JP2011148306A - ガスバリア性積層フィルム - Google Patents
ガスバリア性積層フィルム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011148306A JP2011148306A JP2010285042A JP2010285042A JP2011148306A JP 2011148306 A JP2011148306 A JP 2011148306A JP 2010285042 A JP2010285042 A JP 2010285042A JP 2010285042 A JP2010285042 A JP 2010285042A JP 2011148306 A JP2011148306 A JP 2011148306A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas barrier
- mass
- layer
- thin film
- resin composition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 title claims abstract description 228
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 117
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims abstract description 97
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 65
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 48
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 48
- 229920000219 Ethylene vinyl alcohol Polymers 0.000 claims abstract description 39
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 claims abstract description 34
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 claims abstract description 34
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims abstract description 33
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims abstract description 30
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 claims abstract description 23
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 209
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 60
- 239000005001 laminate film Substances 0.000 claims description 59
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 35
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 25
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims description 23
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 15
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 10
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 8
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 6
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims description 5
- 229910021647 smectite Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 78
- 230000007774 longterm Effects 0.000 abstract description 11
- 230000007423 decrease Effects 0.000 abstract description 9
- 238000012545 processing Methods 0.000 abstract description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 209
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 73
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 57
- 238000000034 method Methods 0.000 description 54
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 47
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 47
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 35
- UFRKOOWSQGXVKV-UHFFFAOYSA-N ethene;ethenol Chemical compound C=C.OC=C UFRKOOWSQGXVKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- 239000004715 ethylene vinyl alcohol Substances 0.000 description 31
- -1 organic EL elements Substances 0.000 description 31
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 28
- 239000002987 primer (paints) Substances 0.000 description 28
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 25
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 23
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 22
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 21
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 20
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 18
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 16
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 16
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 14
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 14
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 13
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 12
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 10
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 10
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 10
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 10
- 229920001634 Copolyester Polymers 0.000 description 9
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 9
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 9
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 9
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 9
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 description 9
- 239000008213 purified water Substances 0.000 description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 8
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 8
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 7
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 7
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 7
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 7
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 7
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 7
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 7
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 7
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000003729 cation exchange resin Substances 0.000 description 6
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 6
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 6
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 6
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N urea group Chemical group NC(=O)N XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 5
- GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dioxosilane;oxygen(2-);hydrate Chemical compound O.[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 5
- 229910052901 montmorillonite Inorganic materials 0.000 description 5
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 5
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 5
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 5
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IVORCBKUUYGUOL-UHFFFAOYSA-N 1-ethynyl-2,4-dimethoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(C#C)C(OC)=C1 IVORCBKUUYGUOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 4
