JP2008266779A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2008266779A5
JP2008266779A5 JP2008029502A JP2008029502A JP2008266779A5 JP 2008266779 A5 JP2008266779 A5 JP 2008266779A5 JP 2008029502 A JP2008029502 A JP 2008029502A JP 2008029502 A JP2008029502 A JP 2008029502A JP 2008266779 A5 JP2008266779 A5 JP 2008266779A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plating
tank
conductive
manufacturing
producing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2008029502A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5588597B2 (ja
JP2008266779A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2008029502A priority Critical patent/JP5588597B2/ja
Priority claimed from JP2008029502A external-priority patent/JP5588597B2/ja
Publication of JP2008266779A publication Critical patent/JP2008266779A/ja
Publication of JP2008266779A5 publication Critical patent/JP2008266779A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5588597B2 publication Critical patent/JP5588597B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

[13] [9]又は[10]において、前記めっき処理槽が無電解めっき槽、電気めっき槽及び電気黒化めっき槽を有し、前記被めっき材料の搬送方向下流側に向かって無電解めっき槽、電気銅めっき槽、電気黒化めっき槽の順に配置されていることを特徴とする。
[14] 第4の本発明に係る導電性材料の製造方法は、導電性金属部を有する導電性材料の製造方法であって、実質的にめっき物質を含まない電解液中で前記導電性金属部をカソードとして通電する通電工程を有することを特徴とする。
[15] 支持体上に銀塩を含有する銀塩乳剤層を有する感光フイルムを露光して現像し、金属銀部を形成する金属銀部形成工程と、実質的にめっき物質を含まない電解液中で前記金属銀部をカソードとして通電する通電工程と、を有することを特徴とする。

Claims (15)

  1. 導電性金属部を有する被めっき材料にめっき処理を施して導電層を形成する導電性材料の製造方法であって、
    前記めっき処理の前段に、実質的にめっき物質を含まない電解液中で前記導電性金属部をカソードとして前記被めっき材料を通電する通電工程
    を有することを特徴とする導電性材料の製造方法。
  2. 支持体上に銀塩を含有する銀塩乳剤層を有する感光フイルムを露光して現像し、金属銀部を形成する金属銀部形成工程と、
    実質的にめっき物質を含まない電解液中で前記金属銀部をカソードとして通電する通電工程と、
    前記通電された金属銀部にめっき処理を施して導電層を形成するめっき工程と、
    を有することを特徴とする導電性材料の製造方法。
  3. 請求項1又は2記載の導電性材料の製造方法において、
    前記電解液が、電解質及び溶媒を含むことを特徴とする導電性材料の製造方法。
  4. 請求項3記載の導電性材料の製造方法において、
    前記電解質が、アルカリ金属塩、アンモニウム塩、過塩素酸塩及びホウ酸塩からなる群から選ばれる少なくとも1つであることを特徴とする導電性材料の製造方法。
  5. 請求項3記載の導電性材料の製造方法において、
    前記溶媒が、水及び/又は非水溶媒であることを特徴とする導電性材料の製造方法。
  6. 請求項5記載の導電性材料の製造方法において、
    前記非水溶媒が、アミド、ピロリドン、二トリル、ケトン及びテトラヒドロフランからなる群から選ばれる少なくとも1つであることを特徴とする導電性材料の製造方法。
  7. 請求項1〜6のいずれか1項に記載の導電性材料の製造方法において、
    前記めっき処理が、無電解めっき処理及び/又は電気めっき処理であることを特徴とする導電性材料の製造方法。
  8. 請求項7記載の導電性材料の製造方法において、
    前記電気めっき処理が、電気銅めっき処理及び/又は電気黒化めっき処理であることを特徴とする導電性材料の製造方法。
  9. 導電性金属部を有する被めっき材料にめっき処理を施して導電層を形成する導電性材料の製造装置であって、
    前記導電性金属部に接触して給電する給電ローラと、前記給電ローラより前記被めっき材料の搬送方向下流側に配置され、前記導電性金属部を電解液内で通電処理する通電処理槽とを備える通電処理装置と、
    前記通電処理装置の後段に配置され、前記導電性金属部にめっき処理するめっき処理槽を備えるめっき装置と、
    を有する導電性材料の製造装置。
  10. 請求項9記載の導電性材料の製造装置において、
    前記給電ローラの水素過電圧が前記導電性金属部の水素過電圧より大きいことを特徴とする導電性材料の製造装置。
  11. 請求項9又は10記載の導電性材料の製造装置において、
    前記めっき処理槽が、無電解めっき槽及び/又は電気めっき槽を有することを特徴とする導電性材料の製造装置。
  12. 請求項9又は10記載の導電性材料の製造装置において、
    前記めっき処理槽が無電解めっき槽及び電気めっき槽を有し、前記被めっき材料の搬送方向下流側に向かって無電解めっき槽、電気めっき槽の順に配置されていることを特徴とする導電性材料の製造装置。
  13. 請求項9又は10記載の導電性材料の製造装置において、
    前記めっき処理槽が無電解めっき槽、電気めっき槽及び電気黒化めっき槽を有し、前記被めっき材料の搬送方向下流側に向かって無電解めっき槽、電気銅めっき槽、電気黒化めっき槽の順に配置されていることを特徴とする導電性材料の製造装置。
  14. 導電性金属部を有する導電性材料の製造方法であって、
    実質的にめっき物質を含まない電解液中で前記導電性金属部をカソードとして通電する通電工程
    を有することを特徴とする導電性材料の製造方法。
  15. 支持体上に銀塩を含有する銀塩乳剤層を有する感光フイルムを露光して現像し、金属銀部を形成する金属銀部形成工程と、
    実質的にめっき物質を含まない電解液中で前記金属銀部をカソードとして通電する通電工程と、
    を有することを特徴とする導電性材料の製造方法。
JP2008029502A 2007-03-23 2008-02-08 導電性材料の製造方法及び製造装置 Expired - Fee Related JP5588597B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008029502A JP5588597B2 (ja) 2007-03-23 2008-02-08 導電性材料の製造方法及び製造装置

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007077027 2007-03-23
JP2007077027 2007-03-23
JP2008029502A JP5588597B2 (ja) 2007-03-23 2008-02-08 導電性材料の製造方法及び製造装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2008266779A JP2008266779A (ja) 2008-11-06
JP2008266779A5 true JP2008266779A5 (ja) 2011-10-20
JP5588597B2 JP5588597B2 (ja) 2014-09-10

Family

ID=39537503

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008029502A Expired - Fee Related JP5588597B2 (ja) 2007-03-23 2008-02-08 導電性材料の製造方法及び製造装置

