JP5634033B2 - 樹脂封止型半導体装置とその製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、樹脂封止型半導体装置及びその製造方法、並びにリードフレームに関するものである。
樹脂封止型半導体装置は、リードフレームと各種半導体チップ等と一体化してから、アウターリードや外枠を除く部分を樹脂封止することにより形成される。その詳細は以下の通りで、先ずCu素材等からなるベース金属をプレス加工したリードフレームを準備する。リードフレームは半導体チップ等を搭載するアイランド、半導体チップのボンディングパッド等と連結されるワイヤボンディング部等からなるインナーリードと、インナーリードから封止樹脂の外部に延在するアウターリードと、アウターリード間を支持するタイバーと、リードフレーム全体を支える外枠と、外枠から分離されたアイランド等を支持するためアイランド等と外枠を連結する吊りリードから構成されている。
半導体チップはその裏面を、アイランド上に導電材料により固着され、ダイボンドされる。また半導体チップ上のボンディングパッドとインナーリード上のワイヤボンディング部とは金ワイヤ等でワイヤボンディングされ接続される。チップコンデンサ等の受動素子もインナーリード間に跨って導電材料で固着される。半導体チップ等が固着等されたリードフレームは樹脂封止装置内にセットされ、タイバーを含むアウターリード部及び外枠部が樹脂封止装置の上金型と下金型間に挟持された状態で樹脂が注入され、半導体チップ等を搭載したリードフレームは樹脂封止される。その後、アウターリードにハンダメッキ等を施してからタイバーや外枠がプレス加工で切断され、必要に応じてアウターリードの曲げ加工が行われ樹脂封止型半導体装置が完成する。
このような樹脂封止型半導体装置の組み立て工程については、以下の特許文献1や非特許文献1に記載されている。
特開2005−64076号公報
図解 最先端半導体パッケージ技術の全て/半導体技術研究会編(2007年9月25日初版第1刷発行 株式会社工業調査会)
樹脂封止型半導体装置において、リードフレーム上のアイランドにダイボンドされた半導体チップは、通常、前述の如く、Auワイヤ(金ワイヤ)で、半導体チップ上のパッド電極と、インナーリード上のワイヤボンディング部がワイヤボンディングされ連結される。しかし、半導体チップの出力が大きい場合、大電流が流れることから、ワイヤボンディング用のワイヤは、太いものが必要になる。また、パワー系の半導体チップは、ハンダでダイボンドされており、高温でのワイヤボンディングが難しい。したがって、この場合、高価なAuワイヤに変えて、安価で、抵抗も低く、更に、常温でボンディング可能なAlワイヤ(アルミニューム ワイヤ)が使用される。
Auワイヤでワイヤボンディングする場合は、ボンディング対象となる部分の温度を上げて、いわゆる熱圧着により、AuとAlの合金を形成し強固な接合を形成する。熱に加え、超音波を利用し、接合力を増加させる場合も多い。これに対して、Alワイヤでワイヤボンドする場合は、常温で作業がおこなわれるため、更に超音波の強度を強くする必要がある。半導体チップ上のパッド電極表面に形成されたアルミナ膜や、リードフレーム上のワイヤボンディング部に形成された種々の酸化膜等を破り、Alワイヤとパッド電極等のアルミ等を、直接接触させる必要があるからである。
この場合、超音波の振動方向がAlワイヤが延在する一定の方向を向くため、最適な結合を形成するために、その力が、ワイヤボンディングされる部分に集中して印加されるようにする必要がある。そのために、リードフレーム上のワイヤボンディング部が孤立化しないようにして、超音波の振動による力が逃げないようにし、ワイヤボンディング部に、充分な力が印加されるようにする事が1つの課題となる。
また、樹脂封止型半導体装置においては、リードフレームのアイランド上に半導体チップに加え受動素子等をダイボンド等する場合がある。受動素子であるチップコンデンサは、二つの別のインナーリード上のボンディング部に跨って固着される。
この場合、リードフレームが薄くなると、半導体チップや受動素子のダイボンドやワイヤボンデングの際の力により、リードフレームが変形する恐れがある。この問題に対して、吊りリードを設けて、当該吊りリードをパッケージの外部に配置される、頑強なリードフレームの外枠に接続し、機械的強度を補強して対処している。
この吊りリードが連結されているリードフレームの外枠は、樹脂封止後にアウターリード間のタイバーを切断するとき同時に切断除去されるので、各半導体チップ等と連結する吊りリード間も分断され、各半導体チップ等間の電気的絶縁性は確保される。しかし、樹脂パッケージの側面に、外枠が完全に切断除去されず残存する場合があり、残存するリードフレームの外枠と各吊りリードが連結したままになり、各吊りリードと繋がっているアイランド等に搭載された半導体チップ等間の短絡が生ずる場合がある。このような残存する外枠による半導体チップ等間の短絡の撲滅を図るのが第2の課題となる。
