JPH0935494A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JPH0935494A
JPH0935494A JP8010777A JP1077796A JPH0935494A JP H0935494 A JPH0935494 A JP H0935494A JP 8010777 A JP8010777 A JP 8010777A JP 1077796 A JP1077796 A JP 1077796A JP H0935494 A JPH0935494 A JP H0935494A
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克博 須磨
Yasuhiko Tsukikawa
靖彦 月川
Masaki Tsukide
正樹 築出
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    • G11C29/08Functional testing, e.g. testing during refresh, power-on self testing [POST] or distributed testing
    • G11C29/12Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details
    • G11C29/18Address generation devices; Devices for accessing memories, e.g. details of addressing circuits
    • G11C29/24Accessing extra cells, e.g. dummy cells or redundant cells

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  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Dram (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 置換前に冗長行および列のアクセスが可能な
DRAMを提供する。 【解決手段】 メモリセルアレイ100、冗長ロウメモ
リセルアレイ101、冗長カラムメモリセルアレイ10
2、冗長カラムロウメモリセルアレイ103を設ける。
制御信号/RAS、/CAS、/WE、アドレスキー信
号A1〜A5に応答して冗長ロウテスト活性化信号TE
ST1、冗長カラムテスト活性化信号/TEST2が活
性化される。冗長ロウテストモードでは、ロウアドレス
信号RAs1,RAs2に応答して冗長ワード線が選択
的に駆動される。冗長カラムテストモードでは、カラム
アドレス信号CAs1,CAs2に応答して冗長カラム
選択線が選択的に駆動される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は半導体記憶装置に
関し、さらに詳しくは、置換前にアクセス可能な冗長行
および列を有する半導体記憶装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体記憶装置の製造歩留りを向上させ
る技術として、冗長技術が知られている。この冗長技術
は、半導体チップ上に形成された多結晶ポリシリコンの
ヒューズ素子をレーザビームなどで溶断することにより
特定アドレスを冗長回路にプログラムし、これにより通
常メモリセルを冗長メモリセルに置換するものである。
【0003】しかしながら、近年の高集積化に伴って、
置換されるべき冗長メモリセルの中に不良が存在するた
め、製造された半導体記憶装置を良品として救済するこ
とができないという問題が発生するようになった。この
ような問題を解決する方法として、たとえば特公平4−
68719号公報には救済処理に先立って予め予備のメ
モリセルの検査が可能な半導体記憶装置の一例が開示さ
れている。
【0004】図31は、上記公報に開示された半導体記
憶装置の構成を示すブロック図である。図31を参照し
て、この半導体記憶装置は、複数のメモリセルを含む本
体メモリ1と、行アドレスARに応答してワード線WL
の1つを選択する行デコーダ3と、列アドレスACに応
答してビット線BLの1つを選択する列デコーダ5と、
本体メモリ1から読出されたデータを増幅するセンスア
ンプ6と、出力バッファ7とを備える。この半導体記憶
装置はさらに、複数の予備のメモリセルを含む予備メモ
リ2と、予備行イネーブル信号SPE1〜SPE4また
はテスト信号TEST1′〜TEST4′に応答して予
備メモリワード線SWLのつ1を選択する予備デコーダ
40と、置換アドレスがプログラム可能であって行アド
レスARがそのプログラムされた置換アドレスに一致す
るとき上記予備行イネーブル信号SPE1〜SPE4を
発生する不良アドレス検知回路80とを備える。
【0005】通常動作では、外部から与えられる行アド
レスARに応答して行デコーダ3がワード線WLの1つ
を選択する。これによりそのワード線に接続されたメモ
リセルからデータがビット線BL上に読出される。次い
で外部から与えられた列アドレスACに応答して列デコ
ーダ5がビット線BLの1つを選択する。これによりそ
のビット線上のデータがセンスアンプ6によって増幅さ
れ、さらに出力バッファ7を介して外部に出力される。
このような通常動作では、不良アドレス検知回路80は
不活性状態にあり、予備デコーダ40もまた不活性状態
にある。したがって、予備メモリワード線SWLは非選
択状態にある。
【0006】一方、予備メモリセルのアクセス動作で
は、不良メモリセルのアドレスがヒューズ素子を含む基
本回路81に予めプログラムされている。このような不
良アドレスが検知されたとき、基本回路81からの予備
行イネーブル信号SPE1〜SPE4がHレベルとな
り、これにより予備デコーダ40が活性化される。ま
た、これと同時に行デコーダ3は不活性化される。活性
化された予備デコーダ40は予備メモリワード線SWL
の1つを選択する。これによりその予備メモリワード線
SWLに接続された予備メモリセルからデータがビット
線BL上に読出される。次いで通常動作と同様に、外部
から与えられた列アドレスACに応答して列デコーダ5
がビット線BLの1つを選択し、その選択されたビット
線BL上のデータがセンスアンプ6によって増幅され、
さらに出力バッファ7を介して外部に出力される。
【0007】次に、この半導体記憶装置による予備メモ
リ2の検査方法について説明する。図32は、この半導
体記憶装置に用いられるテストモード検知回路を示す。
このテストモード検知回路は、アドレス信号が与えられ
る入力パッドPDと、入力パッドPDに与えられた信号
を反転して内部アドレスバックアップに供給するインバ
ータ36と、内部テスト信号生成用のインバータ37と
を備える。このインバータ37は、負荷用のPチャネル
MOSトランジスタ38と、駆動用のNチャネルフィー
ルドトランジスタ39とから構成される。Nチャネルフ
ィールドトランジスタ39のしきい値電圧は電源電圧V
ccよりも高い値(9V程度)に設定されている。
【0008】図33は、内部テスト信号TESTと行ア
ドレス信号の相補信号A0,/A0,A1,/A1に応
答して内部テスト信号TEST1′〜TEST4′を発
生するテスト信号デコーダ回路を示す。このような4つ
の相補信号A0,/A0,A1,/A1の組合せに従っ
て4つの予備メモリワード線SWL1〜SWL4が選択
的に駆動される。
【0009】図34は、図31中の基本回路81の構成
を示す。この基本回路81は、互いに並列に接続された
複数のNチャネルMOSトランジスタ12〜16と、各
々が対応するNチャネルMOSトランジスタと直列に接
続された複数のヒューズ素子18〜22と、これらヒュ
ーズ素子18〜22と共通に接続されたPチャネルMO
Sトランジスタ17とを備える。
【0010】予備メモリのテスト動作では、Nチャネル
フィールドトランジスタ39のしきい値電圧よりも高い
電圧(たとえば10V)が入力パッドPDに与えられ
る。これにより、インバータ37の出力信号(内部テス
ト信号/TEST)は低電位になる。この反転信号TE
STがテスト信号デコーダ回路に与えられ、これにより
アドレス信号A0,A1に応答してテスト信号TEST
1′〜TEST4′のうち1つが活性化される。
【0011】たとえば(A0,A1)=(1,1)のと
きは、テスト信号TEST1′がHレベルとなり、他の
テスト信号TEST2′〜TEST4′はLレベルのま
ま維持される。したがって、このような内部テスト信号
TEST1′〜TEST4′に応答して1つの予備メモ
リワード線SWL1が選択される。また、この内部テス
ト信号TEST1′〜TEST4′に応答して通常の行
デコーダ3は不活性化される。これ以降の動作は、予備
のメモリセルがアクセスされた場合と同様である。その
ため、このような半導体記憶装置によれば、ヒューズ素
子を溶断することなく、予備のメモリセルをテストする
ことができる。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の半導体記憶装置では、1つの予備メモリワード
線を選択する1つのORゲート41に対して1つの内部
テスト信号が必要であるため、そのための信号線が多数
必要である。したがって、その信号線のために広い領域
が必要とされるので、チップサイズが大きくなるという
問題がある。
【0013】また、予備行イネーブル信号SPE1〜S
PE4および内部テスト信号TEST1′〜TEST
4′が与えられるNORゲート82のサイズが大きくな
るという問題がある。仮にこのNORゲート82を分割
したとしても、選択されるべき予備のメモリセルが増加
するに従って論理ゲートの数が多くなるので、やはりチ
ップサイズが大きくなるという問題が生じる。
【0014】また、近年の高集積化された半導体記憶装
置(たとえば16MビットのダイナミックRAM)で
は、予備のメモリセルが行方向だけでなく列方向にも多
数配置されているので、このような構成では置換に先立
って単純に行および列の両方をアクセスすることはでき
ない。
【0015】特に、行および列の両方向に予備のメモリ
セルが設けられている場合は、冗長行および冗長列を同
時に置き換えるために冗長行および冗長列の交点に位置
する予備のメモリセルをテストする必要があるが、この
ような構成ではそのようなテストを行なうことができな
い。
【0016】また、図32のテストモード検知回路で
は、予備メモリのテストモード中の全期間にわたって入
力パッドPDに高電圧を与え続けなければならない。そ
のため、入力パッドPDは予備のメモリセルを選択する
ために使用するアドレスピンを使用できず、予備のメモ
リセルに対して個別に設けられる必要がある。
【0017】分割動作が可能な半導体記憶装置において
各メモリアレイブロックに上述した検知回路80が配置
されたとすると、動作させるためのメモリアレイブロッ
クを選択するアドレスをも用いて予備のメモリセルのた
めの機能テストを行なわなければならない。そのため、
ブロック選択のために使用するアドレスと予備のメモリ
セルのためのアドレスとの関係を考慮する必要がある。
【0018】それゆえに、この発明の目的は、置換に先
立ってアクセス可能な冗長行および冗長列を有する半導
体記憶装置を提供することである。
【0019】この発明の他の目的は、制御信号の特殊な
組合せに応答して冗長行および冗長列をテストするモー
ドを有する半導体記憶装置を提供することである。
【0020】この発明のさらに他の目的は、マルチビッ
トテストの可能な冗長行および冗長列を有する半導体記
憶装置を提供することである。
【0021】置換に先立ってアクセス可能な冗長行を有
する半導体記憶装置をチップ面積の増大を抑えて実現す
ることである。
【0022】この発明のさらに他の目的は、置換に先立
ってアクセス可能な冗長列を有する半導体記憶装置をチ
ップ面積の増大を抑えて実現することである。
【0023】
【課題を解決するための手段】請求項1に係る半導体記
憶装置は、複数の通常ワード線、上記通常ワード線に交
差して配置される複数の通常ビット線対、上記通常ワー
ド線と上記通常ビット線対との交点に対応して配置され
る複数の通常メモリセル、外部から与えられる行アドレ
ス信号に応答して上記通常ワード線のいずれかを選択す
る通常行選択手段、外部から与えられる列アドレス信号
に応答して上記通常ビット線対のいずれかを選択する通
常列選択手段、上記通常ビット線対に交差して配置され
る冗長ワード線、上記通常ワード線と上記冗長ワード線
とに交差して配置される冗長ビット線対、上記冗長ワー
ド線と上記通常ビット線対との交点に対応して配置され
る複数の冗長行メモリセル、上記冗長ビット線対と上記
通常ワード線との交点に対応して配置される複数の冗長
列メモリセル、上記冗長ワード線と上記冗長ビット線対
との交点に対応して配置される冗長行列メモリセル、上
記冗長ワード線を選択する冗長行選択手段、上記通常行
選択手段に与えられるべき行アドレス信号が予め定めら
れた行置換アドレスを示すとき上記通常行選択手段を不
活性化するとともに上記冗長行選択手段を活性化する行
置換手段、予め定められた行テスト信号に応答して上記
通常行選択手段を不活性化するとともに上記冗長行選択
手段を活性化するよう上記行置換手段を強制的に制御す
る行置換制御手段、上記冗長ビット線対を選択する冗長
列選択手段、上記通常列選択手段に与えられるべき列ア
ドレス信号が予め定められた列置換アドレスを示すとき
上記通常列選択手段を不活性化するとともに上記冗長列
選択手段を活性化する列置換手段、および予め定められ
た列テスト信号に応答して上記通常列選択手段を不活性
化するとともに上記冗長列選択手段を活性化するよう上
記列置換手段を強制的に制御する列置換制御手段を備え
る。
【0024】請求項2に係る半導体記憶装置は、上記請
求項1の構成に加えて、外部から与えられる制御信号に
応答して上記行テスト信号および/または上記列テスト
信号を発生するテスト信号発生手段をさらに備える。
【0025】請求項3に係る半導体記憶装置は、上記請
求項2の構成に加えて、1つの行アドレス信号と1つの
列アドレス信号に応答して、上記通常メモリセルのいず
れかから複数のデータを複数のデータを並列的に読出す
並列読出手段、および予め定められたマルチビットテス
ト信号に応答して上記並列読出手段によって読出された
データのすべてが互いに一致するか否かを検出し、上記
データのすべてが互いに一致するとき第1の値を示し上
記データの1つが他のデータと一致しないとき上記第1
の値と異なる第2の値を示す一致/不一致検出信号を発
生する一致/不一致検出手段をさらに備え、上記テスト
信号発生手段はさらに、外部から与えられる制御信号に
応答して上記マルチビットテスト信号を発生する。
【0026】請求項4に係る半導体記憶装置は、複数の
ブロック、通常ワード線選択手段、第1のプログラム手
段、第1の検知手段、第1の行置換制御手段、第2のプ
ログラム手段、第2の検知手段、第2の行置換制御手
段、冗長ワード線選択手段、および不活性化手段を備え
る。上記複数のブロックの各々は、複数の通常ワード
線、複数の通常行デコーダ、第1および第2の冗長ワー
ド線、冗長行デコーダ、複数のビット線対、複数の通常
メモリセル、ならびに複数の冗長メモリセルを含む。複
数の通常行デコーダの各々は、上記複数の通常ワード線
のうち第1の数の通常ワード線に対応して設けられ、対
応する第1の数の通常ワード線に対応して与えられる第
1の数の通常ワード線駆動信号に応答して対応する第1
の数の通常ワード線を選択的に駆動する。上記冗長行デ
コーダ、上記第1および第2の冗長ワード線に対応して
設けられ、第1の冗長ワード線駆動信号に応答して第1
の冗長ワード線を駆動し、第2の冗長ワード線駆動信号
に応答して第2の冗長ワード線を駆動する。上記複数の
ビット線対は上記複数の通常ワード線と上記第1および
第2の冗長ワード線とに交差して配置される。上記複数
の通常メモリセルは、上記通常ワード線と上記ビット線
対との交点に対応して配置される。複数の冗長メモリセ
ルは上記第1および第2の冗長ワード線と上記ビット線
対との交点に対応して配置される。上記通常ワード線選
択手段は、外部から与えられ行アドレス信号に応答して
上記複数のブロックにおける通常行デコーダの各々に上
記第1の数の通常ワード線駆動信号を供給する。上記第
のプログラム手段には第1の行置換アドレスがプログラ
ム可能である。上記第1の検知手段は、上記行アドレス
信号が上記第1のプログラム手段にプログラムされた上
記第1の行置換アドレスに一致するか否かを検知し、一
致するとき第1の冗長行活性化信号を発生する。上記第
1の行置換制御手段は、予め定められた行テスト信号と
上記行アドレス信号とに応答して上記第1の冗長行活性
化信号を発生するよう上記第1の検知手段を強制的に制
御する。上記第2のプログラム手段には第2の行置換ア
ドレスがプログラム可能である。上記第2の検知手段
は、上記行アドレス信号が上記第2のプログラム手段に
プログラムされた上記第2の行置換アドレスに一致する
か否かを検知し、一致するとき第2の冗長行活性化信号
を発生する。上記第2の行置換制御手段は、上記行テス
ト信号と上記行アドレス信号とに応答して上記第2の冗
長行活性化信号を発生するよう上記第2の検知手段を強
制的に制御する。冗長ワード線選択手段は、上記第1の
検知手段から与えられる上記第1の冗長行活性化信号に
応答して上記複数のブロックにおける冗長行デコーダの
各々に上記第1の冗長ワード線駆動信号を供給し、上記
第2の検知手段から与えられる上記第2の冗長行活性化
信号に応答して上記複数のブロックにおける冗長行デコ
ーダの各々に上記第2の冗長ワード線駆動信号を供給す
る。上記不活性化手段は、上記第1および第2の冗長行
活性化信号のいずれかに応答して上記通常ワード線選択
手段を不活性化する。
【0027】請求項5に係る半導体記憶装置は、複数の
ブロック、複数の通常列選択線、第1の冗長列選択線、
第2の冗長列選択線、通常列選択手段、第1のプログラ
ム手段、第1の検知手段、第1の列置換制御手段、第2
のプログラム手段、第2の検知手段、第2の列置換制御
手段、冗長列選択手段、および不活性化手段を備える。
上記複数のブロックの各々は、複数のワード線、複数の
通常ビット線対、複数の通常メモリセル、複数の通常列
選択ゲート対、第1および第2の冗長ビット線対、複数
の冗長メモリセル、第1の冗長列選択ゲート対、および
第2の冗長列選択ゲート対を含む。上記複数の通常ビッ
ト線対は上記ワード線に交差して配置される。上記複数
の通常メモリセルは上記ワード線と上記通常ビット線対
との交点に対応して配置される。上記複数の通常の列選
択ゲート対は上記通常ビット線対に対応して設けられ
る。通常列選択ゲート対の各々は対応する通常ビット線
対に接続される。上記第1および第2の冗長ビット線対
は上記ワード線に交差して配置される。上記複数の冗長
メモリセルは上記ワード線と上記第1および第2の冗長
ビット線対との交点に対応して配置される。上記第1の
冗長列選択ゲート対は上記第1の冗長ビット線対に接続
される。上記第2の冗長列選択ゲート対は上記第2の冗
長ビット線対に接続される。上記複数の通常列選択線は
上記複数の通常列選択ゲート対に対応して設けられる。
通常列選択線の各々は対応する複数のブロックにおける
通常列選択ゲート対の各々の制御電極に接続される。上
記第1の冗長列選択線は上記複数のブロックにおける第
1の冗長列選択ゲート対の各々の制御電極に接続され
る。上記第2の冗長列選択線は上記複数のブロックにお
ける第2の冗長列選択ゲート対の各々の制御電極に接続
