JP6684239B2 - 磁気テープ - Google Patents

Description

本発明は、磁気テープに関する。

磁気記録媒体にはテープ状のものとディスク状のものがあり、データバックアップ等のデータストレージ用途には、テープ状の磁気記録媒体、即ち磁気テープが主に用いられている。磁気テープへの情報の記録および／または再生は、通常、磁気テープが収容された磁気テープカートリッジをドライブに装着し、磁気テープをドライブ内で走行させて磁気テープ表面（磁性層表面）と磁気ヘッドとを接触させ摺動させることにより行われる。以下において、磁気テープを単に「テープ」ともいい、磁気ヘッドを単に「ヘッド」ともいう。

例えば磁気テープに記録された情報を連続的または断続的に繰り返し再生するために、磁気テープをドライブ内で繰り返し走行（以下、単に「繰り返し走行」とも記載する。）させることが行われる。このような繰り返し走行における電磁変換特性の低下を抑制することは、データストレージ用途における磁気テープの信頼性を高めるうえで望ましい。繰り返し走行における電磁変換特性の低下が少ない磁気テープは、ドライブ内で連続的または断続的に走行を繰り返しても優れた電磁変換特性を発揮し続けることができるからである。

繰り返し走行によって電磁変換特性が低下する原因としては、磁性層表面とヘッドとの距離が広がる現象（「スペーシングロス」と呼ばれる。）が発生することが挙げられる。このスペーシングロスの原因としては、繰り返し走行において磁性層表面とヘッドとが摺動し続ける間にテープ由来の異物がヘッドに付着すること、即ちヘッド付着物の発生が挙げられる。ヘッド付着物の発生に対する対策としては、従来より、ヘッド付着物を除去する機能を磁性層表面に持たせるために、磁性層に研磨剤を含有させることが行われてきた（例えば特許文献１参照）。以下において、磁性層表面におけるヘッド付着物を除去する機能を、「磁性層表面の磨耗性」または単に「磨耗性」と記載する。

特開２０１４−１７９１４９号公報

特許文献１には、同文献に記載の磁気テープは、優れた電磁変換特性を発揮できることが記載されている。このような優れた電磁変換特性を発揮できる磁気テープのデータストレージ用途における信頼性を高めるためには、繰り返し走行における電磁変換特性の低下を抑制することが望ましい。そこで本発明者は、磁気テープの繰り返し走行における電磁変換特性の低下を抑制するための手段を見出すために検討を重ねた。かかる検討の中で、本発明者は、ヘッド付着物の発生のみがスペーシングロスの原因になり得るのではなく、ヘッドの部分的な削れもスペーシングロスの原因になり得ることに着目した。詳しくは、次の通りである。磁性層表面の磨耗性を高くすることによって、ヘッド付着物を原因とするスペーシングロスを低減することはできる。しかし、磁性層表面の磨耗性を高くするほど磁性層表面との摺動によりヘッドが部分的に削れ易くなる。ヘッドの部分的な削れが生じると、削れた部分では磁性層表面とヘッドとの距離が広がってしまう。このことも、スペーシングロスの原因となり得るのである。

磁性層表面の磨耗性に関しては、特許文献１に記載されているように磁性層において研磨剤を微細な状態で存在させるほど、磨耗性は低下する傾向がある。磨耗性の低下によってヘッドの部分的な削れは抑制できるものの、ヘッド付着物は除去され難くなる。このようにヘッド付着物の低減とヘッドの部分的な削れの抑制はトレードオフの関係にある。

ところで、磁気テープについては、磁気テープカートリッジ１巻あたりの記録容量を高めるために、磁気テープの総厚を薄くして（即ち、磁気テープを薄型化して）磁気テープカートリッジ１巻に収められるテープ全長を長くすることが望ましい。磁気テープの薄型化のための手段の１つとして、非磁性支持体上に非磁性層と磁性層とをこの順に有する磁気テープについては、非磁性層と磁性層との合計厚みを薄くすることが挙げられる。しかるに、本発明者の検討によって、非磁性層と磁性層との合計厚みを０．６０μｍ以下に薄くした磁気テープでは、非磁性層と磁性層との合計厚みが０．６０μｍ超の磁気テープと比べて、上記のトレードオフの関係を克服して繰り返し走行における電磁変換特性の低下を抑制することが、低温高湿環境では困難であることが判明した。以下において、電磁変換特性の低下とは、特記しない限り低温高湿環境における電磁変換特性の低下をいうものとする。低温高湿環境とは、例えば雰囲気温度１０〜２０℃かつ相対湿度７０〜９０％の環境であることができる。磁気テープは低温高湿環境でも使用され得るため、かかる環境において繰り返し走行における電磁変換特性の低下を抑制することが望まれる。

そこで本発明の目的は、非磁性層と磁性層との合計厚みが０．６０μｍ以下の磁気テープであって、低温高湿環境において走行を繰り返しても電磁変換特性の低下が少ない磁気テープを提供することにある。

