JP2001293656A - 板状体の連続式研磨装置及びその方法 - Google Patents
板状体の連続式研磨装置及びその方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明は、液晶ディスプレイ用ガラス基板を製
造する連続式研磨装置において、ガラス基板の研磨面の
平坦度と研磨効率とを向上させる。 【解決手段】連続式研磨装置１０において、研磨機１６
の研磨パッド２８を、自転公転運動機構に連結し、この
自転公転運動機構によって研磨パッド２８を自転公転運
動させながらガラス板Ｇを研磨する。
造する連続式研磨装置において、ガラス基板の研磨面の
平坦度と研磨効率とを向上させる。 【解決手段】連続式研磨装置１０において、研磨機１６
の研磨パッド２８を、自転公転運動機構に連結し、この
自転公転運動機構によって研磨パッド２８を自転公転運
動させながらガラス板Ｇを研磨する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、板状体の連続式研
磨装置及びその方法に係り、特に液晶ディスプレイ用ガ
ラス基板を製造するための連続式研磨装置及びその方法
に関する。
磨装置及びその方法に係り、特に液晶ディスプレイ用ガ
ラス基板を製造するための連続式研磨装置及びその方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】特開平２−８３１５０号公報に開示され
た連続式研磨装置の概略構成図を図５に示す。同図に示
す連続式研磨装置１は、液晶ディスプレイ用ガラス基板
となるガラス板２を、ワーク定盤３の上面に設けたテー
ブルパッド４で保持する。そして、ワーク定盤３を不図
示の搬送装置によって矢印方向に搬送しながら、ワーク
定盤３の上方に設置されている複数台の研磨機５、５…
の研磨パッド６、６…を貼り付けた研磨定盤によってガ
ラス板２を少量ずつ研磨することにより、所定表面性状
のガラス基板を製造する。
た連続式研磨装置の概略構成図を図５に示す。同図に示
す連続式研磨装置１は、液晶ディスプレイ用ガラス基板
となるガラス板２を、ワーク定盤３の上面に設けたテー
ブルパッド４で保持する。そして、ワーク定盤３を不図
示の搬送装置によって矢印方向に搬送しながら、ワーク
定盤３の上方に設置されている複数台の研磨機５、５…
の研磨パッド６、６…を貼り付けた研磨定盤によってガ
ラス板２を少量ずつ研磨することにより、所定表面性状
のガラス基板を製造する。
【０００３】研磨パッド６は、矩形に形成されるととも
に、公転軸Ｏ1 に対して偏心した偏心軸Ｏ2 に連結さ
れ、この偏心軸Ｏ2 を公転軸Ｏ1 を中心に公転させるこ
とにより、公転運動されてガラス板２を研磨する。この
ような公転運動でガラス板２を研磨すると、研磨パッド
６はどの点をとっても運動軌跡が等しいので、ガラス板
２の全面を均一に研磨することができるという利点があ
る。
に、公転軸Ｏ1 に対して偏心した偏心軸Ｏ2 に連結さ
れ、この偏心軸Ｏ2 を公転軸Ｏ1 を中心に公転させるこ
とにより、公転運動されてガラス板２を研磨する。この
ような公転運動でガラス板２を研磨すると、研磨パッド
６はどの点をとっても運動軌跡が等しいので、ガラス板
２の全面を均一に研磨することができるという利点があ
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来の連続式研磨装置１は、研磨パッド６の公転運動のみ
でガラス板２を研磨する装置なので、以下述べる問題が
あった。
来の連続式研磨装置１は、研磨パッド６の公転運動のみ
でガラス板２を研磨する装置なので、以下述べる問題が
あった。
【０００５】まず、公転運動機構では、その機構上、研
磨パッド６の公転回転数を上げることが難しいので、研
磨効率を上げることができないという問題がある。仮
に、公転回転数を上げることができたとしても、その場
合には、研磨パッド６に大きい遠心力が働くため、研磨
