JP2008177541A - 基板洗浄装置、基板洗浄方法及び記憶媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板洗浄装置1は、裏面を下方に向けた状態の基板を裏面から支えて保持する2つの基板保持手段(吸着パッド2、スピンチャック3)を備え、支える領域が重ならないようにしながらこれらの基板保持手段の間で基板を持ち替える。洗浄部材(ブラシ5)は基板保持手段により支えられている領域以外の基板の裏面を洗浄し、2つの基板保持手段の間で基板が持ち替えられることを利用して基板の裏面全体を洗浄する。
【選択図】図1
Description
下方を向いている基板裏面の第1の領域を水平に吸着保持する第1の基板保持手段と、
この第1の基板保持手段より基板を受け取って、前記第1の領域とは重ならない基板裏面の第2の領域を水平に吸着保持する第2の基板保持手段と、
前記第1の基板保持手段または第2の基板保持手段に吸着保持された基板の裏面に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
前記第1の基板保持手段から前記第2の基板保持手段へ基板を受け渡す前に、前記第2の領域を乾燥するための乾燥手段手段と、
基板が第1の基板保持手段により保持されている間は、前記第2の領域を含む基板の裏面に接触して洗浄し、その基板が前記第2の基板保持手段により保持されている間は、前記第2の領域以外の基板の裏面に接触して洗浄する洗浄部材と、を備えたことを特徴とする。
ここで前記第2の基板保持手段は、基板の略中央を保持して鉛直回りに回転自在に構成され、前記洗浄部材による洗浄を終えた基板を回転させて基板の裏面に残存している洗浄液を振り切り乾燥するようにするとよい。また、前記乾燥手段は、基板の裏面に気体を噴射するように構成する場合が好適である。
第1の基板保持手段により保持されている基板の第2の領域の下方に第2の基板保持手段を退避させると共に当該第2の基板保持手段の上方に前記カバー部材を位置させた状態で当該第2の領域を洗浄部材により洗浄するように構成してもよい。
下方を向いている基板裏面の第1の領域を水平に吸着保持する第1の基板保持工程と、
この基板を持ち替えて前記第1の領域とは重ならない基板裏面の第2の領域を水平に吸着保持する第2の基板保持工程と、
前記第1の基板保持工程または第2の基板保持工程にて保持されている基板の裏面に洗浄液を供給する工程と、
前記第1の基板保持工程から前記第2の基板保持工程へと基板を持ち替える前に、前記第2の領域を乾燥する工程と、
前記第1の基板保持工程の期間中は、前記第2の領域を含む基板の裏面の洗浄を行い、前記第2の基板保持工程の期間中は、前記第2の領域以外の基板の裏面の洗浄を行う工程と、を含むことを特徴とする。
前記プログラムは上述の各基板洗浄方法を実行するためにステップが組まれていることを特徴とする。
W ウエハ
1 洗浄装置
2 吸着パッド
2a 吸着孔
3 スピンチャック
3a 吸着孔
3b 軸部
5 ブラシ
5a 洗浄液ノズル
5b ブローノズル
6 制御部
11 ランプボックス
12 UVランプ
13 ブローノズル
14 洗浄液ノズル
15 排気管
16 ドレイン管
20 井桁
21 パッド支持部
22 橋桁部
23 ベルト
24 巻掛軸
25 駆動機構
26 側板
27 昇降機構
27a スライダ
27b ガイドレール
31 エアナイフ
31a 噴射口
32 支持ピン
32a 昇降機構
33 スピンチャックモータ
41 アッパーカップ
41a 開口部
42 インナーカップ
43 アンダーカップ
51 支持部
52 ベルト
53 巻掛軸
54 駆動機構
71 カバー部材
72 支持部
73 乾燥ノズル
100 基板洗浄装置
Claims (26)
- 基板の裏面を洗浄する基板洗浄装置において、