本発明の一態様は、
非磁性支持体上に非磁性粉末および結合剤を含む非磁性層を有し、上記非磁性層上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有する磁気テープであって、
上記非磁性層と上記磁性層との合計厚みは、０．６０μｍ以下であり、
上記磁性層は研磨剤を含み、
走査型電子顕微鏡を用いて行われる平面観察によって上記磁性層の表面の４．３μｍ×６．３μｍ角の領域で確認される上記研磨剤の平面視最大面積の上記領域の総面積に対する割合は、０．０２％以上０．０６％未満であり、かつ
上記磁性層の表面において振り子粘弾性試験により求められる対数減衰率（以下、単に「対数減衰率」ともいう。）は、０．０５０以下である磁気テープ、
に関する。

一態様では、上記対数減衰率は、０．０１０以上０．０５０以下である。

一態様では、走査型電子顕微鏡を用いて行われる平面観察によって上記磁性層の表面の４．３μｍ×６．３μｍ角の領域で確認される上記研磨剤の平面視最大面積の上記領域の総面積に対する割合は、０．０２％以上０．０５％以下である。

一態様では、上記非磁性層と上記磁性層との合計厚みは、０．２０μｍ以上０．６０μｍ以下である。

一態様では、上記研磨剤のＢＥＴ（Ｂｒｕｎａｕｅｒ−Ｅｍｍｅｔｔ−Ｔｅｌｌｅｒ）比表面積は、１４〜４０ｍ^２／ｇの範囲である。

一態様では、上記研磨剤は、アルミナ粉末である。

一態様では、上記磁性層は、フェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族炭化水素化合物を含む。

一態様では、上記強磁性粉末は、強磁性六方晶フェライト粉末である。

一態様では、上記強磁性六方晶フェライト粉末は、Ａｌを含む。

本発明の一態様によれば、非磁性層と磁性層との合計厚みが０．６０μｍ以下であって、低温高湿環境での繰り返し走行における電磁変換特性の低下が少ない磁気テープを提供することができる。

対数減衰率の測定方法の説明図である。 対数減衰率の測定方法の説明図である。 対数減衰率の測定方法の説明図である。 磁気テープ製造工程の具体的態様の一例（工程概略図）を示す。

本発明の一態様は、非磁性支持体上に非磁性粉末および結合剤を含む非磁性層を有し、上記非磁性層上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有する磁気テープであって、上記非磁性層と上記磁性層との合計厚みは０．６０μｍ以下であり、上記磁性層は研磨剤を含み、走査型電子顕微鏡を用いて行われる平面観察によって上記磁性層の表面の４．３μｍ×６．３μｍ角の領域で確認される上記研磨剤の平面視最大面積の上記領域の総面積に対する割合は０．０２％以上０．０６％未満であり、かつ上記磁性層の表面において振り子粘弾性試験により求められる対数減衰率は０．０５０以下である磁気テープに関する。

以下の記載には、本発明者の推察が含まれる。かかる推察によって本発明は何ら限定されるものではない。

上記磁気テープに関する本発明者の推察は、以下の通りである。
（１）先に記載したように、非磁性層と磁性層との合計厚みを０．６０μｍ以下に薄くした磁気テープでは、非磁性層と磁性層との合計厚みが０．６０μｍ超の磁気テープと比べて、繰り返し走行における電磁変換特性の低下を抑制することが低温高湿環境では困難であることが判明した。その理由としては、非磁性層と磁性層との合計厚みが薄くなることにより磁性層表面とヘッドとの接触状態が変化することが考えられる。この接触状態の変化により、磁性層に存在する研磨剤によってヘッドが部分的に削られ易くなることが、スペーシングロスの原因の１つではないかと本発明者は推察している。この点に関して、磁性層における研磨剤の存在状態が詳細を後述する割合を満たす状態にあることは、磁性層に研磨剤が微細な状態で存在することを意味すると本発明者は考えている。そしてこのことが、繰り返し走行におけるヘッドの部分的な削れを抑制することに寄与すると、本発明者は推察している。
（２）ただし、単に磁性層に研磨剤を微細に存在させるのみでは、磁性層表面の磨耗性は低下してしまう。即ち、磁性層表面がヘッド付着物を除去する機能は低下してしまう。この点に関して本発明者は、詳細を後述する対数減衰率は、磁気テープの磁性層表面からヘッドに移行しヘッド付着物となる成分の量の指標になり得る値であると考えている。詳しくは、対数減衰率を０．０５０以下とすることが、ヘッド付着物の低減に寄与すると本発明者は考えている。これにより、磁性層に微細な状態で研磨剤が存在するとしても、ヘッド付着物を原因とするスペーシングロスが発生することを抑制することが可能になると、本発明者は推察している。詳細は更に後述する。