圧力が不均一になり研磨されたガラス板２の平坦度が悪
化する。また、研磨パッド６の公転軌道半径を小さくし
て公転回転数を上げた場合には、研磨パッド６に設けら
れたスラリー供給孔の軌道半径も小さくなり、スラリー
供給孔からの距離に相関した、ガラス板２との間のスラ
リー量の不均一が大きくなるので、この場合もまた、研
磨されたガラス板２の平坦度が悪化する。
磨パッド６の公転回転数を上げることが難しいので、研
磨効率を上げることができないという問題がある。仮
に、公転回転数を上げることができたとしても、その場
合には、研磨パッド６に大きい遠心力が働くため、研磨
圧力が不均一になり研磨されたガラス板２の平坦度が悪
化する。また、研磨パッド６の公転軌道半径を小さくし
て公転回転数を上げた場合には、研磨パッド６に設けら
れたスラリー供給孔の軌道半径も小さくなり、スラリー
供給孔からの距離に相関した、ガラス板２との間のスラ
リー量の不均一が大きくなるので、この場合もまた、研
磨されたガラス板２の平坦度が悪化する。
【０００６】一方、前述した不具合は、研磨パッド６の
研磨圧力を上げることによって解消できる。しかし、研
磨圧力を上げると、研磨パッド６とガラス板２との間に
生じる摩擦力が過大になるので、研磨圧力が不均一にな
り、また、ガラス板２の裏面形状が表面（研磨面）に転
写したり、研磨後のガラス板６のスプリングバックで研
磨面が変形したりするので、研磨面の平坦度が悪化す
る。
研磨圧力を上げることによって解消できる。しかし、研
磨圧力を上げると、研磨パッド６とガラス板２との間に
生じる摩擦力が過大になるので、研磨圧力が不均一にな
り、また、ガラス板２の裏面形状が表面（研磨面）に転
写したり、研磨後のガラス板６のスプリングバックで研
磨面が変形したりするので、研磨面の平坦度が悪化す
る。
【０００７】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
もので、研磨面の平坦度と研磨効率とを向上させること
ができる板状体の連続式研磨装置及びその方法を提供す
ることを目的とする。
もので、研磨面の平坦度と研磨効率とを向上させること
ができる板状体の連続式研磨装置及びその方法を提供す
ることを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記目的を達
成するために、板状体を保持して搬送するテーブルと、
該テーブルの上方に板状体の搬送方向に沿って配置され
るとともにテーブルで搬送中の板状体を研磨する複数台
の研磨機とを備えた板状体の連続式研磨装置であって、
前記研磨機の研磨具は、外軸と内軸とを有する自転公転
運動機構に連結され、内軸を回転させる自転用モータに
よって自転運動されるとともに、外軸を回転させる公転
用モータによって外軸の軸芯を中心とする円周上に沿っ
て公転運動されることを特徴とする。
成するために、板状体を保持して搬送するテーブルと、
該テーブルの上方に板状体の搬送方向に沿って配置され
るとともにテーブルで搬送中の板状体を研磨する複数台
の研磨機とを備えた板状体の連続式研磨装置であって、
前記研磨機の研磨具は、外軸と内軸とを有する自転公転
運動機構に連結され、内軸を回転させる自転用モータに
よって自転運動されるとともに、外軸を回転させる公転
用モータによって外軸の軸芯を中心とする円周上に沿っ
て公転運動されることを特徴とする。
【０００９】また、本発明は、前記目的を達成するため
に、板状体をテーブルで保持して搬送するとともに、該
板状体の搬送方向に沿って配置された複数台の研磨機で
前記搬送中の板状体を研磨する板状体の連続式研磨方法
であって、前記研磨機の研磨具を、外軸と内軸とを有す
る自転公転運動機構に連結し、内軸を回転させることに
より自転運動させるとともに、外軸を回転させることに
より外軸の軸芯を中心とする円周上に沿って公転運動さ
せながら、前記板状体を研磨することを特徴とする。
