JP2009224383A - 基板洗浄装置、基板洗浄方法及び記憶媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板洗浄装置2は、洗浄部材50により基板6を洗浄する位置から離れて設けられ、その下面がブラシ部と接触して当該ブラシ部を洗浄する洗浄面として形成されたブラシ洗浄体5と、洗浄部材を、基板を洗浄する領域とブラシ洗浄体によりブラシ部が洗浄される領域との間で移動させる移動手段と、ブラシ洗浄体の下面に洗浄部材のブラシ部を押し当て、ブラシ洗浄体と洗浄部材とを相対的に回転させるための手段と、ブラシ洗浄体とブラシ部材とを相対的に回転させているときにブラシ洗浄体の下面とブラシ部との間に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、を備える。
【選択図】図1
Description
前記洗浄部材により基板を洗浄する位置から離れて設けられ、その下面が前記ブラシ部と接触して当該ブラシ部を洗浄する洗浄面として形成されたブラシ洗浄体と、
前記洗浄部材を、基板を洗浄する領域と前記ブラシ洗浄体により前記ブラシ部が洗浄される領域との間で移動させる移動手段と、
前記ブラシ洗浄体の下面に洗浄部材のブラシ部を押し当て、ブラシ洗浄体と洗浄部材とを相対的に回転させるための手段と、
前記ブラシ洗浄体とブラシ部材とを相対的に回転させているときに前記ブラシ洗浄体の下面と前記ブラシ部との間に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、を備えたことを特徴とする。
その下面が前記ブラシ部と接触して当該ブラシ部を洗浄する洗浄面として形成されたブラシ洗浄体と、
前記ブラシ洗浄体を、前記洗浄部材が基板を洗浄する領域と当該領域から離れた待機領域との間で移動させる移動手段と、
基板を洗浄する領域に位置する前記ブラシ洗浄体の下面に洗浄部材のブラシ部を押し当て、ブラシ洗浄体と洗浄部材とを相対的に回転させるための手段と、
前記ブラシ洗浄体とブラシ部材とを相対的に回転させているときに前記ブラシ洗浄体の下面と前記ブラシ部との間に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、を備えたことを特徴とする。
前記洗浄部材により基板を洗浄する領域から離れて設けられ、その下面が前記ブラシ部と接触して当該ブラシ部を洗浄する洗浄面として形成されたブラシ洗浄体を用い、
前記洗浄部材を、基板を洗浄した後、移動手段により前記ブラシ洗浄体の下面に対向する位置まで移動させる工程と、
前記ブラシ洗浄体の下面に洗浄部材のブラシ部を押し当て、両者を相対的に回転させながらブラシ洗浄体の下面とブラシ部との間に洗浄液を供給することによりブラシ部を洗浄する工程と、
その後、前記洗浄部材を基板の裏面を洗浄する領域に移動させて基板の裏面を洗浄する工程と、を含むことを特徴とする。
その下面が前記ブラシ部と接触して当該ブラシ部を洗浄する洗浄面として形成されたブラシ洗浄体を用い、
前記洗浄部材により基板を洗浄した後、移動手段により前記ブラシ洗浄体を移動させて当該ブラシ洗浄体の下面と洗浄部材のブラシ部とを対向させる工程と、
前記ブラシ洗浄体の下面に洗浄部材のブラシ部を押し当て、両者を相対的に回転させながらブラシ洗浄体の下面とブラシ部との間に洗浄液を供給することによりブラシ部を洗浄する工程と、
その後、前記ブラシ洗浄体を、洗浄部材による基板の裏面の洗浄領域から退避させ、洗浄部材により基板の裏面を洗浄する工程と、を含むことを特徴とする。
2 洗浄装置
20a,20b 吸着パット
21a,21b パット支持部
22a,22b 橋桁部
23 井桁
27 昇降機構
3 スピンチャック
41 アッパーカップ
5 洗浄ブラシ
50 洗浄部材
51 基台
52 支持体
53 駆動機構
54 吐出孔
55 通流管
56 温度調整部
57 洗浄液供給源
58 ベルト
6 ガラス基板
60 駆動機構
62 紫外線ランプ
9 制御部
Claims (13)
- 回転保持手段により水平に保持された状態で鉛直軸周りに回転する基板の裏面に洗浄液を供給しながら洗浄部材のブラシ部を接触させて当該基板の裏面を洗浄する基板洗浄装置において、
前記洗浄部材により基板を洗浄する位置から離れて設けられ、その下面が前記ブラシ部と接触して当該ブラシ部を洗浄する洗浄面として形成されたブラシ洗浄体と、
前記洗浄部材を、基板を洗浄する領域と前記ブラシ洗浄体により前記ブラシ部が洗浄される領域との間で移動させる移動手段と、
前記ブラシ洗浄体の下面に洗浄部材のブラシ部を押し当て、ブラシ洗浄体と洗浄部材とを相対的に回転させるための手段と、
