KR20130057996A - 디지털 방사선 촬영 검출기를 이용하는 노출 제어 - Google Patents

Abstract

장치 및 방법은 방사선원으로부터 피험자를 통과하여 디지털 방사선 촬영 검출기를 향해 전달되는 이온화 방사선의 레벨을 감지한다. 디지털 방사선 촬영 검출기에 피험자의 위치를 관련시키며 하나 이상의 노출 제어 감지 요소들로서 디지털 방사선 촬영 검출기의 하나 이상의 방사 에너지 감지 요소들을 할당하는 이미지 데이터가 획득된다. 하나 이상의 노출 제어 감지 요소들은 피험자에게 전달되는 노출을 측정하도록 노출 동안 1회 이상 샘플링된다. 신호는 디지털 방사선 촬영 검출기 내에서 하나 이상의 노출 제어 감지 요소들로부터 획득된 노출 측정들에 따라 노출을 종결시키도록 제공된다.

Description

디지털 방사선 촬영 검출기를 이용하는 노출 제어{EXPOSURE CONTROL USING DIGITAL RADIOGRAPHY DETECTOR}

본 발명은 일반적으로 방사선 촬영의 분야에 관한 것으로, 특히 X-선 시스템에서 노출 에너지를 제어하는 장치 및 방법들에 관한 것이다.

자동 노출 제어(AEC: Automatic Exposure Control) 장치는 환자에 의해 수신된 x-선 노출 레벨들을 제어하도록 종래의 진단 x-선 장비에 광범위하게 이용된다. AEC 디바이스를 이용하는 것은 노출 경로의 적절한 위치에서 방사선 레벨을 감지하며 충분한 방사선이 수신될 때 지시하는 출력 신호를 제공함으로써 수신되는 방사선의 양을 제한하는데 도움이 될 수 있다. 그 다음, 이 출력 신호는 x-선 방출 구성요소들에 전력 공급을 불가능하게 함으로써 이온화 방사선(ionizing radiation)의 발생을 정지시키는데 이용된다.

도 1a의 개략적인 블록도는 환자 또는 다른 피험자(14)의 방사선 촬영 이미지를 제공하는데 이용되는 X-선 촬영 시스템(10)을 도시한다. 기술자가 컨트롤(24)을 동작시킬 때, x-선원(x-ray source)(16)은 노출 및 검출기(12) 상의 이미지의 형성에 이용되는 이온화 방사선을 발생시킨다. 자동 노출 제어(AEC) 장치(20)는 수신된 방사선의 양을 지시하는 신호를 발생시킴으로써 입사 방사선에 응답하는 하나 이상의 센서 요소들(22)을 갖는다. 발생기 컨트롤(18)은 이 신호를 해석하며 적절한 포인트에서 x-선 방출을 종결하도록 응답한다.

AEC 센서 요소들(22)은 피험자(14)의 특정 면적들에 걸쳐서 수신되는 방사선의 양을 감지하도록 환자 또는 다른 피험자(14) 바로 뒤의 적절한 위치들에 전형적으로 위치된다. 센서 요소들(22)은 도 1a에 제안된 바와 같이, 개별 센서 요소들일 수 있거나, 환자의 뒤에 위치되는 패널에 통합될 수 있다. 다른 실시예들에 있어서, AEC 장치(20)의 센서 요소들(22)은 검출기(12) 표면 상에 또는 검출기(12)를 유지하는데 이용되는 버키(bucky) 또는 다른 홀더(holder)에 제공된다.

도 1a의 기본 개략도는 임의의 타입의 x-선 검출기 기술, 즉 필름, 컴퓨터 방사선 촬영(CR: computed radiography) 플레이트(plate)들, 또는 디지털 방사선 촬영(DR: digital radiography) 플랫 패널 검출기(flat panel detector)에 이용될 수 있다.

도 1b의 평면도는 3개의 센서 요소들(22)을 갖는 AEC 장치(20)의 종래의 배치를 도시한다. 종래의 이용에 있어서, AEC 센서 요소들(22)은 x-선 검출기(12)의 정면에서 고정 위치들에 있으며; 어떤 시스템들에 있어서, 검출기(12) 또는 플레이트 유지 AEC 센서 요소들(22)은 환자에 대해 적절히 센서 요소(22) 디바이스들을 위치시키도록 평면 내에서 회전될 수 있다. 개별 센서 요소들(22)로부터의 신호들은 발생기 제어 회로에 송신을 위해 수집 및 조합된다.

고정 위치들에서 AEC 센서 요소들(22)의 표준 패턴(standard pattern)의 이용은 도 1b에 도시된 바와 같이, 어떤 문제들을 나타낼 수 있다. AEC 센서 요소들(22)은 대부분 진단에 관심있는 뼈 또는 조직의 면적 뒤에 위치될 때 최상으로 작용한다. 이 면적은 어느 환자에서 다음 환자까지 상이할 수 있다. 게다가, 환자 신체 사이즈 및 비율들은 어떤 AEC 센서 요소들(22)의 어떤 하나의 고정 패턴도 모든 환자 사이즈들 및 모든 촬영 상황들에 최적으로 작용하지 않도록 범위에 걸쳐서 변화한다. 종래의 AEC 배치를 이용할 때 특정 조건들 하의 촬영에 대해 어느 정도의 절충이 이루어진다.

어떤 종래의 x-선 시스템들에 있어서, 하나 이상의 AEC 센서 요소들(22)은 운영자가 촬영될 구조 또는 환자 위치 결정(positioning)의 차이들을 약간 보상하게 하여, 특정 이미지에 대해 불가능해질 수 있다. 그러나, 이 해결법은 노출 레벨의 덜 정확한 검출을 의미하며 환자 또는 다른 피험자의 이미지를 획득하기 위한 과다 또는 과소 노출을 감행할 수 있다.

종래의 AEC 장치를 이용함에 있어서 다수의 내재 문제들이 있다. 하나의 문제는 이미지 신호의 부분의 방해에 관한 것이다. 도 1a의 예에 도시된 바와 같이, AEC 센서 요소들(22)은 검출기(12) 전의 촬영 경로에 배치된다. AEC 센서 요소들(22)은 신호 컨텐츠와의 간섭을 감소시키는 저밀도 재료들로 제작될지라도, 어떤 양의 신호 감쇠는 AEC 디바이스로 인해 발생한다. 또 다른 문제는 고정된 위치 결정에 관한 것이며; AEC 센서 요소들(22)은 촬영된 구조의 타입들, 환자 사이즈, 및 특히 휴대용 방사선 촬영 장치에 있어서, 피험자(14) 및 AEC 센서 요소들(22)에 대해 위치 결정하는 가변 검출기(12)의 차이들로 인해 이미지를 획득하기 위한 최상의 위치에 항상 있는 것은 아니다.

따라서, AEC 감지를 위한 더 유연한 배치는 상이한 환자들 및 상이한 촬영 애플리케이션(application)들에 적응하는 장점들을 가지는 것을 알 수 있다.

본 발명의 목적은 진단 촬영 애플리케이션들 내의 노출 제어 센서들의 이용에 있어서 보다 큰 유연성에 대한 요구를 처리하는 것이다. 바람직하게는, 본 발명의 방법들 및 장치들은 그 개별 어드레싱(addressing), 인에이블먼트(enablement), 및 그룹화를 허용함으로써, 센서들의 구성이 각각의 특정 x-선 검사의 조건들을 적합하게 하는 노출 센서 요소들의 배치를 제공한다.

이 목적들은 단지 예시적인 예로서 주어지며, 그러한 목적들은 본 발명의 하나 이상의 실시예들에 구체적일 수 있다. 개시된 발명에 의해 본래 달성되는 다른 바람직한 목적들 및 장점들은 당업자들에게 떠오르거나 분명해질 수 있다. 본 발명은 첨부된 청구들에 의해 정의된다.

본 발명의 이전 및 다른 목적들, 특징들, 및 장점들은 첨부 도면들에 예시된 바와 같이, 본 발명의 실시예들의 이하의 더 구체적인 설명으로부터 명백해질 것이다. 도면들의 요소들은 서로에 대해 반드시 축척을 조정해야 하는 것은 아니다.
도 1a는 종래의 방사선 촬영 장치의 구성요소들을 도시하는 블록도이다.
도 1b는 다수의 센서 요소들을 갖는 AEC 장치의 평면도이다.
도 2a는 본 발명의 일 실시예에 따른 선택가능한 센서 요소들을 갖는 AEC 장치의 평면도이다.
도 2b는 복합 방사선 측정 영역들의 선택된 패턴을 갖는 AEC 장치의 평면도이다.
도 2c는 선택된 단일 복합 방사선 측정 영역을 갖는 AEC 장치의 평면도이다.
도 2d는 촬영되는 기초 조직에 대응하도록 구성되는 선택된 복합 방사선 측정 영역들의 교대 패턴을 갖는 AEC 장치의 평면도이다.
도 2e는 상이한 사이즈들의 복합 방사선 측정 영역들과, 선택된 복합 방사선 측정 영역들의 또 다른 교대 패턴을 갖는 AEC 장치의 평면도이다.
도 2f는 본 발명의 실시예들에도 사용가능한 비복합 방사선 측정 영역들의 종래의 배치를 갖는 AEC 장치의 평면도이다.
도 3a는 유선 송신 채널을 갖는 본 발명의 AEC 장치를 이용하여 방사선 촬영 장치의 구성요소들을 나타내는 블록도이다.
도 3b는 무선 송신 채널을 갖는 본 발명의 AEC 장치를 이용하여 방사선 촬영 장치의 구성요소들을 도시하는 블록도이다.
도 4a는 본 발명의 실시예를 이용하여 노출을 종료시킬 때를 결정하기 위한 단계들의 시퀀스를 도시하는 논리 순서도이다.
도 4b는 본 발명의 실시예에 따른 위치 좌표를 획득하기 위한 단계들의 시퀀스를 나타내는 논리 순서도이다.
도 5a는 AEC 장치의 기술자 구성을 나타내는 디스플레이의 평면도이다.
도 5b는 터치스크린(touchscreen) 상에 추적된 패턴을 이용하여 AEC 장치의 기술자 구성을 나타내는 디스플레이의 평면도이다.
도 5c는 AEC 장치 자체 상에 직접 AEC 센서 요소들의 기술자 선택을 나타내는 사시도이다.
도 5d는 노출 스위치를 이용하여 AEC 센서 요소들의 기술자 선택을 나타내는 사시도이다.
도 6a는 디스플레이 모니터 상에 AEC 센서 위치의 디스플레이를 나타내는 평면도이다.
도 6b는 환자에게 이미지를 투사함으로써 AEC 센서 위치의 디스플레이를 나타내는 평면도이다.
도 7은 방사선 에너지 센서 요소의 위치를 표시하기 위한 시퀀스를 나타내는 논리 순서도이다.
도 8은 AEC 장치 및 AEC 센서 요소들의 위치를 표시하기 위한 장치를 이용하여 방사선 촬영 장치의 구성요소들을 나타내는 개략적인 블록도이다.
도 9는 자동 노출 제어 정보를 획득하도록 DR 검출기를 이용하여 방사선 촬영 장치의 구성요소들을 나타내는 개략적인 블록도이다.
도 10은 디지털 방사선 촬영 검출기의 부분의 구성요소들을 나타내는 부분 절단 사시도이다.
도 11은 디지털 방사선 촬영에 이용되는 패널의 예시적 이미지 감지 어레이(array)에서의 구성요소들의 개략도이다.
도 12는 노출 제어 감지에 이용되는 픽셀들의 배치를 나타내는 확대부를 갖는 디지털 방사선 촬영 검출기의 평면도이다.
도 13은 본 발명의 실시예와 일치하는 노출 제어 감지를 위한 단계들의 시퀀스를 나타내는 논리 순서도이다.
도 14a는 초기 감지 면적에 대한 기술자 선택을 나타내는 디스플레이의 평면도이다.
도 14b는 초기 감지 면적에 대한 시스템 조정을 나타내는 디스플레이의 평면도이다.

하기의 것은 본 발명의 바람직한 실시예들의 상세한 설명이며, 동일한 참조 번호들이 수개의 도면들 각각에서 구조의 동일한 요소들을 식별하는 도면들에 대한 참조가 이루어진다.

본 개시물의 문맥에서, "제 1", "제 2", "제 3" 등과 같은 용어들의 이용은 단독으로 임의의 우선권, 선행, 또는 다른 것 위의 구성요소 또는 청구 요소의 순서 또는 방법의 동작들이 수행되는 일시적 순서를 암시하지 않는다. 이 용어들은 어떤 명칭을 갖는 한쪽 요소와 동일한 명칭을 갖는 다른 쪽 요소를 구별하거나(단지 순서 용어의 이용에 대함) 청구 요소들을 구별하도록 라벨들로서 일반적으로 더 이용될 수 있다.

