为衡量电子产品优劣的重要因素。因此，如何提升触控面板的各种光学特性、用户的使用体验就成为重要的课题。目前来说，为了避免触控面板的表面脏污，一般会在触控面板上设置抗污膜。另一方面，为了提升触控面板的出光量，也会在触控面板上设置抗反射膜。再者，目前也有在触控面板上设置抗眩膜，以降低触控面板眩光的现象。一般来说，抗眩膜设置于抗反射膜上。然而，这种抗眩膜迭设于抗反射膜设置方式，抗眩膜会减少光线进入抗反射膜的比例，进而降低穿透率，影响亮度，更同时影响抗眩膜以及抗反射膜个别的抗眩效果以及抗反射效果。

因此，目前同时在触控面板上设置多层不同种类的薄膜仍较为困难，而使得触控面板难以满足使用者的各种需求。因此，这就成为了研究人员需要解决的问题。

发明内容

是以本发明提供一种光学膜组件，藉以解决上述多层薄膜迭设时无法同时发挥个别之特定效果。

本发明的实施例揭露一种光学膜组件，其包含一基板、一抗眩层、一第一抗反射层以及一第二抗反射层。抗眩层设置于基板上，且抗眩层具有一微粗糙结构，位于相反于基板的一侧。第一抗反射层设置于抗眩层的微粗糙结构上，且抗眩层位于基板以及第一抗反射层之间。第二抗反射层设置于第一抗反射层上，且第一抗反射层位于抗眩层以及第二抗反射层之间。其中，第一抗反射层的折射率相异于抗眩层的折射率。如此的配置，可以同时提升光学膜组件的抗眩以及抗反射的功效。

在本发明的部分实施例中的光学膜组件，其中第一抗反射层之折射率大于抗眩层的折射率。

在本发明的部分实施例中的光学膜组件，其中第一抗反射层之折射率大于1.8，第二抗反射层之折射率小于1.5。

在本发明的部分实施例中的光学膜组件，其中第一抗反射层之折射率大于第二抗反射层之折射率。

在本发明的部分实施例中的光学膜组件，其中抗眩层的成分包含SiO2，第一抗反射层之成分系选自于SiO2、Nb2O5、TiO2、Ta2O5、SiOxNy、Si3N4及Ti3O5所组成之群组，其中第二抗反射层之成分系选自于SiO2及MgF2所组成之群组。

在本发明的部分实施例中的光学膜组件，另包含一抗污层，设置于第二抗反射层上，该第二抗反射层位于第一抗反射层以及抗污层之间。

在本发明的部分实施例中的光学膜组件，其中第一抗反射层以及第二抗反射层之总厚度介于225奈米(nanometer，nm)以及255奈米之间，抗眩层之厚度小于100奈米。

在本发明的部分实施例中的光学膜组件，其中微粗糙结构具有多个凸起部以及多个凹陷部，凹陷部形成于凸起部之间，且第一抗反射层的一部份系位于凹陷部上。

在本发明的部分实施例中的光学膜组件，其中抗眩层具有彼此相对的一第一侧以及一第二侧，凸起部的尺寸自第一侧朝向第二侧缩小。

在本发明的部分实施例中的光学膜组件，其中微粗糙结构为不规则形状。

综合上述，本发明所揭露的光学膜组件，其抗眩层位于基板以及第一抗反射层之间，抗眩层的微粗糙结构面对于第一抗反射层，且抗眩层的折射率系相异于第一抗反射层。如此的光学膜组件，抗眩层以及第一抗反射层仍能分别具有良好的抗眩层以及抗反射效果，同时亦可具有高穿透效果。

