DE102018102592B4 - Substratbearbeitungsvorrichtung und Vorrichtung zum Herstellen einer integrierten Schaltungsvorrichtung - Google Patents

Substratbearbeitungsvorrichtung und Vorrichtung zum Herstellen einer integrierten Schaltungsvorrichtung Download PDF

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Abstract

Substratbearbeitungsvorrichtung, die Folgendes aufweist:einen Behälter (110), welcher einen Bearbeitungsraum (PS) zum Bearbeiten eines Substrats (W) aufweist;eine Substratabstützung (130), welche konfiguriert ist, um das Substrat (W), welches in den Bearbeitungsraum (PS) geladen ist, abzustützen; undeine Barriere (150; 150a) in dem Bearbeitungsraum (PS) zwischen einer Seitenwand des Behälters (110) und der Substratabstützung (130), wobei die Barriere (150; 150a) konfiguriert ist, die Substratabstützung (130) zu umschließen,wobei der Behälter (110) einen oberen Behälter (110U) und einen unteren Behälter (110L) aufweist, welche aneinander gekoppelt sind, um öffenbar und schließbar zu sein, um zwischen einer geschlossenen Position zum Abdichten des Bearbeitungsraums (PS) und einer offenen Position zum Öffnen des Bearbeitungsraums (PS) umzuschalten,wobei die Substratabstützung (130) und die Barriere (150; 150a) mit dem oberen Behälter (110U) gekoppelt sind,wobei die Barriere (150; 150a) sich von dem oberen Behälter (110U) zu einem Punkt tiefer als das Substrat (W) nach unten erstreckt, welches durch die Substratabstützung (130) abgestützt ist,wobei der Behälter (110) einen Kontaktabschnitt aufweist, an dem der obere Behälter (110U) und der untere Behälter (110L) einander in der geschlossenen Position berühren,wobei die Barriere (150, 150a) konfiguriert ist, ein Fluid von dem Kontaktabschnitt zu dem Punkt tiefer als das Substrat (W) zu führen, welches durch die Substratabstützung (130) abgestützt ist.

Description

  • HINTERGRUNG
  • Das erfinderische Konzept bezieht sich auf eine integrierte Schaltungsvorrichtung und ein Verfahren zum Herstellen der integrierten Schaltungsvorrichtung und genauer auf eine Substratbearbeitungsvorrichtung und eine Vorrichtung zum Herstellen einer integrierten Schaltungsvorrichtung, welche ein superkritisches Fluid verwenden.
  • Da Entwurfsregeln von integrierten Schaltungsvorrichtungen abnehmen, werden kritische Dimensionen von Halbleitervorrichtungen auf ungefähr 20 nm bis ungefähr 30 nm oder weniger verringert und demzufolge können ein Bildungsprozess für eine tiefe und schmale Struktur, welche ein relativ hohes Längenverhältnis beziehungsweise Seitenverhältnis von ungefähr fünf oder mehr hat, und ein Reinigungs- und Trockenprozess, welche damit einhergehen, verwendet werden. Verfahren, welche ein superkritisches Fluid verwenden, wurden vorgeschlagen, um einen vorbestimmten Prozess wie beispielsweise Ätzen, Reinigen oder Trocknen auf einem Substrat durchzuführen, in welchem eine Struktur, welche ein hohes Seitenverhältnis hat, ausgebildet ist, um eine in hohem Maße integrierte Schaltungsvorrichtung herzustellen. In herkömmlichen Substratbearbeitungsvorrichtungen und Verfahren, welche das superkritische Fluid verwenden, können jedoch verunreinigende Substanzen wie beispielsweise Partikel erzeugt werden und in Behältern der Substratbearbeitungsvorrichtungen, welche das superkritische Fluid verwenden, zurückbleiben, und die verunreinigenden Substanzen können auf Substraten wieder adsorbiert werden und Defekte auf den Substraten verursachen.
  • STAND DER TECHNIK
  • KR 10 1 654 627 B1 offenbart: Eine Substratverarbeitungsvorrichtung umfasst ein Gehäuse mit einem unteren Körper und einem oberen Körper, die miteinander kombiniert sind, um einen Verarbeitungsraum zum Verarbeiten eines Substrats darin zu bilden, einen Mechanismus zum Anheben und Absenken eines der oberen und unteren Körper, um den Verarbeitungsraum zu öffnen oder zu schließen, einen Abdeckring in Form eines Rings, der so vorgesehen werden kann, dass er die Seite des Verarbeitungsraums in einem Zustand umgibt, in dem der Verarbeitungsraum durch das Anheben und Absenken eines der oberen und unteren Körper geöffnet ist. Dadurch kann verhindert werden, dass Partikel von außen in den Verarbeitungsraum gelangen.
  • US 2016 / 0 121 374 A1 offenbart: Eine Vorrichtung zur Behandlung von Substraten mit einem Gehäuse, einschließlich eines oberen Körpers und eines unteren Körpers, die miteinander gekoppelt sind, um einen Behandlungsraum zu definieren, wobei der untere Körper unter dem oberen Körper vorgesehen ist, einer Stützeinheit, die mit dem oberen Körper gekoppelt ist, wobei die Stützeinheit eine Kante eines Substrats stützt, das in dem Behandlungsraum angeordnet ist, einer Fluidzufuhreinheit, die so konfiguriert ist, dass sie Fluid in den Behandlungsraum zuführt, einem Dichtungselement, das zwischen dem oberen und dem unteren Körper vorgesehen ist und mit diesen in Kontakt steht, wobei das Dichtungselement den Behandlungsraum hermetisch von einem Außenraum isoliert, und einer Isolationsplatte, die zwischen dem Dichtungselement und der Stützeinheit installiert ist. Die Isolierplatte kann so bereitgestellt werden, dass sie dem Dichtungselement gegenüberliegt.
  • KR 10 2009 0 125 433 A offenbart: Eine Lastsperrkammer und insbesondere eine Lastsperrkammer, bei der ein Dämpfer zwischen der Kammer und der Abdeckung installiert ist, um den Kontakt zwischen der Kammer und der Abdeckung zu verhindern, um so die Erzeugung von Partikeln zu unterdrücken, die aus dem Kontakt zwischen der Kammer und der Abdeckung resultieren.
  • KURZFASSUNG
  • Ausführungsformen der Erfindung sind in den beiliegenden Ansprüchen definiert.
  • Das erfinderische Konzept sieht eine Substratbearbeitungsvorrichtung vor, welche in der Lage ist, zu verhindern, dass Defekte in einem Substrat aufgrund von Partikeln in einem Behälter während eines Trockenprozesses für das Substrat erzeugt werden, und eine Vorrichtung zum Herstellen einer integrierten Schaltungsvorrichtung, welche die Substratbearbeitungsvorrichtung aufweist.
  • Das erfinderische Konzept sieht eine Substratbearbeitungsvorrichtung vor, welche in der Lage ist, die Produktivität eines Substrattrockenprozesses zu verbessern, und eine Vorrichtung zum Herstellen einer integrierten Schaltungsvorrichtung, welche die Substratbearbeitungsvorrichtung aufweist.
  • Gemäß einem Aspekt des erfinderischen Konzepts ist eine Substratbearbeitungsvorrichtung vorgesehen, die Folgendes aufweist: einen Behälter, welcher einen Bearbeitungsraum zum Bearbeiten eines Substrats aufweist; einen Substratträger, welcher konfiguriert ist, um das Substrat zu tragen, welches in den Bearbeitungsraum geladen ist; und eine Barriere zwischen einer Seitenwand des Behälters und der Substratabstützung, die derart konfiguriert, dass sie die Substratabstützung umgibt.
  • Gemäß einem anderen Aspekt des erfinderischen Konzepts ist eine Substratbearbeitungsvorrichtung vorgesehen, die Folgendes aufweist: wenigstens einen Behälter, welcher einen Bearbeitungsraum zum Bearbeiten eines Substrats aufweist, wobei der wenigstens eine Behälter einen oberen Behälter und einen unteren Behälter aufweist, welche beweglich aneinander gekoppelt sind, um öffenbar und schließbar zu sein, um zwischen einer geschlossenen Position zum Abdichten des Bearbeitungsraums und einer offenen Position zum Öffnen des Bearbeitungsraums umzuschalten; eine Substratabstützung, welche konfiguriert ist, um das Substrat, welches in den Bearbeitungsraum geladen ist, abzustützen, wobei die Substratabstützung an eine obere Wand gekoppelt ist, welche den Bearbeitungsraum des wenigstens einen Behälters begrenzt; eine Barriere zwischen einer Seitenwand des wenigstens einen Behälters und der Substratabstützung, wobei die Barriere an die obere Wand gekoppelt ist, welche den Bearbeitungsraum des wenigstens einen Behälters begrenzt; und eine Austrittsöffnung in einer Bodenwand des wenigstens einen Behälters entgegengesetzt zu der oberen Wand und konfiguriert, um ein Fluid von innerhalb des wenigstens einen Behälters abzuführen, wobei die Barriere sich nach unten entlang einer Richtung der Seitenwand des wenigstens einen Behälters in Richtung der Bodenwand erstreckt, und wobei ein unterster Abschnitt der Barriere sich hinter einen untersten Abschnitt der Substratabstützung von der oberen Wand erstreckt, wenn der Behälter in der geschlossenen Position ist.
  • Gemäß einem anderen Aspekt des erfinderischen Konzepts ist eine Vorrichtung zum Herstellen einer integrierten Schaltungsvorrichtung vorgesehen, wobei die Vorrichtung Folgendes aufweist: eine Reinigungseinheit, welche konfiguriert ist, um ein Substrat zu reinigen; und eine Trockeneinheit, welche eine Trockenkammer zum Trocknen des gereinigten Substrats aufweist, wobei die Trockenkammer Folgendes aufweist: einen Behälter, welcher einen Bearbeitungsraum aufweist, welcher konfiguriert ist, um das gereinigte Substrat zu bearbeiten, wobei der Behälter einen oberen Behälter und einen unteren Behälter aufweist, welche miteinander gekoppelt sind, um öffenbar und schließbar zu sein, um zwischen einer geschlossenen Position zum Abdichten des Bearbeitungsraums und einer offenen Position zum Öffnen des Bearbeitungsraums umzuschalten; eine Substratabstützung, welche konfiguriert ist, um das Substrat, welches in den Bearbeitungsraum geladen ist, abzustützen, wobei die Substratabstützung mit dem oberen Behälter gekoppelt ist; eine Barriere, welche mit dem oberen Behälter gekoppelt ist, um einen Rand des Substrats, der durch die Substratabstützung abgestützt ist, zu umgeben; und eine Antriebsvorrichtung, welche konfiguriert ist, um wenigstens einen des oberen Behälters und des unteren Behälters zu der geschlossenen Position oder der offenen Position zu bewegen.
  • KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
  • Ausführungsformen des erfinderischen Konzepts werden deutlicher verstanden werden anhand der folgenden detaillierten Beschreibung zusammen mit den beigefügten Zeichnungen, in denen:
    • 1A und 1B Querschnittsansichten sind, die schematisch eine Substratbearbeitungsvorrichtung gemäß Ausführungsformen zeigen;
    • 2 und 3 Querschnittsansichten sind, welche schematisch Substratbearbeitungsvorrichtungen gemäß Ausführungsformen zeigen;
    • 4 eine Querschnittsansicht ist, welche schematisch eine Substratbearbeitungsvorrichtung gemäß Ausführungsformen zeigt;
    • 5 und 6 Querschnittsansichten sind, welche schematisch Substratbearbeitungsvorrichtungen gemäß Ausführungsformen zeigen, welche einen Abschnitt entsprechend einem Bereich A in 1A zeigen;
    • 7 ein Diagramm ist, welches einen Strom zeigt, entlang dem ein Fluid von einem Behälter in einer geschlossenen Position in einer Substratbearbeitungsvorrichtung gemäß einigen Ausführungsformen abgeführt wird;
    • 8 ein Diagramm ist, welches einen Strom eines superkritischen Fluids zeigt, welches in einen Behälter in einer Substratbearbeitungsvorrichtung gemäß einigen Ausführungsformen zugeführt wird;
    • 9 und 10 Ansichten sind, welche schematisch Substratbearbeitungsvorrichtungen gemäß einigen Ausführungsformen zeigen;
    • 11 eine Draufsicht ist, welche schematisch eine Herstellungsvorrichtung für eine integrierte Schaltung gemäß einigen Ausführungsformen zeigt;
    • 12 ein Flussdiagramm zum Erklären eines Substratbearbeitungsverfahrens gemäß Ausführungsformen ist; und
    • 13 ein Graph ist, welcher ein Beispiel einer Druckänderung in einem Bearbeitungsraum eines Behälters in einer Operation zum Trocknen eines Substrats der 12 zeigt.
  • DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER AUSFÜHRUNGSFORMEN
  • Hierin nachstehend werden Ausführungsformen des erfinderischen Konzepts im Detail unter Bezugnahme auf beigefügte Zeichnungen beschrieben werden.
  • Die 1A und 1B sind Querschnittsansichten, welche schematisch eine Substratbearbeitungsvorrichtung 100 gemäß Ausführungsformen zeigen. Die Substratbearbeitungsvorrichtung 100, welche in 1A veranschaulicht ist, entspricht einem Fall, in dem ein Behälter 110, welcher einen Bearbeitungsraum PS zum Bearbeiten eines Substrats W vorsieht, in einer offenen Position zum Öffnen des Bearbeitungsraums PS zu der Atmosphäre ist, und die Substratbearbeitungsvorrichtung 100, welche in 1B veranschaulicht ist, kann einem Fall entsprechen, in dem der Behälter 110, welcher den Bearbeitungsraum PS zum Bearbeiten des Substrats W vorsieht, in einer geschlossenen Position zum Abdichten des Bearbeitungsraumes PS ist.
  • Bezug nehmend auf die 1A und 1B kann die Substratbearbeitungsvorrichtung 100 den Behälter 110, eine Substratabstützung 130, eine Fluidzuführeinheit 140, eine Austrittseinheit 141, eine Barriere 150, ein Sperrschild 160 und eine Antriebsvorrichtung 170 aufweisen.
  • Der Behälter 110 kann den Bearbeitungsraum PS zum Bearbeiten des Substrats W vorsehen. Beispielsweise kann in dem Bearbeitungsraum PS ein Trockenprozess für das Substrat W, welcher ein superkritisches Fluid verwendet, durchgeführt werden. Der Behälter 110 kann ein Material aufweisen, welches in der Lage ist, einem hohen Druck gleich oder größer als einem kritischen Druck zu widerstehen.
  • Das superkritische Fluid hat physikalische Eigenschaften wie beispielsweise Dichte, Viskosität, Diffusionskoeffizient und Polarität, welche kontinuierlich von einem gasähnlichen Zustand zu einem flüssigkeitsähnlichen Zustand abhängig von einer Änderung im Druck variieren. Beispielsweise kann, wenn flüssiges Kohlendioxid in einem abgedichteten Behälter platziert ist und erwärmt wird, die Grenzfläche zwischen Gas und Flüssigkeit mit Temperatur und Druck, welche einen kritischen Punkt überschreiten, verschwinden. Das superkritische Fluid hat eine hohe Löslichkeit, einen hohen Diffusionskoeffizienten, eine niedrige Viskosität und eine niedrige Oberflächenspannung. Das superkritische Fluid ist ähnlich zu Gas in Hinsicht der Diffusionsfähigkeit und kann demnach in eine feine Nut eindringen, da das superkritische Fluid keine Oberflächenspannung hat. Zusätzlich nimmt die Löslichkeit des superkritischen Fluids proportional zum Druck zu und das superkritische Fluid ist ähnlich zu einem flüssigen Lösungsmittel hinsichtlich der Löslichkeit. Demnach kann, wenn das superkritische Fluid verwendet wird, eine Reinigungsflüssigkeit oder eine Spülflüssigkeit auf dem Substrat W getrocknet werden, ohne durch die Grenzfläche zwischen Gas und Flüssigkeit hindurchzutreten, wodurch ein Abmagerungsphänomen (leaning phenomenon) oder eine Wasserfleckerzeugung auf dem Substrat W unterdrückt wird.
  • In einigen Ausführungsformen kann das superkritische Fluid Kohlendioxid aufweisen. Das Kohlendioxid hat eine niedrige kritische Temperatur von ungefähr 31 °C und einen niedrigen kritischen Druck von ungefähr 73 atm und ist nicht giftig, nicht entflammbar und relativ kostengünstig, sodass das Kohlendioxid leicht für die Trocknungsbehandlung des Substrats W verwendet werden kann.
  • Der Behälter 110 kann einen oberen Behälter 110U, einen unteren Behälter 110L, ein Hebeelement 120, eine erste Zufuhröffnung 111, eine zweite Zufuhröffnung 113 und eine Auslassöffnung 115 aufweisen.
  • Der obere Behälter 110U und der untere Behälter 110L können aneinander gekoppelt sein, um öffenbar und schließbar zu sein, um zwischen einer geschlossenen Position zum Abdichten des Bearbeitungsraums PS und einer offenen Position zum Öffnen des Bearbeitungsraums PS zu der Atmosphäre umzuschalten. In einigen Ausführungsformen bildet der untere Behälter 110L einen Raum, welcher einen geöffneten oberen Abschnitt hat, und der obere Behälter 110U kann an den unteren Behälter 110L gekoppelt sein, um den Raum des unteren Behälters 110L zu bedecken. In diesem Fall kann der obere Behälter 110U allgemein eine obere Wand des Behälters 110 bilden, und der untere Behälter 110L kann allgemein eine Bodenwand und eine Seitenwand des Behälters 110 bilden. In anderen Ausführungsformen jedoch kann der obere Behälter 110U allgemein eine obere Wand und eine Seitenwand des Behälters 110 bilden, und der untere Behälter 110L kann allgemein eine Bodenwand des Behälters 110 bilden. Alternativ können der obere Behälter 110U und der untere Behälter 110L zusammen eine Seitenwand des Behälters 110 bilden.
  • Das Umschalten zwischen der geschlossenen Position und der offenen Position des Behälters 110 kann durch das Hebeelement 120 und die Antriebsvorrichtung 170 durchgeführt werden, welche später beschrieben werden werden. In einigen Ausführungsformen kann, während der Behälter 110 zwischen der geschlossenen Position und der offenen Position umgeschaltet wird, der obere Behälter 110U fixiert sein, und der untere Behälter 110L kann hinsichtlich des befestigten oberen Behälters 110U angehoben werden, da der untere Behälter 110L unter dem oberen Behälter 110U positioniert ist.
  • Beispielsweise ist, wie in 1A gezeigt ist, wenn der untere Behälter 110L niedergeht und von dem oberen Behälter 110U getrennt ist, der Bearbeitungsraum PS zu der Atmosphäre geöffnet. Wenn der Bearbeitungsraum PS geöffnet ist, kann das Substrat W von der Außenseite in den Bearbeitungsraum PS oder von dem Bearbeitungsraum PS zu der Außenseite des Behälters 110 getragen werden. Das Substrat W, welches in den Bearbeitungsraum PS gebracht wird, kann in einem Zustand sein, in dem ein organisches Lösungsmittel durch einen Reinigungsprozess verbleibt. In der offenen Position des Behälters 110 können der obere Behälter 110U und der untere Behälter 110L einander unter einem vorbestimmten Abstand voneinander zugewandt sein. Beispielsweise kann der vorbestimmte Abstand ungefähr 5 mm bis ungefähr 20 mm sein, ist jedoch nicht darauf beschränkt.
  • Wie in 1B gezeigt ist, kann, wenn der untere Behälter 110L ansteigt und in nahen Kontakt mit dem oberen Behälter 110U kommt, der Bearbeitungsraum PS abgedichtet werden. Wenn der Bearbeitungsraum PS abgedichtet ist, kann ein Trockenprozess für das Substrat W, welcher das superkritische Fluid verwendet, durchgeführt werden.
  • Das Hebeelement 120 kann wenigstens eines des oberen Gefäßes 110U und des unteren Gefäßes 110L anheben. In anderen Worten gesagt kann wenigstens einer des oberen Behälters 110U und des unteren Behälters 110L durch das Hebeelement 120 angehoben werden, um zwischen der geschlossenen Position und der offenen Position umgeschaltet zu werden. Das Hebeelement 120 kann einen Hebezylinder 121 und eine Hubstange 123 aufweisen. Der Hebezylinder 121 kann mit dem unteren Behälter 110L gekoppelt sein. Um einem hohen Druck innerhalb des Bearbeitungsraumes (PS) zu widerstehen, kann, während ein Trockenprozess für das Substrat W durchgeführt wird, der Hebezylinder 121 das obere Gefäß 110U und das untere Gefäß 110L berühren, um den Behälter 110 abzudichten.