"세트(set)"라는 용어는 본 출원에서 이용되는 바와 같이, 세트의 요소들 또는 부재들의 수집의 개념이 기초 수학에서 광범위하게 이해되듯이 비공백 세트(non-empty set)를 지칭한다. "서브세트(subset)"라는 용어는 명시적으로 다르게 제시되지 않으면, 비공백의 적절한 서브세트, 즉 하나 이상의 부재들을 갖지만, 큰 세트보다 적은 부재들을 갖는 큰 세트의 서브세트를 지칭하는 것으로 본 출원에서 이용된다. 공식 세트 이론(formal set theory)에서, 세트(S)의 하나의 가능한 타입의 서브세트, 즉 "부적절한 서브세트(improper subset)"는 완전한 세트(complete set)(S)를 포함할 수 있다. 그러나, 세트(S)의 "적절한 서브세트(proper subset)"는 엄밀히 세트(S)에 포함되며 세트(S)의 적어도 하나의 부재를 제외한다.

본 개시물의 문맥에서, "입력된 명령어들"이라는 구는 컴퓨터 호스트(후술되는 바와 같이) 상의 운영자 인터페이스(operator interface)에서 운영자에 의해 입력될 수 있는 제어 명령어들 또는 컴퓨터 또는 논리 제어기 회로에 액세스가능한 메모리(memory)에서와 같이 프로그램에 저장되거나 프로그램에 의해 발생되는 명령어들을 지칭한다. "작동가능한(actuable)"이라는 용어는 제어 신호에 의해 개시될 때와 같이, 선택적으로 수행될 수 있는 기능에 관한 것이다. 마찬가지로, "기동가능한(energizable)"이라는 용어는 디바이스에 전력을 스위칭 온(switching on)함으로써와 같이, 디바이스가 기동될 때 발생하는 기능 또는 동작에 관한 것이다.

본 발명의 방법의 적어도 부분들은 전용 마이크로프로세서(dedicated microprocessor) 또는 유사한 디바이스를 포함할 수 있는 컴퓨터 또는 다른 타입의 제어 논리 프로세서(control logic processor)에서 실행한다. 본 발명의 실시예에 이용되는 컴퓨터 프로그램 제품은 예를 들어, 자기 디스크(magnetic disk) 또는 자기 테이프(magnetic tape)와 같은 자기 저장 매체; 광 디스크(optical disk), 광 테이프(optical tape), 또는 기계 판독가능한 바 코드(machine readable bar code)와 같은 광 저장 매체; 랜덤 액세스 메모리(RAM: random access memory), 또는 읽기 전용 메모리(ROM: read-only memory)와 같은 고체 상태 전자 저장 디바이스들; 또는 본 발명에 따른 방법을 실행하는 하나 이상의 컴퓨터들을 제어하기 위한 명령어들을 갖는 컴퓨터 프로그램을 저장하는데 사용되는 임의의 다른 물리적 디바이스 또는 매체 중 하나 이상의 저장 매체를 포함할 수 있다.

본 개시물의 문맥에서 "컴퓨터 액세스가능 메모리(computer-accessible memory)"에 등가물인 "메모리"라는 용어는 이미지 데이터(image data)를 저장하고 동작시키는데 이용되며, 컴퓨터 시스템에 액세스가능한 임의의 타입의 일시적 또는 더 지속적 데이터 저장 워크스페이스(workspace)를 지칭할 수 있는 것이 주목되어야 한다. 메모리는 예를 들어 자기 또는 광 스토리지(storage)와 같은 장기(long-term) 저장 매체를 이용하는 비휘발성일 수 있다. 교대로, 메모리는 마이크로프로세서 또는 다른 제어 논리 프로세서 디바이스에 의해 일시적 버퍼(buffer) 또는 워크스페이스로서 이용되는 랜덤 액세스 메모리(RAM)와 같은 전자 회로를 이용하는 더욱 휘발성일 수 있다. 디스플레이 데이터는, 예를 들어, 디스플레이 디바이스와 직접 관련되며 디스플레이된 데이터를 제공하기 위해 필요에 따라 주기적으로 리프레시(refresh)되는 일시적 저장 버퍼에 전형적으로 저장된다. 이 일시적 저장 버퍼는 용어가 본 개시물에 이용되는 바와 같이, 메모리도 되는 것으로 고려된다. 메모리는 계산들 및 다른 처리의 중간 및 최종 결과들을 실행 및 저장하기 위한 데이터 워크스페이스로서도 이용된다. 컴퓨터 액세스가능 메모리는 휘발성, 비휘발성, 또는 휘발성 및 비휘발성 타입들의 혼성 조합일 수 있다.

본 발명의 장치 및 방법들은 AEC 패널 또는 다른 구성에서 개별적으로 처리가능한 센서 디바이스들의 적응가능한 배치를 제공함으로써 종래의 고정 위치 AEC 디바이스들을 이용할 때 경험되는 문제들을 해결하는데 도움이 된다. 예를 들어, 이 특징은 AEC 패널이 각 특정 환자의 사이즈 및 전체 체격을 위해 그리고 각 경우에 촬영될 조직의 타입을 고려하여 적절히 구성되는 것을 가능하게 한다.

도 2a를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따라 수신된 이온화 방사선의 레벨을 감지하기 위한 구성가능한 AEC 장치(40)가 도시되어 있다. AEC 장치(40)는 도시된 실시예에 있어서 패널(45) 상에 행(row)들 및 열(column)들로 배치된 센서 요소들(42)의 2차원 어레이로서 구성된다. 도 2a의 배치에서, 각 개별 센서 요소(42)는 수신하는 이온화 방사선의 양을 나타내는 측정 신호를 제공하도록 개별적으로 어드레스가능하다. 도 2a의 예에 있어서 회색으로 보이는 셀들은 측정 신호를 획득하기 위해 가능하거나 어드레스(address)되는 센서 요소들(42)을 지시하며; 백색 배경을 갖는 셀들은 가능하지 않으며, 즉 이 예에 있어서 어드레스되지 않은 센서 요소들(42)을 지시한다. 각 가능한(회색) 셀은 복합 방사선 측정 영역(46)의 부분을 형성한다.

도 2a의 예에 있어서, AEC 장치(40)는 m이 행들의 수이고 n이 열들의 수인 어레이에서, 복수의 센서 요소들(42), 이 점에서 곱(m X n) 요소들을 포함하는 큰 세트를 제공한다. 예를 들어, 센서 요소들(42)이 28 행들 및 23 열들을 갖는 어레이로 배치되는 도 2a의 직사각형 어레이 그리드 패턴(rectangular array grid pattern)을 이용하여 센서 요소들의 풀 세트(full set)는 28 X 23 = 644 부재들을 갖는다. 그 다음, 이 세트의 하나 이상의 작은 적절한 서브세트들은 입력된 명령어들에 따른 측정 신호들을 제공하기 위해 어드레스되도록 선택된다. 이 예에 있어서 선택된 복합 방사선 측정 영역 또는 적절한 서브세트는 단지 2개의 부재들을 가지며, 643과 동수의 부재들을 가질 수 있다.

센서 요소들(42)의 어레이 배치는 이 명세서에서 도 2a 및 다른 도면들에 도시된 같은 사이즈의 구성요소들의 행/열 배치로부터 상당히 변화할 수 있다. 센서 요소들(42)은 종래의 AEC 디바이스들에서와 같이, 이온 챔버(ion chamber) 감지를 활용할 수 있거나, 어떤 다른 타입의 방사선 감지 디바이스를 사용할 수 있다. 인접 센서 요소들(42)은 본 출원의 도 2a 및 다른 예시적 도면들에 도시된 바와 같이, 실질적으로 접촉할 수 있거나, 고정 또는 가변 스페이싱 간격(spacing interval)들로 서로 이격될 수 있다. 검출기(12)의 길이 및 폭에 완전히 걸쳐서 연장되는 센서 요소들의 그리드는 어떤 검출기(12) 구성들에 이용된다고 해도 극히 드문 어떤 요소들을 제공하면 비현실적일 수 있는 것이 인식될 수 있다. 따라서, 2차원 어레이 패턴으로 선택가능한 센서 요소들(42)의 더 전략적인 배치는 촬영 장치의 타입 또는 사용되는 검출기의 타입에 따라 이용될 수 있다. 센서 요소들(42)은 동일한 치수들일 수 있거나 상이한 치수들 및 형상들을 가질 수 있다.

측정 신호들은 할당된 방사선 측정 면적 내에서 어드레스되는 센서 요소들(42)의 서브세트에 의해 수신되는 입사 이온화 방사선의 양에 대응한다. 각 선택된 적절한 서브세트는 복합 방사선 측정 영역(46)으로 간주되며, 측정 신호들은 이 적절한 서브세트로부터 획득된다. 각 복합 방사선 측정 영역(46)은 도 2a에서 복합 방사선 측정 영역들(46) 중 단지 하나에 대해 파선 형태로 도시된 경계(58)를 갖는다. AEC 제어기 회로(72)는 각 복합 방사선 측정 영역(46)을 할당 및 정의하며, 필요할 때 센서 요소들(42)의 적절한 서브세트를 변경함으로써 그 경계를 조정하여, 복합 방사선 측정 영역(46)의 공간 위치를 리사이징(resizing)하거나 시프팅(shifting)시키도록 입력된 명령어들에 응답한다.

도 2a에 도시된 바와 같이, 각 가능한 복합 방사선 측정 영역(46)에서 선택된 센서 요소들(42)은 실질적으로 접촉할 수 있다. 실질적으로 접촉한 센서 요소들(42)은 큰 블록(block) 또는 패턴으로서 복합 방사선 측정 영역(46)을 형성하여, 감지 면적의 에지(edge)를 따라 접촉 또는 터치하는 인접한 또는 "가장 가까운 이웃들"이다. 교대로, 복합 방사선 측정 영역(46)에서 인접 센서 요소들(42)은 서로에 대해 코너(corner)를 따라 실질적으로 접촉할 수 있다. 센서 요소들(42)은 별개의 구성요소들이기 때문에, 패널(45)에서 인접한 또는 접촉한 센서 요소들(42) 사이에서 필요한 어떤 적은 양의 공간이 전형적으로 존재한다. 소정 높이 및 폭 치수들(H 및 W)의 2개의 센서 요소들(42)은 실질적으로 접촉되는 것으로 간주될 수 있으며, 여기서 그들 사이의 스페이싱은 어느 하나의 값(H 또는 W)보다 작으며, 바람직하게는 어느 하나의 값(H 또는 W)의 절반보다 작으며, 더 바람직하게는 사이의 스페이싱이 0.1배를 초과하지 않을 때 H 또는 W보다 더 작다.

도 2a에도 도시된 바와 같이, AEC 제어기 회로(72)는 구성가능한 AEC 장치(40)에서 센서 요소들의 어레이와 결합된다. AEC 제어기 회로(72)는 공간 위치 및 면적 또는 사이즈를 포함하여, 하나 이상의 복합 방사선 측정 영역들(90)을 정의하기 위한, 그리고 선택된 센서 요소들(42)로부터 측정 신호들을 수집하기 위한 로직(logic)을 포함한다. AEC 제어기 회로(72)는 이후 더 상세히 설명되는 바와 같이, 센서 요소들의 어레이로 패키지될 수 있거나 개별적으로 제공될 수 있다. 그 다음, 수집된 측정 신호들은 x-선원으로부터의 x-선 발생의 제어를 위해 송신되는 출력 신호를 발생시키는데 이용된다. 수집된 측정 신호들은 합산, 평균화(averaging), 또는 어떤 다른 조합 방법의 이용과 같은 다수의 방법들로 조합될 수 있다.

도 2b 내지 도 2f는 파선들로 도시된 환자 또는 다른 피험자의 오버레이 아웃라인(overlaid outline)(44)에 대해 고려된 것으로서, 선택된 서브세트의 다양한 배치들을 도시한다. 도 2b에서, 가능한 센서 요소들(42)은 2개의 복합 방사선 측정 영역들(46 및 48)에 배치된다. 도 2c에서, 가능한 센서 요소들(42)은 단일 복합 방사선 측정 영역(50)으로 그룹화된다. 이 실시예에 있어서 센서 요소들(42)은 본 출원에서의 다른 장소에 도시된 것과 상이한 사이즈(면적) 및 스페이싱을 갖는다. 도 2d는 관심있는 기초 기관 조직 구조들에 근사하는 복합 방사선 측정 영역들(52 및 54)에 배치된 가능한 센서 요소들(42)을 도시한다. 도 2e는 상이한 사이즈들 및 형상들의 복합 방사선 측정 영역들(56)의 분산된 배치의 예를 도시한다. 비교를 통해, 도 2f는 본 발명의 실시예들에 이용될 수도 있지만, 종종 다른 배치들보다 훨씬 적은 유연성을 제공하는 고정 위치, 고정 사이즈의 센서 요소들(22)의 종래의 배치를 도시한다.