される。通常列選択手段は外部から与えられる列アドレ
ス信号に応答して上記通常列選択線のいずれかを選択す
る。上記第1のプログラム手段には第1の列置換アドレ
スがプログラム可能である。上記第1のプログラム手段
は外部から与えられる列アドレス信号が上記第1の列置
換アドレスに一致するとき第1の一致信号を発生する。
上記第1の検知手段は上記第1のプログラム手段から与
えられる第1の一致信号に応答して第1の冗長列活性化
信号を発生する。上記第1の列置換制御手段は、予め定
められた列テスト信号と上記列アドレス信号とに応答し
て上記第1の冗長列活性化信号を発生するよう上記第1
の検知手段を強制的に制御する。上記第2のプログラム
手段には第2の列置換アドレスがプログラム可能であ
る。上記第2のプログラム手段は、上記列アドレス信号
が上記第2の列置換アドレスに一致するとき第2の一致
信号を発生する。上記第2の検知手段は、上記第2のプ
ログラム手段から与えられる第2の一致信号に応答して
第2の冗長列活性化信号を発生する。第2の列置換制御
手段は、上記列テスト信号と上記列アドレス信号とに応
答して上記第2の冗長列活性化信号を発生するよう上記
第2の検知手段を強制的に制御する。上記冗長列選択手
段は、上記第1の検知手段から与えられる第1の冗長列
活性化信号に応答して上記第1の冗長列選択線を選択
し、上記第2の検知手段から与えられる第2の冗長列活
性化信号に応答して上記第2の冗列選択線を選択する。
活性化手段は、上記第1および第2の一致信号ならびに
上記列テスト信号のいずれかに応答して上記通常列選択
手段を不活性化する。
【0028】請求項6に係る半導体記憶装置は、複数の
ブロック、通常ワード線選択手段、切換パッド、第1の
プログラム手段、第1の検知手段、第1の行置換制御手
段、第2のプログラム手段、第2の検知手段、第2の行
置換制御手段、冗長ワード線選択手段、および不活性化
手段を備える。上記複数のブロックの各々は上記請求項
4と同様に構成される。上記通常ワード線選択手段、第
1のプログラム手段第1の検知手段、第2のプログラム
手段、第2の検知手段、冗長ワード線選択手段、および
活性化手段もまた、上記請求項4と同様の機能を有す
る。ただし、上記第1の行置換制御手段は、予め定めら
れた行テスト信号と上記切換パッドの第1の電位とに応
答して上記第1の冗長行活性化信号を発生するよう上記
第1の検知手段を強制的に制御する。上記第2行置換制
御手段は、上記行テスト信号と上記切換パッドの上記第
1の電位と異なる第2の電位とに応答して上記第2の冗
長行活性化信号を発生するよう上記第2の検知手段を強
制的に制御する。
【0029】請求項7に係る半導体記憶装置は、複数の
ブロック、複数の通常列選択線、第1の冗長列選択線、
第2の冗長列選択線、通常列選択手段、切換パッド、第
1のプログラム手段、第1の検知手段、第1の列置換制
御手段、第2のプログラム手段、第2の検知手段、第2
の列置換制御手段、冗長列選択手段、および不活性化手
段を備える。ブロックの各々は上記請求項5と同様に構
成される。上記複数の通常列選択線、第1の冗長列選択
線、第2の冗長列選択線、通常列選択手段、第1のプロ
グラム手段、第1検知手段、第2のプログラム手段、第
2の検知手段、冗長列選択手段、および不活性化手段
は、上記請求項5と同様の機能を有する。ただし、上記
第1の列置換制御手段は、予め定められた列テスト信号
と上記切換パッドの第1の電位とに応答して上記第1の
冗長列活性化信号を発生するよう上記第1の検知手段を
強制的に制御する。上記第2の列置換制御手段は、上記
列テスト信号と上記切換パッドの上記第1の電位と異な
る第2の電位とに応答して上記第2の冗長列活性化信号
を発生するよう上記第2の検知手段を強制的に制御す
る。
【0030】請求項1に係る半導体記憶装置は、3つの
テストモードを有する。第1のテストモードでは、行テ
スト信号に応答して通常行選択手段が不活性化されると
ともに冗長行選択手段が活性化されるので、置換に先立
って冗長行メモリセルのアクセスが可能である。第2の
テストモードでは、列テスト信号に応答して通常列選択
手段が不活性化されるとともに冗長列選択手段が活性化
されるので、置換に先立って冗長列メモリセルのアクセ
スが可能である。第3のテストモードでは、行テスト信
号に応答して通常行選択手段が不活性化されるとともに
冗長行選択手段が活性化され、かつ列テスト信号に応答
して通常列選択手段が不活性化されるとともに冗長列選
択手段が活性化されるので、置換に先立って冗長行列メ
モリセルのアクセスが可能である。
【0031】請求項2に係る半導体記憶装置において
は、上記請求項1の作用に加えて、行アドレスストロー
ブ信号、列アドレスストローブ信号、書込イネーブル信
号、アドレスキー信号などの制御信号に応答して行テス
ト信号および列テスト信号の一方または双方が内部的に
生成されるので、モールドされた半導体記憶装置であっ
も冗長行および冗長列の機能テストが可能である。
【0032】請求項3に係る半導体記憶装置において
は、上記請求項2の作用に加えて、1つの行アドレス信
号と1つの列アドレス信号に応答して複数のデータが並
列的に読出され、さらにその読出されたデータのすべて
が互いに一致するか否かが検出されるので、冗長行およ
び冗長列のマルチビットテストが可能である。
【0033】請求項4に係る半導体記憶装置において
は、行テスト信号と行アドレス信号とに応答して第1ま
たは第2の冗長行活性化信号が生成され、これにより通
常ワード線選択手段が不活性化されるとともに第1およ
び第2の冗長ワード線が選択的に駆動される。このよう
に冗長行は2系統に集約され、かつプログラムされてい
る行アドレスに応答して通常行と置換されるので、多数
の信号線が必要とされず、チップ面積の増大が抑えられ
る。
【0034】請求項5に係る半導体記憶装置において
は、列テスト信号と列アドレス信号とに応答して第1ま
たは第2の冗長列活性化信号が生成され、これにより通
常列選択手段が不活性化されるとともに第1または第2
の冗長列選択線が選択される。このように冗長列が2系
統に集約され、かつプログラムされている列アドレスに
応答して通常列と置換されるので、多数の信号線が必要
とされず、チップ面積の増大が抑えられる。
【0035】請求項6に係る半導体記憶装置において
は、行テスト信号と切換パッドの電位とに応答して第1
または第2の冗長行活性化信号が生成され、これにより
通常ワード線選択手段が不活性化されるとともに第1お
よび第2の冗長ワード線が選択的に駆動される。したが
って、チップ面積の増大が抑えられるとともに、切換パ
ッドによって冗長行が通常行と置換され得る。
【0036】請求項7に係る半導体記憶装置において
は、列テスト信号と切換パッドとの電位とに応答して第
1または第2の冗長列活性化信号が生成され、これによ
り通常列選択手段が不活性化されるとともに第1または
第2の冗長列選択線が選択される。したがって、チップ
面積の増大が抑えられるとともに、切換パッドによって
冗長列が通常列と置換され得る。
【0037】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面を参照して詳しく説明する。なお、図中同一符号は同
一または相当部分を示す。
【0038】[実施の形態1] (1) 半導体記憶装置の全体構成(図1) 図1は、この発明の実施の形態1による半導体記憶装置
の全体構成を示すブロック図である。図1を参照して、
この半導体記憶装置は、複数の通常メモリセル(以下、
単に「メモリセル」というときは「通常メモリセル」を
表わす)を含む通常メモリセルアレイ(以下、単に「メ
モリセルアレイ」というときは「通常メモリセルアレ
イ」を表わす)100と、複数の冗長ロウメモリセルを
含む冗長ロウメモリセルアレイ101と、複数の冗長カ
ラムメモリセルを含む冗長カラムメモリセルアレイ10
2と、複数の冗長カラムロウメモリセルを含む冗長カラ
ムロウメモリセルアレイ103とを備える。また、メモ
リセルアレイ100および冗長カラムメモリセルアレイ
102にわたって複数の通常ワード線(以下、単に「ワ
ード線」というときは「通常ワード線」を表わす)WL
0〜WLnが配置され、冗長ロウメモリセルアレイ10
1および冗長カラムロウメモリセルアレイ103にわた
って複数の冗長ワード線SWL0〜SWLmが配置され
ている。他方、メモリセルアレイ100および冗長ロウ
メモリセルアレイ101にわたって複数のカラム選択線
CSL0〜CSLjが配置され、冗長カラムメモリセル
アレイ102および冗長カラムロウメモリセルアレイ1
03にわたって複数の冗長カラム選択線SCSL0〜S
CSLiが配置されている。
【0039】この半導体記憶装置はさらに、メモリセル
アレイ100および冗長ロウメモリセルアレイ101か
ら読出されたデータを増幅するとともにデータの入出力
を制御するセンスリフレッシュアンプ入出力制御回路1
04と、冗長カラムメモリセルアレイ102および冗長
カラムロウメモリセルアレイ103から読出されたデー
タを増幅するとともにデータの入出力を制御する冗長セ
ンスリフレッシュアンプ入出力制御回路105とを備え
る。
【0040】この半導体記憶装置はさらに、内部ロウア
ドレス信号RA0〜RApおよびその相補的な信号/R
A0〜/RApに応答してワード線WL0〜WLnのう
ちいずれかを選択するロウデコーダ106と、ワード線
WL0〜WLnのいずれかに不良が存在するときかある
いは冗長ロウの機能がテストされるときかに冗長ワード
線SWL0〜SWLmのうちいずれかを選択する冗長ロ
ウデコーダ107を備える。
【0041】この半導体記憶装置はさらに、内部カラム
アドレス信号CA0〜CAqおよびその相補的な信号/
CA0〜/CAqに応答してカラム選択線CSL0〜C
SLjのうちいずれかを選択するカラムデコーダ108
と、カラム選択線CSL0〜CSLjのいずれかに不良
が存在するときかあるいは冗長カラムの機能がテストさ
れるときかに冗長カラム選択線SCSL0〜SCSLi
のいずれかを選択する冗長カラムデコーダ109とを備
える。
【0042】この半導体記憶装置はさらに、外部から与
えられたアドレス信号A0〜Apに応答して内部ロウア
ドレス信号RA0〜RAp,/RA0〜/RApをロウ
デコーダ106および冗長ロウデコーダ107に供給す
るとともに、内部カラムアドレス信号CA0〜CAq,
/CA0〜/CAqをカラムデコーダ108および冗長
カラムデコーダ109に供給するロウおよびカラムアド
レスバッファ110と、ロウアドレスストローブ信号/
RASおよびカラムアドレスストローブ信号/CASに
応答して種々の内部制御信号を発生するクロック発生回
路111と、書込イネーブル信号/WEを受ける論理ゲ
ート117と、この論理ゲート117の出力信号に応答
して外部から与えられたデータDQ0〜DQrをセンス
リフレッシュアンプ入出力制御回路104および冗長セ
ンスリフレッシュアンプ入出力制御回路105に供給す
る入力バッファ114と、この論理ゲート117の出力
信号および出力イネーブル信号/OEに応答してセンス
リフレッシュアンプ入出力制御回路104および冗長セ
ンスリフレッシュアンプ入出力制御回路105から外部
にデータを出力する出力バッファ115と、JEDEC
標準のマルチビットテストを行なうためのデータ縮退回
路116とを備える。
【0043】そしてこの発明の特徴として、この半導体
記憶装置はさらに、ロウアドレスストローブ信号/RA
S、カラムアドレスストローブ信号/CAS、書込イネ
ーブル信号/WE、外部アドレス信号A1,A2、およ
びテスト用のアドレスキー信号TA3〜TA5に応答し
て、冗長ロウテスト活性化信号TEST1、冗長カラム
テスト活性化信号/TEST2、およびマルチビットテ
スト活性化信号TMBを選択的に発生するテストモード
制御回路112と、冗長ロウテスト活性化信号TEST
1、冗長カラムテスト活性化信号/TEST2、補助ロ
ウアドレス信号RAs1,RAs2、および補助カラム
アドレス信号CAs1,CAs2に応答して、冗長ロウ
デコーダ活性化信号SRF0,SRF1、冗長カラムデ
コーダ活性化信号SCE0〜SCEiを発生する冗長メ
モリ制御回路113とを備える。ここで、外部アドレス
信号A1およびA2は直接テストモード制御回路112
に与えられる。また、ロウおよびカラムアドレスバッフ
ァ110は、外部アドレス信号A3〜A5(図示せず)
に応答してテストモードを選択するためのアドレスキー
信号TA3〜TA5をテストモード制御回路112に供
給する。冗長メモリ制御回路113は、従来通り置換ア
ドレスがプログラム可能なプログラム回路およびそのア
ドレス検知回路を含むとともに、新たに冗長ロウテスト
活性化信号TEST1が与えられたとき補助ロウアドレ
ス信号RAs1,RAs2に応答して冗長ロウデコーダ
活性化信号SRF0およびSRF1を選択的に活性化
し、さらに冗長カラムテスト活性化信号/TEST2が
与えられたとき補助カラムアドレス信号CAs1,CA
s2に応答して冗長カラムデコーダ活性化信号SCE0
〜SCEiを選択的に活性化する。
【0044】(2) テストモード制御回路(図2) 図2は、図1中のテストモード制御回路112の構成を
示すブロック図である。図2を参照して、このテストモ
ード制御回路112は、外部から与えられたロウアドレ
スストローブ信号/RAS、カラムアドレスストローブ
信号/CAS、および書込イネーブル信号/WEの所定
タイミングを検出し、テストモード活性化信号FE、ア
ドレスキーラッチ制御信号FSE、およびテストモード
リセット信号/FRを発生する外部クロック検出回路1
22と、これらの信号FE、FSEおよび/FRに応答
してアドレスピンA1およびA2の状態を検出し、特殊
テストグループ信号/TGAおよび/TGBを発生する
テストグループ検出回路120と、信号FSEおよび/
FRに応答してアドレスキー信号TA3〜TA5をラッ
チするアドレスキーラッチ回路121と、そのラッチさ
れた信号LV3,LV4,HV3,HV4をプリデコー
ドするアドレスキープリデコーダ123と、特殊テスト
グループ信号/TGA,/TGB、アドレスキープリデ
コーダ123からのアドレスキープリデコード信号H3
H4,H3L4,L3H4,L3L4、およびアドレス
キーラッチ回路121にラッチされた信号HV5をデコ
ードし、これにより冗長ロウテスト活性化信号TEST
1、冗長カラムテスト活性化信号/TEST2、および
マルチビットテスト活性化信号TMBを発生する特殊テ
ストモードクロックデコーダ128とを備える。
【0045】ここで、テストグループ検出回路120
は、アドレスピンA1,A2に与えられる電圧がHレベ
ルであるか、Lレベルであるか、あるいはスーパーHレ
ベル(スーパーHレベルは通常のHレベルよりも高い)
であるかを検知し、これによりテストグループ信号/T
GAおよび/TGBを出力する。アドレスキーラッチ回
路121は、アドレスキー信号TA3〜TA5に対応す
るアドレスピンに与えられる電圧がHレベルであるか、
あるいはLレベルであるかを検知し、その電圧がHレベ
ルであるときHレベルのアドレスキーラッチ信号HV3
〜HV5を出力するとともに、その電圧がLレベルであ
るときHレベルのアドレスキーラッチ信号LV3〜LV
5を出力する。アドレスキープリデコーダ123は4つ
のNORゲート124〜127を備え、アドレスキーラ
ッチ信号HV3,HV4,LV3,LV4に応答してア
ドレスキープリデコード信号H3H4,H3L4,L3
H4,L3L4を出力する。たとえばプリデコード信号
H3H4は、アドレスキーラッチ信号HV3がHレベル
でありかつアドレスキーラッチ信号HV4がHレベルで
あるときHレベルとなる。アドレスキープリデコーダ1
23では相補的なアドレスキーラッチ信号LV3,HV
3またはLV4,HV4が使用されているので、1つの
NORゲートが1つのプリデコード信号を生成する。
【0046】(2.1) 外部クロック検出回路(図
3) 図3は、図2中の外部クロック検出回路の構成を示す回
路図である。この外部クロック検出回路122は、マル
チビットテストモードのセットタイミングであるWCB
R(/WE,/CASビフォア/RAS)タイミング
と、リセットタイミングであるROR(/RASオンリ
リフレッシュ)またはCBR(/CASビフォア/RA
S)リフレッシュタイミングを検出する。
【0047】図3を参照して、この外部クロック検出回
路122は、遅延回路1221aと、NANDゲート1
221ba、インバータ1221bbおよび1221b
cを有するクロックトインバータ制御回路1221b
と、WBR(/WEビフォア/RAS)検出回路122
1cとを備える。遅延回路1221aは、ロウアドレス
ストローブ信号/RASの遅延信号D/RASを出力す
る。クロックトインバータ制御回路1221bは、ロウ
アドレスストローブ信号/RASがLレベルに立下がっ
てから、遅延信号D/RASがロウアドレスストローブ
信号/RASから遅れてHレベルに立ち上がるまでLレ
ベルとなるクロックトインバータ制御信号CLCおよび
その反転信号/CLCを出力する。NANDゲート12
21baは、ロウアドレスストローブ信号/RASおよ
び遅延信号D/RASがともにHレベルになるとLレベ
ルの信号を出力する。WBR検出回路1221cは、書
込イネーブル信号/WE、クロックトインバータ制御信
号CLCおよび/CLCを受け、書込イネーブル信号/
WEが先にLレベルとなって、ロウアドレスストローブ
信号/RASがLレベルになるとLレベルとなるWBR
検出信号/WBRを出力する。このWBR検出回路12
21cは、クロックトインバータ制御信号CLCおよび
/CLCがそれぞれHレベルおよびLレベルのとき、W
BR検出信号/WBRを書込イネーブル信号/WEと同
じ論理とし、クロックトインバータ制御信号CLCおよ
び/CLCがそれぞれLレベルおよびHレベルになる
と、その時点でのWBR検出信号/WBRを保持する。
【0048】この外部クロック検出回路122はさら
に、コラムアドレスストローブ信号/CAS、クロック
トインバータ制御信号CLCおよび/CLCを受け、コ
ラムアドレスストローブ信号/CASが先にLレベルと
なって、ロウアドレスストローブ信号/RASがLレベ
ルになるとLレベルとなるCBR検出信号/CBRを出
力するCBR検出回路1221dを備える。このCBR
検出回路1221dは、クロックトインバータ1221
da、インバータ1221dbおよびクロックトインバ
ータ1221dcを有する。このCBR検出回路122
1dは、クロックトインバータ制御信号CLCおよび/
CLCがそれぞれHレベルおよびLレベルのとき、CB
R検出信号/CBRを書込イネーブル信号/WEと同じ
論理とし、クロックトインバータ制御信号CLCおよび
/CLCがそれぞれLレベルおよびHレベルになると、
その時点でのCBR検出信号/CBRを保持する。
【0049】この外部クロック検出回路122はさら
に、ロウアドレスストローブ信号/RAS、その遅延信
号D/RAS、WBR検出信号/WBRおよびCBR検
出信号/CBRを受け、WCBRタイミング検出信号W
CBRを出力するWCBRタイミング検出回路1221
eを備える。このWCBRタイミング検出回路1221
eは、ロウアドレスストローブ信号/RASおよびその
遅延信号D/RASが共にLレベルのときHレベルの信
号を出力するNORゲート1221eaと、インバータ
1221ebと、NANDゲート1221ecと、NO
Rゲート1221edとを有する。したがって、このW
CBRタイミング検出回路1221eは、WBR検出回
路/WBRおよびCBR検出信号/CBRがLレベル、
つまりロウアドレスストローブ信号/RAS、カラムア
ドレスストローブ信号/CASおよび書込イネーブル信
号/WEがWCBRタイミングで入力されると、遅延信