Country Status (6)

Country Link
US (1) US8133377B2 (ja)
EP (1) EP1975698B1 (ja)
JP (1) JP5588597B2 (ja)
CN (1) CN101270493B (ja)
AT (1) ATE452352T1 (ja)
DE (1) DE602008000392D1 (ja)

Families Citing this family (51)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI386522B (zh) * 2005-03-15 2013-02-21 Fujifilm Corp 連續電解鍍敷方法及導電性膜的製造方法
KR20080011644A (ko) * 2005-06-03 2008-02-05 후지필름 가부시키가이샤 도금 처리 방법, 도전성 필름 및 투광성 전자기파 차폐필름
EP2009977A3 (en) 2007-05-09 2011-04-27 FUJIFILM Corporation Electromagnetic shielding film and optical filter
JP4867841B2 (ja) * 2007-08-01 2012-02-01 セイコーエプソン株式会社 導体パターン形成用インク
JP5358145B2 (ja) * 2007-09-28 2013-12-04 富士フイルム株式会社 導電性材料の製造方法及び導電性材料の製造装置
US7905994B2 (en) 2007-10-03 2011-03-15 Moses Lake Industries, Inc. Substrate holder and electroplating system
JP5366502B2 (ja) * 2008-10-31 2013-12-11 富士フイルム株式会社 タッチパネル用導電膜及びその製造方法
JP5469849B2 (ja) * 2008-10-31 2014-04-16 富士フイルム株式会社 タッチパネル用導電膜、導電膜形成用感光材料、導電性材料及び導電膜
US20100200413A1 (en) * 2009-02-11 2010-08-12 United Solar Ovonic Llc Solution deposition method and apparatus with partiphobic substrate orientation
US8262894B2 (en) 2009-04-30 2012-09-11 Moses Lake Industries, Inc. High speed copper plating bath
JP5446915B2 (ja) * 2010-01-21 2014-03-19 セイコーエプソン株式会社 生体情報検出器及び生体情報測定装置
KR20150061006A (ko) * 2010-05-13 2015-06-03 히타치가세이가부시끼가이샤 감광성 도전 필름, 도전막의 형성 방법 및 도전 패턴의 형성 방법
JP5562747B2 (ja) * 2010-07-13 2014-07-30 富士フイルム株式会社 導電膜の製造方法
JP5562746B2 (ja) * 2010-07-13 2014-07-30 富士フイルム株式会社 導電膜の製造方法
PL3034644T3 (pl) 2010-09-16 2019-04-30 Nippon Steel & Sumitomo Metal Corp Blacha stalowa o dużej wytrzymałości i ocynkowana blacha stalowa o dużej wytrzymałości z doskonałą ciągliwością i podatnością na wywijanie kołnierza oraz sposób ich wytwarzania
CN102127781A (zh) * 2011-02-25 2011-07-20 湖南大学 适用于印制板孔金属化的电化镀铜
EP2738276B1 (en) 2011-07-29 2019-04-24 Nippon Steel & Sumitomo Metal Corporation High-strength galvanized steel sheet and high-strength steel sheet having superior moldability, and method for producing each
JP5450551B2 (ja) * 2011-09-29 2014-03-26 富士フイルム株式会社 放射線撮影用カセッテ
WO2013117269A1 (en) * 2012-02-06 2013-08-15 Nv Bekaert Sa Multi-wire plating line at various levels
KR20140072681A (ko) * 2012-12-05 2014-06-13 제일모직주식회사 흑색 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 차광층
US20140256083A1 (en) * 2013-03-06 2014-09-11 Macdermid Acumen, Inc. High Speed Copper Plating Process
US9012261B2 (en) * 2013-03-13 2015-04-21 Intermolecular, Inc. High productivity combinatorial screening for stable metal oxide TFTs
JP6129769B2 (ja) * 2013-05-24 2017-05-17 富士フイルム株式会社 タッチパネル用透明導電膜、透明導電膜の製造方法、タッチパネル及び表示装置
CN103617830B (zh) * 2013-10-25 2016-07-06 复旦大学 一种金属导电薄膜的制备方法
CN103606420B (zh) * 2013-11-08 2016-08-17 复旦大学 制备金属导电薄膜的方法
CN103789806B (zh) * 2013-12-12 2016-08-17 深圳首创新能源股份有限公司 电镀槽
CN104032344B (zh) * 2014-06-23 2017-02-01 浙江纺织服装职业技术学院 一种镀银纱线的氯化银连续电镀设备
JP6204284B2 (ja) * 2014-07-15 2017-09-27 三菱製紙株式会社 導電材料
US9719171B2 (en) * 2014-09-12 2017-08-01 Eastman Kodak Company Roll-to-roll electroless plating system with spreader duct
CN104298066A (zh) * 2014-09-26 2015-01-21 无锡长辉机电科技有限公司 一种定影液配方
US20160145745A1 (en) * 2014-11-24 2016-05-26 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Formaldehyde-free electroless metal plating compositions and methods
CN104911657B (zh) * 2015-06-15 2017-04-05 中国石油大学(华东) 上游泵送机械密封流体动压槽的增材制造装置
WO2017130866A1 (ja) * 2016-01-29 2017-08-03 住友金属鉱山株式会社 黒化めっき液、導電性基板の製造方法
US10487410B2 (en) * 2016-02-26 2019-11-26 Applied Materials, Inc. Enhanced plating bath and additive chemistries for cobalt plating
CN105543908B (zh) * 2016-02-29 2018-04-13 广州鸿葳科技股份有限公司 一种无氰碱性光亮滚镀铜的溶液及方法
KR102353073B1 (ko) * 2016-04-05 2022-01-19 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 도전성 기판
CN106676596B (zh) * 2017-01-09 2019-01-29 鹏南科技(厦门)有限公司 一种碲化铋温差致冷芯片的选择电镀区域加工方法