在部分实施例中，光学膜组件更可包含一抗污层，设置于第二抗反射层，进而更达到抗污的效果。

以上之关于本发明内容之说明及以下之实施方式之说明系用以示范与解释本发明之原理，并且提供本发明之专利申请范围更进一步之解释。

附图说明

图1为根据本发明第一实施例的光学膜组件的局部剖切示意图。

图2为根据本发明第一实施例的光学膜组件的抗眩层以及第一抗反射层的局部放大剖切示意图。

图3为根据本发明第二实施例的光学膜组件的抗眩层以及第一抗反射层的局部放大剖切示意图。

图4为根据本发明第三实施例的光学膜组件的抗眩层以及第一抗反射层的局部放大剖切示意图。

图5为根据本发明第四实施例的光学膜组件的抗眩层以及第一抗反射层的局部放大剖切示意图。

图6为根据本发明第五实施例的光学膜组件的局部剖切示意图。

具体实施方式

以下在实施方式中详细叙述本发明之详细特征以及优点，其内容足以使任何熟习相关技艺者了解本发明之技术内容并据以实施，且根据本说明书所揭露之内容、申请专利范围及图式，任何熟习相关技艺者可轻易地理解本发明相关之目的及优点。以下之实施例系进一步详细说明本发明之观点，但非以任何观点限制本发明之范畴。

本发明的实施例揭露一种光学膜组件，其可贴附于一对象表面上，对象例如是一显示面板或显示面板上的一触控模块。此光学膜组件用以保护对象直接暴露于外界，并具有良好的抗眩层以及抗反射效果。

以下介绍本发明的光学膜组件。请参照『图1』，其为根据本发明第一实施例的光学膜组件的局部剖切示意图。

光学膜组件1包含依序迭设的一基板100、一抗眩层200、一第一抗反射层300以及一第二抗反射层400。也就是说，抗眩层200设置于基板100上，第一抗反射层300设置于抗眩层200上，以使抗眩层200介于基板100以及第一抗反射层300之间。第二抗反射层400设置于第一抗反射层300上，以使第一抗反射层300介于抗眩层200以及第二抗反射层400之间。

基板100用以承载其他膜层(例如本实施例的抗眩层200、第一抗反射层300以及第二抗反射层400)，且用以接触于对象(例如上述的显示面板，未绘示)。更进一步来说，基板100具有彼此相对的一第一面110以及一第二面120，第一面11用以面对并接触于对象，而第二面面对抗眩层200。在本实施例中，基板100的成分是可透光玻璃或PET(聚对苯二甲酸乙二酯)，但非用以限定本发明。当基板100为玻璃时，其光泽度(Gloss)可为150。

抗眩层200具有一微粗糙结构210，位于相反于基板100的第二面200的一侧，且抗眩层200具有抗眩的功效。在本实施例中，抗眩层200的成分包含SiO2(二氧化硅)，在部分实施例中，抗眩层200的成分包含正硅酸乙酯(tetraethylorthosilicate，TEOS)、酸类、溶剂、醇类、水。此外，抗眩层200之厚度小于100奈米。抗眩层200藉由喷涂或蚀刻的方式设置于基板100上。抗眩层200的光泽度可为115至145之间，但非用以限定本发明。

第一抗反射层300设置于抗眩层200的微粗糙结构210上，而第二抗反射层400设置于第一抗反射层300上。第一抗反射层300以及第二抗反射层400具有抗反射、抗指纹残留以及防污等功效。第二抗反射层400具有一第一上表面410，第一上表面410位于面对第一抗反射层300的相反一侧，并适于暴露于外界。详细来说，第一抗反射层300之成分系选自于SiO2、Nb2O5(五氧化二铌)、TiO2(二氧化钛)、Ta2O5(氧化钽)、SiOxNy(氮氧硅化合物)、Si3N4(氮化硅)及Ti3O5(五氧化三钛)所组成之群组，而第二抗反射层400之成分系选自于SiO2及MgF2(氟化镁)所组成之群组。此外，第一抗反射层300以及第二抗反射层400之总厚度可介于225奈米(nanometer，nm)以及255奈米之间。第一抗反射层300以及第二抗反射层400分别可以利用喷涂、蒸镀或溅镀等方式依序设置。再者，当抗眩层200的光泽度为115至145之间时，抗眩层200、第一抗反射层300以及第二抗反射层400的光线总穿透率约为95.6％，第一抗反射层300以及第二抗反射层400的粗糙度可为0.025μm以下。如此，可降低第一抗反射层300以及第二抗反射层400对于光线的反射，并提高光线穿透率。然而，上述的第一抗反射层300以及第二抗反射层400的成分、制造方式、粗糙度以及总厚度非用以限定本发明，其可根据实际情形进行调整。