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- WOZVHXUHUFLZGK-UHFFFAOYSA-N dimethyl terephthalate Chemical compound COC(=O)C1=CC=C(C(=O)OC)C=C1 WOZVHXUHUFLZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 4
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 4
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 4
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J zirconium tetrachloride Chemical compound Cl[Zr](Cl)(Cl)Cl DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 4
- AIFLGMNWQFPTAJ-UHFFFAOYSA-J 2-hydroxypropanoate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CC(O)C([O-])=O.CC(O)C([O-])=O.CC(O)C([O-])=O.CC(O)C([O-])=O AIFLGMNWQFPTAJ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 3
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 238000009998 heat setting Methods 0.000 description 3
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 3
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 3
- 229960004592 isopropanol Drugs 0.000 description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012785 packaging film Substances 0.000 description 3
- 229920006280 packaging film Polymers 0.000 description 3
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 3
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 3
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AZOOXWWPWARTFV-UHFFFAOYSA-N zirconium hydrochloride Chemical compound Cl.[Zr] AZOOXWWPWARTFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PTBDIHRZYDMNKB-UHFFFAOYSA-N 2,2-Bis(hydroxymethyl)propionic acid Chemical compound OCC(C)(CO)C(O)=O PTBDIHRZYDMNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004970 Chain extender Substances 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N Peracetic acid Chemical compound CC(=O)OO KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001273 Polyhydroxy acid Polymers 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JSIVLBGUDVQDHZ-UHFFFAOYSA-J [Cl-].[Cl-].[Cl-].O[Zr+3] Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].O[Zr+3] JSIVLBGUDVQDHZ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HPTYUNKZVDYXLP-UHFFFAOYSA-N aluminum;trihydroxy(trihydroxysilyloxy)silane;hydrate Chemical compound O.[Al].[Al].O[Si](O)(O)O[Si](O)(O)O HPTYUNKZVDYXLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LHIJANUOQQMGNT-UHFFFAOYSA-N aminoethylethanolamine Chemical compound NCCNCCO LHIJANUOQQMGNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 2
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001919 chlorite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052619 chlorite group Inorganic materials 0.000 description 2
- QBWCMBCROVPCKQ-UHFFFAOYSA-N chlorous acid Chemical compound OCl=O QBWCMBCROVPCKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 2
- ZQMIGQNCOMNODD-UHFFFAOYSA-N diacetyl peroxide Chemical compound CC(=O)OOC(C)=O ZQMIGQNCOMNODD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RHMZKSWPMYAOAZ-UHFFFAOYSA-N diethyl peroxide Chemical compound CCOOCC RHMZKSWPMYAOAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VNGOYPQMJFJDLV-UHFFFAOYSA-N dimethyl benzene-1,3-dicarboxylate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC(C(=O)OC)=C1 VNGOYPQMJFJDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 2
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 2
- BXKDSDJJOVIHMX-UHFFFAOYSA-N edrophonium chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](C)(C)C1=CC=CC(O)=C1 BXKDSDJJOVIHMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 229910052621 halloysite Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L iron(2+) sulfate (anhydrous) Chemical compound [Fe+2].[O-]S([O-])(=O)=O BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 2
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 2
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- JTQPTNQXCUMDRK-UHFFFAOYSA-N propan-2-olate;titanium(2+) Chemical compound CC(C)O[Ti]OC(C)C JTQPTNQXCUMDRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical class [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 2
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003755 zirconium compounds Chemical class 0.000 description 2
- OERNJTNJEZOPIA-UHFFFAOYSA-N zirconium nitrate Chemical compound [Zr+4].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O OERNJTNJEZOPIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- XSCLFFBWRKTMTE-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(isocyanatomethyl)cyclohexane Chemical compound O=C=NCC1CCCC(CN=C=O)C1 XSCLFFBWRKTMTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLFLGERUUOMAII-UHFFFAOYSA-N 1-(2-aminoethylamino)propan-1-ol Chemical compound CCC(O)NCCN PLFLGERUUOMAII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZKEUVTROUPQVTM-UHFFFAOYSA-N 1-pentylperoxypentane Chemical compound CCCCCOOCCCCC ZKEUVTROUPQVTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVYDLYGCSIHCMR-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)butanoic acid Chemical compound CCC(CO)(CO)C(O)=O JVYDLYGCSIHCMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 1
- GLVYLTSKTCWWJR-UHFFFAOYSA-N 2-carbonoperoxoylbenzoic acid Chemical compound OOC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O GLVYLTSKTCWWJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYPJRFIBDHNQLY-UHFFFAOYSA-J 2-hydroxypropanoate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CC(O)C([O-])=O.CC(O)C([O-])=O.CC(O)C([O-])=O.CC(O)C([O-])=O LYPJRFIBDHNQLY-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- QHQNYHZHLAAHRW-UHFFFAOYSA-N 2-trimethoxysilylethanamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCN QHQNYHZHLAAHRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJGHYPLBDBRCRZ-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminophenyl)sulfonylaniline Chemical compound NC1=CC=CC(S(=O)(=O)C=2C=C(N)C=CC=2)=C1 LJGHYPLBDBRCRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNJSNEKCXVFDKW-UHFFFAOYSA-N 3-(5-amino-1h-indol-3-yl)-2-azaniumylpropanoate Chemical compound C1=C(N)C=C2C(CC(N)C(O)=O)=CNC2=C1 YNJSNEKCXVFDKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMGBDYLOANULLW-UHFFFAOYSA-N 3-isocyanatopropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN=C=O FMGBDYLOANULLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNTRMVRTACZZIO-UHFFFAOYSA-N 3-isocyanatopropyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCN=C=O NNTRMVRTACZZIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUFCMRCMPHIFTR-UHFFFAOYSA-N 5-(dimethylsulfamoyl)-2-methylfuran-3-carboxylic acid Chemical compound CN(C)S(=O)(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C)O1 DUFCMRCMPHIFTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical class [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRAGBEWQGHCDDU-UHFFFAOYSA-M C([O-])([O-])=O.[NH4+].[Zr+] Chemical compound C([O-])([O-])=O.[NH4+].[Zr+] WRAGBEWQGHCDDU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 102000016938 Catalase Human genes 0.000 description 1