に、板状体をテーブルで保持して搬送するとともに、該
板状体の搬送方向に沿って配置された複数台の研磨機で
前記搬送中の板状体を研磨する板状体の連続式研磨方法
であって、前記研磨機の研磨具を、外軸と内軸とを有す
る自転公転運動機構に連結し、内軸を回転させることに
より自転運動させるとともに、外軸を回転させることに
より外軸の軸芯を中心とする円周上に沿って公転運動さ
せながら、前記板状体を研磨することを特徴とする。
【００１０】本発明によれば、研磨機の研磨具を自転公
転運動機構によって自転公転運動させながら板状体を研
磨する。このように研磨具を自転公転運動させると、板
状体は、研磨具の公転軌跡と自転軌跡との複合軌跡で研
磨されるので、公転回転数を上げることなく、研磨効率
を向上させることができる。また、研磨圧力を必要以上
に上げる必要もないので、研磨面の平坦度も向上する。
更に、研磨具の自転運動で生じる運動軌跡の不均一が、
研磨具の公転運動で補償されるので、研磨面の平坦度に
悪影響は与えない。
転運動機構によって自転公転運動させながら板状体を研
磨する。このように研磨具を自転公転運動させると、板
状体は、研磨具の公転軌跡と自転軌跡との複合軌跡で研
磨されるので、公転回転数を上げることなく、研磨効率
を向上させることができる。また、研磨圧力を必要以上
に上げる必要もないので、研磨面の平坦度も向上する。
更に、研磨具の自転運動で生じる運動軌跡の不均一が、
研磨具の公転運動で補償されるので、研磨面の平坦度に
悪影響は与えない。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下添付図面に従って本発明に係
る板状体の連続式研磨装置及びその方法の好ましい実施
の形態を詳説する。
る板状体の連続式研磨装置及びその方法の好ましい実施
の形態を詳説する。
【００１２】図１は、液晶ディスプレイ用ガラス基板と
なるガラス板（板状体に相当）Ｇを研磨する連続式研磨
装置１０の一部が示されている。この連続式研磨装置１
０は、ガラス板Ｇを保持するテーブルパッドを上面に設
けたワーク定盤（テーブルに相当）１４、及びワーク定
盤１４の上方に配置された複数台（図１では１台のみ図
示）の研磨機１６、１６等から構成されている。
なるガラス板（板状体に相当）Ｇを研磨する連続式研磨
装置１０の一部が示されている。この連続式研磨装置１
０は、ガラス板Ｇを保持するテーブルパッドを上面に設
けたワーク定盤（テーブルに相当）１４、及びワーク定
盤１４の上方に配置された複数台（図１では１台のみ図
示）の研磨機１６、１６等から構成されている。
【００１３】ワーク定盤１４の下部には図２に示すよう
に、一対のガイドブロック１８、１８が設けられ、この
ガイドブロック１８、１８が、基台２０に配設された一
対のガイドレール２２、２２に摺動自在に係合されてい
る。また、ワーク定盤１４の下部中央部には、ラック２
４がワーク定盤１４の長手方向に沿って固定されてお
り、ラック２４はピニオン２６に噛合されている。ピニ
オン２６は、基台２０に回転自在に支持されるととも
に、不図示のモータの出力軸に連結され、モータの駆動
力によって回転される。これにより、ラック２４がピニ
オン２６に送られて、ワーク定盤１４が図１上矢印で示
す搬送方向に所定の速度で搬送される。
に、一対のガイドブロック１８、１８が設けられ、この
ガイドブロック１８、１８が、基台２０に配設された一
対のガイドレール２２、２２に摺動自在に係合されてい
る。また、ワーク定盤１４の下部中央部には、ラック２
４がワーク定盤１４の長手方向に沿って固定されてお
り、ラック２４はピニオン２６に噛合されている。ピニ
オン２６は、基台２０に回転自在に支持されるととも
に、不図示のモータの出力軸に連結され、モータの駆動
力によって回転される。これにより、ラック２４がピニ
オン２６に送られて、ワーク定盤１４が図１上矢印で示
す搬送方向に所定の速度で搬送される。
【００１４】ワーク定盤１４の搬送によって、ワーク定