本発明の樹脂封止型半導体装置の製造方法は、リードフレーム上のアイランドに半導体チップをダイボンドする工程と、前記半導体チップと前記リードフレームをAlワイヤで超音波ワイヤボンディングする工程と、前記半導体チップがダイボンドされた前記リードフレームを樹脂封止する工程と、を有し、前記リードフレーム上のワイヤボンディング部が前記超音波の振動方向に延在し、前記リードフレームの外枠と連結していることを特徴とする。
更に、本発明の樹脂封止型半導体装置の製造方法は、外枠に切欠きを有するリードフレームを準備する工程と、前記リードフレームのアイランド上に半導体チップをダイボンドする工程と、前記半導体チップと前記リードフレームとを電気的に接続する工程と、前記半導体チップがダイボンドされた前記リードフレームを樹脂パッケージにより封止する工程と、前記樹脂パッケージの外側に露出したタイバーを切断する工程と、を有し、前記タイバーの切断と同時に前記リードフレームの前記外枠を当該外枠に設けた前記切欠き部分を含む位置で切断することを特徴とする。
また、本発明の樹脂封止型半導体装置は、リードフレームのアイランド上にダイボンドされた半導体チップと、前記半導体チップとAlワイヤで超音波ワイヤボンディングされた前記リードフレーム上のワイヤボンディング部と、前記リードフレームを樹脂封止する樹脂パッケージと、を備え、前記リードフレーム上の前記ワイヤボンディング部が、前記Alワイヤのボンディング方向に向け、前記樹脂パッケージの端部まで延在することを特徴とする。
更に、本発明の樹脂封止型半導体装置は、半導体チップがダイボンド及び電気的に接続されたリードフレームと、前記リードフレームを封止する樹脂パッケージと、を備え、前記樹脂パッケージの外周に残存する前記リードフレームの外枠が当該リードフレームの当該外枠に設けられた切欠き部分で切断されていることを特徴とする。
また、本発明のリードフレームは、半導体チップが搭載されるアイランドと、前記半導体チップとAlワイヤで超音波ボンディングされるワイヤボンディング部と、その外周に形成した外枠と、前記アイランドと前記外枠を連結する複数の吊りリードと、を備え、前記ワイヤボンディング部が前記超音波の振動方向に延在する連結リードを有し、前記外枠と連結していることを特徴とする。
更に、本発明のリードフレームは、半導体チップが搭載されるアイランドと、リードフレームの外周を構成する外枠と、前記アイランドと前記外枠を連結する複数の吊りリードと、を備え、2つの吊りリードの間の前記外枠に切欠きが形成されたことを特徴とする。
本発明によれば、半導体チップ3等のパッド電極とリードフレーム1上のワイヤボンディング部14a等の間や、半導体チップ2等同士のパッド電極間のワイヤボンディングを、Alワイヤ6a等による超音波ワイヤボンディングでおこなったとしても、強固な接合を形成することができる。また、本発明によれば、リードフレーム1の外枠8が、樹脂パッケージ12の外周に残存したとしても、樹脂パッケージ12内に内蔵された、各半導体チップ2等同士が短絡することを防止する事ができる。
本発明の第1の実施形態における樹脂封止半導体装置の製造方法を示す樹脂封止前の状態の平面図である。 本発明の第2の実施形態における樹脂封止半導体装置の製造方法を示す樹脂封止前の状態の平面図である。 従来の実施形態における樹脂封止半導体装置の製造方法を示す樹脂封止前の状態の平面図である。 樹脂封止装置の金型内にセットされた半導体チップ等を搭載したリードフレームを示す図面である。 樹脂封止装置の金型内にセットされた半導体チップ等を搭載したリードフレームを上金型側から透視した図面である。
〔第1の実施形態〕
本発明の第1の実施形態について、以下に、図面に従って説明する。
なお、使用されるリードフレーム1は、同一パターンが一列だけ複数並んだものや、2列、3列に並んだものがあるが、発明を理解するためには、一パターンについて記述すれば充分なので、一パターンについて、詳細に図示し説明を進める。また、パッケージについても、簡単なパッケージであるSIP(Single In−line Package)タイプを取り上げ説明する。
本実施形態の説明に先立ち、本発明にいたる前のリードフレーム1の構造について、図3に基づいて説明する。リードフレーム1上の、パワー系半導体チップ2及びコントローラ用半導体チップ3が搭載されるアイランド13や、その他のチップコンデンサ4等が搭載されるアイランド13やインナーリード1bは、図3に示すように、それぞれ吊りリード5a、5b、5cで、リードフレームの外枠8に連結され、その剛性を高めている。半導体チップ3と、リードフレーム1のワイヤボンディング部14a、14b、14cとをワイヤボンディングする際のワイヤとして、熱圧着でおこなうAuワイヤを採用する場合、ワイヤボンディングの力は、主にリードフレーム1の主面に対して垂直方向に働く。したがって、図3に示すリードフレーム1の主面に対して、左右、上下方向に作用する力が弱く、このリードフレーム1の構造で問題となることは少ない。しかし、Alワイヤ6a,6b、7a,7b,7cを採用して、超音波ワイヤボンディングするときは、リードフレーム1の主面の左右、上下方向に、超音波振動による強い力が加わるため問題が生ずる恐れがある。