본 발명의 대체 실시예에 있어서, AEC 센서 요소들(42)은 도 2a 내지 도 2e에 도시된 일반적으로 직사각형 행-열 매트릭스(matrix) 배치와 다르게 배치될 수 있는 것이 주목되어야 한다. 예를 들어, 센서 요소들(42)은 규칙적인 또는 비규칙적인 형상의 분리 복합 방사선 측정 영역들로서 제공될 수 있다. 더욱이, 센서 요소들(42)은 패널(45)의 동일한 평면 내에 함께 장착되며 일반적으로 제공되는 별개 요소들의 형태일 수 있다. 그러한 실시예에 있어서, 센서 요소들(42)은 자기적으로 적소에 유지되는 플래튼(platen) 또는 다른 유지 디바이스를 따라, 또는 훅 앤드 루프 파스너(hook-and-loop fasteners)들 또는 다른 타입의 결합 디바이스를 이용하여 이동가능하며 위치가능할 수 있다.

촬영 장치

환자 체격의 변화들 및 촬영된 조직의 타입들의 차이들에 대해 구성가능한 AEC 디바이스를 구성함으로써, 본 발명의 실시예들은 특정 이미지에 대해 적절한 양의 노출을 전달하는 더 적응적 x-선 촬영 장치로 설계를 가능하게 한다. 도 3a 및 도 3b의 개략적인 블록도들은 이 유리한 배치를 제공하는 x-선 촬영 장치(60)의 실시예들을 도시한다. 이 블록도들은 단순화된 형태이고, 실제 축척을 도시할 목적으로 그려지지 않았으며, 설명을 단순화하는데 도움이 되도록 촬영 축에 대해 광범위하게 이격된 어떤 구성요소들을 도시하는 것이 주목된다. 예를 들어, AEC 구성요소들은 전형적으로 실제 환자 및 검출기에 매우 근접하게 이격되어 있다. 검출기(12)는 필름 카세트(film cassette) 또는 다른 타입의 홀더, 컴퓨터 촬영(CR) 검출기, 또는 디지털 방사선 촬영(DR) 검출기를 포함하는 방사선 촬영 검출기의 다수의 타입들 중 어느 하나일 수 있다. 도시된 실시예는 호스트 컴퓨터(62)에 선택적인 와이어(wire) 연결을 갖는 DR 검출기를 이용한다. AEC 장치(40)는 전형적으로 검출기(12)의 표면에 대해 또는 매우 가까이 위치되며; 도 3a 및 도 3b는 이하의 설명에 관하여 구성요소들의 더 좋은 가시성을 위해 이 통상의 거리를 연장한다.

도 3a 및 도 3b는 다수의 대체 방법들 중 어느 하나로 구체화될 수 있는 다수의 기능적 제어 구성요소들을 도시한다. 예를 들어, AEC 제어기 회로(72)는 AEC 장치(40) 자체에 일체화되는 구성요소일 수 있거나, 분리 구성요소일 수 있거나, 또는 검출기(12), 호스트 컴퓨터(62), 또는 어떤 다른 구성요소의 기능으로서 구현될 수 있다. 마찬가지로, 제어 논리 회로(70)는 발생기 컨트롤(68)과 조합될 수 있거나 호스트 컴퓨터(62) 또는 어떤 다른 적절한 구성요소의 기능으로서 구현될 수 있다. 이 제어 구성요소들의 기능들을 수행하기 위한 임의의 수의 배치들이 가능한 것은 시스템 공학(systems engineering) 및 설계 기술들에 숙련된 자들에 의해 인식될 수 있다.

도 3a에 도시된 실시예에 있어서, 센서 요소들의 배치를 구성하도록 작동가능한 감지 장치(73)의 부분으로서, 호스트 컴퓨터(62)는 AEC 장치(40) 상의 선택된 센서 요소들(42)로부터 결합된 신호들을 제공하는 AEC 제어기 회로(72)에 연결된다. 선택적인 디스플레이(64)는 이후 더 상세히 설명되는 바와 같이, 가능한 센서 요소들(42)의 설정 및 선택 또는 지정을 위해 운영자 인터페이스를 제공한다.

도 3a를 더 참조하면, 발생기 컨트롤(68)은 x-선원(16)으로부터 방사선 신호의 발생을 개시 및 종결하도록 기동가능하다. 선택적인 제어 논리 회로(70)는 AEC 제어기 회로(72)와 발생기 컨트롤(68) 사이에 인터페이스를 제공한다. 일 실시예에 있어서, 제어 논리 회로(70)는 AEC 제어기 회로(72)로부터 조합된 신호를 수신하며 x-선원(16)으로부터 방사선의 발생을 종결할 때를 결정하기 위해 그것을 임계값과 비교한다. 제어 논리 회로(70)가 호스트 컴퓨터(62)에 일체화되는 대체 실시예에 있어서, 호스트 컴퓨터(62)는 신호 비교를 수행하며 발생기 컨트롤(68)에 직접 종결 신호를 발송한다. 송신 채널(74)은 x-선원(16)에 의해 x-선 발생의 종결을 제어하기 위하여 AEC 제어기 회로(72)와 제어 논리 회로(70) 사이에 연장된다. 도 3a의 실시예에 있어서, 송신 채널(74)은 광섬유 케이블(fiber optic cable)과 같은 와이어 또는 케이블을 통해 도시된다. 도 3b의 실시예에 있어서, 무선 송신 채널(74)이 이용된다.

이제 도 3b를 참조하면, 무선 실시예에 있어서, 가능한 AEC 센서 요소들(42) 각각으로부터의 출력 신호는 DR 검출기(12)에서 온보드(on-board) 제어 로직에 제공된다. 이 제어 회로는 이 측정 신호들로부터 조합된 신호를 형성하며 x-선들의 발생을 종결하기 위해 제어 논리 회로(70)에 출력 신호를 송신하도록 작동가능하다.

도 3a 및 도 3b로부터, 다수의 대체 배치들은 전기적 또는 광 섬유 연결을 포함하는 유선, 또는 개별 AEC 센서 요소 출력 신호들로부터 발생되는 조합된 신호의 무선 송신을 이용하여 가능한 것이 용이하게 인식될 수 있다. 도 3a의 유선 송신 채널(74)에 있어서, 조합된 출력 신호는 발생기 제어 또는 제어 논리 회로(70)에서 임계값과 비교되는 아날로그 신호일 수 있다. 교대로, 이진(binary) 온/오프 신호는 검출기(12), AEC 장치(40), AEC 제어기 회로(72), 또는 호스트 컴퓨터(62)에서 신호 레벨들을 비교하는 것에 기초하여 제공될 수 있다. 도 3b의 무선 배치는 송신을 위해 디지털 값으로서 조합된 신호의 발생에 더 적합하다. AEC 장치(40)와 발생기 컨트롤(18) 사이의 통신은 촬영 시스템의 버키(bucky) 또는 다른 구성요소로부터 유선 또는 광 케이블 또는 무선 통신을 이용하여 달성될 수 있는 것도 주목되어야 한다. 개별 AEC 센서 요소들(42)로부터 출력 신호들을 조합하는 방법들은 특정 AEC 센서 요소들(42)에 대한 평균화, 가중화 가변성, 또는 개별 또는 합산 출력 신호들과의 직접적인 임계 비교를 포함할 수 있다. 언급된 바와 같이, 도시된 다양한 구성요소들, 특히 AEC 제어기 회로(72), 제어 논리 회로(70), 호스트 컴퓨터(62) 및 발생기 컨트롤(68)은 다수의 방법들 중 어느 하나로 구현될 수 있다. 예를 들어, 단일 하드웨어 구성요소는 설명되는 조합된 기능들 모두를 수행하는데 이용될 수 있다.

도 4a의 논리 순서도는 본 발명의 AEC 장치를 이용하여 노출을 종결하기 위한 동작 단계들을 도시한다. 설정 단계 S100에서, 피험자는 검출기 및 AEC 장치의 정면에 위치된다. 그 다음, 위치 좌표를 획득하는 단계 S110은 이미지를 획득하기 위한 방사선에 노출되는 피험자 또는 피험자의 부분을 나타내는 위치 좌표 데이터를 획득한다. 위치 좌표 데이터는 피험자 및 촬영 검출기에 참조될 수 있다. 그 다음, 방사선 측정 영역을 정의하는 단계 S120은 촬영될 피험자의 부분에 대응하는 적절한 방사선 측정 영역을 정의하도록 단계 S110으로부터 위치 좌표 데이터를 이용한다.

도 2d 및 도 2f를 다시 참조하면, 예를 들어, 방사선 측정 영역을 정의하는 단계 S120을 실행하는 것은 굵은 파선 아웃라인으로 도시된 2개의 원하는 방사선 측정 영역들(36)을 정의한다. 상대적인 공간 위치에 관하여, 원하는 방사선 측정 영역들(36)은 방사선 검출 및 측정에 가장 관심있는 피험자의 그 부분들에 대응한다. 그 다음, 센서들을 후속 할당하는 단계 S130은 특정 실시예에 있어서 AEC 장치의 센서 배치에 따라, 센서 요소들(22 또는 42)에 원하는 방사선 측정 영역들(36)의 실제 맵핑(mapping)을 수행한다.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 측정 요구들에 응답하기 위한 AEC 디바이스가 매우 적응가능해진다. 도 2d에 도시된 실시예에 있어서, 예를 들어, AEC 장치(40)는 위치 좌표 데이터에 따라 정의되는 원하는 방사선 측정 영역들(36)에 밀접하게 상관되는 2개의 복합 방사선 측정 영역들(52 및 54)을 제공한다. 일 실시예에 있어서, 아웃라인(44)은 디스플레이(64)(도 3a) 상에서와 같이, 운영자 인터페이스 디스플레이 상에 디스플레이된다. 아웃라인(44)은 환자 높이, 사이즈, 및 다른 통계적으로 획득된 치수 데이터에 의해 인덱스(index)되는 환자 아웃라인들의 라이브러리(library)로부터 획득된다. 그 다음, 복합 방사선 측정 영역들(52 및 54)은 아웃라인(44)을 이용하여 획득된 위치 좌표 데이터에 대한 정보에 기초하여 그리고 선택적으로 검사 및 다른 팩터(factor)들의 타입에 관한 정보에 따라 정의되는 단계 S130에서 자동적으로 계산된다.

본 발명의 대체 실시예에 있어서, 도 2f에 도시된 바와 같이, 복합 측정 영역들을 설정하기 위한 능력은 이용가능하지 않다. 이 경우에, AEC 장치(40)의 종래의 배치는 단지 소수의 센서 요소들(22)의 선택과 이용, 각각의 고정 면적 및 고정 위치를 허용한다. 원하는 방사선 측정 영역들(36)이 정의될 때, 이용가능한 것에 기초하여 센서 요소들의 적절한 배치를 제공하는 시도가 이루어진다. 도 2f에서, 원하는 방사선 측정 영역들(36)에 대응하는 상당한 오버랩(overlap)을 갖는 상부 2개의 센서 요소들(22)은 단계 S130에서 할당된다. 하부 센서 요소(22)는 단지 원하는 방사선 측정 영역들에 대응하는 주변 부분들을 갖기 때문에 이 예에 있어서 할당되지 않는다. 다수의 대체 접근법들은 단계들 S110, S120, 및 S130에 대해 이용되며, 이후 각각 더 상세히 설명될 수 있다.

도 4a의 순서를 따라 계속하면, 센서들을 할당하는 단계 S130은 측정 신호들을 출력으로서 획득하기 위해 어드레스되도록, 어느 AEC 센서 요소들이 복합 방사선 측정 영역들(46)의 부분으로서의 이용에 가능하게 되는지를 결정한다. 이것은 가변 AEC 센서 구성을 설정한다. 다수의 대체 실시예들은 이후 더 상세히 설명되는 바와 같이, 단계 S130에서 센서들을 할당하는데 이용될 수도 있다.

도 4a 순서를 계속하면, 자동적으로 실행된 단계들은 노출을 시작하는 단계 S140을 뒤따른다. 단계 S140은 x-선 방사선을 제공하는 발생기를 활성화하여 노출을 개시한다. 노출이 시작되므로, 샘플링 단계 S150은 선택된 AEC 센서 요소들(42)을 주기적으로 또는 계속적으로 어드레스함으로써 측정 신호들을 획득하는 것을 자동적으로 실행한다. 비교 단계 S160은 노출이 종료되어야 하는지를 판단하기 위해 참조 임계값에 대해 획득된 측정 신호 레벨을 체크한다. 측정된 AEC 측정 신호들이 임계 신호값을 아직 충족하지 않으면, 샘플링 단계 S150은 다시 실행되고, 비교 단계 S160은 임계값이 충족될 때까지 반복되며, 종결 단계 S170은 노출을 종료하도록 수행된다.