  • Die Hubstange 123 kann mit dem oberen Behälter 110U und dem unteren Behälter 110L gekoppelt sein und sich vertikal bewegen, oder den oberen Behälter 110U und/oder den unteren Behälter 110L des Behälters 110 zwischen geöffneten und geschlossenen Positionen führen. Beispielsweise kann in einigen Ausführungsformen ein Ende der Hubstange 123 mit dem Hebezylinder 121 gekoppelt sein, und das andere Ende kann mit dem oberen Behälter 110U gekoppelt sein. Wenn eine Antriebskraft durch den Hebezylinder 121 erzeugt wird, können der Hebezylinder 121 und die Hubstange 123 und der untere Behälter 110L, welcher mit dem Hebezylinder 121 gekoppelt ist, angehoben werden. Die Hubstange 123 kann den oberen Behälter 110U und/oder den unteren Behälter 110L in einer vertikalen Richtung führen, während der untere Behälter 110L durch das Hebeelement 120 angehoben wird, und kann es dem oberen Behälter 110U und/oder dem unteren Behälter 110L erlauben, horizontal zu verbleiben.
  • Die erste Zuführöffnung 111 wird verwendet, um ein superkritisches Fluid in den Behälter 110 zuzuführen und kann in dem unteren Behälter 110L gebildet sein. Beispielsweise kann die erste Zuführöffnung 111 unter der Mitte des Substrats W platziert auf der Substratabstützung 130 positioniert sein. Die erste Zuführöffnung 111 kann mit der Fluidzufuhreinheit 140 über eine erste Zuführleitung 140La verbunden sein.
  • Die zweite Zuführöffnung 113 wird verwendet, um ein superkritisches Fluid in das Gefäß 110 zuzuführen und kann in dem oberen Behälter 110U gebildet sein. Beispielsweise kann die zweite Zuführöffnung 113 über der Mitte des Substrats W, platziert auf der Substratabdeckung 130 positioniert sein. Die zweite Zuführöffnung 113 kann mit der Fluidzuführeinheit 140 durch eine zweite Zuführleitung 140Lb verbunden sein. In einigen Ausführungsformen kann Fluid für die Druckkontrolle in den Behälter 110 durch die zweite Zuführöffnung 113 zugeführt werden.
  • Die Auslassöffnung 115 wird verwendet, um ein Fluid vom Inneren des Behälters 110 abzuführen und kann in dem unteren Behälter 110L gebildet sein. Die Auslassöffnung 115 kann mit der Auslasseinheit 141 durch eine Auslassleitung 141L verbunden sein.
  • Die Substratabdeckung 130 kann das Substrat W, welches in dem Bearbeitungsraum PS vorgesehen ist, abstützen. Die Substratabstützung 130 kann das Substrat W derart abstützen, dass eine erste Seite des Substrats W der unteren Wand des Behälters 110 zugewandt ist, und eine zweite Seite des Substrats W entgegengesetzt der ersten Seite des Substrats W der oberen Wand des Behälters 110 zugewandt ist. In diesem Fall kann die erste Seite des Substrats W eine Strukturoberfläche sein, welche eine Struktur darin gebildet hat. Alternativ kann die zweite Seite des Substrats W eine Strukturoberfläche sein, welche eine Struktur darin gebildet hat.
  • Die Substratabstützung 130 kann den Rand des Substrats W abstützen. Beispielsweise kann die Substratabstützung 130 eine gebogene Struktur haben, welche sich vertikal nach unten von dem oberen Behälter 110U erstreckt und sich wiederum in einer horizontalen Richtung erstreckt. Die Substratabstützung 130 kann in dem befestigten oberen Behälter 110U installiert sein und kann das Substrat W stabil abstützen, während der untere Behälter 110L angehoben wird.
  • Die Fluidzuführung 140 kann ein superkritisches Fluid in den Behälter 110 zuführen. Die erste Zuführleitung 140La zum Vorsehen eines superkritischen Fluidströmungspfades kann mit der ersten Zuführöffnung 111 verbunden sein, welche in der Bodenwand des Behälters 110 gebildet ist, und die Fluidzuführeinheit 140 kann ein superkritisches Fluid zu der ersten Seite des Substrats W, das durch die Substratabstützung 130 abgestützt ist, durch die erste Zuführleitung 140La und die erste Zuführöffnung 111 zuführen. Zusätzlich kann die zweite Zuführleitung 140Lb zum Vorsehen eines superkritischen Fluidströmungspfades mit der zweiten Zuführöffnung 113, welche in der oberen Wand des Behälters 110 gebildet ist, verbunden sein, und die Fluidzuführeinheit 140 kann ein superkritisches Fluid zu der zweiten Seite des Substrats W, das durch die Substratabstützung 130 abgestützt ist, über die zweite Zuführleitung 140Lb und die zweite Zuführöffnung 113 zuführen.
  • Die Auslasseinheit 141 kann ein Fluid innerhalb des Behälters 110 abführen. Die Austrittsleitung 141L zum Vorsehen eines Strömungspfades kann mit der Auslassöffnung 115 verbunden sein, und die Auslasseinheit 141 kann das Fluid innerhalb des Behälters 110 durch die Auslassöffnung 115 und die Auslassleitung 141L abführen.
  • Die Barriere 150 kann in dem Behälter 110 vorgesehen sein, um zu verhindern, dass Partikel in dem Behälter 110 in das Substrat W eintreten, welches durch die Substratabstützung 130 abgestützt ist. Die Barriere 150 kann zwischen der Substratabstützung 130 und der Seitenwand des Behälters 110 angeordnet sein, um zu verhindern, dass Partikel, welche durch das Öffnen und Schließen des Behälters 110 erzeugt werden, das Substrat W beschädigen.
  • Beispielsweise kann, wie in 1B gezeigt ist, die Barriere 150 verhindern, dass Partikel, welche von einem Kontaktabschnitt (es sei Bezug genommen auf 119a und 119b in 5), wo der obere Behälter 110U und der untere Behälter 110L einander berühren, zu dem Substrat W übertragen wird, wenn der Behälter 110 geöffnet oder geschlossen wird. Die Barriere 150 kann Partikel, welche um den Kontaktabschnitt herum erzeugt werden, von dem Substrat W weg zu einem unteren Abschnitt des Gefäßes 110 führen, wo die Auslassöffnung 115 gebildet ist, und kann demnach verhindern, dass Partikel das Substrat W beschädigen, welches durch die Substratabstützung 130 abgestützt wird. In einigen Ausführungsformen des erfinderischen Konzepts ist die Barriere 150 konfiguriert, um eine Sichtlinie zwischen dem Kontaktabschnitt und der Substratabstützung 130 und/oder dem Substrat W zu blockieren, wenn der Behälter 110 in der offenen oder in der geschlossenen Position ist. In weiteren Ausführungsformen des erfinderischen Konzepts kann der Kontaktabschnitt zwei entgegengesetzte Stirnflächen aufweisen, welche freiliegend sind, wenn der Behälter 110 in der offenen Position ist und in Kontakt sind, um den Kontaktabschnitt zu bedecken, wenn der Behälter 110 in der geschlossenen Position ist.
  • Die Barriere 150 kann auf der oberen Wand des Behälters 110 beispielsweise der unteren Oberfläche des oberen Behälters 110U angeordnet sein, und kann sich von der unteren Oberfläche des unteren Behälters 110U nach unten erstrecken. Beispielsweise kann sich die Barriere 150 von der unteren Oberfläche des oberen Behälters 110U nach unten entlang der Seitenwand des Behälters 110 erstrecken.
  • In einigen Ausführungsformen kann sich die Barriere 150 von der unteren Oberfläche des oberen Behälters 110U zu einem Punkt niedriger als dem Kontaktabschnitt erstrecken. In einigen Ausführungsformen kann sich die Barriere 150 nach unten von der unteren Oberfläche des oberen Behälters 110U zu einem Punkt niedriger als das Substrat W erstrecken, welches durch die Substratabstützung 130 abgestützt wird.
  • In einigen Ausführungsformen kann sich die Barriere 150 entlang des Randes des Substrats W, das durch die Substratabstützung 130 abgestützt ist, erstrecken, und kann beispielsweise eine Ringform haben. Alternativ kann sich die Barriere 150 in einer Umfangsrichtung entlang der Seitenwand des Behälters 110 erstrecken und kann zum Beispiel eine Ringform haben.
  • Das Sperrschild 160 kann ein direktes Sprühen einer superkritischen Flüssigkeit, welche durch die Fluidzuführeinheit 140 auf das Substrat zugeführt wird, blockieren. Beispielsweise kann das Sperrschild 160 zwischen der ersten Zuführöffnung 111 und der Substratabstützung 130 angeordnet sein, und demnach kann verhindert werden, dass ein superkritisches Fluid, das von der ersten Zufuhröffnung 111 gesprüht wird, direkt auf das Substrat W gesprüht wird, welches durch den Substratabschnitt 130 abgestützt ist. Beispielsweise kann sich ein superkritisches Fluid, welches von dem ersten Fluidzuführanschluss 111 gesprüht wird, und das Sperrschild 160 erreicht, sich entlang der Oberfläche des Sperrschilds 160 bewegen und kann dann das Substrat W, welches durch die Substratabstützung 130 abgestützt ist, erreichen.
  • Das Sperrschild 160 kann eine Form haben, welche dem Substrat W entspricht und kann beispielsweise eine Scheibenform haben. Das Sperrschild 160 kann einen Radius haben gleich oder größer als der Radius des Substrats W, um effektiv das direkte Sprühen eines superkritischen Fluids auf die Substanz W zu vermeiden. Alternativ kann das Sperrschild 160 einen kleineren Radius als das Substrat W haben, sodass ein superkritisches Fluid relativ leicht das Substrat W erreichen kann.