それでは、本発明の第1の実施形態について、図1に従い説明する。
まず、リードフレーム1を準備して、大電流が流れ、発熱量も多いパワー系半導体チップ2を、ハンダプリフォーム等を使用して、リードフレーム1の、パワー系半導体チップ2を搭載すべきアイランド13にダイボンドする。この場合、リードフレーム1はCu素材にNiメッキ等をしたものが使用される。また、コントローラ用半導体チップ3は、消費電力も小さいことからAgペースト等で、コントローラ用半導体チップ3が搭載されるべきアイランド13にダイボンドされる。チップコンデンサ4のような受動素子も、同様に、Agペーストでリードフレーム1のアイランド13及びインナーリード1bに接着される。Agペーストで接着する場合は、リードフレーム1もAgメッキ等がされる。
次に、パワー系半導体チップ2とコントローラ用半導体チップ3の間や、コントローラ用半導体チップ3とリードフレーム1上のワイヤボンディング部14aとの間を、太いAlワイヤ6a,6bにより、超音波ワイヤボンディングをおこない、電源ラインを形成する。併せて、コントローラ用半導体チップ3からパワー系半導体チップ2のゲートやリードフレーム1上のワイヤボンディング部14b、14cへ繋がる、少し細いAlワイヤ7a,7b,7cによる、超音波ワイヤボンディングがおこなわれる。
これらのAlワイヤ超音波ボンディング時のリードフレーム1の左右、上下方向にかかる力を支えて、超音波振動が効率よくワイヤボンディング力として使われるようにするのが、第1の実施形態における発明の要旨となる。例えば、太いAlワイヤ6bを、リードフレーム1上のワイヤボンディング部14aとワイヤボンディングするときの、超音波の振動方向を考えてみる。この場合、Alワイヤ6bに対する超音波振動は、ワイヤボンディングされるAlワイヤ6bの向いている方向である、図1の左斜め上の方向となる。その場合、超音波振動による力の方向は、図の上向きと左向きの力に分解することができる。そうすると、図3のように、吊りリード5aしかない場合は、左横向きに働く力を支えることができないので、リードフレーム1上のワイヤボンディング部14aは、左方向に多少でも振動することになり、超音波の力を有効に使用できないことになる。
それに対して、本発明を示す図1においては、リードフレーム1上のワイヤボンディング部14aの左側を、しっかりと連結リード9で支えており、超音波振動の力が左に逃げるのを阻止している。また、連結リード9は、強固なリードフレーム1の外枠8と連結されていることから、更に、超音波振動の力が左に逃げるのを阻止している。Alワイヤ6bのコントローラ用半導体チップ3上のパッド電極に働く右斜め下方向に向かう超音波振動の力も、同様に、下向きの力は吊りリード5aで、右向きの力は連結リード9により支持されているので、強固なボンディングが可能となる。
Alワイヤ6aのコントローラ用半導体チップ3上のパッド電極に働く左斜め上方向へ向かう超音波振動の力も、同様に、吊りリード5aにより上向きの力が、また、連結リード9により左向きの力が支持されている。次に、パワー系半導体チップ2上のパッド電極に加わる超音波振動の力について考察する。この場合、超音波振動の力は、Alワイヤ6aの向いている方向である、図1の右下方向に向かっている。この場合の超音波振動の力は、下向きの力と右向きの力に分解することができる。この内、下向きの力は、アウターリード1aで支持されている。右向きの力については、図3の場合は支えることができないが、本発明を示す図1においては、連結リード10が設置され外枠8と一体となって形成されているため、右向きの力を充分に支持することができる。
少し細いAlワイヤ7a等の超音波ワイヤボンディング時の振動の力についても、太いALワイヤ6a等の場合と同様、連結リード9等により支持される。Alワイヤ7aの場合は、ワイヤボンディングされるインナーリード1b部分で左上向きの力が働くが、太いAlワイヤ6a等の場合よりその力は弱いので、その上向きの力及び左向きの力は吊りリード5cにより支持されている。Alワイヤ7bの場合は、大略して上下方向に力が働いていることから、上向きの力は吊りリード5aにより、下向きの力はアウタリード1aで支持されている。Alワイヤ7cの場合は、左右方向の振動力となることから、連結リード9及び10により左右から、強固に支持されている。
上述の如く、超音波振動の力は、吊りリード5a、5b、5cやアウタリード1aに加え、第1の実施形態で採用した連結リード9及び10により、しっかりと支持されているので、超音波Alワイヤボンディングによっても安定した接合が形成され、信頼性の高いワイヤボンディングが可能となる。次にパワー系半導体チップ2等が搭載されたリードフレーム1は、樹脂封止工程で樹脂封止され、図1の1点鎖線で囲まれた内部が樹脂で満たされた樹脂パッケージ12となる。その後、樹脂封止工程が終了するまでアウターリード1aを支持していたタイバー11と、リードフレーム1全体を支持していたリードフレーム1の外枠8が切断され、必要に応じ、アウターリード1aに対する曲げ加工等をおこなうことにより樹脂封止型半導体装置は完成する。