盤１４上のテーブルパッドに保持されたガラス板Ｇが、
研磨機１６、１６…の下方を順次通過し、この通過中に
研磨機１６、１６…の研磨パッド（研磨具に相当）２
８、２８…によって少量ずつ研磨される。そして、最終
的に液晶ディスプレイ用ガラス基板で要求される平坦度
のものが製造される。なお、ワーク定盤１４の搬送速度
は、研磨状況によって変更できるように制御されてい
る。また、研磨パッド２８としては、発泡ポリウレタン
パッド等が適用され、更に、研磨時に供給されるスラリ
ーには、酸化セリウム又は酸化ジルコニウム等の遊離砥
粒が含有されている。
盤１４上のテーブルパッドに保持されたガラス板Ｇが、
研磨機１６、１６…の下方を順次通過し、この通過中に
研磨機１６、１６…の研磨パッド（研磨具に相当）２
８、２８…によって少量ずつ研磨される。そして、最終
的に液晶ディスプレイ用ガラス基板で要求される平坦度
のものが製造される。なお、ワーク定盤１４の搬送速度
は、研磨状況によって変更できるように制御されてい
る。また、研磨パッド２８としては、発泡ポリウレタン
パッド等が適用され、更に、研磨時に供給されるスラリ
ーには、酸化セリウム又は酸化ジルコニウム等の遊離砥
粒が含有されている。
【００１５】図２に示す研磨機１６は、ワーク定盤１４
の上方に設けられ、ワーク定盤１４と直交する主軸（外
軸に相当）３０を有している。この主軸３０は、ベアリ
ング３２、３２を介して本体ケーシング３４に回転自在
に支持されており、本体ケーシング３４は、その両側に
配置された一対のポスト３６、３６に固定されている。
また、ポスト３６、３６の下部には、基台２０に設置さ
れた油圧ジャッキ３８のピストン４０がそれぞれ連結さ
れている。よって、ピストン４０、４０が伸縮動作され
ると、ポスト３６、３６を介して本体ケーシング３４が
昇降移動される。これにより、研磨パッド２８を備えた
研磨ヘッド４２が、ワーク定盤１４に対して上下方向に
進退移動される。
の上方に設けられ、ワーク定盤１４と直交する主軸（外
軸に相当）３０を有している。この主軸３０は、ベアリ
ング３２、３２を介して本体ケーシング３４に回転自在
に支持されており、本体ケーシング３４は、その両側に
配置された一対のポスト３６、３６に固定されている。
また、ポスト３６、３６の下部には、基台２０に設置さ
れた油圧ジャッキ３８のピストン４０がそれぞれ連結さ
れている。よって、ピストン４０、４０が伸縮動作され
ると、ポスト３６、３６を介して本体ケーシング３４が
昇降移動される。これにより、研磨パッド２８を備えた
研磨ヘッド４２が、ワーク定盤１４に対して上下方向に
進退移動される。
【００１６】一方、主軸３０には、主軸３０の軸心Ｏ1
に対して偏心した軸心Ｏ2 を中心軸とする挿通孔３０Ａ
が形成されている。挿通孔３０Ａには出力軸（内軸に相
当）４４が挿通され、出力軸４４は、その中心軸が前記
軸心Ｏ2 と合致するように、ベアリング４６、４６を介
して主軸３０に回転自在に支持されている。
に対して偏心した軸心Ｏ2 を中心軸とする挿通孔３０Ａ
が形成されている。挿通孔３０Ａには出力軸（内軸に相
当）４４が挿通され、出力軸４４は、その中心軸が前記
軸心Ｏ2 と合致するように、ベアリング４６、４６を介
して主軸３０に回転自在に支持されている。
【００１７】主軸３０の上周部には、ギア４８が設けら
れている。このギア４８にはギア５０が噛合されてお
り、ギア５０には軸５２を介してギア５４が連結されて
いる。また、ギア５４には、アイドルギア５６を介して
出力ギア５８が噛合され、出力ギア５８は、公転用モー
タ６０の出力軸６２に固定されている。これにより、モ
ータ６０の駆動力がギア５８→５６→５４→５０→４８
を介して減速されて主軸３０に伝達されるので、主軸３
０が所定の回転数で回転される。このように主軸３０が
回転されると、出力軸４４は、主軸３０の軸心Ｏ1 を中
心とした円周に沿って公転する。即ち、研磨パッド２８
