JP2001077074A - 半導体ウエハ等の洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 複数の被洗浄体を同時に処理して生産性を高
める。 【解決手段】 洗浄流体が流入排出可能な洗浄容器内で
半導体ウエハ等の被洗浄体を前記洗浄流体によって洗浄
する装置であって、前記洗浄容器内部には、被洗浄体を
複数収納する収納容器が設けられ、当該収納容器には、
収納容器内部に洗浄流体を流入させるための流入口と、
収納容器外部に洗浄流体を排出させるための排出口とが
複数個設けられ、各被洗浄体の表面を流れる前記洗浄流
体量がほぼ均一となるよう前記流入口及び排出口それぞ
れの開口面積及び／又は開口個数が被洗浄体の載置方向
に異なるように形成されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体やマイクロ
マシンなど超微細な構造を有する部品を超臨界ガス又は
亜臨界ガスといった洗浄流体で洗浄する装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】超臨界流体を利用する洗浄装置が近年注
目されつつある。超臨界流体は、気体と液体の中間の粘
性、拡散係数、密度を有しており、洗浄媒体として利用
すると従来から行われてきた湿式洗浄に比べて、微細化
に対応しやすい、被洗浄品の形状にとらわれない、乾燥
工程が不要であるなど多くの利点を有している。したが
って、超臨界流体は、微細化構造の複雑化が進んでいる
高集積回路の製造工程において、半導体ウエハの洗浄で
特に有効である。

【０００３】従来の超臨界流体を使用した洗浄装置の基
本構造は、ウエハが入れられた高圧容器に圧送ポンプ及
び加熱器によって超臨界点以上に加圧昇温されて超臨界
状態となった洗浄物質が注入されてウエハの表面上の汚
染物質が超臨界流体中に抽出されるというものである。
さらに、改良された洗浄装置として、特開平９−２３２
２７１号公報に開示されているものがある。この洗浄装
置では、ウエハが入れられるとともに洗浄物質の注入口
および排出口を有する高圧容器と、高圧容器の注入口に
超臨界圧力以上の圧力で、超臨界温度より低い温度の液
体状態の洗浄物質を供給する洗浄物質供給手段と、高圧
容器の排出口から洗浄物質を排出する洗浄物質排出手段
と排出量を調整して高圧容器内の圧力を所定圧力に保つ
排出量調整手段とウエハを加熱するウエハ加熱手段を備
えている。

【０００４】高圧容器は長辺がウエハの面と同一方向を
向いた薄い長方体に形成されており、注入口および排出
口も長軸がウエハ面と同一方向を向き、お互いに対向し
て平行となるように設けられている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】従来の超臨界洗浄装
置、とりわけ半導体ウエハを洗浄する装置の場合は、高
圧容器にはウエハが１枚ずつしか処理できない、いわゆ
る枚葉式であるため、生産性が劣るという問題があっ
た。本発明は、かかる問題に鑑みてなされたもので、そ
の目的は、生産性の高い処理が可能な洗浄装置を提供す
ることにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、生産性を
向上するためには、複数の被洗浄体を同時に処理すれば
よいことに着目し、複数の被洗浄体を洗浄できる装置と
して、次のような装置を発明した。すなわち、本発明に
係る洗浄装置の特徴は、洗浄流体が流入排出可能な洗浄
容器内で半導体ウエハ等の被洗浄体を前記洗浄流体によ
って洗浄する装置であって、前記洗浄容器内部には、被
洗浄体を複数収納する収納容器が設けられ、当該収納容
器には、収納容器内部に洗浄流体を流入させるための流
入口と、収納容器外部に洗浄流体を排出させるための排
出口とが複数個設けられ、各被洗浄体の表面を流れる前
記洗浄流体量がほぼ均一となるよう前記流入口及び排出
口それぞれの開口面積及び／又は開口個数が被洗浄体の
載置方向に異なるように形成されている点にある。

【０００７】この洗浄装置によれば、収納容器によって
複数の被洗浄体を高圧容器内に収納でき、複数の被洗浄
体を同時に処理することができる。ここで、高圧容器内
に流入した洗浄流体の流量は、高圧容器内空間で一定で
はない。すなわち、洗浄流体が高圧容器内に流入する位
置に近いところでは流量が多く、遠いところでは流量が
小さくなるといったことが生じる。また、その流量は高
圧容器内空間の形状などにより均一にならず位置によっ
て差が生じる場合がある。

