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  1. 第1のビット線駆動回路と、第2のビット線駆動回路と、第1のワード線駆動回路と、第2のワード線駆動回路と、を有する駆動回路と、
    第1のメモリセルアレイと、第2のメモリセルアレイと、第3のメモリセルアレイと、第4のメモリセルアレイとを有し、
    前記第1乃至前記第4のメモリセルアレイは、前記駆動回路と重なり、
    前記第1のビット線駆動回路と前記第2のビット線駆動回路とは、前記駆動回路において第1の対角線上に配置され、
    前記第1のワード線駆動回路と前記第2のワード線駆動回路とは、前記駆動回路において前記第1の対角線と交わる第2の対角線上に配置され、
    前記第1のメモリセルアレイは、第1のビット線を有し、
    前記第2のメモリセルアレイは、第2のビット線を有し、
    前記第3のメモリセルアレイは、第3のビット線を有し、
    前記第4のメモリセルアレイは、第4のビット線を有し、
    前記第1のメモリセルアレイと前記第4のメモリセルとは、共通の第1のワード線を有し、
    前記第2のメモリセルアレイと前記第3のメモリセルとは、共通の第2のワード線を有し、
    前記第1のメモリセルアレイと前記第3のメモリセルアレイとは、前記第1の対角線上に配置され、
    前記第2のメモリセルアレイと前記第4のメモリセルアレイとは、前記第2の対角線上に配置され、
    前記第1のワード線は、前記第1のメモリセルアレイと前記第4のメモリセルアレイの境界部で前記第2のワード線駆動回路と接続され、
    前記第2のワード線は、前記第2のメモリセルアレイと前記第3のメモリセルアレイの境界部で前記第1のワード線駆動回路と接続され、
    前記第1のビット線と、前記第2のビット線は、前記第1のメモリセルアレイと前記第2のメモリセルアレイとの境界部で前記第1のビット線駆動回路に接続され、
    前記第3のビット線と、前記第4のビット線は、前記第3のメモリセルアレイと前記第4のメモリセルアレイとの境界部で前記第2のビット線駆動回路に接続されていることを特徴とする記憶装置。
  2. 請求項1において、
    前記第1のビット線駆動回路は、前記第1のビット線と前記第2のビット線の電位の差を増幅する増幅素子を有し、
    前記第2のビット線駆動回路は、前記第3のビット線と前記第4のビット線の電位の差を増幅する増幅素子を有することを特徴とする記憶装置。
  3. 請求項1又は請求項2において、
    前記第1及び前記第2のビット線駆動回路のそれぞれは、第1のデコーダ、セレクタ、及び、読み出し回路を有し、
    前記第1及び前記第2のワード線駆動回路はそれぞれ、第2のデコーダ、レベルシフタ、及び、バッファを有することを特徴とする記憶装置。
  4. 請求項1乃至請求項3のいずれか一項において
    記メモリセルは、酸化物半導体を有するトランジスタを有し
    前記駆動回路は、シリコンを有するトランジスタを有することを特徴とする記憶装置。
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