以上のようにヘッドの部分的な削れの抑制とヘッド付着物の低減とを両立することによりスペーシングロスの低減が可能になる結果、非磁性層と磁性層との合計厚みを０．６０μｍ以下に薄くした磁気テープにおいて繰り返し走行における電磁変換特性の低下を抑制することができると、本発明者は推察している。
ただし上記推察に、本発明は何ら限定されるものではない。

以下、上記磁気テープについて、更に詳細に説明する。

本発明および本明細書において、「磁性層（の）表面」とは、磁気テープの磁性層側表面と同義である。また、本発明および本明細書において、「強磁性粉末」とは、複数の強磁性粒子の集合を意味するものとする。「集合」とは、集合を構成する粒子が直接接触している態様に限定されず、結合剤、添加剤等が、粒子同士の間に介在している態様も包含される。以上の点は、本発明および本明細書における非磁性粉末等の各種粉末についても同様とする。なお粒子との語が、粉末を表すために用いられることもある。

［非磁性層と磁性層との合計厚み］
上記磁気テープの非磁性層と磁性層との合計厚みは、磁気テープの薄型化の観点から、０．６０μｍ以下であり、好ましくは０．５０μｍ以下である。また、非磁性層と磁性層との合計厚みは、例えば０．１０μｍ以上、または０．２０μｍ以上であることができる。
非磁性層の厚み、磁性層の厚み等の各種厚みについて、詳細は後述する。磁気テープの各層および非磁性支持体の厚みは、公知の膜厚測定法により求めることができる。一例として、例えば、磁気テープの厚み方向の断面を、イオンビーム、ミクロトーム等の公知の手法により露出させた後、露出した断面において走査型電子顕微鏡を用いて断面観察を行う。断面観察において厚み方向の１箇所において求められた厚み、または無作為に抽出した２箇所以上の複数箇所、例えば２箇所、において求められた厚みの算術平均として、各種厚みを求めることができる。または、各層の厚みは、製造条件から算出される設計厚みとして求めてもよい。

［磁性層における研磨剤の存在状態］
上記磁気テープは、磁性層に研磨剤を含む。そして研磨剤は磁性層において、走査型電子顕微鏡（Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ；ＳＥＭ）を用いて行われる平面観察によって磁性層の表面の４．３μｍ×６．３μｍ角の領域で確認される研磨剤の平面視最大面積の割合が、上記領域の総面積（１００％）に対して０．０２％以上０．０６％未満である状態で存在する。上記領域の総面積に対する上記研磨剤の平面視最大面積の割合（以下、「研磨剤の平面視最大面積割合」または単に「割合」とも記載する。）が０．０２％以上の状態で研磨剤が磁性層に存在することがヘッド付着物除去に寄与し、上記割合が０．０６％未満の状態で研磨剤が磁性層に存在することがヘッドの部分的な削れを抑制することに寄与すると、本発明者は推察している。そして、これらによってスペーシングロスの発生を抑制できることが低温高湿環境での繰り返し走行における電磁変換特性の低下を抑制することに寄与すると本発明者は考えている。上記割合は、０．０２％以上０．０５％以下であることが好ましく、０．０２％以上０．０４％以下であることがより好ましい。

非磁性層と磁性層との合計厚みが０．６０μｍ以下の磁気テープでは、上記割合が０．０２％以上０．０６％未満の状態で研磨剤を磁性層に存在させることに加えて、対数減衰率を０．０５０以下とすることが、低温高湿環境での繰り返し走行における電磁変換特性の低下を抑制することにつながる。この点について詳細は更に後述する。