  • In einigen Ausführungsformen kann das Sperrschild 160 auf dem unteren Behälter 110L angeordnet sein und kann von der Oberfläche des unteren Behälters 110L durch einen vorbestimmten Abstand durch eine Abstützung 161 beabstandet sein. Die erste Zuführöffnung 111 und/oder die Auslassöffnung 115, welche in dem unteren Behälter 110L gebildet sind, können das Sperrschild 160 vertikal überlappen. In diesem Fall kann das Sperrschild 160 es erlauben, dass ein superkritisches Fluid, welches von der ersten Zuführöffnung 111 gesprüht wird, das Substrat W, das durch die Substratabstützung 130 abgestützt ist, mit einem vorbestimmten Strom entlang der Oberfläche des Sperrschilds 160 erreicht. Das Sperrschild 160 kann es ebenso erlauben, dass das Fluid in dem Gefäß 110 durch die Auslassöffnung 115 mit einem vorbestimmten Strom austritt, welcher zu der Auslassöffnung 115 entlang der Oberfläche des Sperrschilds 160 führt.
  • Die Antriebsvorrichtung 170 kann das Umschalten zwischen der geschlossenen Position und der offenen Position des Behälters 110 anpassen. Die Antriebsvorrichtung 170 kann eine Antriebskraft auf das Hebeelement 120 ausüben, um das Hebeelement 120 zu betreiben, welches auf dem Behälter 110 installiert ist. Beispielsweise kann die Antriebsvorrichtung 170 eine hydraulische Antriebsvorrichtung sein und kann eine Steuervorrichtung aufweisen wie beispielsweise eine hydraulische Pumpe zum Erzeugen eines hydraulischen Drucks und einen Regler bzw. eine Stellvorrichtung. Die Antriebsvorrichtung 170 kann mit dem Hebezylinder 121 durch eine hydraulische Druckübertragungsleitung 170L verbunden sein, und ein hydraulisches Druckregulierventil kann in der hydraulischen Druckübertragungsleitung 170L installiert sein.
  • Die 2 und 3 sind Querschnittsansichten, welche schematisch Substratbearbeitungsvorrichtungen 100a und 100b jeweils gemäß Ausführungsformen zeigen. Die 2 und 3 zeigen die Substratbearbeitungsvorrichtungen 100a und 100b in einer geschlossenen Position, und die Substratbearbeitungsvorrichtungen 100a und 100b, welche in den 2 und 3 gezeigt sind, können im Wesentlichen dieselbe Konfiguration haben, wie die Substratbearbeitungsvorrichtung 100, welche in den 1A und 1B gezeigt ist mit Ausnahme dessen, dass die Substratbearbeitungsvorrichtungen 100a und 100b jeweils ferner Führungsstifte 151 und 151a aufweisen.
  • Bezug nehmend auf die 2 und 3 können die Substratbearbeitungsvorrichtungen 100a und 100b eine Barriere 150 aufweisen, um zu verhindern, dass Partikel in einem Behälter 110 ein Substrat W betreten, welches durch eine Substratabstützung 130 abgestützt ist, und kann ferner die Führungsstifte 151 und 151a aufweisen, welche in dem Behälter 110 vorgesehen sind in Kontakt mit und um die Barriere 150 abzustützen.
  • Die Führungsstifte 151 und 151a können in Kontakt sein mit und abstützen die Barriere 150 während eines Trockenprozesses für das Substrat W. Beispielsweise können, wenn der Behälter 110 in einer geschlossenen Position ist, um einen Trockenprozess durchzuführen, die Führungsstifte 151 und 151a fungieren, um die Barriere 150 zu führen, um an einer vorbestimmten Position positioniert zu sein. Ebenso können die Führungsstifte 151 und 151a die Vibration der Barriere 150 aufgrund eines Druckpulses oder dergleichen, welcher in dem Behälter 110 ausgeübt wird, durch ein Berühren und Abstützen der Barriere 150 während eines Trockenprozesses abschwächen.
  • In einigen Ausführungsformen kann der Führungsstift 151 in Kontakt sein mit und abstützen die Seite der Barriere 150, wie in 2 gezeigt ist. Beispielsweise kann der Führungsstift 151 auf einer Seitenwand eines unteren Behälters 110L angeordnet sein.
  • In einigen Ausführungsformen kann der Führungsstift 15 1 a in Kontakt sein mit und abstützen einen unteren Abschnitt der Barriere 150, wie in 3 gezeigt ist. Beispielsweise kann der Führungsstift 151a auf einer unteren Wand beziehungsweise Bodenwand des Behälters 110 angeordnet sein beispielsweise einer Bodenwand des unteren Behälters 110L.
  • Obwohl die 2 und 3 Beispiele zeigen, in welchen es einen Führungsstift 151 oder 151a gibt, ist das erfinderische Konzept nicht darauf beschränkt. In einigen Ausführungsformen kann eine Mehrzahl von Führungsstiften 151 und 151a entlang einer Umfangsrichtung der Barriere 150 angeordnet sein.
  • 4 ist eine Querschnittsansicht, welche schematisch eine Substratbearbeitungsvorrichtung 100c gemäß Ausführungsformen zeigt. 4 zeigt die Substratbearbeitungsvorrichtung 100c in einer geschlossenen Position und die Substratbearbeitungsvorrichtung 100c, welche in 4 gezeigt ist, kann im Wesentlichen dieselbe Konfiguration haben wie die Substratbearbeitungsvorrichtung 100, welche in den 1A und 1B gezeigt ist mit Ausnahme der Struktur einer Barriere 150a.
  • Bezug nehmend auf 4 kann die Substratbearbeitungsvorrichtung 100c die Barriere 150a aufweisen zum Verhindern, dass Partikel in einem Behälter 110 ein Substrat W betreten beziehungsweise in dieses eindringen, welches durch eine Substratastützung 130 abgestützt ist, und die Barriere 150a kann eine Form haben, in welcher ein unterer Abschnitt davon nach innen gekrümmt oder von der Seitenwand des unteren Behälters 110L weggebogen ist.
  • Insbesondere kann die Barriere 150a mit einem oberen Behälter 110U gekoppelt sein und sich nach unten von dem oberen Behälter 110U in Richtung des unteren Behälters 110L erstrecken, und der untere Abschnitt der Barriere 150a kann eine nach innen gekrümmte oder gebogene Form haben. Beispielsweise kann in einer ringförmigen Barriere 150a der untere Abschnitt der Barriere 150a eine Form haben, welche schrittweise nach unten abnimmt.
  • Mit der oben beschriebenen Konfiguration wird ein Abstand zwischen der Barriere 150a und der Seitenwand des Behälters 110 in der Nähe des unteren Abschnitts der Barriere 150a erhöht, und demnach nimmt der Druck in der Nachbarschaft des unteren Abschnitts der Barriere 150a lokal zu. Demzufolge können sich Partikel, welche in einem Kontaktabschnitt (es sei Bezug genommen auf 119a und 119b in 5) erzeugt werden, wo der obere Behälter 110U und der untere Behälter 110L einander in einer geschlossenen Position berühren, leichter entlang der Barriere 150a nach unten bewegen.
  • Die 5 und 6 sind Querschnittsansichten, welche schematisch Substratbearbeitungsvorrichtungen 100d und 100e gemäß Ausführungsformen zeigen, welche einen Abschnitt entsprechend einem Bereich A in 1A zeigen. Die Substratbearbeitungsvorrichtungen 100d und 100e, welche in den 5 und 6 gezeigt sind, können im Wesentlichen dieselbe Konfiguration haben wie die Substratbearbeitungsvorrichtung 100, welche in den 1A und 1B gezeigt ist, mit Ausnahme dessen, dass die Substratbearbeitungsvorrichtungen 100d und 100e ferner eine erste Schutzschicht 181 und/oder eine zweite Schutzschicht 183 aufweisen.
  • Bezug nehmend auf 5 kann die Substratbearbeitungsvorrichtung 100d die erste Schutzschicht 181 zum Verhindern einer Erzeugung von Partikeln aufgrund von Reibung zwischen einem oberen Behälter 110U und einem unteren Behälter 110L aufweisen.
  • Der obere Behälter 110U und der untere Behälter 110L können miteinander gekoppelt sein, um öffenbar und schließbar zu sein, um zwischen einer geschlossenen Position zum Abdichten eines Bearbeitungsraums PS und einer offenen Position zum Öffnen des Bearbeitungsraums PS umzuschalten, und ein Behälter (es sei Bezug genommen auf 110 in 1A) kann Kontaktabschnitte 119a und 119b haben, wo der obere Behälter 110U und der untere Behälter 110L sich in der geschlossenen Position berühren. Das heißt, dass die Kontaktabschnitte 119a und 119b Bereiche sind, in denen der obere Behälter 110U und der untere Behälter 110L einander in der geschlossenen Position berühren, und sie können einen Abschnitt der Oberfläche des oberen Behälters 110U und einen Abschnitt der Oberfläche des unteren Behälters 110L bezeichnen. Die Kontaktabschnitte 119a und 119b sind Teile, wo wiederholte Reibung während eines Trockenprozesses auftritt, und Verschleiß kann in dem oberen Behälter 110U und im unteren Behälter 110L aufgrund der Reibung an den Kontaktabschnitten 119a und 119b auftreten.
  • Die erste Schutzschicht 181 kann eine obere Schutzschicht 181a aufweisen, welche auf dem Kontaktabschnitt 119a auf einem Abschnitt der Oberfläche des oberen Behälters 110U gebildet ist, und eine untere Schutzschicht 181b, welche auf dem Kontaktabschnitt 119b auf einem Abschnitt der Oberfläche des unteren Behälters 110L gebildet ist. In einigen Ausführungsformen kann die erste Schutzschicht 181 wenigstens eine der oberen Schutzschicht 181a und der unteren Schutzschicht 181b aufweisen. Beispielsweise kann die erste Schutzschicht 181 nur eine der oberen Schutzschicht 181a und der unteren Schutzschicht 181b aufweisen.
  • Die erste Schutzschicht 181 kann eine Reibung zwischen dem oberen Behälter 110U und dem unteren Behälter 110L verringern, verursacht durch ein Umschalten zwischen der geschlossenen Position und der offenen Position, und kann eine Erzeugung von Partikeln verringern, welche aufgrund der Reibung auftreten kann. Insbesondere sind die Kontaktabschnitte 119a und 119b Orte, an denen wiederholte Reibung auftritt, wenn ein Druckpuls auf das Innere des Behälters 110 ausgeübt wird, während ein Trockenprozess durchgeführt wird. Die erste Schutzschicht 181 kann einen Verschleiß des Behälters 110 aufgrund wiederholter Reibung zwischen dem oberen Behälter 110U und dem unteren Behälter 110L verhindern und kann eine Erzeugung von metallischen Partikeln aufgrund des Verschleißes des Behälters 110 verhindern.