- 108010053835 Catalase Proteins 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 102000004190 Enzymes Human genes 0.000 description 1
- 108090000790 Enzymes Proteins 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N Fe3+ Chemical compound [Fe+3] VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001595840 Margarites Species 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZUYOAAPZVNNSP-UHFFFAOYSA-N N.[Zr+4] Chemical compound N.[Zr+4] BZUYOAAPZVNNSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- 229910052774 Proactinium Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMUZQOKACOLCSS-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)phenyl]methanol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1CO XMUZQOKACOLCSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1CCC(CO)CC1 YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDKMOPWTLFMLHJ-UHFFFAOYSA-K [NH4+].[Zr+3].C(C(O)C)(=O)[O-].C(C(O)C)(=O)[O-].C(C(O)C)(=O)[O-].C(C(O)C)(=O)[O-] Chemical compound [NH4+].[Zr+3].C(C(O)C)(=O)[O-].C(C(O)C)(=O)[O-].C(C(O)C)(=O)[O-].C(C(O)C)(=O)[O-] SDKMOPWTLFMLHJ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 1
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- XRASGLNHKOPXQL-UHFFFAOYSA-L azane 2-oxidopropanoate titanium(4+) dihydrate Chemical compound N.N.O.O.[Ti+4].CC([O-])C([O-])=O.CC([O-])C([O-])=O XRASGLNHKOPXQL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VEGSIXIYQSUOQG-UHFFFAOYSA-N azane;2-hydroxypropanoic acid;zirconium Chemical compound [NH4+].[Zr].CC(O)C([O-])=O VEGSIXIYQSUOQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012754 barrier agent Substances 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910002056 binary alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- MTKOCRSQUPLVTD-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(2+) Chemical compound CCCCO[Ti]OCCCC MTKOCRSQUPLVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNSBYDPZHCQWNB-UHFFFAOYSA-N calcium;aluminum;dioxido(oxo)silane;sodium;hydrate Chemical compound O.[Na].[Al].[Ca+2].[O-][Si]([O-])=O VNSBYDPZHCQWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002775 capsule Substances 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 238000012668 chain scission Methods 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052620 chrysotile Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002734 clay mineral Substances 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- GDVKFRBCXAPAQJ-UHFFFAOYSA-A dialuminum;hexamagnesium;carbonate;hexadecahydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Al+3].[Al+3].[O-]C([O-])=O GDVKFRBCXAPAQJ-UHFFFAOYSA-A 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- 229910001649 dickite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N diethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJIFJEUHCQYNHO-UHFFFAOYSA-N diethoxy-(3-isocyanatopropyl)-methylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCN=C=O PJIFJEUHCQYNHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGANSGVIUGARFR-UHFFFAOYSA-N dipotassium dioxosilane oxo(oxoalumanyloxy)alumane oxygen(2-) Chemical compound [O--].[K+].[K+].O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O YGANSGVIUGARFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBFZBNKJVDQAMA-UHFFFAOYSA-D dipotassium;zirconium(4+);pentacarbonate Chemical compound [K+].[K+].[Zr+4].[Zr+4].[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O WBFZBNKJVDQAMA-UHFFFAOYSA-D 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 229910000271 hectorite Inorganic materials 0.000 description 1
- KWLMIXQRALPRBC-UHFFFAOYSA-L hectorite Chemical compound [Li+].[OH-].[OH-].[Na+].[Mg+2].O1[Si]2([O-])O[Si]1([O-])O[Si]([O-])(O1)O[Si]1([O-])O2 KWLMIXQRALPRBC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 229910001701 hydrotalcite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960001545 hydrotalcite Drugs 0.000 description 1
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 description 1
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910000358 iron sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940035429 isobutyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- 229910052622 kaolinite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- 238000004093 laser heating Methods 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 229910052630 margarite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 229910052627 muscovite Inorganic materials 0.000 description 1
- INJVFBCDVXYHGQ-UHFFFAOYSA-N n'-(3-triethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNCCN INJVFBCDVXYHGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,6-dicarboxylic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJVRJBAUJYZFIX-UHFFFAOYSA-N nitric acid;oxozirconium Chemical compound [Zr]=O.O[N+]([O-])=O.O[N+]([O-])=O UJVRJBAUJYZFIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000006259 organic additive Substances 0.000 description 1
- 230000033116 oxidation-reduction process Effects 0.000 description 1
- 238000006864 oxidative decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- CMOAHYOGLLEOGO-UHFFFAOYSA-N oxozirconium;dihydrochloride Chemical compound Cl.Cl.[Zr]=O CMOAHYOGLLEOGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRTRRDMHGTZPBF-UHFFFAOYSA-L oxygen(2-);zirconium(4+);sulfate Chemical compound [O-2].[Zr+4].[O-]S([O-])(=O)=O QRTRRDMHGTZPBF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 1