需要注意的是，在本发明中，第一抗反射层300的折射率相异于抗眩层200的折射率。如此，当外界光线自第二抗反射层40射至第一抗反射层300以及抗眩层200的交接处的微粗糙结构210时，由于第一抗反射层300以及抗眩层200具有相异的折射率且微粗糙结构210为非平面，光线会于此进行漫散射，以达到抗眩光的效果。此外，第一抗反射层300以及抗眩层200的交接处亦可对来自于基板100的光线(此光线可为来自于显示面板的光线或是基板100所反射的外界光线)进行漫反射，进而加强抗眩光的效果。在部分实施例中，第一抗反射层300之折射率大于抗眩层200的折射率。藉此，更可提升光学膜组件1的抗眩效果。

此外，第一抗反射层300以及抗眩层200可选自不同之材质，而使两者的折射率相异。

在本实施例以及部份的其他实施例中，第一抗反射层300之折射率大于第二抗反射层400之折射率。如此的折射率配置，有利于抗反射的效果。在本实施例以及部份的其他实施例中，第一抗反射层之折射率大于1.8，第二抗反射层之折射率小于1.5。如此的折射率配置，亦可提升光学膜组件1的抗反射效果。

此外，本发明的其他实施例更可配置三层以上的抗反射层，可提升抗反射的效果。光学膜组件1的抗反射层数量系可根据实际需求而进行调整，并非用以限定本发明。

根据上述实施例中的配置中，基板100、抗眩层200、第一抗反射层300以及第二抗反射层400的依序迭设方式，抗眩层200以及第一抗反射层300具有相异的折射率，且抗眩层200以及第一抗反射层300的交接处具有微粗糙结构210。如此的配置方式，不会影响到抗眩层200原先的抗眩效果以及第一抗反射层300以及第二抗反射层400的抗反射。是以，可维持光学膜组件的抗眩以及抗反射的功效。

以下介绍抗眩层200以及第一抗反射层300交接处的详细结构，请同时参照『图1』以及『图2』，其中『图2』为根据本发明第一实施例的光学膜组件的抗眩层以及第一抗反射层的局部放大剖切示意图。

在本发明的部分实施例中的光学膜组件，抗眩层200的微粗糙结构210具有多个凸起部212以及多个凹陷部214，凹陷214部形成于凸起部212之间，且第一抗反射层300的一部份系位于凹陷部214上。微粗糙结构210的粗糙度可为0.25μm以下，在部分实施例中，微粗糙结构的粗糙度可为0.035μm以下，其可根据实际需求进行调整。换句话说，当配制第一抗反射层300于抗眩层200上时，系将第一抗反射层300填充(即填满)于凹陷部214所形成的容置空间中，而后第一抗反射层300才配置于凸起部212上。是以，由『图2』可清楚看出，微粗糙结构210与第一抗反射层300之间具有多个不同方向的交接面。当光线经过此交接面处时，可大幅提升光线的漫反射效果。此外，在本实施例中，微粗糙结构210为锥状体(三角体)，但微粗糙结构210的结构形状非用以限定本发明。

以下介绍其他结构形状的微粗糙结构210，请参照『图3』，其为根据本发明第二实施例的光学膜组件的抗眩层以及第一抗反射层的局部放大剖切示意图。在本实施例中，微粗糙结构210为圆状体，如此亦可达到提升抗眩光的效果。

请参照『图4』，其为根据本发明第三实施例的光学膜组件的抗眩层以及第一抗反射层的局部放大剖切示意图。在本实施例中，微粗糙结构210为不规则的形状。如此，不规则形状的微粗糙结构210可使光线经过二不同折射率介质时，增加折射和反射的方向，进而有利于微粗糙结构210对于光线的漫反射效果。

