JP2008277480A - 基板搬送処理方法及び基板搬送処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】搬送手段によって搬送されるウエハを処理部に搬送して処理を施す基板搬送処理において、ウエハWの処理前に、搬送手段であるメインアームA2によって搬送される、塵埃を捕集可能な状態の捕集プレートPLを塗布処理ユニット32に搬入して、塗布処理ユニット内に発生する塵埃を捕集プレートに付着して捕集する。塵埃を捕集した捕集プレートを洗浄ユニット80内に搬入し、この洗浄ユニット内において捕集した塵埃を洗浄により除去し、塵埃が除去された捕集プレートを、塵埃を捕集可能な状態例えばイオナイザ200によって帯電して再生する。塵埃を捕集可能な状態に再生された捕集プレートを、メインアームによって処理前の処理部に搬入して、この処理部内に発生する塵埃を捕集プレートに付着して捕集する。
【選択図】 図1
Description
PL 捕集プレート
A1,A2 メインアーム(搬送手段)
31 現像処理ユニット(処理部)
32 塗布処理ユニット(処理部)
80 洗浄ユニット
82 保持手段
82a ローラ
82b モータ(回転機構)
82c 移動シリンダ
83 蒸気噴射ノズル
84 排気ダクト
100 移動機構
200 イオナイザ(帯電手段)
200A イオナイザ(補助帯電手段)
400 冷却プレート
401 ペルチェ素子(冷却手段)
Claims (15)
- 搬送手段によって搬送される被処理基板を処理部に搬入し、この処理部において適宜処理を施した後、処理が施された被処理基板を前記搬送手段によって前記処理部から搬出する基板搬送処理方法において、
前記被処理基板の処理前に、前記搬送手段によって搬送される、塵埃を捕集可能な状態の捕集プレートを前記処理部に搬入して、この処理部内に発生する塵埃を捕集プレートに付着して捕集する工程と、
塵埃を捕集した前記捕集プレートを前記処理部から搬出した後、洗浄ユニット内に搬入し、この洗浄ユニット内において捕集した塵埃を洗浄により除去する工程と、
塵埃が除去された前記捕集プレートに、塵埃を捕集可能な状態に再生する工程と、
塵埃を捕集可能な状態に再生された前記捕集プレートを、前記搬送手段によって前記処理部に搬入して、この処理部内に発生する塵埃を捕集プレートに付着して捕集する工程と、を有することを特徴とする基板搬送処理方法。 - 請求項1記載の基板搬送処理方法において、
前記塵埃を捕集可能な状態が、捕集プレートを帯電した状態、及び又は、捕集プレートを処理部の雰囲気温度より低い温度に冷却した状態である、ことを特徴とする基板搬送処理方法。 - 請求項1記載の基板搬送処理方法において、
前記捕集した塵埃を洗浄により除去する工程が、前記捕集プレートに対して蒸気噴射ノズルから加熱蒸気を噴射して捕集プレートに付着した塵埃を捕集プレートから剥離すると共に、剥離された塵埃と蒸発した気体を吸引して排気する、ことを特徴とする基板搬送処理方法。 - 請求項3記載の基板搬送処理方法において、
前記捕集プレートの両面に対して蒸気噴射ノズルから加熱蒸気を噴射して捕集プレートに付着した塵埃を捕集プレートから剥離すると共に、剥離された塵埃と蒸発した気体を吸引して排気することを含む、ことを特徴とする基板搬送処理方法。 - 請求項3又は4記載の基板搬送処理方法において、
前記捕集プレートと蒸気噴射ノズルを相対的に平行移動しながら、捕集プレートに対して蒸気噴射ノズルから加熱蒸気を噴射する、ことを特徴とする基板搬送処理方法。 - 請求項3ないし5のいずれかに記載の基板搬送処理方法において、
前記捕集プレートと蒸気噴射ノズルを更に平行面上で相対的に回転しながら、捕集プレートに対して蒸気噴射ノズルから加熱蒸気を噴射する、ことを特徴とする基板搬送処理方法。 - 請求項1又は2記載の基板搬送処理方法において、
前記塵埃を捕集可能な状態が捕集プレートを帯電した状態である場合において、前記処理部内の雰囲気中の塵埃を前記捕集プレートの帯電極と反対の極に帯電する、ことを特徴とする基板搬送処理方法。 - 搬送手段によって搬送される被処理基板を処理部に搬入し、この処理部において適宜処理を施した後、処理が施された被処理基板を前記搬送手段によって前記処理部から搬出する基板搬送処理装置において、
前記被処理基板の処理前に、前記搬送手段によって上記処理部に搬入される捕集プレートを、塵埃が捕集可能な状態にする手段と、
塵埃を捕集した前記捕集プレートから塵埃を洗浄により除去する洗浄ユニットと、
前記処理部及び洗浄ユニットに対して前記捕集プレートを搬入・搬出する搬送手段と、を具備することを特徴とする基板搬送処理装置。 - 請求項8記載の基板搬送処理装置において、
前記捕集プレートを、塵埃が捕集可能な状態にする手段は、前記捕集プレートを帯電する帯電手段、及び又は、前記捕集プレートを前記処理部の雰囲気温度より低い温度に冷却する冷却手段である、ことを特徴とする基板搬送処理装置。 - 請求項8記載の基板搬送処理装置において、
上記洗浄ユニットは、前記捕集プレートに対して加熱蒸気を噴射する蒸気噴射ノズルと、前記捕集プレートから剥離された塵埃と蒸発気体を吸引する排気ダクトと、を具備することを特徴とする基板搬送処理装置。 - 請求項10記載の基板搬送処理装置において、
前記排気ダクトを、前記蒸気噴射ノズルの周囲を包囲する位置に配置してなる、ことを特徴とする基板搬送処理装置。 - 請求項10又は11記載の基板搬送処理装置において、
前記蒸気噴射ノズルは、捕集プレートの両面に対して加熱蒸気を噴射可能に形成される、ことを特徴とする基板搬送処理装置。 - 請求項10ないし12のいずれかに記載の基板搬送処理装置において、
前記蒸気噴射ノズルは、前記捕集プレートの幅全域に渡って加熱蒸気を噴射するノズル孔を具備し、
前記蒸気噴射ノズルと前記捕集プレートを相対的に平行移動する移動機構を具備する、ことを特徴とする基板搬送処理装置。 - 請求項10ないし13のいずれかに記載の基板搬送処理装置において、
前記蒸気噴射ノズルと前記捕集プレートを平行面上で相対的に回転する回転機構を更に具備する、ことを特徴とする基板搬送処理装置。 - 請求項8又は9記載の基板搬送処理装置において、
前記塵埃を捕集可能な状態が捕集プレートを帯電した状態の場合において、前記処理部に、この処理部内の雰囲気中の塵埃を前記捕集プレートの帯電極と反対の極に帯電する補助帯電手段を具備する、ことを特徴とする基板搬送処理装置。
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