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 150000004965 peroxy acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000004968 peroxymonosulfuric acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052628 phlogopite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000747 poly(lactic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000004626 polylactic acid Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellityc acid Natural products OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052903 pyrophyllite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000002040 relaxant effect Effects 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000275 saponite Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000467 secondary amino group Chemical group [H]N([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000010454 slate Substances 0.000 description 1
- JRQGFDPXVPTSJU-UHFFFAOYSA-L sodium zirconium(4+) sulfate Chemical compound [Na+].[Zr+4].[O-]S([O-])(=O)=O JRQGFDPXVPTSJU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- IDOPRZMNYMUGCN-UHFFFAOYSA-K sodium;2-hydroxypropane-1,2,3-tricarboxylate;zirconium(4+) Chemical compound [Na+].[Zr+4].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O IDOPRZMNYMUGCN-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004154 testing of material Methods 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N tetrapropyl silicate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)OCCC ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000012974 tin catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3-isocyanatopropyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN=C=O FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDUKMRHNZZLJRB-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OCC)(OCC)OCC)CCC2OC21 UDUKMRHNZZLJRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWJUTPORTOUFDY-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCOCC1CO1 RWJUTPORTOUFDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWBIFDGMOSWLRQ-UHFFFAOYSA-N trimagnesium;hydroxy(trioxido)silane;hydrate Chemical compound O.[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].O[Si]([O-])([O-])[O-].O[Si]([O-])([O-])[O-] CWBIFDGMOSWLRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N trimellitic anhydride Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNXDCSVNCSSUNB-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCOCC1CO1 ZNXDCSVNCSSUNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBUFXGVMAMMWSD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)propyl]silane Chemical compound C1C(CCC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DBUFXGVMAMMWSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052902 vermiculite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010455 vermiculite Substances 0.000 description 1
- 235000019354 vermiculite Nutrition 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- LJQSESUEJXAKBR-UHFFFAOYSA-J zirconium(4+) tetrachloride octahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.O.O.[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Zr+4] LJQSESUEJXAKBR-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- XJUNLJFOHNHSAR-UHFFFAOYSA-J zirconium(4+);dicarbonate Chemical compound [Zr+4].[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O XJUNLJFOHNHSAR-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- ZXAUZSQITFJWPS-UHFFFAOYSA-J zirconium(4+);disulfate Chemical compound [Zr+4].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O ZXAUZSQITFJWPS-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- ATYZRBBOXUWECY-UHFFFAOYSA-N zirconium;hydrate Chemical compound O.[Zr] ATYZRBBOXUWECY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
- H01L31/042—PV modules or arrays of single PV cells
- H01L31/048—Encapsulation of modules
- H01L31/049—Protective back sheets
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/042—Coating with two or more layers, where at least one layer of a composition contains a polymer binder
- C08J7/0423—Coating with two or more layers, where at least one layer of a composition contains a polymer binder with at least one layer of inorganic material and at least one layer of a composition containing a polymer binder
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/043—Improving the adhesiveness of the coatings per se, e.g. forming primers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/046—Forming abrasion-resistant coatings; Forming surface-hardening coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/048—Forming gas barrier coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/052—Forming heat-sealable coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2423/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Derivatives of such polymers
- C08J2423/02—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Derivatives of such polymers not modified by chemical after treatment
- C08J2423/04—Homopolymers or copolymers of ethene
- C08J2423/08—Copolymers of ethene
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2429/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an alcohol, ether, aldehydo, ketonic, acetal, or ketal radical; Hydrolysed polymers of esters of unsaturated alcohols with saturated carboxylic acids; Derivatives of such polymer
- C08J2429/02—Homopolymers or copolymers of unsaturated alcohols
- C08J2429/04—Polyvinyl alcohol; Partially hydrolysed homopolymers or copolymers of esters of unsaturated alcohols with saturated carboxylic acids
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31652—Of asbestos
- Y10T428/31663—As siloxane, silicone or silane
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31652—Of asbestos
- Y10T428/31667—Next to addition polymer from unsaturated monomers, or aldehyde or ketone condensation product
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31855—Of addition polymer from unsaturated monomers
- Y10T428/31938—Polymer of monoethylenically unsaturated hydrocarbon
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Wrappers (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