号D/RASがロウアドレスストローブ信号/RASに
続いてLレベルになったのに応じてHレベルにセットさ
れ、ロウアドレスストローブ信号/RASがHレベルに
立上がるとLレベルにリセットされるWCBRタイミン
グ検出信号WCBRを出力する。
【0050】この外部クロック検出回路122はさら
に、ロウアドレスストローブ信号/RAS、その遅延信
号D/RAS、カラムアドレスストローブ信号/CA
S、WBR検出信号/WBRおよびCBR検出信号/C
BRを受け、リセットタイミング検出信号/RSTを出
力するリセットタイミング検出回路1221fを備え
る。このリセットタイミング検出信号/RSTは、ロウ
アドレスストローブ信号/RAS、カラムアドレススト
ローブ信号/CASおよび書込イネーブル信号/WEが
CBRリフレッシュタイミングで入力されてWBR検出
信号/WBRがHレベルでかつCBR検出信号/CBR
がLレベルになるか、またはロウアドレスストローブ信
号/RASおよびカラムアドレスストローブ信号/CA
SがROPタイミングで入力されると、ロウアドレスス
トローブ信号/RASがHレベルに立上がってから所定
期間Lレベルとなる。
【0051】このリセットタイミング検出回路1221
fは、ロウアドレスストローブ信号/RAS、その遅延
信号D/RAS、WBR検出信号/WBRおよびCBR
検出信号/CBRを受け、CBRリフレッシュタイミン
グ検出信号CBRRを出力するCBRリフレッシュタイ
ミング検出回路1221gを有する。このCBRリフレ
ッシュタイミング検出信号CBRRは、ロウアドレスス
トローブ信号/RAS、カラムアドレスストローブ信号
/CASおよび書込イネーブル信号/WEがCBRリフ
レッシュタイミングで入力されてWBR検出信号/WB
RがHレベルでかつCBR検出信号/CBRがLレベル
になると、ロウアドレスストローブ信号/RASがLレ
ベルに立下がってから所定期間Hレベルになる。このC
BRリフレッシュタイミング検出回路1221gは、イ
ンバータ1221ga、NORゲート1221gb、イ
ンバータ1221gc、NORゲート1221gd、N
ORゲート1221ge、NORゲート1221gfお
よびNORゲート1221ggを有する。NORゲート
1221geおよび1221gfはフリップフロップ回
路を構成する。
【0052】このリセットタイミング検出回路1221
fはさらに、RORリフレッシュタイミング検出回路1
221hと、NORゲート1221faとを有する。こ
のRORリフレッシュタイミング検出回路1221h
は、インバータ1221ha、NANDゲート1221
hb、NORゲート1221hc、NORゲート122
1hd、NORゲート1221he、インバータ122
1hfおよびNORゲート1221hgを有する。NO
Rゲート1221hdおよび1221heはフリップフ
ロップ回路を構成する。RORリフレッシュタイミング
検出回路1221hは、ロウアドレスストローブ信号/
RAS、その遅延信号D/RASおよびカラムアドレス
ストローブ信号/CASを受け、RORタイミング検出
信号RORを出力する。このRORタイミング検出信号
RORは、ロウアドレスストローブ信号/RASおよび
カラムアドレスストローブ信号/CASがRORタイミ
ングで入力されると、ロウアドレスストローブ信号/R
ASがHレベルに立上がってから所定期間Hレベルにな
る。また、NORゲート1221faは、CBRリフレ
ッシュタイミング検出信号CBRRおよびRORタイミ
ング検出信号RORを受け、リセットタイミング検出信
号/RSTを出力する。このリセットタイミング検出信
号/RSTは、CBRリフレッシュタイミング検出信号
CBRRおよびRORタイミング検出信号RORのうち
少なくとも一方がHレベルであると、Lレベルとなる。
【0053】この外部クロック検出回路122はさら
に、WCBRタイミング検出信号WCBRおよびリセッ
トタイミング検出信号/RSTを受け、タイミング検出
信号TDAを出力するセット/リセット回路1221i
を備える。このセット/リセット回路1221iは、イ
ンバータ1221ia、NANDゲート1221ibお
よびNANDゲート1221icを有する。NANDゲ
ート1221ibおよび1221icはフリップフロッ
プ回路を構成する。したがって、ロウアドレスストロー
ブ信号/RAS、カラムアドレスストローブ信号/CA
Sおよび書込イネーブル信号/WEがWCBRタイミン
グで入力されてWCBRタイミング検出信号WCBRが
Hレベルでリセットタイミング検出信号/RSTがHレ
ベルになると、タイミング検出信号TDAはHレベルに
セットされる。他方、ロウアドレスストローブ信号/R
AS、カラムアドレスストローブ信号/CASおよび書
込イネーブル信号/WEがCBRリフレッシュタイミン
グまたはRORタイミングで入力されて、ロウアドレス
ストローブ信号/RASのHレベルへの立上がりでWC
BRタイミング検出信号WCBRがLレベルでリセット
タイミング検出信号/RSTがLレベルになると、タイ
ミング検出信号TDAはLレベルにリセットされる。
【0054】この外部クロック検出回路122はさら
に、タイミング検出信号TDA、クロックトインバータ
制御信号CLCおよび/CLCを受け、タイミング検出
ラッチ信号LTDAを出力するタイミング検出信号ラッ
チ回路1221jを備える。このタイミング検出ラッチ
回路1221jは、クロックトインバータ1221j
a、インバータ1221jbおよびクロックトインバー
タ1221jcを有する。したがって、クロックトイン
バータ制御信号CLCおよび/CLCがそれぞれHレベ
ルおよびLレベルのとき、タイミング検出ラッチ信号L
TDAはタイミング検出信号TDAと同じ論理となる。
他方、クロックトインバータ制御信号CLCおよび/C
LCがそれぞれLレベルおよびHレベルになると、その
時点でのタイミング検出ラッチ信号LTDAが保持され
る。
【0055】この外部クロック検出回路122はさら
に、ロウアドレスストローブ信号/RASを受け、パル
ス信号/FSEXを出力するパルス発生回路1221k
を備える。このパルス発生回路1221kは、遅延回路
1221ka、インバータ1221kb、遅延回路12
21kcおよびNANDゲート1221kdを有する。
したがって、ロウアドレスストローブ信号/RASがL
レベルに立下がってから所定時間経過後、パルス信号/
FSEXは所定時間だけLレベルに立下がる。
【0056】この外部クロック検出回路122はさら
に、タイミング検出信号TDA、タイミング検出ラッチ
信号LTDAおよびパルス信号/FSEXを受け、テス
トモードリセット信号/FR、アドレスキーラッチ制御
信号FSEおよびテストモード活性化信号FEを出力す
るタイミング検出信号発生回路1221mを備える。こ
のタイミング検出信号発生回路1221mは、インバー
タ1221ma、1221mb、NANDゲート122
1mc、インバータ1221md、1221meおよび
1221mfを有する。したがって、テストモードリセ
ット信号/FRは、タイミング検出信号TDAの反転信
号である。アドレスキーラッチ制御信号FSEは、タイ
ミング検出信号TDAがHレベル、パルス信号/FSE
XがLレベル、タイミング検出ラッチ信号LTDAがL
レベルであると、Hレベルとなる。テストモード活性化
信号FEは、タイミング検出ラッチ信号LTDAと同じ
論理である。
【0057】図4は、WCBRタイミングでの外部クロ
ック検出回路122のセット動作を示すタイミングチャ
ートである。図5は、CBRリフレッシュタイミングま
たはRORタイミングでの外部クロック検出回路122
のリセット動作を示すタイミングチャートである。図4
に示されるように、ロウアドレスストローブ信号/RA
S、カラムアドレスストローブ信号/CASおよび書込
イネーブル信号/WEがWCBRタイミングで入力され
ると、テストモードリセット信号/FRはLレベルにセ
ットされる。他方、図5に示されるように、これらの信
号/RAS、/CASおよび/WEがCBRリフレッシ
ュタイミングまたはRORタイミングで入力されると、
ロウアドレスストローブ信号/RASのHレベルへの立
上がりに応じて、テストモードリセット信号/FRはH
レベルにリセットされる。
【0058】また、図4に示されるように、これらの信
号/RAS、/CASおよび/WEがWCBRタイミン
グで入力されると、ロウアドレスストローブ信号/RA
SがLレベルに立下がってから所定時間経過後に、アド
レスキーラッチ制御信号FSEが所定期間だけHレベル
となる。
【0059】また、図4に示されるように、これらの信
号/RAS、/CASおよび/WEがWCBRタイミン
グで入力されると、テストモード活性化信号FEは、ロ
ウアドレスストローブ信号/RASのHレベルへの立上
がりに応答してHレベルとなる。他方、図5に示される
ように、これらの信号/RAS、/CASおよび/WE
がCBRリフレッシュタイミングまたはRORタイミン
グで入力されると、ロウアドレスストローブ信号/RA
SのHレベルへの立上がりに応じて、テストモード活性
化信号FEはLレベルとなる。
【0060】(2.2) テストグループ検出回路(図
6) 図6は、図2中のテストグループ検出回路120の構成
を示すブロック図である。図6を参照して、このテスト
グループ検出回路120は、高電圧検出回路130およ
び132と、ロウアドレスバッファ131および133
と、テストグループデコーダ134とを備える。高電圧
検出回路130は、アドレスピンA1の電圧がスーパー
Hレベル以上であるか否かを検出し、その電圧がスーパ
ーHレベル以上であるときHレベルの高電圧検知信号S
V1Fを出力する。高電圧検出回路132も、この高電
圧検出回路130と同様に動作する。ロウアドレスバッ
ファ131はアドレス信号A1を受け、出力信号/RA
1FAを出力する。ロウアドレスバッファ133も、こ
のロウアドレスバッファ131と同様に動作する。テス
トグループデコーダ134は、アドレスラッチ制御信号
FSEがHレベルのとき高電圧検知信号SV1Fおよび
SV2Fを取込み、特殊テストグループ信号/TGAお
よび/TGBを出力する。
【0061】(2.2.1) 高電圧検出回路(図7) 図7は、図6中の高電圧検出回路130の一例を示す回
路図である。図7を参照して、この高電圧検出回路13
0は、ダイオード接合されたn個のNチャネルMOSト
ランジスタ1301と、NチャネルMOSトランジスタ
1302とを備える。NチャネルMOSトランジスタ1
301はしきい値Vtを有する。したがって、アドレス
ピンA1に電源電圧Vccよりもn×Vtだけ高い電圧
(スーパーHレベル)が与えられると、高電圧検知信号
SV1Fが通常のHレベルとなる。
【0062】(2.2.2) テストグループデコーダ
(図8) 図8は、図6中のテストグループデコーダ134の構成
を示す回路図である。図8を参照して、このテストグル
ープデコーダ134は、インバータ1341、134
5、1347、1353、1355、クロックトインバ
ータ1342、1343、1350、1351、NOR
ゲート1344、1346、1348、1349、13
52、1354、NANDゲート1356および135
7を備える。NORゲート1344およびインバータ1
345、NORゲート1346およびインバータ134
7、NORゲート1352およびインバータ1353、
ならびにNORゲート1354およびインバータ135
5は、それぞれラッチ回路を構成する。
【0063】Hレベルのアドレスラッチ制御信号FSE
に応答してクロックトインバータ1342、1343、
1350および1351が動作する。これにより、高電
圧検知信号SV1FがHレベルのときアドレスキーラッ
チ信号SV1がHレベルとなり、高電圧検知信号SV2
FがHレベルのときアドレスキーラッチ信号SV2がH
レベルとなる。また、ロウアドレスバッファ131の出
力信号/RA1FAがHレベルのときアドレスキーラッ
チ信号HV1がHレベルとなり、ロウアドレスバッファ
133の出力信号/RA2FAがHレベルのときアドレ
スキーラッチ信号HV2がHレベルとなる。したがっ
て、アドレスキーラッチ信号SV1,SV2,HV1,
HV2の組合せによって、アドレスピンに与えられる電
圧の3つの状態が検知され得る。たとえばアドレスキー
ラッチ信号SVn(n=1,2)がHレベルでかつアド
レスキーラッチ信号HVn(n=1,2)がLレベルの
とき、アドレスピンの電圧はスーパーHレベルである。
また、アドレスキーラッチ信号SVnがLレベルでかつ
アドレスキーラッチ信号HVnがHレベルのとき、アド
レスピンの電圧は通常のHレベルである。さらに、アド
レスキーラッチ信号SVnがLレベルでかつアドレスキ
ーラッチ信号HVnがLレベルのとき、アドレスピンの
電圧はLレベルである。なお、アドレスキーラッチ信号
SVnおよびHVnが同時にHレベルとなることはな
い。
【0064】特殊テストグループ信号/TGAおよび/
TGBは、これらのアドレスキーラッチ信号SVn,H
Vnの組合せに従って生成される。特殊テストグループ
信号/TGAは、テストモード活性化信号FE、アドレ
スキーラッチ信号SV1およびHV2がすべてHレベル
のとき、Lレベルとなる。特殊テストグループ信号/T
GBは、テストモード活性化信号FE、アドレスキーラ
ッチ信号SV2およびHV1がすべてHレベルのとき、
Lレベルとなる。
【0065】したがって、特殊テストグループ信号/T
GA,/TGBは、2つのアドレスピンに2種類の電圧
が与えられたとき活性化される。このうち1種類の電圧
が通常の使用範囲内のLレベルであればもう1種類の電
圧がスーパーHレベルであっても、特殊テストグループ
信号/TGA,/TGBは活性化されない。さらに、1
種類の電圧だけが印加される場合は、いかなるレベルで
あっても特殊テストグループ信号/TGA,/TGBは
活性化されない。そのため、アドレスピンに間違って高
い電圧が印加されてもこの半導体記憶装置は特殊テスト
モードに入ることはない。
【0066】(2.3) アドレスキーラッチ回路(図
9) 図9は、図2中のアドレスキーラッチ回路121の構成
を示す回路図である。図9を参照して、このアドレスキ
ーラッチ回路121は、インバータ1211、121
6、1218、1220、1221〜1223、クロッ
クトインバータ1212〜1214、NORゲート12
15、1217および1219を備える。NORゲート
1215およびインバータ1216、NORゲート12
17およびインバータ1218、ならびにNORゲート
1219およびインバータ1220は、それぞれラッチ
回路を構成する。
【0067】このアドレスキーラッチ回路121はさら
に、アドレスキー信号TA3〜TA5をそれぞれ受け、
その反転信号/RA3FA〜/RA5FAをそれぞれ出
力する3つのロウアドレスバッファ(図示せず)を備え
る。
【0068】アドレスラッチ制御信号FSEがHレベル
にある間、アドレスバッファの出力信号/RA3FA〜
/RA5FAがそれぞれ取込まれ、これによりアドレス
キーラッチ信号HV3〜HV5,LV3〜LV5がラッ
チされる。これらの信号は、テストモードリセット信号
/FRがHレベルになるまでラッチされ続ける。また、
ロウアドレスバッファの出力信号/RAnFA(N=
3,4,5)は、アドレスピンにHレベルが与えられる
とLレベルとなり、アドレスピンにLレベルが与えられ
るとHレベルとなる。したがって、アドレスピンにHレ
ベルが与えられると、アドレスキーラッチ信号HVnは
Hレベルとなり、アドレスキーラッチ信号LVnはLレ
ベルとなる。他方、アドレスピンにLレベルが与えられ
ると、アドレスキーラッチ信号HVnはLレベルとな
り、アドレスキーラッチ信号LVnはHレベルとなる。
【0069】(2.4) 特殊テストモードクロックデ
コーダ(図10) 図10は、図2中の特殊テストモードクロックデコーダ
128の構成を示す回路図である。図10を参照して、
この特殊テストモードクロックデコーダ128は、マル
チビットテスト活性化信号TMBを発生する回路と、冗
長ロウテスト活性化信号TEST1および冗長カラムテ
スト活性化信号/TEST2を発生する回路とを備え
る。このマルチビットテスト活性化信号発生回路は、イ
ンバータ1281、1284、1288、1289、N
ANDゲート1282、1285、1286、128
7、およびNORゲート1283とを備える。他方、こ
の冗長ロウおよび冗長カラムテスト活性化信号発生回路
は、NORゲート1290、1291、1292、12
93、インバータ1294、12945および1296
を備える。
【0070】アドレスピンA1,A2に通常の範囲内の
Lレベルの電圧とスーパーHレベルとが与えられ、かつ
信号/RAS,/CAS,/WEがWCBRタイミング
で入力されると、マルチビットテスト活性化信号TMB
は必ずHレベルに活性化され、この半導体記憶装置が特
殊テストモードに入ることはない。また、特殊テストモ
ードでこの半導体記憶装置の特性評価を行なう場合に、
マルチビットテストモードでこの半導体記憶装置のマー
ジン評価を行なえば、テスト時間が大幅に短縮される。
したがって、特殊テストモードでもマルチビットテスト
を可能とするために、アドレスキーによってもマルチビ
ットテストモードが設定可能とされている。この実施の
形態では、アドレスピンA1,A2,A5の電圧がそれ
ぞれスーパーHレベル、HレベルおよびHレベルである
か、またはHレベル、スーパーHレベルおよびHレベル
であるとき、マルチビットテストが可能となる。
【0071】図11は、WCBRタイミングにより冗長
ロウ活性化信号TEST1、冗長カラム活性化信号/T
EFT2およびマルチビットテスト活性化信号TMBの
すべてが活性状態となるテストモード制御回路のセット
動作を示すタイミングチャートである。図11(d)〜
(h)に示されるように、アドレスピンA1にスーパー
Hレベル(図11ではSで示される)が与えられ、かつ
アドレスピンA2〜A5にHレベルの電圧がそれぞれ与
えられている場合において、図11(a)〜(c)に示
されるように、ロウアドレスストローブ信号/RAS、
カラムアドレスストローブ信号/CASおよび書込イネ
ーブル信号/WEがWCBRタイミングで入力される
と、アドレスキーラッチ信号SV1はHレベルとなり、
アドレスキーラッチ信号HV1がLレベルとなり、アド
レスキーラッチ信号SV2はLレベルとなり、アドレス
キーラッチ信号HV2はHレベルとなり、アドレスキー
ラッチ信号HV3はHレベルとなり、アドレスキーラッ
チ信号LV3はLレベルとなり、アドレスキーラッチ信
号HV4はHレベルとなり、アドレスキーラッチ信号L
V4はLレベルとなり、アドレスキーラッチ信号HV5
はHレベルとなり、さらにアドレスキーラッチ信号LV
5はLレベルとなる。これにより、特殊テストグループ
信号/TGAが活性状態となる準備が整う。
【0072】これらのアドレスキーラッチ信号はアドレ
スキープリデコーダ123によってプリデコードされ、
さらに特殊モードクロックデコーダ128によってデコ
ードされる。そして、ロウアドレスストローブ信号/R
ASの立上りに応答してテストモード活性化信号FEが
立上ると、特殊テストグループ信号/TGAが活性状態
(Lレベル)となり、これにより冗長ロウテスト活性化
信号TEST1、冗長カラムテスト活性化信号/TES
T2およびマルチビットテスト活性化信号TMBが順次
活性状態となる。
【0073】図12は、RORまたはCBRリフレッシ
ュタイミングにより冗長ロウテスト活性化信号TEST
1、冗長カラムテスト活性化信号/TEST2およびマ
ルチビットテスト活性化信号TMBのすべてが不活性状
態となるテストモード制御回路のリセット動作を示すタ
イミングチャートである。図12(a)〜(c)に示さ
