JP2006000978A - シリコン基板加工方法、光学素子用金型、光学素子用金型母型、光学素子及び回折格子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 このシリコン基板加工方法は、シリコン基板上にレジストを塗布し、レジストを三次元形状に形成し、レジストをマスクとしてドライエッチングによりシリコン基板を加工しシリコン基板の表面に三次元形状を形成し、ドライエッチングの終点をレジストマスクの消失の程度に基づいて決める。
【選択図】 図1
Description
この際に、測定装置80によって、基材2上の描画位置(描画位置のうち少なくとも高さ位置)、もしくは後述するような基準点の位置が測定され、制御回路100は、当該測定結果に基づき、電子レンズ16のコイル17a、17b、17cなどに流れる各電流値などを調整制御して、電子ビームBの焦点深度の位置、すなわち焦点位置を制御し、当該焦点位置が前記描画位置となるように移動制御される。
次に、測定装置80について、図7〜図9を参照しつつ説明する。測定装置80は、より詳細には、図7に示すように、第1のレーザー測長器82、第1の受光部84、第2のレーザー測長器86、第2の受光部88などを有する。
次に、電子ビーム描画装置1における、描画を行う場合の原理の概要について、説明する。
図13は、上記電子ビーム描画装置の制御系の機能ブロック図である。同図に示すように、電子ビーム描画装置1のメモリ160には、形状記憶テーブル161を有し、この形状記憶テーブル161には、例えば基材2の曲面部2aに回折格子を傾けて各ピッチ毎に形成する際の走査位置に対するドーズ量分布を予め定義したドーズ分布の特性などに関するドーズ分布情報161a、各ピッチ毎に表面反射防止用の凹凸を形成する際に、当該凹凸部分のドーズ量に関するドーズ分布情報161b、ドーズ分布を補正演算したドーズ分布補正演算情報161c、その他の情報161dなどが格納されている。なお、ドーズ分布補正演算情報161cとは、ドーズ量などを算出するためのもととなるテーブルないしは演算情報である。
次に、前記円描画を正多角形で近似して直線的に走査する場合の各種処理を行なうための制御系の具体的構成について、図14を参照しつつ説明する。図14には、図6の電子ビーム描画装置の制御系の詳細な構成が開示されている。
装置:株式会社アルバック
型式・装置名:CE300I ICPエッチング装置
プロセスガス:SF6×5sccm、O2×5sccm、HBr×5sccm
ガス圧:0.6Pa
高周波アンテナ出力:110W
バイアス出力:6W
装置:Surface Technology Systems, Inc.
装置名:STS Multiplex ICPエッチング装置
型式 :STS MULTIPLEX-ICP
(1)ポリマー形成条件
プロセスガス:C4F8×80sccm
ガス圧:1.33Pa
高周波アンテナ出力:400W
(2)エッチング条件
プロセスガス:SF6×5sccm、O2×5sccm
ガス圧:0.6Pa
高周波アンテナ出力:150W
バイアス出力:10W
装置:株式会社アルバック
型式・装置名:CE300I ICPエッチング装置
(1)ポリマー形成条件
プロセスガス:C4F8×30sccm
ガス圧:1.33Pa
高周波アンテナ出力:300W
(2)エッチング条件
プロセスガス:SF6×5sccm、O2×5sccm
ガス圧:0.6Pa
高周波アンテナ出力:110W
バイアス出力:6W
200 ICP(誘導結合プラズマ)装置
210 シリコン基板
210a 表面
211 真空プラズマチャンバ
212 プラズマ生成用高周波電源
212 高周波電源
213,214 高周波電極
215 基板ホルダ
216 バイアス高周波電源
220 シリコン基板
220 レジストパターン
221 エシュロン回折構造部
Claims (15)
- シリコン基板上にレジストを塗布する工程と、
前記レジストを三次元形状に形成する工程と、
前記レジストをマスクとしてドライエッチングにより前記シリコン基板を加工し前記シリコン基板の表面に三次元形状を形成する工程と、を含み、
前記ドライエッチングの終点を前記レジストマスクの消失の程度に基づいて決めることを特徴とするシリコン基板加工方法。 - 前記レジストの三次元形状の形成工程を電子ビーム描画・現像法によって行う請求項1に記載のシリコン基板加工方法。
- 前記ドライエッチングの終点を決める際に前記レジストマスクが全てなくなることを基準とする請求項1または2に記載のシリコン基板加工方法。
- 前記ドライエッチングにおいてF系ガスまたはF系ガスと酸素の混合ガスを用い、
前記レジストマスクがなくなってから前記ドライエッチングを更に行うことで前記シリコン基板の表面をフッ素化する請求項3に記載のシリコン基板加工方法。 - 異方性ドライエッチングにより前記ドライエッチングを行い、前記シリコン基板に形成される三次元形状のパターン高さの微調整は前記レジストマスクと前記シリコン基板との選択比を制御することで行われる請求項1乃至4のいずれか1項に記載のシリコン基板加工方法。
- 前記ドライエッチングをプラズマエッチングで行う際のプラズマ中の電子温度は6〜15eVの範囲内であり、プラズマ密度は108〜1011cm−3の範囲内であり、ガス封入圧力は1Pa未満である請求項1乃至5のいずれか1項に記載のシリコン基板加工方法。
- 前記ドライエッチングは誘導結合プラズマ(ICP)を用い、前記選択比の最終的な微調整は、前記シリコン基板に印加する高周波電圧またはバイアス電圧のみを調整することで行う請求項5に記載のシリコン基板加工方法。
- 前記シリコン基板に形成される三次元形状の側壁保護のために前記ドライエッチングのときHBrとO2を添加する請求項4乃至7のいずれか1項に記載のシリコン基板加工方法。
- 側壁保護効果を有する成膜プロセスと前記ドライエッチングとを交互に行う請求項4乃至7のいずれか1項に記載のシリコン基板加工方法。
- 前記ドライエッチングで寸法及び特徴が異なる形状を同一のシリコン基板上に同時に加工する請求項4乃至9のいずれか1項に記載のシリコン基板加工方法。
- 請求項1乃至10のいずれか1項に記載のシリコン基板加工方法により加工されたシリコン基板から構成された光学素子用金型母型。
- 請求項1乃至10のいずれか1項に記載のシリコン基板加工方法により加工されたシリコン基板から構成された光学素子用金型。
- 請求項11に記載の光学素子用金型母型を用いて加工された光学素子用金型。
- 請求項12または13に記載の金型を用いて加工された光学素子。
- 請求項12または13に記載の金型を用いて加工された光通信波長帯域用エシェロン構造型の回折格子。
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JP2004180404A JP2006000978A (ja) | 2004-06-18 | 2004-06-18 | シリコン基板加工方法、光学素子用金型、光学素子用金型母型、光学素子及び回折格子 |
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