【解決手段】プラスチックフィルムの少なくとも一方の表面に、(A)第1無機薄膜層、(C)ガスバリア性樹脂組成物層及び(D)第2無機薄膜層が、他の層を介して又は介さずにこの順に積層されており、(C)ガスバリア性樹脂組成物層が、エチレン−ビニルアルコール系共重合体からなるガスバリア性樹脂(a)と無機層状化合物(b)とカップリング剤及び架橋剤から選ばれる少なくとも1種の添加剤(c)とを含んでなるガスバリア性樹脂組成物から形成され、無機層状化合物(b)の含有量が、ガスバリア性樹脂(a)、無機層状化合物(b)及び前記添加剤(c)の合計100質量%中0.1質量%〜20質量%である。
【選択図】なし
Description
前記(A)第1無機薄膜層及び/又は前記(D)第2無機薄膜層は、酸化ケイ素及び酸化アルミニウムを含む多元系無機酸化物を含有することが好ましい。
まず、本発明で用いるプラスチックフィルムは、有機高分子からなるフィルムであればよく、特に制限はされない。前記有機高分子としては、ポリエステルのほか、ポリアミド、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、全芳香族ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、ポリスチレン、ポリ乳酸等を挙げることができる。
前記プラスチックフィルムの透明度は、特に限定されるものではないが、透明性が求められる包装材料として使用する場合には、50%以上の光線透過率をもつものが望ましい。
なお、前記プラスチックフィルムは、単層型フィルムであってもよいし、積層型フィルムであってもよい。積層型フィルムとする場合の各層のフィルムの種類、積層数、積層方法等は特に限定されず、目的に応じて公知の方法から任意に選択することができる。
前記(A)第1無機薄膜層及び(D)第2無機薄膜層は、金属又は無機酸化物からなる薄膜である。前記金属薄膜を形成する材料は、薄膜にできるものなら特に制限はないが、例えば、マグネシウム、アルミニウム、チタン、クロム、ニッケル、インジウム等が挙げられ、コスト等の観点からアルミニウムが好ましい。また、前記無機酸化物薄膜を形成する材料は、薄膜にできるものなら特に制限はないが、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム等が挙げられ、好ましくは酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウムである。これらの中でも、ガスバリア性に優れることから、酸化ケイ素及び酸化アルミニウムを含む多元系無機酸化物薄膜がより好ましく、酸化ケイ素・酸化アルミニウム二元系無機酸化物薄膜が最も好ましい。ここでいう酸化ケイ素とはSiOやSiO2等の各種珪素酸化物の混合物であり、酸化アルミニウムとは、AlOやAl2O3等の各種アルミニウム酸化物の混合物である。
前記酸化ケイ素及び酸化アルミニウムを含む多元系無機酸化物薄膜は、酸化ケイ素・酸化アルミニウムを含み、さらに他の無機酸化物を含んでいてもよく、このような多元系無機酸化物薄膜もガスバリア性積層体としての効果は大きい。
本発明において(C)ガスバリア性樹脂組成物層は、ガスバリア性樹脂組成物から形成される。前記ガスバリア性樹脂組成物は、エチレン−ビニルアルコール系共重合体(以下、「EVOH」と称することもある)からなるガスバリア性樹脂(a)と無機層状化合物(b)と添加剤(c)とを含んでなる。以下、ガスバリア性樹脂組成物を構成する個々の成分ごとに説明する。
ガスバリア性樹脂(a)として用いることができるEVOHとしては、例えば、エチレン−酢酸ビニル系共重合体をケン化して得られるものが挙げられる。ここで、エチレン−酢酸ビニル系共重合体とは、エチレンと酢酸ビニルと必要に応じてその他の単量体とからなる単量体成分を共重合して得られるものである。エチレン−酢酸ビニル系共重合体において、共重合前の単量体成分におけるエチレン比率(エチレンの含有率)は20モル%〜60モル%であることが好ましく、より好ましくは20〜50モル%である。エチレン比率が20モル%以上であれば、高湿度下におけるガスバリア性がより向上し、また、レトルト処理後のラミネート強度の低下がより抑制される。一方、エチレン比率が60モル%以下であれば、ガスバリア性がより向上する。前記エチレン−酢酸ビニル系共重合体は、酢酸ビニル成分のケン化度が95モル%以上のものが好ましい。酢酸ビニル成分のケン化度が95モル%以上であればガスバリア性や耐油性がより良好となる。
(i)過酸化水素(H2O2)
(ii) M2O2型(M:Na、K、NH4、Rb、Cs、Ag、Li等)
(iii) M’O2型(M’:Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、Cs、Hg等)
(iv) R−O−O−R型(R:アルキル基、以下の「R」も同様):過酸化ジエチル等の過酸化ジアルキル類
(v) R−CO−O−O−CO−R型:過酸化ジアセチル、過酸化ジアミル、過酸化ジベンゾイル等の過酸化アシル等
(vi) 過酸化酸型
a)−O−O−結合を持つ酸:過硫酸(H2SO5)、過リン酸(H3PO5)等
b)R−CO−O−OH:過ギ酸、過酢酸、過安息香酸、過フタル酸等
(vii)過酸化水素包含物:(NaOOH)2/H2O2、(KOOH)2/3H2O2等
これらの中でも特に(i)過酸化水素が、後に還元剤、還元性酵素もしくは触媒を用いて容易に分解できる点で好ましい。
前記無機層状化合物(b)としては、スメクタイト、カオリン、雲母、ハイドロタルサイト、クロライト等の粘土鉱物(その合成品を含む)を挙げることができる。具体的には、モンモリロナイト、バイデライト、サポナイト、ヘクトライト、ソーコナイト、スチーブンサイト、カオリナイト、ナクライト、ディッカイト、ハロイサイト、加水ハロイサイト、テトラシリリックマイカ、ナトリウムテニオライト、白雲母、マーガライト、金雲母、タルク、アンチゴライト、クリソタイル、パイロフィライト、バーミキュライト、ザンソフィライト、緑泥石等を挙げることができる。また前記無機層状化合物(b)として鱗片状シリカ等も使用できる。これらの中でも特に、スメクタイト(その合成品を含む)が、水蒸気バリア性が良好な点で好ましい。なお、無機層状化合物(b)は単独で用いてもよいし2種以上を併用してもよい。
(X,Y)2〜3Z4O10(OH)2・mH2O・(Wω)
(式中、Xは、Al、Fe(III)、Cr(III)を表す。Yは、Mg、Fe(II)、Mn(II)、Ni、Zn、Liを表す。Zは、Si、Alを表す。Wは、K、Na、Caを表す。H2Oは、層間水を表す。m及びωは、正の実数を表す。)
で示されるモンモリロン石群鉱物を使用することができる。これらの中でも、式中のWがNaであるものが水性媒体中でへき開する点から好ましい。
前記添加剤(c)は、カップリング剤及び架橋剤から選ばれる少なくとも1種である。これらの添加剤(c)は、層間接着性の向上に寄与する。カップリング剤は、樹脂組成物に使用されるものであれば特に限定されないが、有機官能基を1種類以上有するシランカップリング剤(以下「有機官能基含有シランカップリング剤」と称することもある)が好ましく、架橋剤としては、水素結合性基用架橋剤が好ましい。添加剤(c)は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
具体的には、エポキシ基含有シランカップリング剤としては、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、3−(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロピルトリメトキシシラン、2−グリシジルオキシエチルトリメトキシシラン、2−グリシジルオキシエチルトリエトキシシラン、3−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。
水溶性ジルコニウム化合物の具体例としては、塩酸化ジルコニウム、ヒドロキシ塩化ジルコニウム、塩基性硫酸ジルコニウム、硝酸ジルコニウム、炭酸ジルコニウムアンモニウム、硫酸ジルコニウムナトリウム、クエン酸ジルコニウムナトリウム、乳酸ジルコニウム、酢酸ジルコニウム、硫酸ジルコニウム、オキシ硫酸ジルコニウム、オキシ硝酸ジルコニウム、塩基性炭酸ジルコニウム、水酸化ジルコニウム、炭酸ジルコニウムカリウム、塩化ジルコニウム、塩化ジルコニウム八水和物、オキシ塩化ジルコニウム、モノヒドロキシトリス(ラクテート)ジルコニウムアンモニウム、テトラキス(ラクテート)ジルコニウムアンモニウム、モノヒドロキシトリス(スレート)ジルコニウムアンモニウム等が挙げられる。これらの中でも、塗布凝集力の向上効果及びラミネート用ガスバリア性樹脂組成物としての安定性の点から、塩酸化ジルコニウム、ヒドロキシ塩化ジルコニウムが好ましく、特に塩酸化ジルコニウムが好ましい。
ガスバリア性樹脂組成物層の形成は、例えば、1)ガスバリア性樹脂組成物を構成する各材料を溶媒に溶解・分散させた塗工液を用意し、これをガスバリア性樹脂組成物層形成面(例えば第1無機薄膜層や後述するアンカーコート層(B)など)に塗工する方法、2)ガスバリア性樹脂組成物を溶融して、ガスバリア性樹脂組成物層形成面に押し出してラミネートする方法、3)ガスバリア性樹脂組成物を構成する各材料を用いてフィルムを別途作成し、これをガスバリア性樹脂組成物層形成面に接着剤等で貼り合わせる方法、などが挙げられる。これらの中でも1)の塗工液を用いる方法が簡便性、生産性等の点で好ましい。なお、この際に(A)第1無機薄膜層上に後述する(B)アンカーコート層を設け、該(B)アンカーコート層面をガスバリア性樹脂組成物層形成面としてガスバリア性樹脂組成物層を設けてもよい。(B)アンカーコート層については後述する。
本発明のガスバリア性積層フィルムにおいては、(A)第1無機薄膜層と(C)ガスバリア性樹脂組成物層との間に、(B)アンカーコート層を有することが好ましい。(B)アンカーコート層を有することにより、(A)第1無機薄膜層と(C)ガスバリア性樹脂組成物層との接着力をより向上させることができる。なお、(B)アンカーコート層は、(A)第1無機薄膜層と(C)ガスバリア性樹脂組成物層との間に限らず、例えば(C)ガスバリア性樹脂組成物層と(D)第2無機薄膜層との間に設けてもよい。
本発明のガスバリア性積層フィルムにおいては、プラスチックフィルムと(A)第1無機薄膜層との間に、プライマーコート層を有することが好ましい。プライマーコート層を有することにより、ガスバリア性積層フィルムの平面性が向上し、プラスチックフィルムと(A)第1無機薄膜層との接着力もより向上する。
プライマーコート層用塗工液には、樹脂成分と溶媒のほかに、必要に応じて、静電防止剤、滑り剤、アンチブロッキング剤等の公知の無機または有機の各種添加剤を含有させてもよい。
本発明のガスバリア性積層フィルムは、プラスチックフィルム側から、少なくとも(A)第1無機薄膜層/(C)ガスバリア性樹脂組成物層/(D)第2無機薄膜層を順に有しているが、この積層構成に限定されず、例えば上述した(B)アンカーコート層を適宜組合わせることができる。そのような積層構成としては、例えば、態様(i)(A)第1無機薄膜層/(B)アンカーコート層/(C)ガスバリア性樹脂組成物層/(D)第2無機薄膜層;態様(ii)(A)第1無機薄膜層/(B1)第1アンカーコート層/(C1)第1ガスバリア性樹脂組成物層/(D)第2無機薄膜層/(B2)第2アンカーコート層/(C2)第2ガスバリア性樹脂組成物層;等が挙げられる。これらの中では、態様(i)が好ましい。
また本発明のガスバリア性積層フィルムの積層構成においては、プライマーコート層を組合わせることもでき、上述したように、プラスチックフィルムと(A)第1無機薄膜層の間にプライマーコート層を設ける態様も好ましい。例えば上記態様(i)、(ii)の場合、ガスバリア性樹脂組成物層と第2無機薄膜層との間にプライマーコート層を設けてもよい。
さらに本発明のガスバリア性積層フィルムにおいては、プラスチックフィルムの両面に上記の各層を設けてもよい。この場合、両面で積層構成や各層の組成が異なっていてもよい。
本発明のガスバリア性積層フィルムは、食品包装用途をはじめ様々な用途に用いることができ、それに合わせて、ヒートシール層、印刷層、他の樹脂フィルム、これらの層を接着するための接着剤層などの1種以上を設けることができる。これらその他の層を積層する際には、例えば、本発明のガスバリア性積層フィルムのいずれかの層の上に直接溶融押し出しラミネートする方法、コーティングによる方法、フィルム同士を直接または接着剤を介してラミネートする方法など、公知の手段を採用すればよい。また、高いバリア性が求められる場合には、本発明のガスバリア性積層フィルムを2枚以上積層することもできる。
1−1.評価用ラミネートガスバリア性積層フィルムの作製
ガスバリア性積層フィルムNo.1〜17の第2無機薄膜層(No.13、17ではガスバリア性樹脂組成物層)の上に、ウレタン系2液硬化型接着剤を用いたドライラミネート法により、ヒートシール層として無延伸ポリプロピレンフィルム(東洋紡績社製「P1147」:厚さ70μm)を貼り合わせ、40℃にて4日間エージングを施すことにより、評価用のラミネートガスバリア性積層フィルム(以下「評価用ラミネートフィルム」と称することもある)を得た。なお、ウレタン系2液硬化型接着剤で形成される接着剤層の乾燥後の厚さは3μmであった。
評価用ラミネートフィルムを幅15mm、長さ200mmに切り出して試験片とし、温度23℃、相対湿度65%の条件下で、テンシロン万能材料試験機(東洋ボールドウイン社製「テンシロンUMT−II−500型」)を用いてラミネート強度(レトルト処理前)を測定した。なお、ラミネート強度の測定は、引張速度を200mm/分とし、ガスバリア性積層フィルムと無延伸ポリプロピレンフィルムとの間に水をつけて、剥離角度90度で剥離させたときの強度を測定した。
他方、評価用ラミネートフィルムに対して、温度121℃、圧力0.2MPa(2kgf/cm2)の水蒸気中に保持するレトルト処理を30分間施した後、40℃で24時間乾燥し、得られたレトルト処理後のラミネートフィルムについて、上記と同様にして試験片を切り出し、ラミネート強度(レトルト処理後)を測定した。