れるように、ロウアドレスストローブ信号/RAS、カ
ラムアドレスストローブ信号/CASおよび書込イネー
ブル信号/WEがRORまたはCBRリフレッシュタイ
ミングで入力され、その後ロウアドレスストローブ信号
/RASが立上ると、テストモードリセット信号/FR
が図12(d)に示されるようにHレベルとなる。テス
トモードリセット信号/FRがHレベルになると、すべ
てのアドレスキーラッチ信号がLレベルとなるので、図
12(e)に示されるようにテストモード活性化信号F
EもLレベルとなる。したがって、図12(f)〜
(h)に示されるように、冗長ロウテスト活性化信号T
EST1、冗長カラムテスト活性化信号/TEST2お
よびマルチビットテスト活性化信号TMBのすべてが不
活性状態となる。
【0074】以上の説明をまとめると、テストモード制
御回路112のデコード表は次の表1のとおりである。
表1中、SはスーパーHレベルを示し、Hは通常のH
(論理ハイ)レベルを示し、LがL(論理ロウ)レベル
を示す。
【0075】
【表1】
【0076】なお、この実施の形態では特殊テストグル
ープ信号/TGBで設定可能な特殊テストモードはマル
チビットテストモードだけであるが、これ以外の特殊テ
ストモードが設定可能であっても構わない。また、アド
レスキーの組合せは任意に設定可能であることは言うま
でもない。
【0077】(3) メモリセルアレイおよびその周辺
回路(図13,図14) 図13は、図1中のメモリセルアレイ100〜103お
よびその周辺回路の構成を詳細に示すブロック図であ
る。図13を参照して、図1中のメモリセルアレイ10
0および冗長ロウメモリセルアレイ101は、16個の
メモリセルアレイブロックMCA1〜MCA16に分割
されている。図1中の冗長カラムメモリセルアレイおよ
び冗長カラムロウメモリセルアレイ103は、16個の
冗長カラムメモリセルアレイブロックSMCA1〜SM
CA16に分割されている。図1中のセンスリフレッシ
ュアンプ入出力制御回路104は、17個のセンスリフ
レッシュアンプ入出力制御回路ブロックSA1A〜SA
17Aに分割されている。図1中の冗長センスリフレッ
シュアンプ入出力制御回路105は、17個の冗長セン
スリフレッシュアンプ入出力制御回路ブロックSSA1
A〜SSA17Aに分割されている。
【0078】図1中のロウデコーダ106は、16個の
ロウデコーダRDC1〜RDC16と、16個のレベル
変換回路LC1〜LC16とを備える。図1中の冗長ロ
ウデコーダ107は、16個の冗長ロウデコーダSRD
C1〜SRDC16と、16個の冗長レベル変換回路S
LC1〜SLC16とを備える。ロウデコーダRDC1
〜RDC16および冗長ロウデコーダSRDC1〜SR
DC16は、メモリセルアレイMCA1〜MCA16に
対応して配置される。ロウデコーダRDC1〜RDC1
6の各々は4つの通常ワード線WLiと接続され、ワー
ド線駆動信号RX0〜RX3に応答してその4つの通常
ワード線のうち1つを駆動する。冗長ロウデコーダSR
DC1〜SRDC16の各々は2本の冗長ワード線SW
Ljと接続され、冗長ワード線駆動信号SRX0,SR
X1に応答してその2つの冗長ワード線のうち1つを駆
動する。
【0079】レベル変換回路LC1〜LC16の各々は
電源電圧レベルのワード線駆動信号RXF0〜RXF3
を昇圧電圧レベルのワード線駆動信号RX0〜RX3に
変換し、それらを対応するロウデコーダに供給する。冗
長レベル変換回路SLC1〜SLC16の各々は、電源
電圧レベルの冗長ワード線駆動信号SRF0,SRF1
を昇圧電圧レベルの冗長ワード線駆動信号SRX0,S
RX1に変換し、それらを対応する冗長ロウデコーダに
供給する。
【0080】ワード線駆動信号RXF0〜RXF3は図
13に示されたRXデコーダ142によって生成され
る。冗長ワード線駆動信号SRF0,SRF1は図13
に示された冗長RXデコーダ143によって生成され
る。RXデコーダ142は、RXデコーダ活性化信号/
RXTに応答して活性化され、これにより相補ロウアド
レス信号RAD0,/RAD0およびRAD1,/RA
D1に従って1つのワード線駆動信号を生成する。ここ
で、RCデコーダ活性化信号/RXTは、ロウアドレス
ストローブ信号/RASを遅延させることにより生成さ
れる。また、冗長RXデコーダ143は、冗長ロウアド
レス検知信号SRAおよびSRBに従って1つの冗長ワ
ード線駆動信号を生成する。
【0081】図1中のカラムデコーダ108は、図13
に示されたY上位プリデコーダ140と、Y下位プリデ
コーダ141と、カラムデコーダCDCを含む。Y下位
プリデコーダ141は、相補カラムアドレス信号CDA
2,/CDA2〜CAD6,/CAD6をプリデコード
することによりプリデコード信号Y4〜Y15を生成す
る。Y上位プリデコーダ140は、カラムデコーダ活性
化信号CDE、通常カラム活性化信号NCEAおよびN
CEBに応答して活性化され、さらに相補カラムアドレ
ス信号CAD7,/CAD7およびCAD8,/CAD
8をプリデコードすることによりプリデコード信号Y1
6〜Y23を生成する。カラムデコーダCDCは、これ
らのプリデコード信号Y4〜Y23に応答してカラム選
択線CSLiのうちいずれか1つを活性化する。
【0082】冗長カラムデコーダSCDCは4つの冗長
カラム選択線SCSLA,SCSLB,SCSLCおよ
びSCSLDと接続され、4つの冗長カラム活性化信号
SCEA,SCEB,SCECおよびSCEDに応答し
て2つの冗長カラム選択線を活性化する。ここでは、冗
長カラム活性化信号SCEAおよびSCECは同時にH
レベルとなるので、対応する冗長カラム選択線SCSL
AおよびSCSLCが同時に活性化される。また、冗長
カラム活性化信号SCEBおよびSCEDは同時にHレ
ベルとなるので、対応する冗長カラム選択線SCSLB
およびSCSLDが同時に活性化される。
【0083】図14は、図13中のブロックMCA1,
SMCA1,SA1A,SSA1A〜MCA16,SM
CA16,SA17A,SSA17Aのうち1つのブロ
ックを示す配線図である。図14を参照して、複数のワ
ード線WL0〜WL8および4つの冗長ワード線SWL
0〜SWL3と交差して複数のビット線対BL,/BL
が配置されている。
【0084】通常ビット線対BL,/BLと通常ワード
線WL0〜WL8の交点に対応して複数の通常メモリセ
ルMCが配置されている。通常メモリセルMCはハッチ
ングのない○で表わされる。また、通常ビット線対B
L,/BLと冗長ワード線SWL0〜SWL3との交点
に対応して複数の冗長ロウメモリセルRMCが配置され
ている。冗長ロウメモリセルRMCは水平方向にハッチ
ングされた○で表わされる。また、冗長ビット線対BL
/BLと通常ワード線WL0〜WL8との交点に対応し
て複数の冗長カラムメモリセルCMCが配置されてい
る。冗長カラムメモリセルCMCは垂直方向にハッチン
グされた○で表わされる。さらに、冗長ビット線対B
L,/BLと冗長ワード線SWL0〜SWL3との交点
に対応して複数の冗長ロウカラムメモリセルRCMCが
配置されている。冗長ロウカラムメモリセルRCMCは
水平および垂直方向にハッチングされた○で表わされ
る。
【0085】また、複数の通常ビット線対BL,/BL
に対応して複数の通常センスリフレッシュアンプSA0
〜SA3が配置されている。また、冗長ビット線対B
L,/BLに対応して複数の冗長センスリフレッシュア
ンプSSA0〜SSA3が配置されている。
【0086】このようなメモリセルアレイの一方側には
2つのローカル入出力線対LIO1,/LIO1および
LIO3,/LIO3が配置され、その他方には2つの
ローカル入出力線対LIO0,/LIO0およびLIO
2,/LIO2が配置されている。通常センスリフレッ
シュアンプSA0〜SA3の各々に対応して2つのカラ
ム選択ゲートCSが配置されている。また、冗長センス
リフレッシュアンプSSA0〜SSA3の各々に対応し
て2つの冗長カラム選択ゲートCSが配置されている。
【0087】また、4つの通常センスリフレッシュアン
プSA0〜SA3に対応して1つの通常カラム選択線C
SL255が配置され、4つの冗長センスリフレッシュ
アンプSSA0〜SSA3に対応して1つの冗長カラム
選択線SCSL1が配置されている。
【0088】なお、ワード線WL0に沿って形状ダミー
ワード線dmyが配置され、冗長ワード線SWL3に沿
って形状ダミーワード線dmyが配置されている。
【0089】(4) ロウ系回路 (4.1) ロウデコーダ(図15) 図15は、図13中のロウデコーダRDC1〜RDC1
6の1つの構成を示す回路図である。図15を参照し
て、1つのロウデコーダは、対応する4つのワード線W
L0〜WL3とそれぞれ接続される4つの駆動回路15
0と、NチャネルMOSトランジスタ152〜155,
158と、PチャネルMOSトランジスタ151,15
6,157とを備える。各駆動回路150は、Nチャネ
ルMOSトランジスタ159〜161を備える。Pチャ
ネルMOSトランジスタ151のゲート電極にはロウデ
コーダプリチャージ信号/RDPが与えられる。Nチャ
ネルMOSトランジスタ155のゲート電極にはブロッ
クセレクト信号RBSが与えられる。NチャネルMOS
トランジスタ152〜154のゲート電極にはそれぞれ
Xプリデコード信号XC,XA,XBが与えられる。
【0090】ここで、ロウデコーダプリチャージ信号/
RDPがロウ系のプリチャージ期間にLレベルになる
と、ノードNAは昇圧電圧Vppレベルにプリチャージ
される。これによりすべてのワード線WL0〜WL3は
不活性状態となる。次いでロウアドレスストローブ信号
/RASがLレベルになると、ロウデコーダプリチャー
ジ信号/RDPがHレベルとなるので、ブロックセレク
ト信号RBS、およびXプリデコード信号XA〜XCの
組合せに応じて特定のロウデコーダが選択される。そし
て、選択的に供給されるワード線活性化信号RX0〜R
X3に応じて対応する1つのワード線が選択される。た
とえばワード線駆動信号RX0が供給されたときは、対
応するワード線WL0の電圧が昇圧電圧Vppレベルま
で上昇する。
【0091】(4.2)冗長ロウデコーダ(図16) 図16は、図13中の冗長ロウデコーダSRDC1〜S
RDC16の1つの構成を示す回路図である。図16を
参照して、この1つの冗長ロウデコーダは、対応する2
つの冗長ワード線SWL0およびSWL1にそれぞれ接
続される2つの駆動回路162と、NチャネルMOSト
ランジスタ167,168,171と、PチャネルMO
Sトランジスタ166,169,170とを備える。各
駆動回路162は、NチャネルMOSトランジスタ16
3〜165を備える。ここで、NチャネルMOSトラン
ジスタ167のゲート電極には、偶数または奇数を示す
信号RADE0が与えられる。冗長ロウデコーダSRD
C1〜SRDC16は、通常のデコーダRDC1〜RD
C16とほぼ同様に動作する。通常ワード線を選択する
場合は、冗長ワード線駆動信号SRX0およびSRX1
がともにLレベルのまま維持されるので、冗長ワード線
SWL0,SWL1が活性化されることはない。しかし
ながら、後述する冗長ロウアドレス検知回路が外部から
与えられたロウアドレス信号とプログラムされた置換ア
ドレスとの一致を検知すると、冗長ロウアドレス検知信
号SRAおよびSRBのいずれかがHレベルになるとと
もに、RXデコーダ142が不活性化される。したがっ
て、通常ワード線駆動信号RXF0〜RXF3はすべて
Lレベルとなる。他方、冗長ロウアドレス検知信号SR
AがHレベルになると、対応する冗長ワード線駆動信号
SRF0がHレベルとなり、冗長ロウアドレス検知信号
SRBがHレベルになると、対応する冗長ワード線駆動
信号SRF1がHレベルとなる。したがって、選択され
たメモリセルアレイブロック内の4つの冗長ワード線が
信号RADE0に応答して2つずつ活性化される。
【0092】(4.3) RXデコーダおよび冗長RX
デコーダ(図17) 図17は、図13中のRXデコーダ142および冗長R
Xデコーダ143の構成を示す回路図である。図17を
参照して、RXデコーダ142は、NANDゲート14
21〜1424,1429〜1432、NORゲート1
425〜428、およびインバータ1433〜1436
を備える。NANDゲート1429〜1432の一方入
力ノードには、冗長ロウアドレス検知信号SRAおよび
SRBを受けるNORゲート1437が接続される。
【0093】したがって、このRXデコーダ142は、
冗長ロウアドレス検知信号SRAおよびSRBがともに
Lレベルのとき活性化される。そして、RXデコーダ活
性化信号/RXTがLレベルに立下ると、NANDゲー
ト1421〜1424にそれぞれ与えられるロウアドレ
ス信号/RAD0,/RAD1、RAD0,/RAD
1、/RAD0,RAD1およびRAD0,RAD1に
従ってワード線駆動信号RXF0〜RXF3のいずれか
1つがHレベルに活性化される。
【0094】また、冗長RXデコーダ143は、インバ
ータ1438,1441,1442、およびNANDゲ
ート1439,1440を備える。したがって、冗長ロ
ウアドレス検知信号SRAがHレベルになると、RXデ
コーダ活性化信号/RXTに応答して対応する冗長ワー
ド線駆動信号SRF0がHレベルに活性化される。この
Hレベルの冗長ロウアドレス検知信号SRAはNORゲ
ート1437にも与えられるので、RXデコーダ142
は不活性化される。他方、冗長ロウアドレス検知信号S
RBがHレベルになると、RXデコーダ活性化信号/R
XTに応答して対応する冗長ワード線駆動信号SRF1
がHレベルに活性化される。このHレベルの冗長ロウア
ドレス検知信号SRPはNORゲート1437にも与え
られるので、RXデコーダ142は不活性化される。
【0095】(4.4) 冗長ロウアドレスプログラム
回路および冗長ロウアドレス検知回路(図18〜図2
0) 図18は、図1の冗長メモリ制御回路113に含まれる
冗長ロウアドレスプログラム回路の構成を示す回路図で
ある。図18を参照して、この冗長ロウアドレスプログ
ラム回路は、8つのプログラム部180を備える。プロ
グラム部180の各々は、1つのリンク信号のための信
号線と共通に接続された14個のヒューズ素子181
と、各々が対応するヒューズ素子181と直列に接続さ
れた14個のNチャネルMOSトランジスタ182とを
備える。これらNチャネルMOSトランジスタ182の
ゲート電極には、ロウアドレス信号RAD1,/RAD
1〜RAD7,/RAD7がそれぞれ与えられる。
【0096】各リンク信号線と接地ノードとの間には3
つのNチャネルMOSトランジスタ183または18
4、185または186、および187または188が
接続されている。NチャネルMOSトランジスタ183
の各々のゲート電極にはロウアドレス信号/RAD8が
与えられる。NチャネルMOSトランジスタ184の各
々のゲート電極にはロウアドレス信号RAD8が与えら
れる。リンク信号RINK0,LINK1に対応するN
チャネルMOSトランジスタ185および186のゲー
ト電極にはロウアドレス信号/RAD9が与えられる。
リンク信号LINK0,LINK1に対応するNチャネ
ルMOSトランジスタ187および188のゲート電極
にはロウアドレス信号/RAD10が与えられる。リン
ク信号LINK2,LINK3に対応するNチャネルM
OSトランジスタ185および186のゲート電極には
ロウアドレス信号RAD9が与えられる。リンク信号L
INK2,LINK3に対応するNチャネルMOSトラ
ンジスタ187および188のゲート電極にはロウアド
レス信号/RAD10が与えられる。リンク信号LIN
K4,LINK5に対応するNチャネルMOSトランジ
スタ185および186のゲート電極にはロウアドレス
信号/RAD9が与えられる。リンク信号LINK4,
LINK5に対応するNチャネルMOSトランジスタ1
87および188のゲート電極にはロウアドレス信号R
AD10が与えられる。リンク信号LINK6,LIN
K7に対応するNチャネルMOSトランジスタ185お
よび186のゲート電極にはロウアドレス信号RAD9
が与えられる。リンク信号LINK6,LINK7に対
応するNチャネルMOSトランジスタ187および18
8のゲート電極にはロウアドレス信号RAD10が与え
られる。
【0097】図19は、図1の冗長メモリ制御回路11
3に含まれる第1の冗長ロウアドレス検知回路の構成を
示す回路図である。この冗長ロウアドレス検知回路は、
図18に示された冗長ロウアドレスプログラム回路に対
応して設けられる。図19を参照して、この冗長ロウア
ドレス検知回路は、2つの検知部190を備える。検知
部190の各々は、PチャネルMOSトランジスタ19
01,1902、インバータ1903およびNORゲー
ト1904を備える。この冗長ロウアドレス検知回路は
さらに、NANDゲート191、インバータ192,1
94、およびNORゲート193を備える。NANDゲ
ート191にはロウアドレス信号RAD6,/RAD7
が与えられ、インバータ192には冗長ロウテスト活性
化信号TEST1が与えられる。
【0098】この冗長ロウアドレス検知回路はさらに、
2つのNORゲート1904の出力およびインバータ1
94の出力を受けるNANDゲート195を備える。こ
のNANDゲート195は冗長ロウアドレス検知信号S
RAを出力する。
【0099】図20は、図1の冗長メモリ制御回路11
3に含まれる第2の冗長ロウアドレス検知回路の構成を
示す回路図である。この冗長ロウアドレス検知回路は、
冗長メモリ制御回路113に含まれるもう1つの冗長ロ
ウアドレスプログラム回路に対応して設けられる。図2
0を参照して、この第2の冗長ロウアドレス検知回路
は、図19に示された第1の冗長ロウアドレス検知回路
とほぼ同様に構成される。但し、NANDゲート191
にはロウアドレス信号/RAD6およびRAD7が与え
られる。また、NANDゲート195は、冗長ロウアド
レス検知信号SRBを出力する。
【0100】図19および図20に示された冗長ロウプ
リチャージ信号SRPCは、ロウアドレスストローブ信
号/RASの立上りに応答してLレベルとなり、これに
よりすべてのリンク信号LINK0〜LINK7のため
の信号線が電源電圧Vccレベルにプリチャージされ
る。そのため、冗長ロウアドレス検知信号SRAおよび
SRBはともにHレベルとなる。
【0101】図18に示されたヒューズ素子181のす
べてが溶断されていない状態、つまり置換アドレスが全
くプログラムされていない状態では、どのようなアドレ
ス信号が与えられてもリンク信号LINK0〜LINK
7はすべてLレベルとなる。他方、相補ロウアドレス信
号RAD1,/RAD1〜RAD7,/RAD7の各々
の一方に対応するヒューズ素子181が溶断されている
状態、つまり置換アドレスがプログラムされている状態
では、プログラムされていないアドレスが与えられたと
きはすべてのリンク信号LINK0〜LINK7がLレ
ベルとなるが、プログラムされているアドレスが与えら
れるとリンク信号LINK0〜LINK7はHレベルの
まま維持される。それは、ヒューズ素子181が溶断さ
れていると、そのヒューズ素子181に対応するNチャ
ネルMOSトランジスタ182がオン状態となってもリ
ンク信号のための信号線が放電されることがないからで
ある。
【0102】以上のように、冗長ロウテストモードに設
定されていない場合(冗長ロウテスト活性化信号TES
T1がLレベルの場合)は、リンク信号LINK0〜L
INK7に応じて冗長ロウアドレス検知信号SRAおよ
びSRBの一方が活性化され、他方が不活性化される。
したがって、プログラムされていないアドレス信号が与
えられると、冗長ロウアドレス検知信号SRAおよびS