  • Die erste Schutzschicht 181 kann ein Material aufweisen, welches eine niedrige Verformung bei hohem Druck hat und welches einen niedrigen Reibungskoeffizienten hat. In einigen Ausführungsformen kann die erste Schutzschicht 181 ein Material aufweisen, welches einen Reibungskoeffizienten weniger als ungefähr 0,5 hat. Ebenso kann in einigen Ausführungsformen die erste Schutzschicht 181 ein harzbasiertes Material aufweisen. Beispielsweise kann die erste Schutzschicht 181 Polyimid (PI), Polytetrafluoroethylen (PTFE), Polychlorotrifluoroethyl (PCTFE) oder eine Kombination davon aufweisen.
  • In einigen Ausführungsformen kann die erste Schutzschicht 181 auf den Kontaktabschnitten 119a und 119b durch ein Sprühverfahren gebildet sein. Alternativ kann in anderen Ausführungsformen die erste Schutzschicht 181 in einer Filmform vorgesehen sein und an den Kontaktabschnitten 119a und 119b angebracht sein. Ferner kann, um die erste Schutzschicht 181 zu bilden, ein zusätzlicher Prozess zum Verbessern einer Kontaktkraft mit dem Behälter 110 und/oder ein zusätzlicher Prozess zum Verbessern von physikalischen und chemischen Eigenschaften wie beispielsweise Wärmewiderstand, Druckwiderstand und chemischen Widerstandseigenschaften durchgeführt werden. In einigen Ausführungsformen kann, bevor die erste Schutzschicht 181 auf den Kontaktabschnitten 119a und 119b gebildet wird, Elektropolieren beziehungsweise anodisches Polieren auf den Kontaktabschnitten 119a und 119b durchgeführt werden, um Verunreinigungen auf den Oberflächen der Kontaktabschnitte 119a und 119b zu entfernen und die Oberflächen der Kontaktabschnitte 119a und 119b zu glätten.
  • Die erste Schutzschicht 181 kann eine Dicke in dem Bereich von einigen Mikrometern (µm) bis einigen Hunderten von Millimetern (mm) auf den Kontaktabschnitten 119a und 119b haben. Beispielsweise kann die erste Schutzschicht 181 eine Dicke zwischen 1µm und 10 µm haben oder kann eine Dicke zwischen 10 mm und 100 mm haben.
  • In einigen Ausführungsformen kann die erste Schutzschicht 181 auf einem Abschnitt der Oberfläche des oberen Behälters 110U und/oder einem Abschnitt der Oberfläche des unteren Behälters 110L gebildet sein, welche die Kontaktabschnitte 119a und 119b bilden. Wenn die erste Schutzschicht 181 auf den Kontaktabschnitten 119a und 119b gebildet wird, wo wiederholte Reibung auftritt, kann die Anzahl von Partikeln, welche aufgrund des Verschleißes des oberen Behälters 110U und des unteren Behälters 110L erzeugt werden, signifikant verringert werden. Demzufolge können Defekte, welche in dem Substrat W als ein Ergebnis davon auftreten, dass Metallpartikel übertragen und auf dem Substrat W, das durch die Substratabstützung 130 abgestützt ist, adsorbiert werden, während eines Trockenprozesses verringert werden. Insbesondere können Defekte, welche in einem Randabschnitt des Substrats W auftreten, verringert werden.
  • Bezug nehmend auf 6 kann die Substratbearbeitungsvorrichtung 100e ferner die zweite Schutzschicht 183 aufweisen, welche auf einer Hubstange 123 gebildet ist, welcher mit dem oberen Behälter 110U und dem unteren Behälter 110L gekoppelt ist, um den oberen Behälter 110U und/oder den unteren Behälter 110L vertikal zu führen. Die zweite Schutzschicht 183 kann ein Material ähnlich zu dem Material der ersten Schutzschicht 181 aufweisen und kann in einer Art und Weise ähnlich zu derjenigen der ersten Schutzschicht 181 gebildet werden.
  • Da die Hubstange 123 eine Funktion zum Führen der Bewegung des oberen Behälters 1 10U und/oder des unteren Behälters 110L durchführt, können Partikel, welche aufgrund von Reibung zwischen der Hubstange 123 und dem oberen Behälter 110U und/oder dem unteren Behälter 110L erzeugt werden, leicht in den Behälter 110 fließen. Zusätzlich können Partikel, welche von den Kontaktabschnitten 119a und 119b erzeugt werden, an der Hubstange 123 anhängen, und Partikel, welche an der Hubstange 123 anhängen, können aufgrund wiederholter Reibung abgelöst werden und in den Behälter 110 fließen.
  • Wenn die zweite Schutzschicht 183 auf der Oberfläche der Hubstange 123 gebildet wird, kann Reibung zwischen der Hubstange 123 und dem oberen Behälter 110U und/oder dem unteren Behälter 110L verringert werden, und die Anzahl von Partikeln, welche aufgrund der Reibung erzeugt werden, kann weiterhin verringert werden.
  • 7 ist ein Diagramm, welches einen Strom S1 zeigt, entlang welchem ein Fluid von einem Behälter 110 in einer geschlossenen Position in einer Substratbearbeitungsvorrichtung 100 gemäß einigen Ausführungsformen abgeführt wird.
  • Bezug nehmend auf 7 können, wie obenstehend beschrieben ist, in der Nachbarschaft von Kontaktabschnitten (es sei Bezug genommen auf 119a und 119b in 5), wo ein oberer Behälter 110U und ein unterer Behälter 110L einander berühren, Partikel aufgrund von Verschleiß des oberen Behälters 110U und/oder des unteren Behälters 110L erzeugt werden. Beispielsweise können die Kontaktabschnitte in der Nähe des Randes einer unteren Oberfläche des oberen Behälters 110U positioniert sein, und können auf einer Seitenwand des Behälters 110 positioniert sein.
  • Da eine Barriere 150 zwischen einer Substratabstützung 130 und einer Seitenwand eines Behälters 110 angeordnet ist und sich von dem oberen Behälter 110U nach unten erstreckt, kann ein Fluid, welches Partikel enthält, welche in der Nähe von Kontaktabschnitten 119a und 119b erzeugt werden, durch die Barriere 150 geführt werden und in einen stromabwärtigen Strom S1 strömen. Das heißt, dass die Partikel, welche in der Nähe der Kontaktabschnitte 119a und 119b erzeugt werden, sich entlang der Seitenwände der Barriere 150 und dem Behälter 110 nach unten bewegen können. Nachfolgend kann ein Fluid, welches die Partikel enthält, welche nach unten geführt werden, zu der Auslassöffnung 115 entlang der Oberfläche des unteren Behälters 110L bewegt werden und kann von der Auslassöffnung 115 abgeführt werden. In einigen Ausführungsformen kann, während das Fluid, welches die Partikel enthält, sich zu der Auslassöffnung 115 bewegt, das Fluid, welches die Partikel enthält, sich zu der Auslassöffnung 115 entlang eines Pfades bewegen, welcher zwischen dem Sperrschild 160 und dem unteren Behälter 110L vorgesehen ist.
  • 8 ist ein Diagramm, welches einen Strom S2 eines superkritischen Fluids zeigt, welches in einen Behälter 110 in einer Substratbearbeitungsvorrichtung 100 gemäß einigen Ausführungsformen zugeführt wird.
  • Bezug nehmend auf 8 kann eine Barriere 150 den Strom eines superkritischen Fluids, welches in der Nähe von Kontaktabschnitten (es sei Bezug genommen auf 119a und 119b in 5) zugeführt wird, das heißt zwischen der Barriere 150 und einer Seitenwand des Behälters 110, blockieren. Beispielsweise kann ein superkritisches Fluid, welches durch eine zweite Zuführöffnung 113 zugeführt wird, den Strom S2 haben, welcher in einer radialen Richtung eines Substrats W entlang des Substrats W, welches durch eine Substratabstützung 130 abgestützt wird, fließt, entlang der Barriere 150 in der Nachbarschaft des Umfangs des Substrats W absteigt und dann durch die Auslassöffnung 115 abgeführt wird. Das heißt, dass die Barriere 150 ein superkritisches Fluid, welches durch die zweite Zuführöffnung 113 zugeführt wird, davon abhalten kann, direkt zu den Kontaktabschnitten 119a und 119b zu fließen und einen irregulären Strom des superkritischen Fluids, beispielsweise einen Turbulenzstrom des superkritischen Fluids, in der Nachbarschaft der Kontaktabschnitte 119a und 119b verhindern kann, während das superkritische Fluid direkt zu der Nachbarschaft der Kontaktabschnitte 119a und 119b fließt. Demnach ist es möglich, ein Phänomen zu verhindern, in welchem sich Partikel nicht zu der Auslassöffnung 115 aufgrund der Turbulenz, welche in der Nähe der Kontaktabschnitte 119a und 119b erzeugt wird, bewegen, und in der Nähe der Kontaktabschnitte 119a und 119b verbleiben.
  • Die 9 und 10 sind Ansichten, welche schematisch Substratbearbeitungsvorrichtungen 100f und 100g gemäß einigen Ausführungsformen jeweils zeigen. Die Substratbearbeitungsvorrichtungen 100f und 100g, welche in den 9 und 10 gezeigt sind, können im Wesentlichen dieselbe Konfiguration wie die Substratbearbeitungsvorrichtungen 100, 100a, 100b, 100d und 100e haben, welche obenstehend beschrieben sind mit Ausnahme dessen, dass jede der Substratbearbeitungsvorrichtungen 100f und 100g eine Mehrzahl von Behältern 110 aufweist.
  • Bezug nehmend auf die 9 und 10 kann jede der Substratbearbeitungsvorrichtungen 100f und 100g die Mehrzahl von Behältern 110 aufweisen, von welchen jeder einen Bearbeitungsraum vorsieht, in welchem ein Trockenprozess für ein Substrat durchgeführt werden kann, und eine Antriebsvorrichtung 170, welche mit jedem der Mehrzahl von Behältern 110 gekoppelt ist. Eine Antriebsvorrichtung 170 kann vorgesehen sein, oder die Anzahl davon kann weniger sein als die Anzahl der Mehrzahl von Behältern 110. Die Antriebsvorrichtung 170 kann über, unter oder neben der Mehrzahl von Behältern 110 positioniert sein.