EP3575448B1 (en) * 2017-01-30 2024-05-22 Mitsubishi Materials Corporation Terminal material for connectors, terminal, and electric wire end part structure
CN108735761A (zh) * 2017-04-20 2018-11-02 京东方科技集团股份有限公司 导电图案结构及其制备方法、阵列基板和显示装置
US20200181303A1 (en) * 2017-04-25 2020-06-11 Basf Se A composition used in 3d printing system, its application thereof
CN107899862A (zh) * 2017-11-20 2018-04-13 天津市盛祥冷拉有限公司 一种新型不锈钢丝的加工装置
CN110029382B (zh) * 2019-05-22 2021-09-24 电子科技大学 一种用于直接电镀的表面处理工艺及其相关直接电镀工艺
CN110205659B (zh) * 2019-07-17 2020-06-16 广州三孚新材料科技股份有限公司 一种电镀锡添加剂及其制备方法
CN110512246B (zh) * 2019-09-29 2020-11-03 太仓陶氏电气有限公司 一种用于电子元器件散热***的泡沫金属的制备工艺
CN111850531A (zh) * 2020-06-24 2020-10-30 肇庆宏旺金属实业有限公司 一种整卷黑钛不锈钢的生产方法
CN111842084A (zh) * 2020-06-24 2020-10-30 肇庆宏旺金属实业有限公司 一种整卷拉丝仿古铜不锈钢的制备方法
CN114114973B (zh) * 2020-09-01 2024-01-23 京东方科技集团股份有限公司 显示面板双片生产控制方法及相关设备
CN112497374A (zh) * 2020-11-28 2021-03-16 无锡市森泰木制品有限公司 一种环保抗菌实木地板的制备方法
CN112844333B (zh) * 2021-01-13 2023-11-24 袁依婷 一种有机膦掺杂聚乙烯醇壳聚糖复合球的制备方法
CN113630963A (zh) * 2021-07-08 2021-11-09 广州美维电子有限公司 改善超薄板板变形的方法
TWI796261B (zh) * 2022-07-14 2023-03-11 友達光電股份有限公司 顯示裝置及其製造方法

Family Cites Families (222)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB235211A (ja) 1900-01-01
US1623499A (en) 1925-06-16 1927-04-05 A corpora
US2274782A (en) 1937-11-24 1942-03-03 Chromogen Inc Light-sensitive photographic material
GB584609A (en) 1944-12-30 1947-01-20 Harry Derek Edwards Improvements in or relating to photographic light-sensitive materials
US2533472A (en) 1947-01-17 1950-12-12 Eastman Kodak Co Unsymmetrical oxonol filter and antihalation dyes
BE521002A (ja) 1952-06-26
BE521000A (ja) 1952-06-26
US3025779A (en) 1957-09-17 1962-03-20 Eastman Kodak Co Film processing machine
US2956879A (en) 1958-01-07 1960-10-18 Eastman Kodak Co Filter and absorbing dyes for use in photographic emulsions
NL121615C (ja) 1958-09-06 1900-01-01
US3247127A (en) 1960-04-14 1966-04-19 Eastman Kodak Co Light-absorbing water-permeable colloid layer containing an oxonol dye
BE627309A (ja) 1962-01-22
BE627808A (ja) 1962-02-03
GB1121496A (en) 1964-11-16 1968-07-31 Eastman Kodak Co Silver halide emulsions
CA800958A (en) 1965-06-17 1968-12-10 Eastman Kodak Company Sensitization of photographic systems
US3320069A (en) 1966-03-18 1967-05-16 Eastman Kodak Co Sulfur group sensitized emulsions
US3545971A (en) 1966-06-28 1970-12-08 Eastman Kodak Co Rapid processing of photographic x-ray film
GB1213808A (en) 1966-12-28 1970-11-25 Eastman Kodak Co Photographic processing compositions
GB1210253A (en) 1967-06-16 1970-10-28 Agfa Gevaert Nv Coloured colloid materials
GB1177429A (en) 1967-09-27 1970-01-14 Ilford Ltd Filter Dyes
GB1265485A (ja) 1968-05-21 1972-03-01
US3575704A (en) 1968-07-09 1971-04-20 Eastman Kodak Co High contrast light sensitive materials
US3817844A (en) * 1968-10-04 1974-06-18 Rohr Corp Method of electrolitic descaling activating and brightening and plating titanium and its alloys
GB1295462A (ja) 1969-03-12 1972-11-08
DE2104694C3 (de) 1971-02-02 1980-04-17 Eduard Kuesters Maschinenfabrik, 4150 Krefeld Vorrichtung zum kontinuierlichen Auftragen von Flüssigkeiten auf Bahnen
GB1396696A (en) 1971-05-27 1975-06-04 Kodak Ltd Sensitive silver halide photographic materials
JPS5418038B2 (ja) 1971-09-12 1979-07-04
US3772031A (en) 1971-12-02 1973-11-13 Eastman Kodak Co Silver halide grains and photographic emulsions
JPS5146607B2 (ja) 1972-02-10 1976-12-10
BE795156A (fr) 1972-02-08 1973-08-08 Eastman Kodak Co Procede pour complexer des ions metalliques dans les solutions aqueuses et application a la photographie
DE2227639A1 (de) 1972-06-07 1974-01-03 Agfa Gevaert Ag Photographische farbentwicklermischung
JPS4999620A (ja) 1973-01-29 1974-09-20
JPS5510059B2 (ja) 1973-02-28 1980-03-13
IT1022356B (it) 1974-09-26 1978-03-20 Veronesi Fiorenzo Compressa di composti chimici par tioclarmente per il trattamento di materiale sensibile per uso fotografico