【０００８】本発明では、複数の被洗浄体を収納する収
納容器内に洗浄流体を流入排出させるために流入口と排
出口を設けているが、これらの流入口と排出口を通って
流れる被洗浄体の流量が、各被洗浄体ごとに異なるおそ
れがある。すなわち、各流入口から収納容器内部に流入
する洗浄流体の量に差が生じ、各被洗浄体が均一に洗浄
されないというおそれがある。本発明では、各被洗浄体
の表面を流れる前記洗浄流体量がほぼ均一となるよう前
記流入口及び排出口それぞれの開口面積及び／又は開口
個数が被洗浄体の載置方向に異なるように形成されてい
るので、各被洗浄体の表面を洗浄流体がほぼ均一に流
れ、複数個の被洗浄体を均等に洗浄することができる。

【０００９】さらには、洗浄容器内へ洗浄流体が流入す
る位置に近い流入口及び排出口ほど開口面積及び／又は
開口個数が小とされ、洗浄容器へ洗浄流体が流入する位
置に遠い流入口及び排出口ほど開口面積及び／又は開口
個数が大とされているのが好適である。先に述べたよう
に、洗浄容器内へ洗浄流体が流入する位置に近いほど流
体の流量は多く、したがって、収納容器の流入口から洗
浄流体が流入しやすい。一方、洗浄容器内へ洗浄流体が
流入する位置に遠いほど、流体の流量小さく、したがっ
て、収納容器の流入口から洗浄流体は流入し難い。これ
を考慮して、洗浄容器内へ洗浄流体が流入する位置に近
い流入口及び排出口ほど開口面積及び／又は開口個数が
小とし、洗浄容器へ洗浄流体が流入する位置に遠い流入
口及び排出口ほど開口面積及び／又は開口個数が大とす
ることで、各被洗浄体の表面を流れる洗浄流体量が均一
化する。

【００１０】また、好ましくは、前記洗浄容器は、上部
から洗浄流体が流入し、下部から排出され、前記収納容
器には、上下方向に複数の被洗浄体を収納可能とされ、
前記流入口及び排出口は下方のものほど開口面積及び／
又は開口個数が大とされているのが良い。さらに、前記
洗浄容器内部には、流入した前記洗浄流体を収納容器の
流入口側へ案内する案内部が設けられているのが好適で
ある。これによって、効率的に収納容器内部に洗浄流体
が供給される。

【００１１】また、前記洗浄容器内部に流入した前記洗
浄流体が、前記流入口から収納容器内に流入して前記排
出口から収納容器外に排出された後、前記洗浄容器外部
に排出される１方向流通経路が洗浄容器内部に形成され
ているのが好適である。この場合、収納容器から排出さ
れた洗浄流体はそのまま洗浄容器外に排出されて、汚染
された洗浄流体が洗浄容器内を再流通することが防止さ
れる。また、前記収納容器内面には、被洗浄体を載置保
持するための突起が設けられているのが好適であり、こ
の突起によって容易に複数の被洗浄体を保持することが
できる。

【００１２】また、前記収納容器は、被洗浄体の載置方
向で分割された複数の分割体から構成されているのが好
適である。この場合、被洗浄体の収納容器への収納・取
り出しを簡便に行うことができる。さらに、前記分割体
はヒンジによって結合され、当該ヒンジによって収納容
器が開閉自在とされているものとすれば、ヒンジによる
収納容器の開閉で一層容易に被洗浄体の収納容器への収
納・取り出しを行うことができる。

【００１３】また、前記洗浄容器には、前記収納容器の
外側に位置する流体主排出路と、前記収納容器の内側に
位置する流体副排出路とが設けられているのが好まし
い。このように流体主排出路だけでなく、収納容器の内
側に位置する流体副排出路を設けることで、収納容器内
に細かい汚れ（パーティクル）が溜まることを防止でき
る。さらに、前記洗浄容器と前記収納容器との間には、
隔壁チャンバーが設けられているものとするのが好適で
ある。隔壁チャンバーを設けることで、洗浄容器から生
ずる細かい汚れが収納容器内部に流入することが防止さ
れる。