RBの一方がLレベルとなり、他方、プログラムされて
いるアドレス信号が与えられると冗長ロウアドレス検知
信号SRAおよびSRBの一方がHレベルのまま維持さ
れる。
【0103】次に、冗長ロウテストモードに設定されて
いる場合(冗長ロウテスト活性化信号TEST1がHレ
ベルの場合)の動作について説明する。この場合は、リ
ンク信号LINK0〜LINK7に関係なく、図19中
のNANDゲート191に与えられるロウアドレス信号
/RAD7およびRAD6がともにHレベルならば冗長
ロウアドレス検知信号SRAがHレベルに活性化され
る。このとき、図20中のNANDゲート191にはと
もにLレベルのロウアドレス信号RAD7および/RA
D6が与えられるので、冗長ロウアドレス検知信号SR
BはLレベルに不活性化される。
【0104】一方、図20中のNANDゲート191に
与えられるロウアドレス信号RAD7および/RAD6
がともにHレベルならば冗長ロウアドレス検知信号SR
BはHレベルに活性化される。このとき、図19中のN
ANDゲート191にはともにLレベルのロウアドレス
信号/RAD7およびRAD6が与えられるので、冗長
ロウアドレス検知信号SRAはLレベルに不活性化され
る。
【0105】ここで、プログラム部180に使用してい
る相補ロウアドレス信号RAD6,/RAD6およびR
AD7,/RAD7をこのような冗長ロウテストモード
の検知にも使用しているのは、冗長ロウアドレス検知信
号SRAおよびSRBを強制的に活性化することにより
プログラムすべきアドレスが不要となるからである。し
たがって、この不要となるアドレスに応じて冗長ロウア
ドレス検知信号SRAおよびSRBを選択する冗長RX
デコーダ143が設けられているため、外部から与えら
れるアドレスの組合せによって冗長ロウと冗長カラムと
の交点に位置する冗長ロウメモリセルを除いたすべての
冗長ロウメモリセルの機能テストを行なうことができ
る。
【0106】この実施の形態では、2つの冗長ロウアド
レス検知信号SRAおよびSRBを使用する場合につい
て説明したが、ここでは7つのプログラム用ロウアドレ
スRAD1〜RAD7が用いられているので、これらの
外部から与えられたアドレスに応じて27 個の冗長ロウ
アドレス検知信号を選択的に活性化することができる。
但し、冗長ロウデコーダに与えられる主クロックに等し
い数の冗長ロウアドレス検知信号を用いた構成が最適で
ある。このような構成が新たな制御信号の追加を必要と
せず、しかもロウデコーダ、冗長ロウデコーダ、カラム
デコーダ、冗長カラムデコーダなどといったレイアウト
面積の制約が最も多い繰返し回路に対しても面積の増大
をもたらさないからである。
【0107】(5) カラム系回路 (5.1) Y下位プリデコーダ(図21) 図21は、図13中のY下位プリデコーダ141の構成
を示す回路図である。図21を参照して、このY下位プ
リデコーダ141は、6つのプリデコード部200,2
01を備える。プリデコード部200の各々は、NAN
Dゲート2001,2002、およびインバータ200
3〜2008を備える。プリデコード部201の各々
は、NANDゲート2011,2012、およびインバ
ータ2013〜2018を備える。したがって、このY
下位プリデコーダ141は、相補カラムアドレス信号C
AD2,/CAD2〜CAD6,/CAD6に応答して
プリデコード信号Y4〜Y15を生成する。
【0108】(5.2) Y上位プリデコーダ(図2
2) 図22は、図13中のY上位プリデコーダ140の構成
を示す回路図である。図22を参照して、このY上位プ
リデコーダ140は、2つのプリデコード部202を備
える。プリデコード部202の各々は、NANDゲート
2021〜2024,2029〜2032、およびイン
バータ2025〜2028,2033〜2036を備え
る。これらのプリデコード部202はともに、ロウアド
レスストローブ信号RASが遅延させられたカラムデコ
ード活性化信号CDEに応答して活性化される。また、
プリデコード部202の一方は、冗長ロウアドレスの未
検知時に生成される通常カラム活性化信号NCEAに応
答して活性化され、他方のプリデコード部202は、通
常カラム活性化信号NCEBに応答して活性化される。
したがって、このY上位プリデコーダ140は、カラム
デコード活性化信号CDE、通常カラム活性化信号NC
EAおよびNCEBがHレベルのとき、与えられた相補
カラムアドレス信号CAD7,/CAD7〜CAD9,
/CAD9に応答してプリデコード信号Y16〜Y23
を生成する。後述する冗長カラムアドレス検知回路が後
述する冗長カラムアドレスプログラム回路にプログラム
された置換アドレスを検知すると、通常カラム活性化信
号NCEAまたはNCEBがLレベルとなり、これによ
りプリデコード信号Y16〜Y19またはY20〜Y2
3がLレベルとなる。
【0109】(5.3) 冗長カラムアドレス検知回路
および冗長カラムアドレスプログラム回路(図23,図
24) 図23は、図1の冗長メモリ制御回路113に含まれる
冗長カラムアドレス検知回路の構成を示す回路図であ
る。図23を参照して、この冗長カラムアドレス検知回
路は、NANDゲート2041,2042,2046〜
2051、インバータ2044,2045,2052〜
2054、およびNORゲート2043を備える。この
冗長カラムアドレス検知回路では、後述する冗長カラム
アドレスプログラム回路から与えられる不良カラムアド
レス検知信号/SCEA0,/SCEA1,/SCEB
0,/SCEB1および冗長カラムテスト活性化信号/
TEST2に応答して通常カラム活性化信号NCEが生
成される。また、不良カラムアドレス検知信号/SCE
A0,/SCEA1,/SCEB0,/SCEB1、相
補カラムアドレス信号CAD7,/CAD7,CAD
8,/CAD8および冗長カラムテスト活性化信号/T
EST2に応答して冗長カラム活性化信号SCEAおよ
びSCEBが生成される。
【0110】図24は、図1の冗長メモリ制御回路11
3に含まれる冗長カラムアドレスプログラム回路の構成
を示す回路図である。図24を参照して、冗長カラムア
ドレスプログラム回路は、3つの検知部206を備え
る。検知部206の各々は、2つのプログラム部20
7、およびNORゲート2061を備える。プログラム
部の各々は、PチャネルMOSトランジスタ2071,
2075,2079、NチャネルMOSトランジスタ2
072,2073,2076,2077、およびヒュー
ズ素子2074,2078を備える。この冗長カラムア
ドレスプログラム回路はさらに、PチャネルMOSトラ
ンジスタ2081,2091,2094,2098、ヒ
ューズ素子2082,2085,2087,2089,
2097、NチャネルMOSトランジスタ2083,2
084,2086,2088,2090,2095,2
096、インバータ2092,2093、プログラム部
207、NORゲート2099、およびNANDゲート
2100を備える。PチャネルMOSトランジスタ20
81およびNチャネルMOSトランジスタ2084のゲ
ート電極には冗長カラムプリチャージ信号/SCPCが
与えられる。プログラムされるアドレスは、相補カラム
アドレス信号CAD2,/CAD〜CAD9,/CAD
9および相補ロウアドレス信号RAD8,/RAD,R
AD9,/RADに応答して生成されるプリデコード信
号X24〜X26から構成される。これは、プリデコー
ド信号X24〜X26に応答して1つの冗長カラム選択
線に接続される冗長カラムメモリセルを4つに分割して
使用することに相当する。センスリフレッシュアンプ帯
によって挟まれたメモリセルアレイブロックを越えて同
一のYラインで不良が生じる確率は低いので、ランダム
なYラインには自由度が多い分だけ歩留り向上には有利
である。また、プリデコード信号X24〜X27に対応
するヒューズ素子2082,2085,2087,20
97を同時に溶断すればカラムデコーダの不良にも対処
可能である。冗長カラムテストモードでない場合におい
て、置換アドレスがプログラムされていない場合または
置換アドレスとは異なるアドレスが与えられたとき、不
良カラムアドレス検知信号/SCEがすべてHレベルと
なり、さらにNANDゲート2046の出力信号/TA
CおよびNANDゲート2047の出力信号/TBDは
ともにHレベルとなる。したがって、冗長カラム活性化
信号SCEAおよびSCEBはともにLレベルとなる。
このとき、通常カラム活性化信号NCEはHレベルのま
ま活性化されている。
【0111】冗長カラムテストモードでない場合(冗長
カラムテスト活性化信号/TEST2がHレベルの場
合)は、与えられたアドレス信号がプログラムされたア
ドレスと一致したとき、不良カラムアドレス検知信号/
SCEがLレベルとなる。これにより冗長カラム活性化
信号SCEAおよびSCEBのいずれか1つがHレベル
に活性化される。
【0112】次に、冗長カラムテストモードの場合(冗
長カラムテスト活性化信号/TEST2がLレベルの場
合)について説明する。この場合は、カラムアドレス信
号/CAD7およびCAD8がともにHレベルのとき、
NANDゲート2046の出力信号/TACがLレベル
となり、これにより冗長カラム活性化信号SCEAがH
レベルに活性化される。他方、カラムアドレス信号CA
D7および/CAD8がともにHレベルのとき、NAN
Dゲート2047の出力信号/TBDがLレベルとな
り、これにより冗長カラム活性化信号SCEBがHレベ
ルに活性化される。これと同時に、通常カラム活性化信
号NCEはLレベルとなり、これにより通常カラム選択
線CSLiは非選択状態となる。
【0113】ここで、相補ロウアドレスCAD7,/C
AD7,CAD8,/CAD8を使用する理由は上述し
た冗長ロウテストモードと同様である。冗長カラム活性
化信号SCEAおよびSCEBを強制的に活性化するこ
とによりプログラムすべきアドレスは不要となる。した
がって、不要となるアドレスによって冗長カラム活性化
信号SCEA,SCEBを選択するデコード回路を備え
ることによって外部から与えられるアドレス信号の組合
せのみによって冗長ロウと冗長カラムとの交点に位置す
る冗長カラムメモリセルを除くすべての冗長カラムメモ
リセルの機能テストを行なうことができる。また、ここ
では、冗長カラム活性化信号SCEA,SCEBおよび
SCEC,SCEDによって選択されるメモリセルアレ
イブロックは互いに異なるメモリプレーンに属するの
で、冗長カラム活性化信号SCEAおよびSCECが同
時に強制的に活性化されても選択されたメモリセルアレ
イブロックが競合することはない。ここで、メモリプレ
ーンは、図24に示されたPチャネルMOSトランジス
タ2094およびNチャネルMOSトランジスタ209
6のゲート電極に与えられるカラムアドレス信号CAD
9または/CAD9によって切換えられる。また、冗長
カラム活性化信号SCEAおよびSCECと同様に、冗
長カラム活性化信号SCEBおよびSCEDが同時に強
制的に活性化されても何ら支障はない。
【0114】このように、冗長ロウテスト活性化信号/
TEST2がLレベルになると、不良カラムアドレス検
知信号/SCEA0,/SCEA1、SCEB0,/S
CEB1と関係なく、通常カラム活性化信号NCEが強
制的にLレベルとなる。また、冗長カラムテスト活性化
信号/TEST2がLレベルになると、不良カラムアド
レス検知信号/SCEA0,/SCEA1,/SCEB
0,/SCEB1と関係なく、相補カラムアドレス信号
CAD7,/CAD7,CAD8,/CAD8に従って
冗長カラム活性化信号SCEAおよびSCEBが選択的
に活性化される。
【0115】ここでは、冗長カラム活性化信号SCEA
〜SCEDが4つの場合について説明したが、ここでは
7つのプログラム用アドレスCAD2,/CAD2〜C
AD8,/CAD8が使用されているので、外部から与
えられるアドレス信号に従って27 個の冗長カラム活性
化信号が選択可能である。但し、冗長カラムデコーダS
CDCに与えられる冗長カラム活性化信号の数に等しい
数のカラムアドレス信号を用いた構成が最適である。ま
た、上記のように異なるカラムのプレーンに対応する組
合せとして冗長カラム活性化信号が存在しているのなら
ばそのプレーンの数をNとすると1/N個の冗長カラム
活性化信号を用いる構成が可能となる。このように冗長
カラム活性化信号の数を最適化すれば新たな制御信号の
追加が必要とされず、それによりカラムデコーダ面積の
増大を抑えることができる。
【0116】(5.4) カラムデコーダおよび冗長カ
ラムデコーダ(図25,図26) 図25は、1つのカラムデコーダの構成を示す回路図で
ある。このカラムデコーダはNANDゲート210およ
びインバータ211を備える。したがって、3つのYプ
リデコード信号Yh,Yj,Ykに応答して対応するカ
ラム選択線CSLが活性化される。
【0117】図26は、図3中の冗長カラムデコーダS
CDCの構成を示す回路図である。図26を参照して、
冗長カラムデコーダSCDCは、8つのインバータ21
2,213を備える。したがって、冗長カラム活性化信
号SCEA〜SCEDのいずれかが活性化されると、冗
長カラム選択線SCSLA〜SCSLDのうちその活性
化された冗長カラム活性化信号に対応する冗長カラム選
択線が活性化される。図13および図14に示された冗
長ロウメモリセルRMCは、同じメモリセルアレイブロ
ック内で通常メモリセルMCと置換されるので、いずれ
のメモリセルからのデータも同じローカル入出力線対を
通して入出力される。これと同様に、冗長カラムメモリ
セルCMCもまた同一のメモリセルアレイブロック内で
通常メモリセルMCと置換されるので、いずれのメモリ
セルからのデータも同じローカル入出力線対を通して入
出力される。したがって、これ以降のデータの階層構成
に関係なく、つまりたとえこれらローカル入出力線対が
グローバル入出力線に接続されていても、通常メモリセ
ル、冗長メモリセル、リード系およびライト系のいずれ
も構成の変更を全く必要としない。そのため、JEDC
標準となっているマルチビットテストをする場合にも容
易にデータの縮退を行なうことが可能であるので、3通
りの冗長メモリセルテスト(冗長ロウメモリセルテス
ト、冗長カラムメモリセルテスト、冗長ロウカラムメモ
リセルテスト)のいずれにもマルチビットテストの適用
が可能である。
【0118】(6) 冗長メモリセルの機能テスト方法 以下、ダイソートテストにおける冗長メモリセルの機能
テスト方法について×8ビット構成で2Kリフレッシュ
サイクルの16MDRAMを例にとって説明する。また
ここでは、冗長ロウは2系統の冗長ロウアドレス検知信
号SRAおよびSRBによって制御され、冗長カラムは
4系統の冗長カラム活性化信号SCEA〜SCEDによ
って制御されている。そして、冗長カラム活性化信号S
CEA,SCEBと冗長カラム活性化信号SCEC,S
CEDは互いに異なったカラムアドレス空間に対応す
る。すなわち、冗長カラム活性化信号SCEAおよびS
CECを同時に強制的に活性化しても、これらの信号は
互いに異なったカラムアドレス空間を制御するので何ら
の問題も生じない。これと同様に、冗長カラム活性化信
号SCEBおよびSCEDを同時に強制的に活性化して
も、これらの信号は互いに異なったカラムアドレス空間
を制御するので何らの問題も生じない。したがって、冗
長カラム活性化信号SCEAおよびSCECを組合せる
とともに、冗長カラム活性化信号SCEBおよびSCE
Dを組合せ、これにより冗長カラムを2系統に集約して
も差支えない。
【0119】(6.1)まず、冗長メモリセルのテスト
方法について説明する。 (6.1.1) WCBRタイミングでアドレスピンA
1〜A5にそれぞれスーパーHレベル、Hレベル、Hレ
ベル、Lレベル、Lレベルを入力し、冗長ロウメモリテ
ストモードにセットする。
【0120】(6.1.2) 次いで、冗長ロウアドレ
ス検知信号SRAによって制御される冗長メモリセルを
テストする。ここでは、プログラムに使用するアドレス
以外を使用するので、ロウアドレス信号RA0,RA
8,RA9,RA10,RA11をLレベルとし、ロウ
アドレス信号RA6をHレベルとする。またここでは、
すべてのカラムアドレスCA0〜CA9を使用する。こ
のような限定されたアドレス空間で通常のHレベルおよ
びLレベルを用いて機能テストを行なう。このとき、冗
長ロウメモリセルに不良があればその不良となったロウ
アドレスをメモリする。たとえば、この不良アドレスを
XA1とする。
【0121】(6.1.3) 次いで、冗長ロウアドレ
ス検知信号SRBによって制御される冗長メモリセルが
テストされる。上記(6.1.2)で説明した全アドレ
ス空間にわたる機能テストの終了後、ロウアドレス信号
RA7をHレベルとし、ロウアドレス信号RA6をLレ
ベルとし、さらにその他のロウアドレスRA0,RA
8,RA9,RA10およびすべてのカラムアドレスC
A0〜CA9を用いて機能テストを行なう。このとき不
良があれば、その不良となったロウアドレスをメモリす
る。たとえばこの不良アドレスをXB1とする。
【0122】(6.1.4) 冗長ロウテストモードを
リセットする。RORタイミングまたはCBRタイミン
グを入力する。
【0123】(6.2) 次に、冗長カラムメモリセル
のテスト方法について説明する。 (6.2.1) まず、冗長カラムテストモードにセッ
トする。WCBRタイミングでアドレスピンA1〜A5
にそれぞれスーパHレベル、通常のHレベル、Lレベル
を入力する。このアドレスキーによって冗長カラムメモ
リテストモードにセットされる。
【0124】(6.2.2) 次いで、冗長カラム活性
化信号SCEAおよびSCEDによって制御される冗長
カラムメモリセルをテストする。プログラムに使用する
アドレス以外を使用するので、カラムアドレスCA8を
Hレベルとし、カラムアドレスCA7をLレベルとし、
さらにカラムアドレスCA0,CA1,CA9を使用す
るとともに、すべてのロウアドレスRA0〜RA10を
使用する。このような限定されたアドレス空間で通常の
HレベルおよびLレベルを使用して機能テストを行な
う。このとき不良があれば、その不良となったカラムア
ドレスをメモリする。たとえばこの不良アドレスを(X
25,XAC1)とする。
【0125】(6.2.3) 次いで、冗長カラム活性
化信号SCEBおよびSCEDによって制御される冗長
カラムメモリセルをテストする。上記(6.2.2)で
説明した全アドレス空間にわたる機能テストの終了後、
カラムアドレスCA8をLレベルとし、カラムアドレス
CA7をHレベルとし、さらにカラムアドレスCA0,
CA1,CA9と、すべてのロウアドレスRA0〜RA
10を用いて機能テストを行なう。このとき不良があれ
ば、その不良となったカラムアドレスをメモリする。た
とえばこの不良アドレスを(X26,XBD1)とす
る。
【0126】(6.2.4) 最後に、RORタイミン
グまたはCBRタイミングを入力することによって冗長
カラムテストモードをリセットする。
【0127】(6.3) 次に、冗長ロウおよび冗長カ
ラムの交点に位置するメモリセルのテスト方法について
説明する。
【0128】(6.3.1) まず、冗長ロウテストモ
ードと冗長カラムテストモードとを同時にセットする。
WCBRタイミングでアドレスピンA1〜A5にそれぞ
れスーパHレベル、通常のHレベル、通常のHレベル、
通常のHレベル、Lレベルを入力する。このアドレスキ
ーによって冗長ロウテストモードと冗長カラムテストモ
ードとを同時にセットすることができる。
【0129】(6.3.2) 冗長ロウアドレス検知信
号SRAによって制御されるメモリセルのうち冗長カラ
ム活性化信号SCEAおよびSCECで制御される交点
メモリセルをテストする。この場合、上記(6.1.