도 4a에 도시된 단계들의 순서는 예시적이고, 노출 에너지를 측정하며 x-선 발생을 종결할 때를 결정하기 위한 다수의 변화들을 허용하는 것이 인식될 수 있다. 방사선 측정 영역을 정의하는 단계 S120은 예를 들어 획득되는 이미지의 타입에 기초하여 다수의 방법들로 수행될 수 있다. 검사 타입, 환자 조건, 소아 정보, 또는 다른 팩터들에 대한 추가 정보는 센서들을 할당하는 단계 S130을 수행하는데 이용될 수 있다. 운영자 입력 값들은 AEC 장치(40)의 전체 작용을 변경시키는데 이용될 수 있다. 교대로, 운영자 상호작용 없는 디폴트(default) 동작이 이용될 수 있다. 도 4a를 참조하여 설명된 방법은 펄스 형태로 노출들의 순차적 순서를 이용하여 다수의 이미지들을 획득하며 이 처리 동안 측정 신호를 취득하는 촬영 시스템에 이용될 수 있고; 교대로, 도 4a에 도시된 처리는 종결 신호가 수신될 때까지 계속적으로 방사선을 적용하는 시스템에 이용될 수 있다.

위치 좌표를 획득하는 단계 S110

도 4a의 순서를 참조하여 설명된 바와 같이, 위치 좌표 데이터는 이용되는 방사선 측정 영역을 정의 및 구성하는데 이용될 수 있도록 피험자에 대해 획득된다. 위치 좌표 데이터 자체는 다수의 형태들 중 어느 하나를 취할 수 있으며 관련 좌표 데이터는 예를 들어 컴퓨터 액세스가능 메모리에 저장될 수 있다. 촬영 시스템의 구성요소들과 관련되는 위치 데이터를 획득 및 저장하기 위한 방법들 및 접근법들은 촬영 기술에 숙련된 자들에게 알려져 있다.

도 4b는 본 발명의 실시예에 따른 위치 좌표를 획득하는 단계 S110에 대한 단계들의 순서를 도시한다. 선택적인 참조 이미지 캡처(capture) 단계 S112는 x-선 이미지에 대한 출력 신호를 획득하기 위해 어느 AEC 센서 요소들이 어드레스되는지를 결정하기 위한 참조로서 이용될 수 있는 피험자의 이미지를 획득한다. 도 3a 또는 도 3b에 도시된 구성을 이용하여, 예를 들어 카메라(30)는 어느 AEC 센서 요소들이 가능해야 하는지를 결정하는데 이용되는 피험자의 참조 가시광 이미지를 획득하도록 작동가능하다. 카메라(30)는 이 실시예들에 있어서 x-선원(16)과 정렬된다. DR 촬영 검출기를 이용하는 대체 실시예에 있어서, 초기 순간 방사선 펄스(pulse)는 AEC 센서 인에이블먼트를 구성하는데 이용되는 위치 좌표 데이터를 제공하여, 검출기로부터 참조 이미지 데이터를 발생시키기 위한 x-선원(16)으로부터 발생된다. 바람직하게는, 이 순간 방사선 펄스로부터의 에너지는 검출기로부터 노출 이미지를 획득하기 위해 이후에 제공된 방사선에 추가될 수 있다. 대체 실시예에 있어서, 선택적인 마이크로파 스캐너(microwave scanner)(32)는 피험자의 아웃라인 이미지를 획득하는데 이용된다. 그 다음, 선택적인 이미지가 단계 S112에서 획득될 때, 호스트 프로세서 상에서 실행되는 이미지를 분석하는 단계 S114는 예를 들어 참조 이미지 캡처 단계 S112에서 획득되는 이미지 데이터를 분석한다. 그 다음, 위치 좌표를 발생시키는 단계 S116은 방사선에 노출되는 피험자의 부분을 표시하며 하나 이상의 방사선 측정 영역들을 정의하기 위한 요구된 위치 좌표를 발생시킨다. 이미지 데이터는 이후 더 상세히 설명되는 바와 같이, 디스플레이(64) 상에 AEC 센서들의 운영자 구성을 돕는데 이용될 수도 있다.

방사선 펄스가 단계 S112의 일부로서 이용될 때, 환자의 아웃라인은 도 2a에 도시된 그리드 배치를 이용하는 경우에 용이하게 획득될 수 있다. 측정 신호들을 평가함으로써, 피험자에 의해 차단되지 않은 방사선을 받는 센서 요소들(42)은 x-선원(16)에 대해 피험자 뒤에 놓인 센서 요소들(42)과 명확히 구별될 수 있다.

대체 실시예에 있어서, 운영자에 의해 또는 환자 병력 또는 다른 소스(source)로부터 제공되는 환자에 대한 정보는 위치 좌표 정보를 획득하는데 이용된다. 예를 들어, 환자의 상대 체격, 검사의 타입, 및 이전 검사들로부터의 관련 데이터는 디폴트 위치 좌표 데이터를 발생 또는 수정하는데 이용될 수 있다. 표준 프로파일(standard profile)은 계산된 결과들에 관한 체크로서 운영자에게 디스플레이되는 아웃라인(44)(도 2b 내지 도 2f)을 위해 제공될 수 있다.

위치 데이터의 자동 발생은 환자의 위치가 촬영 검출기 및 AEC 또는 다른 감지 장치에 대해 어느 정도 고정되는 경우에 상당히 간단해질 수 있다. 그 다음, 상대 위치 상의 가정들은 그러한 경우에 촬영될 구조에 대한 합리적인 가능성으로 이루어질 수 있다. 그러나, 더 많은 휴대용 x-선 시스템들에 있어서, 검출기에 대한 환자 위치는 추가 위치 결정 정보가 종종 도움이 되도록 어느 검사로부터 다음 검사로 변화될 수 있다. 일 실시예에 있어서, 기술자에 의한 수동 입력들은 환자 위치를 표시하거나 디폴트 위치를 조정하거나 방사선 감지를 사이즈하는데 이용된다.

방사선 측정 영역을 할당하는 단계 S120

도 4a를 다시 참조하면, 방사선 측정 영역을 정의하는 단계 S120은 단계 S110의 결과들에 기초하여, 다수의 방법들로 수행될 수 있다. 자동 할당이 수행될 수 있으며, 여기서 호스트 컴퓨터(62) 또는 다른 프로세서는 하나 이상의 센서 요소들(42)이 원하는 면적을 지정한다. 대체 실시예에 있어서, 할당된 방사선 측정 영역은 이후 더 상세히 설명되는 바와 같이, 운영자 인터페이스 상에서 면적을 추적함으로써와 같이 기술자에 의해 정의된다.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 방사선 측정 영역을 정의하는 단계 S120 및 AEC 센서 요소들을 할당하는 단계 S130은 단일 동작으로 실행된다. 예를 들어, 도 1b의 종래의 AEC 장치를 이용할 때, 센서 요소들(22)의 사이즈(면적) 또는 위치를 결정하는 어떤 유연성도 없으며; 이 구성요소들은 고정된 사이즈 및 위치이다. 이것은 도 4a의 순서를 단순화하지만, 특정 환자의 구체적인 검사 요건들에 대한 유연성 및 적응성의 점에서 제한된 해결법이다. 대체 실시예에 있어서, 이용가능한 감지 요소들의 풀 세트로부터 선택된 적절한 서브세트에서 2개 이상의 감지 요소들을 그룹화함으로써 방사선 감지 면적들의 구성가능한 사이즈 및 위치를 허용하는 장치를 이용할 때, 단계들 S120 및 S130은 개별적으로 고려될 수 있다. 단계 S120은 방사선 측정에 대한 원하는 면적을 정의하고; 그 다음, 단계 S130은 특정 경우들에서 운영자 조정을 허용하는 일 실시예에 있어서, 원하는 면적에 대응하는 구체적인 센서들의 할당을 제공한다.

대체 실시예에 있어서, 기술자는 이후 더 상세히 설명되는 바와 같이, 환자를 대기할 때 포인터 또는 표시자를 이용함으로써 원하는 방사선 측정 면적을 정의할 수 있다.

센서들을 할당하는 단계 S130

센서들을 할당하는 단계 S130은 다수의 방법들로 실행될 수 있다. 일 실시예에 따르면, 할당은 이후 더 상세히 설명되는 바와 같이, 디스플레이(64) 상에 입력된 명령어들을 이용하거나 AEC 장치(40) 자체 상에 터치 센서들을 이용하여 입력되는 명령어들로부터 실행된다. 대체 실시예에 따르면, 프로그래밍된 할당은 복합 방사선 측정 영역들(46)의 디폴트 세트가 운영자에 의해 변경되지 않으면 자동적으로 이용되게 한다. 컴퓨터 액세스가능 메모리 또는 저장 매체로부터 획득되는 미리 프로그래밍된 명령어들은 호스트 컴퓨터(62)(도 3a) 상에서와 같이, AEC 센서 요소 선택의 문제에 논리 처리를 적용하기 위해 실행된다. 따라서, 예를 들어 컴퓨터 로직은 도 2a 내지 도 2f의 예들에 도시된 것들과 같은 AEC 센서 요소들의 배치를 구성하는데 이용된다. 선택되는 배치는 단계 110에 대해 미리 설명된 바와 같이, 선택을 위해 가능한 패턴들의 세트 중 하나인 미리 저장된 패턴으로부터 나올 수 있거나, 수행될 수 있는 촬영 검사의 타입에 대해 그리고 환자의 아웃라인에 대해 유도되는 정보로부터 계산되거나, 획득된 이미지로부터 계산되거나, 환자 높이 및 사이즈에 근사하는 저장된 아웃라인으로부터 획득될 수 있다. AEC 센서 요소들의 할당 또는 인에이블먼트는 노출 동안 각각의 출력 신호들을 제공하기 위한 요소들이 어드레스되는지의 여부를 지칭하는 것이 주목된다. 모든 센서 요소들(42)에는 동작을 위해 전력이 제공될 수 있지만, 단지 어드레스되는 것들은 노출 측정에 대한 출력으로서 그 측정 신호들을 제공할 수 있다. 일 실시예에 있어서, 할당된 AEC 센서 요소들이 식별되고 그 어드레스들이 메모리 버퍼에 리스트된 다음에, 노출 동안 주기적으로 또는 계속적으로 각각 리스트된 요소로부터 측정 신호 정보를 액세스하는데 이용된다.

일 실시예에 따르면, 센서들을 할당하는 단계 S130은 하나 이상의 센서 요소들(42)의 응답을 구성하기 위한 설정 절차들도 선택적으로 포함한다. 예를 들어 감도 레벨을 조정하거나 mAs 또는 다른 단위로 노출 임계를 설정하는 조정들이 이루어질 수 있다. 이 설정은 각 센서 요소(42)로부터 제공된 측정 신호의 타입 및 각각의 측정 신호들이 이후 처리에 조합 및 이용될 수 있는 방법에 관한 것이다. 대체 실시예에 있어서, 어떤 운영자 조정도 필요하지 않고 센서 요소(42) 그룹화 및 응답의 양상들은 변경되지 않으면 자동적으로 할당 및 이용된다.

서브세트의 선택

본 발명의 실시예들은 기술자로 하여금 입력된 명령어에 의해 AEC 장치(40)의 어느 센서 요소들(42)이 방사선 촬영 이미지에 이용되는지를 선택하게 한다. 도 5a에 도시된 실시예에 있어서, 디스플레이(64)는 센서 요소(42) 선택에 대한 제어 콘솔(control console)의 타입으로서 이용된다. 환자 또는 다른 피험자의 선택적인 아웃라인 이미지(80)는 AEC 장치 상의 대응하는 센서 요소들과 정렬되는 AEC 장치(40)의 이미지(82)를 통해 오버레이된다. 도시된 실시예에 있어서, 소정 복합 방사선 측정 영역들(84)의 패턴들은 도시된 터치스크린 선택을 이용하거나 마우스(mouse), 조이스틱(joystick), 또는 다른 적절한 포인터(pointer)를 이용하는 것과 같이 운영자 선택을 위해 제공된다. 세이브 명령(save command)(88)은 선택된 센서 요소들(42)을 가능하게 하며 기술자가 촬영 처리를 진행하게 한다. 이 배치에 있어서, 예를 들어 기술자는 메뉴 선택에서 또는 운영자 인터페이스 상의 무선 버튼(radio button)(92)을 이용하여 환자의 사이즈: 라지, 미디움, 또는 스몰과 같은 소수의 선택들을 제공한다. 촬영될 구조에 관한 정보, 투사 정보, 및 환자 위치와 같은 현재 시야 정보는 설정 데이터로부터 입력 또는 획득될 수도 있다. 그 다음, 이 필드에서의 선택은 시각화에 대한 필요 또는 기술자에 의한 위치 결정의 이용없이 자동적으로 복합 방사선 측정 영역(84) 배치를 조정한다. 교대로, 기술자 조정이 허용될 수 있다.

일 실시예에 있어서, 센서들을 할당하는 단계 S130에 대한 센서 요소들의 서브세트의 선택은 DICOM 시스템 또는 다른 데이터베이스(database)에 저장된 환자 기록으로부터 또는 이미지 타입 및 설정 정보로부터 또는 이전 x-선들로부터의 나이 및 높이 또는 다른 데이터와 같이 다른 네트워킹된 소스들로부터 이용가능한 환자에 대한 정보를 사용한다. 획득된 이미지의 타입 및 이용된 전력 레벨들에 대한 보조 정보는 환자 사이즈를 표시할 수도 있다. 따라서, 예를 들어 환자 사이즈에 대한 정보는 간접적으로 유도되거나 다르게 획득되며 복합 방사선 측정 영역(46)의 사이즈(면적) 및 위치를 지정하는데 이용될 수 있다.