【００１４】また、本発明の他の観点からみた特徴は、
洗浄流体が流入排出可能な洗浄容器内で半導体ウエハ等
の被洗浄体を前記洗浄流体によって洗浄する装置であっ
て、前記洗浄容器内部には、被洗浄体を複数収納する収
納容器が設けられ、当該収納容器には、収納容器内部に
洗浄流体を流入させるための流入口と、収納容器外部に
洗浄流体を排出させるための排出口とが設けられ、洗浄
容器内に流入した洗浄流体を前記流入口まで案内する第
１案内通路と、前記排出口から排出された洗浄流体を洗
浄容器外に排出するように案内する第２案内通路が洗浄
容器内に形成されている点にある。

【００１５】かかる構成でも、収納容器によって複数の
被洗浄体を高圧容器内に収納でき、複数の被洗浄体を同
時に処理することができる。そして、このように被洗浄
体を複数収納する収納容器を設け、その収納容器が流入
口と排出口を備えている構造において、洗浄容器内に流
入した洗浄流体を前記流入口まで案内する第１案内通路
と、前記排出口から排出された洗浄流体を洗浄容器外に
排出するように案内する第２案内通路を洗浄容器内に形
成することで、排出口から排出されて汚染された洗浄流
体が洗浄容器内を再流通することが防止される。

【００１６】さらに具体的には、前記洗浄容器と前記収
納容器との間には、隔壁チャンバーが設けられ、当該隔
壁チャンバー内は前記第１案内通路となる空間と、前記
第２案内通路となる空間とに仕切られているのが好適で
ある。この場合、簡単な構成で第１案内通路と第２案内
通路とを構成でき、また隔壁チャンバーにより洗浄容器
の細かい汚れが収納容器に流入することが防止される。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、図面に基づいて本発明の実
施の形態を説明する。図１は、本発明に係る洗浄装置１
の断面構造を示している。この洗浄装置１は、複数枚の
半導体ウエハＷを洗浄するためのものであって、内部が
洗浄の処理空間とされた洗浄容器（圧力容器）２を有し
ている。洗浄容器２は、容器円筒３と、容器円筒３の上
部を塞ぐ上蓋４と、容器円筒３の下部を塞ぐ下蓋５とか
ら構成されている。

【００１８】この洗浄容器２は、超臨界処理のため高圧
雰囲気に保たれる。容器内圧を保持するために、上蓋４
と下蓋５は容器円筒３と固定された状態で使用される。
なお、容器内圧をシールするため、上蓋４と下蓋５には
シール部材６が設けられている。半導体ウエハの収納・
取り出しを行う場合には、上蓋４と容器円筒３の一体シ
リンダを固定した状態で、下蓋５を昇降手段（図示省
略）で上下方向に昇降させるか、もしくは下蓋５を固定
した状態で、上蓋４と容器円筒３の一体シリンダを昇降
手段（図示省略）で上下方向に昇降させるかのいずれで
もよい。

【００１９】下蓋５の上面には、隔壁チャンバー７が取
り付けられている。隔壁チャンバー７は円筒状を成して
おり上部天井部には洗浄流体が流入する開口が設けられ
ている。隔壁チャンバー７の内側には円筒状の収納容器
８が設けられており、この収納容器８は隔壁チャンバー
７と同様に下蓋５の上面に取り付けられている。収納容
器は逆コップ状に形成されており、内側には、内方向き
に突出した突起９が高さ方向に複数個設けられており、
さらに突起９は同一高さ位置においても周方向に複数設
けられており、各高さ位置の突起９にウエハＷを載せる
ことによって、複数枚のウエハＷを上下方向に１枚ずつ
収納容器にセットできるようにしている。