2)および(6.2.3)で説明したアドレス空間のア
ンドと選択アドレス(RA8,RA7,CA8,CA
7)が使用するアドレス空間である。ロウアドレスRA
7はLレベルとし、ロウアドレスRA6はHレベルと
し、さらにロウアドレスRA0,RA8,RA9,RA
10を使用する。また、カラムアドレスCA8はHレベ
ルとし、カラムアドレスCA7はLレベルとし、さらに
カラムアドレスCA0,CA1,CA9を使用する。こ
のような限定されたアドレス空間で通常のHレベルおよ
びLレベルを使用して機能テストを行なう。このとき不
良アドレスがあれば、その不良となったロウアドレスと
カラムアドレスとをメモリする。たとえばこの不良アド
レスを(X*A1,Y*AC1)とする。
【0130】(6.3.3) 次いで、冗長ロウアドレ
ス検知信号によって制御されるメモリセルのうち冗長カ
ラム活性化信号SCEBおよびSCEDによって制御さ
れる交点メモリセルをテストする。上記(6.3.2)
で記載した全アドレス空間にわたる機能テストの終了
後、ロウアドレスRA7をLレベルとし、ロウアドレス
RA6をHレベルとし、さらにロウアドレスRA0,R
A8,RA9,RA10を使用するとともに、カラムア
ドレスCA8をLレベルとし、カラムアドレスCA7を
Hレベルとし、カラムアドレスCA0,CA1,CA9
のすべての空間について機能テストを行なう。このとき
不良があれば、その不良となったロウアドレスとカラム
アドレスとをメモリする。たとえばこの不良アドレスを
(X*A2,Y*BD1)とする。
【0131】(6.3.4) 次いで、冗長ロウアドレ
ス検知信号SRBによって制御されるメモリセルのうち
冗長カラム活性化信号SCEAおよびSCECによって
制御される交点メモリセルをテストする。上記(6.
3.3)で説明した全空間に対する機能テストの終了
後、ロウアドレスRA7をHレベルとし、ロウアドレス
RA6をLレベルとし、ロウアドレスRA0,RA8,
RA9,RA10を使用するとともに、カラムアドレス
CA8をHレベルとし、カラムアドレスCA7をLレベ
ルとし、さらにカラムアドレスCA0,CA1,CA9
の全空間について機能テストを行なう。このとき不良が
あれば、その不良となったロウアドレスとカラムアドレ
スをメモリする。たとえばこの不良アドレスを(X*B
1,Y*AC2)とする。
【0132】(6.3.5) 次いで、冗長ロウアドレ
ス検知信号SRBによって制御されるメモリセルのうち
冗長カラム活性化信号SCEBおよびSCEDによって
制御される交点メモリセルをテストする。上記(6.
3.4)で説明した全空間にわたる機能テストの終了
後、ロウアドレスRA7をHレベルとし、ロウアドレス
RA6をLレベルとし、さらにロウアドレスRA0,R
A8,RA9,RA10を使用するとともに、カラムア
ドレスCA8をLレベルとし、カラムアドレスCA7を
Hレベルとし、さらにカラムアドレスCA0,CA1,
CA9を使用することによりすべてのアドレス空間につ
いて機能テストを行なう。このとき不良があれば、その
不良となったロウアドレスとカラムアドレスとをメモリ
する。たとえばこの不良アドレスを(X*B2,Y*B
D2)とする。
【0133】(6.3.6) 最後に、RORタイミン
グまたはCBRタイミングを入力することにより、冗長
ロウテストモードと冗長カラムテストモードとをリセッ
トする。
【0134】(6.3.7) 次に、得られた不良アド
レス情報に従って使用可能な冗長ロウおよび冗長カラム
を決定する。
【0135】(6.3.8) 次いで、通常メモリセル
の全アドレス空間で機能テストを行なう。このとき不良
があれば、その不良となったアドレスをXライン不良、
Yライン不良とし、そのアドレス情報をメモリする。た
とえばこのXライン不良を/X1,/X2,(X25,
/Y1),(X26,/Y2)とする。
【0136】(6.3.9) 次いで、使用可能な冗長
ロウと冗長カラムの範囲内で上記(6.3.8)の結果
を解析する。そして、救済可能ならば救済コードを出力
する。
【0137】(6.3.10) 次いで、出力された救
済コードに従ってレーザトリマによってプログラムす
る。
【0138】(6.3.11) 最後に、全チップに対
して機能テストを実施し、良品、不良品の判別を行な
う。
【0139】(6.3.12) 上述した手順は一例で
あって、マルチビットテストモードにて機能テストを実
施することもできる。このマルチビットテストモードを
使用すれば、テスト時間が短縮されるので、非常に効果
的である。また、各種のテストモードの順番はどのよう
な順番であっても構わない。
【0140】(7) 実施の形態1による効果 (7.1) 特殊テストモードの設定は、アドレスキー
をラッチすることによって行なわれる。それぞれの特殊
テストモード活性化信号をラッチ回路を使用して保持す
るので、出力論理ゲートの最終で組めばそれだけ大きな
サイズの論理ゲートが必要になる(立上がりおよび立下
がり速度も考慮にいれる)。ところが、最も前段に近い
ところでラッチ回路を使用しているので、小さなサイズ
の論理ゲートですみ、面積を小さくすることができる。
【0141】(7.2) さらに、最終的に活性化信号
を出力させるのは、ロウアドレスストローブ信号/RA
Sの立上がりによって出力されるテストモード活性化信
号FEであるので、それまでに活性化すべき特殊テスト
モード主クロック信号の出力準備がされているので、誤
設定されにくい。
【0142】(7.3) JEDEC標準のマルチビッ
トテストの設定はWCBRのみだけではなくアドレスキ
ー入力による設定も可能としたので、マルチビットテス
トとの複合特殊テストモードも容易に実現することがで
きる。
【0143】(7.4) 特殊テストモードにおけるテ
ストグループ信号は2つの通常Hレベル、すなわち通常
のHレベルとスーパHレベルによって活性化されるの
で、実装されたときにデバイスの出力バッファ信号とア
ドレス発生回路などの他のドライバのレベルの違いによ
る誤設定はされにくい。
【0144】(7.5) 冗長ロウテストモードと冗長
カラムテストモードとを備え、さらにこの2つのモード
を同時に設定することができるので、冗長ロウと冗長カ
ラムの交点メモリセルの機能テストを実現することがで
きる。したがって、すべての冗長メモリセルの機能テス
トを行なうことができるので、ダイソートテスト時に救
済処理前(ヒューズ素子の溶断前)に予めすべてのメモ
リセルの機能チェックを行なうことができる。そのた
め、確実に歩留りを上げることができる。
【0145】(7.6) センスリフレッシュアンプ帯
に挟まれたメモリセルアレイブロック中に冗長ロウメモ
リセルと冗長カラムメモリセルとが存在し、冗長ロウデ
コーダ、冗長カラムデコーダ、冗長センスリフレッシュ
アンプ帯を備え、通常メモリセルと冗長ロウメモリセル
は同一のビット線上に存在し、通常メモリセルと冗長カ
ラムメモリセルとは同一のワード線上に存在し、メモリ
セルのデータは同一のローカル入出力線対を通して入出
力されるので、マルチビットテストによって冗長メモリ
セルの機能テストを容易に行なうことが可能である。
【0146】(7.7) 冗長ロウを選択するのに冗長
ワード線駆動信号を利用して選択し、さらに2つの系統
に集約し、この2つの系統の選択を、使用する必要のな
いプログラムアドレス信号の組合せで行なうようにした
ので、切換用の信号を多数使用する必要がない。また、
配線を増大させることもない。
【0147】(7.8) 冗長カラムを選択するのに冗
長カラム活性化信号を利用して選択するようにし、さら
に4系統の信号を同一メモリセルアレイブロックを担当
しない、つまり競合しない信号を同時に選択するように
し、2系統に集約した。さらに、この2系統の選択を使
用する必要のないプログラムアドレス信号の組合せで行
なうようにしたので、切換用の信号を多数使用する必要
がない。また、配線を増加させることもない。
【0148】(7.9) テストモードの判定、リセッ
ト、選択、切換もすべて外部の信号/RAS,/CA
S,/WEと、アドレスピンの状態によって行なうの
で、たとえモールド品であっても機能テストを行なうこ
とができる。この場合は、冗長メモリセルのアクセスを
特に調べたり、メモリセルアレイの端にある冗長メモリ
セルを調べることによって後工程のモールドなどによる
チップの影響を調べることができる。したがって、製造
マージンを向上させることができる。
【0149】(7.10) 外部のピンと接続するクロ
ックピンとアドレスピンを利用し、他のパッドを利用し
ないので、多ビット品など、パッドがチップの増大にす
ぐに結びつくようなものにはチップ面積の増大を抑える
ことが可能である。
【0150】[実施の形態2]図27は、この発明の実
施の形態2による半導体記憶装置の全体構成を示すブロ
ック図である。図1の実施の形態1と異なりこの実施の
形態2では、冗長ワード線駆動信号SRF0およびSR
F1を選択するためのアドレス信号RAs1およびRA
s2の代わりに外部パッド214に切換用の電圧PRが
与えられている。したがって、2系統の冗長ロウは、こ
の外部パッド214の電圧PRに応じて切換えられる。
また、冗長カラム活性化信号SCE0〜SCEiを選択
するためのアドレス信号CAs1およびCAs2の代わ
りに外部パッド215に切換用の電圧PCが与えられて
いる。したがって、この外部パッド215の電圧PCに
応じて2系統の冗長カラムが切換えられる。
【0151】図28は、図19に示された実施の形態1
の冗長ロウアドレス検知回路の代わりに用いられる冗長
ロウアドレス検知回路の構成を示す回路図である。図1
9の実施の形態1と異なりこの実施の形態2では、外部
パッド214と、外部パッド214とノードPRRとの
間に接続される抵抗216と、外部電源電圧EVccが
与えられるノードとノードPRRとの間に接続されるP
チャネルMOSトランジスタ217と、ノードPRRの
電圧と冗長ロウテスト活性化信号TEST1とを受ける
NANDゲート218とを備える。このPチャネルMO
Sトランジスタのサイズは小さく、そのソース電極には
外部電源電圧EVccが与えられ、そのゲート電極には
接地電圧が与えられる。したがって、トランジスタ21
7は、パッド214がフローティング状態のときにノー
ドPRRの電圧をHレベルにつり上げている。NAND
ゲート218の出力信号はNANDゲート195の1つ
の入力ノードに与えられる。
【0152】このような半導体記憶装置において、冗長
ロウテストモードに入っていないとき、冗長ロウテスト
活性化信号TEST1はLレベルとなっているので、N
ANDゲート218の出力信号はHレベルとなる。した
がって、与えられたアドレスがプログラムされた置換ア
ドレスと一致すれば、冗長ロウアドレス検知信号SRB
がHレベルに活性化される。他方、与えられたアドレス
がプログラムされた置換アドレスと一致しないか、また
は置換アドレスがプログラムされていないときは、冗長
ロウアドレス検知信号SRBはLレベルに不活性化され
る。
【0153】図29は、図19に示された実施の形態1
の冗長ロウアドレス検知回路の代わりに用いられる冗長
ロウアドレス検知回路の全体構成を示す回路図である。
図19に示された冗長ロウアドレス検知回路と異なり、
この実施の形態2の冗長ロウアドレス検知回路はインバ
ータ219とNANDゲート220とを備える。図29
に示されたノードPRRの電圧はインバータ219を介
してNANDゲート220の一方入力ノードに与えられ
る。冗長ロウテスト活性化信号TEST1はNANDゲ
ート220の他方入力ノードに与えられる。NANDゲ
ート220の出力信号はNANDゲート195の1つの
入力ノードに与えられる。したがって、冗長ロウテスト
モードに入っていないとき、この図29に示された冗長
ロウアドレス検知回路は図28に示された冗長ロウアド
レス検知回路と同様に動作する。
【0154】次いで、冗長ロウテストモードに入ると、
冗長ロウテスト活性化信号TEST1がHレベルとな
る。外部パッド214がフローティング状態か、あるい
は外部パッド214にHレベルが与えられると、冗長ロ
ウアドレス検知信号SRBがHレベルに活性化され、他
方、冗長ロウアドレス検知信号SRAはLレベルのまま
不活性化されている。次に、外部パッド214にLレベ
ルが与えられると、冗長ロウアドレス検知信号SRAが
Hレベルに活性化され、冗長ロウアドレス検知信号SR
BはLレベルに不活性化される。したがって、このよう
な回路構成を採用しても2系統の冗長ロウアドレス検知
信号SRA,SRBを強制的に切換えることが可能であ
る。このようにして2系統の冗長ロウアドレス検知信号
SRA,SRBを外部パッド214によって切換え、さ
らに外部からアドレス信号を入力することにより冗長カ
ラムとの交点以外のすべての冗長ロウメモリセルの機能
テストが可能となる。
【0155】図30は、図23に示された冗長カラムア
ドレス検知回路の代わりに用いられる冗長カラムアドレ
ス検知回路の構成を示す回路図である。図23の実施の
形態1と異なり、この実施の形態2の冗長カラムアドレ
ス検知回路は、外部パッド215、インバータ222
2,2225、PチャネルMOSトランジスタ222
3、抵抗2224、およびNANDゲート2226,2
227を備える。外部パッド215の電圧PCは抵抗2
224を介してNANDゲート2226の一方入力ノー
ドに与えられ、かつインバータ2225を介してNAN
Dゲート2227の一方入力ノードにも与えられる。P
チャネルMOSトランジスタ2223のサイズは小さ
く、そのソース電極には外部電源電圧EVccが与えら
れ、そのゲート電極には接地電圧が与えられている。し
たがって、外部パッド215がフローティング状態のと
き、このPチャネルMOSトランジスタはノードPCC
の電圧をHレベルにつり上げる。
【0156】冗長カラムテストモードに入ると、冗長カ
ラムテスト活性化信号/TEST2がLレベルとなり、
これによりNANDゲート2226および2227はと
もに活性化される。このとき、外部パッド215がフロ
ーティング状態か、あるいは外部パッド215にHレベ
ルが与えられると、NANDゲート2226の出力信号
/TACがLレベルとなる。したがって、カラムデコー
ド活性化信号CDEがHレベルになると、冗長カラム活
性化信号SCEAがHレベルに活性化される。他方、外
部パッド215にLレベルが与えられると、NANDゲ
ート2226の出力信号/TACがHレベルとなりかつ
NANDゲートの出力信号/TBDがLレベルとなる。
したがって、カラムデコード活性化信号CDEがHレベ
ルになると、冗長カラム活性化信号SCEBがHレベル
に活性化される。また、冗長カラムテスト活性化信号/
TEST2がLレベルになると、冗長カラム活性化信号
NCEは直ちにLレベルとなる。
【0157】このようにして2系統の冗長カラム活性化
信号SCEAおよびSCECと、冗長カラム活性化信号
SECBおよびSCEDとが外部パッド215によって
切換えられるので、外部からアドレスを与えれば冗長ロ
ウとの交点以外のすべての冗長カラムメモリセルの機能
テストを行なうことができる。
【0158】さらに冗長ロウテストモードと冗長カラム
テストモードとに同時に入った場合に、外部パッド21
4および215の印加電圧PRおよびPCを変化させ、
さらにメモリセルアレイブロックの選択に必要なアドレ
スおよび下位アドレスを入力することにより冗長ロウお
よび冗長カラムの交点に位置する冗長メモリセルの機能
テストを行なうことができる。
【0159】この実施の形態2では冗長ロウテストモー
ドと冗長カラムテストモードとのどちらにも外部パッド
214および215による切換が可能な構成を説明した
が、冗長ロウテストモードは外部パッドによって切換可
能とし、冗長カラムテストモードは実施の形態1のよう
に外部から与えられるアドレスによって切換可能として
も、上記実施の形態1および2と同様にすべての冗長メ
モリセルをテストすることができる。
【0160】また、冗長ロウテストモードは外部から与
えられるアドレスによって切換可能とし、冗長カラムテ
ストモードは外部パッドによって切換可能としても、上
記実施の形態1および2と同様にすべての冗長メモリセ
ルをテストすることができる。この実施の形態2による
半導体記憶装置によれば、上述した実施の形態1による
効果(7.1)〜(7.8)と同様の効果を奏する以外
に、冗長ロウおよび冗長カラムの各系統の切換用外部パ
ッドに直接プローブなどをあてることによりダイソート
テスト時に冗長メモリセルの機能テストを行なうことが
できる。したがって、より簡単でかつ確実な冗長系統の
切換が可能となる。
【0161】
【発明の効果】請求項1に係る半導体記憶装置によれ
ば、予め定められた行テスト信号に応答して冗長行選択
手段が活性化され、また予め定められた列テスト信号に
応答して冗長列選択手段が活性化されるため、欠陥を伴
なう通常行を冗長行と置換する前にその冗長行の良否判
別テストを行なうことができるとともに、欠陥をともな
う通常列を冗長列と置換する前にその冗長列の良否判別
テストを行なうことができる。したがって、通常行を冗
長行に、または通常列を冗長列に置換することにより確
実にその半導体記憶装置を救済することができるため、
製造歩留りをさらに向上させることができる。
【0162】請求項2に係る半導体記憶装置によれば、
上記請求項1の効果に加えて、外部から与えられる制御
信号に応答して行テスト信号および列テスト信号の一方
または双方が内部的に生成されるため、この半導体記憶
装置を樹脂モールドによりパッケージングした後であっ
ても冗長行および冗長列の良否判別テストを行なうこと
ができる。
【0163】請求項3に係る半導体記憶装置によれば、
請求項2の効果に加えて、冗長行および冗長列から読出
されたデータのマルチビットテストを行なうことができ
るため、上記のような良否判別テストの所要時間が短縮
される。
【0164】請求項4に係る半導体記憶装置によれば、
予め定められた行テスト信号と行アドレス信号とに応答
して第1および第2の冗長ワード線が選択的に駆動され
るため、通常ワード線を冗長ワード線と置換する前にそ
の冗長ワード線の良否判別テストを行なうことができ
る。しかも複数の冗長ワード線が2系統に集約され、複
数の冗長ワード線を個別的に駆動していないため、テス
ト時に冗長ワード線を駆動するための信号線によってチ
ップ面積が増大することはない。
【0165】請求項5に係る半導体記憶装置によれば、
予め定められた列テスト信号と列アドレス信号とに応答
して第1および第2の冗長列選択線が選択的に駆動され
るため、通常ビット線対を冗長ビット線対と置換する前
にその冗長ビット線対の良否判別テストを行なうことが
できる。しかも複数の冗長ビット線対を選択するための
信号が2系統に集約されているため、そのための信号線
によってチップ面積が増大することはない。
【0166】請求項6に係る半導体記憶装置によれば、
予め定められた行テスト信号と切換パッドの電位とに応
答して第1および第2の冗長ワード線が選択的に駆動さ
れるため、通常ワード線を冗長ワード線と置換する前に
その冗長ワード線の良否判別テストを行なうことができ
る。しかも複数の冗長ワード線の選択が2系統に集約さ
れ、かつ外部アドレス信号を与えることで切換パッドの
電圧を制御することによってその2系統を選択できるた
め、そのような選択のための信号線によるチップ面積の
増大が抑えられるとともに、良否判別テストがさらに容
易となる。
【0167】請求項7に係る半導体記憶装置によれば、
予め定められた列テスト信号と切換パッドの電位とに応
答して第1および第2の冗長列選択線が選択的に駆動さ
れるため、通常ビット線対を冗長ビット線対と置換する
前にその冗長ビット線対の良否判別テストを行なうこと
ができる。しかも複数の冗長ビット線対は2系統に集約
され、かつ切換パッドの電圧を制御することによって、
2系統に切換えられるため、冗長ビット線対を駆動する
ための信号線によるチップ面積の増大が抑えられ、かつ
そのような良否判別テストがさらに容易となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の実施の形態1による半導体記憶装
置の全体構成を示すブロック図である。
【図2】 図1中のテストモード制御回路の構成を示す
ブロック図である。
【図3】 図2中の外部クロック検出回路の構成を示す
ブロック図である。
【図4】 図3の外部クロック検出回路122のWCB
Rによるセット動作を示すタイミングチャートである。
【図5】 図3の外部クロック検出回路のRORまたは
CBRによるリセット動作を示すタイミングチャートで
ある。
【図6】 図2中のテストグループ検出回路の構成を示
すブロック図である。
【図7】 図6中の高電圧検出回路の構成を示す回路図
である。
【図8】 図6中のテストグループデコーダの構成を示
す回路図である。
【図9】 図2中のアドレスキーラッチ回路の構成を示
す回路図である。
【図10】 図2中の特殊テストモードクロックデコー
ダの構成を示す回路図である。
【図11】 図2のテストモード制御回路によるセット
動作を示すタイミングチャートである。
【図12】 図2のテストモード制御回路によるリセッ
ト動作を示すタイミングチャートである。
【図13】 図1中のメモリセルアレイ、冗長ロウメモ
リセルアレイ、冗長カラムメモリセルアレイ、および冗
長カラムロウメモリセルアレイならびにその周辺回路の
構成を示すブロック図である。
【図14】 図13中のメモリセルアレイブロックの各
々の構成を示す配線図である。
【図15】 図13中の各ロウデコーダの構成を示す回
路図である。
【図16】 図13中の各冗長ロウデコーダの構成を示
す回路図である。
【図17】 図13中のRXデコーダおよび冗長RXデ
コーダの構成を示す回路図である。
【図18】 図1中の冗長メモリ制御回路に含まれる冗
長ロウアドレスプログラム回路の構成を示す回路図であ
る。
【図19】 図1中の冗長メモリ制御回路に含まれる冗
長ロウアドレス検知回路の構成を示す回路図である。
【図20】 図1中の冗長メモリ制御回路に含まれるも
う1つの冗長ロウアドレス検知回路の構成を示す回路図
である。
【図21】 図13中のY下位プリデコーダの構成を示
す回路図である。
【図22】 図13中のY上位プリデコーダの構成を示
す回路図である。
【図23】 図1中の冗長メモリ制御回路に含まれる冗
長カラムアドレス検知回路の構成を示す回路図である。
【図24】 図1中の冗長メモリ制御回路に含まれる冗
長カラムアドレスプログラム回路の構成を示す回路図で
ある。
【図25】 図1中のカラムデコーダの一部を示す回路
図である。
【図26】 図1中の冗長カラムデコーダの構成を示す
回路図である。
【図27】 この発明の実施の形態2による半導体記憶
装置の全体構成を示すブロック図である。
【図28】 図27中の冗長メモリ制御回路に含まれる
冗長ロウアドレス検知回路の構成を示す回路図である。
【図29】 図27中の冗長メモリ制御回路に含まれる
もう1つの冗長ロウアドレス検知回路の構成を示す回路
図である。
【図30】 図27中の冗長メモリ制御回路に含まれる
冗長カラムアドレス検知回路の構成を示す回路図であ
る。
【図31】 置換前に予備メモリの良否判別テストが可
能な従来の半導体記憶装置の構成を示すブロック図であ
る。
【図32】 図31の半導体記憶装置に使用されるテス
トモード検知回路の構成を示す回路図である。
【図33】 図31の半導体記憶装置に使用されるテス
ト信号デコーダ回路の構成を示す回路図である。
【図34】 図31中の1つの基本回路の構成を示す回
路図である。
【符号の説明】
100 通常メモリセルアレイ、101 冗長ロウメモ
リセルアレイ、102冗長カラムメモリセルアレイ、1
03 冗長カラムロウメモリセルアレイ、106,RD
C1〜RDC16 ロウデコーダ、107,SRDC1
〜SRDC16 冗長ロウデコーダ、108,CDCス
ペースカラムデコーダ、109,SCDC 冗長カラム
デコーダ、WL0〜WLn ワード線、SWL0〜SW
Lm冗長ワード線、CSL0〜CSLj カラム選択
線、SCSL0〜SCSLi,SCSLA,SCSL
B,SCSLC,SCSLD 冗長カラム選択線、11
2テストモード制御回路、113 冗長メモリ制御回
路、BL,/BL ビット線対、SA1〜SA3 セン
スリフレッシュアンプ、SS0〜SSA3 冗長センス
リフレッシュアンプ、CS カラム選択ゲート、MC
メモリセル、RMC冗長ロウメモリセル、CMC 冗長
カラムメモリセル、RCMC 冗長ロウカラムメモリセ
ル、180,207 プログラム部、190,206
検知部、214,215 外部パッド、TEST1 冗
長ロウテスト活性化信号、/TEST2 冗長カラムテ
スト活性化信号、TMB マルチビットテスト活性化信
号、SRA,SRB 冗長ロウアドレス検知信号、SC
EA,SCEB,SCEC,SCED 冗長カラム活性
化信号、RXF0,RXF1 通常ワード線駆動信号、
SRXF0,SRXF1 冗長ワード線駆動信号。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の通常ワード線、 前記通常ワード線に交差して配置される複数の通常ビッ
    ト線対、 前記通常ワード線と前記通常ビット線対との交点に対応
    して配置される複数の通常メモリセル、 外部から与えられる行アドレス信号に応答して前記通常
    ワード線のいずれかを選択する通常行選択手段、 外部から与えられる列アドレス信号に応答して前記通常
    ビット線対のいずれかを選択する通常列選択手段、 前記通常ビット線対に交差して配置される冗長ワード
    線、 前記通常ワード線と前記冗長ワード線とに交差して配置
    される冗長ビット線対、 前記冗長ワード線と前記通常ビット線対との交点に対応
    して配置される複数の冗長行メモリセル、 前記冗長ビット線対と前記通常ワード線との交点に対応
    して配置される複数の冗長列メモリセル、 前記冗長ワード線と前記冗長ビット線対との交点に対応
    して配置される冗長行列メモリセル、 前記冗長ワード線を選択する冗長行選択手段、 前記通常行選択手段に与えられるべき行アドレス信号が
    予め定められた行置換アドレスを示すとき前記通常行選
    択手段を不活性化するとともに前記冗長行選択手段を活
    性化する行置換手段、 予め定められた行テスト信号に応答して前記通常行選択
    手段を不活性化するとともに前記冗長行選択手段を活性
    化するよう前記行置換手段を強制的に制御する行置換制
    御手段、 前記冗長ビット線対を選択する冗長列選択手段、 前記通常列選択手段に与えられるべき列アドレス信号が
    予め定められた列置換アドレスを示すとき前記通常列選
    択手段を不活性化するとともに前記冗長列選択手段を活
    性化する列置換手段、および予め定められた列テスト信
    号に応答して前記通常列選択手段を不活性化するととも
    に前記冗長列選択手段を活性化するよう前記列置換手段
    を強制的に制御する列置換制御手段を備えた半導体記憶
    装置。
  2. 【請求項2】 外部から与えられる制御信号に応答して
    前記行テスト信号および/または前記列テスト信号を発
    生するテスト信号発生手段をさらに備えたことを特徴と
    する請求項1に記載の半導体記憶装置。
  3. 【請求項3】 1つの行アドレス信号と1つの列アドレ
    ス信号に応答して、前記通常メモリセル、前記冗長行メ
    モリセル、前記冗長列メモリセルおよび前記冗長行列メ
    モリセルのいずれかから複数のデータを並列的に読出す
    並列読出手段、および予め定められたマルチビットテス
    ト信号に応答して前記並列読出手段によって読出された
    データのすべてが互いに一致するか否かを検出し、前記
    データのすべてが互いに一致するとき第1の値を示し、
    前記データの1つが他のデータと一致しないとき前記第
    1の値と異なる第2の値を示す一致/不一致検出信号を
    発生する一致/不一致検出手段をさらに備え、 前記テスト信号発生手段はさらに、外部から与えられる
    制御信号に応答して前記マルチビットテスト信号を発生
    することを特徴とする請求項2に記載の半導体記憶装
    置。
  4. 【請求項4】 (a)複数の通常ワード線、 (b)各々が、前記複数の通常ワード線のうち第1の数
    の通常ワード線に対応して設けられ、対応する第1の数
    の通常ワード線に対応して与えられる第1の数の通常ワ
    ード線駆動信号に応答して対応する第1の数の通常ワー
    ド線を選択的に駆動する複数の通常行デコーダ、 (c)第1および第2の冗長ワード線、 (d)前記第1および第2の冗長ワード線に対応して設
    けられ、第1の冗長ワード線駆動信号に応答して第1の
    冗長ワード線を駆動し、第2の冗長ワード線駆動信号に
    応答して第2の冗長ワード線を駆動する冗長行デコー
    ダ、 (e)前記複数の通常ワード線と前記第1および第2の
    冗長ワード線とに交差して配置される複数のビット線
    対、 (f)前記通常ワード線と前記ビット線対との交点に対
    応して配置される複数の通常メモリセル、および (g)前記第1および第2の冗長ワード線と前記ビット
    線対との交点に対応して配置される複数の冗長メモリセ
    ルをそれぞれ含む複数のブロック、 外部から与えられる行アドレス信号に応答して前記複数
    のブロックにおける通常行デコーダの各々に前記第1の
    数の通常ワード線駆動信号を供給する通常ワード線選択
    手段、 第1の行置換アドレスがプログラム可能な第1のプログ
    ラム手段、 前記行アドレス信号が前記第1のプログラム手段にプロ
    グラムされた前記第1の行置換アドレスに一致するか否
    かを検知し、一致するとき第1の冗長行活性化信号を発
    生する第1の検知手段、 予め定められた行テスト信号と前記行アドレス信号とに
    応答して前記第1の冗長行活性化信号を発生するよう前
    記第1の検知手段を強制的に制御する第1の行置換制御
    手段、 第2の行置換アドレスがプログラム可能な第2のプログ
    ラム手段、 前記行アドレス信号が前記第2のプログラム手段にプロ
    グラムされた前記第2の行置換アドレスに一致するか否
    かを検知し、一致するとき第2の冗長行活性化信号を発
    生する第2の検知手段、 前記行テスト信号と前記行アドレス信号とに応答して前
    記第2の冗長行活性化信号を発生するよう前記第2の検
    知手段を強制的に制御する第2の行置換制御手段、 前記第1の検知手段から与えられる前記第1の冗長行活
    性化信号に応答して前記複数のブロックにおける冗長行
    デコーダの各々に前記第1の冗長ワード線駆動信号を供
    給し、前記第2の検知手段から与えられる前記第2の冗
    長行活性化信号に応答して前記複数のブロックにおける
    冗長行デコーダの各々に前記第2の冗長ワード線駆動信
    号を供給する冗長ワード線選択手段、および前記第1お
    よび第2の冗長行活性化信号のいずれかに応答して前記
    通常ワード線選択手段を不活性化する不活性化手段を備
    えた半導体記憶装置。
  5. 【請求項5】 (a)複数のワード線、 (b)前記ワード線に交差して配置される複数の通常ビ
    ット線対、 (c)前記ワード線と前記通常ビット線対との交点に対
    応して配置される複数の通常メモリセル、 (d)前記通常ビット線対に対応して設けられ、各々が
    対応する通常ビット線対に接続される複数の通常列選択
    ゲート対、 (e)前記ワード線に交差して配置される第1および第
    2の冗長ビット線対、 (f)前記ワード線と前記第1および第2の冗長ビット
    線対との交点に対応して配置される複数の冗長メモリセ
    ル、 (g)前記第1の冗長ビット線対に接続される第1の冗
    長列選択ゲート対、および (h)前記第2の冗長ビット線対に接続される第2の冗
    長列選択ゲート対をそれぞれ含む複数のブロック、 前記複数の通常列選択ゲート対に対応して設けられ、各
    々が対応する複数のブロックにおける通常列選択ゲート
    対の各々の制御電極に接続される複数の通常列選択線、 前記複数のブロックにおける第1の冗長列選択ゲート対
    の各々の制御電極に接続される第1の冗長列選択線、 前記複数のブロックにおける第2の冗長列選択ゲート対
    の各々の制御電極に接続される第2の冗長列選択線、 外部から与えられる列アドレス信号に応答して前記通常
    列選択線のいずれかを選択する通常列選択手段、 第1の列置換アドレスがプログラム可能であって外部か
    ら与えられる列アドレス信号が前記第1の列置換アドレ
    スに一致するとき第1の一致信号を発生する第1のプロ
    グラム手段、 前記第1のプログラム手段から与えられる第1の一致信
    号に応答して第1の冗長列活性化信号を発生する第1の
    検知手段、 予め定められた列テスト信号と前記列アドレス信号とに
    応答して前記第1の冗長列活性化信号を発生するよう前
    記第1の検知手段を強制的に制御する第1の列置換制御
    手段、 第2の列置換アドレスがプログラム可能であって前記列
    アドレス信号が前記第2の列置換アドレスに一致すると
    き第2の一致信号を発生する第2のプログラム手段、 前記第2のプログラム手段から与えられる第2の一致信
    号に応答して第2の冗長列活性化信号を発生する第2の
    検知手段、 前記列テスト信号と前記列アドレス信号とに応答して前
    記第2の冗長列活性化信号を発生するよう前記第2の検
    知手段を強制的に制御する第2の列置換制御手段、 前記第1の検知手段から与えられる第1の冗長列活性化
    信号に応答して前記第1の冗長列選択線を選択し、前記
    第2の検知手段から与えられる第2の冗長列活性化信号
    に応答して前記第2の冗列選択線を選択する冗長列選択
    手段、および前記第1および第2の一致信号ならびに前
    記列テスト信号のいずれかに応答して前記通常列選択手
    段を不活性化する不活性化手段を備えた半導体記憶装
    置。
  6. 【請求項6】 (a)複数の通常ワード線、 (b)各々が、前記複数の通常ワード線のうち第1の数
    の通常ワード線に対応して設けられ、対応する第1の数
    の通常ワード線に対応して与えられる第1の数の通常ワ
    ード線駆動信号に応答して対応する第1の数の通常ワー
    ド線を選択的に駆動する複数の通常行デコーダ、 (c)第1および第2の冗長ワード線、 (d)前記第1および第2の冗長ワード線に対応して設
    けられ、第1の冗長ワード線駆動信号に応答して第1の
    冗長ワード線を駆動し、第2の冗長ワード線駆動信号に
    応答して第2の冗長ワード線を駆動する冗長行デコー
    ダ、 (e)前記複数の通常ワード線と前記第1および第2の
    冗長ワード線とに交差して配置される複数のビット線
    対、 (f)前記通常ワード線と前記ビット線対との交点に対
    応して配置される複数の通常メモリセル、および (g)前記第1および第2の冗長ワード線と前記ビット
    線対との交点に対応して配置される複数の冗長メモリセ
    ルをそれぞれ含む複数のブロック、 外部から与えられる行アドレス信号に応答して前記複数
    のブロックにおける通常行デコーダの各々に前記第1の
    数の通常ワード線駆動信号を供給する通常ワード線選択
    手段、 切換パッド、 第1の行置換アドレスがプログラム可能な第1のプログ
    ラム手段、 前記行アドレス信号が前記第1のプログラム手段にプロ
    グラムされた前記第1の行置換アドレスに一致するか否
    かを検知し、一致するとき第1の冗長行活性化信号を発
    生する第1の検知手段、 予め定められた行テスト信号と前記切換パッドの第1の
    電位とに応答して前記第1の冗長行活性化信号を発生す
    るよう前記第1の検知手段を強制的に制御する第1の行
    置換制御手段、 第2の行置換アドレスがプログラム可能な第2のプログ
    ラム手段、 前記行アドレス信号が前記第2のプログラム手段にプロ
    グラムされた前記第2の行置換アドレスに一致するか否
    かを検知し、一致するとき第2の冗長行活性化信号を発
    生する第2の検知手段、 前記行テスト信号と前記切換パッドの前記第1の電位と
    異なる第2の電位とに応答して前記第2の冗長行活性化
    信号を発生するよう前記第2の検知手段を強制的に制御
    する第2の行置換制御手段、 前記第1の検知手段から与えられる前記第1の冗長行活
    性化信号に応答して前記複数のブロックにおける冗長行
    デコーダの各々に前記第1の冗長ワード線駆動信号を供
    給し、前記第2の検知手段から与えられる前記第2の冗
    長行活性化信号に応答して前記複数のブロックにおける
    冗長行デコーダの各々に前記第2の冗長ワード線駆動信
    号を供給する冗長ワード線選択手段、および前記第1お
    よび第2の冗長行活性化信号のいずれかに応答して前記
    通常ワード線選択手段を不活性化する不活性化手段を備
    えた半導体記憶装置。
  7. 【請求項7】 (a)複数のワード線、 (b)前記ワード線に交差して配置される複数の通常ビ
    ット線対、 (c)前記ワード線と前記通常ビット線対との交点に対
    応して配置される複数の通常メモリセル、 (d)前記通常ビット線対に対応して設けられ、各々が
    対応する通常ビット線対に接続される複数の通常列選択
    ゲート対、 (e)前記ワード線に交差して配置される第1および第
    2の冗長ビット線対、 (f)前記ワード線と前記第1および第2の冗長ビット
    線対との交点に対応して配置される複数の冗長メモリセ
    ル、 (g)前記第1の冗長ビット線対に接続される第1の冗
    長列選択ゲート対、および (h)前記第2の冗長ビット線対に接続される第2の冗
    長列選択ゲート対をそれぞれ含む複数のブロック、 前記複数の通常列選択ゲート対に対応して設けられ、各
    々が対応する複数のブロックにおける通常列選択ゲート
    対の各々の制御電極に接続される複数の通常列選択線、 前記複数のブロックにおける第1の冗長列選択ゲート対
    の各々の制御電極に接続される第1の冗長列選択線、 前記複数のブロックにおける第2の冗長列選択ゲート対
    の各々の制御電極に接続される第2の冗長列選択線、 外部から与えられる列アドレス信号に応答して前記通常
    列選択線のいずれかを選択する通常列選択手段、 切換パッド、 第1の列置換アドレスがプログラム可能であって外部か
    ら与えられる列アドレス信号が前記第1の列置換アドレ
    スに一致するとき第1の一致信号を発生する第1のプロ
    グラム手段、 前記第1のプログラム手段から与えられる第1の一致信
    号に応答して第1の冗長列活性化信号を発生する第1の
    検知手段、 予め定められた列テスト信号と前記切換パッドの第1の
    電位とに応答して前記第1の冗長列活性化信号を発生す
    るよう前記第1の検知手段を強制的に制御する第1の列
    置換制御手段、 第2の列置換アドレスがプログラム可能であって前記列
    アドレス信号が前記第2の列置換アドレスに一致すると
    き第2の一致信号を発生する第2のプログラム手段、 前記第2のプログラム手段から与えられる第2の一致信
    号に応答して第2の冗長列活性化信号を発生する第2の
    検知手段、 前記列テスト信号と前記切換パッドの前記第1の電位と
    異なる第2の電位とに応答して前記第2の冗長列活性化
    信号を発生するよう前記第2の検知手段を強制的に制御
    する第2の列置換制御手段、 前記第1の検知手段から与えられる第1の冗長列活性化
    信号に応答して前記第1の冗長列選択線を選択し、前記
    第2の検知手段から与えられる第2の冗長列活性化信号
    に応答して前記第2の冗長列選択線を選択する冗長列選
    択手段、および前記第1および第2の一致信号ならびに
    前記列テスト信号のいずれかに応答して前記通常列選択
    手段を不活性化する不活性化手段を備えた半導体記憶装
    置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007012165A (ja) * 2005-06-30 2007-01-18 Fujitsu Ltd 半導体メモリ
JP2008047227A (ja) * 2006-08-17 2008-02-28 Fujitsu Ltd 半導体メモリおよびシステム
JP2009157957A (ja) * 2007-12-25 2009-07-16 Elpida Memory Inc 半導体記憶装置、および冗長領域のリフレッシュ方法
US7940585B2 (en) 2007-08-14 2011-05-10 Hynix Semiconductor Inc. Multi-column decoder stress test circuit

Families Citing this family (64)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5657284A (en) * 1995-09-19 1997-08-12 Micron Technology, Inc. Apparatus and method for testing for defects between memory cells in packaged semiconductor memory devices
US5965902A (en) * 1995-09-19 1999-10-12 Micron Technology Method and apparatus for testing of dielectric defects in a packaged semiconductor memory device
JP3577148B2 (ja) * 1995-11-28 2004-10-13 株式会社ルネサステクノロジ 半導体記憶装置
JP3865828B2 (ja) * 1995-11-28 2007-01-10 株式会社ルネサステクノロジ 半導体記憶装置
KR0177406B1 (ko) * 1996-04-12 1999-04-15 문정환 스페어 디코더 회로
US5781486A (en) * 1996-04-16 1998-07-14 Micron Technology Corporation Apparatus for testing redundant elements in a packaged semiconductor memory device
US5970002A (en) * 1996-04-24 1999-10-19 Samsung Electronics Co., Ltd. Semiconductor memory device having redundancy function
US5968190A (en) * 1996-10-31 1999-10-19 Cypress Semiconductor Corp. Redundancy method and circuit for self-repairing memory arrays
US5732033A (en) * 1996-11-14 1998-03-24 Micron Technology, Inc. Method and circuit for rapidly equilibrating paired digit lines of a memory device during testing
US6021512A (en) * 1996-11-27 2000-02-01 International Business Machines Corporation Data processing system having memory sub-array redundancy and method therefor
JPH10326496A (ja) * 1997-05-26 1998-12-08 Hitachi Ltd 半導体記憶装置
EP0884735B1 (en) 1997-05-30 2004-03-17 Fujitsu Limited Semiconductor memory device capable of multiple word-line selection and method of testing same
US6216239B1 (en) * 1997-09-15 2001-04-10 Integrated Device Technology, Inc. Testing method and apparatus for identifying disturbed cells within a memory cell array
US6078534A (en) * 1997-09-25 2000-06-20 Siemens Aktiengesellschaft Semiconductor memory having redundancy circuit
KR100480566B1 (ko) * 1997-10-27 2005-09-30 삼성전자주식회사 반도체메모리장치의리던던시메모리셀테스트신호발생기
KR19990061991A (ko) * 1997-12-31 1999-07-26 김영환 다수개의 리던던시 입출력 라인들을 구비하는 반도체 장치
KR100266665B1 (ko) * 1998-02-11 2000-10-02 김영환 반도체 메모리의 퓨즈 리페어회로
US6285360B1 (en) * 1998-05-08 2001-09-04 Aurora Systems, Inc. Redundant row decoder
US6049505A (en) * 1998-05-22 2000-04-11 Micron Technology, Inc. Method and apparatus for generating memory addresses for testing memory devices
JPH11339493A (ja) * 1998-05-27 1999-12-10 Mitsubishi Electric Corp 同期型半導体記憶装置
JP2000011681A (ja) * 1998-06-22 2000-01-14 Mitsubishi Electric Corp 同期型半導体記憶装置
KR100282226B1 (ko) * 1998-06-24 2001-02-15 김영환 반도체 메모리의 구제회로
DE19838861A1 (de) * 1998-08-26 2000-03-02 Siemens Ag Verfahren zur Reparatur von defekten Speicherzellen eines integrierten Speichers
JP2000123592A (ja) 1998-10-19 2000-04-28 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
KR100546101B1 (ko) * 1998-10-19 2006-05-23 주식회사 하이닉스반도체 반도체 메모리 소자의 병렬 테스트 방법 및 그 제어장치
JP2000182390A (ja) 1998-12-11 2000-06-30 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
US6452845B1 (en) 1999-01-07 2002-09-17 Micron Technology, Inc. Apparatus for testing redundant elements in a packaged semiconductor memory device
DE19901206C2 (de) 1999-01-14 2003-02-06 Infineon Technologies Ag Verfahren zur Reparatur von defekten Speicherzellen eines integrierten Halbleiterspeichers
JP2000293998A (ja) 1999-04-07 2000-10-20 Nec Corp 半導体記憶装置
DE19933980A1 (de) * 1999-07-20 2001-03-15 Siemens Ag Integrierter Halbleiterspeicher mit redundanten Einheiten von Speicherzellen und Verfahren zu seinem Betrieb
DE19954345A1 (de) * 1999-11-11 2001-05-31 Infineon Technologies Ag Speichereinrichtung
US6240038B1 (en) * 2000-02-21 2001-05-29 Hewlett Packard Company Low area impact technique for doubling the write data bandwidth of a memory array
JP2001351399A (ja) * 2000-06-09 2001-12-21 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
US6314030B1 (en) 2000-06-14 2001-11-06 Micron Technology, Inc. Semiconductor memory having segmented row repair
US6584007B2 (en) * 2000-12-29 2003-06-24 Stmicroelectronics, Inc. Circuit and method for testing a ferroelectric memory device
KR100380024B1 (ko) * 2001-01-04 2003-04-18 삼성전자주식회사 리던던시를 구비하는 반도체 메모리 장치
KR100425444B1 (ko) * 2001-03-27 2004-03-30 삼성전자주식회사 칩 선택회로를 구비하는 반도체 메모리장치 및 칩선택신호 발생 방법
KR20020088916A (ko) * 2001-05-22 2002-11-29 기아자동차주식회사 차량의 가속페달 단속장치
US6597609B2 (en) * 2001-08-30 2003-07-22 Micron Technology, Inc. Non-volatile memory with test rows for disturb detection
US6490209B1 (en) * 2001-10-02 2002-12-03 Infineon Technologies Richmond, Lp Memory employing multiple enable/disable modes for redundant elements and testing method using same
JP3874653B2 (ja) * 2001-11-29 2007-01-31 富士通株式会社 圧縮テスト機能を有するメモリ回路
JP4111486B2 (ja) * 2002-01-31 2008-07-02 シャープ株式会社 半導体記憶装置および電子情報機器
US6754094B2 (en) 2002-01-31 2004-06-22 Stmicroelectronics, Inc. Circuit and method for testing a ferroelectric memory device
JP2004013961A (ja) * 2002-06-04 2004-01-15 Mitsubishi Electric Corp 薄膜磁性体記憶装置
US6687157B1 (en) 2003-06-11 2004-02-03 Xilinx, Inc. Circuits and methods for identifying a defective memory cell via first, second and third wordline voltages
JP4424952B2 (ja) * 2003-09-16 2010-03-03 株式会社ルネサステクノロジ 不揮発性半導体記憶装置
KR100505711B1 (ko) * 2003-09-30 2005-08-03 삼성전자주식회사 칼럼 선택 신호 제어 방법 및 칼럼 선택 신호 제어 회로
DE102004020546B4 (de) * 2004-04-27 2010-02-25 Qimonda Ag Elektronische Speichervorrichtung und Verfahren zur Deaktivierung von redundanten Bit- oder Wortleitungen
US20060182187A1 (en) * 2005-02-11 2006-08-17 Likovich Robert B Jr Automatic reconfiguration of an I/O bus to correct for an error bit
KR100675295B1 (ko) * 2005-10-19 2007-01-29 삼성전자주식회사 반도체 메모리 장치
US20070279975A1 (en) * 2006-06-06 2007-12-06 Hudgens Stephen J Refreshing a phase change memory
KR101125953B1 (ko) * 2007-07-11 2012-03-22 후지쯔 세미컨덕터 가부시키가이샤 반도체 기억 장치 및 시스템
JP5131348B2 (ja) * 2008-03-19 2013-01-30 富士通セミコンダクター株式会社 半導体メモリ、システム、半導体メモリの動作方法および半導体メモリの製造方法
KR20120003247A (ko) * 2010-07-02 2012-01-10 주식회사 하이닉스반도체 테스트 신호 생성장치, 이를 이용하는 반도체 메모리 장치 및 이의 멀티 비트 테스트 방법
JP2012033210A (ja) * 2010-07-28 2012-02-16 Elpida Memory Inc 半導体装置及び半導体装置の試験方法
TWI482165B (zh) * 2011-09-13 2015-04-21 Ind Tech Res Inst 在三維晶片堆疊後可修補記憶體的技術
KR101890301B1 (ko) * 2012-06-14 2018-08-21 삼성전자주식회사 메모리 장치와 이의 동작 방법
US20140258780A1 (en) * 2013-03-05 2014-09-11 Micron Technology, Inc. Memory controllers including test mode engines and methods for repair of memory over busses used during normal operation of the memory
KR20160011021A (ko) * 2014-07-21 2016-01-29 에스케이하이닉스 주식회사 메모리 장치
WO2016032784A1 (en) 2014-08-25 2016-03-03 Rambus Inc. Buffer circuit with adaptive repair capability
KR102312957B1 (ko) * 2015-05-26 2021-10-15 에스케이하이닉스 주식회사 반도체 메모리 장치 및 그 동작 방법
CN112447218A (zh) 2019-08-29 2021-03-05 台湾积体电路制造股份有限公司 存储器电路和方法
DE102019128331A1 (de) 2019-08-29 2021-03-04 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Gemeinsam genutzter decodiererschaltkreis und verfahren
US11908521B2 (en) 2022-02-01 2024-02-20 Western Digital Technologies, Inc. Non-volatile memory with redundant control line driver

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62293598A (ja) * 1986-06-12 1987-12-21 Toshiba Corp 半導体記憶装置
JP2900451B2 (ja) * 1989-11-30 1999-06-02 ソニー株式会社 メモリ装置
US5343429A (en) * 1991-12-06 1994-08-30 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor memory device having redundant circuit and method of testing to see whether or not redundant circuit is used therein
JP2955156B2 (ja) * 1992-10-29 1999-10-04 三菱電機株式会社 半導体装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007012165A (ja) * 2005-06-30 2007-01-18 Fujitsu Ltd 半導体メモリ
JP4607685B2 (ja) * 2005-06-30 2011-01-05 富士通セミコンダクター株式会社 半導体メモリ
JP2008047227A (ja) * 2006-08-17 2008-02-28 Fujitsu Ltd 半導体メモリおよびシステム
US7940585B2 (en) 2007-08-14 2011-05-10 Hynix Semiconductor Inc. Multi-column decoder stress test circuit
JP2009157957A (ja) * 2007-12-25 2009-07-16 Elpida Memory Inc 半導体記憶装置、および冗長領域のリフレッシュ方法

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