〔第2の実施形態〕
第2の実施形態についての説明に先立ち、樹脂封止工程及びリードフレーム1の外枠8の切断工程について、その内容と問題点について検討する。樹脂封止工程では図4に示すように、樹脂封止装置の上金型100と下金型101の間の空間に、Alワイヤ6a等でワイヤボンディングされた半導体チップ2等が搭載されたリードフレーム1を挟み込み、樹脂注入を行う。図4では、左側のタイバー11が上金型100と下金型101に挟まれ、ダムバーとしての役割を果たし、樹脂が左側から樹脂パッケージ12の外部に流出するのを阻止している。また、右側はリードフレーム1の外枠8が上金型100と下金型101に挟まれ、樹脂が右側から樹脂パッケージ12の外部に流出するのを阻止している。手前側、奥側も同様に外枠8により樹脂が樹脂パッケージ12の外部に流出するのを阻止している。
この場合、できるだけ樹脂パッケージ12を小さなものとするため、アイランド13等を支持するだけで、他の役目を有しない図4に示す吊りリード5a等はできるだけ細く、短く形成している。また、リードフレーム1の外枠8の内側部分と樹脂パッケージ12の外周部分も、図4に示すように、接触状態で隣接する状態で形成される。樹脂封止工程が終了すると、支持体としての役目の終了したタイバー11と外枠8は同時に切断されるが、樹脂パッケージ12の外側とリードフレーム1の外枠8の内側との位置関係等により外枠8が完全に除去されず、外枠8の一部が樹脂パッケージ12の外周に残る場合がある。
この場合、吊りリード5a等は、残存した不用な外枠8と連結しているので、その残存部の支持体になってしまう。特に、吊りリードの一種とも考えられる前述した連結リード9等は、Alワイヤボンディング時の強力な超音波振動力を支えるため、通常の吊りリード5a等に比べ格段に幅広に構成されているので、残存した不用な外枠8を吊りリード5a等よりも、幅広く強固に支持することになる。具体的には、第1の実施形態を示す図1の場合、リードフレーム1の外枠8を切断する場合に、外枠8が樹脂パッケージ12の端部から樹脂パッケージ12の外部に向けて延在しているため、外枠8を完全に切断するのが難しく、樹脂パッケージ12の横の側面や上の側面で、当該樹脂パッケージ12の側面に、細くリードフレーム1の外枠8が残存する可能性が高い。
これを何らかの方法で除去しない場合には、図1に示す場合、半導体チップ2が載置されているアイランド13と連結している吊りリード5bと、半導体チップ3が載置されているアイランド13と連結している吊りリード5aとが、樹脂パッケージ12の側面に残存するリードフレーム1の外枠8を介して連結したまま分断されないという弊害を生ずる。吊りリード5a等よりはるかに幅の広い、Alワイヤボンディング時の超音波振動力の効率利用を図るために導入した、連結リード9にも同様な弊害が生じる。即ち、半導体チップ3が載置されているアイランド13と連結している連結リード9と、チップコンデンサ4の一方の電極が接着しているインナーリード1bと連結している吊りリード5cとが、樹脂パッケージ12の側面に残存するリードフレーム1の外枠8を介して連結されたまま分断されないことになる。
これらの弊害を防止または除去するため、吊りリード5a等を長めに形成し、その一部を樹脂パッケージ12の外側に露出させた状態で、外枠8と共に当該露出部を切断するとか、必要に応じ、切断後の樹脂パッケージの外周から残存した外枠8を掻き落とす。但し幅広の連結リード9等に幅広く接続している残存した外枠8は容易に掻き落とす事ができない。また、吊りリード5a等を長めにして、一部樹脂パッケージ12の外側に露出させるためには、吊りリード5a等を長くした分、リードフレーム1全体を大きめにするか、外枠8の幅を狭くしリードフレーム1全体は大きさを変えないようにするなど工夫が必要になる。
それでは本発明の第2の実施形態について、図2に基づいて詳細に説明する。リードフレーム1全体の大きさを変えることなく、また、残存する外枠8を掻き落とすことなく、リードフレーム1の外枠8の不用な残存物による連結リード9等と吊りリード5c等の連結を阻止し、各半導体素子等が残存する外枠8により短絡することを防止することを特徴としている。
図5は、図4に示す樹脂封止装置の内部を、上金型100方向から透視した、半導体素子2等を搭載した状態での、リードフレーム1の構成を示している。アウターリード1a側は、タイバー11が上金型100と下金型101に強固に挟持されダムバーとしての役割を果たし、樹脂がアウターリード1a側に流出するのを防止している。また、樹脂パッケージ12の両サイド及び上面側は、同様に上金型100と下金型101に強固に挟持されたリードフレーム1の外枠8が樹脂パッケージ12外への樹脂の流出を防止している。