【００２０】図２にも示すように、収納容器８の側面に
は洗浄流体が流入する流入口１１と、洗浄流体が排出さ
れる排出口１２が向かい合って上下方向に複数個設けら
れ、収納容器８内に載置されたそれぞれのウエハ表面を
流体が流れるようになっている。さらに、図３に示すよ
うに、それぞれのウエハＷ表面を流れる流体量が均一と
なるよう流入口１１，排出口１２の開口面積が収納容器
８のウエハＷの載置方向である上下方向（収納容器軸方
向）に変えられている。ここでは、流入口１１と排出口
１２の開口部高さが上からＨ１，Ｈ２，Ｈ３，Ｈ４，Ｈ
５，Ｈ６とそれぞれ異なっており、下に設けられている
流入口１１の開口部高さが高くなるようにされている。

【００２１】洗浄流体は、流体導入路１４によって洗浄
容器２内へ導入され、流体排出路１５によって洗浄容器
２外へ排出される。流体導入路１４の途中には、ヒータ
１９が設けられており、流体を超臨界温度以上に加熱す
る。また、流体導入路１４は、上蓋４に取り付けられて
おり、上蓋４内を通って洗浄容器２上部から流体が流入
する。また流体排出路１５は、下蓋５に取り付けられて
おり、洗浄容器２下部から下蓋５内を通って流体が排出
される。導入路１４は、洗浄容器２内でフランジ２０を
介して、隔壁チャンバー７上部開口と接続され、流体が
隔壁チャンバー内に流入するようになっている。なお、
隔壁チャンバー７内外の圧力差で隔壁チャンバー７が破
損しないように、フランジ２０とチャンバー７上部開口
とは気密ではなく、流体がある程度フランジ２０外部に
流れるようになっている。すなわち、洗浄容器２内に流
入した流体の大部分は隔壁チャンバー７内に流入し、一
部は隔壁チャンバー７外に流れる。

【００２２】隔壁チャンバー７内に流入した流体は収納
容器８側面の流入口１１から排出口１２へ一方向に流れ
るように、隔壁チャンバー７の上部内面には、収納容器
８上面との間に仕切板２２が設けられている。この仕切
板２２は、隔壁チャンバー７と収納容器８との間の空間
を、導入路１４と連通し流入口１１に至る第１案内通路
と、排出口１２から排出路１５に至る第２案内通路とに
仕切っている。すなわち、仕切板２２は、収納容器８内
に流入した流体を専ら流入口１１側に案内するための案
内部でもあり、この仕切板２２によって隔壁チャンバー
７内は、流体がチャンバー７上部開口から第１案内通路
を通って、各流入口１１から収納容器８内に流入し、ウ
エハＷを洗浄した後、各排出口１２から収納容器８外に
排出され、洗浄容器２外へ排出される一方向の流通経路
が形成されている。

【００２３】このように、流体は一方向に流れるので、
細かい汚れなどによって汚染された流体が再流通するこ
とが防止される。なお、仕切板２２は第１及び第２案内
通路を完全に仕切るものでなくともよく、チャンバー７
内に流入した流体の大部分の流れを第１案内通路側に案
内できれば十分であり、多少第２案内通路の方に流れて
もよい。第１案内通路から各流入口１１に到達した流体
は、各流入口１１から収納容器８内に入り込む。このと
き、チャンバー７内は、流体導入路１４に近い上方ほど
流量が多いため流体が収納容器８内に入り易く、流体導
入路１４から遠い下方ほど流量が少ないため流体が収納
容器８内に入りにくい。

【００２４】このようなチャンバー内の流量差に応じ
て、収納容器８の流入口１１と排出口１２は、前述のよ
うに、下方ほど開口部高さが大きく、したがって開口面
積が大きくなっている。このように開口面積を異ならせ
ることで、収納容器８内での流体量が上下方向でほぼ均
一になり、上下方向に載置された複数の半導体ウエハＷ
が均一に洗浄される。なお、流入口１１と排出口１２
は、突起９に載置したウエハＷの表面を流れるように、
各突起９の上方にそれぞれ設けられている。

【００２５】下蓋５には、流体排出路１５として、第２
案内通路と連通する流体主排出路１６と、収納容器８の
内側と連通する第１流体副排出路１７と、チャンバー７
の外側と連通する第２流体副排出路１８とが設けられて
いる。第１流体副排出路１７は、収納容器８下部から直
接排気をさせることで、収納容器８内部に細かい汚れ等
が溜まってしまうことを防止することができる。また、
第２流体副排出路は、チャンバー７外にも流体が流れる
ようにしたことに伴い、チャンバー７外から流体を排出
できるようにしたものである。