評価用ラミネートフィルムについて、JIS−K7126−2の電解センサー法(付属書A)に準じて、酸素透過度測定装置(MOCON社製「OX−TRAN 2/20」)を用い、温度23℃、湿度65%RHの雰囲気下で酸素透過度(レトルト処理前)を測定した。
他方、評価用ラミネートフィルムに対して、温度121℃、圧力0.2MPa(2kgf/cm2)の水蒸気中に保持するレトルト処理を30分間施した後、40℃で24時間乾燥し、得られたレトルト処理後のラミネートフィルムについて、上記と同様にして酸素透過度(レトルト処理後)を測定した。
評価用ラミネートフィルムについて、JIS−K7129−B法に準じて、水蒸気透過度測定装置(MOCON社製「PERMATRAN−W 3/33MG」)を用い、温度40℃、湿度100%RHの雰囲気下で、水蒸気透過度(レトルト処理前)を測定した。なお、測定においては、評価用ラミネートフィルムのプラスチックフィルム側からガスバリア性樹脂組成物層側に向けて水蒸気が透過するよう配置し、調湿した。
他方、評価用ラミネートフィルムに対して、温度121℃、圧力0.2MPa(2kgf/cm2)の水蒸気中に保持するレトルト処理を30分間施した後、40℃で24時間乾燥し、得られたレトルト処理後のラミネートフィルムについて、上記と同様にして水蒸気透過度(レトルト処理後)を測定した。
2−1.プラスチックフィルムの作製
固有粘度(30℃、フェノール/テトラクロロエタン(質量比)=60/40)が0.62であり、シリカを100ppm含むポリエチレンテレフタレート(PET)を予備結晶化した後、本乾燥し、Tダイを有する押出し機を用いて280℃で押出し、表面温度40℃のドラム上で急冷固化させて無定形シートを得た。次に、この無定形シートを加熱ロールと冷却ロールとの間で縦方向に100℃にて4倍に延伸し、プラスチックフィルムとして一軸延伸PETフィルムを得た。
メタキシリレンジイソシアネート(MXDI)45.59質量部、水添キシリレンジイソシアネート(水添XDI(1,3−ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサン))93.9質量部、エチレングリコール24.8質量部、ジメチロールプロピオン酸13.4質量部及び溶剤としてメチルエチルケトン80.2質量部を混合し、窒素雰囲気下70℃で5時間反応させた。得られたカルボキシル基含有ウレタンプレポリマー溶液を40℃にてトリエチルアミン9.6質量部で中和した。このウレタンプレポリマー溶液を624.8質量部の水にホモディスパーにより分散させ、2−[(2−アミノエチル)アミノ]エタノール21.1質量部で鎖伸長反応を行った後、メチルエチルケトンを留去することにより、固形分25質量%、平均粒子径90nmの水分散型ポリウレタン樹脂を得た。この樹脂の酸価は26.9mgKOH/gであり、ウレタン基濃度及びウレア基濃度の合計は39.6質量%であった。これを水で希釈し、固形分15質量%のポリウレタン樹脂水分散液とした。
ウレタン系樹脂(三井化学社製「タケラック(登録商標)A525−S」)に、イソシアネート系硬化剤(三井化学社製「タケラック(登録商標)A−50」)を添加し、溶媒として酢酸エチルを用い、固形分濃度が6.5質量%になるよう調製した。ここに、エポキシ系シランカップリング剤(信越化学工業社製「KBM403」)を、アンカーコート用樹脂組成物(樹脂、硬化剤及びシランカップリング剤の合計100質量%)中の含有量が5質量%となるように添加し、得られた樹脂組成物をアンカーコート層用塗工液(アンカーコート用樹脂組成物)とした。
<エチレン−ビニルアルコール系共重合体溶液の調製>
精製水20.996質量部とn−プロピルアルコール(NPA)51質量部との混合溶媒に、エチレン−ビニルアルコール共重合体(日本合成化学社製「SG−525」;エチレン−酢酸ビニル共重合体をケン化して得られた重合体、エチレン比率26モル%、酢酸ビニル成分のケン化度約100%(以下「EVOH」と略記することがある))15質量部を加え、さらに過酸化水素水(濃度30質量%)13質量部と硫酸鉄(FeSO4)0.004質量部とを添加し、撹拌下で80℃まで加温して約2時間反応させた。その後、反応液を冷却し、カタラーゼを3000ppmになるように添加することにより残存過酸化水素を除去して、固形分15質量%のほぼ透明なエチレン−ビニルアルコール共重合体溶液(EVOH溶液)を得た。
精製水40質量%、n−プロピルアルコール(NPA)60質量%からなる混合溶剤70質量部に、完全けん化ポリビニルアルコール樹脂(日本合成化学社製「ゴーセノール(登録商標)NL−05」;けん化度99.5%以上)30質量部を加えて溶解させて、固形分30質量%の透明なポリビニルアルコール樹脂溶液(PVA溶液)を得た。
無機層状化合物であるモンモリロナイト(クニミネ工業社製「クニピア(登録商標)F」)4質量部を精製水96質量部中に攪拌しながら添加し、高圧分散装置にて圧力50MPaの設定にて充分に分散させた。その後、40℃にて1日間保温して、固形分4質量%の無機層状化合物分散液を得た。
架橋剤:塩酸化ジルコニウム(第一稀元素化学工業社製「ジルコゾール(登録商標)Zc−20」;固形分20質量%)
架橋剤:チタンラクテート(松本製薬工業社製「オルガチックス(登録商標)TC−310」;固形分約45質量%)
シランカップリング剤:3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン(信越化学社製「KBE−403」;固形分100質量%)
<調製例1>
混合溶剤A(精製水:n−プロピルアルコール(質量比)=40:60)62.30質量部に、EVOH溶液を31.75質量部添加し、充分に攪拌混合した。更にこの溶液に、高速攪拌を行いながら無機層状化合物分散液5.95質量部を添加した。この分散液100質量部に対して、3質量部の陽イオン交換樹脂を添加し、イオン交換樹脂の破砕が起きない程度の攪拌速度で1時間攪拌して陽イオンの除去を行った後、陽イオン交換樹脂のみをストレーナで濾別した。
以上の操作から得られた分散液を、更に高圧分散装置にて圧力50MPaの設定で分散処理した。分散処理した混合液97質量部に対して、添加剤として架橋剤(塩酸化ジルコニウム)0.75質量部、精製水0.9質量部、NPA1.35質量部を添加し混合攪拌を行い、それを255メッシュ(目開き60μm)のフィルターにて濾過し、固形分5質量%のガスバリア性樹脂組成物層形成用塗工液No.1を得た。
混合溶剤A、EVOH溶液及び無機層状化合物分散液の使用量を、混合溶剤A65.76質量部、EVOH溶液33.00質量部、無機層状化合物分散液1.24質量部に変更したこと以外は調製例1と同様にして、固形分5質量%のガスバリア性樹脂組成物層形成用塗工液No.2を得た。
混合溶剤A、EVOH溶液及び無機層状化合物分散液の使用量を、混合溶剤A64.00質量部、EVOH溶液32.36質量部、無機層状化合物分散液3.64質量部に変更したこと以外は調製例1と同様にして、固形分5質量%のガスバリア性樹脂組成物層形成用塗工液No.3を得た。
混合溶剤A、EVOH溶液及び無機層状化合物分散液の使用量を、混合溶剤A66.21質量部、EVOH溶液33.17質量部、無機層状化合物分散液0.62質量部に変更したこと以外は調製例1と同様にして、固形分5質量%のガスバリア性樹脂組成物層形成用塗工液No.4を得た。
混合溶剤A、EVOH溶液及び無機層状化合物分散液の使用量を、混合溶剤A60.67質量部、EVOH溶液31.15質量部、無機層状化合物分散液8.18質量部に変更したこと以外は調製例1と同様にして、固形分5質量%のガスバリア性樹脂組成物層形成用塗工液No.5を得た。
添加剤をシランカップリング剤(3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン)0.15質量部に変更し、精製水及びNPAの使用量を、精製水1.14質量部、NPA1.71質量部に変更したこと以外は調製例1と同様にして、固形分5質量%のガスバリア性樹脂組成物層形成用塗工液No.6を得た。
添加剤を架橋剤(チタンラクテート)0.33質量部に変更し、精製水及びNPAの使用量を、精製水1.07質量部、NPA1.60質量部に変更したこと以外は調製例1と同様にして、固形分5質量%のガスバリア性樹脂組成物層形成用塗工液No.7を得た。
混合溶剤A、EVOH溶液及び無機層状化合物分散液の使用量を、混合溶剤A59.10質量部、EVOH溶液30.58質量部、無機層状化合物分散液10.32質量部に変更したこと以外は調製例1と同様にして、固形分5質量%のガスバリア性樹脂組成物層形成用塗工液No.8を得た。
混合溶剤A61.52質量部に、EVOH溶液を32.40質量部添加し、充分に攪拌混合した。更にこの溶液に、高速攪拌を行いながら無機層状化合物分散液6.08質量部を添加した。この分散液100質量部に対して、3質量部の陽イオン交換樹脂を添加し、イオン交換樹脂の破砕が起きない程度の攪拌速度で1時間攪拌して陽イオンの除去を行った後、陽イオン交換樹脂のみをストレーナで濾別した。
以上の操作から得られた分散液を、更に高圧分散装置にて圧力50MPaの設定で分散処理した後、分散処理した混合液97質量部に対して、添加剤として架橋剤(塩酸化ジルコニウム)0.25質量部と、混合溶剤A2.75質量部とを添加し混合攪拌を行い、それを255メッシュのフィルターにて濾過し、固形分5質量%のガスバリア性樹脂組成物層形成用塗工液No.9を得た。
混合溶剤A65.02質量部に、EVOH溶液を29.46質量部添加し、充分に攪拌混合した。更にこの溶液に、高速攪拌を行いながら無機層状化合物分散液5.52質量部を添加した。この分散液100質量部に対して、3質量部の陽イオン交換樹脂を添加し、イオン交換樹脂の破砕が起きない程度の攪拌速度で1時間攪拌して陽イオンの除去を行った後、陽イオン交換樹脂のみをストレーナで濾別した。
以上の操作から得られた分散液を、更に高圧分散装置にて圧力50MPaの設定で分散処理した後、分散処理した混合液97質量部に対して、添加剤として架橋剤(塩酸化ジルコニウム)2.50質量部と、混合溶剤A0.50質量部とを添加し混合攪拌を行い、それを255メッシュのフィルターにて濾過し、固形分5質量%のガスバリア性樹脂組成物層形成用塗工液No.10を得た。
混合溶剤A66.67質量部に、EVOH溶液を33.33質量部添加し、充分に攪拌混合した。更に、この分散液100質量部に対して、3質量部の陽イオン交換樹脂を添加し、イオン交換樹脂の破砕が起きない程度の攪拌速度で1時間攪拌して陽イオンの除去を行った後、陽イオン交換樹脂のみをストレーナで濾別した。
この様にして得られた混合液97質量部に対して、添加剤として架橋剤(塩酸化ジルコニウム)0.75質量部と、混合溶剤A2.25質量部とを添加し混合攪拌を行い、それを255メッシュのフィルターにて濾過し、固形分5質量%のガスバリア性樹脂組成物層形成用塗工液No.11を得た。
混合溶剤A78.17質量部に、ポリビニルアルコール樹脂溶液(PVA溶液)を15.87質量部添加し、充分に攪拌混合した。更にこの溶液に、高速攪拌を行いながら無機層状化合物分散液5.95質量部を添加した。この分散液100質量部に対して、3質量部の陽イオン交換樹脂を添加し、イオン交換樹脂の破砕が起きない程度の攪拌速度で1時間攪拌して陽イオンの除去を行った後、陽イオン交換樹脂のみをストレーナで濾別した。
以上の操作から得られた分散液を、更に高圧分散装置にて圧力50MPaの設定で分散処理した後、分散処理した混合液97質量部に対して、添加剤として架橋剤(塩酸化ジルコニウム)0.75質量部と、混合溶剤A2.25質量部とを添加し混合攪拌を行い、それを255メッシュのフィルターにて濾過し、固形分5質量%のガスバリア性樹脂組成物層形成用塗工液No.12を得た。
<製造例1>
上記プライマーコート層用塗工液を、液をフィルム表面へ吐出するためのファウンテンに繋がった温調タンクに投入し、攪拌しながら25℃に制御した。上記一軸延伸PETフィルムの片面にファウンテンを接面し、30p孔のポリプロピレン製カプセルフィルターを通して異物を濾別したクリーンな液を、吐出量0.028m3/分の条件で一軸延伸PETフィルムの片面にコートした。次いで、14mm直径の平滑なバーを液面につけ、延伸後のプライマーコート層の厚さが0.20μmとなるようにコート液をかきとった。コート速度(製膜速度)は150m/分とし、コート性に関連するバーの回転速度については、フィルムの進行方向と同方向で、60rpm(周速で2.6m/分)とした。
次いで、アンカーコート層上に、ガスバリア性樹脂組成物層形成用塗工液No.1をグラビアロールコート法によって塗布し、160℃で乾燥させて、ガスバリア性樹脂組成物層を形成した。乾燥後のガスバリア性樹脂組成物層の厚さは0.25μmであった。
次いで、ガスバリア性樹脂組成物層の上に、第2無機薄膜層として、酸化ケイ素と酸化アルミニウムの2元系酸化物無機薄膜層(酸化ケイ素/酸化アルミニウムの比率(質量比)=50/50)を上記第1無機薄膜層と同様にして形成し、ガスバリア性積層フィルムNo.1を得た。なお、第2無機薄膜層の厚さは27nmであった。
ガスバリア性樹脂組成物層形成用塗工液を、ガスバリア性樹脂組成物層形成用塗工液No.2〜10に変更したこと以外は製造例1と同様にして、ガスバリア性積層フィルムNo.2〜10を作製した。
製造例1で作製したガスバリア性積層フィルムNo.1の第2無機薄膜層上に、さらに製造例1と同様にしてアンカーコート層、ガスバリア性樹脂組成物層、第2無機薄膜層を形成し、ガスバリア性積層フィルムNo.11を作製した。
製造例11で作製したガスバリア性積層フィルムNo.11の第2無機薄膜層(最外層)の上に、さらに製造例1と同様にしてアンカーコート層、ガスバリア性樹脂組成物層、第2無機薄膜層形成し、ガスバリア性積層フィルムNo.12を作製した。