が軸心Ｏ1 を中心に公転運動する。
れている。このギア４８にはギア５０が噛合されてお
り、ギア５０には軸５２を介してギア５４が連結されて
いる。また、ギア５４には、アイドルギア５６を介して
出力ギア５８が噛合され、出力ギア５８は、公転用モー
タ６０の出力軸６２に固定されている。これにより、モ
ータ６０の駆動力がギア５８→５６→５４→５０→４８
を介して減速されて主軸３０に伝達されるので、主軸３
０が所定の回転数で回転される。このように主軸３０が
回転されると、出力軸４４は、主軸３０の軸心Ｏ1 を中
心とした円周に沿って公転する。即ち、研磨パッド２８
が軸心Ｏ1 を中心に公転運動する。
【００１８】出力軸２８の下端部には、図１の如く円形
に形成された研磨ヘッド４２がロータリージョイント６
４を介して連結されている。研磨ヘッド４２は、図２の
如く支持定盤６６、研磨定盤６８、研磨パッド２８、及
び空気ばね７０、７０…等から構成される。
に形成された研磨ヘッド４２がロータリージョイント６
４を介して連結されている。研磨ヘッド４２は、図２の
如く支持定盤６６、研磨定盤６８、研磨パッド２８、及
び空気ばね７０、７０…等から構成される。
【００１９】支持定盤６６は、ビビリ防止の目的で剛性
の高いステンレスで造られている。研磨定盤６８は、鋳
鉄製又はステンレス製の高剛性構造であり、支持定盤６
６に空気ばね７０、７０…を介して連結されている。こ
れらの空気ばね７０、７０…は、研磨ヘッド４２の回転
軸Ｏ2 を中心とする円周上に所定の間隔をもって配設さ
れるとともに、支持定盤６６に形成された不図示のエア
通路、及びロータリージョイント６４を介して不図示の
エアポンプに接続されている。したがって、エアポンプ
からの圧縮エアがロータリージョイント６４及びエア通
路を介して空気ばね７０、７０…に供給されると、空気
ばね７０、７０…が膨張する。よって、空気ばね７０、
７０…のばね力が研磨定盤６８を介して研磨パッド２８
に伝達されるので、研磨パッド２８に研磨圧力が与えら
れる。なお、この研磨圧力は、空気ばね７０、７０…に
供給されるエア圧力を制御することにより調節される。
の高いステンレスで造られている。研磨定盤６８は、鋳
鉄製又はステンレス製の高剛性構造であり、支持定盤６
６に空気ばね７０、７０…を介して連結されている。こ
れらの空気ばね７０、７０…は、研磨ヘッド４２の回転
軸Ｏ2 を中心とする円周上に所定の間隔をもって配設さ
れるとともに、支持定盤６６に形成された不図示のエア
通路、及びロータリージョイント６４を介して不図示の
エアポンプに接続されている。したがって、エアポンプ
からの圧縮エアがロータリージョイント６４及びエア通
路を介して空気ばね７０、７０…に供給されると、空気
ばね７０、７０…が膨張する。よって、空気ばね７０、
７０…のばね力が研磨定盤６８を介して研磨パッド２８
に伝達されるので、研磨パッド２８に研磨圧力が与えら
れる。なお、この研磨圧力は、空気ばね７０、７０…に
供給されるエア圧力を制御することにより調節される。
【００２０】ところで、出力軸４４の上端部は、ユニバ
ーサルジョイント７２を介して自転用モータ７４の出力
軸７６に連結されている。したがって、モータ７４の駆
動力によって出力軸４４が軸芯Ｏ2 を中心に回転する。
即ち、研磨パッド２８が軸芯Ｏ2 を中心に自転運動す
る。なお、出力軸４４が軸芯Ｏ1 を中心に公転運動され
ていても、出力軸４４はユニバーサルジョイント７２を
介してモータ７４の出力軸７６に連結されているので、
研磨パッド２８は支障無く自転運動する。
ーサルジョイント７２を介して自転用モータ７４の出力
軸７６に連結されている。したがって、モータ７４の駆
動力によって出力軸４４が軸芯Ｏ2 を中心に回転する。
即ち、研磨パッド２８が軸芯Ｏ2 を中心に自転運動す
る。なお、出力軸４４が軸芯Ｏ1 を中心に公転運動され
ていても、出力軸４４はユニバーサルジョイント７２を
介してモータ７４の出力軸７６に連結されているので、