도 5b는 센서 요소(42) 선택들을 구성하여 복합 방사선 측정 영역의 경계, 위치, 및 사이즈를 조정함으로써 기술자에게 추가적인 유연성을 제공하는 보다 더 상호작용 배치를 도시한다. 여기서, 복합 방사선 측정 영역(84)의 위치 및 경계는 도시된 터치스크린을 이용하는 것과 같이 기술자에 의해 추적된다. 기술자는 아웃라인 내에서 모든 센서 요소들(42)을 선택하도록 면적을 아웃라이닝할 수 있다. 선택적으로, 기술자는 어레이에서 임의의 개별 센서 요소(42)를 개별적으로 가능하게 하거나 이용하지 않을 수 있다. 기술자는 환자 높이 또는 체격에 따라 상하로 복합 방사선 측정 영역(84)을 이동시키는 것과 같이 하나 이상의 복합 방사선 측정 영역들(84)의 위치를 공간적으로 시프트시키는 동작들을 수행할 수도 있다. 이것은 "드래그(drag) 및 드롭(drop)" 조작 유틸리티(utility)들, 키보드 명령들, 또는 다른 명령어 입력을 이용하여 수행될 수 있다. 복합 방사 측정 영역(84)의 리사이징은 기술자에 의해 실행될 수도 있다. 다수의 사용자 인터페이스 유틸리티들 중 어느 하나는 복합 방사선 측정 영역들(46)의 위치 또는 사이즈를 조정하도록 이용될 수 있는 것이 인식될 수 있다.

또한, 기술자가 특정 복합 방사선 측정 영역(84)에 대해, 또는 일 실시예에 있어서 복합 방사선 측정 영역(84) 내의 2개 이상의 센서 요소들(42)의 각각에 대해 개별적으로 노출 레벨 또는 신호 레벨 임계를 지정하기 위한 입력 윈도우(90)가 도 5b에 도시되어 있다. 일 실시예에 있어서, 윈도우(90)는 기술자가 값 입력 또는 조정을 허용하여, 특정 복합 방사선 측정 영역(84)을 구성하거나 포인팅할 때, 디스플레이한다. 윈도우(90)는 AEC 교정 값들의 조정과 관련된 데이터를 입력하는데 교대로 이용될 수 있다.

도 5c의 사시도는 복합 방사선 측정 영역들(46)을 형성하도록 기술자가 AEC 장치(40) 자체 상에서 적절한 AEC 센서 요소들(42)을 선택하는 대체 배치를 도시한다. 접촉 감지 요소들(도시되지 않음)은 기초 AEC 센서 요소들(42)이 가능한 기술자 명령어들을 수용하도록 제공된다. 가청 비프(beep) 또는 다른 표시는 각 센서 요소(42)의 선택을 증명하도록 제공된다. 일 실시예에 있어서, AEC 제어기 회로(72)(도 3a) 상의 수동 스위치 설정은 어느 센서 요소(42)가 가능한지를 선택하도록 기술자에 의해 이용된다. 대체 실시예에 있어서, 하나 이상의 AEC 센서 요소들(42)은 AEC 장치(40)의 표면에 자기적으로 결합되어 이동가능하다.

또 다른 실시예에 있어서, x-선 콘솔은 AEC 장치(40) 설정에 대한 운영자 인터페이스 툴(operator interface tool)로서 활용될 수 있다. 일 실시예에 있어서, 미리 설명된 바와 같이, 환자 사이즈 설정은 이용될 장치(40)의 센서 면적들 사이에서 거리를 간단히 조정함으로써 AEC 장치(40)를 구성하는 운영자에 의해 먼저 수행된다. 도 1b의 전체 패턴은 시작점으로서 여전히 이용되지만; 기술자 또는 다른 운영자는 적절한 복합 방사선 측정 영역들을 형성하도록 AEC 센서 요소들의 서브세트 그룹화 및 위치를 대응적으로 변경할 수 있다. 이것은 기술자가 x-선 종결에 대한 원하는 신호 레벨을 지정하기 위해 기존 운영자 콘솔 인터페이스를 활용가능하게 한다.

도 5d의 사시도를 참조하면, 노출 스위치(94) 또는 어떤 다른 장치가 방사선 측정 영역을 정의하며(도 4a에서의 단계 S120) AEC 장치(40) 상에 각 복합 방사선 측정 영역(46)을 위치 결정 및 사이징하기 위한(도 4a에서의 단계 S130) 휴대용 포인터의 타입으로서 이용되는 실시예가 도시되어 있다. 일 실시예에 있어서, 원하는 위치에서 노출 스위치(94)를 배치 및 유지하는 것은 대응하는 복합 방사선 측정 영역의 위치 및 사이즈를 조정한다. 대체 포인팅 디바이스들이 이용될 수 있다. 관련 실시예들은 복합 방사선 측정 영역들(46)을 위치 결정 및 사이징하기 위한 기술자 행동들 또는 가청 명령들을 분석 및 이용한다. 일 실시예에 있어서, 기술자는 방사선 측정 영역들(46)이 리사이즈 또는 이동하는 것을 운영자 인터페이스 상에 표시한다. 그 다음, 어떤 타입의 포인팅 디바이스 또는 기술은 표시된 복합 방사선 측정 영역(46)을 재위치 또는 리사이징하기 위해 이용된다.

본 발명의 실시예에 따르면, 각 복합 방사선 측정 영역(46)의 위치는 평면 내의 검출기(12)의 방위의 각도에 관계없이 유지될 수 있다. 교대로, 복합 방사선 측정 영역들(46)은 검출기(12)의 회전과 함께 회전하도록 구성될 수 있다.

일반적으로, 다수의 복합 방사선 측정 영역들(46)이 있는 경우에, 이 영역들은 비오버랩핑된다. 그러나, 다양한 배치들에서 2개의 복합 방사선 측정 영역들(46) 사이의 경계들의 어떤 오버랩이 있을 수 있다.

일 실시예에 따르면, 환자 노출에 이용되는 AEC 장치(40)의 구성에 대한 정보는 이미지에 대한 DICOM 메타데이터(metadata)의 부분으로서 세이브 및 저장된다.

잡음 또는 다른 송신 문제에서 기인하는 가능한 지연들로 인해, 무선 통신은 명령들을 송신하는데 덜 효과적일 수 있으며 어떤 환경들에서 에러 교정(error-proof)될 수 없는 것이 주목되어야 한다. 일 실시예에 있어서, 추가적인 디폴트 타임아웃은 과도한 노출의 가능성을 감소시키는데 도움이 되도록 적용된다. 이 타임아웃 값은 환자 사이즈, 촬영 타입, 또는 다른 팩터들과 같은 변수들에 대해 조정될 수 있다.

본 설명 및 예들은 주로 인간 환자 또는 다른 피험자의 방사선 촬영 의료 촬영에 관한 것일지라도, 본 발명의 장치 및 방법들은 다른 방사선 촬영 애플리케이션들에 적용될 수도 있는 것이 주목되어야 한다. 이것은 비파괴적 테스팅(NDT: non-destructive testing)과 같은 애플리케이션들을 포함하며, 이를 위해 방사선 촬영 이미지들은 촬영된 피험자의 상이한 특징들을 강조하도록 상이한 처리 취급들에 의해 획득 및 제공될 수 있다.

센서 요소 위치의 디스플레이

본 발명의 실시예들은 이미지 형성 장치를 이용하여, 촬영된 피험자에 대해 AEC 센서 요소들의 위치 결정을 식별함으로써 기술자를 원조한다. 이 식별은 다수의 방법들로 수행될 수 있다. 도 6a의 평면도를 참조하면, 환자의 아웃라인 이미지 또는 스틸(still) 또는 이동 이미지와 같은 피험자를 나타내는 이미지(82)를 갖고, 이미지 형성 장치의 역할을 하는 디스플레이(64)가 도시되어 있다. 또한, 각 센서 요소(96)는 도 6a의 예에서 피험자와 관련하여 디스플레이된다.

교대로, 도 6b에 도시된 바와 같이, 센서 요소(96)의 상대 위치는 센서 요소(96)의 아웃라인 또는 면적이 환자 또는 다른 피험자(100) 상에 직접 강조되도록 투사에 의해 디스플레이될 수 있다. 도 6b의 예에 있어서, 하부 센서 요소(96)는 이용을 위해 어드레스되거나 가능해지고 이 상태들을 표시하는 컬러로 나타난다. 2개의 다른 센서 요소들(98)이 이용가능하지만, 이용을 위해 현재 어드레스되거나 가능하지 않으므로; 이 비사용된 센서 요소들(98)은 그 위치가 식별될지라도 상이한 컬러로 나타난다.

도 7의 논리 순서도는 본 발명의 실시예에 따른 센서 요소들의 디스플레이에 이용되는 단계들의 순서를 도시한다. 도 8은 에너지 센서 요소 위치를 결정 및 표시하는데 이용될 수 있는 방사선 촬영 시스템 및 위치 감지 장치(110)의 구성요소들의 개략도를 도시한다.

도 7의 순서에 대한 필요 조건으로서, 하나 이상의 센서 요소들은 이전에 설명된 바와 같이, 현재 이미지와의 이용을 위해 할당되거나 가능해질 수 있다. 위치 감지 장치(110)를 이용하여 획득되는 참조 식별 단계 S210은 할당된 센서 요소 또는 요소들(그리고, 선택적으로 이용가능하지만 할당될 수 없는 하나 이상의 센서 요소들)의 상대 공간 좌표를 결정하기 위한 기초의 역할을 하는 피험자 상의 참조 위치를 정의 및 식별하며 후속 디스플레이에 이용된다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 참조 위치는 센서 요소의 위치 결정이 예를 들어 피험자의 아웃라인에 대해 또는 피험자 상의 또는 내의 어떤 다른 참조 위치에 대해 결정되도록 촬영될 수 있는 피험자(14)의 부분에 관한 것이다. 대체 실시예에 있어서, 참조 위치는 교대로 촬영 검출기(12)에 관한 것이다.

위치 감지 장치(110)는 x-선 방사선의 경로에 있는 촬영 장치(60)의 다양한 구성요소들의 상대 공간 위치를 결정하는데 이용되는 다수의 구성요소들을 포함할 수 있다. 도 8의 실시예에 있어서, 카메라(30) 및 그 관련 제어 논리 회로(70)는 이미지를 획득 및 분석함으로써 위치 결정 정보를 제공하는데 이용되는 위치 감지 장치(110)의 부분이다. 센서들, 이미터(emitter)들, 및 반사기(reflector)들의 다른 배치들은 관련 참조 위치 데이터를 획득하기 위한 위치 감지 장치(110)의 부분으로서 이용될 수 있다.

도 7의 순서를 계속하면, 단계 S210에서 식별되는 참조 위치는 노출을 위해 AEC 센서 요소들을 위치시키기 위한 다른 포인트들이 식별될 수 있는 피험자에 관한 적어도 하나의 고정 포인트를 제공한다. 이 참조 위치는 이후 설명되는 바와 같이, 설치 자체에 의해 고정될 수 있다. 이 참조 포인트는 예를 들어 장치의 아웃라인과 같은 카메라(도 8)의 시야에 위치되는 마커(marker) 또는 다른 요소로부터 예를 들어 교대로 획득될 수 있다. 참조 위치는 버키 또는 다른 홀더 상의 위치들로부터, 또는 검출기, AEC 패널, 또는 피험자 상의 위치들로부터 방출되는 무선 주파수(RF: radio-frequency) 신호와 같은 반사된 광 신호 또는 방출된 신호를 이용하여 검출될 수 있다. 신호는 참조 디바이스에서 다시 반사되거나 검출된 상태에서, x-선원(16)에 결합되는 이미터로부터 교대로 방출될 수 있다.

방사선 촬영에 이용되는 검출기들의 위치를 식별하기 위한 다수의 방법들이 수행된다. 예를 들어, 본 출원에 참고 문헌으로 통합된 발명의 명칭이 "ALIGNMENT APPARATUS FOR IMAGING SYSTEM USING REFLECTIVE ELEMENT" 인 Wang 등에 공동 양수된 미국 특허 제7,806,591호는 검출기에 x-선 신호의 정렬을 위한 광원 및 반사성 요소들의 이용을 설명하며; 삼각화와 같은 툴들과 조합된 광 또는 다른 방출된 전자기 신호를 이용하는 유사한 기술들은 위치 감지 기술에 숙련된 자들에게 알려진 방법들을 이용하여 카메라(30)(도 8)와 함께, 참조 위치를 식별하도록 위치 감지 장치(110)의 부분으로서 이용될 수도 있다. 도 8은 광 신호를 방출하기 위한 광원(114) 및 이 목적에 이용될 수 있는 하나의 반사기 요소(112)를 도시한다.