第2無機薄膜層を形成しなかったこと以外は製造例1と同様にして、ガスバリア性積層フィルムNo.13を作製した。
ガスバリア性樹脂組成物層を形成しなかったこと以外は製造例1と同様にして、ガスバリア性積層フィルムNo.14を作製した。
ガスバリア性樹脂組成物層形成用塗工液を、ガスバリア性樹脂組成物層形成用塗工液No.11、12に変更したこと以外は製造例1と同様にして、ガスバリア性積層フィルムNo.15、16を作製した。
第1無機薄膜層の厚さが50nmになるように、該第1無機薄膜層を形成する際にフィルム送り速度を16m/分とし、蒸着時の圧力を1×10-2Paとし、蒸着時のフィルムを冷却するためのロールの温度を−10℃とし、かつ第2無機薄膜層を形成しなかったこと以外は製造例1と同様にして、ガスバリア性積層フィルムNo.17を作製した。
Claims (11)
- プラスチックフィルムの少なくとも一方の表面に、(A)第1無機薄膜層、(C)ガスバリア性樹脂組成物層及び(D)第2無機薄膜層が、他の層を介して又は介さずにこの順に積層されており、
前記(C)ガスバリア性樹脂組成物層が、エチレン−ビニルアルコール系共重合体からなるガスバリア性樹脂(a)と、無機層状化合物(b)と、カップリング剤及び架橋剤から選ばれる少なくとも1種の添加剤(c)とを含んでなるガスバリア性樹脂組成物から形成され、該ガスバリア性樹脂組成物中の無機層状化合物(b)の含有量が、前記ガスバリア性樹脂(a)、前記無機層状化合物(b)及び前記添加剤(c)の合計100質量%中、0.1質量%〜20質量%であることを特徴とするガスバリア性積層フィルム。 - 前記無機層状化合物(b)が、スメクタイトである請求項1に記載のガスバリア性積層フィルム。
- 前記(A)第1無機薄膜層及び/又は前記(D)第2無機薄膜層が、酸化ケイ素及び酸化アルミニウムを含む多元系無機酸化物を含有する請求項1又は2に記載のガスバリア性積層フィルム。
- 前記カップリング剤が、有機官能基を1種類以上有するシランカップリング剤である請求項1〜3のいずれかに記載のガスバリア性積層フィルム。
- 前記架橋剤が、水素結合性基用架橋剤である請求項1〜4のいずれかに記載のガスバリア性積層フィルム。
- 前記添加剤(c)の含有量が、前記ガスバリア性樹脂(a)、前記無機層状化合物(b)及び前記添加剤(c)の合計100質量%中、0.3質量%〜20質量%である請求項1〜5のいずれかに記載のガスバリア性積層フィルム。
- 前記(A)第1無機薄膜層と前記(C)ガスバリア性樹脂組成物層との間に、(B)アンカーコート層を有する請求項1〜6のいずれかに記載のガスバリア性積層フィルム。
- 前記(B)アンカーコート層を形成するアンカーコート剤組成物が、有機官能基を1種類以上有するシランカップリング剤を含有している請求項7に記載のガスバリア性積層フィルム。
- 前記アンカーコート剤組成物中の前記シランカップリング剤の含有量が、アンカーコート剤組成物100質量%中、0.1質量%〜10質量%である請求項8に記載のガスバリア性積層フィルム。
- 前記(B)アンカーコート層、前記(C)ガスバリア性樹脂組成物層及び前記(D)第2無機薄膜層からなる積層構造を一つの繰り返し単位とし、該単位が2以上繰り返されてなる請求項7〜9のいずれかに記載のガスバリア性積層フィルム。
- 前記プラスチックフィルムと前記(A)第1無機薄膜層との間に、プライマーコート層を有する請求項1〜10のいずれかに記載のガスバリア性積層フィルム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010285042A JP5668459B2 (ja) | 2009-12-24 | 2010-12-21 | ガスバリア性積層フィルム |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009293446 | 2009-12-24 | ||
JP2009293446 | 2009-12-24 | ||
JP2010285042A JP5668459B2 (ja) | 2009-12-24 | 2010-12-21 | ガスバリア性積層フィルム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011148306A true JP2011148306A (ja) | 2011-08-04 |
JP5668459B2 JP5668459B2 (ja) | 2015-02-12 |
Family
ID=44195759
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010285042A Active JP5668459B2 (ja) | 2009-12-24 | 2010-12-21 | ガスバリア性積層フィルム |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10457788B2 (ja) |
EP (1) | EP2517875B1 (ja) |
JP (1) | JP5668459B2 (ja) |
CN (1) | CN102762366B (ja) |
TW (1) | TWI454379B (ja) |
WO (1) | WO2011078232A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014516764A (ja) * | 2011-03-29 | 2014-07-17 | サン・ケミカル・ベスローテン・ベンノートシャップ | ポリウレタンを含む2コートバリア系 |
JP2015205511A (ja) * | 2015-06-11 | 2015-11-19 | コニカミノルタ株式会社 | 水蒸気バリアーフィルムの製造方法、水蒸気バリアーフィルム、電子機器及び有機エレクトロルミネッセンスパネル |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101389222B1 (ko) | 2009-07-31 | 2014-04-24 | 도요보 가부시키가이샤 | 가스 배리어성 적층 필름 |
KR101712177B1 (ko) * | 2010-06-29 | 2017-03-07 | 코오롱인더스트리 주식회사 | 수축필름 및 이의 제조방법 |
GB201113385D0 (en) * | 2011-08-03 | 2011-09-21 | Imerys Minerals Ltd | Coating composition |
JP6287064B2 (ja) * | 2013-10-28 | 2018-03-07 | 凸版印刷株式会社 | ガスバリア性フィルム |
CN103794671A (zh) * | 2014-02-28 | 2014-05-14 | 英利能源(中国)有限公司 | 一种光伏组件及其无氟背板 |
JP5977776B2 (ja) * | 2014-03-12 | 2016-08-24 | 富士フイルム株式会社 | バリア性積層体、ガスバリアフィルム、積層フィルム、および輸液バッグ |
CN104175663B (zh) * | 2014-05-29 | 2016-09-14 | 中国乐凯集团有限公司 | 一种防紫外线辐射透明高阻隔薄膜及其应用 |
EP3263336B1 (en) * | 2015-02-24 | 2022-02-16 | Toyobo Co., Ltd. | Laminated film |
MY185768A (en) * | 2015-04-24 | 2021-06-06 | Toyo Boseki | Biaxially stretched polyester film, and production method therefor |
JP6603808B2 (ja) * | 2016-07-26 | 2019-11-06 | 富士フイルム株式会社 | ガスバリアフィルムおよび太陽電池、ならびに、ガスバリアフィルムの製造方法 |
KR102066640B1 (ko) * | 2016-09-20 | 2020-01-15 | 주식회사 엘지화학 | 접착력이 우수한 광학 필름, 및 이를 포함하는 편광판 |
CN110869826B (zh) * | 2017-07-07 | 2022-09-06 | 东洋纺株式会社 | 多层层叠薄膜 |
WO2019049634A1 (ja) * | 2017-09-06 | 2019-03-14 | 富士フイルム株式会社 | ガスバリアフィルムおよびガスバリアフィルムの製造方法 |
WO2020074378A1 (en) * | 2018-10-11 | 2020-04-16 | Sabic Global Technologies B.V. | Polyolefin based multilayer film with a hybrid barrier layer |
CN113613886B (zh) * | 2019-03-28 | 2023-09-22 | 东洋纺株式会社 | 阻气性层叠薄膜 |
CN112280087A (zh) * | 2020-09-30 | 2021-01-29 | 浙江大学衢州研究院 | 一种高气体阻隔性取向复合薄膜 |
CN114479623B (zh) * | 2022-01-26 | 2022-09-27 | 苏州鼎奕通材料科技有限公司 | 一种能够抗大肠杆菌、金黄色葡萄球菌的镀膜材料及其制备方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005324361A (ja) * | 2004-05-12 | 2005-11-24 | Dainippon Printing Co Ltd | バリア性フィルムおよびそれを使用した積層材 |
WO2006107048A1 (ja) * | 2005-04-04 | 2006-10-12 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | 包装袋 |
JP2008297527A (ja) * | 2007-06-04 | 2008-12-11 | Sakata Corp | ラミネート用バリア性コーティング組成物及びラミネート用バリア性複合フィルム |
Family Cites Families (47)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2929609B2 (ja) | 1989-06-20 | 1999-08-03 | 東洋紡績株式会社 | 透明ガスバリアフイルムおよびその製法 |
KR100322940B1 (ko) | 1994-01-24 | 2002-07-27 | 스미또모 가가꾸 고오교오 가부시끼가이샤 | 수지조성물,적층체및적층필름 |
DE69534495D1 (de) | 1994-01-24 | 2006-02-16 | Sumitomo Chemical Co | Laminat, laminierter film und formartikel |
EP0691381A4 (en) | 1994-01-24 | 1996-07-17 | Sumitomo Chemical Co | COMPOSITION, FILM AND MOLDING OF BIODEGRADABLE RESIN |
JP3681426B2 (ja) | 1994-01-26 | 2005-08-10 | 住友化学株式会社 | 積層フィルム |
WO1996028299A1 (fr) | 1995-03-14 | 1996-09-19 | Daicel Chemical Industries, Ltd. | Film-barriere composite et son procede de production |
JP3441594B2 (ja) | 1995-03-14 | 2003-09-02 | ダイセル化学工業株式会社 | バリア性複合フィルムおよびその製造方法 |
CA2191804A1 (en) * | 1995-12-05 | 1997-06-06 | Taiichi Sakaya | Laminated film |
JP4350172B2 (ja) | 1996-09-17 | 2009-10-21 | 住友化学株式会社 | フィルム積層体 |
SE509131C2 (sv) | 1997-04-04 | 1998-12-07 | Tetra Laval Holdings & Finance | Förpackningslaminat innefattande ett inkapslat fuktkänsligt gasbarriärskikt, sätt för dess framställning samt förpackningsbehållare av laminatet |
JPH11314320A (ja) | 1998-05-06 | 1999-11-16 | Sumitomo Chem Co Ltd | チューブ状容器および食品用包装材並びに医薬品用包装材 |
JP2000052499A (ja) | 1998-06-04 | 2000-02-22 | Sumitomo Chem Co Ltd | レトルト殺菌包装用フィルム積層体およびそれを備えた包装袋 |
JP2000043182A (ja) | 1998-07-31 | 2000-02-15 | Toppan Printing Co Ltd | 強密着ガスバリア透明積層体および包装材料および包装体 |
JP4122588B2 (ja) | 1998-09-03 | 2008-07-23 | 東レ株式会社 | 包装用積層フィルムおよび蒸着包装用積層フィルム |
JP4743354B2 (ja) | 1999-03-15 | 2011-08-10 | 大日本印刷株式会社 | 積層材およびそれを使用した包装用容器 |