研磨パッド２８は支障無く自転運動する。
【００２１】次に、前記の如く構成された連続式研磨装
置１０の作用について説明する。
置１０の作用について説明する。
【００２２】まず、研磨機１６の油圧ジャッキ３８のピ
ストン４０を伸縮させることにより、本体ケーシング３
４を上下移動させ、ワーク定盤１４に対する研磨ヘッド
４２の高さ位置を調整する。そして、空気ばね７０に供
給するエア量を調整し、研磨圧力をその研磨機１６、１
６…毎に設定する。
ストン４０を伸縮させることにより、本体ケーシング３
４を上下移動させ、ワーク定盤１４に対する研磨ヘッド
４２の高さ位置を調整する。そして、空気ばね７０に供
給するエア量を調整し、研磨圧力をその研磨機１６、１
６…毎に設定する。
【００２３】次に、ワーク定盤１４を搬送方向に搬送す
る。そして、これと同時に、研磨機１６の公転用モータ
６０及び自転用モータ７４をそれぞれ駆動して、研磨パ
ッド２８を図３の如く、軸芯Ｏ1 を中心に公転運動させ
るとともに、軸芯Ｏ2 を中心に自転運動させながら、ワ
ーク定盤１４で搬送されてきたガラス板Ｇを研磨する。
る。そして、これと同時に、研磨機１６の公転用モータ
６０及び自転用モータ７４をそれぞれ駆動して、研磨パ
ッド２８を図３の如く、軸芯Ｏ1 を中心に公転運動させ
るとともに、軸芯Ｏ2 を中心に自転運動させながら、ワ
ーク定盤１４で搬送されてきたガラス板Ｇを研磨する。
【００２４】このように、本実施の形態の連続式研磨装
置１０では、研磨パッド２８を自転公転運動させながら
ガラス板Ｇを研磨するので、ガラス板Ｇは、研磨パッド
２８の公転軌跡と自転軌跡との複合軌跡で研磨される。
よって、連続式研磨装置１０では、研磨パッド２８の公
転回転数を上げることなく、研磨効率を向上させること
ができる。また、研磨パッド２８の研磨圧力も必要以上
に上げる必要もないので、ガラス板Ｇの研磨面の平坦度
も向上する。
置１０では、研磨パッド２８を自転公転運動させながら
ガラス板Ｇを研磨するので、ガラス板Ｇは、研磨パッド
２８の公転軌跡と自転軌跡との複合軌跡で研磨される。
よって、連続式研磨装置１０では、研磨パッド２８の公
転回転数を上げることなく、研磨効率を向上させること
ができる。また、研磨パッド２８の研磨圧力も必要以上
に上げる必要もないので、ガラス板Ｇの研磨面の平坦度
も向上する。
【００２５】更に、研磨パッド２８の自転運動で生じる
運動軌跡の不均一が、研磨パッド２８の公転運動で補償
されるので、ガラス板Ｇの研磨面の平坦度に悪影響は与
えない。
運動軌跡の不均一が、研磨パッド２８の公転運動で補償
されるので、ガラス板Ｇの研磨面の平坦度に悪影響は与
えない。
【００２６】図４は、研磨機の第２の実施の形態を示し
ている。この研磨機８０を説明するに当たり、図２に示
した第１の実施の形態の研磨機１６と同一若しくは類似
の部材については同一の符号を付してその説明は省略す
る。
ている。この研磨機８０を説明するに当たり、図２に示
した第１の実施の形態の研磨機１６と同一若しくは類似
の部材については同一の符号を付してその説明は省略す
る。
【００２７】図４の研磨機８０は、研磨パッド２８の公
転運動半径を大きくして、自転運動軌跡に起因する研磨
むらの発生を防止した装置である。即ち、主軸３０の軸
芯Ｏ3 に対する出力軸４４の軸芯Ｏ2 の偏心量を大きく
設定している。
転運動半径を大きくして、自転運動軌跡に起因する研磨
むらの発生を防止した装置である。即ち、主軸３０の軸
芯Ｏ3 に対する出力軸４４の軸芯Ｏ2 の偏心量を大きく
設定している。
【００２８】主軸３０の上周部には、ギア４８が設けら
れている。このギア４８にはギア８２が噛合され、ギア
８２はモータ６０の出力軸６２に固定されている。これ
により、モータ６０の駆動力がギア８２→４８を介して
主軸３０に伝達されるので、主軸３０が所定の回転数で
回転される。このように主軸３０が回転されると、研磨
パッド２８は、主軸３０の軸心Ｏ3 を中心とした円周に