교대로, 참조 위치는 x-선 시스템(10)의 부분으로서 설치된 구성요소들의 공간 배치에 따라 고정될 수 있다. 따라서, 예를 들어 센서 요소들(96)은 예를 들어 검출기(12)에 대해 고정 위치들을 갖는 것과 같이 촬영 시스템 내에서 동일한 위치를 항상 가질 수 있다.

참조 식별 단계 S210에 이어, 센서 요소 위치 결정 단계 S220이 실행된다. 단계 S220은 단계 S210으로부터 획득된 참조 또는 피험자 위치 정보에 각 할당된 노출 센서 요소의 위치를 관련시킨다. 단계 S220은 센서 요소들 자체의 위치가 알려져 있는 방법에 따라 다수의 방법들로 실행될 수 있다. 일 실시예에 있어서, 예를 들어 피험자의 위치는 참조 위치이다. 그 다음, 피험자에 대한 검출기(12)의 위치는 결정되며, 따라서 단계 S210으로부터 참조 위치에 하나 이상의 센서 요소들의 위치들을 관련시키는데 이용된다. 다른 실시예에 있어서, 촬영 검출기(12)의 아웃라인은 참조 위치를 제공하며, 센서 요소 위치 결정 단계 S220로부터의 추가적인 정보는 검출기에 센서 요소들의 위치들을 관련시키는데 이용된다.

도 7의 순서를 여전히 계속하면, 이미지 형성 장치를 이용하여 참조 위치에 대한 방사선 에너지 센서 요소들의 식별된 위치를 디스플레이하기 위한 디스플레이 단계 S230이 실행된다. 본 발명의 문맥에서, "방사선 에너지 센서 요소"는 피험자에 의해 수신되는 방사선의 양을 표시 및 제어하는데 이용되는 디바이스이다.

일 실시예에 있어서, 도 6b에 대해 이전에 설명된 바와 같이 그리고 도 8에도 도시된 바와 같이, 투사기(140)는 방사선 에너지 센서 요소들에 대한 식별된 위치를 디스플레이하는 이미지를 형성하는데 이용되는 이미지 형성 장치이다. 투사된 이미지는 피험자(14) 상에, 또는 피험자가 적당한 위치에 있지 않은 경우에 촬영 검출기(12)의 표면 상에 형성될 수 있다. 도 8에서 x-선원 상에 장착되어 도시된 투사기(140)는 예를 들어 미합중국 워싱턴주 레드몬드 소재의 마이크로비전 인코포레이티드(Microvision Inc.)의 피코 투사기 디스플레이(Pico Projector Display), 또는 캘리포니아주 산타아나 소재의 아악사 테크놀러지스 인코포레이티드(AAXA Technologies, Inc.)의 마이크로 투사기(Micro Projector)와 같은 피코 투사기(pico-projector)일 수 있다. 이들과 같은 이미지 형성 디바이스들은 소형 사이즈, 저중량, 및 저 전력 요건들을 포함하는 다수의 이유들로 유리하다. 휴대폰 및 다른 고가의 휴대용 전자 디바이스들에 현재 이용되는 이 소형 풋프린트 투사기(small-footprint projector)들은 디스플레이 표면 상에 발광 다이오드들(LEDs: light-emitting diodes) 또는 레이저(lager)들과 같은 하나 이상의 저전력 고체 상태 광원들을 스캐닝할 수 있다. 이 타입의 투사기는 거리들의 범위에 걸친 투사를 위해 소수의 광 구성요소들을 사용한다. 고체 상태 광원 자체는 투사되는 이미지 픽셀들에 대해서만 전력이 소모되도록 필요에 따라 전형적으로 신속하게 턴 온 및 오프될 수 있다. 이것은 배터리 전력이 투사기(140)에 이용될 수 있도록 디스플레이 장치가 저전력 레벨들에서 동작되게 한다. 대체 실시예들은 텍사스 인스트루먼츠 인코포레이티드(Texas Instruments, Inc.)의 디지털 광 프로세서(DLP: Digital Light Processor)와 같은 디지털 마이크로미러 어레이(digital micromirror array); 실리콘 라이트 머신즈 인코포레이트(Silicon Light Machines, Inc.)의 격자 광 밸브(GLV: Grating Light Valve) 디바이스와 같은 마이크로 전기기계적 격자 광 밸브(micro-electromechanical grating light valve)들의 어레이; 또는 실리콘 액정 표시 (LCOS: Liquid Crystal on Silicon) 디바이스를 포함하는 액정 디바이스(LCD: liquid crystal device)를 사용하는 것들과 같은 이미지 형성 장치로서 다른 타입들의 전자 촬영 투사기들을 이용한다.

레이저들이 투사기(140)에서 조명원들로서 이용되는 경우에, 환자 또는 기술자의 눈들에 코히어런트 레이저 광(coherent laser light)의 입사를 최소화하기 위한 추가적인 조치가 취해질 수 있다. 매우 저전력 레이저들은 임의의 포인트에서 단지 미량의 광 강도를 전달하는 스캐닝율(scanning rate)들로 이용된다. 확산성 요소는 예를 들어 투사된 이미지의 품질 또는 유틸리티에 영향이 거의 없는 강도를 감소시키는 레이저 광의 일부 산란을 제공하도록 광 경로에 제공될 수 있다. 다양한 타입들의 발광 다이오드들(LEDs) 또는 다른 저전력 고체 상태 광원들은 유기 LED(OLED) 디바이스들과 같이 교대로 이용될 수 있다.

투사기(140)에 의해 투사되는 이미지는 다수의 형태들 중 어느 하나를 취할 수 있으며 센서 요소들의 위치의 아웃라인을 포함할 수 있거나 센서 요소들의 위치를 표시하는 하나 이상의 참조 마크(mark)들을 포함할 수 있다. 상이한 컬러들은 할당되거나 비할당된 센서 요소 상태들을 표시하기 위해 이용될 수 있다. 투사된 이미지(들)은 센서 요소 위치를 표시하도록 아웃라인을 블링크(blink) 온 및 오프하거나 추적할 수 있다.

투사기(140)는 예를 들어 소스에 대한 알려진 공간 위치를 갖도록 그리고 그것을 다수의 방법들로 장착함으로써 x-선원(16)과 결합될 수 있도록 x-선원(16)과 위치적으로 관련된다. 일 실시예에 있어서, 투사기(140)는 콜리메이터(collimator) 또는 붐(boom) 메커니즘들의 측면 상에 장착된다. 교대로, 투사기(140)는 x-선원의 콜리메이터 내측 상에 장착된다. x-선원 하우징의 내부에 있는 빔스플리터(beamsplitter) 또는 이동가능한 미러는 x-선원 하우징 내로부터 투사 이미지를 전달하는데 교대로 이용될 수 있다.

도 8에 도시된 바와 같이 그리고 도 6a를 참조하여 이전에 설명된 바와 같이, 또한 방사선 에너지 센서 요소들의 위치는 다른 타입의 이미지 형성 장치로서의 디스플레이(64)와 같은 디스플레이 모니터 상에 또는 교대로 디스플레이될 수 있다. 이 디스플레이는 환자 또는 다른 피험자의 이미지 또는 아웃라인을 도시할 수 있거나, AEC 장치(40) 또는 촬영 검출기(12) 상에 다른 참조 위치들의 아웃라인을 도시할 수 있다.

광, RF 신호들, 초음파(ultrasound), 또는 다른 신호 타입들을 이용하는 방법들을 포함하여 촬영 장치에서 위치 좌표 데이터를 획득하기 위한 다수의 방법들이 있는 것이 인식될 수 있다.

본 발명의 장치 및 방법들은 도 1b의 종래의 센서 요소(22) 배치 및 도 2a 및 이하에 도시된 센서 요소들(42)의 구성가능한 배치를 포함하여 임의의 타입의 자동 노출 제어 장치(40)에 이용될 수 있는 것이 주목된다.

센서 요소(96)는 도 1b에 도시된 종래의 배치에서와 같은 단일 센서 요소(22)일 수 있거나, 도 2d에 이전에 도시된 가변 영역들(52 및 54)과 같은 복합 방사선 측정 영역일 수 있다.

본 설명 및 예들은 주로 인간 환자 또는 다른 피험자의 방사선 촬영 의료 촬영에 관한 것일지라도, 본 발명의 장치 및 방법들은 다른 방사선 촬영 애플리케이션들에 적용될 수도 있는 것이 주목된다. 이것은 비파괴적인 테스팅(NDT)과 같은 애플리케이션들을 포함하며, 이를 위해 방사선 촬영 이미지들은 촬영된 피험자의 상이한 특징들을 강조하도록 상이한 처리 취급들에 의해 획득 및 제공될 수 있다.

PR 패널로부터의 자동 노출 제어 데이터의 획득

본 발명의 실시예들은 분리 AEC 장치(40)의 이용없이 자동 노출 제어를 제공한다. 도 9를 참조하면, 자동 노출 제어 정보를 획득하며 노출을 종결하는 신호를 제공하기 위한 DR 검출기(12)를 이용하는 X-선 촬영 장치(60)가 도시되어 있다.

AEC 감지뿐만 아니라 촬영을 위해 DR 패널을 활용하기 위한 다양한 접근법들이 제안되었다. 발명의 명칭이 "Method and Apparatus for Automatic Exposure Control Using Localized Capacitive Coupling in a Matrix-Addressed Imaging Panel"인 Possin 등의 미국 특허 제6,404,851호에 제안된 해결법은, 예를 들어, DR 패널의 전체 길이 또는 폭을 연장하는 하나 이상의 기존 데이터 신호 라인들을 따라 용량적으로 결합된 신호를 획득하기 위한 목적을 위해 유방촬영술에 이용되는 DR 패널을 적합하게 한다. 발명의 명칭이 "Imaging Method and Apparatus with Exposure Control"인 Morii 등의 미국 특허 제7,368,724호에 도시된 것과 같은 다른 접근법들은 추가된 AEC 센서 검출 면적들을 갖는 DR 패널 자체를 제작한다. 그러나, 그러한 방법들이 제안되었을지라도, 특정 이미지 또는 환자에 대한 AEC 센서의 할당의 선택 및 최적화는 적절하게 어드레스되지 않았다.

DR 검출기(12)가 이 목적에 이용될 수 있는 방법을 인식하기 위해, DR 검출기(12)의 전체 구성 및 동작을 검토하는 것이 유익하다. 도 10의 사시도는 중간 신틸레이팅(scintillating) 요소가 그 다음 감광성 이미지 감지 요소에 의해 감지되는 가시광 광자들로 입사 X-선들을 변환하는 간접 타입의 DR 패널(102)에 작은 에지부의 부분 절단도를 도시한다. 신틸레이터 스크린(scintillator screen)(116)은 플랫 패널 검출기(FPD: flat panel detector)(12)에 의해 차례로 검출되는 가시광을 발생시킴으로써 입사 x-선 방사선에 응답한다. DR 패널(102)은 행들 및 열들의 매트릭스로 배치되며 판독 요소(125)에 연결되는 방사선 감지 촬영 픽셀들(124)로서 전형적으로 조직화된 수천의 방사 에너지 감지 요소들(120)을 갖는 2차원 어레이를 갖는다. 확대된 단면(E)에 도시된 바와 같이, 각 픽셀(124)은 PIN 다이오드 또는 다른 감광성 구성요소와 같은 포토센서 요소들(122)로 광범위하게 칭해지는 수신된 방사 에너지에 대응하는 신호를 제공하는 하나 이상의 센서들을 갖는다. 각 픽셀(124)은 하나 이상의 박막 트랜지스터(thin film transistor)들 또는 TFT들과 같은 어떤 타입의 관련 스위칭 요소(126)도 갖는다. 패널로부터 이미지 정보를 판독하기 위해, 픽셀들(124)의 각 행은 순차적으로 선택되며 각 열 상의 대응하는 픽셀은 전하 증폭기(charge amplifier)(도시되지 않음)에 그 차례로 연결된다. 그 다음, 각 열로부터의 전하 증폭기들의 출력은 후속 스토리지 및 디스플레이에 요구되는 바와 같이, 저장되며 적절히 이미치 처리될 수 있는 디지털화된 이미지 데이터를 발생시키는 다른 회로에 적용된다.

도 11은 DR 촬영에 이용되는 DR 패널(102)의 예시적 이미지 감지 어레이에서의 구성요소들의 개략도를 도시한다. 기본적인 일 실시예에 있어서, 픽셀(124)은 도 11에 포토다이오드(photodiode)로서 도시된 적어도 하나의 광전 변환 디바이스(photoelectric conversion device) 또는 포토센서(PS: photosensor) 요소(122)로 및 고체 상태 스위치(MRO)의 타입으로서 도시된 적어도 하나의 스위칭 요소(126)로 구성된다.