JPS5216364A (en) 1975-07-18 1977-02-07 Tadao Tatsumi Process for producing caffee cake fertilizer
JPS5812576B2 (ja) 1975-08-09 1983-03-09 コニカ株式会社 チヨクセツハンテンハロゲンカギンシヤシンカンコウザイリヨウ
JPS5225632A (en) 1975-08-22 1977-02-25 Oriental Shashin Kogyo Kk Processing agent for silver halide color photographic light sensitive material
JPS5288025A (en) 1976-01-19 1977-07-22 Ricoh Co Ltd Solid developers composition for diazo light sensitive material
JPS52102726A (en) 1976-02-24 1977-08-29 Fuji Photo Film Co Ltd Treatment for color photography
JPS5342730A (en) 1976-09-29 1978-04-18 Fuji Photo Film Co Ltd Color photographic processing method
US4126459A (en) 1976-05-14 1978-11-21 Polaroid Corporation Thioether substituted silver halide solvents
US4127681A (en) 1976-09-24 1978-11-28 Pennwalt Corporation Single electrode poling of dielectric films
JPS5851252B2 (ja) 1976-12-28 1983-11-15 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真乳剤
DE2745083C2 (de) 1977-10-07 1985-05-02 Henkel KGaA, 4000 Düsseldorf Hydroxydiphosphonsäuren und Verfahren zu deren Herstellung
GB1535016A (en) 1977-10-17 1978-12-06 Ilford Ltd Monodispersed emulsions
US4242445A (en) 1978-02-02 1980-12-30 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method for preparing light-sensitive silver halide grains
JPS54121127A (en) 1978-03-13 1979-09-20 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Photographic processing composition
JPS54133332A (en) 1978-04-07 1979-10-17 Oriental Photo Ind Co Ltd Preparation of powdered bleaching agent for photograph
JPS54155038A (en) 1978-05-26 1979-12-06 Oriental Photo Ind Co Ltd Method of producing bleachhfixing liquid
JPS554025A (en) 1978-06-23 1980-01-12 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Developing solution for silver halide color photographic material
JPS554024A (en) 1978-06-23 1980-01-12 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Developing solution for silver halide color photographic material
JPS5529883A (en) 1978-08-24 1980-03-03 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Developing solution for silver halide color photographic material
JPS5565955A (en) 1978-11-14 1980-05-17 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Developing solution for silver halide color photographic material
JPS5565956A (en) 1978-11-14 1980-05-17 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Developing solution for silver halide color photographic material
JPS5567747A (en) 1978-11-15 1980-05-22 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Developing solution for silver halide color photographic material
JPS6035055B2 (ja) 1978-12-07 1985-08-12 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真乳剤
JPS55126241A (en) 1979-03-20 1980-09-29 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Developing solution for silver halide color photographic material
DE2921164A1 (de) 1979-05-25 1980-12-04 Agfa Gevaert Ag Verfahren zur bildung von metallsalzen, photographische materialien und deren verwendung zur herstellung photographischer bilder
JPS5624347A (en) 1979-08-03 1981-03-07 Fuji Photo Film Co Ltd Photographic developing method
JPS5646585A (en) 1979-09-25 1981-04-27 Nec Corp Gas laser device
JPS5697347A (en) 1980-01-07 1981-08-06 Fuji Photo Film Co Ltd Color photographic processing method
JPS60900B2 (ja) 1980-06-13 1985-01-10 積水化学工業株式会社 接着剤被覆用クロスヘツドダイ
JPS57102624A (en) 1980-12-18 1982-06-25 Mitsubishi Paper Mills Ltd Treatment of photographic photosensitive material
JPS57208554A (en) 1981-06-18 1982-12-21 Oriental Shashin Kogyo Kk Color developer composition for use in silver halide color photographic sensitive material
JPH0248891B2 (ja) 1982-01-18 1990-10-26 Mitsubishi Paper Mills Ltd Harogenkaginshashinkankozairyoyoteichakueki
JPS58122535A (ja) 1982-01-18 1983-07-21 Mitsubishi Paper Mills Ltd ハロゲン化銀写真感光材料用定着剤
JPS596393A (ja) * 1982-07-01 1984-01-13 Nippon Kokan Kk <Nkk> 溶接缶用錫メツキ鋼板の製造法