＜測定方法＞
上記の研磨剤の平面視最大面積は、走査型電子顕微鏡を用いて行われる平面観察によって求められる。走査型電子顕微鏡としては、電界放出型（Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ；ＦＥ）の走査型電子顕微鏡（ＦＥ−ＳＥＭ）が使用される。ＦＥ−ＳＥＭを、加速電圧５ｋＶ、作動距離（ｗｏｒｋｉｎｇ ｄｉｓｔａｎｃｅ；Ｗ．Ｄ．）８ｍｍおよび撮影倍率２万倍の条件で用いて、磁性層の表面を上方から平面観察して撮像した走査型電子顕微鏡画像（ＳＥＭ画像）を画像解析することにより、上記の研磨剤の平面視最大面積を求める。求められた平面視最大面積から、上記割合を算出する。具体的手順は、以下の通りである。
１．ＳＥＭ画像の取得
撮像前の試料コーティング処理なしにて、加速電圧を５ｋＶ、作動距離（ｗｏｒｋｉｎｇ ｄｉｓｔａｎｃｅ；Ｗ．Ｄ．）を８ｍｍ、撮像倍率を２万倍に設定し、２次電子像としてＳＥＭ画像を取得する。走査型電子顕微鏡（ＦＥ−ＳＥＭ）としては、例えば日立社製ＦＥ−ＳＥＭ Ｓ４８００を使用することができる。後述の実施例および比較例の値は、ＦＥ−ＳＥＭとして、日立社製ＦＥ−ＳＥＭ Ｓ４８００を、プローブ電流をＮｏｒｍａｌに設定して用いて得られた値である。
２．画像解析
画像解析ソフトとして、三谷商事株式会社製ＷｉｎＲＯＯＦを用いて以下の手順により上記１．で取得したＳＥＭ画像の画像解析を実施する。下記の各部分の面積は、ｐｉｘｅｌを単位とする値で求められる。
（１）上記１．で取得したＳＥＭ画像の画像データ（ＳＥＭ（２０Ｋ）ｊｐｇ画像）を、ＷｉｎＲＯＯＦにドラッグおよびドロップする。
（２）画像上、倍率およびスケールが表示されている部分を除き、４．３μｍ×６．３μｍ角の領域を、解析領域として選択する。
（３）解析領域において画像を２値化処理する。具体的には、下限値として１５０諧調、上限値として２５５諧調を選択し、これら下限値および上限値を閾値とする２値化処理を実行する。
（４）２値化処理により、解析領域上の白く光る各部分の面積が求められる。具体的には、画像解析ソフトＷｉｎＲＯＯＦにおいて、計測→形状特徴→面積、のコマンドを実行する。
（５）解析領域の総面積（４．３μｍ×６．３μｍ）を１００％として、この総面積に対する（４）で求めた各部分の面積の割合を算出し、各部分の面積の割合の最大値を求める。
（６）上記（２）〜（５）の手順を、解析領域の位置を変えて４回実施する（Ｎ＝４）。
（７）４回の実施においてそれぞれ上記（５）で求められた最大値の算術平均（即ち４つの最大値の算術平均）を算出し、算出された値を研磨剤の平面視最大面積とする。こうして求められた平面視最大面積が解析領域の総面積に占める割合を算出し、研磨剤の平面視最大面積割合とする。

＜調整方法＞
研磨剤を磁性層において微細な状態で存在させることにより、上記割合が０．０２％以上０．０６％未満の状態で磁性層に研磨剤が存在している状態を実現することができる。研磨剤を磁性層において微細な状態で存在させるためには、粒子サイズの小さな研磨剤を使用し、研磨剤の凝集を抑制し、かつ偏在させずに均一に磁性層に分散させることが好ましい。そのための手段の一つとしては、磁性層形成用組成物調製時の研磨剤の分散条件を強化することが挙げられる。例えば、研磨剤を強磁性粉末と別分散することは、分散条件強化の一態様である。別分散とは、より詳しくは、研磨剤および溶媒を含む研磨剤液（但し、強磁性粉末を実質的に含まない）を強磁性粉末、溶媒および結合剤を含む磁性液と混合する工程を経て磁性層形成用組成物を調製する方法である。このように研磨剤と強磁性粉末とを別分散した後に混合することにより、磁性層形成用組成物における研磨剤の分散性を高めることができる。上記の「強磁性粉末を実質的に含まない」とは、研磨剤液の構成成分として強磁性粉末を添加しないことを意味するものであって、意図せず混入した不純物として微量の強磁性粉末が存在することは許容されるものとする。また、別分散のほかに、または別分散とともに、サイズの小さな分散メディアの使用（例えばビーズ分散における分散ビーズの小径化）、分散機における分散メディアの高充填化、長時間の分散処理等の手段を任意に組み合わせることにより、分散条件を強化することができる。また、磁性層形成用組成物の調製においてフィルタろ過を行う場合には、孔径の小さなフィルタを用いるほど研磨剤を磁性層において微細な状態で存在させやすくなる傾向がある。

（分散剤）
更に、研磨剤の分散性向上のための分散剤の使用も、研磨剤の分散条件強化の一態様として挙げることができる。ここで研磨剤の分散性向上のための分散剤とは、この剤が存在しない状態と比べて、磁性層形成用組成物および／または研磨液における研磨剤の分散性を高めることができる成分をいう。かかる分散剤として機能し得る化合物としては、フェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族炭化水素化合物を挙げることができる。「フェノール性ヒドロキシ基」とは、芳香環に直接結合したヒドロキシ基をいう。上記芳香族炭化水素化合物に含まれる芳香環は、単環であってもよく、多環構造であってもよく、縮合環であってもよい。研磨剤の分散性向上の観点からは、ベンゼン環またはナフタレン環を含む芳香族炭化水素化合物が好ましい。また、上記芳香族炭化水素化合物は、フェノール性ヒドロキシ基以外の置換基を有していてもよい。フェノール性ヒドロキシ基以外の置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、アシル基、ニトロ基、ニトロソ基、ヒドロキシアルキル基等を挙げることができ、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、ヒドロキシアルキル基が好ましい。上記芳香族炭化水素化合物１分子中に含まれるフェノール性ヒドロキシ基は、１つであってもよく、２つ、３つ、またはそれ以上であってもよい。

フェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族炭化水素化合物の好ましい一態様としては、下記一般式１００で表される化合物を挙げることができる。

［一般式１００中、Ｘ^１０１〜Ｘ^１０８のうちの２つはヒドロキシ基であり、他の６つはそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。］

一般式１００で表される化合物において、２つのヒドロキシ基（フェノール性ヒドロキシ基）の置換位置は特に限定されるものではない。

一般式１００で表される化合物は、Ｘ^１０１〜Ｘ^１０８のうちの２つがヒドロキシ基（フェノール性ヒドロキシ基）であり、他の６つはそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。また、Ｘ^１０１〜Ｘ^１０８のうち、２つのヒドロキシ基以外の部分がすべて水素原子であってもよく、一部またはすべてが置換基であってもよい。置換基としては、先に記載した置換基を例示することができる。２つのヒドロキシ基以外の置換基として、１つ以上のフェノール性ヒドロキシ基が含まれていてもよい。研磨剤の分散性向上の観点からは、Ｘ^１０１〜Ｘ^１０８のうちの２つのヒドロキシ基以外はフェノール性ヒドロキシ基ではないことが好ましい。即ち、一般式１００で表される化合物は、ジヒドロキシナフタレンまたはその誘導体であることが好ましく、２，３−ジヒドロキシナフタレンまたはその誘導体であることがより好ましい。Ｘ^１０１〜Ｘ^１０８で表される置換基として好ましい置換基としては、ハロゲン原子（例えば塩素原子、臭素原子）、アミノ基、炭素数１〜６（好ましくは１〜４）のアルキル基、メトキシ基およびエトキシ基、アシル基、ニトロ基およびニトロソ基、ならびに−ＣＨ_２ＯＨ基を挙げることができる。

また、研磨剤の分散性向上のための分散剤については、特開２０１４−１７９１４９号公報の段落００２４〜００２８も参照できる。

以上説明した研磨剤の分散性向上のための分散剤は、磁性層形成用組成物の調製時、好ましくは研磨剤液の調製時に、研磨剤１００．０質量部に対して、例えば０．５〜２０．０質量部の割合で使用することができ、１．０〜１０．０質量部の割合で使用することが好ましい。

（研磨剤）
「研磨剤」とは、モース硬度８超の非磁性粉末を意味し、モース硬度９以上の非磁性粉末であることが好ましい。研磨剤は、無機物質の粉末（無機粉末）であっても有機物質の粉末（有機粉末）であってもよい。研磨剤は、モース硬度８超の無機粉末であることがより好ましく、モース硬度９以上の無機粉末であることが更に好ましい。なおモース硬度の最大値は、ダイヤモンドの１０である。具体的には、研磨剤としては、アルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）、炭化珪素、ボロンカーバイド（Ｂ_４Ｃ）、ＴｉＣ、酸化セリウム、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２）、ダイヤモンド等の粉末を挙げることができ、中でもアルミナ粉末が好ましい。なお先に記載したフェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族炭化水素化合物は、アルミナ粉末の分散性向上のための分散剤として特に好ましい。アルミナには、結晶形態が主としてアルファ型とガンマ型の２種類ある。いずれも使用可能であり、より高硬度であり磨耗性向上および磁性層の強度向上に寄与するという観点からアルファ型の結晶形態のアルミナ（α−アルミナ）の使用が好ましい。α−アルミナにおけるアルファ化率は５０％以上であることが硬度の観点から好ましい。研磨剤の粒子の形状は、針状、球状、サイコロ状等のいずれの形状でもよい。

研磨剤が微細な状態で存在する磁性層を得るためには、研磨剤として粒子サイズの小さな研磨剤を用いることが好ましい。研磨剤の粒子サイズの指標としては、ＢＥＴ比表面積を挙げることができる。ＢＥＴ比表面積が大きいほど粒子サイズが小さいことを意味する。粒子サイズが小さいという観点から、研磨剤のＢＥＴ比表面積は、１４ｍ^２／ｇ以上であることが好ましく、１５ｍ^２／ｇ以上であることがより好ましく、１８ｍ^２／ｇ以上であることが更に好ましく、２０ｍ^２／ｇ以上であることが一層好ましい。また、分散性向上の容易性の観点からは、ＢＥＴ比表面積が４０ｍ^２／ｇ以下の研磨剤を用いることが好ましい。

