JP2010029976A - 微細構造体形成方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明に係る微細構造体形成方法は、シリコンからなる基板にプラズマを利用したドライエッチングにより微細構造体を形成する微細構造体形成方法であって、基板上に開口を有する第1のマスクを形成する工程と、前記第1のマスクをエッチングマスクとして前記基板をエッチングして第1の凹部を形成する工程と、前記第1の凹部を形成した後、前記第1のマスク上に第2のマスクを形成する工程と、前記第2のマスクをエッチングマスクとして前記第1の凹部を基板の厚み方向にさらにエッチングして、前記第1の凹部よりも深い第2の凹部を形成する工程とを有することを特徴とする。
【選択図】図1
Description
以下、図面を用いて本発明の実施形態について詳細に説明する。図1は本発明の微細構造体形成工程の説明図である。
以下、本発明の微細構造体形成方法を用いて加速度センサ200(MEMSの一例)を製造した例について説明する。図4は加速度センサの外観を示す図である。加速度センサ200は、上ガラス基板220と下ガラス基板230とでセンサ本体部を形成した半導体基板210を挟持して構成されており、それぞれ接合され一体化している。半導体基板210、上ガラス基板220、下ガラス基板230の厚みは、例えば、300μm、600μm、600μmである。
半導体基板210は、内側を刳り貫かれたフレーム部211と、このフレーム部211内に作用体として機能し、フレーム部211に対して変位可能な錘部212とを備えている。フレーム部211と錘部212とは1軸(図面のX方向)に可撓性を有する梁部213とで接続されている。フレーム部211にはそれぞれセンサの外形に沿う内枠から突出した固定櫛歯部214が複数配設されている。また、錘部212にはフレーム部211と対向し、かつ固定櫛歯部214と間隙をもって、互い違いに噛み合うような可動櫛歯部215が複数配置されている。固定櫛歯部214と可動櫛歯部215の櫛歯の幅は22μmで、各々の間隙は3μmであり、櫛歯は所定数配置されている。図では見易さのために、固定櫛歯部が3個、可動櫛歯部が4個配設されている例を示している。なお、寸法等は一例であり、上記に限定されるものではない。
歪検出部216は半導体基板210に対してシリコン窒化物(Si3N4)などを成膜後、パターニングして拡散マスク材とする。その後、ボロン(B)などを含んだ拡散剤を塗布し、熱処理(およそ1100℃)することによりピエゾ抵抗素子を形成することができる。なお、ピエゾ抵抗素子の形成はイオン注入法を用いて行うこともできる。その後、シリコン酸化膜(SiO2)などの絶縁膜を形成し、ピエゾ抵抗素子部の領域内にコンタクトホール(図示せず)を作成する。ブリッジ配線(図示せず)をスパッタ法あるいは蒸着法により、例えばAlをパターン形成して作製する。ピエゾ抵抗素子とブリッジ配線(図示せず)とはコンタクトホールを介してオーム性コンタクトにより良好な電気接続を有している。
金属材料からなる第2のマスクを形成せず、レジストからなる第1のマスクのみを用いてエッチングを行った点を除き上記実施例と略同様の条件で、微細構造体を製造した。第1のマスクの側面が後退し、結果微細構造体の開口部上端が侵食されパターン形状が損なわれ、パターン形成加工が続行できなかった。
第1のマスクをエッチングマスクとしてDRIEによりおよそ2μmの深さ(D1:アスペクト比0.6)の第1の凹部を形成した後、第1のマスク上にCrを1μm堆積させた点を除き、上記実施例と略同様の条件で、微細構造体を製造した。このとき、第1の凹部の底面部に金属粒子の堆積が確認され、第2の凹部の形成時に加工不良が生じた。
20:第1のマスク(フォトレジスト)
20a:側面部
25:開口
30:第2のマスク(金属材料)
40:第1の凹部
40a:側壁部
40b:底面部
50:第2の凹部
60:金属粒子
100:微細構造体
200:加速度センサ
210:半導体基板
211:フレーム部
212:錘部
213:梁部
214:固定櫛歯部
215:可動櫛歯部
216:歪検出部
217:開口部
220:上ガラス基板
221:ギャップ
230:下ガラス基板
231:ギャップ
Claims (7)
- シリコンからなる基板にプラズマを利用したドライエッチングにより微細構造体を形成する微細構造体形成方法であって、
基板上に開口を有する第1のマスクを形成する工程と、
前記第1のマスクをエッチングマスクとして前記基板をエッチングして第1の凹部を形成する工程と、
前記第1の凹部を形成した後、前記第1のマスク上に第2のマスクを形成する工程と、
前記第2のマスクをエッチングマスクとして前記第1の凹部を基板の厚み方向にさらにエッチングして、前記第1の凹部よりも深い第2の凹部を形成する工程と、
を有することを特徴とする微細構造体形成方法。 - 前記第1、第2の凹部の形成工程におけるエッチングのうち少なくともいずれか一方が、基板をエッチングして凹部を形成するエッチング工程と形成した凹部の側壁に対して保護膜を形成するデポジション工程とを交互に繰り返し行うエッチングであることを特徴とする請求項1記載の微細構造体形成方法。
- 前記第2のマスク形成工程において、前記基板に対して斜め方向からマスク材料を堆積させることを特徴とする請求項1または2に記載の微細構造体形成方法。
- 前記第2のマスクが、前記第1のマスクの側面と前記第1の凹部の側壁に形成されていることを特徴とする請求項3記載の微細構造体形成方法。
- 前記第1のマスクの開口がミクロンオーダーであり、前記第1の凹部のアスペクト比(深さ/開口幅)が1以上であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項記載の微細構造体形成方法。
- 前記第2の凹部のアスペクト比(深さ/開口幅)が50以上であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項記載の微細構造体形成方法。
- 前記第2のマスクに用いられるマスク材料は、Ti,TiN,Cr,Al,Rh,Co,Fe,Mo,Ni,Ta,Zrのうちから選択されることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項記載の微細構造体形成方法。
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