沿って公転する。
れている。このギア４８にはギア８２が噛合され、ギア
８２はモータ６０の出力軸６２に固定されている。これ
により、モータ６０の駆動力がギア８２→４８を介して
主軸３０に伝達されるので、主軸３０が所定の回転数で
回転される。このように主軸３０が回転されると、研磨
パッド２８は、主軸３０の軸心Ｏ3 を中心とした円周に
沿って公転する。
【００２９】出力軸４４の上周部は、ギア８４が設けら
れ、このギア８４はリングギア８６のインナーギア８８
に噛合されている。また、リングギア８６のアウターギ
ア９０にはギア９２が噛合され、ギア９２はモータ７４
の出力軸７６に固定されている。これにより、モータ７
４の駆動力がギア９２→９０→８６→８８→８４を介し
て出力軸４４に伝達されるので、出力軸４４が軸芯０2
を中心に回転する。なお、出力軸４４が軸芯Ｏ3 を中心
に公転運動されていても、出力軸４４はインナーギア８
８の回りを自転しながら公転するので、研磨パッド２８
は支障無く自転公転運動する。また、リングギア８８
は、ベアリング９４を介して本体ケーシング３４に支持
されるとともに、ベアリング９６を介して主軸３０に支
持されている。
れ、このギア８４はリングギア８６のインナーギア８８
に噛合されている。また、リングギア８６のアウターギ
ア９０にはギア９２が噛合され、ギア９２はモータ７４
の出力軸７６に固定されている。これにより、モータ７
４の駆動力がギア９２→９０→８６→８８→８４を介し
て出力軸４４に伝達されるので、出力軸４４が軸芯０2
を中心に回転する。なお、出力軸４４が軸芯Ｏ3 を中心
に公転運動されていても、出力軸４４はインナーギア８
８の回りを自転しながら公転するので、研磨パッド２８
は支障無く自転公転運動する。また、リングギア８８
は、ベアリング９４を介して本体ケーシング３４に支持
されるとともに、ベアリング９６を介して主軸３０に支
持されている。
【００３０】このように構成された研磨機８０において
も、図２の研磨機１６と同様に研磨パッド２８を自転公
転運動させながらガラス板Ｇを研磨するので、研磨機１
６と同様の効果を得ることができる。また、研磨パッド
２８の公転運動半径が大きいので、自転運動軌跡に起因
する研磨むらの発生を防止できる。
も、図２の研磨機１６と同様に研磨パッド２８を自転公
転運動させながらガラス板Ｇを研磨するので、研磨機１
６と同様の効果を得ることができる。また、研磨パッド
２８の公転運動半径が大きいので、自転運動軌跡に起因
する研磨むらの発生を防止できる。
【００３１】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係る板状体
の連続式研磨装置及びその方法によれば、研磨機の研磨
具を自転公転運動機構によって自転公転運動させながら
板状体を研磨するので、板状体の研磨面の平坦度を向上
させることができるとともに、研磨効率を向上させるこ
とができる。
の連続式研磨装置及びその方法によれば、研磨機の研磨
具を自転公転運動機構によって自転公転運動させながら
板状体を研磨するので、板状体の研磨面の平坦度を向上
させることができるとともに、研磨効率を向上させるこ
とができる。
【図１】実施の形態の連続式研磨装置の構造を示す斜視
図
図
【図２】第１の実施の形態の研磨機を示す断面図
【図３】図２の研磨機の研磨パッドの自転公転運動軌跡
を示す説明図
を示す説明図
【図４】第２の実施の形態の研磨機を示す断面図
【図５】従来の連続式研磨装置の概略構造図
Ｇ…ガラス板（板状体に相当）、１０…連続式研磨装
置、１４…ワーク定盤（テーブルに相当）、１６、８０
…研磨機、２８…研磨パッド（研磨具に相当）、３０…
主軸（外軸に相当）、４２…研磨ヘッド、４４…出力軸
（内軸に相当）、６０…公転用モータ、７２…ユニバー
サルジョイント、７４…自転用モータ
置、１４…ワーク定盤（テーブルに相当）、１６、８０
…研磨機、２８…研磨パッド（研磨具に相当）、３０…