【００２６】図４に示すように、収納容器８は、円筒体
を上下方向（ウエハＷの載置方向）に分断分割した２つ
の分割体２５ａ，２５ｂからなり、各分割体２５は、図
示しないヒンジによって結合され、ヒンジによって収納
容器８を図４のように開いた状態と図１〜図３のように
閉じた状態とにすることができる。ウエハＷを収納容器
８内へ収納・取り出しするときには、図４のように開い
た状態にした状態で行えばよい。なお、本発明は、上記
実施形態に限定されるものではない。例えば、各流入口
１１と排出口１２は、開口面積を異ならせるのではな
く、開口個数を異ならせるものであってもよい。すなわ
ち、上記実施形態において、収納容器８の上方は開口個
数を少なくし、下方は開口個数を多くすることができ
る。

【００２７】また、上記実施形態では、洗浄容器２の上
方から洗浄流体を供給したが、洗浄容器２の下方から供
給するものであってもよい。この場合、流入口１１と排
出口１２は、収納容器８の下方の開口面積を小さくし、
収納容器８の上方の開口面積を大きくすればよい。さら
に、洗浄容器２への流体流入位置は、他の位置であって
もよく、流入位置に近いほど開口面積等を小とすればよ
い。また、半導体ウエハＷの載置方向も特に限定される
ものではなく、例えば、上下方向以外に横方向に並べて
置いてもよい。

【００２８】さらに、上記実施形態では、特に洗浄容器
２への流体流入位置から見た遠近を問題として、開口面
積を異ならせたが、洗浄容器２等の形状等によっては流
入位置からの遠近とは別の要因で、流体の流量差等を生
ずる場合もあり、そのような場合にも、該流量差等に応
じて、各ウエハＷの表面を流れる流体量がほぼ均一とな
るように、流入口や排出口の開口面積などを異ならせる
こともできる。また、本洗浄装置１が対象とする被洗浄
体は、半導体ウエハに限らず、マイクロマシンなども対
象とする。

【００２９】また、上記実施形態では、収納容器８は、
２つの分割体２５ａ，２５ｂをヒンジで結合していた
が、ヒンジで結合せずに、各分割体２５ａ，２５ｂを完
全に分割しておいて、別途固定手段により両分割体２５
ａ，２５ｂを結合するようにしてもよい。また、分割体
の数は２つに限らず、３つ以上でもよい。

【００３０】

【発明の効果】以上、本発明に係る洗浄装置によれば、
複数の被洗浄体を同時に処理することができるので、生
産性を高めることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る洗浄装置の断面構造図である。

【図２】図１のＡ−Ａ線断面図である。

【図３】収納容器の外観図である。

【図４】収納容器が開いた状態を示す外観図である。

【符号の説明】

１ 洗浄装置 ２ 洗浄容器（圧力容器） ３ 容器円筒 ４ 上蓋 ５ 下蓋 ７ 隔壁チャンバー ８ 収納容器 ９ 突起 １１ 流入口 １２ 排出口 １４ 流体導入路 １５ 流体排出路 １６ 流体主排出路 １７ 第１流体副排出路 １８ 第２流体副排出路 ２０ フランジ ２２ 仕切板（案内部） ２５ 分割体 Ｗ 半導体ウエハ（被洗浄体）