そして、樹脂パッケージ12の端部に接する、上金型100と下金型101に挟まれたリードフレーム1の外枠8には、当該外枠8の内側から外側に向かう切欠き15,16が形成されているのが示されている。
第2の実施形態に係る発明の特徴は、図5や図2に示すように、リードフレーム1の外枠8に切欠き15、16等を形成することにより、樹脂パッケージ12の側面に残存するリードフレーム1の外枠8を分断して、個々の吊りリード5c等、連結リード9等間の連結を排除して、各半導体素子2等間の短絡を防止するものである。切欠き15等は、図2に示すようにリードフレーム1の外枠8が樹脂パッケージ12と当接する側に、小さく形成されており、リードフレーム1の全体の強度に対して影響を与えない程度の大きさである。その横幅はリードフレーム1の残存する外枠8を分断する事ができる幅であれば良い。その奥行きも樹脂パッケージ12からその先端が露出する程度でよい。図2では切欠き15,16と2個のみ記載しているが、分断が必要な連結リードを含む各吊りリード間に形成される。
係るリードフレーム1の外枠8に切欠き15等を形成することにより樹脂封止工程で上金型100、下金型101でリードフレーム1を挟持するとき、当該切欠き15等をあわせマークとして使用することができるので、精度良くリードフレーム1の外枠8の内側と金型100等とを位置合わせできるという利点もある。切欠き15等は外枠8の内側から外側に向かい窪んでいるので、その窪み内には、図5に示すように、アウターリード1a上のタイバー11と樹脂パッケージ12間に形成される樹脂バリ17と同様に、樹脂バリ18が形成される。
従って、次に外枠8を切断する場合、切欠き15等の内部の黒色の樹脂バリ18を目安に樹脂パッケージ12との境界ぎりぎりで外枠8を切断する事ができるので、切り残された外枠8が残存する確率も低くなる。また、切欠き15等を横切ってリードフレーム1の外枠8を切断することになるので、例え、樹脂パッケージ12の側面にリードフレーム1の外枠8の切り残しが生じたとしても、切欠き15等部分で外枠8の切り残しを分断する事ができる。即ち、この切欠き15等により、リードフレーム1の外枠8の切り残しがあったとしても、外枠8の残存部は切断される。
したがって、切欠き15の存在より、コントローラ用半導体チップ3が載置されたアイランド13から延びている吊りリード5aや連結リード9と、チップコンデンサ4の一方の電極が載置されたインナーリード1bから延びた吊りリード5cとの連結は阻止される。同様に、切欠き16の存在により、コントローラ用半導体チップ3やチップコンデンサ4が載置されたアイランド13から延びる吊りリード5aと、パワー系半導体チップ2が載置されたアイランド13から延びる吊りリード5bが、リードフレーム1の外枠8の残存部により連結されるのも阻止される。
結果的に、第2の実施形態の発明により、リードフレーム1の外枠8の切断残存部による、各半導体チップ等間の短絡不良を解消し、信頼性の高い樹脂封止型半導体装置の製造が可能となる。なお、切欠き15等は、図2ではコの字形に形成されているが、外枠8の内側から外側に向かうV字形や半円形にする等、コの字形と異なる形で形成されたとしても、発明の目的を達成できるものであればかまわない。
また、本発明の各実施形態においては、超音波ワイヤボンディング材料として、ALワイヤを使用する場合について記述してきたが、銅を主成分とするワイヤを使用する場合にも適用できることは言うまでも無い。パッケージについても、SIP型パッケージにて説明をしたが、DIP(Dual In−line Package)型パッケージ等の他のパッケージでも発明思想が同一である限り適用ができることは言うまでもない。
1 リードフレーム
1a アウターリード
1b インナーリード
2 パワー系半導体チップ
3 コントローラ用半導体チップ
4 チップコンデンサ
5a,5b,5c 吊りリード
6a,6b Alワイヤ
7a,7b,7c Alワイヤ
8 リードフレーム外枠
9,10 連結リード
11 タイバー
12 樹脂パッケージ
13 アイランド
14a,14b,14c リードフレームのワイヤボンディング部
15,16 切欠き
17,18 樹脂バリ
100 上金型
101 下金型

Claims (3)

  1. リードフレーム上のアイランドに半導体チップをダイボンドする工程と、
    前記半導体チップと前記リードフレームのワイヤボンディング部をAlワイヤで超音波ワイヤボンディングする工程と、
    前記半導体チップがダイボンドされた前記リードフレームを樹脂封止する工程と、を有し、
    前記リードフレーム上のワイヤボンディング部が前記超音波の振動方向に延在し、前記超音波ワイヤボンディング工程において、前記ワイヤボンディング部は前記アイランド内に形成され、前記ワイヤボンディング部は、第1の方向に延びて前記リードフレームの外枠と連結する第1の連結リードと、前記第1の方向と異なる第2の方向に延びて前記リードフレームの外枠と連結する第2の連結リードを有し、前記第1及び第2の連結リードは、前記樹脂封止する工程により樹脂の中に埋め込まれることを特徴とする樹脂封止型半導体装置の製造方法。