  • In einigen Ausführungsformen kann, wie in 9 gezeigt ist, die Mehrzahl von Behältern 110 in Serie angeordnet sein, beispielsweise in einer Form, in welcher die Behälter 110 gestapelt sind. Ein Umschalten zwischen einer geschlossenen Position und einer offenen Position jedes der Mehrzahl von Behältern 110 kann durch eine Antriebsvorrichtung 170 durchgeführt werden und/oder gesteuert werden. Das heißt, dass die Antriebsvorrichtung 170 eine Antriebskraft, beispielsweise einen hydraulischen Druck, zum Umschalten zwischen der geschlossenen Position und der offenen Position auf jeden der Mehrzahl von Behältern 110 ausüben kann. In einigen Ausführungsformen kann die Antriebsvorrichtung 170 den Antrieb der Mehrzahl von Behältern 110 steuern derart, dass das Umschalten zwischen der geschlossenen Position und der offenen Position gleichzeitig in jedem der Mehrzahl von Behältern 110 durchgeführt wird, oder kann den Antrieb der Mehrzahl von Behältern 110 steuern derart, dass das Umschalten zwischen der geschlossenen Position und der offenen Position getrennt in jedem der Mehrzahl von Behältern 110 durchgeführt wird.
  • In einigen Ausführungsformen kann, wie in 10 gezeigt ist, die Substratbearbeitungsvorrichtung 100g eine Mehrzahl von Behältern 110 aufweisen, welche parallel angeordnet sind, und eine Antriebsvorrichtung 170, welche mit jedem der Mehrzahl von Behältern 110 verbunden ist. Beispielsweise kann die Mehrzahl von Behältern 110 Seite an Seite angeordnet sein.
  • Da jede der Substratbearbeitungsvorrichtungen 100f und 100g eine Mehrzahl von Behältern 110 aufweist, welche durch eine Antriebsvorrichtung 170 angetrieben werden, können mehrere Behälter 110 pro Fläche für einen Trockenprozess verwendet werden, und demnach kann die Prozessproduktivität weiter verbessert werden. Beispielsweise kann eine Einheit pro Ausstattungsstunde (UPEH = Unit Per Equipment Hour = Einheit pro Ausstattungsstunde) weiter verbessert werden.
  • 11 ist eine Draufsicht, welche schematisch eine Herstellungsvorrichtung 1000 für eine integrierte Schaltungsvorrichtung gemäß einigen Ausführungsformen zeigt. In 11 bezeichnen dieselben Bezugszeichen wie diejenigen in den 1A und 1B dieselben Elemente wie diejenigen in den 1A und 1B und detaillierte Beschreibungen davon werden ausgelassen werden.
  • Bezug nehmend auf 11 weist die Herstellungsvorrichtung 1000 für eine integrierte Schaltungsvorrichtung ein Indexmodul 1010, eine Puffereinheit 1020, eine Reinigungseinheit 1030, eine Trockeneinheit 1040 und eine Fördereinheit 1050 auf.
  • Das Indexmodul 1010 weist eine Ladeöffnung 1012 und einen Transferrahmen 1014 auf.
  • Ein Träger CA, welcher ein Substrat W aufnimmt, ist in der Ladeöffnung 1012 platziert. Das Indexmodul 1010 kann eine Mehrzahl von Ladeöffnungen 1012 aufweisen, ist jedoch nicht darauf beschränkt. Die Anzahl von Ladeöffnungen 1012 kann verschiedentlich gemäß der Prozesseffizienz und dem Prozesssteuerzustand der Herstellungsvorrichtung 1000 für die integrierte Schaltungsvorrichtung bestimmt werden. Beispielsweise kann ein Front Opening Unified Pod (FOUP) als der Träger CA verwendet werden.
  • Eine Indexschiene 1016 und ein Indexroboter 1018 können in dem Transferrahmen 1014 vorgesehen sein. Der Transferrahmen 1014 kann das Substrat W zwischen dem Träger CA, der auf der Ladeöffnung 1012 platziert ist, und der Fördereinheit 1050 fördern.
  • In einigen Ausführungsformen kann das Substrat W ein Wafer, beispielsweise ein Siliziumwafer sein. In einigen anderen Ausführungsformen kann das Substrat W ein Glassubstrat W sein. Strukturen, welche ein großes Seitenverhältnis haben, können auf dem Substrat W gebildet werden.
  • Die Puffereinheit 1020 kann zwischen dem Transferrahmen 1014 und der Fördereinheit 1050 angeordnet sein. Die Puffereinheit 1020 sieht einen Raum vor, in welchem das Substrat W verbleibt, bevor das Substrat W zwischen der Fördereinheit 1050 und dem Transferrahmen 1014 gefördert wird. Eine Oberfläche der Puffereinheit 1020, welche dem Transferrahmen 1014 zugewandt ist, und eine Oberfläche der Puffereinheit 1020, welche der Fördereinheit 1050 zugewandt ist, können geöffnet werden.
  • Die Reinigungseinheit 1030 kann konfiguriert sein, um eine Behandlungsflüssigkeit zu dem Substrat W zuzuführen, um eine vorbestimmte Nassreinigung durchzuführen.
  • Die Reinigungseinheit 1030 weist wenigstens eine Nassbehandlungsvorrichtung 1032 zum Zuführen einer Behandlungsflüssigkeit zu dem Substrat W auf, um eine Nassbearbeitung durchzuführen. Obwohl 11 einen Fall veranschaulicht, in dem zwei Nassbehandlungsvorrichtungen 1032 in der Reinigungseinheit 1030 enthalten sind, ist aber das erfinderische Konzept nicht darauf beschränkt.
  • In der Reinigungseinheit 1030 kann eine Nassreinigung durch ein Zuführen einer Behandlungsflüssigkeit zu dem Substrat W durchgeführt werden. Nach der Reinigungsbehandlung des Substrats W kann eine Spülbehandlung mit einer Spülflüssigkeit beispielsweise entionisiertem Wasser oder Isopropylalkohol durchgeführt werden. Wenn Isopropylalkohol als die Spülflüssigkeit verwendet wird, ist eine Reaktivität mit einem superkritischen Fluid, welches in einer nachfolgenden Trockenbehandlung verwendet wird, beispielsweise superkritisches Kohlendioxid hoch, und demnach kann der Isopropylalkohol leicht entfernt werden.
  • Zusätzlich kann nach der Spülbehandlung eine zusätzliche Befeuchtungsbeziehungsweise Benetzungsbehandlung unter Verwendung einer Befeuchtungsflüssigkeit beziehungsweise Benetzungsflüssigkeit durchgeführt werden, welche ein organisches Lösungsmittel enthält, welches eine höher Affinität für Kohlendioxid als entionisiertes Wasser hat, um eine nachfolgende Trocknungsbehandlung unter Verwendung eines superkritischen Fluids zu fördern. Wenn ein Netzmittel beziehungsweise ein oberflächenaktiver Stoff zu einer Spülflüssigkeit hinzugefügt wird, wird der Dampfdruck erniedrigt, da die Interaktion zwischen einer flüssigen Phase und einer Gasphase geschwächt wird. Demnach kann, wenn das Substrat W von der Reinigungseinheit 1030 zu der Trockeneinheit 1040 gefördert wird in einem Zustand, in dem eine Benetzungsflüssigkeit, welche einen oberflächenaktiven Stoff enthält, auf dem Substrat W gegenwärtig ist, ein natürliches Trocknen des Substrats W unterdrückt werden. Als der oberflächenaktive Stoff kann ein Material verwendet werden, welches gut in einer Benetzungsflüssigkeit gelöst werden kann und gut in einem superkritischen Fluid wie beispielsweise superkritischem Kohlendioxid gelöst werden kann. Der oberflächenaktive Stoff kann wenigstens eines von Trimethylnonanol(TMN)-oberflächenaktivem Stoff, einem fluorinierten oberflächenaktiven Stoff, welcher einen Zweig hat und einem oberflächenaktiven Stoff, welcher ein fluoriniertes BlockCopolymer aufweist.
  • Die Fördereinheit 1050 kann das Substrat W, welches durch die Reinigungseinheit 1030 gereinigt ist, herausnehmen, eine Antitrockenflüssigkeit zu dem gereinigten Substrat W zuführen und das Substrat W in einem nassen Zustand zu der Trockeneinheit 1040 fördern. Die Fördereinheit 1050 kann ein Förderelement 1054 zum Abstützen des Substrats W aufweisen und eine Nassfördereinheit 1056 zum Zuführen einer Antitrocknungsflüssigkeit zu dem Substrat W. Das Förderelement 1054 kann das Substrat W aus der Reinigungseinheit 1030 herausnehmen und das Substrat W, welches aus der Reinigungseinheit 1030 herausgenommen ist, zu der Trockeneinheit 1040 fördern.
  • In der Fördereinheit 1050 kann die Nassfördereinheit 1056 auf das Substrat W eine Benetzungsflüssigkeit zum Verhindern von Trocknen sprühen. Isopropylalkohol kann als die Befeuchtungsflüssigkeit zum Verhindern von Trocknen verwendet werden, es ist jedoch nicht darauf beschränkt. Es ist möglich, das natürliche Trocknen einer Reinigungsflüssigkeit auf dem Substrat W durch ein Zuführen einer Befeuchtungsflüssigkeit zum Verhindern eines Trocknens zu dem Substrat W nach dem Reinigungs- und Spülprozess des Substrats W zu verhindern.
  • Auf diesem Weg kann, da das natürliche Trocknen einer Reinigungsflüssigkeit auf dem Substrat W durch ein Zuführen einer Befeuchtungsflüssigkeit zum Verhindern eines Trocknens zu dem Substrat W verhindert wird, wenn das Substrat W von der Reinigungseinheit 1030 zu der Trocknungseinheit 1040 geführt wird, ein Neigungsphänomen, in welchem Strukturen, welche auf dem Substrat W gebildet sind, aufgrund einer Oberflächenspannung zwischen Gas und Flüssigkeit geneigt werden, auch wenn das Seitenverhältnis der Strukturen relativ groß ist, wenn das Substrat W in der Trockeneinheit 1040 getrocknet wird, unterdrückt werden. Zusätzlich kann, wenn ein Substrat W mit Strukturen, welches ein relativ großes Seitenverhältnis haben, nassgereinigt wird und dann unter Verwendung eines superkritischen Fluids in einem Zustand getrocknet wird, in welchem ein natürliches Trocknen unterdrückt wird, die Erzeugung von Wasserflecken auf dem Substrat W unterdrückt werden.