研磨剤を含む磁性層形成用組成物の調製方法等の詳細は、後述する。

［対数減衰率］
上記磁気テープの磁性層の表面において振り子粘弾性試験により求められる対数減衰率は、０．０５０以下である。このことが、非磁性層と磁性層との合計厚みを０．６０μｍ以下の磁気テープの低温高湿環境下での繰り返し走行における電磁変換特性の低下の抑制に寄与し得る。電磁変換特性の低下をより一層抑制する観点から、上記対数減衰率は、０．０４８以下であることが好ましく、０．０４５以下であることがより好ましく、０．０４０以下であることが更に好ましく、０．０３５以下であることが一層好ましい。また、上記対数減衰率は、例えば０．０１０以上、または０．０１５以上であることができる。ただし、電磁変換特性低下抑制の観点からは上記対数減衰率は低いほど好ましいため、上記対数減衰率は上記の例示した下限を下回ってもよい。

本発明および本明細書において、上記の対数減衰率とは、以下の方法により求められる値とする。
図１〜図３は、対数減衰率の測定方法の説明図である。以下、これら図面を参照し対数減衰率の測定方法を説明する。ただし、図示された態様は例示であって、本発明を何ら限定するものではない。
測定対象の磁気テープから、測定用試料１００を切り出す。切り出した測定用試料１００を、振り子粘弾性試験機内の試料ステージ１０１において、基板１０３上に測定面（磁性層表面）を上方に向けて載置し、目視で確認できる明らかなしわが入っていない状態で、固定用テープ１０５等で固定する。
測定用試料１００の測定面上に、質量１３ｇの振り子付円柱型シリンダエッジ１０４（直径４ｍｍ）を、シリンダエッジの長軸方向が測定用試料１００の長手方向と平行になるように載せる。こうして測定用試料１００の測定面に、振り子付円柱型シリンダエッジ１０４を載せた状態（上方から見た状態）の一例を、図１に示す。図１に示す態様では、ホルダ兼温度センサー１０２が設置され、基板１０３の表面温度をモニタリングできる構成になっている。ただし、この構成は必須ではない。なお測定用試料１００の長手方向とは、図１に示す態様では図中に矢印によって示した方向であり、測定用試料を切り出した磁気テープにおける長手方向をいう。本発明および本明細書において、「平行」とは、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。上記誤差の範囲とは、例えば、厳密な平行±１０°未満の範囲を意味し、厳密な平行±５°以内であることが好ましく、±３°以内であることがより好ましい。また、振り子１０７（図２参照）としては、マグネットに吸着される性質を有する材料製（例えば金属製、合金製等）の振り子を用いる。
測定用試料１００を載置した基板１０３の表面温度を５℃／ｍｉｎ以下の昇温速度（５℃／ｍｉｎ以下であれば任意の昇温速度でよい。）で昇温して８０℃として、振り子運動を、振り子１０７とマグネット１０６との吸着を解除することにより開始（初期振動を誘起）させる。振り子運動している振り子１０７の状態（横から見た状態）の一例が、図２である。図２に示す態様では、振り子粘弾性試験機内で、試料ステージ下方に配置されたマグネット（電磁石）１０６への通電を停止して（スイッチをオフにして）吸着を解除することにより振り子運動を開始し、電磁石への通電を再開して（スイッチをオンにして）振り子１０７をマグネット１０６に吸着させることにより振り子運動を停止させる。振り子運動中、図２に示すように、振り子１０７は振幅を繰り返す。振り子が振幅を繰り返している間、振り子の変位を変位センサー１０８によりモニタリングして得られる結果から、変位を縦軸に取り、経過時間を横軸に取った変位−時間曲線を得る。変位−時間曲線の一例を、図３に示す。図３では、振り子１０７の状態と変位−時間曲線との対応が模式的に示されている。一定の測定間隔で、静止（吸着）と振り子運動とを繰り返し、１０分以上（１０分以上であれば任意の時間でよい。）経過した後の測定間隔において得られた変位−時間曲線を用いて、対数減衰率Δ（無単位）を、下記式から求め、この値を磁気テープの磁性層表面の対数減衰率とする。１回の吸着の吸着時間は１秒以上（１秒以上であれば任意の時間でよい。）とし、吸着終了から次の吸着開始までの間隔は６秒以上（６秒以上であれば任意の時間でよい。）とする。測定間隔とは、吸着開始から次の吸着開始までの時間の間隔である。また、振り子運動を行う環境の湿度は、相対湿度４０〜７０％の範囲であれば任意の相対湿度でよい。

変位−時間曲線において、変位が極小から再び極小になるまでの間隔を、波の一周期とする。ｎを、測定間隔中の変位−時間曲線に含まれる波の数とし、Ａｎを、ｎ番目の波における極小変位と極大変位との差とする。図３では、ｎ番目の波の変位が極小から再び極小になるまでの間隔を、Ｐｎ（例えば１番目の波についてはＰ_１、２番目についてはＰ_２、３番目についてはＰ_３）と表示している。対数減衰率の算出には、ｎ番目の波の次に現れる極小変位と極大変位との差（上記式中、Ａ_ｎ＋１、図３に示す変位−時間曲線ではＡ_４）も用いるが、極大以降に振り子１０７が静止（吸着）している部分は波の数のカウントには用いない。また、極大変位以前に振り子１０７が静止（吸着）している部分も、波の数のカウントには用いない。したがって、図３に示す変位−時間曲線では、波の数は３つ（ｎ＝３）である。