前記ブラシ洗浄体とブラシ部材とを相対的に回転させているときに前記ブラシ洗浄体の下面と前記ブラシ部との間に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、を備えたことを特徴とする基板洗浄装置。 - 回転保持手段により水平に保持された状態で鉛直軸周りに回転する基板の裏面に洗浄液を供給しながら洗浄部材のブラシ部を接触させて当該基板の裏面を洗浄する基板洗浄装置において、
その下面が前記ブラシ部と接触して当該ブラシ部を洗浄する洗浄面として形成されたブラシ洗浄体と、
前記ブラシ洗浄体を、前記洗浄部材が基板を洗浄する領域と当該領域から離れた待機領域との間で移動させる移動手段と、
基板を洗浄する領域に位置する前記ブラシ洗浄体の下面に洗浄部材のブラシ部を押し当て、ブラシ洗浄体と洗浄部材とを相対的に回転させるための手段と、
前記ブラシ洗浄体とブラシ部材とを相対的に回転させているときに前記ブラシ洗浄体の下面と前記ブラシ部との間に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、を備えたことを特徴とする基板洗浄装置。 - 前記ブラシ部と前記ブラシ洗浄体との潤滑状態を示すストライベック線図において弾性流体潤滑が得られる回転数で回転させることを特徴とする請求項1または2に記載の基板洗浄装置。
- 前記ブラシ部の回転数は200rpm以上であることを特徴とする請求項3に記載の基板洗浄装置。
- 前記ブラシ洗浄体の下面に付着した有機物を除去するために紫外線を照射する紫外線ランプをさらに備えたことを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一つに記載の基板洗浄装置。
- 前記ブラシ洗浄体はガラス基板であることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか一つに記載の基板洗浄装置。
- 回転保持手段により水平に保持された状態で鉛直軸周りに回転する基板の裏面に洗浄液を供給しながら洗浄部材のブラシ部を接触させて当該基板の裏面を洗浄する基板洗浄方法において、
前記洗浄部材により基板を洗浄する領域から離れて設けられ、その下面が前記ブラシ部と接触して当該ブラシ部を洗浄する洗浄面として形成されたブラシ洗浄体を用い、
前記洗浄部材を、基板を洗浄した後、移動手段により前記ブラシ洗浄体の下面に対向する位置まで移動させる工程と、
前記ブラシ洗浄体の下面に洗浄部材のブラシ部を押し当て、両者を相対的に回転させながらブラシ洗浄体の下面とブラシ部との間に洗浄液を供給することによりブラシ部を洗浄する工程と、
その後、前記洗浄部材を基板の裏面を洗浄する領域に移動させて基板の裏面を洗浄する工程と、を含むことを特徴とする基板洗浄方法。 - 回転保持手段により水平に保持された状態で鉛直軸周りに回転する基板の裏面に洗浄液を供給しながら洗浄部材のブラシ部を接触させて当該基板の裏面を洗浄する基板洗浄方法において、
その下面が前記ブラシ部と接触して当該ブラシ部を洗浄する洗浄面として形成されたブラシ洗浄体を用い、
前記洗浄部材により基板を洗浄した後、移動手段により前記ブラシ洗浄体を移動させて当該ブラシ洗浄体の下面と洗浄部材のブラシ部とを対向させる工程と、
前記ブラシ洗浄体の下面に洗浄部材のブラシ部を押し当て、両者を相対的に回転させながらブラシ洗浄体の下面とブラシ部との間に洗浄液を供給することによりブラシ部を洗浄する工程と、
その後、前記ブラシ洗浄体を、洗浄部材による基板の裏面の洗浄領域から退避させ、洗浄部材により基板の裏面を洗浄する工程と、を含むことを特徴とする基板洗浄方法。 - 前記ブラシ部と前記ブラシ洗浄体との潤滑状態を示すストライベック線図において弾性流体潤滑が得られる回転数で回転させることを特徴とする請求項7または8に記載の基板洗浄方法。
- 前記ブラシ部の回転数は200rpm以上であることを特徴とする請求項9に記載の基板洗浄方法。
- 前記ブラシ洗浄体の下面に紫外線を照射して、当該下面に付着した有機物を除去する工程とを、さらに含むことを特徴とする請求項7ないし10のいずれか一つに記載の基板洗浄方法。
- 前記ブラシ洗浄体はガラス基板であることを特徴とする請求項7ないし11のいずれか一つに記載の基板洗浄方法。
- 基板の裏面を洗浄する基板洗浄装置に用いられるコンピュータプログラムを格納した記憶媒体であって、
前記プログラムは請求項7ないし12のいずれか一つに記載された基板洗浄方法を実行するためにステップが組まれていることを特徴とする記憶媒体。
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