  • Die Trockeneinheit 1040 kann das Substrat W, welches Reinigungs- und Spülprozesse in der Reinigungseinheit 1030 durchlaufen hat, trocknen. Die Trockeneinheit 1040 ist konfiguriert, um das Substrat W durch ein Verwenden eines superkritischen Fluids zu trocknen. In der Trockeneinheit 1040 wird das Substrat W unter Verwendung der niedrigen Viskosität und der Oberflächenspannung des superkritischen Fluids getrocknet. Die Trockeneinheit 1040 kann getrennt von der Reinigungseinheit 1030 angeordnet sein.
  • Die Trockeneinheit 1040 weist wenigstens eine Trockenkammer 1042 zum Trocknen des Substrats W auf. 11 veranschaulicht, dass zwei Trockenkammern 1042 in der Trockeneinheit 1040 enthalten sind. Das erfinderische Konzept ist jedoch nicht darauf beschränkt und die Anzahl von Trockenkammern 1042 kann wie notwendig bestimmt werden. Die Trockenkammer 1042 kann mit einer beliebigen einen der Substratbearbeitungsvorrichtungen 100, 100a, 100b, 100d, 100e, 100f und 100g konfiguriert sein, welche unter Bezugnahme auf die 1A bis 6, 9 und 10 beschrieben sind, oder mit einer Substratbearbeitungsvorrichtung, welche eine Struktur hat, welche modifiziert und geändert ist gemäß dem Umfang des erfinderischen Konzepts von den Substratbearbeitungsvorrichtungen 100, 100a, 100b, 100d, 100e, 100f und 100g.
  • 12 ist ein Flussdiagramm zum Erklären eines Substratbearbeitungsverfahrens gemäß Ausführungsformen. 13 ist ein Graph, welcher eine beispielhafte Druckänderung in einem Bearbeitungsraum PS eines Behälters 110 in einer Operation zum Trocknen eines Substrats der 12 zeigt.
  • Bezug nehmend auf die 12 und 13 zusammen mit den 1A und 1B wird das Substrat W in den Bearbeitungsraum PS des Behälters 110 geladen (Operation S 110). Der Behälter 110 kann in einer offenen Position platziert sein, während das Substrat W in den Bearbeitungsraum PS geladen wird, und das Substrat W kann durch die Substratabstützung 130 in dem Bearbeitungsraum PS abgestützt sein.
  • Nachfolgend wird das Substrat W unter Verwendung eines superkritischen Fluids in dem Bearbeitungsraum PS des Behälters 110 getrocknet (Operation S120). Während eines Trocknungsprozesses für das Substrat W kann der Behälter 110 in einer geschlossenen Position platziert sein, um den Bearbeitungsraum PS abzudichten. Der abgedichtete Zustand des Bearbeitungsraums PS kann durch das Hebeelement 120 und die Antriebsvorrichtung 170 aufrechterhalten werden.
  • Nachdem das Substrat W in den Bearbeitungsraum PS des Behälters 110 zum Trocknen des Substrats W geladen ist, kann der Druck in dem Bearbeitungsraum PS von einem anfänglichen Druck P0, welcher ähnlich zu Atmosphärendruck ist, auf einen ersten Druck P1 erhöht werden durch ein Veranlassen, dass ein Fluid wie beispielsweise Kohlendioxid in den Bearbeitungsraum PS des Behälters 110 durch die erste Zuführöffnung 111 strömt, bei der geschlossenen Position des Behälters 110, wie in 1B veranschaulicht ist (Operation S121). Ein Fluid kann in den Bearbeitungsraum PD des Behälters 110 durch die erste Zuführöffnung 111 zugeführt werden, bis ein Fluid in dem Bearbeitungsraum PS des Behälters 110 einen gesättigten Dampfdruck oder einen kritischen Druck erreicht. Nachdem das Fluid in dem Bearbeitungsraum PS des Behälters 110 den Sättigungsdampfdruck erreicht, kann die Temperatur in dem Bearbeitungsraum PS des Behälters 110 auf eine Temperatur gleich oder größer als eine kritische Temperatur des Fluids in dem Bearbeitungsraum PS erhöht werden. Wenn die Temperatur in dem Bearbeitungsraum PS des Behälters 110 eine kritische Temperatur des zugeführten Fluids erreicht, kann das Fluid in dem Bearbeitungsraum PS des Behälters 110 in einem superkritischen Zustand sein.
  • Danach können während eines Trocknungsprozesses für das Substrat W unter Verwendung eines superkritischen Fluids in dem Bearbeitungsraum PS ein Druckherabsetzungsprozess und ein Druckerhöhungsprozess alternierend wenigstens zweimal wiederholt werden, um einen Druckpuls auf den Wafer W auszuüben (Operation S123). Der Druckherabsetzungsprozess ist ein Prozess zum Anpassen der Zuführströmungsrate des superkritischen Fluids, welches in den Bearbeitungsraum PS zugeführt wird, sodass der Druck in dem Bearbeitungsraum PS von dem ersten Druck P1 auf einen zweiten Druck P2 niedriger als der erste Druck P1 verringert wird. Der Druckerhöhungsprozess ist ein Prozess zum Erhöhen des Drucks in dem Bearbeitungsraum PS von dem zweiten Druck P2 wiederum auf den ersten Druck P1.
  • In einigen Ausführungsformen kann der erste Druck P1 ungefähr 140 bar sein, und der zweite Druck P2 kann ungefähr 100 bar sein. Das erfinderische Konzept ist jedoch nicht darauf beschränkt.
  • Um alternierend den Druckherabsetzungsprozess und den Druckerhöhungsprozess zwischen dem ersten Druck P1 und dem zweiten Druck P2 zu wiederholen, wie in Operation S123, können ein Prozess zum Zuführen einer vorbestimmten Menge von Drucksteuerfluid in den Bearbeitungsraum PS des Behälters 110 durch die zweite Zuführöffnung 113 wie in 1A veranschaulicht und ein Prozess zum Abführen von Gas in dem Bearbeitungsraum PS des Behälters 110 durch die Auslassöffnung 115 alternierend wiederholt werden.
  • Nachdem der Trocknungsprozess für das Substrat W, welches in den Bearbeitungsraum PS des Behälters 110 geladen ist, vollendet ist, können ein Niedergeschwindigkeitsauslassprozess (Operation S125) zum Verringern des Drucks in dem Bearbeitungsraum PS des Behälters 110 auf einen dritten Druck P3 und ein Hochgeschwindigkeitsauslassprozess (Operation S127) zum Erniedrigen des Drucks in dem Bearbeitungsraum PS des Behälters 110 auf einen anfänglichen Druck PO ähnlich zu dem Atmosphärendruck nacheinander folgend durchgeführt werden. Der Niedergeschwindigkeitsauslassprozess (Operation S125) und der Hochgeschwindigkeitsauslassprozess (Operation S127) können durch ein Steuern einer Auslassströmungsrate durch die Auslassöffnung 115 gesteuert werden.
  • Als Nächstes wird, wenn der Trocknungsprozess für das Substrat W vollendet ist, das getrocknete Substrat W von dem Bearbeitungsraum PS entfernt (Operation S130). Um das Substrat W von dem Bearbeitungsraum PS zu entfernen, kann der Behälter 110 von der geschlossenen Position zu der offenen Position umgeschaltet werden.
  • Gemäß dem Substratbearbeitungsverfahren gemäß den Ausführungsformen kann, da die Substratbearbeitungsvorrichtung 100 die Barriere 150 aufweist, die Substratbearbeitungsvorrichtung 100 verhindern, dass Partikel, welche aufgrund der Reibung zwischen dem oberen Behälter 110U und dem unteren Behälter 110L erzeugt werden, in das Substrat W während eines Trocknungsprozesses unter Verwendung eines superkritischen Fluids strömen und kann effektiv die Partikel zu der Auslassöffnung 115 abführen. Zusätzlich kann, da eine Schutzschicht (es sei Bezug genommen auf 181 in 5) auf Kontaktabschnitten (es sei Bezug genommen auf 119a und 119b in 5) des oberen Behälters 110U und des unteren Behälters 110L gebildet ist, die Erzeugung von Partikel aufgrund von Verschleiß des oberen Behälters 110U und des unteren Behälters 110L unterdrückt werden, während ein Druckpuls auf das Innere des Behälters 110 wie in Operation S123 ausgeübt wird.
  • Gemäß dem Substratbearbeitungsverfahren gemäß den Ausführungsformen kann ein Trocknungsprozess in jedem der Mehrzahl von Behältern 110 durchgeführt werden, und das Umschalten zwischen einer geschlossenen Position und einer offenen Position jedes der Mehrzahl von Behältern 110 kann durch eine Antriebsvorrichtung 190 gesteuert werden, und demnach kann die Produktivität des Trocknungsprozesses verbessert werden.

Claims (18)

  1. Substratbearbeitungsvorrichtung, die Folgendes aufweist: einen Behälter (110), welcher einen Bearbeitungsraum (PS) zum Bearbeiten eines Substrats (W) aufweist; eine Substratabstützung (130), welche konfiguriert ist, um das Substrat (W), welches in den Bearbeitungsraum (PS) geladen ist, abzustützen; und eine Barriere (150; 150a) in dem Bearbeitungsraum (PS) zwischen einer Seitenwand des Behälters (110) und der Substratabstützung (130), wobei die Barriere (150; 150a) konfiguriert ist, die Substratabstützung (130) zu umschließen, wobei der Behälter (110) einen oberen Behälter (110U) und einen unteren Behälter (110L) aufweist, welche aneinander gekoppelt sind, um öffenbar und schließbar zu sein, um zwischen einer geschlossenen Position zum Abdichten des Bearbeitungsraums (PS) und einer offenen Position zum Öffnen des Bearbeitungsraums (PS) umzuschalten, wobei die Substratabstützung (130) und die Barriere (150; 150a) mit dem oberen Behälter (110U) gekoppelt sind, wobei die Barriere (150; 150a) sich von dem oberen Behälter (110U) zu einem Punkt tiefer als das Substrat (W) nach unten erstreckt, welches durch die Substratabstützung (130) abgestützt ist, wobei der Behälter (110) einen Kontaktabschnitt aufweist, an dem der obere Behälter (110U) und der untere Behälter (110L) einander in der geschlossenen Position berühren, wobei die Barriere (150, 150a) konfiguriert ist, ein Fluid von dem Kontaktabschnitt zu dem Punkt tiefer als das Substrat (W) zu führen, welches durch die Substratabstützung (130) abgestützt ist.