이미지 감지 어레이들에서 픽셀들을 제공하는데 이용되는 포토센서 요소들(122)의 예들은 포토다이오드(photodiode)들(P-N 또는 PIN 다이오드들), 포토커패시터(photo-capacitor)들(MIS), 또는 광전도체(photoconductor)들과 같은 다양한 타입들의 광전 변환 디바이스들을 포함한다. 신호 판독에 이용되는 고체 상태 스위칭 요소들의 예들은 MOS 트랜지스터들, 양극성 트랜지스터들 및 p-n 접합 구성요소들을 포함한다.

DR 패널(102)로부터 이미지 데이터를 획득하기 위해, 판독 요소들(125)은 가시 이미지를 형성하도록 각 개별 픽셀로부터 감지된 신호 레벨을 기록하며 이 데이터를 이용하여, 한번에 픽셀들(124)의 전체 행들 또는 열들을 어드레스한다. 이미지 데이터를 획득하기 위한 DR 패널(102)의 어레이의 종래의 동작은 기본적으로 (i) 제로 또는 다른 리셋 상태로 모든 픽셀 값들을 재설정함과 같이 픽셀들(124)의 어레이를 초기화하는 단계, (ⅱ) 각 픽셀이 수신하는 방사선을 표시하는 전하를 축적하는 노출 동안, X-선들에 의해 여기되는 광 방사선에 어레이를 노출시키는 단계; 및 (ⅲ) 픽셀들을 행 별로 또는 열 별로 어드레스하는 다중화된 신호 판독 순서를 이용하여 어레이의 각 픽셀에서 신호 값을 판독하는 단계로 구성된다.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 도 12에 도시된 바와 같이, 하나 이상의 픽셀들(124)은 노출 측정의 목적을 위해 할당된 노출 제어 감지 요소(124e)로서 상이하게 이용된다. 노출 제어 감지 요소들(124e)로서 할당된 하나 이상의 방사 에너지 감지 요소들의 제 1 서브세트는 도 12의 예에서 도시된 바와 같이, 접촉될 수 있으며, 즉 픽셀 어레이에서 가장 가까운 이웃들일 수 있거나, 표준 방법으로 촬영에 이용되는 방사 에너지 감지 요소들의 제 2 촬영 서브세트의 부분인 하나 이상의 픽셀들(124)에 의해 서로 분리된 DR 패널(102)의 면적들에 걸쳐서 분산될 수 있다. 확대 단면(F)은 서로 이격된 노출 제어 감지 요소들(124e) 및 표준 촬영 픽셀들(124)에 의해 둘러싸인 노출 제어 감지 요소들(124e) 각각을 갖는 DR 패널(102)의 일부에 걸친 픽셀들을 구비한 일 실시예를 도시한다. 노출 제어 감지 요소들(124e)은 도 12에 도시된 바와 같이 노출 감지 영역(130)을 형성하도록 패턴들에 그룹화될 수 있거나, 보다 랜덤하게 할당 또는 배치될 수 있다.

노출 제어 감지 요소들(124e)은 종래의 촬영 픽셀들(124)과 상이하게 어드레스 및 동작된다. 종래의 촬영 픽셀(124)은 그 저장된 이미지 신호를 획득하기 위해 노출 직후에 노출마다 한번 어드레스된다. 그러나, 할당된 픽셀(124e)은 노출 동안 1번 이상 샘플링될 수 있다. 할당된 노출 제어 감지 요소(124e)로부터 획득되는 신호는 예를 들어 소정의 임계값에 대한 비교에 의해서와 같이 다른 픽셀들(124e)로부터의 신호들 및 체크된 결과 값과 선택적으로 조합된다. 그 다음, 이 체크 처리의 결과는 피험자에 의해 수신된 상대 노출 레벨을 결정하며 소정의 목표된 노출 레벨이 도달될 때 노출을 종결하는데 이용된다.

도 13의 논리 순서도는 본 발명의 일 실시예에 따른 DR 패널(102) 상의 노출 제어 감지 요소들(124e)의 배치를 이용하여 노출 제어에 대한 동작들의 순서를 도시한다. 선택적인 패턴 결정 단계 S300에서, 예를 들어 도 12에 도시된 바와 같이 노출 감지 영역들(130)의 고정 또는 조정가능한 패턴을 이용하는 것과 같은 노출 감지에 대한 필요한 패턴이 확인된다. 이전에 설명된 바와 같이, 소정 타입의 촬영에 항상 이용되거나 디폴트 패턴의 역할을 하는 노출 감지 영역들(130)의 고정 패턴이 있을 수 있다. 교대로, 다른 고정 또는 가변 패턴들은 획득될 이미지의 타입에 기초하여 또는 환자에 대한 검출기의 배치에 기초하여 가변 패턴을 포함하는 노출 제어 감지 요소들(124e)의 구성을 배치하기 위해 선택될 수 있다. 필요한 패턴에 따른 노출 제어 감지 요소들(124e)의 역할을 하도록 하나 이상의 픽셀들(124)을 할당하는 할당 단계 S310은 필요할 때 실행된다.

본 발명의 실시예들은 각 환자 검사에 대한 노출 제어 감지 요소들로서 방사 에너지 감지 요소들의 유연한 할당을 허용한다. 할당 자체는 자동화된 방법으로 또는 수동으로 수행될 수 있다. 도 4a 내지 도 5a에 대해 이전에 설명된 바와 같이, 이 할당을 구성하는데 이용가능한 다수의 운영자 인터페이스 유틸리티들이 있다.

도 9에 도시된 실시예는 노출 제어 감지 요소 할당에 이용될 수 있는 다양한 툴들을 제공한다. 디스플레이(64) 상의 운영자 인터페이스는 수동 선택에 이용될 수 있는 유틸리티들의 세트를 제공한다. 카메라(30) 및 노출 장치와 검출기(12)의 조합은 선택의 선택적인 자동화를 위해 툴들을 제공하며; 둘 다는 디지털 방사선 촬영 검출기에 피험자의 위치를 관련시키는 이미지 데이터의 타입들을 획득하는데 이용될 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 방사 에너지 감지 요소들의 할당은 예를 들어 목 및 어깨들의 위치와 같은 특정 구조 특징들의 상대 위치를 식별하도록 카메라(30)로부터 환자의 가시광 이미지 데이터를 획득함으로써 그리고 이 이미지를 이용함으로써 자동화된다. 폐 촬영에 대해서는, 예를 들어 폐야(lung field)들의 위치는 적절히 수동으로 또는 자동적으로 할당된 이 데이터 및 노출 제어 감지 요소들(124e)을 이용하여 근사될 수 있다. 예를 들어, 수동 할당은 도 5a를 참조하여 이미 설명된 바와 같이, 운영자 명령어들을 획득할 수 있다. 자동 할당은 장기들 및 다른 구조들의 상대 배치를 식별하는 알려진 해부 모델들을 활용할 수 있다.

펄스 x-선원을 이용하는 본 발명의 대체 실시예에 있어서, 구조 위치에 관한 정보는 초기 펄스에 이어 방사선 촬영 이미지 데이터의 어떤 양을 획득함으로써 이미지 데이터의 부분으로서 또는 이미지 데이터와 함께 검출기(12)로부터 획득된다. 노출 제어 감지 요소들(124e)의 서브세트는 제 1 펄스에서 기인하는 이 부분적 방사선 촬영 이미지 데이터 또는 다른 신호 정보를 이용하여 선택될 수 있다. 게다가, 상호작용 샘플링은 제 2 및 제 3 노출 펄스에 이어 초기 할당을 개선하는 것, 예를 들어 초기에 선택된 노출 제어 감지 요소들(124e)의 일부를 제거하는 것과 같은 초기 선택을 더 정의하는데 이용될 수 있다.

도 14a 및 도 14b에 도시된 노출 제어 감지 요소 할당에 대한 순서는 샘플링된 노출 측정에 기초하여 자동화된 개선에 초기 수동 방법 및 디스플레이를 제공한다. 초기에, 도 14a에 도시된 바와 같이, 기술자는 도시된 직사각형 영역과 같은 복합 방사선 측정 영역(84)을 정확하지 않게 정의하는 디스플레이된 아웃라인 이미지(80) 상에 아웃라인을 표시하는 명령어들을 추적하거나 다르게 제공한다. 그 다음, 노출이 하나 이상의 펄스들을 통해 진행하므로, 센서 제어 소프트웨어는 하나 이상의 노출 제어 감지 요소들(124e)로 구성되는 복합 방사선 측정 영역(84)이 리사이징되어야 하는 것을 표시하는 다수의 신호 조건들 중 어느 하나를 측정할 수 있다. 이것은 선택된 노출 제어 감지 요소들(124e)의 그룹화들 중 어느 하나로부터 신호 강도에 관한 최대, 평균, 중앙, 또는 모드 정보를 획득하는 것과 같은 통계 데이터의 측정을 포함할 수 있다. 그 다음, 도 14b에 도시된 바와 같이, 이 정보는 초기에 선택되지만 나중의 처리에서 제거되는 하나 이상을 포함하여 하나 이상의 노출 제어 감지 요소들(124e)로부터 측정을 선택적으로 불가능하게 하도록 제어 논리 회로에 의해 이용되며, 따라서 도시된 클립핑(clipping) 또는 크롭핑(cropping)에 의해서와 같이 복합 방사선 측정 영역(84)을 재형상화한다. 이 결과는 디스플레이되거나 디스플레이될 수 없다. 규칙들은 획득되는 측정 데이터를 이용하여 폐야 또는 다른 면적을 정확히 검출하는 것이 불가능한 경우에 원래 정의된 면적의 퍼센트 내에 클립핑하거나 디폴트 수행을 정의하는 것과 같이 클립핑의 양을 제한하는데 적용된다. 교대로, 제어 로직은 감지 요소의 신호 강도 또는 상대 위치에 기초하여 복합 방사선 측정 영역(84) 내의 하나 이상의 노출 제어 감지 요소들(124e)에 높은 가중을 제공하는 것을 결정할 수 있다.

대체 실시예에 있어서, 이미지 처리 루틴들은 이미지 품질에 영향을 미치는데 알려진 바와 같이 할당된 노출 제어 감지 요소들(124e)을 계속적으로 샘플링하며 그 신호들을 평가함으로써 이미지 품질의 충분한 콘트라스트(contrast) 또는 다른 표시가 존재하는지의 여부를 결정하는데 이용된다. 예를 들어, 영역에서 노출 제어 감지 요소들(124e)의 반복된 체크는 이미지 데이터에서 콘트라스트 대 잡음비(contrast-to-noise ratio)를 결정하는데 그리고 이 비율이 충분한 콘트라스트를 표시할 때 노출을 종결하는데 이용될 수 있다. 노출 제어 감지 요소들(124e)의 할당을 관리하며 할당된 것들로부터 신호들의 평가를 위한 논리 프로세서는 호스트 컴퓨터(62)(도 9) 상에서와 같이 DR 검출기 또는 분리 프로세서 상에 온보드될 수 있는 것이 주목되어야 한다.

노출이 개시된 후, 그리고 노출 동안 소정의 구간들에서, 하나 이상의 노출 제어 감지 요소들(124e)은 샘플링 단계 S320에서 샘플링되거나 폴링(poll)된다(즉, 어드레스됨). DR 검출기 교정은 노출 제어 감지 요소들(124e)에 대한 이득 및 오프셋(offset) 정정 값들을 제공하는데 이용될 수도 있다. 그 다음, 단계 S320(도 13)에서의 샘플링 동안, 할당된 노출 제어 감지 요소들(124e)로부터의 데이터는 교정 데이터에 따라 조정된다. 이 샘플링은 수신된 노출의 양을 나타내는 신호를 획득한다. 평가 단계 S330이 이어지며, 여기서 하나 이상의 노출 제어 감지 요소들(124e)로부터의 신호들은 노출의 목표된 레벨이 도달 또는 초과되었는지의 여부를 결정하도록 평가된다.

평가 단계 S330은 수신된 노출의 표시를 획득하기 위한 다수의 방법들 중 어느 하나로 실행될 수 있는 것이 인식될 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 있어서, 도 13에 도시된 바와 같이, 다수의 노출 제어 감지 요소들(124e)로부터의 신호들이 조합된 다음에, 조합된 신호는 노출을 종결하기 위한 소정의 임계값과 비교된다. 대체 실시예에 있어서, 하나 이상의 노출 제어 감지 요소들(124e)로부터의 개별 신호들이 획득되며, 누적된 스코어는 노출이 충분하고 종결이 적절할 때를 결정하도록 계산 및 이용된다. 평가 단계 S330이 목표 노출이 도달되지 않은 것을 표시하면, 선택적인 잠정 저장 단계 S334는 하나 이상의 샘플링된 노출 제어 감지 요소들(124e)로부터 획득되는 신호 또는 신호들이 저장되는 동안 실행된다. 이 스토리지는 이미지 데이터를 획득하기 위한 이 픽셀들의 이용을 더 가능하게 한다. 이러한 방법으로, 노출 제어 감지 요소들(124e)은 노출 측정 및 이미지 형성 둘 다를 서브할 수 있다.

