JP5348277B2 - 基板洗浄装置、基板洗浄方法及び記憶媒体 - Google Patents
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Description
基板の裏面に洗浄部材を当接して洗浄する洗浄手段と、
基板の裏面に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
基板の裏面中央部を保持した状態で回転自在、及び昇降自在に構成されたスピンチャックと、
前記スピンチャックを挟んだ両側方にそれぞれ設けられ基板裏面の周縁部近傍部を保持する保持部を備え、これら保持部が、前記スピンチャックを挟んで当該保持部が並んでいる方向と交差する方向に移動自在で且つ昇降自在に構成された基板保持機構と、
上面に開口部を備え、前記スピンチャックまたは保持部に保持された基板を囲んで洗浄液の飛散を抑えるカップ体と、を備え、
前記カップ体の開口部を介して搬入される基板を前記保持部に保持するときには、前記基板保持機構は、前記保持部における前記基板を保持する面を前記洗浄部材の上面より高い位置に位置させる一方、前記スピンチャックは、前記洗浄部材の上面よりも低い位置にて待機し、当該基板の裏面の洗浄を行うときには、前記基板保持機構は、前記洗浄部材が基板の裏面に当接する位置まで前記保持部を下降させてから、前記保持部を移動させ、これら保持部に保持されていない領域の洗浄を行った後、当該保持部からスピンチャックへ基板を受け渡すことを特徴とする。
(a)前記基板保持機構は、基板の裏面中央部の洗浄が行われた後、前記保持部からスピンチャックへ基板を受け渡すこと。
(b)前記保持部からスピンチャックへ基板を受け渡すときに、これら保持部が基板を保持する位置までスピンチャックを上昇させて、洗浄が行われた後の前記基板の裏面中央部を保持する一方、当該保持部を下方へ退避させた後、基板を回転させてスピンチャックに保持されていない領域の洗浄を行うこと。
(c)前記洗浄手段は、前記基板の裏面に沿って洗浄部材を移動させる移動機構を備え、前記スピンチャックによって回転する基板の裏面に同心円状の軌跡を描きながら洗浄が行われるように当該洗浄部材を移動させること。
(d)前記スピンチャックの周囲には、基板の裏面へ向けて気体を噴出させる噴射口が上端部に設けられた筒状体が設けられていること。
(e)前記洗浄液供給手段は、前記洗浄手段に設けられていること。
W ウエハ
1 洗浄装置
2 吸着パッド
2a 吸着孔
3 スピンチャック
3a 吸着孔
3b 軸部
5 ブラシ
5a 洗浄液ノズル
5b ブローノズル
6 制御部
11 ランプボックス
12 UVランプ
13 ブローノズル
14 洗浄液ノズル
15 排気管
16 ドレイン管
20 井桁
21 パッド支持部
22 橋桁部
23 ベルト
24 巻掛軸
25 駆動機構
26 側板
27 昇降機構
27a スライダ
27b ガイドレール
31 エアナイフ
31a 噴射口
32 支持ピン
32a 昇降機構
33 スピンチャックモータ
41 アッパーカップ
41a 開口部
42 インナーカップ
43 アンダーカップ
51 支持部
52 ベルト
53 巻掛軸
54 駆動機構
71 カバー部材
72 支持部
73 乾燥ノズル
100 基板洗浄装置
Claims (9)
- 基板の裏面を洗浄処理する基板洗浄装置において、
基板の裏面に洗浄部材を当接して洗浄する洗浄手段と、
基板の裏面に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
基板の裏面中央部を保持した状態で回転自在、及び昇降自在に構成されたスピンチャックと、
前記スピンチャックを挟んだ両側方にそれぞれ設けられ基板裏面の周縁部近傍部を保持する保持部を備え、これら保持部が、前記スピンチャックを挟んで当該保持部が並んでいる方向と交差する方向に移動自在で且つ昇降自在に構成された基板保持機構と、