上記の対数減衰率に関して、本発明者は、以下のように考えている。ただし下記は推察に過ぎず、本発明を何ら限定するものではない。
本発明者は、ヘッド付着物には、磁性層表面から遊離する粘着性成分が含まれていると考えている。更に本発明者は、上記の対数減衰率は、この粘着性成分の量の指標になり得る値であり、この値が０．０５０以下であることは、磁性層表面からヘッドへ付着する粘着性成分の量が低減されていることを意味すると考えている。かかる粘着性成分の詳細は明らかではないものの、結合剤として用いられる樹脂に由来する可能性があると、本発明者は推察している。詳しくは、次の通りである。結合剤としては、詳細を後述するように各種樹脂を用いることができる。樹脂とは、２つ以上の重合性化合物の重合体（ホモポリマーおよびコポリマーを包含する。）であり、分子量が平均分子量を下回る成分（以下、「低分子量結合剤成分」と記載する。）も通常含まれる。このような低分子量結合剤成分が、走行中に磁性層表面から遊離しヘッドに付着し走行を繰り返すうちに堆積することが、電磁変換特性低下の原因となるスペーシングロスをもたらすのではないかと、本発明者は考えている。そして、上記の低分子量結合剤成分は粘着性を有すると考えられ、振り子粘弾性試験により求められる対数減衰率が、走行中にヘッドに付着し堆積する上記粘着性成分の量の指標になるのではないかと、本発明者は推察している。なお、一態様では、磁性層は、強磁性粉末および結合剤に加えて、硬化剤を含む磁性層形成用組成物を非磁性支持体上に直接または他の層を介して塗布し、硬化処理を施し形成される。ここでの硬化処理により、結合剤と硬化剤とを硬化反応（架橋反応）させることができる。ただし、低分子量結合剤成分は、理由は明らかではないものの、硬化反応の反応性に乏しいのではないかと本発明者は考えている。このため、低分子量結合剤成分は磁性層に留まり難く磁性層表面から遊離しヘッドに付着しやすいことが、低分子量結合剤成分が走行中にヘッドに付着し堆積しやすい理由の１つではないかと、本発明者は推察している。
上記対数減衰率を調整するための手段の具体的態様は、後述する。

次に、上記磁気テープに含まれる磁性層等について、更に詳細に説明する。

［磁性層］
＜強磁性粉末＞
磁性層に含まれる強磁性粉末としては、各種磁気記録媒体の磁性層において通常用いられる強磁性粉末を使用することができる。強磁性粉末として平均粒子サイズの小さいものを使用することは、磁気テープの記録密度向上の観点から好ましい。この点から、強磁性粉末としては、平均粒子サイズが５０ｎｍ以下の強磁性粉末を用いることが好ましい。一方、磁化の安定性の観点からは、強磁性粉末の平均粒子サイズは１０ｎｍ以上であることが好ましい。

強磁性粉末の好ましい具体例としては、強磁性六方晶フェライト粉末を挙げることができる。強磁性六方晶フェライト粉末の平均粒子サイズは、記録密度向上と磁化の安定性の観点から、１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることがより好ましい。

強磁性六方晶フェライト粉末の一態様としては、Ａｌを含む強磁性六方晶フェライト粉末を挙げることもできる。強磁性六方晶フェライト粉末はＡｌを含むことで硬くなり磁性層の強度向上等に寄与すると考えられる。強磁性六方晶フェライト粉末のＡｌ含有量は、強磁性六方晶フェライト粉末の総質量を１００．０質量％として、Ａｌ₂Ｏ₃換算で０．６質量％以上であることが好ましく、１．０質量％以上であることがより好ましく、２．０質量％以上であることが更に好ましく、３．０質量％以上であることが一層好ましい。また、強磁性六方晶フェライト粉末のＡｌ含有量は、強磁性六方晶フェライト粉末の総質量を１００．０質量％として、Ａｌ_２Ｏ_３換算で１２．０質量％以下であることが好ましく、１０．０質量％以下であることがより好ましく、８．０質量％以下であることが更に好ましく、６．０質量％以下であることが一層好ましい。