下方を向いている基板裏面の第1の領域を水平に吸着保持する第1の基板保持手段と、
この第1の基板保持手段より基板を受け取って、前記第1の領域とは重ならない基板裏面の第2の領域を水平に吸着保持する第2の基板保持手段と、
前記第1の基板保持手段または第2の基板保持手段に吸着保持された基板の裏面に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
前記第1の基板保持手段から前記第2の基板保持手段へ基板を受け渡す前に、前記第2の領域を乾燥するための乾燥手段手段と、
基板が第1の基板保持手段により保持されている間は、前記第2の領域を含む基板の裏面に接触して洗浄し、その基板が前記第2の基板保持手段により保持されている間は、前記第2の領域以外の基板の裏面に接触して洗浄する洗浄部材と、を備えたことを特徴とする基板洗浄装置。 - 前記第2の基板保持手段は、基板の略中央を保持して鉛直回りに回転自在に構成され、前記洗浄部材による洗浄を終えた基板を回転させて基板の裏面に残存している洗浄液を振り切り乾燥するように構成されていることを特徴とする請求項1に記載の基板洗浄装置。
- 前記乾燥手段は、基板の裏面に気体を噴射する手段であることを特徴とする請求項1または2に記載の基板洗浄装置。
- 前記第1の基板保持手段を前記第2の基板保持手段に対して相対的に横方向に移動させるための移動手段を備え、この移動手段により、既に洗浄された第2の領域を第2の基板保持手段の上方に位置させることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一つに記載の基板洗浄装置。
- 前記第1の基板保持部は、吸着保持面が長方形の2つの吸着パッドを備え、これらの吸着パッドは、前記吸着保持面の長手方向が当該第1の基板保持部の移動方向に対して平行となるように、基板周縁部の対向する2箇所の領域を保持することを特徴とする請求項4に記載の基板洗浄装置。
- 前記第1の基板保持部は、吸着保持面が円弧状の2つの吸着パッドを備え、これらの吸着パッドは、吸着保持される基板と同心円をなすように基板周縁部の対向する2箇所の領域を保持することを特徴とする請求項4に記載の基板洗浄装置。
- 前記第1の基板保持手段または第2の基板保持手段に保持される基板を囲むように構成され、前記移動手段により第1の基板保持手段と共に移動するカップを備えたことを特徴とする請求項4ないし6のいずれか一つに記載の基板洗浄装置。
- 前記カップの内壁面は、当該内壁面に飛散した洗浄液が跳ね返りにくい材料にて構成されていることを特徴とする請求項7に記載の基板洗浄装置。
- 前記洗浄液が跳ね返りにくい材料は、親水性の多孔質樹脂であることを特徴とする請求項8に記載の基板洗浄装置。
- 前記洗浄液が跳ね返りにくい材料は、表面が粗面化されたセラミックであることを特徴とする請求項8に記載の基板洗浄装置。
- 前記第2の基板保持手段を取り囲む囲み部材を備え、
前記乾燥手段は、この囲み部材の上端に周方向に沿って形成された気体の噴射口を備えていることを特徴とする請求項4ないし10のいずれか一つに記載の基板洗浄装置。 - 前記囲み部材と、前記第1の基板保持手段または第2の基板保持手段に吸着保持された基板の裏面とにより取り囲まれる空間が減圧雰囲気であることを特徴とする請求項11に記載の基板洗浄装置。
- 前記洗浄液供給手段から前記囲み部材の上端へと向かって基板の裏面を流れる洗浄液の流れ方向を変えるため、これら洗浄液供給手段と囲み部材の上端との間を遮る軌跡を描くように流体を吐出する流体吐出手段を備えたことを特徴とする請求項11または12に記載の基板洗浄装置。
- 前記流体吐出手段から吐出される流体は洗浄液であることを特徴とする請求項13に記載の基板洗浄装置。
- 前記第2の基板保持手段を前記第1の基板保持手段に対して相対的に昇降させるための昇降手段と、この第2の基板保持手段の上面を覆うカバー部材と、を備え、