  2. 前記リードフレームを樹脂封止した後に、前記リードフレームの外枠を切断する工程を備えることを特徴とする請求項1に記載の樹脂封止型半導体装置の製造方法。
  3. 外枠が切断されたリードフレームのアイランド上にダイボンドされた半導体チップと、
    前記半導体チップとAlワイヤで超音波ワイヤボンディングされた前記リードフレーム上のワイヤボンディング部と、
    前記リードフレームを樹脂封止する樹脂パッケージと、を備え、
    前記リードフレーム上の前記ワイヤボンディング部が、前記Alワイヤのボンディング方向に延在し、前記半導体チップと前記リードフレームをAlワイヤで超音波ワイヤボンディングする工程において、前記ワイヤボンディング部は前記アイランド内に形成され、前記ワイヤボンディング部は、第1の方向に延びて前記リードフレームの外枠と連結する第1の連結リードと、前記第1の方向と異なる第2の方向に延びて前記リードフレームの外枠と連結する第2の連結リードを有し、前記第1及び第2の連結リードは、前記樹脂パッケージの中に埋め込まれたことを特徴とする樹脂封止型半導体装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5714280B2 (ja) 2010-09-17 2015-05-07 セミコンダクター・コンポーネンツ・インダストリーズ・リミテッド・ライアビリティ・カンパニー 半導体装置
CN102468260B (zh) * 2010-11-04 2014-04-30 无锡华润安盛科技有限公司 兼容高低电压的引线框、引线框阵列及其封装结构
JP2013149779A (ja) * 2012-01-19 2013-08-01 Semiconductor Components Industries Llc 半導体装置
JP5919087B2 (ja) 2012-05-10 2016-05-18 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置の製造方法および半導体装置
JP6178555B2 (ja) * 2012-09-07 2017-08-09 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置の製造方法および半導体装置
CN103050472B (zh) * 2012-12-28 2016-04-20 日月光封装测试(上海)有限公司 半导体封装用导线架条及其模具与封胶方法
JP6114134B2 (ja) * 2013-07-29 2017-04-12 トヨタ自動車株式会社 リードフレーム、電力変換装置、半導体装置及び半導体装置の製造方法
JP6284397B2 (ja) * 2014-03-10 2018-02-28 エイブリック株式会社 半導体装置及びその製造方法
JP6370071B2 (ja) * 2014-03-19 2018-08-08 エイブリック株式会社 半導体装置及びその製造方法
JP6420617B2 (ja) 2014-09-30 2018-11-07 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
WO2016072012A1 (ja) * 2014-11-07 2016-05-12 三菱電機株式会社 電力用半導体装置およびその製造方法
JP6016965B2 (ja) * 2015-03-02 2016-10-26 三菱電機株式会社 電子機器ユニット及びその製造金型装置
JP1537981S (ja) * 2015-04-20 2015-11-16
JP1537980S (ja) * 2015-04-20 2015-11-16
JP1537979S (ja) * 2015-04-20 2015-11-16
US10186498B2 (en) * 2015-07-27 2019-01-22 Semiconductor Components Industries, Llc Semiconductor leadframes and packages with solder dams and related methods
US10290907B2 (en) 2015-07-27 2019-05-14 Semiconductor Components Industries, Llc Automatically programmable battery protection system and related methods
US10205330B2 (en) 2015-07-27 2019-02-12 Semiconductor Components Industries, Llc Programmable battery protection system and related methods