请参照『图5』，其为根据本发明第四实施例的光学膜组件的抗眩层以及第一抗反射层的局部放大剖切示意图。在本实施例中，抗眩层200具有彼此相对的一第一侧220以及一第二侧230，而微粗糙结构210的尺寸自第一侧朝向第二侧缩小。如此微粗糙结构朝向特定方向改变其尺寸的结构，可提升微粗糙结构210对于特定方向或方位的光线的漫反射效果。

『图6』为根据本发明第五实施例的光学膜组件的局部剖切示意图。在本发明的部分实施例中的光学膜组件2，光学膜组件2另包含一抗污层500，设置于第二抗反射层400的第一上表面410上。也就是说，第二抗反射层400位于第一抗反射层300以及抗污层500之间。抗污层500具有第二上表面510，位于相反于第二抗反射层400的的一侧，且第二上表面510系面对外界或暴露于外界。抗污层500可例用喷涂、蒸镀、溅镀配置于第二抗反射层400上。再者，抗污层500的成分可为有机硅氧烷、有机全氟聚醚。当抗污层500具有疏水成分，更可达到疏水而抗污的功效。抗污层500的厚度可为18至25nm，但上述抗污层500的成分以及厚度非用以限定本发明。

综合上述，本发明所揭露的光学膜组件，其抗眩层位于基板以及第一抗反射层之间，抗眩层的微粗糙结构面对于第一抗反射层，且抗眩层的折射率系相异于第一抗反射层。如此的光学膜组件，抗眩层以及第一抗反射层仍能分别具有良好的抗眩层以及抗反射效果，同时亦可具有高穿透效果。

在部分实施例中，光学膜组件更可包含一抗污层，设置于第二抗反射层，进而更达到抗污的效果。

虽然本发明以前述之较佳实施例揭露如上，然其并非用以限定本发明，任何熟习相像技艺者，在不脱离本发明之精神和范围内，当可作些许之更动与润饰，因此本发明之专利保护范围须视本说明书所附之申请专利范围所界定者为准。

Claims (10)

1.一种光学膜组件，包含：

一基板；

一抗眩层，设置于该基板上，该抗眩层具有一微粗糙结构，位于相反于该基板的一侧；

一第一抗反射层，设置于该抗眩层的该微粗糙结构上，该抗眩层位于该基板以及该第一抗反射层之间；以及

一第二抗反射层，设置于该第一抗反射层上，该第一抗反射层位于该抗眩层以及该第二抗反射层之间；

其中，该第一抗反射层的折射率相异于该抗眩层的折射率。

2.如权利要求1所述之光学膜组件，其中该第一抗反射层之折射率大于该抗眩层的折射率。

3.如权利要求1所述之光学膜组件，其中该第一抗反射层之折射率大于1.8，该第二抗反射层之折射率小于1.5。

4.如权利要求1所述之光学膜组件，其中该第一抗反射层之折射率大于该第二抗反射层之折射率。

5.如权利要求1所述之光学膜组件，其中该抗眩层的成分包含SiO2，该第一抗反射层之成分系选自于SiO2、Nb2O5、TiO2、Ta2O5、SiOxNy、Si3N4及Ti3O5所组成之群组，其中该第二抗反射层之成分系选自于SiO2及MgF2所组成之群组。

6.如权利要求1所述之光学膜组件，另包含一抗污层，设置于该第二抗反射层上，该第二抗反射层位于该第一抗反射层以及该抗污层之间。

7.如权利要求1所述之光学膜组件，其中该第一抗反射层以及该第二抗反射层之总厚度介于225奈米以及255奈米之间，该抗眩层之厚度小于100奈米。

8.如权利要求1所述之光学膜组件，其中该微粗糙结构具有多个凸起部以及多个凹陷部，该些凹陷部形成于该些凸起部之间，且该第一抗反射层的一部份系位于该些凹陷部上。

9.如权利要求8所述之光学膜组件，其中该抗眩层具有彼此相对的一第一侧以及一第二侧，该些凸起部的尺寸自该第一侧朝向该第二侧缩小。

10.如权利要求1所述之光学膜组件，其中该微粗糙结构为不规则形状。