上面に開口部を備え、前記スピンチャックまたは保持部に保持された基板を囲んで洗浄液の飛散を抑えるカップ体と、を備え、
前記カップ体の開口部を介して搬入される基板を前記保持部に保持するときには、前記基板保持機構は、前記保持部における前記基板を保持する面を前記洗浄部材の上面より高い位置に位置させる一方、前記スピンチャックは、前記洗浄部材の上面よりも低い位置にて待機し、当該基板の裏面の洗浄を行うときには、前記基板保持機構は、前記洗浄部材が基板の裏面に当接する位置まで前記保持部を下降させてから、前記保持部を移動させ、これら保持部に保持されていない領域の洗浄を行った後、当該保持部からスピンチャックへ基板を受け渡すことを特徴とする基板洗浄装置。 - 前記基板保持機構は、基板の裏面中央部の洗浄が行われた後、前記保持部からスピンチャックへ基板を受け渡すことを特徴とする請求項1に記載の基板洗浄装置。
- 前記保持部からスピンチャックへ基板を受け渡すときに、これら保持部が基板を保持する位置までスピンチャックを上昇させて、洗浄が行われた後の前記基板の裏面中央部を保持する一方、当該保持部を下方へ退避させた後、基板を回転させてスピンチャックに保持されていない領域の洗浄を行うことを特徴とする請求項2に記載の基板洗浄装置。
- 前記洗浄手段は、前記基板の裏面に沿って洗浄部材を移動させる移動機構を備え、前記スピンチャックによって回転する基板の裏面に同心円状の軌跡を描きながら洗浄が行われるように当該洗浄部材を移動させることを特徴とする請求項2または3に記載の基板洗浄装置。
- 前記スピンチャックの周囲には、基板の裏面へ向けて気体を噴出させる噴射口が上端部に設けられた筒状体が設けられていることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一つに記載の基板洗浄装置。
- 前記洗浄液供給手段は、前記洗浄手段に設けられていることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか一つに記載の基板洗浄装置。
- 基板の裏面を洗浄処理する基板洗浄方法において、
基板の裏面中央部を保持して基板を回転させるスピンチャックに保持され、またはこのスピンチャックを挟んだ両側方にそれぞれ設けられ基板裏面の周縁部近傍部を保持する保持部に保持された基板を囲んで洗浄液の飛散を抑えるカップ体の上面に設けられた開口部を介して基板を搬入する工程と、
基板の裏面に当接して洗浄する洗浄部材の上面より高い位置に、前記保持部における基板を保持する面を位置させる一方、前記洗浄部材の上面よりも低い位置にて前記スピンチャックを待機させ、当該保持部に基板を保持する工程と、
前記洗浄部材が基板の裏面に当接する位置まで前記保持部を下降させてから、当該基板の裏面に洗浄液を供給すると共に、スピンチャックを挟んで当該保持部が並んでいる方向と交差する方向に前記保持部を移動させ、これら保持部に保持されていない領域の洗浄を行う工程と、
次いで、当該保持部からスピンチャックへ基板を受け渡す工程と、を含むことを特徴とする基板洗浄方法。 - 前記スピンチャックへ基板を受け渡す工程は、基板の裏面中央部の洗浄が行われた後に行われ、
前記保持部からスピンチャックへ基板を受け渡すときに、これら保持部が基板を保持する位置までスピンチャックを上昇させて、洗浄が行われた後の前記基板の裏面中央部を保持する一方、当該保持部を下方へ退避させる工程と、
次いで、基板を回転させてスピンチャックに保持されていない領域の洗浄を行う工程と、を含むことを特徴とする請求項7に記載の基板洗浄方法。 - 基板の裏面を洗浄処理する基板洗浄装置に用いられるプログラムを格納した記憶媒体であって、
前記プログラムは、請求項7または8に記載の基板洗浄方法を実行するためのステップが組まれていることを特徴とする記憶媒体。
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