US10411498B2 (en) * 2015-10-21 2019-09-10 Allegro Microsystems, Llc Apparatus and methods for extending sensor integrated circuit operation through a power disturbance
US9741643B2 (en) * 2016-01-22 2017-08-22 Texas Instruments Incorporated Leadframe strip with vertically offset die attach pads between adjacent vertical leadframe columns
DE112016006677B4 (de) * 2016-03-29 2021-12-16 Mitsubishi Electric Corporation Verfahren zum Herstellen einer mit Harz versiegelten Leistungs-Halbleitervorrichtung
JP6349343B2 (ja) * 2016-05-02 2018-06-27 Towa株式会社 吸着ユニット、板状部材搬送ユニット、樹脂封止装置、板状部材搬送方法および樹脂封止方法
JP6673012B2 (ja) * 2016-05-26 2020-03-25 三菱電機株式会社 半導体装置およびその製造方法
CN106229271A (zh) * 2016-08-22 2016-12-14 四川明泰电子科技有限公司 一种dip多芯片封装引线框及其封装方法
JP6653235B2 (ja) * 2016-09-29 2020-02-26 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置の製造方法および半導体装置
US10777457B2 (en) * 2017-10-03 2020-09-15 Ubotic Company Limited Carrier substrate, package, and method of manufacture
JP6743802B2 (ja) 2017-11-22 2020-08-19 Tdk株式会社 半導体装置
US10978897B2 (en) 2018-04-02 2021-04-13 Allegro Microsystems, Llc Systems and methods for suppressing undesirable voltage supply artifacts
US11127689B2 (en) * 2018-06-01 2021-09-21 Qorvo Us, Inc. Segmented shielding using wirebonds
US11219144B2 (en) 2018-06-28 2022-01-04 Qorvo Us, Inc. Electromagnetic shields for sub-modules
JP2019021944A (ja) * 2018-11-07 2019-02-07 ラピスセミコンダクタ株式会社 半導体装置および計測装置
US11114363B2 (en) 2018-12-20 2021-09-07 Qorvo Us, Inc. Electronic package arrangements and related methods
US11515282B2 (en) 2019-05-21 2022-11-29 Qorvo Us, Inc. Electromagnetic shields with bonding wires for sub-modules

Family Cites Families (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1482915A (en) 1922-02-18 1924-02-05 Frederick C Whippey Window ventilator
JPS5632460A (en) 1979-08-25 1981-04-01 Nippon Tokushu Noyaku Seizo Kk Acyl-pyridyl-thiourea derivative, its preparation, fungicide for agriculture and gardening comprising it as active ingredient
JPS589348A (ja) 1981-07-09 1983-01-19 Matsushita Electronics Corp リ−ドフレ−ム
JPS5921168B2 (ja) 1981-09-28 1984-05-18 株式会社日立製作所 半導体集積回路の製法