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 洗浄流体が流入排出可能な洗浄容器
   （２）内で半導体ウエハ等の被洗浄体（Ｗ）を前記洗浄
   流体によって洗浄する装置であって、 前記洗浄容器（２）内部には、被洗浄体（Ｗ）を複数収
   納する収納容器（８）が設けられ、 当該収納容器（８）には、収納容器（８）内部に洗浄流
   体を流入させるための流入口（１１）と、収納容器
   （８）外部に洗浄流体を排出させるための排出口（１
   ２）とが複数個設けられ、 各被洗浄体（Ｗ）の表面を流れる前記洗浄流体量がほぼ
   均一となるよう前記流入口（１１）及び排出口（１２）
   それぞれの開口面積及び／又は開口個数が被洗浄体の載
   置方向に異なるように形成されていることを特徴とする
   半導体ウエハ等の洗浄装置。
2. 【請求項２】 洗浄容器（２）内へ洗浄流体が流入する
   位置に近い流入口（１１）及び排出口（１２）ほど開口
   面積及び／又は開口個数が小とされ、洗浄容器（２）へ
   洗浄流体が流入する位置に遠い流入口（１１）及び排出
   口（１２）ほど開口面積及び／又は開口個数が大とされ
   ていることを特徴とする請求項１記載の半導体ウエハ等
   の洗浄装置。
3. 【請求項３】 前記洗浄容器（２）は、上部から洗浄流
   体が流入し、下部から排出され、 前記収納容器（８）には、上下方向に複数の被洗浄体
   （Ｗ）を収納可能とされ、前記流入口（１１）及び排出
   口（１２）は下方のものほど開口面積及び／又は開口個
   数が大とされていることを特徴とする請求項１又は２記
   載の半導体ウエハ等の洗浄装置。
4. 【請求項４】 前記洗浄容器（２）内部には、流入した
   前記洗浄流体を収納容器（８）の流入口（１１）側へ案
   内する案内部（２２）が設けられていることを特徴とす
   る請求項１〜３のいずれかに記載の半導体ウエハ等の洗
   浄装置。
5. 【請求項５】 前記洗浄容器（２）内部に流入した前記
   洗浄流体が、前記流入口（１１）から収納容器（８）内
   に流入して前記排出口（１２）から収納容器（８）外に
   排出された後、前記洗浄容器（２）外部に排出される１
   方向流通経路が洗浄容器（２）内部に形成されているこ
   とを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の半導体
   ウエハ等の洗浄装置。
6. 【請求項６】 前記収納容器（８）内面には、被洗浄体
   （Ｗ）を載置保持するための突起（９）が設けられてい
   ることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の半
   導体ウエハ等の洗浄装置。
7. 【請求項７】 前記収納容器（８）は、被洗浄体（Ｗ）
   の載置方向で分割された複数の分割体（２５ａ，２５
   ｂ）から構成されていることを特徴とする請求項１〜６
   のいずれかに記載の半導体ウエハ等の洗浄装置。
8. 【請求項８】 前記分割体（２５ａ，２５ｂ）はヒンジ
   によって結合され、当該ヒンジによって収納容器（８）
   が開閉自在とされていることを特徴とする請求項１〜７
   のいずれかに記載の半導体ウエハ等の洗浄装置。
9. 【請求項９】 前記洗浄容器（２）には、前記収納容器
   （８）の外側に位置する流体主排出路（１６）と、前記
   収納容器（８）の内側に位置する流体副排出路（１７）
   とが設けられていることを特徴とする請求項１〜８のい
   ずれかに記載の半導体ウエハ等の洗浄装置。
10. 【請求項１０】 前記洗浄容器（２）と前記収納容器
    （８）との間には、隔壁チャンバー（７）が設けられて
    いることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の
    半導体ウエハ等の洗浄装置。
11. 【請求項１１】 洗浄流体が流入排出可能な洗浄容器
    （２）内で半導体ウエハ等の被洗浄体（Ｗ）を前記洗浄
    流体によって洗浄する装置であって、 前記洗浄容器（２）内部には、被洗浄体（Ｗ）を複数収
    納する収納容器（８）が設けられ、 当該収納容器（８）には、収納容器（８）内部に洗浄流
    体を流入させるための流入口（１１）と、収納容器
    （８）外部に洗浄流体を排出させるための排出口（１
    ２）とが設けられ、 洗浄容器（２）内に流入した洗浄流体を前記流入口（１
    １）まで案内する第１案内通路と、前記排出口（１２）
    から排出された洗浄流体を洗浄容器（２）外に排出する
    ように案内する第２案内通路が洗浄容器（２）内に形成
    されていることを特徴とする半導体ウエハ等の洗浄装
    置。
12. 【請求項１２】 前記洗浄容器（２）と前記収納容器
    （８）との間には、隔壁チャンバー（７）が設けられ、
    当該隔壁チャンバー（７）内は前記第１案内通路となる
    空間と、前記第２案内通路となる空間とに仕切られてい
    ることを特徴とする請求項１１記載の半導体ウエハ等の
    洗浄装置。