  2. Substratbearbeitungsvorrichtung nach Anspruch 1, ferner aufweisend wenigstens einen Führungsstift (151; 151a) in dem Bearbeitungsraum (PS), um die Barriere (150; 150a) zu berühren und abzustützen.
  3. Substratbearbeitungsvorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Barriere (150; 150a) eine Ringform hat und sich entlang eines Randes des Substrats (W), welches durch die Substratabstützung (130) abgestützt ist, erstreckt.
  4. Substratbearbeitungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei ein unterer Abschnitt der Barriere (150a) geformt ist, um nach innen weg von der Seitenwand des Behälters (110) gebogen zu sein.
  5. Substratbearbeitungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, ferner aufweisend eine erste Schutzschicht (181) auf dem Kontaktabschnitt.
  6. Substratbearbeitungsvorrichtung nach Anspruch 5, wobei die erste Schutzschicht (181) auf einem Abschnitt einer Oberfläche des oberen Behälters (110U) und/oder auf einem Abschnitt einer Oberfläche des unteren Behälters (110L) ist, wobei die Abschnitte der Oberflächen des oberen und des unteren Behälters (110U, 110L) den Kontaktabschnitt bilden.
  7. Substratbearbeitungsvorrichtung nach Anspruch 1 bis 6, wobei der Behälter (110) eine Hubstange (123) aufweist, welche mit dem oberen Behälter (110U) und dem unteren Behälter (110L) gekoppelt ist, um wenigstens einen des oberen Behälters (110U) und des unteren Behälters (110L) zwischen der geschlossenen Position und der offenen Position zu führen, und die Substratbearbeitungsvorrichtung ferner eine zweite Schutzschicht (183) auf der Hubstange (123) aufweist.
  8. Substratbearbeitungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, wobei der Behälter (110) Folgendes aufweist: eine erste Zuführöffnung (111) in dem unteren Behälter (110L), um ein superkritisches Fluid in den Behälter (110) zuzuführen; eine zweite Zuführöffnung (113) in dem oberen Behälter (110U), um ein superkritisches Fluid in den Behälter (110) zuzuführen; und eine Auslassöffnung (115) in dem unteren Behälter (110L), um ein Fluid von innerhalb des Behälters (110) abzuführen.
  9. Substratbearbeitungsvorrichtung, die Folgendes aufweist: wenigstens einen Behälter (110), welcher einen Bearbeitungsraum (PS) zum Bearbeiten eines Substrats (W) aufweist, wobei der wenigstens eine Behälter (110) einen oberen Behälter (110U) und einen unteren Behälter (110L) aufweist, welche beweglich miteinander gekoppelt sind, um öffenbar und schließbar zu sein, um zwischen einer geschlossenen Position zum Abdichten des Bearbeitungsraumes (PS) und einer offenen Position zum Öffnen des Bearbeitungsraumes (PS) umzuschalten; eine Substratabstützung (130), welche konfiguriert ist, um das Substrat (W) abzustützen, welches in den Bearbeitungsraum (PS) geladen ist, wobei die Substratabstützung (130) mit einer oberen Wand des wenigstens einen Behälters (110) gekoppelt ist; eine Barriere (150; 150a) in dem Bearbeitungsraum (PS) zwischen einer Seitenwand des wenigstens einen Behälters (110) und der Substratabstützung (130), wobei die Barriere (150; 150a) mit der oberen Wand gekoppelt ist, welche den Bearbeitungsraum (PS) des wenigstens einen Behälters (110) begrenzt; und eine Auslassöffnung (115) in einer Bodenwand des wenigstens einen Behälters (110) entgegengesetzt der oberen Wand, wobei die Auslassöffnung (115) konfiguriert ist, ein Fluid von innerhalb des wenigstens einen Behälters (110) abzuführen, wobei die Barriere (150; 150a) sich nach unten entlang einer Richtung der Seitenwand des wenigstens einen Behälters (110) in Richtung der Bodenwand erstreckt; und wobei ein unterster Abschnitt der Barriere (150; 150a) sich nach einem untersten Abschnitt der Substratabstützung (130) von der oberen Wand erstreckt, wenn der Behälter (110) in der geschlossenen Position ist, wobei der wenigstens eine Behälter (110) einen Kontaktabschnitt aufweist, an dem der obere Behälter (110U) und der untere Behälter (110L) einander in der geschlossenen Position berühren, wobei die Barriere (150, 150a) konfiguriert ist, das Fluid dem Kontaktabschnitt zu dem Punkt tiefer als das Substrat (W) zu führen, welches durch die Substratabstützung (130) abgestützt ist.
  10. Substratbearbeitungsvorrichtung nach Anspruch 9, ferner aufweisend eine Antriebsvorrichtung (170), welche konfiguriert ist, um wenigstens einen des oberen Behälters (110U) und des unteren Behälters (110L) zu der geschlossenen Position oder der offenen Position zu bewegen.
  11. Substratbearbeitungsvorrichtung nach Anspruch 10, wobei der wenigstens eine Behälter (110) eine Mehrzahl von Behältern (110) aufweist, welche parallel angeordnet sind, wobei die Antriebsvorrichtung (170) mit jedem der Mehrzahl von Behältern (110) verbunden ist.
  12. Substratbearbeitungsvorrichtung nach Anspruch 10, wobei der wenigstens eine Behälter (110) eine Mehrzahl von Behältern (110) aufweist, welche zusammen gestapelt sind, und die Antriebsvorrichtung (170) mit jedem der Mehrzahl von Behältern (110) verbunden ist.
  13. Substratbearbeitungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 12, ferner aufweisend wenigstens einen Führungsstift, um eine Seite oder einen Boden der Barriere (150; 150a) zu kontaktieren und abzustützen, wenn der wenigstens eine Behälter (110) in der geschlossenen Position ist.
  14. Substratbearbeitungsvorrichtung nach Anspruch 9 bis 13, wobei der wenigstens eine Behälter (110) Folgendes aufweist: eine Hubstange (123), welche mit dem oberen Behälter (110U) und dem unteren Behälter (110L) gekoppelt ist, um wenigstens einen des oberen Behälters (110U) und des unteren Behälters (110L) zwischen der geschlossenen Position und der offenen Position zu führen, wobei die Substratbearbeitungsvorrichtung ferner eine erste Schutzschicht (181) auf dem Kontaktabschnitt und eine zweite Schutzschicht (183) auf der Hubstange (123) aufweist.
  15. Vorrichtung zum Herstellen einer integrierten Schaltungsvorrichtung, wobei die Vorrichtung Folgendes aufweist: eine Reinigungseinheit (1030), welche konfiguriert ist, um ein Substrat (W) zu reinigen; und eine Trockeneinheit (1040), welche eine Trockenkammer (1042) zum Trocknen des gereinigten Substrats (W) aufweist, wobei die Trockenkammer (1042) Folgendes aufweist: einen Behälter (110), welcher einen Bearbeitungsraum (PS) aufweist, welcher konfiguriert ist, um das gereinigte Substrat (W) zu bearbeiten, wobei der Behälter (110) einen oberen Behälter (110U) und einen unteren Behälter (110L) aufweist, welche miteinander gekoppelt sind, um öffenbar und schließbar zu sein, um zwischen einer geschlossenen Position zum Abdichten des Bearbeitungsraums (PS) und einer offenen Position zum Öffnen des Bearbeitungsraums (PS) umzuschalten; eine Substratabstützung (130), welche konfiguriert ist, um das Substrat (W), welches in den Bearbeitungsraum (PS) geladen ist, abzustützen, wobei die Substratabstützung (130) mit dem oberen Behälter (110U) gekoppelt ist; eine Barriere (150; 150a) in dem Bearbeitungsraum (PS), welche mit dem oberen Behälter (110U) gekoppelt ist, um einen Rand des Substrats (W), welches durch die Substratabstützung (130) abgestützt ist, zu umschließen; und eine Antriebsvorrichtung (170), welche konfiguriert ist, um wenigstens einen des oberen Behälters (110U) und des unteren Behälters (110L) zu der geschlossenen Position oder der offenen Position zu bewegen, wobei die Barriere (150; 150a) sich von dem oberen Behälter (110U) zu einem Punkt tiefer als das Substrat (W) nach unten erstreckt, welches durch die Substratabstützung (130) abgestützt ist, wobei der Behälter (110) einen Kontaktabschnitt aufweist, an dem der obere Behälter (110U) und der untere Behälter (110L) einander in der geschlossenen Position berühren, wobei die Barriere (150, 150a) konfiguriert ist, ein Fluid von dem Kontaktabschnitt zu dem Punkt tiefer als das Substrat (W) zu führen, welches durch die Substratabstützung (130) abgestützt ist.
  16. Vorrichtung nach Anspruch 15, ferner aufweisend eine Schutzschicht (181) auf wenigstens einem eines Abschnitts einer Oberfläche des oberen Behälters (110U) und eines Abschnitts einer Oberfläche des unteren Behälters (110L) wobei die Abschnitte der Oberflächen des oberen und unteren Behälters (110U, 110L) den Kontaktabschnitt bilden.
  17. Vorrichtung nach Anspruch 15 oder 16, wobei die Barriere (150; 150a) sich nach unten von einer unteren Oberfläche des oberen Behälters (110U) entlang einer Richtung einer Seitenwand des unteren Behälters (110L) erstreckt.
  18. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 15 bis 17, wobei die Trockenkammer (1042) eine Mehrzahl von Behältern (110) aufweist, und wobei die Antriebsvorrichtung (170) mit der Mehrzahl von Behältern (110) verbunden ist und ein Umschalten zwischen der geschlossenen Position und der offenen Position jedes der Mehrzahl von Behältern (110) steuert.
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