JPS59154439A (ja) 1983-02-21 1984-09-03 Fuji Photo Film Co Ltd 直接反転ハロゲン化銀写真感光材料
JPS59208548A (ja) 1983-05-12 1984-11-26 Konishiroku Photo Ind Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料
JPS6093433A (ja) 1983-10-27 1985-05-25 Fuji Photo Film Co Ltd 現像方法
JPS60235133A (ja) 1984-05-08 1985-11-21 Konishiroku Photo Ind Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法
FR2565021B1 (fr) * 1984-05-25 1992-03-06 Toshiba Kk Appareil de decontamination de dechets metalliques radioactifs
JPH067249B2 (ja) 1984-09-19 1994-01-26 富士写真フイルム株式会社 高ph現像液の保存方法
DK166954B1 (da) 1985-03-28 1993-08-09 Deltagraph As Fremgangsmaade til emballering af to indbyrdes reaktive, partikelformede stoffer
JPS61243193A (ja) * 1985-04-18 1986-10-29 Nisshin Steel Co Ltd ステンレス鋼に純金めつきする方法
JPS61267759A (ja) 1985-05-22 1986-11-27 Fuji Photo Film Co Ltd ネガティブ画像の形成方法及び現像液
JPS622849A (ja) 1985-06-28 1987-01-08 Casio Comput Co Ltd ステツプモ−タ
JPS62173748A (ja) * 1986-01-27 1987-07-30 Hitachi Cable Ltd 半導体用リ−ドフレ−ムの製造方法
JPS62186259A (ja) 1986-02-12 1987-08-14 Fuji Photo Film Co Ltd 現像方法
GB8609135D0 (en) 1986-04-15 1986-05-21 Minnesota Mining & Mfg Silver halide photographic materials
JPH0715576B2 (ja) 1986-06-06 1995-02-22 富士写真フイルム株式会社 自動現像装置
JPS62299959A (ja) 1986-06-20 1987-12-26 Konica Corp 放射線用ハロゲン化銀写真感光材料
JPH067256B2 (ja) 1986-07-10 1994-01-26 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料の自動現像装置
US4816384A (en) 1986-10-09 1989-03-28 E. I. Du Pont De Nemours And Company Powdered packaged developer
JPH0640200B2 (ja) 1986-11-20 1994-05-25 コニカ株式会社 放射線用ハロゲン化銀写真感光材料
JPS63163456A (ja) 1986-12-26 1988-07-06 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀感光材料の処理方法
JP2664153B2 (ja) 1987-06-05 1997-10-15 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀カラー写真感光材料およびその現像処理方法
JPH0820705B2 (ja) 1987-06-29 1996-03-04 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀感光材料の現像処理方法
DE3733291A1 (de) 1987-10-02 1989-04-20 Agfa Gevaert Ag Stabilisierung eines fotografisch hergestellten silberbildes
US4835093A (en) 1988-04-08 1989-05-30 Eastman Kodak Company Internally doped silver halide emulsions
US4933272A (en) 1988-04-08 1990-06-12 Eastman Kodak Company Photographic emulsions containing internally modified silver halide grains
JPH087399B2 (ja) 1988-04-18 1996-01-29 富士写真フイルム株式会社 赤外感光性ハロゲン化銀感光材料
JPH01285941A (ja) 1988-05-13 1989-11-16 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料の製造方法
JPH02132435A (ja) 1988-07-08 1990-05-21 Chiyuugai Shashin Yakuhin Kk ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法
JPH0244355A (ja) 1988-08-05 1990-02-14 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料の処理方法
DE3830023A1 (de) 1988-09-03 1990-03-15 Agfa Gevaert Ag Granulierter, farbfotografischer entwickler und seine herstellung
DE3830022A1 (de) 1988-09-03 1990-03-15 Agfa Gevaert Ag Granulierter, farbfotografischer entwickler und seine herstellung
US4987059A (en) 1988-12-01 1991-01-22 Agfa-Gevaert Aktiengesellschaft Process for stabilizing photographic silver images
JP2649967B2 (ja) 1989-04-24 1997-09-03 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料
US5055384A (en) 1989-05-10 1991-10-08 Agfa Gevaert Aktiengesellschaft Granulated photographic fixative and its preparation
DE3920921A1 (de) 1989-06-27 1991-01-03 Agfa Gevaert Ag Granuliertes, farbfotografisches bleichmittel und seine herstellung
JPH03136038A (ja) 1989-10-23 1991-06-10 Fuji Photo Film Co Ltd 赤外感光性ハロゲン化銀感光材料
JP2876081B2 (ja) 1989-10-25 1999-03-31 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料
JPH0439652A (ja) 1990-06-05 1992-02-10 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀黒白写真感光材料の処理法
JP2840877B2 (ja) 1990-08-30 1998-12-24 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料
JPH04204640A (ja) 1990-11-30 1992-07-27 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料
JPH04229860A (ja) 1990-12-06 1992-08-19 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法