JP4524463B2 (ja) * | 1999-07-27 | 2010-08-18 | 三井化学株式会社 | ガスバリア性ポリウレタン樹脂及びこれを含むガスバリア性フィルム |
JP2002178440A (ja) | 2000-12-18 | 2002-06-26 | Dainippon Printing Co Ltd | レトルト用パウチ |
JP5028713B2 (ja) | 2001-02-23 | 2012-09-19 | 東洋紡績株式会社 | 配向ポリエステルフィルム |
CA2501211A1 (en) | 2002-10-09 | 2004-04-22 | Toyo Seikan Kaisha, Ltd. | Method of forming a metal oxide film and microwave power source device used in the above method |
US7560168B2 (en) * | 2002-11-22 | 2009-07-14 | Toppan Printing Co., Ltd. | Gas barrier laminate film |
JP2004175011A (ja) | 2002-11-28 | 2004-06-24 | Rengo Co Ltd | ガスバリア性積層体 |
JP4366565B2 (ja) | 2003-03-03 | 2009-11-18 | 日本パーカライジング株式会社 | 樹脂膜被覆アルミニウム薄板 |
DE602004000101T2 (de) | 2003-03-31 | 2006-06-29 | Tohcello Co., Ltd. | Gasundurchlässiger Schichtstoff und Verfahren zu seiner Herstellung |
WO2004101276A1 (ja) * | 2003-05-16 | 2004-11-25 | Toppan Printing Co., Ltd. | 透明ガスバリア積層フィルム、これを用いたエレクトロルミネッセンス発光素子、エレクトロルミネッセンス表示装置、及び電気泳動式表示パネル |
JP4344673B2 (ja) * | 2003-10-15 | 2009-10-14 | フタムラ化学株式会社 | ガスバリアフィルム |
CN101786350B (zh) | 2004-03-25 | 2011-07-27 | 三菱树脂株式会社 | 阻气性叠层体 |
JP2005288948A (ja) | 2004-04-01 | 2005-10-20 | Daicel Chem Ind Ltd | 積層フィルム |
JP4669238B2 (ja) | 2004-06-11 | 2011-04-13 | ダイセル化学工業株式会社 | 積層フィルム |
JP2006056007A (ja) * | 2004-08-17 | 2006-03-02 | Dainippon Printing Co Ltd | ガスバリア性積層フィルムおよびそれを使用した積層材 |
JP2006056927A (ja) | 2004-08-17 | 2006-03-02 | Daicel Chem Ind Ltd | 塗布剤 |
EP1787796B1 (en) | 2004-08-17 | 2013-02-13 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Gas barrier multilayer film and method for producing same |
US20090148640A1 (en) * | 2005-08-24 | 2009-06-11 | Sakata Inx Corp. | Gas barrier composite film for hydrothermally processable package and packaging bag obtained by using same |
US20090286023A1 (en) | 2005-09-16 | 2009-11-19 | Pactiv Corporation | Polymer films with treated fillers and improved properties and products and methods using same |
JP5103184B2 (ja) | 2005-09-20 | 2012-12-19 | 三菱樹脂株式会社 | ガスバリア性積層フィルム |
JP2007290144A (ja) | 2006-04-21 | 2007-11-08 | Toppan Printing Co Ltd | ガスバリア性積層体 |
JP5228284B2 (ja) | 2006-04-26 | 2013-07-03 | 大日本印刷株式会社 | 透明バリア性積層フィルム及びその製造方法 |
EP3351377B1 (en) * | 2006-09-08 | 2019-08-21 | Toppan Printing Co., Ltd. | Laminate |
EP2080613B1 (en) * | 2006-11-16 | 2016-03-16 | Mitsubishi Plastics, Inc. | Gas barrier film laminate |
JP2008200975A (ja) * | 2007-02-20 | 2008-09-04 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 多層構造体の製造方法 |
JP2008297257A (ja) * | 2007-05-31 | 2008-12-11 | St Marianna Univ School Of Medicine | 消化器癌の新規治療薬 |
JP4864818B2 (ja) | 2007-06-26 | 2012-02-01 | 住友精化株式会社 | 積層フィルム |
JP5025366B2 (ja) | 2007-07-24 | 2012-09-12 | 株式会社リコー | 可逆性感熱記録材料及びその製造方法 |
US10012079B2 (en) | 2007-11-19 | 2018-07-03 | Amcol International Corporation | Self healing salt water barrier |
JP2009248456A (ja) | 2008-04-07 | 2009-10-29 | Dainippon Printing Co Ltd | チューブ用積層体およびラミネートチューブ |
JP2009289945A (ja) | 2008-05-29 | 2009-12-10 | Toppan Printing Co Ltd | 太陽電池バックシート及び太陽電池モジュール |
JP5434341B2 (ja) | 2009-07-31 | 2014-03-05 | 東洋紡株式会社 | ガスバリア性積層フィルム |
KR101389222B1 (ko) | 2009-07-31 | 2014-04-24 | 도요보 가부시키가이샤 | 가스 배리어성 적층 필름 |
-
2010
- 2010-12-21 JP JP2010285042A patent/JP5668459B2/ja active Active
- 2010-12-22 US US13/517,196 patent/US10457788B2/en active Active
- 2010-12-22 EP EP10839462.8A patent/EP2517875B1/en not_active Not-in-force
- 2010-12-22 CN CN201080058534.XA patent/CN102762366B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2010-12-22 WO PCT/JP2010/073160 patent/WO2011078232A1/ja active Application Filing
- 2010-12-23 TW TW99145487A patent/TWI454379B/zh not_active IP Right Cessation
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005324361A (ja) * | 2004-05-12 | 2005-11-24 | Dainippon Printing Co Ltd | バリア性フィルムおよびそれを使用した積層材 |
WO2006107048A1 (ja) * | 2005-04-04 | 2006-10-12 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | 包装袋 |
JP2008297527A (ja) * | 2007-06-04 | 2008-12-11 | Sakata Corp | ラミネート用バリア性コーティング組成物及びラミネート用バリア性複合フィルム |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014516764A (ja) * | 2011-03-29 | 2014-07-17 | サン・ケミカル・ベスローテン・ベンノートシャップ | ポリウレタンを含む2コートバリア系 |
US9902864B2 (en) | 2011-03-29 | 2018-02-27 | Sun Chemical Corporation | Two-coat barrier system comprising polyurethane |
JP2015205511A (ja) * | 2015-06-11 | 2015-11-19 | コニカミノルタ株式会社 | 水蒸気バリアーフィルムの製造方法、水蒸気バリアーフィルム、電子機器及び有機エレクトロルミネッセンスパネル |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI454379B (zh) | 2014-10-01 |
CN102762366B (zh) | 2015-06-03 |
EP2517875B1 (en) | 2018-03-07 |
EP2517875A1 (en) | 2012-10-31 |
EP2517875A4 (en) | 2014-01-01 |
WO2011078232A1 (ja) | 2011-06-30 |
CN102762366A (zh) | 2012-10-31 |
US20120270058A1 (en) | 2012-10-25 |
JP5668459B2 (ja) | 2015-02-12 |
TW201134659A (en) | 2011-10-16 |
US10457788B2 (en) | 2019-10-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5668459B2 (ja) | ガスバリア性積層フィルム | |
KR101389222B1 (ko) | 가스 배리어성 적층 필름 | |
WO2007026751A1 (ja) | ガスバリア性積層フィルム | |
JP2011218805A (ja) | ガスバリア性積層フィルム | |
JP2011224981A (ja) | 積層フィルム | |
KR20190124727A (ko) | 적층 필름 | |
KR20220104181A (ko) | 적층 필름 | |
JP5434341B2 (ja) | ガスバリア性積層フィルム | |
EP4371770A1 (en) | Laminated film for forming inorganic thin film layer | |
JP2013006283A (ja) | 積層フィルム | |
JP2011218804A (ja) | ガスバリア性積層フィルム、ラミネートガスバリア性積層フィルム及び包装体 | |
TW202334006A (zh) | 包裝材料 | |
JP5598051B2 (ja) | ラミネートガスバリア性積層フィルム及び包装体 | |
JP2022166132A (ja) | バリア性フィルムおよびそれを用いた積層体 | |
JP2005349582A (ja) | 透明ガスバリア積層フィルムおよびそれを使用した蓋材 | |
JP5712723B2 (ja) | 太陽電池バックシート用積層体 | |
JP2012126112A (ja) | ガスバリア性積層フィルム | |
WO2023219021A1 (ja) | 積層包装材料 | |
WO2024058167A1 (ja) | 包装材料 | |
JP2017110032A (ja) | 積層ポリエステルフィルム | |
US20240051275A1 (en) | Laminated film |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20131008 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140613 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140624 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140821 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20141118 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20141201 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5668459 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |