JP6707061B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents

Description

本発明は、磁気記録媒体に関する。

磁気記録媒体への情報の記録および／または再生は、通常、磁気記録媒体の表面（磁性層表面）と磁気ヘッド（以下、単に「ヘッド」とも記載する。）とを接触させ摺動させることにより行われる。

磁気記録媒体に記録された情報を連続的または断続的に繰り返し再生するためには、磁性層表面とヘッドとの摺動が繰り返される（繰り返し摺動）。このような繰り返し摺動における電磁変換特性の低下を抑制することは、データストレージ用の記録媒体としての磁気記録媒体の信頼性を高めるうえで望ましい。繰り返し摺動における電磁変換特性の低下が少ない磁気記録媒体は、連続的または断続的に再生を繰り返しても優れた電磁変換特性を発揮し続けることができるからである。

繰り返し摺動において電磁変換特性が低下する原因としては、磁性層表面とヘッドとの距離が広がる現象（「スペーシングロス」と呼ばれる。）が発生することが挙げられる。このスペーシングロスの原因としては、再生が繰り返されて磁性層表面とヘッドとが摺動し続ける間に磁気記録媒体由来の異物がヘッドに付着することが挙げられる。こうして発生したヘッド付着物に対する対策としては、従来より、ヘッド付着物を除去する機能を磁性層表面に持たせるために、磁性層に研磨剤を含有させることが行われてきた（例えば特許文献１参照）。

特開２００５−２４３１６２号公報

磁性層に研磨剤を含有させることは、ヘッド付着物によって発生するスペーシングロスに起因する電磁変換特性の低下を抑制するうえで好ましい。しかるに、従来行われていたように磁性層に研磨剤を含有させることによって達成される水準よりも更に電磁変換特性の低下を抑制することが可能となれば、データストレージ用の記録媒体としての磁気記録媒体の信頼性をより高めることができる。

かかる状況を鑑み、本発明の目的は、磁性層表面とヘッドとの摺動を繰り返しても電磁変換特性の低下が少ない磁気記録媒体を提供することにある。

本発明の一態様は、
非磁性支持体上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有する磁気記録媒体であって、
上記強磁性粉末は強磁性六方晶フェライト粉末であり、磁性層は研磨剤および脂肪酸エステルを含み、
Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ法を用いた上記磁性層のＸ線回折分析により求められる六方晶フェライト結晶構造の（１１４）面の回折ピークのピーク強度Ｉｎｔ（１１４）に対する（１１０）面の回折ピークのピーク強度Ｉｎｔ（１１０）の強度比（Ｉｎｔ（１１０）／Ｉｎｔ（１１４）；以下、「ＸＲＤ（Ｘ−ｒａｙ ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ）強度比」とも記載する。）は、０．５以上４．０以下であり、
上記磁気記録媒体の垂直方向角型比は、０．６５以上１．００以下であり、
上記磁気記録媒体を真空加熱する前に上記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、０ｎｍ超かつ７．０ｎｍ以下であり、
上記磁気記録媒体を真空加熱した後に上記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、０ｎｍ超かつ７．０ｎｍ以下であり、かつ
上記磁気記録媒体を真空加熱した後に上記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳ_{ａｆｔｅｒ}と、上記磁気記録媒体を真空加熱する前に上記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳ_{ｂｅｆｏｒｅ}との差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）は、０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下である磁気記録媒体、
に関する。

一態様では、上記垂直方向角型比は、０．６５以上０．９０以下であることができる。

一態様では、上記磁気記録媒体を真空加熱する前に上記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、３．０ｎｍ以上７．０ｎｍ以下であることができる。

一態様では、上記磁気記録媒体を真空加熱した後に上記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、３．０ｎｍ以上７．０ｎｍ以下であることができる。

一態様では、上記差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）は、２．０ｎｍ以上８．０ｎｍ以下であることができる。

一態様では、上記磁気記録媒体は、上記非磁性支持体と上記磁性層との間に、非磁性粉末および結合剤を含む非磁性層を有することができる。

一態様では、上記磁気記録媒体は、上記非磁性支持体の上記磁性層を有する表面側とは反対の表面側に、非磁性粉末および結合剤を含むバックコート層を有することができる。

一態様では、上記磁気記録媒体は、磁気テープであることができる。

本発明の一態様によれば、磁性層表面とヘッドとを繰り返し摺動させても電磁変換特性の低下が少ない磁気記録媒体を提供することができる。

実施例で用いた振動付与装置の概略構成図である。

本発明の一態様は、非磁性支持体上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有する磁気記録媒体であって、上記強磁性粉末は強磁性六方晶フェライト粉末であり、磁性層は研磨剤を含み、Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ法を用いた磁性層のＸ線回折分析によって求められる六方晶フェライト結晶構造の（１１４）面の回折ピークのピーク強度Ｉｎｔ（１１４）に対する（１１０）面の回折ピークのピーク強度Ｉｎｔ（１１０）の強度比（Ｉｎｔ（１１０）／Ｉｎｔ（１１４））が０．５以上４．０以下であり、上記磁気記録媒体の垂直方向角型比が０．６５以上１．００以下であり、上記磁気記録媒体を真空加熱する前に上記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は０ｎｍ超かつ７．０ｎｍ以下であり、上記磁気記録媒体を真空加熱した後に上記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は０ｎｍ超かつ７．０ｎｍ以下であり、かつ上記磁気記録媒体を真空加熱した後に上記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳ_{ａｆｔｅｒ}と、上記磁気記録媒体を真空加熱する前に上記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳ_{ｂｅｆｏｒｅ}との差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）は０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下である磁気記録媒体に関する。

本発明および本明細書において、「磁性層（の）表面」とは、磁気記録媒体の磁性層側表面と同義である。また、本発明および本明細書において、「強磁性六方晶フェライト粉末」とは、複数の強磁性六方晶フェライト粒子の集合を意味するものとする。強磁性六方晶フェライト粒子とは、六方晶フェライト結晶構造を有する強磁性粒子である。以下では、強磁性六方晶フェライト粉末を構成する粒子（強磁性六方晶フェライト粒子）を、「六方晶フェライト粒子」または単に「粒子」とも記載する。「集合」とは、集合を構成する粒子が直接接触している態様に限定されず、結合剤、添加剤等が、粒子同士の間に介在している態様も包含される。以上の点は、本発明および本明細書における非磁性粉末等の各種粉末についても同様とする。

本発明および本明細書において、方向および角度に関する記載（例えば垂直、直交、平行等）には、特記しない限り、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。上記誤差の範囲とは、例えば、厳密な角度±１０°未満の範囲を意味し、厳密な角度±５°以内であることが好ましく、±３°以内であることがより好ましい。

また、以下において、磁気記録媒体を真空加熱する前に磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅（Ｆｕｌｌ Ｗｉｄｔｈ ａｔ Ｈａｌｆ Ｍａｘｉｍｕｍ；ＦＷＨＭ）を「磁性層のＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}」または「ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}」とも記載し_、磁気記録媒体を真空加熱した後に磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅を「磁性層のＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}」または「ＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}」とも記載する。また、磁気記録媒体を真空加熱した後に磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳ_{ａｆｔｅｒ}と、磁気テープを真空加熱する前に磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳ_{ｂｅｆｏｒｅ}との差分を、「磁性層の差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）」または「差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）」とも記載する。

上記磁気記録媒体に関する本発明者らの推察は、以下の通りである。
上記磁気記録媒体の磁性層は、研磨剤を含む。磁性層に研磨剤を含有させることにより、ヘッド付着物を除去する機能を磁性層表面に付与することができる。ただし、磁性層表面および／または磁性層表面近傍に存在する研磨剤が、磁性層表面とヘッドとの摺動時にヘッドから力を受けて磁性層内部に適度に沈み込まない場合、磁性層表面に突出した研磨剤との接触によってヘッドが削れてしまう（ヘッド削れ）と考えられる。このように発生するヘッド削れを抑制することができれば、スペーシングロスを原因とする電磁変換特性の低下をより一層抑制することが可能になると考えられる。
以上の点に関して、本発明者らは、磁性層に含まれる強磁性六方晶フェライト粉末には、磁性層内部に押し込まれた研磨剤を支えて研磨剤の沈み込みの程度に影響を及ぼす粒子（以下、「前者の粒子」ともいう。）と、影響を及ぼさないか影響が少ないと考えられる粒子（以下、「後者の粒子」ともいう。）とが存在すると推察している。後者の粒子は、例えば磁性層形成用組成物の調製時に行われる分散処理により粒子が一部欠けること（チッピング（ｃｈｉｐｐｉｎｇ））により発生した微細な粒子と考えられる。更に本発明者らは、かかる微細な粒子が多く含まれるほど、理由は明らかではないものの磁性層の強度は低下すると推察している。磁性層の強度の低下は、磁性層表面とヘッドとの摺動時に磁性層表面が削れて（磁性層削れ）発生した異物が磁性層表面とヘッドとの間に介在してスペーシングロスが発生する原因となる。
そして本発明者らは、磁性層に存在する強磁性六方晶フェライト粉末の中で、前者の粒子は、Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ法を用いたＸ線回折分析において回折ピークをもたらす粒子であり、後者の粒子は微細なため回折ピークをもたらさないか回折ピークへの影響は小さいと考えている。そのため、Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ法を用いた磁性層のＸ線回折分析によってもたらされる回折ピークの強度に基づけば、磁性層内部に押し込まれた研磨剤を支えて研磨剤の沈み込みの程度に影響を及ぼす粒子の磁性層における存在状態を制御することができ、その結果、研磨剤の沈み込みの程度を制御することが可能になると本発明者らは推察している。詳細を後述するＸＲＤ強度比は、この点に関する指標と本発明者らは考えている。
一方、垂直方向角型比とは、磁性層表面に対して垂直な方向で測定される飽和磁化に対する残留磁化の比であって、残留磁化が小さいほど値が小さくなる。上記の後者の粒子は微細であり磁化を保持し難いと考えられるため、磁性層において後者の粒子が多く含まれるほど、垂直方向角型比は小さくなる傾向があると推察される。そのため、垂直方向角型比は、磁性層における微細な粒子（上記の後者の粒子）の存在量の指標になり得ると本発明者らは考えている。そして、かかる微細な粒子が磁性層に多く含まれるほど、磁性層の強度が低下し磁性層表面とヘッドとの摺動時に磁性層表面が削れて発生した異物が磁性層表面とヘッドとの間に介在してスペーシングロスが発生する傾向は強くなると考えられる。
そして上記磁気記録媒体において、ＸＲＤ強度比および垂直方向角型比がそれぞれ上記範囲にあることが、繰り返し摺動における電磁変換特性の低下を抑制することに寄与すると本発明者らは考えている。これは、ＸＲＤ強度比を制御することにより主にヘッド削れを抑制することができ、垂直方向角型比を制御することにより主に磁性層削れを抑制することができるためと、本発明者らは推察している。

更に上記磁気記録媒体において、磁性層のＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}、ＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}および差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）がそれぞれ上記範囲であることが、繰り返し摺動における電磁変換特性の低下をより一層抑制することに寄与すると本発明者らは考えている。この点について、以下に更に説明する。

ＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}、および差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）を求めるためのスペーシングＳ_{ａｆｔｅｒ}は、磁気記録媒体を真空加熱した後に求められる値である。本発明および本明細書において、磁気記録媒体の「真空加熱」とは、磁気記録媒体を２００Ｐａ以上０．０１ＭＰａ以下の圧力かつ７０〜９０℃の雰囲気温度の環境下に２４時間保持することにより行われる。
本発明および本明細書において、磁気記録媒体の磁性層表面において光学干渉法により測定されるスペーシングとは、以下の方法により測定される値とする。
磁気記録媒体と透明な板状部材（例えばガラス板等）を、磁気記録媒体の磁性層表面が透明な板状部材と対向するように重ね合わせた状態で、磁気記録媒体の磁性層側とは反対側から５．０５×１０^４Ｎ／ｍ（０．５ａｔｍ）の圧力で押圧部材を押しつける。この状態で、透明な板状部材を介して磁気記録媒体の磁性層表面に光を照射し（照射領域：１５００００〜２０００００μｍ^２）、磁気記録媒体の磁性層表面からの反射光と透明な板状部材の磁気記録媒体側表面からの反射光との光路差によって発生する干渉光の強度（例えば干渉縞画像のコントラスト）に基づき、磁気記録媒体の磁性層表面と透明な板状部材の磁気記録媒体側表面との間のスペーシング（距離）を求める。ここで照射される光は特に限定されるものではない。照射される光が、複数波長の光を含む白色光のように、比較的広範な波長範囲にわたり発光波長を有する光の場合には、透明な板状部材と反射光を受光する受光部との間に、干渉フィルタ等の特定波長または特定波長域以外の光を選択的にカットする機能を有する部材を配置し、反射光の中の一部の波長または一部の波長域の光を選択的に受光部に入射させる。照射させる光が単一の発光ピークを有する光（いわゆる単色光）の場合には、上記の部材は用いなくてもよい。受光部に入射させる光の波長は、一例として、例えば５００〜７００ｎｍの範囲にあることができる。ただし、受光部に入射させる光の波長は、上記範囲に限定されるものではない。また、透明な板状部材は、この部材を介して磁気記録媒体に光を照射し干渉光が得られる程度に、照射される光を透過する透明性を有する部材であればよい。
以上の測定は、例えばＭｉｃｒｏ Ｐｈｙｓｉｃｓ社製Ｔａｐｅ Ｓｐａｃｉｎｇ Ａｎａｌｙｚｅｒ等の市販のテープスペーシングアナライザー（Ｔａｐｅ Ｓｐａｃｉｎｇ Ａｎａｌｙｚｅｒ；ＴＳＡ）を用いて行うことができる。実施例におけるスペーシング測定は、Ｍｉｃｒｏ Ｐｈｙｓｉｃｓ社製Ｔａｐｅ Ｓｐａｃｉｎｇ Ａｎａｌｙｚｅｒを用いて実施した。
また、本発明および本明細書におけるスペーシング分布の半値全幅とは、上記スペーシングの測定により得られる干渉縞画像を３０００００ポイントに分割して各ポイントのスペーシング（磁気記録媒体の磁性層表面と透明な板状部材の磁気記録媒体側表面との間の距離）を求め、これをヒストグラムとし、このヒストグラムをガウス分布でフィッティングしたときの半値全幅（Ｆｕｌｌ Ｗｉｄｔｈ ａｔ Ｈａｌｆ Ｍａｘｉｍｕｍ；ＦＷＨＭ）である。
また、差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）は、上記３０００００ポイントにおける真空加熱後の最頻値から真空加熱前の最頻値を差し引いた値をいうものとする。
磁性層に関する上記の各種値について、本発明者らは下記（１）および（２）のように推察している。

（１）磁性層表面には、通常、磁性層表面とヘッドとが摺動する際にヘッドと主に接触（いわゆる真実接触）する部分（突起）と、この部分より低い部分（以下、「素地部分」と記載する。）とが存在する。先に説明したスペーシングは、磁性層表面とヘッドとが摺動する際のヘッドと素地部分との距離の指標になる値であると、本発明者らは考えている。ただし磁性層に含まれる潤滑剤が磁性層表面に液膜を形成していると、素地部分とヘッドとの間に液膜が存在することにより、液膜の厚み分、スペーシングは狭くなると考えられる。
ところで、潤滑剤は、一般に流体潤滑剤と境界潤滑剤とに大別される。上記磁気記録媒体の磁性層に含まれる脂肪酸エステルは、流体潤滑剤として機能し得る成分と言われている。流体潤滑剤は、それ自体が磁性層表面に液膜を形成することにより、磁性層表面を保護する役割を果たすことができると考えられる。本発明者らは、磁性層表面に脂肪酸エステルの液膜が存在することが、磁性層表面とヘッドとが円滑に摺動すること（摺動性の向上）に寄与すると考えた。ただし、脂肪酸エステルが磁性層表面に過剰に存在すると、脂肪酸エステルにより磁性層表面とヘッドとの間にメニスカス（液架橋）が形成されて貼り付きの原因になり摺動性が低下すると考えられる。
以上の点に関して本発明者らは、脂肪酸エステルが真空加熱により揮発する性質を有する成分であることに着目し、真空加熱後（脂肪酸エステルの液膜が揮発し除去された状態）と真空加熱前（脂肪酸エステルの液膜が存在している状態）のスペーシングの差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）を、磁性層表面における脂肪酸エステルにより形成される液膜の厚みの指標として採用した。この値が０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下となるように磁性層表面に脂肪酸エステルの液膜を存在させることが、貼り付きの発生を抑制しつつ、磁性層表面とヘッドとの摺動性を向上させることにつながると、本発明者らは推察している。摺動性を向上させることができれば、磁性層表面とヘッドとの摺動時に磁性層表面がダメージを受けて磁性層削れが発生することを抑制することができると考えられる。このことが、磁性層削れにより生じた異物によってスペーシングロスが発生して繰り返し摺動において電磁変換特性が低下することを抑制することにつながると、本発明者らは推察している。

（２）上記のスペーシング分布の半値全幅は、この値が小さいほど、磁性層表面の各部において測定されるスペーシングの値にばらつきが少ないことを意味する。本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、磁性層表面とヘッドとの摺動性を向上させるためには、磁性層表面に存在する突起の高さの均一性を高め、かつ脂肪酸エステルの液膜の厚みの均一性を高めることにより、磁性層表面とヘッドとの接触状態の均一性を高めることが有効であると考えるに至った。
この点に関し、上記のスペーシングの値がばらつく要因は、磁性層表面の突起の高さのばらつきと、脂肪酸エステルの液膜の厚みのばらつきにあると考えられる。真空加熱前、即ち磁性層表面に脂肪酸エステルの液膜が存在する状態で測定されるスペーシング分布の半値全幅ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}は、突起の高さのばらつきと脂肪酸エステルの液膜の厚みのばらつきが大きいほど大きくなり、中でも脂肪酸エステルの液膜の厚みのばらつきが大きく影響すると、本発明者らは推察している。これに対し、真空加熱後、即ち磁性層表面から脂肪酸エステルの液膜が除去された状態で測定されるスペーシング分布の半値全幅ＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}は、突起の高さのばらつきが大きいほど大きくなると本発明者らは考えている。即ち、スペーシング分布の半値全幅ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}およびＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}がともに小さいほど、磁性層表面の脂肪酸エステルの液膜の厚みのばらつきも突起の高さのばらつきも小さいことを意味すると、本発明者らは推察している。そしてスペーシング分布の半値全幅ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}およびＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}がともに０ｎｍ超かつ７．０ｎｍ以下となるように、突起の高さおよび脂肪酸エステルの液膜の厚みの均一性を高めることが、磁性層表面とヘッドとの摺動性を向上させることに寄与すると考えられる。このように磁性層表面とヘッドとの摺動性を向上させることが、繰り返し摺動における電磁変換特性の低下の抑制につながると本発明者らは推察している。

以上が、上記磁気記録媒体において、磁性層表面とヘッドとの摺動を繰り返しても電磁変換特性の低下を抑制することができることに関する本発明者らの推察である。ただし本発明は、上記推察によって何ら限定されない。なお本明細書には、本発明者らの推察が含まれる。かかる推察に、本発明は何ら限定されるものではない。

以下、上記の各種値について、更に詳細に説明する。

［ＸＲＤ強度比］
上記磁気記録媒体は、磁性層に強磁性六方晶フェライト粉末を含む。ＸＲＤ強度比は、強磁性六方晶フェライト粉末を含む磁性層をＩｎ−Ｐｌａｎｅ法を用いてＸ線回折分析することによって求められる。以下において、Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ法を用いて行われるＸ線回折分析を、「Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ ＸＲＤ」とも記載する。Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ ＸＲＤは、薄膜Ｘ線回折装置を用いて、以下の条件で、磁性層表面にＸ線を照射して行うものとする。磁気記録媒体は、テープ状の磁気記録媒体（磁気テープ）とディスク状の磁気記録媒体（磁気ディスク）とに大別される。測定方向は、磁気テープについては長手方向、磁気ディスクについては半径方向とする。
Ｃｕ線源使用（出力４５ｋＶ、２００ｍＡ）
Ｓｃａｎ条件：２０〜４０ｄｅｇｒｅｅの範囲を０．０５ｄｅｇｒｅｅ／ｓｔｅｐ、０．１ｄｅｇｒｅｅ／ｍｉｎ
使用光学系：平行光学系
測定方法：:２θχスキャン(Ｘ線入射角０．２５°)
上記条件は、薄膜Ｘ線回折装置における設定値である。薄膜Ｘ線回折装置としては、公知の装置を用いることができる。薄膜Ｘ線回折装置の一例としては、リガク社製ＳｍａｒｔＬａｂを挙げることができる。Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ ＸＲＤの分析に付す試料は、測定対象の磁気記録媒体から切り出した媒体試料であって、後述する回折ピークが確認できればよく、その大きさおよび形状は限定されるものではない。

Ｘ線回折分析の手法としては、薄膜Ｘ線回折と粉末Ｘ線回折が挙げられる。粉末Ｘ線回折は粉末試料のＸ線回折を測定するのに対し、薄膜Ｘ線回折によれば基板上に形成された層等のＸ線回折を測定することができる。薄膜Ｘ線回折は、Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ法とＯｕｔ−Ｏｆ−Ｐｌａｎｅ法とに分類される。測定時のＸ線入射角は、Ｏｕｔ−Ｏｆ−Ｐｌａｎｅ法では５．００〜９０．００°の範囲であるのに対し、Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ法では通常０．２０〜０．５０°の範囲である。本発明および本明細書におけるＩｎ−Ｐｌａｎｅ ＸＲＤでは、上記の通りＸ線入射角は０．２５°とする。Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ法は、Ｏｕｔ−Ｏｆ−Ｐｌａｎｅ法と比べてＸ線入射角が小さいためＸ線の侵入深さが浅い。したがって、Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ法を用いるＸ線回折分析（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ ＸＲＤ）によれば、測定対象試料の表層部のＸ線回折分析を行うことができる。磁気記録媒体試料については、Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ ＸＲＤによれば磁性層のＸ線回折分析を行うことができる。上記のＸＲＤ強度比とは、かかるＩｎ−Ｐｌａｎｅ ＸＲＤにより得られたＸ線回折スペクトルの中で、六方晶フェライト結晶構造の（１１４）面の回折ピークのピーク強度Ｉｎｔ（１１４）に対する（１１０）面の回折ピークのピーク強度Ｉｎｔ（１１０）の強度比（Ｉｎｔ（１１０）／Ｉｎｔ（１１４））である。Ｉｎｔは、Ｉｎｔｅｎｓｉｔｙ（強度）の略称として用いている。Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ ＸＲＤにより得られるＸ線回折スペクトル（縦軸：Ｉｎｔｅｎｓｉｔｙ、横軸：回折角２θχ（ｄｅｇｒｅｅ））において、（１１４）面の回折ピークは、２θχが３３〜３６ｄｅｇｒｅｅの範囲で検出されるピークであり、（１１０）面の回折ピークは、２θχが２９〜３２ｄｅｇｒｅｅの範囲で検出されるピークである。

回折面の中で、六方晶フェライト結晶構造の（１１４）面は、強磁性六方晶フェライト粉末の粒子（六方晶フェライト粒子）の磁化容易軸方向（ｃ軸方向）近くに位置する。また、六方晶フェライト結晶構造の（１１０）面は、磁化容易軸方向と直交する方向に位置する。
磁性層に含まれる六方晶フェライト粒子の中で先に記載した前者の粒子が、磁化容易軸方向と直交する方向が磁性層表面に対してより平行に近い状態で存在するほど、研磨剤が六方晶フェライト粒子によって支えられて磁性層内部へ沈み込み難いと本発明者らは考えている。これに対し、磁性層において前者の粒子が、磁化容易軸方向と直交する方向が磁性層表面に対してより垂直に近い状態で存在するほど、研磨剤は六方晶フェライト粉末によって支えられ難く、磁性層内部へ沈み込み易いと本発明者らは考えている。更に本発明者らは、Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ ＸＲＤによって求められるＸ線回折スペクトルにおいて、六方晶フェライト結晶構造の（１１４）面の回折ピークのピーク強度Ｉｎｔ（１１４）に対する（１１０）面の回折ピークのピーク強度Ｉｎｔ（１１０）の強度比（Ｉｎｔ（１１０）／Ｉｎｔ（１１４）；ＸＲＤ強度比）が大きいほど、磁化容易軸方向と直交する方向が磁性層表面に対してより平行に近い状態で存在する前者の粒子が磁性層に多く含まれていることを意味し、ＸＲＤ強度比が小さいほど、そのような状態で存在する前者の粒子が磁性層に少ないことを意味すると推察している。そして、ＸＲＤ強度比が４．０以下であることは、前者の粒子、即ち磁性層内部に押し込まれた研磨剤を支えて研磨剤の沈み込みの程度に影響を及ぼす粒子が研磨剤を支え過ぎず、その結果、磁性層表面とヘッドとの摺動時に研磨剤が適度に磁性層内部に沈み込むことができると考えられる。このことが、磁性層表面とヘッドとの摺動を繰り返してもヘッド削れを発生し難くすることに寄与すると、本発明者らは推察している。一方、磁性層表面とヘッドとの摺動時、磁性層表面に研磨剤が適度に突出した状態にあることは、磁性層表面とヘッドとが接触（真実接触）する面積を低減することに寄与すると考えられる。真実接触面積が大きいほど磁性層表面とヘッドとの摺動時にヘッドから磁性層表面に加わる力が強くなり、磁性層表面がダメージを受けて磁性層表面が削れる原因になると考えられる。この点に関し、ＸＲＤ強度比が０．５以上であることは、磁性層表面とヘッドとの摺動時に研磨剤が磁性層表面に適度に突出した状態にある程度に、先に記載した前者の粒子が研磨剤を支えることができる状態で磁性層に存在していることを示していると本発明者らは推察している。

ＸＲＤ強度比は、電磁変換特性の低下をより一層抑制する観点から、３．５以下であることが好ましく、３．０以下であることがより好ましい。また、同様の観点から、ＸＲＤ強度比は、０．７以上であることが好ましく、１．０以上であることがより好ましい。ＸＲＤ強度比は、例えば、磁気記録媒体の製造工程において行われる配向処理の処理条件によって制御することができる。配向処理としては、垂直配向処理を行うことが好ましい。垂直配向処理は、好ましくは、湿潤状態（未乾燥状態）の磁性層形成用組成物の塗布層の表面に対して垂直に磁場を印加することにより行うことができる。配向条件を強化するほど、ＸＲＤ強度比の値は大きくなる傾向がある。配向処理の処理条件としては、配向処理における磁場強度等が挙げられる。配向処理の処理条件は特に限定されるものではない。０．５以上４．０以下のＸＲＤ強度比が実現できるように配向処理の処理条件を設定すればよい。一例として、垂直配向処理における磁場強度は、０．１０〜０．８０Ｔとすることができ、または０．１０〜０．６０Ｔとすることもできる。磁性層形成用組成物における強磁性六方晶フェライト粉末の分散性を高めるほど、垂直配向処理によりＸＲＤ強度比の値は大きくなる傾向がある。

［垂直方向角型比］
垂直方向角型比とは、磁気記録媒体の垂直方向において測定される角型比である。角型比に関して記載する「垂直方向」とは、磁性層表面と直交する方向をいう。例えば磁気記録媒体がテープ状の磁気記録媒体、即ち磁気テープである場合には、垂直方向は、磁気テープの長手方向と直交する方向でもある。垂直方向角型比は、振動試料型磁束計を用いて測定される。詳しくは、本発明および本明細書における垂直方向角型比は、振動試料型磁束計において、２３℃±１℃の測定温度において、磁気記録媒体に外部磁場を最大外部磁場１１９４ｋＡ／ｍ（１５ｋＯｅ）かつスキャン速度４．８ｋＡ／ｍ／秒（６０Ｏｅ／秒）の条件で掃引して求められる値であって、反磁界補正後の値とする。測定値は、振動試料型磁束計のサンプルプローブの磁化をバックグラウンドノイズとして差し引いた値として得るものとする。

上記磁気記録媒体の垂直方向角型比は、０．６５以上である。本発明者らは、磁気記録媒体の垂直方向角型比は、磁性層の強度低下を引き起こすと考えられる先に記載した後者の粒子（微細な粒子）の存在量の指標になり得ると推察している。磁気記録媒体の垂直方向角型比が０．６５以上である磁性層は、かかる微細な粒子の存在量が少ないため強度が高く、磁性層表面とヘッドとの摺動により削れ難いと考えられる。磁性層表面が削れ難いことにより、磁性層表面が削れて発生した異物によりスペーシングロスが発生して電磁変換特性が低下することを抑制することができると推察される。電磁変換特性の低下をより一層抑制する観点から、上記垂直方向角型比は０．６８以上であることが好ましく、０．７０以上であることがより好ましく、０．７３以上であることが更に好ましく、０．７５以上であることが一層好ましい。また、角型比は、原理上、最大で１．００である。したがって、上記磁気記録媒体の垂直方向角型比は１．００以下である。上記垂直方向角型比は、例えば０．９５以下、０．９０以下、０．８７以下または０．８５以下であってもよい。ただし、上記垂直方向角型比の値が大きいほど、磁性層中に上記の微細な後者の粒子が少なく磁性層の強度の観点から好ましいと考えられる。したがって、上記垂直方向角型比は、上記例示した上限を上回ってもよい。

上記垂直方向角型比を０．６５以上とするためには、磁性層形成用組成物の調製工程において、粒子が一部欠けること（チッピング）によって微細な粒子が発生することを抑制することが好ましいと本発明者らは考えている。チッピングの発生を抑制するための具体的手段は後述する。

［スペーシング分布の半値全幅ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}、ＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}］
上記磁気記録媒体において測定される真空加熱前のスペーシング分布の半値全幅ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}、および真空加熱後のスペーシング分布の半値全幅ＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}は、ともに０ｎｍ超かつ７．０ｎｍ以下である。このことが、繰り返し摺動における電磁変換特性の低下を抑制することに寄与すると、本発明者らは推察している。電磁変換特性の低下をより一層抑制する観点から、ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}およびＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}は、それぞれ、６．５ｎｍ以下であることが好ましく、６．０ｎｍ以下であることがより好ましく、５．５ｎｍ以下であることが更に好ましく、５．０ｎｍ以下であることが一層好ましく、４．５ｎｍ以下であることが更に一層好ましい。ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}およびＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}は、例えば０．５ｎｍ以上、１．０ｎｍ以上、２．０ｎｍ以上、または３．０ｎｍ以上であることができる。ただし、値が小さいほど繰り返し摺動における電磁変換特性の低下を抑制する観点から好ましいと考えられるため、ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}およびＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}は、上記の例示した値を下回ってもよい。
真空加熱前のスペーシング分布の半値全幅ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}は、主に脂肪酸エステルの液膜の厚みのばらつきを低減することにより小さくすることができる。具体的な手段の一例は後述する。一方、真空加熱後のスペーシング分布の半値全幅ＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}は、磁性層表面の突起の高さのばらつきを低減することにより小さくすることができる。そのためには、磁性層に含まれる粉末成分、例えば詳細を後述する非磁性フィラーの磁性層における存在状態を制御することが好ましい。具体的な手段の一例は後述する。

［差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）］
上記磁気記録媒体において測定される真空加熱前後のスペーシングの差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）は、０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下である。このことも、繰り返し摺動における電磁変換特性の低下を抑制することに寄与すると、本発明者らは推察している。電磁変換特性の低下をより一層抑制する観点から、差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）は、０．１ｎｍ以上であることが好ましく、１．０ｎｍ以上であることがより好ましく、１．５ｎｍ以上であることが更に好ましく、２．０ｎｍ以上であることが一層好ましく、２．５ｎｍ以上であることがより一層好ましく、３．０ｎｍ以上であることが更に一層好ましい。一方、繰り返し摺動における電磁変換特性の低下をより一層抑制する観点からは、差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）は、７．５ｎｍ以下であることが好ましく、７．０ｎｍ以下であることがより好ましく、６．５ｎｍ以下であることが更に好ましく、６．０ｎｍ以下であることが一層好ましく、５．５ｎｍ以下であることがより一層好ましく、５．０ｎｍ以下であることが更に一層好ましく、４．５ｎｍ以下であることが更により一層好ましく、４．０ｎｍ以下であることが更になお一層好ましい。差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）は、磁性層形成用組成物に添加する脂肪酸エステル量によって制御することができる。また、非磁性支持体と磁性層との間に非磁性層を有する磁気記録媒体については、非磁性層形成用組成物に添加する脂肪酸エステル量によっても制御することができる。非磁性層は、潤滑剤を保持し磁性層に供給する役割を果たすことができ、非磁性層に含まれる脂肪酸エステルは磁性層に移行し磁性層表面に存在し得るからである。

以下、上記磁気記録媒体について、更により詳細に説明する。

［磁性層］
＜強磁性六方晶フェライト粉末＞
上記磁気記録媒体の磁性層は、強磁性粉末として強磁性六方晶フェライト粉末を含む。強磁性六方晶フェライト粉末に関して、六方晶フェライトの結晶構造としては、マグネトプランバイト型（「Ｍ型」とも呼ばれる。）、Ｗ型、Ｙ型およびＺ型が知られている。上記磁性層に含まれる強磁性六方晶フェライト粉末は、いずれの結晶構造を取るものであってもよい。また、六方晶フェライトの結晶構造には、構成原子として、鉄原子および二価金属原子が含まれる。二価金属原子とは、イオンとして二価のカチオンになり得る金属原子であり、バリウム原子、ストロンチウム原子、カルシウム原子等のアルカリ土類金属原子、鉛原子等を挙げることができる。例えば、二価金属原子としてバリウム原子を含む六方晶フェライトは、バリウムフェライトであり、ストロンチウム原子を含む六方晶フェライトは、ストロンチウムフェライトである。また、六方晶フェライトは、二種以上の六方晶フェライトの混晶であってもよい。混晶の一例としては、バリウムフェライトとストロンチウムフェライトの混晶を挙げることができる。

強磁性六方晶フェライト粉末の粒子サイズの指標としては、活性化体積を用いることができる。「活性化体積」とは、磁化反転の単位である。本発明および本明細書に記載の活性化体積は、振動試料型磁束計を用いて保磁力Ｈｃ測定部の磁場スイープ速度３分と３０分とで雰囲気温度２３℃±１℃の環境下で測定し、以下のＨｃと活性化体積Ｖとの関係式から求められる値である。
Ｈｃ＝２Ｋｕ／Ｍｓ｛１−［（ｋＴ／ＫｕＶ）ｌｎ（Ａｔ／０．６９３）］^１／２｝
［上記式中、Ｋｕ：異方性定数、Ｍｓ：飽和磁化、ｋ：ボルツマン定数、Ｔ：絶対温度、Ｖ：活性化体積、Ａ：スピン歳差周波数、ｔ：磁界反転時間］
高密度記録化を達成するための方法としては、磁性層に含まれる強磁性粉末の粒子サイズを小さくし、磁性層の強磁性粉末の充填率を高める方法が挙げられる。この点から、強磁性六方晶フェライト粉末の活性化体積は、２５００ｎｍ^３以下であることが好ましく、２３００ｎｍ^３以下であることがより好ましく、２０００ｎｍ^３以下であることが更に好ましい。一方、磁化の安定性の観点からは、活性化体積は、例えば８００ｎｍ^３以上であることが好ましく、１０００ｎｍ^３以上であることがより好ましく、１２００ｎｍ^３以上であることが更に好ましい。

強磁性六方晶フェライト粉末を構成する粒子の形状は、強磁性六方晶フェライト粉末を透過型電子顕微鏡を用いて撮影倍率１０００００倍で撮影し、総倍率５０００００倍になるように印画紙にプリントして得た粒子写真において、デジタイザーで粒子（一次粒子）の輪郭をトレースして特定するものとする。一次粒子とは、凝集のない独立した粒子をいう。透過型電子顕微鏡を用いる撮影は、加速電圧３００ｋＶで透過型電子顕微鏡を用いて直接法により行うものとする。透過型電子顕微鏡観察および測定は、例えば日立製透過型電子顕微鏡Ｈ−９０００型およびカールツァイス製画像解析ソフトＫＳ−４００を用いて行うことができる。強磁性六方晶フェライト粉末を構成する粒子の形状に関して、「板状」とは、対向する２つの板面を有する形状をいう。一方、そのような板面を持たない粒子形状の中で、長軸と短軸の区別のある形状が「楕円状」である。長軸とは、粒子の長さを最も長く取ることができる軸（直線）として決定する。一方、短軸とは、長軸と直交する直線で粒子長さを取ったときに長さが最も長くなる軸として決定する。長軸と短軸の区別がない形状、即ち長軸長＝短軸長となる形状が「球状」である。形状から長軸および短軸が特定できない形状を不定形と呼ぶ。上記の粒子形状特定のための透過型電子顕微鏡を用いる撮影は、撮影対象粉末に配向処理を施さずに行う。磁性層形成用組成物の調製に用いる強磁性六方晶フェライト粉末および磁性層に含まれる強磁性六方晶フェライト粉末の形状は、板状、楕円状、球状および不定形のいずれでもよい。

なお本発明および本明細書に記載の各種粉末に関する平均粒子サイズは、上記のように撮影された粒子写真を用いて、無作為に抽出した５００個の粒子について求められた値の算術平均とする。後述の実施例に示す平均粒子サイズは、透過型電子顕微鏡として日立製透過型電子顕微鏡Ｈ−９０００型、画像解析ソフトとしてカールツァイス製画像解析ソフトＫＳ−４００を用いて得られた値である。

強磁性六方晶フェライト粉末の詳細については、例えば特開２０１１−２１６１４９号公報の段落０１３４〜０１３６も参照できる。

磁性層における強磁性六方晶フェライト粉末の含有量（充填率）は、好ましくは５０〜９０質量％の範囲であり、より好ましくは６０〜９０質量％の範囲である。磁性層の強磁性六方晶フェライト粉末以外の成分は少なくとも結合剤、研磨剤および脂肪酸エステルであり、任意に一種以上の添加剤が含まれ得る。磁性層において強磁性六方晶フェライト粉末の充填率が高いことは、記録密度向上の観点から好ましい。

＜結合剤、硬化剤＞
上記磁気記録媒体は、磁性層に結合剤を含む。結合剤とは、一種以上の樹脂である。樹脂はホモポリマーであってもコポリマー（共重合体）であってもよい。磁性層に含まれる結合剤としては、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、塩化ビニル樹脂、スチレン、アクリロニトリル、メチルメタクリレート等を共重合したアクリル樹脂、ニトロセルロース等のセルロース樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルキラール樹脂等から選択したものを単独で用いることができ、または複数の樹脂を混合して用いることができる。これらの中で好ましいものはポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、セルロース樹脂および塩化ビニル樹脂である。これらの樹脂は、後述する非磁性層および／またはバックコート層においても結合剤として使用することができる。以上の結合剤については、特開２０１０−２４１１３号公報の段落００２９〜００３１を参照できる。また、結合剤は、電子線硬化型樹脂等の放射線硬化型樹脂であってもよい。放射線硬化型樹脂については、特開２０１１−０４８８７８号公報の段落００４４〜００４５を参照できる。
結合剤として使用される樹脂の平均分子量は、重量平均分子量として、例えば１０，０００以上２００，０００以下であることができる。本発明および本明細書における重量平均分子量とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定された値をポリスチレン換算して求められる値である。測定条件としては、下記条件を挙げることができる。後述の実施例に示す重量平均分子量は、下記測定条件によって測定された値をポリスチレン換算して求めた値である。
ＧＰＣ装置：ＨＬＣ−８１２０（東ソー社製）
カラム：ＴＳＫ ｇｅｌ Ｍｕｌｔｉｐｏｒｅ ＨＸＬ−Ｍ（東ソー社製、７．８ｍｍＩＤ（Ｉｎｎｅｒ Ｄｉａｍｅｔｅｒ）×３０．０ｃｍ）
溶離液：テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）

また、磁性層形成時、上記結合剤として使用可能な樹脂とともに硬化剤を使用することもできる。硬化剤は、一態様では加熱により硬化反応（架橋反応）が進行する化合物である熱硬化性化合物であることができ、他の一態様では光照射により硬化反応（架橋反応）が進行する光硬化性化合物であることができる。硬化剤は、磁気記録媒体の製造工程の中で硬化反応が進行することにより、少なくとも一部は、結合剤等の他の成分と反応（架橋）した状態で磁性層に含まれ得る。好ましい硬化剤は、熱硬化性化合物であり、ポリイソシアネートが好適である。ポリイソシアネートの詳細については、特開２０１１−２１６１４９号公報の段落０１２４〜０１２５を参照できる。硬化剤は、磁性層形成用組成物中に、結合剤１００．０質量部に対して、例えば０〜８０．０質量部、磁性層の強度向上の観点からは好ましくは５０．０〜８０．０質量部の量で添加して使用することができる。

＜研磨剤＞
上記磁気記録媒体は、磁性層に研磨剤を含む。研磨剤とは、モース硬度８超の非磁性粉末を意味し、モース硬度９以上の非磁性粉末であることが好ましい。研磨剤は、無機物質の粉末（無機粉末）であっても有機物質の粉末（有機粉末）であってもよく、無機粉末であることが好ましい。研磨剤は、モース硬度８超の無機粉末であることがより好ましく、モース硬度９以上の無機粉末であることが更に好ましい。なおモース硬度の最大値は、ダイヤモンドの１０である。具体的には、研磨剤としては、アルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）、炭化珪素、ボロンカーバイド（Ｂ_４Ｃ）、ＴｉＣ、酸化セリウム、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２）、ダイヤモンド等の粉末を挙げることができ、中でもアルミナ粉末が好ましい。アルミナ粉末については、特開２０１３−２２９０９０号公報の段落００２１も参照できる。また、研磨剤の粒子サイズの指標としては、比表面積を用いることができる。比表面積が大きいほど粒子サイズが小さいことを意味する。ＢＥＴ（Ｂｒｕｎａｕｅｒ−Ｅｍｍｅｔｔ−Ｔｅｌｌｅｒ）法によって一次粒子について測定された比表面積（以下、「ＢＥＴ比表面積」と記載する。）が１４ｍ^２／ｇ以上の研磨剤を使用することが好ましい。また、分散性の観点からは、ＢＥＴ比表面積が４０ｍ^２／ｇ以下の研磨剤を用いることが好ましい。磁性層における研磨剤の含有量は、強磁性六方晶フェライト粉末１００．０質量部に対して１．０〜２０．０質量部であることが好ましい。

＜脂肪酸エステル＞
上記磁気記録媒体は、磁性層に脂肪酸エステルを含む。脂肪酸エステルは、一種のみ含まれていてもよく、二種以上が含まれていてもよい。脂肪酸エステルとしては、例えば、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、ベヘン酸、エルカ酸、エライジン酸等のエステルを挙げることができる。具体例としては、例えば、ミリスチン酸ブチル、パルミチン酸ブチル、ステアリン酸ブチル（ブチルステアレート）、ネオペンチルグリコールジオレエート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンジステアレート、ソルビタントリステアレート、オレイン酸オレイル、ステアリン酸イソセチル、ステアリン酸イソトリデシル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸イソオクチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸ブトキシエチル等を挙げることができる。
脂肪酸エステル含有量は、磁性層形成用組成物における含有量として、強磁性六方晶フェライト粉末１００．０質量部あたり、例えば０．１〜１０.０質量部であり、好ましくは１．０〜７．０質量部である。脂肪酸エステルとして二種以上の異なる脂肪酸エステルを使用する場合、含有量とは、それらの合計含有量をいうものとする。この点は、本発明および本明細書において、特記しない限り、他の成分の含有量についても同様である。また、本発明および本明細書において、特記しない限り、ある成分は、一種のみ用いてもよく二種以上用いてもよい。
また、上記磁気記録媒体が非磁性支持体と磁性層との間に非磁性層を有する場合、非磁性層形成用組成物における脂肪酸エステル含有量は、非磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０〜１０．０質量部であり、好ましくは０．１〜８．０質量部である。

＜その他の成分＞
（その他の潤滑剤）
上記磁気記録媒体は、少なくとも磁性層に、潤滑剤の一種である脂肪酸エステルを含む。脂肪酸エステル以外の潤滑剤が、任意に磁性層および／または非磁性層に含まれていてもよい。上記の通り、非磁性層に含まれる潤滑剤は、磁性層に移行し磁性層表面に存在し得る。任意に含まれ得る潤滑剤としては、脂肪酸を挙げることができる。また、脂肪酸アミド等を挙げることもできる。なお脂肪酸エステルは流体潤滑剤として機能することができる成分と言われているのに対し、脂肪酸および脂肪酸アミドは、境界潤滑剤として機能することができる成分と言われている。境界潤滑剤は、粉末（例えば強磁性粉末）の表面に吸着し強固な潤滑膜を形成することで接触摩擦を下げることのできる潤滑剤と考えられる。
脂肪酸としては、例えば、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、ベヘン酸、エルカ酸、エライジン酸等を挙げることができ、ステアリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸が好ましく、ステアリン酸がより好ましい。脂肪酸は、金属塩等の塩の形態で磁性層に含まれていてもよい。
脂肪酸アミドとしては、上記の各種脂肪酸のアミド、例えば、ラウリン酸アミド、ミリスチン酸アミド、パルミチン酸アミド、ステアリン酸アミド等を挙げることができる。
脂肪酸と脂肪酸の誘導体（アミドおよびエステル等）については、脂肪酸誘導体の脂肪酸由来部位は、併用される脂肪酸と同様または類似の構造を有することが好ましい。例えば、一例として、脂肪酸としてステアリン酸を用いる場合にステアリン酸エステルおよび／またはステアリン酸アミドを使用することは好ましい。
磁性層形成用組成物における脂肪酸含有量は、強磁性六方晶フェライト粉末１００．０質量部あたり、例えば０〜１０.０質量部であり、好ましくは０．１〜１０.０質量部であり、より好ましくは１．０〜７．０質量部である。磁性層形成用組成物における脂肪酸アミド含有量は、強磁性六方晶フェライト粉末１００．０質量部あたり、例えば０〜３.０質量部であり、好ましくは０〜２．０質量部であり、より好ましくは０〜１．０質量部である。
また、上記磁気テープが非磁性支持体と磁性層との間に非磁性層を有する場合、非磁性層形成用組成物における脂肪酸含有量は、非磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０〜１０．０質量部であり、好ましくは１．０〜１０．０質量部であり、より好ましくは１．０〜７．０質量部である。非磁性層形成用組成物における脂肪酸アミド含有量は、非磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０〜３．０質量部であり、好ましくは０〜１．０質量部である。

（その他の添加剤）
磁性層には、必要に応じて一種以上の添加剤が更に含まれていてもよい。添加剤としては、一例として、上記の硬化剤およびその他の潤滑剤が挙げられる。また、磁性層に含まれ得る添加剤としては、非磁性粉末、分散剤、分散助剤、防黴剤、帯電防止剤、酸化防止剤等を挙げることができる。例えば、研磨剤を含む磁性層に使用され得る添加剤の一例としては、特開２０１３−１３１２８５号公報の段落００１２〜００２２に記載の分散剤を、磁性層形成用組成物における研磨剤の分散性を向上させるための分散剤として挙げることができる。
また、分散剤としては、カルボキシ基含有化合物、含窒素化合物等の公知の分散剤を挙げることもできる。例えば、含窒素化合物は、ＮＨ_２Ｒで表される第一級アミン、ＮＨＲ_２で表される第二級アミン、ＮＲ_３で表される第三級アミンのいずれであってもよい。上記において、Ｒは含窒素化合物を構成する任意の構造を示し、複数存在するＲは同一であっても異なっていてもよい。含窒素化合物は、分子中に複数の繰り返し構造を有する化合物（ポリマー）であってもよい。本発明者らは、含窒素化合物の含窒素部が、強磁性六方晶フェライト粉末の粒子表面への吸着部として機能することが、含窒素化合物が分散剤として働くことができる理由と考えている。カルボキシ基含有化合物は、例えばオレイン酸等の脂肪酸を挙げることができる。カルボキシ基含有化合物については、カルボキシ基が強磁性六方晶フェライト粉末の粒子表面への吸着部として機能することが、カルボキシ基含有化合物が分散剤として働くことができる理由と本発明者らは考えている。カルボキシ基含有化合物と含窒素化合物を併用することも、好ましい。

磁性層に含まれ得る非磁性粉末としては、磁性層表面に突起を形成して摩擦特性制御に寄与し得る非磁性粉末（以下、「突起形成剤」とも記載する。）を挙げることができる。そのような非磁性粉末としては、一般に磁性層に使用される各種非磁性粉末を用いることができる。これらは、無機粉末であっても有機粉末であってもよい。一態様では、摩擦特性の均一化の観点からは、かかる非磁性粉末の粒度分布は、分布中に複数のピークを有する多分散ではなく、単一ピークを示す単分散であることが好ましい。単分散粒子の入手容易性の点からは、上記非磁性粉末は無機粉末であることが好ましい。無機粉末としては、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の粉末を挙げることができる。上記非磁性粉末を構成する粒子は、コロイド粒子であることが好ましく、無機酸化物コロイド粒子であることがより好ましい。また、単分散粒子の入手容易性の観点からは、無機酸化物コロイド粒子を構成する無機酸化物は二酸化ケイ素（シリカ）であることが好ましい。無機酸化物コロイド粒子は、コロイダルシリカ（シリカコロイド粒子）であることがより好ましい。本発明および本明細書において、「コロイド粒子」とは、少なくとも、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、トルエンもしくは酢酸エチル、または上記溶媒の二種以上を任意の混合比で含む混合溶媒の少なくとも１つの有機溶媒１００ｍＬあたり１ｇ添加した際に、沈降せず分散しコロイド分散体をもたらすことのできる粒子をいうものとする。他の一態様では、上記非磁性粉末は、カーボンブラックであることも好ましい。上記非磁性粉末の平均粒子サイズは、例えば３０〜３００ｎｍであり、好ましくは４０〜２００ｎｍである。また、上記非磁性フィラーが、その機能をより良好に発揮することができるという観点から、磁性層における上記非磁性粉末の含有量は、好ましくは強磁性六方晶フェライト粉末１００．０質量部に対して、１．０〜４．０質量部であり、より好ましくは１．５〜３．５質量部である。

磁性層に任意に含まれ得る各種添加剤は、所望の性質に応じて、市販品または公知の方法により製造されたものを適宜選択して使用することができる。

以上説明した磁性層は、非磁性支持体表面上に直接、または非磁性層を介して間接的に設けることができる。

［非磁性層］
次に非磁性層について説明する。
上記磁気記録媒体は、非磁性支持体表面上に直接磁性層を有していてもよく、非磁性支持体と磁性層との間に非磁性粉末と結合剤を含む非磁性層を有していてもよい。非磁性層に含まれる非磁性粉末は、無機粉末でも有機粉末でもよい。また、カーボンブラック等も使用できる。無機粉末としては、例えば金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の粉末が挙げられる。これらの非磁性粉末は、市販品として入手可能であり、公知の方法で製造することもできる。その詳細については、特開２０１０−２４１１３号公報の段落００３６〜００３９を参照できる。非磁性層における非磁性粉末の含有量（充填率）は、好ましくは５０〜９０質量％の範囲であり、より好ましくは６０〜９０質量％の範囲である。

非磁性層の結合剤、添加剤等のその他詳細は、非磁性層に関する公知技術が適用できる。また、例えば、結合剤の種類および含有量、添加剤の種類および含有量等に関しては、磁性層に関する公知技術も適用できる。

本発明および本明細書における非磁性層には、非磁性粉末とともに、例えば不純物として、または意図的に、少量の強磁性粉末を含む実質的に非磁性な層も包含されるものとする。ここで実質的に非磁性な層とは、この層の残留磁束密度が１０ｍＴ以下であるか、保磁力が７．９６ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下であるか、または、残留磁束密度が１０ｍＴ以下であり、かつ保磁力が７．９６ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下である層をいうものとする。非磁性層は、残留磁束密度および保磁力を持たないことが好ましい。

［非磁性支持体］
次に、非磁性支持体（以下、単に「支持体」とも記載する。）について説明する。
非磁性支持体としては、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポリアミドイミド、芳香族ポリアミド等の公知のものが挙げられる。これらの中でもポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドが好ましい。これらの支持体はあらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理等を行ってもよい。

［バックコート層］
上記磁気記録媒体は、非磁性支持体の磁性層を有する表面側とは反対の表面側に、非磁性粉末および結合剤を含むバックコート層を有することもできる。バックコート層には、カーボンブラックおよび無機粉末の一方または両方が含有されていることが好ましい。バックコート層に含まれる結合剤、任意に含まれ得る各種添加剤については、バックコート層に関する公知技術を適用することができ、磁性層および／または非磁性層の処方に関する公知技術を適用することもできる。

［各種厚み］
上記磁気記録媒体における非磁性支持体および各層の厚みについて、以下に説明する。
非磁性支持体の厚みは、例えば３．０〜８０．０μｍであり、好ましくは３．０〜５０．０μｍであり、より好ましくは３．０〜１０．０μｍである。

磁性層の厚みは、用いる磁気ヘッドの飽和磁化、ヘッドギャップ長、記録信号の帯域等に応じて最適化することができる。磁性層の厚みは、一般には１０ｎｍ〜１００ｎｍであり、高密度記録化の観点から、好ましくは２０〜９０ｎｍであり、より好ましくは３０〜７０ｎｍである。磁性層は少なくとも一層あればよく、磁性層を異なる磁気特性を有する２層以上に分離してもかまわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用できる。２層以上に分離する場合の磁性層の厚みとは、これらの層の合計厚みとする。

非磁性層の厚みは、例えば５０ｎｍ以上であり、好ましくは７０ｎｍ以上であり、より好ましくは１００ｎｍ以上である。一方、非磁性層の厚みは、８００ｎｍ以下であることが好ましく、５００ｎｍ以下であることがより好ましい。

バックコート層の厚みは、０．９μｍ以下であることが好ましく、０．１〜０．７μｍであることが更に好ましい。

磁気記録媒体の各層および非磁性支持体の厚みは、公知の膜厚測定法により求めることができる。一例として、例えば、磁気記録媒体の厚み方向の断面を、イオンビーム、ミクロトーム等の公知の手法により露出させた後、露出した断面において走査型電子顕微鏡を用いて断面観察を行う。断面観察において厚み方向の１箇所において求められた厚み、または無作為に抽出した２箇所以上の複数箇所、例えば２箇所、において求められた厚みの算術平均として、各種厚みを求めることができる。または、各層の厚みは、製造条件から算出される設計厚みとして求めてもよい。

［製造工程］
＜各層形成用組成物の調製＞
磁性層、非磁性層またはバックコート層を形成するための組成物を調製する工程は、通常、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程を含む。個々の工程はそれぞれ二段階以上に分かれていてもかまわない。各層形成用組成物の調製に用いられる成分は、どの工程の最初または途中で添加してもかまわない。溶媒としては、塗布型磁気記録媒体の製造に通常用いられる各種溶媒の一種または二種以上を用いることができる。溶媒については、例えば特開２０１１−２１６１４９号公報の段落０１５３を参照できる。また、個々の成分を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。例えば、結合剤を混練工程、分散工程および分散後の粘度調整のための混合工程で分割して投入してもよい。上記磁気記録媒体を製造するためには、従来の公知の製造技術を各種工程において用いることができる。混練工程ではオープンニーダ、連続ニーダ、加圧ニーダ、エクストルーダ等の強い混練力をもつものを使用することが好ましい。これらの混練処理の詳細については特開平１−１０６３３８号公報および特開平１−７９２７４号公報を参照できる。分散機は公知のものを使用することができる。各層形成用組成物を、塗布工程に付す前に公知の方法によってろ過してもよい。ろ過は、例えばフィルタろ過によって行うことができる。ろ過に用いるフィルタとしては、例えば孔径０．０１〜３μｍのフィルタ（例えばガラス繊維製フィルタ、ポリプロピレン製フィルタ等）を用いることができる。

磁性層形成用組成物の分散処理に関しては、先に記載したように、チッピングの発生を抑制することが好ましい。そのためには、磁性層形成用組成物を調製する工程において、強磁性六方晶フェライト粉末の分散処理を二段階の分散処理により行い、第一の段階の分散処理により強磁性六方晶フェライト粉末の粗大な凝集物を解砕した後、分散ビーズとの衝突によって強磁性六方晶フェライト粉末の粒子に加わる衝突エネルギーが第一の分散処理より小さな第二の段階の分散処理を行うことが好ましい。かかる分散処理によれば、強磁性六方晶フェライト粉末の分散性向上とチッピングの発生の抑制とを両立することができる。

上記の二段階の分散処理の好ましい態様としては、強磁性六方晶フェライト粉末、結合剤および溶媒を、第一の分散ビーズの存在下で分散処理することにより分散液を得る第一の段階と、第一の段階で得られた分散液を、第一の分散ビーズよりビーズ径および密度が小さい第二の分散ビーズの存在下で分散処理する第二の段階と、を含む分散処理を挙げることができる。以下に、上記の好ましい態様の分散処理について、更に説明する。

強磁性六方晶フェライト粉末の分散性を高めるためには、上記の第一の段階および第二の段階は、強磁性六方晶フェライト粉末を他の粉末成分と混合する前の分散処理として行うことが好ましい。例えば、研磨剤および上記非磁性粉末を含む磁性層を形成する場合、研磨剤および上記非磁性粉末と混合する前に、強磁性六方晶フェライト粉末、結合剤、溶媒および任意に添加される添加剤を含む液（磁性液）の分散処理として、上記の第一の段階および第二の段階を行うことが好ましい。

第二の分散ビーズのビーズ径は、好ましくは、第一の分散ビーズのビーズ径の１／１００以下であり、より好ましくは１／５００以下である。また、第二の分散ビーズのビーズ径は、例えば第一の分散ビーズのビーズ径の１／１００００以上であることができる。ただし、この範囲に限定されるものではない。例えば、第二の分散ビーズのビーズ径は、８０〜１０００ｎｍの範囲であることが好ましい。一方、第一の分散ビーズのビーズ径は、例えば０．２〜１．０ｍｍの範囲であることができる。
なお本発明および本明細書におけるビーズ径は、先に記載した粉末の平均粒子サイズの測定方法と同様の方法で測定される値とする。

上記の第二の段階は、質量基準で、第二の分散ビーズが、強磁性六方晶フェライト粉末の１０倍以上の量で存在する条件下で行うことが好ましく、１０倍〜３０倍の量で存在する条件下で行うことがより好ましい。
一方、第一の段階における第一の分散ビーズ量も、上記範囲とすることが好ましい。

第二の分散ビーズは、第一の分散ビーズより密度が小さいビーズである。「密度」とは、分散ビーズの質量（単位：ｇ）を体積（単位：ｃｍ^３）で除して求められる。測定は、アルキメデス法によって行われる。第二の分散ビーズの密度は、好ましくは３．７ｇ／ｃｍ^３以下であり、より好ましくは３．５ｇ／ｃｍ^３以下である。第二の分散ビーズの密度は、例えば２．０ｇ／ｃｍ^３以上であってもよく、２．０ｇ／ｃｍ^３を下回ってもよい。密度の点から好ましい第二の分散ビーズとしては、ダイヤモンドビーズ、炭化ケイ素ビーズ、窒化ケイ素ビーズ等を挙げることができ、密度および硬度の点で好ましい第二の分散ビーズとしては、ダイヤモンドビーズを挙げることができる。
一方、第一の分散ビーズとしては、密度が３．７ｇ／ｃｍ^３超の分散ビーズが好ましく、密度が３．８ｇ／ｃｍ^３以上の分散ビーズがより好ましく、４．０ｇ／ｃｍ^３以上の分散ビーズが更に好ましい。第一の分散ビーズの密度は、例えば７．０ｇ／ｃｍ^３以下であってもよく、７．０ｇ／ｃｍ^３超でもよい。第一の分散ビーズとしては、ジルコニアビーズ、アルミナビーズ等を用いることが好ましく、ジルコニアビーズを用いることがより好ましい。

分散時間は特に限定されるものではなく、用いる分散機の種類等に応じて設定すればよい。

＜塗布工程＞
磁性層は、磁性層形成用組成物を、例えば、非磁性支持体上に直接塗布するか、または非磁性層形成用組成物と逐次もしくは同時に重層塗布することにより形成することができる。バックコート層は、バックコート層形成用組成物を、非磁性支持体の磁性層を有する（または磁性層が追って設けられる）側とは反対側に塗布することにより形成することができる。各層形成のための塗布の詳細については、特開２０１０−２３１８４３号公報の段落００６６を参照できる。

＜その他の工程＞
磁気テープ製造のためのその他の各種工程については、特開２０１０−２３１８４３号公報の段落００６７〜００７０を参照できる。例えば、配向処理については、特開２０１０−２３１８４３号公報の段落００６７の記載をはじめとする各種公知技術を何ら制限なく適用することができる。先に記載したように、配向処理としては垂直配向処理を行うことが、ＸＲＤ強度比を制御する観点から好ましい。配向処理については、先の記載も参照できる。

＜好ましい製造方法の一態様＞
上記磁気記録媒体の好ましい製造方法としては、磁性層表面における脂肪酸エステルの液膜の厚みの均一性向上のために、磁性層に振動を加える製造方法を挙げることができる。振動を加えることにより、磁性層表面の脂肪酸エステルの液膜が流動し、液膜の厚みの均一性が向上されると考えられる。
即ち、上記磁気記録媒体は、非磁性支持体上に、強磁性六方晶フェライト粉末、結合剤、研磨剤および脂肪酸エステルを含む磁性層形成用組成物を塗布し乾燥させることにより磁性層を形成し、形成した磁性層に振動を加えることを含む製造方法により製造することができる。上記製造方法は、磁性層に振動を加える点以外は、通常の磁気記録媒体の製造方法と同様であり、その詳細は先に記載した通りである。

上記振動を加える手段は特に限定されるものではない。例えば、磁性層を形成した非磁性支持体の磁性層とは反対側の面を、振動付与ユニットと接触させることにより、磁性層に振動を加えることができる。磁性層を形成した非磁性支持体を振動付与ユニットと接触させながら走行させてもよい。振動付与ユニットは、例えば、内部に超音波振動子を備えることにより、このユニットと接触した物品に振動を加えることができる。超音波振動子の振動周波数、強度、および／または振動付与ユニットとの接触時間によって、磁性層に加える振動を調整することができる。例えば接触時間は、磁性層を形成した非磁性支持体の振動付与ユニットとの接触中の走行速度によって調整することができる。これらの振動付与条件は特に限定されるものではなく、先に記載したスペーシング分布の半値全幅、特に、真空加熱前のスペーシング分布の半値全幅ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}を制御できるように設定すればよい。振動付与条件の設定のために実製造前に予備実験を行い、条件を最適化することもできる。

また、真空加熱後のスペーシング分布の半値全幅ＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}は、磁性層形成用組成物の分散条件を強化する（例えば分散回数を増やす、分散時間を延ばす等）、および／または、ろ過条件を強化する（例えばろ過に用いるフィルタとして孔径の小さいフィルタを用いる、フィルタろ過回数を増やす等）ことによって、小さくなる傾向がある。これらによって、磁性層形成用組成物に含まれる粒状物質、中でも先に記載した突起形成剤として機能し得る非磁性粉末の分散性および／または粒子サイズの均一性が向上することにより、磁性層表面に存在する突起の高さの均一性が向上するためと推察される。分散条件および／またはろ過条件も、実製造前に予備実験を行い最適化することもできる。

更に、カーボンブラックを含む磁性層を有する磁気記録媒体については、カーボンブラックの分散性を向上させるための分散剤を磁性層成分として用いることは、真空加熱後のスペーシング分布の半値全幅ＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}を小さくするために有効である。例えば一例として、カーボンブラックの分散剤としては、有機三級アミンを挙げることができる。有機三級アミンについては、特開２０１３−０４９８３２号公報の段落００１１〜００１８および００２１を参照できる。上記有機三級アミンは、より好ましくはトリアルキルアミンである。トリアルキルアミンが有するアルキル基は、好ましくは炭素数１〜１８のアルキル基である。トリアルキルアミンが有する３つのアルキル基は、同一であっても異なっていてもよい。アルキル基の詳細については、特開２０１３−０４９８３２号公報の段落００１５〜００１６を参照できる。トリアルキルアミンとしては、トリオクチルアミンが特に好ましい。

以上により、本発明の一態様にかかる磁気記録媒体を得ることができる。ただし上記の製造方法は例示であって、ＸＲＤ強度比、垂直方向角型比、磁性層のＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}、ＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}および差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）を調整可能な任意の手段によって、それらの値をそれぞれ上記範囲に制御することができ、そのような態様も本発明に包含される。

以上説明した本発明の一態様にかかる磁気記録媒体は、例えばテープ状の磁気記録媒体（磁気テープ）であることができる。磁気テープは、通常、磁気テープカートリッジに収容されて流通され、使用される。磁気テープには、ドライブにおいてヘッドトラッキングサーボを行うことを可能とするために、公知の方法によってサーボパターンを形成することもできる。磁気テープカートリッジをドライブ（磁気テープ装置等とも呼ばれる。）に装着し、磁気テープをドライブ内で走行させて磁気テープ表面（磁性層表面）と磁気ヘッドとを接触させ摺動させることにより、磁気テープへの情報の記録および再生が行われる。磁気テープに記録された情報を連続的または断続的に繰り返し再生するためには、ドライブ内で磁気テープの走行が繰り返される。本発明の一態様によれば、この繰り返し走行中に磁性層表面とヘッドとが摺動を繰り返しても、電磁変換特性の低下が少ない磁気テープを提供することができる。ただし、本発明の一態様にかかる磁気記録媒体は、磁気テープに限定されるものではない。摺動型の磁気記録および／または再生装置において使用される各種磁気記録媒体（磁気テープ、ディスク状の磁気記録媒体（磁気ディスク）等）として、本発明の一態様にかかる磁気記録媒体は好適である。上記の摺動型の装置とは、磁気記録媒体への情報の記録および／または記録された情報の再生を行う際に磁性層表面とヘッドとが接触し摺動する装置をいう。かかる装置には、磁気テープと、情報の記録および／または再生のための１つ以上の磁気ヘッドとが、少なくとも含まれる。

上記摺動型の装置において、磁気テープの走行速度を高速にするほど、情報の記録および記録した情報の再生を、短時間で行うことが可能となる。ここで磁気テープの走行速度とは、磁気テープと磁気ヘッドとの相対速度をいい、通常、装置の制御部において設定される。磁気テープの走行速度を高速にするほど、磁性層表面と磁気ヘッドとの接触時に双方に加わる圧力は大きくなるため、ヘッド削れおよび／または磁性層削れが発生しやすくなる傾向がある。したがって、走行速度が高速になるほど、繰り返し摺動における電磁変換特性の低下がより生じやすいと考えられる。また、磁気記録分野では高密度記録化が求められているものの、記録密度を高めるほど隣接ビットとの信号干渉の影響が大きくなるため、繰り返し摺動によりスペーシングロスが増大したときに電磁変換特性がより低下しやすくなる傾向がある。以上の通り、高速走行化および高密度記録化が進行するほど、繰り返し摺動における電磁変換特性の低下はより顕在化する傾向がある。これに対し、そのような場合であっても、本発明の一態様にかかる磁気記録媒体によれば、繰り返し摺動における電磁変換特性の低下を抑制することができる。本発明の一態様にかかる磁気テープは、例えば、磁気テープの走行速度が５ｍ／秒以上（例えば５〜２０ｍ／秒）の摺動型の装置における使用に好適である。また、本発明の一態様にかかる磁気テープは、例えば、２５０ｋｆｃｉ以上の線記録密度で情報を記録し再生するための磁気テープとして好適である。なお単位ｋｆｃｉとは、線記録密度の単位（ＳＩ単位系に換算不可）である。線記録密度は、例えば２５０ｋｆｃｉ以上であることができ、３００ｋｆｃｉ以上であることもできる。また、線記録密度は、例えば８００ｋｆｃｉ以下であることができ、８００ｋｆｃｉ超であることもできる。

以下に、本発明を実施例に基づき説明する。ただし、本発明は実施例に示す態様に限定されるものではない。以下に記載の「部」、「％」の表示は、特に断らない限り、「質量部」、「質量％」を示す。また、以下に記載の工程および評価は、特記しない限り、雰囲気温度２３℃±１℃の環境において行った。

［例１］
各層形成用組成物の処方を、下記に示す。

＜磁性層形成用組成物の処方＞
（磁性液）
板状強磁性六方晶フェライト粉末（Ｍ型バリウムフェライト）：１００.０部
（活性化体積：１５００ｎｍ^３）
オレイン酸：２.０部
塩化ビニル共重合体（日本ゼオン製ＭＲ−１０４）：１０.０部
ＳＯ_３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂：４.０部
（重量平均分子量７００００、ＳＯ_３Ｎａ基：０.０７ｍｅｑ／ｇ）
アミン系ポリマー（ビックケミー社製ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１０２）：６.０部
メチルエチルケトン：１５０.０部
シクロヘキサノン：１５０.０部
（研磨剤液）
α−アルミナ：６.０部
（ＢＥＴ比表面積１９ｍ^２／ｇ、モース硬度９）
ＳＯ_３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂：０.６部
（重量平均分子量７００００、ＳＯ_３Ｎａ基：０.１ｍｅｑ／ｇ）
２，３−ジヒドロキシナフタレン：０.６部
シクロヘキサノン：２３.０部
（突起形成剤液）
コロイダルシリカ：２.０部
（平均粒子サイズ８０ｎｍ）
メチルエチルケトン：８.０部
（潤滑剤および硬化剤液）
ステアリン酸：３.０部
ステアリン酸アミド：０.３部
ブチルステアレート：表１参照
メチルエチルケトン：１１０.０部
シクロヘキサノン：１１０.０部
ポリイソシアネート（東ソー社製コロネート（登録商標）Ｌ）：３．０部

＜非磁性層形成用組成物の処方＞
非磁性無機粉末 α酸化鉄：１００．０部
（平均粒子サイズ：１０ｎｍ、ＢＥＴ比表面積：７５ｍ^２／ｇ）
カーボンブラック：２５．０部
（平均粒子サイズ：２０ｎｍ）
電子線硬化型塩化ビニル共重合体：１３．０部
電子線硬化型ポリウレタン樹脂：６．０部
ブチルステアレート：表１参照
ステアリン酸：１．０部シクロヘキサノン：３００．０部
メチルエチルケトン：３００．０部

＜バックコート層形成用組成物の処方＞
非磁性無機粉末 α酸化鉄：８０．０部
（平均粒子サイズ０.１５μｍ、ＢＥＴ比表面積５２ｍ^２／ｇ）
カーボンブラック：２０．０部
（平均粒子サイズ２０ｎｍ）
塩化ビニル共重合体：１３．０部
スルホン酸塩基含有ポリウレタン樹脂：６．０部
フェニルホスホン酸：３．０部
シクロヘキサノン：１５５．０部
メチルエチルケトン：１５５．０部
ステアリン酸：３．０部
ステアリン酸ブチル：３．０部
ポリイソシアネート：５．０部
シクロヘキサノン：２００．０部

＜磁性層形成用組成物の調製＞
磁性層形成用組成物を、以下の方法によって調製した。
上記磁性液の各種成分を、バッチ式縦型サンドミルによりビーズ径０.５ｍｍのジルコニアビーズ（第一の分散ビーズ、密度６．０ｇ／ｃｍ^３）を使用して２４時間分散し（第一の段階）、その後、０.５μｍの孔径を有するフィルタを用いて濾過することにより分散液Ａを調製した。ジルコニアビーズは、強磁性六方晶フェライト粉末の質量に対して、質量基準で１０倍量用いた。
その後、分散液Ａをバッチ式縦型サンドミルにより表１に示すビーズ径のダイヤモンドビーズ（第二の分散ビーズ、密度３．５ｇ／ｃｍ^３）を使用して表１に示す時間分散し（第二の段階）、遠心分離機を用いてダイヤモンドビーズを分離した分散液（分散液Ｂ）を調製した。下記磁性液は、こうして得られた分散液Ｂである。
研磨剤液は、上記の研磨剤液の各種成分を混合してビーズ径０．３ｍｍのジルコニアビーズとともに横型ビーズミル分散機に入れ、ビーズ体積／（研磨剤液体積＋ビーズ体積）が８０％になるように調整し、１２０分間ビーズミル分散処理を行い、処理後の液を取り出し、フロー式の超音波分散濾過装置を用いて、超音波分散濾過処理を施した。こうして研磨剤液を調製した。
調製した磁性液および研磨剤液、ならびに残りの成分をディゾルバー攪拌機に導入し、周速１０ｍ／秒で３０分間攪拌した。その後、フロー式超音波分散機により流量７．５ｋｇ／分で表１に示すパス回数で処理を行った後に、表１に示す孔径のフィルタで表１に示す回数ろ過して磁性層形成用組成物を調製した。

先に記載した強磁性六方晶フェライト粉末の活性化体積は、磁性層形成用組成物の調製に使用した強磁性六方晶フェライト粉末と同じ粉末ロットの粉末を使用して測定し算出した値である。測定は、振動試料型磁束計（東英工業社製）を用いて保磁力Ｈｃ測定部の磁場スイープ速度３分と３０分とで行い、先に記載した関係式から活性化体積を算出した。測定は２３℃±１℃の環境で行った。

＜非磁性層形成用組成物の調製＞
上記の非磁性層形成用組成物の各種成分を、バッチ式縦型サンドミルによりビーズ径０.１ｍｍのジルコニアビーズを使用して２４時間分散し、その後、０.５μｍの孔径を有するフィルタを用いて濾過することにより、非磁性層形成用組成物を調製した。

＜バックコート層形成用組成物の調製＞
上記のバックコート層形成用組成物の各種成分のうち潤滑剤（ステアリン酸およびステアリン酸ブチル）、ポリイソシアネートならびにシクロヘキサノン２００．０部を除いた成分をオープンニーダにより混練および希釈した後、横型ビーズミル分散機によりビーズ径１ｍｍのジルコニアビーズを用い、ビーズ充填率８０体積％、ローター先端周速１０ｍ／秒で１パスあたりの滞留時間を２分間とし、１２パスの分散処理に供した。その後、上記の残りの成分を添加してディゾルバーで撹拌し、得られた分散液を１μｍの孔径を有するフィルタを用いて濾過することにより、バックコート層形成用組成物を調製した。

＜磁気テープの作製＞
厚み５．０μｍのポリエチレンナフタレート支持体上に、乾燥後の厚みが１００ｎｍになるように非磁性層形成用組成物を塗布し乾燥させた後、１２５ｋＶの加速電圧で４０ｋＧｙのエネルギーとなるように電子線を照射した。その上に乾燥後の厚みが７０ｎｍになるように磁性層形成用組成物を塗布して塗布層を形成した。この塗布層が湿潤状態（未乾燥状態）にあるうちに、配向ゾーンにおいて表１に示す強度の磁場を塗布層表面に対し垂直方向に印加し垂直配向処理を行った後、塗布層を乾燥させた。
その後、上記塗布層を形成した支持体を、図１に示す振動付与装置に、上記塗布層を形成した表面とは反対側の表面が振動付与ユニットと接するように設置し、上記塗布層を形成した支持体（図１中、符号１０１）を搬送速度０．５ｍ／秒で搬送させて上記塗布層に振動を付与した。図１中、符号１０２はガイドローラ（符号１０２は２つのガイドローラの一方に付した）、符号１０３は振動付与装置（超音波振動子を含む振動付与ユニット）、矢印は搬送方向を示す。上記塗布層を形成した支持体の任意の箇所が振動付与ユニットとの接触を開始してから接触が終了するまでの時間（振動付与時間）を表１に示す。使用した振動付与ユニットは内部に超音波振動子を備えている。超音波振動子の振動周波数および強度を表１に示す値として振動付与を行った。
その後、上記支持体の、非磁性層および磁性層を形成した表面とは反対側の表面上に、バックコート層形成用組成物を乾燥後の厚みが０．４０μｍになるように塗布し乾燥させた。
その後、金属ロールのみから構成されるカレンダロールを用いて、カレンダ処理速度８０ｍ／ｍｉｎ、線圧３００ｋｇ／ｃｍ（２９４ｋＮ／ｍ）、およびカレンダ温度（カレンダロールの表面温度）９０℃にて、表面平滑化処理（カレンダ処理）を行った。
その後、雰囲気温度７０℃の環境で３６時間熱処理を行った。熱処理後、１／２インチ（０．０１２７メートル）幅にスリットし、スリット品の送り出しおよび巻き取り装置を持った装置に不織布とカミソリブレードが磁性層表面に押し当たるように取り付けたテープクリーニング装置で磁性層の表面のクリーニングを行った後、市販のサーボライターによって磁性層にサーボパターンを形成した。 以上により、例１の磁気テープを得た。

＜電磁変換特性（Ｓｉｇｎａｌ−ｔｏ−Ｎｏｉｓｅ−Ｒａｔｉｏ；ＳＮＲ）低下の評価＞
例１の磁気テープの電磁変換特性を、ヘッドを固定した１／２インチ（０．０１２７メートル）リールテスターを用いて以下の方法により測定した。
磁気テープの走行速度（磁気ヘッド／磁気テープ相対速度）は表１に示す値とした。記録ヘッドとしてＭＩＧ（Ｍｅｔａｌ−Ｉｎ−Ｇａｐ）ヘッド（ギャップ長０．１５μｍ、トラック幅１．０μｍ）を使い、記録電流は各磁気テープの最適記録電流に設定した。再生ヘッドとしては素子厚み１５ｎｍ、シールド間隔０．１μｍおよびリード幅０．５μｍのＧＭＲ（Ｇｉａｎｔ−Ｍａｇｎｅｔｏｒｅｓｉｓｔｉｖｅ）ヘッドを使用した。表１に示す線記録密度で信号の記録を行い、再生信号をシバソク社製のスペクトラムアナライザーで測定した。キャリア信号の出力値と、スペクトル全帯域の積分ノイズとの比をＳＮＲとした。ＳＮＲ測定のためには、磁気テープの走行後に信号が十分に安定した部分の信号を使用した。
上記条件で、各磁気テープを、１パスあたり１０００ｍで、温度４０℃相対湿度８０％の環境において５０００パス往復走行させた後のＳＮＲを測定した。１パス目のＳＮＲと５０００パス目のＳＮＲとの差分（５０００パス目のＳＮＲ−１パス目のＳＮＲ）を求めた。
以上の記録および再生は、磁気テープの磁性層表面とヘッドとを摺動させて行われた。

［例２〜２３］
表１に示す各種項目を表１に示すように変更した点以外、例１と同様に磁気テープを作製し、作製した磁気テープの電磁変換特性（ＳＮＲ）低下を評価した。
表１中、分散ビーズの欄および時間の欄に「なし」と記載されている例については、磁性液分散処理において第二の段階を実施せずに磁性層形成用組成物を調製した。
表１中、垂直配向処理磁場強度の欄に「なし」と記載されている例については、配向処理を行わずに磁性層を形成した。
表１中、冷却ゾーン滞在時間の欄および硬化処理前バーニッシュ処理の欄に「未実施」と記載されている例では、磁性層形成工程に冷却ゾーンを含まず、かつ硬化処理前のバーニッシュ処理およびワイピング処理を行わない製造工程により磁気テープを作製した。
表１中、超音波振動付与条件の欄に「なし」と記載されている例では、振動付与を行わない製造工程により磁気テープを作製した。

作製した各磁気テープは、一部を電磁変換特性（ＳＮＲ）低下の評価に使用し、他の一部を以下の物性評価に使用した。

［磁気テープの物性評価］
（１）ＸＲＤ強度比
例１〜２３の各磁気テープから、テープ試料を切り出した。
切り出したテープ試料について、薄膜Ｘ線回折装置（リガク社製ＳｍａｒｔＬａｂ）を用いて磁性層表面にＸ線を入射させて、先に記載した方法によりＩｎ−Ｐｌａｎｅ ＸＲＤを行った。
Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ ＸＲＤにより得られたＸ線回折スペクトルから、六方晶フェライト結晶構造の（１１４）面の回折ピークのピーク強度Ｉｎｔ（１１４）および（１１０）面の回折ピークのピーク強度Ｉｎｔ（１１０）を求め、ＸＲＤ強度比（Ｉｎｔ（１１０）／Ｉｎｔ（１１４））を算出した。

（２）垂直方向角型比
例１〜２３の各磁気テープについて、振動試料型磁束計（東英工業社製）を用いて先に記載した方法により垂直方向角型比を求めた。

（３）真空加熱前後のスペーシング分布の半値全幅ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}、ＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}
ＴＳＡ（Ｔａｐｅ Ｓｐａｃｉｎｇ Ａｎａｌｙｚｅｒ（Ｍｉｃｒｏ Ｐｈｙｓｉｃｓ社製））を用いて、以下の方法により、真空加熱前後のスペーシング分布の半値全幅ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}およびＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}を求めた。
磁気テープの磁性層表面上に、ＴＳＡに備えられたガラス板を配置した状態で、押圧部材としてＴＳＡに備えられているウレタン製の半球を用いて、この半球を磁気テープのバックコート層表面に、５．０５×１０^４Ｎ／ｍ（０．５ａｔｍ）の圧力で押しつけた。この状態で、ＴＳＡに備えられているストロボスコープから白色光を、ガラス板を通して磁気テープの磁性層表面の一定領域（１５００００〜２０００００μｍ^２）に照射し、得られる反射光を、干渉フィルタ（波長６３３ｎｍの光を選択的に透過するフィルタ）を通してＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ−Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｄｅｖｉｃｅ）で受光することで、この領域の凹凸で生じた干渉縞画像を得た。
この画像を３０００００ポイントに分割して各ポイントのガラス板の磁気テープ側の表面から磁気テープの磁性層表面までの距離（スペーシング）を求めこれをヒストグラムとし、ヒストグラムをガウス分布でフィッティングしたときの半値全幅をスペーシング分布の半値全幅とした。
真空加熱は、磁気テープを、２００Ｐａ以上０．０１ＭＰａ以下の真空度の内部雰囲気温度７０〜９０℃の真空定温乾燥機に２４時間保存することにより行った。

（４）差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）
上記（３）で得た真空加熱後のヒストグラムの最頻値から、真空加熱前のヒストグラムの最頻値を差し引いて、差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）とした。

以上の結果を、表１（表１−１および表１−２）に示す。

表１に示す結果から、磁気テープのＸＲＤ強度比、垂直方向角型比、磁性層のＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}、ＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}および差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）がそれぞれ先に記載した範囲である例１〜１１は、例１２〜２３と比べて、磁性層表面とヘッドとを摺動させて再生を繰り返しても電磁変換特性の低下が少ないことが確認された。
なお例１２〜１４は、同じ物性を有する磁気テープを用いた例であり、磁気テープ走行速度および線記録密度が異なる。これら例１２〜１４の対比から、磁気テープを高速で走行させるほど、また線記録密度を高めるほど、繰り返し摺動における電磁変換特性の低下が顕在化することも確認できる。そのような繰り返し摺動における電磁変換特性の低下は、例１〜１１において抑制可能であった。

本発明は、データバックアップテープ等のデータストレージ用磁気記録媒体の技術分野において有用である。

Claims (8)

1. 非磁性支持体上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有する磁気記録媒体であって、
   前記強磁性粉末は強磁性六方晶フェライト粉末であり、前記磁性層は研磨剤および脂肪酸エステルを含み、
   Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ法を用いた前記磁性層のＸ線回折分析により求められる六方晶フェライト結晶構造の（１１４）面の回折ピークのピーク強度Ｉｎｔ（１１４）に対する（１１０）面の回折ピークのピーク強度Ｉｎｔ（１１０）の強度比、Ｉｎｔ（１１０）／Ｉｎｔ（１１４）、は０．５以上４．０以下であり、
   前記磁気記録媒体の垂直方向角型比は、０．６５以上１．００以下であり、
   前記磁気記録媒体を真空加熱する前に前記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、０ｎｍ超かつ７．０ｎｍ以下であり、
   前記磁気記録媒体を真空加熱した後に前記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、０ｎｍ超かつ７．０ｎｍ以下であり、かつ
   前記磁気記録媒体を真空加熱した後に前記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳ_{ａｆｔｅｒ}と、前記磁気記録媒体を真空加熱する前に前記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳ_{ｂｅｆｏｒｅ}との差分、Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}、は、０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下である磁気記録媒体。
2. 前記垂直方向角型比は、０．６５以上０．９０以下である、請求項１に記載の磁気記録媒体。
3. 前記磁気記録媒体を真空加熱する前に前記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、３．０ｎｍ以上７．０ｎｍ以下である、請求項１または２に記載の磁気記録媒体。
4. 前記磁気記録媒体を真空加熱した後に前記磁性層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、３．０ｎｍ以上７．０ｎｍ以下である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
5. 前記差分、Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}、は、２．０ｎｍ以上８．０ｎｍ以下である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
6. 前記非磁性支持体と前記磁性層との間に、非磁性粉末および結合剤を含む非磁性層を有する、請求項１〜５のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
7. 前記非磁性支持体の前記磁性層を有する表面側とは反対の表面側に、非磁性粉末および結合剤を含むバックコート層を有する、請求項１〜６のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
8. 磁気テープである、請求項１〜７のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。