JP2654722B2 (ja) 1991-02-27 1997-09-17 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料
JP2717734B2 (ja) 1991-02-28 1998-02-25 日本写真印刷株式会社 透光性電磁波シールド材料とその製造方法
JP2964019B2 (ja) 1991-04-02 1999-10-18 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法および現像液
JP2724639B2 (ja) 1991-04-25 1998-03-09 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法
JP2699029B2 (ja) 1991-05-08 1998-01-19 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料
JP2835214B2 (ja) * 1991-07-24 1998-12-14 古河電気工業株式会社 ステンレス鋼部材のめっき装置およびそれを用いためっき方法
JPH05241309A (ja) 1991-12-10 1993-09-21 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法
JP2811257B2 (ja) 1992-04-24 1998-10-15 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料
JPH05313284A (ja) 1992-05-14 1993-11-26 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料
JPH06324426A (ja) 1993-05-17 1994-11-25 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法
JPH07102395A (ja) * 1993-10-06 1995-04-18 Kanai Hiroyuki 線条体の連続電気めっき方法およびその装置
JPH07113072A (ja) 1993-10-18 1995-05-02 Hitachi Maxell Ltd 赤外吸収材料およびこれを用いた赤外吸収性塗料、熱転写印字用インクリボン、印刷物ならびに赤外吸収材料の製造法
JP3729516B2 (ja) 1993-11-30 2005-12-21 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料
JP3444646B2 (ja) 1994-03-16 2003-09-08 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料
JPH07316875A (ja) 1994-05-23 1995-12-05 C Uyemura & Co Ltd 電気銅めっき用添加剤及び電気銅めっき浴
JP3616173B2 (ja) 1994-09-22 2005-02-02 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料および画像形成方法
JPH08245902A (ja) 1995-03-14 1996-09-24 Fuji Photo Film Co Ltd シアニン化合物の固体微粒子分散物
JPH08333519A (ja) 1995-04-07 1996-12-17 Fuji Photo Film Co Ltd 固体微粒子分散状のシアニン染料
JPH095913A (ja) 1995-06-19 1997-01-10 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料およびそれを用いた検知方法
JP3522941B2 (ja) 1995-12-26 2004-04-26 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料
US6097076A (en) 1997-03-25 2000-08-01 Micron Technology, Inc. Self-aligned isolation trench
JPH10323565A (ja) * 1997-05-26 1998-12-08 Osaka Gas Co Ltd 排煙脱硫用活性炭素繊維及びそれを用いる脱硫方法
JP3870485B2 (ja) 1997-06-06 2007-01-17 日立化成工業株式会社 透明性と非視認性を有する電磁波シールド性フィルムの製造方法
JPH11323565A (ja) * 1998-05-08 1999-11-26 Koei Kogyo Kk 無電解ニッケルメッキの前処理法
JP3575994B2 (ja) 1998-07-22 2004-10-13 大日本スクリーン製造株式会社 画像記録装置
SG87194A1 (en) * 2000-08-17 2002-03-19 Samsung Techwin Co Ltd Lead frame and method of manufacturing the lead frame
JP2003023290A (ja) 2001-07-09 2003-01-24 Dainippon Printing Co Ltd 電磁波遮蔽用部材及びその製造方法
JP2003046293A (ja) 2001-08-02 2003-02-14 Hitachi Chem Co Ltd 電磁波シールド材料の製造方法、その方法によって得られる磁波シールド材料、並びにこれを用いた電磁波遮蔽構成体及び電磁波シールドディスプレイ
JP4043778B2 (ja) 2001-12-19 2008-02-06 大日本印刷株式会社 電磁波遮蔽用シート
US7748620B2 (en) * 2002-01-11 2010-07-06 Hand Held Products, Inc. Transaction terminal including imaging module
JP4731787B2 (ja) 2002-04-10 2011-07-27 富士フイルム株式会社 露光ヘッド及び露光装置
KR100936527B1 (ko) 2002-07-12 2010-01-13 후지모리 고교 가부시키가이샤 전자파 차폐재 및 그 제조 방법
JP2004085655A (ja) 2002-08-23 2004-03-18 Asahi Kasei Aimii Kk 耐汚染性の含水ソフトコンタクトレンズ
JP4084645B2 (ja) 2002-12-03 2008-04-30 富士フイルム株式会社 熱現像感光材料
EP2099050A3 (en) * 2002-12-27 2009-10-07 Fujifilm Corporation Method for producing a metallic silver pattern on a transparent substrate and manufacture of a light-transmitting electromagnetic wave-shielding film
JP4807934B2 (ja) 2002-12-27 2011-11-02 富士フイルム株式会社 透光性電磁波シールド膜およびその製造方法
JP4641719B2 (ja) * 2002-12-27 2011-03-02 富士フイルム株式会社 透光性電磁波シールド膜の製造方法及び透光性電磁波シールド膜
JP2004244080A (ja) 2003-02-17 2004-09-02 Maruha Corp 冷凍ころも付きえび用収納トレー
JP4322549B2 (ja) 2003-05-12 2009-09-02 富士フイルム株式会社 熱現像感光材料
JP2005010752A (ja) 2003-05-22 2005-01-13 Fuji Photo Film Co Ltd 熱現像感光材料及び画像形成方法
JP2005002373A (ja) * 2003-06-09 2005-01-06 Nippon Steel Corp 表面外観に優れた電気亜鉛メッキ鋼板の製造方法
JP2005197234A (ja) 2003-12-08 2005-07-21 Fuji Photo Film Co Ltd エレクトロルミネッセンス素子
JP2005302508A (ja) 2004-04-12 2005-10-27 Fuji Photo Film Co Ltd 透明導電性シートおよびそれを用いたエレクトロルミネッセンス素子
JP2006001461A (ja) 2004-06-18 2006-01-05 Kubota Corp コンバインのクローラ走行装置
DE102004026489B3 (de) 2004-05-27 2005-09-29 Enthone Inc., West Haven Verfahren zur Metallisierung von Kunststoffoberflächen
JP2006012935A (ja) 2004-06-23 2006-01-12 Fuji Photo Film Co Ltd 透光性電磁波シールド膜の製造方法および透光性電磁波シールド膜
JP2006010795A (ja) 2004-06-23 2006-01-12 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性ハロゲン化銀乳剤、これを用いた導電性銀薄膜、導電性銀材料
JP4737961B2 (ja) 2004-09-24 2011-08-03 キヤノン化成株式会社 電子写真装置用ローラの浸漬塗工方法
JP4150794B2 (ja) 2004-09-30 2008-09-17 学校法人早稲田大学 半導体センシング用電界効果型トランジスタ及びこれを用いた半導体センシングデバイス
JP2006098334A (ja) 2004-09-30 2006-04-13 Fuji Photo Film Co Ltd 画像読取装置
JP4468129B2 (ja) 2004-09-30 2010-05-26 株式会社東芝 濃度測定装置
JP2006098336A (ja) 2004-09-30 2006-04-13 Juki Corp 分注機
JP4505637B2 (ja) 2004-09-30 2010-07-21 クラリオン株式会社 ナビゲーションシステム
JP4870963B2 (ja) * 2004-10-19 2012-02-08 株式会社ブリヂストン 電磁波シールド性光透過窓材の製造方法及びその方法に用いられるメッキ装置
JP4621576B2 (ja) * 2004-10-19 2011-01-26 株式会社ブリヂストン 電磁波シールド性光透過窓材の製造方法及びその方法に用いられるメッキ装置
JP2006228836A (ja) 2005-02-15 2006-08-31 Fuji Photo Film Co Ltd 透光性導電性膜及びその製造方法並びに透光性導電性膜を用いた光学フィルター
JP2006228478A (ja) 2005-02-15 2006-08-31 Fuji Photo Film Co Ltd 電性膜及びその製造方法、並びに導電性膜を用いた光学フィルター
JP2006228473A (ja) 2005-02-15 2006-08-31 Fuji Photo Film Co Ltd 透光性導電性膜及びその製造方法並びに透光性導電性膜の製造に用いられる現像液
JP2006228480A (ja) 2005-02-15 2006-08-31 Fuji Photo Film Co Ltd 透光性導電性膜及びその製造方法並びに透光性導電性膜を用いたプラズマディスプレー用光学フィルター
JP2006228469A (ja) 2005-02-15 2006-08-31 Fuji Photo Film Co Ltd 導電性膜形成用感光材料、導電性膜、透光性電磁波シールド膜、及びそれらの製造方法
JP4674096B2 (ja) 2005-02-15 2011-04-20 積水化学工業株式会社 導電性微粒子及び異方性導電材料
JP4500715B2 (ja) 2005-03-16 2010-07-14 富士フイルム株式会社 透光性導電性膜の製造方法、透光性導電性膜、透光性電磁波シールド膜および光学フィルター
JP2006269795A (ja) * 2005-03-24 2006-10-05 Fuji Photo Film Co Ltd 透光性導電性膜形成用現像液並びに透光性導電性膜、透光性電磁波シールド膜及びそれらの製造方法
JP2006267627A (ja) 2005-03-24 2006-10-05 Fuji Photo Film Co Ltd 透光性導電性膜形成用定着液並びに透光性導電性膜、透光性電磁波シールド膜及びそれらの製造方法
JP2006267635A (ja) 2005-03-24 2006-10-05 Fuji Photo Film Co Ltd 透光性導電性膜形成用定着液並びに透光性導電性膜、透光性電磁波シールド膜及びそれらの製造方法
JP2006286410A (ja) * 2005-03-31 2006-10-19 Fuji Photo Film Co Ltd 光透過性導電性材料の製造装置及び製造方法
JP2006283133A (ja) 2005-03-31 2006-10-19 Fuji Photo Film Co Ltd 光透過性導電性材料の製造装置及び製造方法、並びに、電解めっき装置及び電解めっき方法
JP2006283137A (ja) 2005-03-31 2006-10-19 Fuji Photo Film Co Ltd めっき被膜付きフィルムの製造方法及び装置
JP2006352073A (ja) 2005-05-20 2006-12-28 Fujifilm Holdings Corp 導電性パターン材料、透光性導電性膜、透光性電磁波シールド膜、光学フィルター、透明導電性シート、エレクトロルミネッセンス素子、及び平面光源システム
JP2006324203A (ja) 2005-05-20 2006-11-30 Fujifilm Holdings Corp 透光性導電性膜及びその製造方法並びに透光性電磁波シールド膜、光学フィルター及びプラズマディスプレーパネル
JP2006332459A (ja) 2005-05-27 2006-12-07 Fujifilm Holdings Corp 導電性金属膜形成用感光材料、導電性金属膜の製造方法、導電性金属膜、及びプラズマディスプレイパネル用透光性電磁波シールド膜
JP2006336057A (ja) 2005-05-31 2006-12-14 Fujifilm Holdings Corp 導電性膜の製造方法及びその製造装置並びに透光性電磁波シールド膜及びプラズマディスプレーパネル
JP2006339287A (ja) * 2005-05-31 2006-12-14 Fujifilm Holdings Corp 導電性膜の製造方法及びその製造装置並びに電磁波シールド膜及びプラズマディスプレーパネル
JP2007013130A (ja) 2005-05-31 2007-01-18 Fujifilm Holdings Corp ディスプレーパネル用フィルム、光学フィルター、それらの製造方法及びプラズマディスプレーパネル
JP2006336090A (ja) 2005-06-03 2006-12-14 Fujifilm Holdings Corp 導電性膜形成用めっき液、導電性膜及びその製造方法並びに透光性電磁波シールド膜及びプラズマディスプレーパネル
JP2007009326A (ja) 2005-06-03 2007-01-18 Fujifilm Corp めっき処理方法、導電性膜、及び透光性電磁波シールド膜
JP2006339526A (ja) 2005-06-03 2006-12-14 Fujifilm Holdings Corp 透光性電磁波シールド膜の製造方法および透光性電磁波シールド膜
JP4719512B2 (ja) 2005-06-06 2011-07-06 富士フイルム株式会社 めっき処理方法、透光性導電性膜、及び透光性電磁波シールド膜
JP2006348351A (ja) 2005-06-16 2006-12-28 Fujifilm Holdings Corp めっき被膜付きフィルムの製造装置及び方法
JP4694282B2 (ja) * 2005-06-23 2011-06-08 富士フイルム株式会社 めっき被膜付きフィルムの製造装置及び方法
JP2007039738A (ja) 2005-08-03 2007-02-15 Fujifilm Holdings Corp 電解メッキ処理方法及び装置
JP2007039739A (ja) 2005-08-03 2007-02-15 Fujifilm Holdings Corp 電解メッキ処理方法及び装置
JP2007039740A (ja) 2005-08-03 2007-02-15 Fujifilm Holdings Corp 電解メッキ処理装置
JP4224479B2 (ja) 2005-09-07 2009-02-12 富士フイルム株式会社 パターン露光方法及び装置
JP4861778B2 (ja) 2005-09-08 2012-01-25 富士フイルム株式会社 パターン露光方法及び装置
JP2007088218A (ja) 2005-09-22 2007-04-05 Fujifilm Corp 透光性電磁波シールド膜の製造方法、該製造方法により得られた透光性電磁波シールド膜、ディスプレイパネル用フィルム、ディスプレイパネル用光学フィルター及びプラズマディスプレイパネル