JPS62119950A (ja) 1985-11-19 1987-06-01 Nec Corp 半導体装置用リ−ドフレ−ム
JPS6373632A (ja) * 1986-09-17 1988-04-04 Hitachi Ltd 電子装置の製造方法
JPS6361149U (ja) 1986-10-09 1988-04-22
JPH02310954A (ja) 1989-05-26 1990-12-26 Hitachi Ltd リードフレーム及びそれを用いた半導体装置
CA2035857A1 (en) * 1990-02-06 1991-08-07 Kikuo Ichigi Leadframe
JP2551835Y2 (ja) 1991-11-22 1997-10-27 株式会社三井ハイテック 半導体装置用リードフレーム
JPH05275602A (ja) 1992-03-27 1993-10-22 Omron Corp 電子機器
JPH09199656A (ja) * 1996-01-22 1997-07-31 Fujitsu Ltd 半導体装置の製造方法
JP3609527B2 (ja) 1996-03-29 2005-01-12 三洋電機株式会社 電子装置
JP3293757B2 (ja) * 1997-03-11 2002-06-17 サンケン電気株式会社 半導体装置製造用リードフレーム組立体の製造方法
JP2953424B2 (ja) * 1997-03-31 1999-09-27 日本電気株式会社 フェイスダウンボンディング用リードフレーム
JPH1117100A (ja) 1997-06-19 1999-01-22 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
JPH11258467A (ja) * 1998-03-16 1999-09-24 Sumitomo Electric Ind Ltd 光モジュール用リードフレーム、光モジュールの製造方法、及び光モジュール
US6143981A (en) * 1998-06-24 2000-11-07 Amkor Technology, Inc. Plastic integrated circuit package and method and leadframe for making the package
US6244498B1 (en) * 1999-04-16 2001-06-12 Micron Semiconductor, Inc. Ultrasonic vibration mode for wire bonding
JP2002083927A (ja) * 2000-09-07 2002-03-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体装置
US6472251B1 (en) * 2001-04-09 2002-10-29 Delphi Technologies, Inc. Method for integrated circuit packaging
US6621140B1 (en) * 2002-02-25 2003-09-16 Rf Micro Devices, Inc. Leadframe inductors
JP2004281887A (ja) * 2003-03-18 2004-10-07 Himeji Toshiba Ep Corp リードフレーム及びそれを用いた電子部品
JP4326275B2 (ja) * 2003-07-01 2009-09-02 三洋電機株式会社 半導体装置
JP4471600B2 (ja) 2003-08-20 2010-06-02 三洋電機株式会社 回路装置
JP4414191B2 (ja) 2003-10-27 2010-02-10 株式会社三井ハイテック 半導体装置用リードフレーム
US7351611B2 (en) * 2004-02-20 2008-04-01 Carsem (M) Sdn Bhd Method of making the mould for encapsulating a leadframe package
US7271469B2 (en) * 2005-05-31 2007-09-18 Freescale Semiconductor, Inc. Methods of making integrated circuits
JP2008071927A (ja) * 2006-09-14 2008-03-27 Renesas Technology Corp 半導体装置の製造方法および半導体装置
US7646083B2 (en) * 2008-03-31 2010-01-12 Broadcom Corporation I/O connection scheme for QFN leadframe and package structures

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