主軸（外軸に相当）、４２…研磨ヘッド、４４…出力軸
（内軸に相当）、６０…公転用モータ、７２…ユニバー
サルジョイント、７４…自転用モータ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松本 勝博 神奈川県横浜市鶴見区末広町１丁目１番地 旭硝子株式会社内 Ｆターム(参考） 3C058 AA09 AA11 AA16 AA18 AB03 AB04 AB08 CB01 CB03
Claims (2)
- 【請求項１】 板状体を保持して搬送するテーブルと、
該テーブルの上方に板状体の搬送方向に沿って配置され
るとともにテーブルで搬送中の板状体を研磨する複数台
の研磨機とを備えた板状体の連続式研磨装置であって、 前記研磨機の研磨具は、外軸と内軸とを有する自転公転
運動機構に連結され、内軸を回転させる自転用モータに
よって自転運動されるとともに、外軸を回転させる公転
用モータによって外軸の軸芯を中心とする円周上に沿っ
て公転運動されることを特徴とする板状体の連続式研磨
装置。 - 【請求項２】 板状体をテーブルで保持して搬送すると
ともに、該板状体の搬送方向に沿って配置された複数台
の研磨機で前記搬送中の板状体を研磨する板状体の連続
式研磨方法であって、 前記研磨機の研磨具を、外軸と内軸とを有する自転公転
運動機構に連結し、内軸を回転させることにより自転運
動させるとともに、外軸を回転させることにより外軸の
軸芯を中心とする円周上に沿って公転運動させながら、
前記板状体を研磨することを特徴とする板状体の連続式
研磨方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000115184A JP2001293656A (ja) | 2000-04-17 | 2000-04-17 | 板状体の連続式研磨装置及びその方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000115184A JP2001293656A (ja) | 2000-04-17 | 2000-04-17 | 板状体の連続式研磨装置及びその方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001293656A true JP2001293656A (ja) | 2001-10-23 |
Family
ID=18626878
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000115184A Withdrawn JP2001293656A (ja) | 2000-04-17 | 2000-04-17 | 板状体の連続式研磨装置及びその方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001293656A (ja) |
Cited By (11)
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-
2000
- 2000-04-17 JP JP2000115184A patent/JP2001293656A/ja not_active Withdrawn
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2018093178A (ja) * | 2016-11-29 | 2018-06-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 |
| JP7052280B2 (ja) | 2016-11-29 | 2022-04-12 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 |
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