JP4951299B2 (ja) 2005-09-22 2012-06-13 富士フイルム株式会社 透光性電磁波シールド膜とその製造方法、ディスプレイパネル用フィルム、ディスプレイパネル用光学フィルター、プラズマディスプレイパネル
JP4856921B2 (ja) 2005-09-22 2012-01-18 富士フイルム株式会社 めっき処理方法、導電性膜、透光性電磁波シールド膜および光学フィルター
JP2007088219A (ja) 2005-09-22 2007-04-05 Fujifilm Corp 透光性電磁波シールド膜、ディスプレイパネル用フィルム、ディスプレイパネル用光学フィルター及びプラズマディスプレイパネル
JP2007092146A (ja) 2005-09-29 2007-04-12 Fujifilm Corp メッキ処理方法、導電性膜および透光性電磁波シールド膜
CN101909420A (zh) 2005-09-30 2010-12-08 富士胶片株式会社 导电薄膜的生产方法和用于导电薄膜生产的感光材料
JP2007134439A (ja) 2005-11-09 2007-05-31 Fujifilm Corp ロール状光学フィルターおよびその製造方法
JP2007149760A (ja) 2005-11-24 2007-06-14 Fujifilm Corp ロール状光学フィルムおよびその製造方法
JP2007162118A (ja) 2005-12-16 2007-06-28 Fujifilm Corp めっき処理装置、めっき処理方法、透光性導電性膜、及び透光性電磁波シールド膜
JP4855070B2 (ja) 2005-12-28 2012-01-18 富士フイルム株式会社 金属微粒子分散物及び赤外線遮蔽フィルター
JP4911459B2 (ja) 2005-12-28 2012-04-04 富士フイルム株式会社 導電性膜、その製造方法、電磁波シールド膜、その製造方法及びプラズマディスプレイパネル
JP2007200922A (ja) 2006-01-23 2007-08-09 Fujifilm Corp プラズマディスプレイの光学フィルター用透光性電磁波シールド膜および光学フィルター
JP4832322B2 (ja) 2006-01-27 2011-12-07 富士フイルム株式会社 導電性金属膜、透光性電磁波シールドフィルム、光学フィルターおよびプラズマディスプレイパネル、及び導電性金属膜の製造方法
JP2007201378A (ja) 2006-01-30 2007-08-09 Fujifilm Corp 透光性電磁波シールド膜、光学フィルター、およびプラズマディスプレイパネル
JP2007197809A (ja) 2006-01-30 2007-08-09 Fujifilm Corp めっき処理方法、導電性膜および透光性電磁波シールド膜
JP4705857B2 (ja) 2006-01-31 2011-06-22 富士フイルム株式会社 透光性膜、透光性膜の製造方法、透光性電磁波シールド膜、透光性電磁波シールド膜の製造方法、光学フィルターおよびプラズマディスプレイパネル
JP4961220B2 (ja) 2006-01-31 2012-06-27 富士フイルム株式会社 導電性膜の製造方法、並びに、透光性電磁波シールド膜、光学フィルターおよびプラズマディスプレイパネル
JP2007207883A (ja) 2006-01-31 2007-08-16 Fujifilm Corp 透光性電磁波シールド膜、光学フィルター、およびプラズマディスプレイパネル
JP4705856B2 (ja) 2006-01-31 2011-06-22 富士フイルム株式会社 透光性膜、透光性膜の製造方法、透光性電磁波シールド膜、透光性電磁波シールド膜の製造方法、光学フィルター、およびプラズマディスプレイパネル
JP2007207987A (ja) 2006-02-01 2007-08-16 Fujifilm Corp 透光性電磁波シールド膜、光学フィルター、およびプラズマディスプレイパネル
JP2007208133A (ja) 2006-02-03 2007-08-16 Fujifilm Corp 透光性電磁波シールドフィルム、透光性電磁波シールド性積層体、光学フィルター、およびプラズマディスプレイパネル
JP2007270353A (ja) 2006-03-09 2007-10-18 Fujifilm Corp めっき処理方法、導電性膜およびその製造方法、並びに透光性電磁波シールド膜
JP4841996B2 (ja) 2006-03-31 2011-12-21 富士フイルム株式会社 洗浄装置、めっき被膜付きフィルムの製造装置、洗浄方法及びめっき被膜付きフィルムの製造方法
JP4786393B2 (ja) 2006-03-31 2011-10-05 富士フイルム株式会社 洗浄装置及びめっき被膜付きフィルムの製造装置
JP2007310091A (ja) 2006-05-17 2007-11-29 Fujifilm Corp プラズマディスプレイパネル
JP2007334325A (ja) 2006-05-18 2007-12-27 Fujifilm Corp 近赤外線吸収フィルター及びその製造方法
JP2007308761A (ja) 2006-05-18 2007-11-29 Fujifilm Corp めっき処理方法、導電性金属膜およびその製造方法、並びに透光性電磁波シールド膜
JP2007311646A (ja) 2006-05-19 2007-11-29 Fujifilm Corp 透光性電磁波シールドフィルム、該シールドフィルムを用いた光学フィルタ及びプラズマディスプレーパネル
JP2007335729A (ja) 2006-06-16 2007-12-27 Fujifilm Corp 導電性金属膜および透光性電磁波シールド膜
JP2007001008A (ja) 2006-08-11 2007-01-11 Yoshikazu Nakayama ナノチューブ基板及びナノチューブカートリッジ

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2008266779A5 (ja)
JP6877650B2 (ja) 電極触媒の製造方法
JP4709575B2 (ja) 銅箔の粗面化処理方法及び粗面化処理液
JP5673582B2 (ja) 電気めっきの前処理方法及び該前処理方法を含んだ電気めっき方法による銅張積層樹脂フィルムの製造方法
JP2012057191A (ja) 長尺導電性基板の電気めっき方法およびこの方法を用いた銅被覆長尺導電性基板の製造方法並びにロール・ツー・ロールタイプの電気めっき装置
JP7070012B2 (ja) 電解めっき装置、および金属張積層板の製造方法
TW201625816A (zh) 供銅及銅合金微蝕刻之組合物及方法
JP5759231B2 (ja) めっき装置、めっき方法および配線回路基板の製造方法
JP5858286B2 (ja) 長尺導電性基板の電解めっき方法および銅張積層板の製造方法
JP5719687B2 (ja) 無電解めっき装置、無電解めっき方法および配線回路基板の製造方法
JP2007042391A (ja) 電気接点材料製造方法及び電気接点材料
US20140311776A1 (en) Plating apparatus, plating method, method of manufacturing printed circuit board and printed circuit board
JP5751530B2 (ja) 長尺導電性基板の電解めっき方法および銅張積層板の製造方法
JP2008270659A (ja) プラズマディスプレィ前面板用黒色化シールドメッシュの製造方法
JP2022082619A (ja) Pcb端子の製造方法及びpcb端子
JP2004018975A (ja) めっき方法
JP4531777B2 (ja) プリント配線板のめっき前処理方法
JP6403097B2 (ja) 不溶性陽極、めっき装置および電気めっき方法ならびに銅張積層板の製造方法
JP2005008972A (ja) 銅箔の表面粗化方法及び表面粗化装置
JP2015108186A (ja) 端子部材のめっき方法、めっき装置、および端子部材
CN110528042A (zh) 一种半导体器件电镀方法及用于电镀的活化槽
JP2005146330A (ja) 非導体材料への表面処理方法
JP2008169412A (ja) 金属イオン濃度調整方法、金属イオン濃度調整装置及びめっき方法
TW201309845A (zh) 利用浸鍍的金剛石附著方法及利用於此的金剛石附著裝置
JP7144937B2 (ja) 配線回路基板の製造方法