JP5614723B2 - 研磨装置及び被研磨物の研磨方法 - Google Patents
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Description
本発明の研磨装置を用いて被研磨物を研磨することを特徴とする被研磨物の研磨方法を提供する。
Claims (6)
- 被研磨物と、該被研磨物の研磨面に当接される複数本の溝を備えた研磨パッドとを相対的に押し付けて、前記被研磨物の研磨面を研磨する研磨装置であって、
前記複数本の溝は平行であり、
前記被研磨物の非研磨面を保持するとともに該被研磨物を所定の軸を中心に回転させる回転手段と、前記研磨パッドの質量重心に対して偏心した公転軸を中心に、前記研磨パッドの質量中心を公転させ、又は公転させながら自転させる動作手段とを備えることを特徴とする研磨装置。 - 前記被研磨物の前記回転手段による回転方向と、前記動作手段による前記研磨パッドの公転方向、又は公転方向及び自転方向とが逆方向に設定されている請求項1に記載の研磨装置。
- 前記被研磨物を前記回転手段とともに所定の方向に搬送する搬送手段を備え、前記研磨パッドは、前記搬送手段による前記被研磨物の搬送経路に所定の間隔を持って複数台配置され、搬送中の前記被研磨物の研磨面を研磨する請求項1又は2に記載の研磨装置。
- 前記研磨パッドは、隣接する研磨パッドと回転位相差を持って公転される請求項3に記載の研磨装置。
- 前記回転手段は、円盤状の前記被研磨物を、その質量重心を中心に回転させる請求項1から4のいずれかに記載の研磨装置。
- 請求項1から5のいずれかに記載の研磨装置を用いて被研磨物を研磨することを特徴とする被研磨物の研磨方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2012143822A JP2012143822A (ja) | 2012-08-02 |
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JP (1) | JP5614723B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107234510A (zh) * | 2017-08-03 | 2017-10-10 | 合肥念萍电子商务有限公司 | 一种玻璃制品用抛光装置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3076291B2 (ja) * | 1997-12-02 | 2000-08-14 | 日本電気株式会社 | 研磨装置 |
US8192257B2 (en) * | 2006-04-06 | 2012-06-05 | Micron Technology, Inc. | Method of manufacture of constant groove depth pads |
JP5093650B2 (ja) * | 2007-06-07 | 2012-12-12 | 株式会社ニコン | 研磨装置及び研磨方法 |
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Publication number | Publication date |
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JP2012143822A (ja) | 2012-08-02 |
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