第1の基板保持手段により保持されている基板の前記第2の領域の下方に第2の基板保持手段を退避させると共に当該第2の基板保持手段の上方に前記カバー部材を位置させた状態で当該第2の領域を前記洗浄部材により洗浄することを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一つに記載の基板洗浄装置。 - 前記洗浄部材によって洗浄された後の基板の裏面に紫外光を照射して、基板の裏面に残存する粒子を収縮させるための紫外線ランプを更に備えることを特徴とする請求項1ないし15のいずれか一つに記載の基板洗浄装置。
- 更に、前記洗浄部材が基板の裏面と接触する力を計測する計測手段と、当該洗浄部材を前記基板に対して相対的に昇降させる昇降手段と、前記計測手段による計測結果に基づいて前記昇降手段を動作させ、前記洗浄部材が基板の裏面と接触する力が予め定めた範囲内の値となるように制御する制御手段と、を備えたことを特徴とする請求項1ないし16のいずれか一つに記載の基板洗浄装置。
- 前記基板の裏面の周縁領域が疎水化処理されており、前記洗浄部材は当該周縁領域を洗浄する際には当該基板の裏面と接触せずに前記洗浄液供給手段より供給された洗浄液を攪拌し、当該攪拌された洗浄液の水勢を利用して前記周縁領域内の基板の裏面を洗浄することを特徴とする請求項1ないし17のいずれか一つに記載の基板洗浄装置。
- 前記基板の裏面の周縁領域が疎水化されており、当該周縁領域を親水化するために紫外光を照射する第2の紫外線ランプを備えたことを特徴とする請求項1ないし17のいずれか一つに記載の基板洗浄装置。
- 前記第1の基板保持部は基板の裏面を吸引して吸着保持するための吸引管と接続されており、当該吸引管には、吸引管内に流れ込んだ洗浄液を捕捉するためのトラップタンクが介設されていることを特徴とする請求項1ないし19のいずれか一つに記載の基板洗浄装置。
- 前記第1の基板保持部の吸着保持面に滴下した洗浄液に気体を吹き付けてこれらの洗浄液を吹き飛ばすための気体ノズルを備えていることを特徴とする請求項1ないし20のいずれか一つに記載の基板洗浄装置。
- 基板の裏面を洗浄する基板洗浄方法において、
下方を向いている基板裏面の第1の領域を水平に吸着保持する第1の基板保持工程と、
この基板を持ち替えて前記第1の領域とは重ならない基板裏面の第2の領域を水平に吸着保持する第2の基板保持工程と、
前記第1の基板保持工程または第2の基板保持工程にて保持されている基板の裏面に洗浄液を供給する工程と、
前記第1の基板保持工程から前記第2の基板保持工程へと基板を持ち替える前に、前記第2の領域を乾燥する工程と、
前記第1の基板保持工程の期間中は、前記第2の領域を含む基板の裏面の洗浄を行い、前記第2の基板保持工程の期間中は、前記第2の領域以外の基板の裏面の洗浄を行う工程と、を含むことを特徴とする基板洗浄方法。 - 前記基板の裏面の洗浄を終えた後、基板を回転させて基板の裏面に残存している洗浄液を振り切り乾燥する工程を更に含んでいることを特徴とする請求項22に記載の基板洗浄方法。
- 前記第2の領域を乾燥する工程は、基板の裏面に気体を噴射することにより行われることを特徴とする請求項22または23に記載の基板洗浄装置。
- 洗浄された後の基板の裏面に紫外光を照射して、基板の裏面に残存する粒子を収縮させる工程を更に含むことを特徴とする請求項22ないし24のいずれか一つに記載の基板洗浄装置。
- 基板の裏面を洗浄する基板洗浄装置に用いられるプログラムを格納した記憶媒体であって、
前記プログラムは請求項22ないし25のいずれか一つに記載された基板洗浄方法を実行するためにステップが組まれていることを特徴とする記憶媒体。
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