잠정 저장 단계 S334의 예로서, 노출 제어 감지 요소(124e)로서 할당된 픽셀은 펄스 노출 순서 동안 4번 샘플링되거나 폴링된다. 각 샘플링에 있어서, 디지털 값은 예를 들어: 24, 26, 24, 22로 획득된다. 총합 값, 24 + 26 + 24 + 22 = 96은 단계 S330에서 미리 정의된 저장 임계값 88과 비교되며 노출을 종결하도록 신호를 제공하는데 이용된다. 따라서, 교대로, 총합 값에는 각 샘플링이 제공된다. 총합 값 96은 방사선 촬영 이미지에서 대응하는 픽셀에 대한 디지털 이미지 데이터를 형성하는데도 이용된다.

충분한 노출이 수신되면, 평가 단계 S330에서 결정된 바와 같이, DR 검출기는 노출 종결 단계 S340에서 노출을 종결하기 위한 신호를 발송한다. 도 9의 시스템에서, 이 신호는 호스트 컴퓨터(62)로 진행한다. 대체 실시예에 있어서, 종결 신호는 발생기 제어(68)로 진행한다. 이미지 획득 단계 S350이 이어지며, 여기서 이미지 데이터는 DR 검출기(12)로부터 획득된다.

본 발명의 실시예들은 하나 이상의 선택된 노출 제어 감지 요소들(124e)이 각 노출 펄스에 이어 폴링되는 것을 가능하게 하여, 펄스 방사선을 발생시키는 노출 장치에 이용될 때 특히 유리할 수 있다.

대체 실시예에 있어서, 노출 제어 감지 요소(124e)에서 발생되는 신호는 단지 노출 제어에 이용되며 어떤 이미지 데이터도 노출 제어 감지 요소(124e)에 대해 저장되지 않는다. 그 다음, 그 픽셀 위치에서 이미지 데이터의 손실을 보상하기 위해, 서라운딩(surrounding) 픽셀 값들로부터의 보간은 대응하는 픽셀에 대한 이미지 데이터 값을 계산하는데 이용된다. 도 12에서 확대된 면적(F)을 참조하면, 예를 들어 인접 픽셀들(124)로부터의 이미지 데이터 값들은 도시된 2개의 노출 제어 감지 요소들(124e)에 대한 대응하는 이미지 데이터 값들을 계산하는데 이용된다. 이 배치에 있어서, 노출 제어 감지 요소(124e)는 예를 들어 상이한 타입의 포토다이오드 또는 다른 포토센서 요소를 이용하는 것과 같이 그 인접 촬영 픽셀들(124)의 것과 상이한 사이즈 및 구성을 가질 수 있다.

다른 대체 실시예에 있어서, 노출 제어 감지 요소들(124e)은 DR 패널(102)의 부분이지만, 상이한 타입의 포토센서 요소(122)(도 10 및 도 11)를 이용하는 것과 같이 촬영 픽셀들(124)로서 동일한 방법으로 형성되지 않는다. 또한, 노출 제어 감지 요소들(124e)에 대한 데이터 판독 구성요소들은 표준 촬영 픽셀들(124)의 것들과 다르다. 노출 제어 감지 요소들(124e)에 이용되는 교정 기술들은 표준 촬영 픽셀들(124)에 이용되는 것들과 다를 수 있다.

다른 대체 실시예에 있어서, 노출 제어 감지 요소들(124e)은 DR 패널(102)의 부분이지만, DR 촬영 픽셀들에 이용되는 분리 기판 상에 형성된다. 이 노출 제어 감지 요소들(124e)을 포함하는 기판 표면은 적소의 DR 검출기에 있어서 이 표면이 x-선원과 촬영 구성요소들 사이에 있도록 배치되거나, 교대로 투사 방사선에 실질적으로 투과될 수 있는 촬영 구성요소들 뒤에 배치될 수 있다. 또 다른 대체 실시예에 있어서, 노출 제어 감지 요소들(124e)은 동일한 표면 상에 모두 형성되지 않지만 DR 검출기(12) 내의 고정 위치들에 어떤 방법으로 결합되는 별개 요소들이다.

노출 제어를 위한 DR 패널(102) 자체 상에 픽셀 위치들을 이용하는 것은 도 3a, 도 3b, 및 도 8에 도시된 바와 같이, AEC 능력을 제공하는 동안 분리 AEC 장치(40)에 대한 필요를 제거한다. 또한, 이 능력은 도 2d에 도시되며 도 5a 내지 도 5d를 참조하여 이전에 설명된 것들과 같은 복합 방사선 측정 영역들(52 및 54)의 선택, 사이징, 및 위치 결정을 허용하는 운영자 인터페이스와 용이하게 작용한다. AEC 기능을 수행하기 위한 DR 검출기 자체를 이용하는 장점은 용이하게 이용가능한 위치 결정 정보에 관한 것이다. 노출 제어 감지 요소들(124e)에 대한 픽셀 위치들은 도 7 및 도 8을 참조하여 이미 설명된 바와 같이, AEC 센서 요소들의 위치를 결정 및 디스플레이하기 위한 업무를 단순화하여, DR 검출기에 대해 각각 식별 및 정렬된다.

Claims (8)

1. 방사선원으로부터 피험자를 통과하여 촬영 검출기를 향해 전달되는 이온화 방사선의 레벨을 감지하기 위한 방법으로서,
   방사선에 노출되는 상기 피험자의 적어도 일부분을 표시하며 상기 피험자에 대한 방사선 측정 영역을 정의하는 위치 좌표 데이터를 획득하는 단계;
   상기 방사선 측정 영역 내에서 방사선을 감지하도록 하나 이상의 감지 요소들을 할당하는 단계; 및
   하나 이상의 할당된 감지 요소들 각각으로부터 측정 신호를 취득하는 단계를 포함하는
   이온화 방사선의 레벨을 감지하기 위한 방법.
   
2. 피험자를 통과하여 촬영 검출기를 향해 전달되는 이온화 방사선의 레벨을 감지하기 위한 방법으로서,
   피험자와 이미지 형성 검출기 사이의 배치를 위해 패널을 제공하는 단계로서, 상기 패널은 센서 요소들의 2차원 어레이를 포함하는 세트(set)를 가지며, 수신된 이온화 방사선의 양에 대응하는 표시자 신호를 제공하기 위하여 상기 세트 내의 각 센서 요소는 개별적으로 어드레스가능한 상기 제공하는 단계;
   상기 패널을 따라 하나 이상의 복합 방사선 측정 영역들을 정의하도록 명령어들에 액세스하는 단계로서, 상기 하나 이상의 복합 방사선 측정 영역들 각각은 상기 센서 요소들의 세트의 적절한 서브세트(subset)로서 형성되고 2개 이상의 센서 요소들을 가지며 상기 패널 내의 위치에서 경계를 갖는 상기 액세스하는 단계;
   하나 이상의 입력된 명령어들에 따라 상기 센서 요소들의 세트의 상기 적절한 서브세트를 변경하도록 상기 패널 내에 상기 하나 이상의 복합 방사선 측정 영역들의 상기 경계를 재정의하는 단계;
   상기 하나 이상의 복합 방사선 측정 영역들 내의 상기 센서 요소들 각각으로부터 상기 표시자 신호들을 수집하여 상기 수집된 표시자 신호들에 따라 출력 신호를 형성하는 단계; 및
   상기 출력 신호를 송신하는 단계를 포함하는
   이온화 방사선의 레벨을 감지하기 위한 방법.
   
3. 피험자를 통과하여 촬영 검출기를 향해 전달되는 이온화 방사선의 레벨을 감지하기 위한 장치로서,
   상기 피험자와 상기 촬영 검출기 사이에 배치된 센서 요소들의 2차원 어레이를 포함하는 세트를 갖는 패널로서, 수신된 이온화 방사선의 양에 대응하는 표시자 신호를 제공하기 위한 상기 세트 내의 각 센서 요소는 개별적으로 어드레스가능한 상기 패널;
   (a) 상기 패널을 따라 하나 이상의 복합 방사선 측정 영역들을 정의하며, 상기 하나 이상의 복합 방사선 측정 영역들 각각은 상기 센서 요소들의 세트의 적절한 서브세트로서 형성되고 2개 이상의 센서 요소들을 가지며 상기 패널에 대하여 경계를 갖고;
   (b) 대응하는 적절한 서브세트를 변경함으로써 상기 패널 내에서 상기 하나 이상의 복합 방사선 측정 영역들의 상기 경계를 조정하고;
   (c) 상기 하나 이상의 복합 방사선 측정 영역들 내의 센서 요소들로부터 상기 표시자 신호들을 수집하여 상기 수집된 표시자 신호들에 따라 출력 신호를 형성하도록,
   상기 센서 요소들의 2차원 어레이와 통신하며, 입력된 명령어들에 응답하는 제어 회로; 및
   상기 제어 회로와 통신하며 상기 출력 신호를 송신하도록 기동가능한 송신 채널을 포함하는
   이온화 방사선의 레벨을 감지하기 위한 장치.
   
4. 방사선원으로부터 피험자를 통과하여 디지털 방사선 촬영 검출기를 향해 전달되는 이온화 방사선의 레벨을 감지하기 위한 방법으로서,
   상기 디지털 방사선 촬영 검출기에 상기 피험자의 위치를 관련시키는 이미지 데이터를 획득하는 단계;
   상기 획득된 이미지 데이터에 따라 하나 이상의 노출 제어 감지 요소들로서 상기 디지털 방사선 촬영 검출기의 하나 이상의 방사 에너지 감지 요소들을 할당하는 단계;
   상기 피험자에게 전달되는 노출을 측정하도록 노출 동안 상기 하나 이상의 노출 제어 감지 요소들을 1회 이상 샘플링하는 단계; 및
   상기 디지털 방사선 촬영 검출기 내에서 상기 하나 이상의 노출 제어 감지 요소들로부터 획득된 노출 측정들에 따라 노출을 종결시키도록 신호를 제공하는 단계를 포함하는
   이온화 방사선의 레벨을 감지하기 위한 방법.
   
5. 촬영 픽셀들을 위한 방사 에너지 감지 요소들의 제 1 서브세트 및 노출 측정 및 종결에 이용되는 출력 신호들을 제공하는 방사 에너지 감지 요소들의 제 2 서브세트를 갖는 방사선 촬영 검출기로서, 상기 제 2 서브세트는 상기 방사선 촬영 검출기에 피험자의 위치를 관련시키는 이미지 컨텐츠에 따라 가변 사이즈인
   방사선 촬영 검출기.
   
6. 피험자의 방사선 이미지를 획득하기 위한 방사선 촬영 장치로서,
   펄스 이온화 방사선을 발생시키도록 기동가능한 방사선원;
   수신된 상기 이온화 방사선에 따라 상기 피험자의 상기 방사선 이미지를 형성하도록 상기 방사선의 경로에 배치되며, 이미지를 제공하는 방사 에너지 감지 요소들의 제 1 서브세트 및 노출 측정 및 종결에 이용되는 하나 이상의 출력 신호들을 제공하는 방사 에너지 감지 요소들의 제 2 서브세트를 갖는 방사선 촬영 검출기로서, 상기 제 1 및 제 2 서브세트들은 가변 사이즈이며 상기 사이즈는 상기 방사선 이미지를 위해 조정가능한 상기 방사선 촬영 검출기; 및
   상기 방사 에너지 감지 요소들의 제 2 서브세트로부터 상기 하나 이상의 출력 신호들을 수신하여 상기 수신된 출력 신호들에 따라 종결 신호를 발생시키는 제어 논리 회로를 포함하는
   방사선 촬영 장치.
   
7. 방사선 촬영 시스템에서 방사선 에너지 센서 요소의 위치를 표시하기 위한 방법으로서, 상기 방법은 컴퓨터에 의해 적어도 부분적으로 실행되고,
   상기 방법은,
   촬영되는 피험자에 대한 상기 방사선 에너지 센서 요소의 상기 위치를 식별하는 단계; 및
   상기 피험자에 대한 상기 식별된 위치를 디스플레이하는 단계를 포함하는
   방사선 에너지 센서 요소의 위치를 표시하기 위한 방법.
   
8. 방사선 촬영 시스템에서 방사선 센서의 위치를 표시하기 위한 장치로서,
   하나 이상의 방사선 에너지 감지 영역들을 제공하는 2차원 노출 감지 장치로서, 각 방사선 에너지 감지 영역은 촬영되는 피험자에 대한 공간 위치를 가지며 상기 영역을 통해 수신되는 방사선의 레벨을 표시하는 신호를 제공하는 상기 2차원 노출 감지 장치;
   상기 피험자에게 상기 하나 이상의 방사선 감지 영역들의 상기 위치를 관련시키도록 기동가능한 위치 감지 장치; 및
   상기 피험자에 대한 상기 하나 이상의 방사선 에너지 감지 영역들 각각의 상기 공간 위치를 디스플레이하도록 작동가능한 이미지 형성 장치를 포함하는
   방사선 센서의 위치를 표시하기 위한 장치.

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