Ａｌは、強磁性六方晶フェライト粉末の粒子内部に存在していてもよく、粒子表面に被着していてもよく、粒子内部および表面に存在していてもよい。
強磁性六方晶フェライト粉末のＡｌ含有量は、誘導結合プラズマ（Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｐｌａｓｍａ；ＩＣＰ）分析によって求められるＡｌ／Ｆｅ比から算出することができる。また、粒子表面にＡｌが被着していることは、
Ｘ線光電子分光（Ｘ−ｒａｙ Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ；ＸＰＳ）分析により求められる粒子表層におけるＡｌ／Ｆｅ比が、上記ＩＣＰ分析によって求められるＡｌ／Ｆｅ比より大きくなること；
オージェ電子分光（Ａｕｇｅｒ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ；ＡＥＳ）分析において粒子表層にＡｌの局在が見られること；および、
透過型電子顕微鏡（Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ；ＴＥＭ）を用いて行われる断面観察において粒子表面に被膜が確認されること、
の１つ以上の分析方法によって確認することができる。なお粒子表面に存在するＡｌは、通常、酸化物の状態にあると推察される。

Ａｌを含む強磁性六方晶フェライト粉末の調製方法については、特開２０１１−２２５４１７号公報の段落００１２〜００３０を参照できる。特開２０１１−２２５４１７号公報に記載されている調製方法によれば、ガラス結晶化法によって、六方晶フェライト粒子の一次粒子の表面にＡｌが被着した強磁性六方晶フェライト粉末を得ることもできる。また、Ａｌを含む強磁性六方晶フェライト粉末の調製方法については、特開２０１４−１７９１４９号公報の段落００３５も参照できる。

強磁性六方晶フェライト粉末の詳細については、例えば、特開２０１１−２１６１４９号公報の段落０１３４〜０１３６および特開２０１２−２０４７２６号公報の段落００１３〜００３０も参照できる。

強磁性粉末の好ましい具体例としては、強磁性金属粉末を挙げることもできる。強磁性金属粉末の平均粒子サイズは、記録密度向上と磁化の安定性の観点から、１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることがより好ましい。強磁性金属粉末の詳細については、例えば特開２０１１−２１６１４９号公報の段落０１３７〜０１４１および特開２００５−２５１３５１号公報の段落０００９〜００２３を参照できる。

本発明および本明細書において、特記しない限り、強磁性粉末等の各種粉末の平均粒子サイズは、透過型電子顕微鏡を用いて、以下の方法により測定される値とする。
粉末を、透過型電子顕微鏡を用いて撮影倍率１０００００倍で撮影し、総倍率５０００００倍になるように印画紙にプリントして粉末を構成する粒子の写真を得る。得られた粒子の写真から目的の粒子を選びデジタイザーで粒子の輪郭をトレースし粒子（一次粒子）のサイズを測定する。一次粒子とは、凝集のない独立した粒子をいう。
以上の測定を、無作為に抽出した５００個の粒子について行う。こうして得られた５００個の粒子の粒子サイズの算術平均を、粉末の平均粒子サイズとする。上記透過型電子顕微鏡としては、例えば日立製透過型電子顕微鏡Ｈ−９０００型を用いることができる。また、粒子サイズの測定は、公知の画像解析ソフト、例えばカールツァイス製画像解析ソフトＫＳ−４００を用いて行うことができる。後述の実施例に示す平均粒子サイズは、特記しない限り、透過型電子顕微鏡として日立製透過型電子顕微鏡Ｈ−９０００型、画像解析ソフトとしてカールツァイス製画像解析ソフトＫＳ−４００を用いて測定された値である。

粒子サイズ測定のために磁気テープから試料粉末を採取する方法としては、例えば特開２０１１−０４８８７８号公報の段落００１５に記載の方法を採用することができる。

本発明および本明細書において、特記しない限り、粉末を構成する粒子のサイズ（粒子サイズ）は、上記の粒子写真において観察される粒子の形状が、
（１）針状、紡錘状、柱状（ただし、高さが底面の最大長径より大きい）等の場合は、粒子を構成する長軸の長さ、即ち長軸長で表され、
（２）板状または柱状（ただし、厚みまたは高さが板面または底面の最大長径より小さい）の場合は、その板面または底面の最大長径で表され、
（３）球形、多面体状、不特定形等であって、かつ形状から粒子を構成する長軸を特定できない場合は、円相当径で表される。円相当径とは、円投影法で求められるものを言う。

また、粉末の平均針状比は、上記測定において粒子の短軸の長さ、即ち短軸長を測定し、各粒子の（長軸長／短軸長）の値を求め、上記５００個の粒子について得た値の算術平均を指す。ここで、特記しない限り、短軸長とは、上記粒子サイズの定義で（１）の場合は、粒子を構成する短軸の長さを、同じく（２）の場合は、厚みまたは高さを各々指し、（３）の場合は、長軸と短軸の区別がないから、（長軸長／短軸長）は、便宜上１とみなす。
そして、特記しない限り、粒子の形状が特定の場合、例えば、上記粒子サイズの定義（１）の場合、平均粒子サイズは平均長軸長であり、同定義（２）の場合、平均粒子サイズは平均板径であり、平均板状比とは、（最大長径／厚みまたは高さ）の算術平均である。同定義（３）の場合、平均粒子サイズは、平均直径（平均粒径、平均粒子径ともいう）である。

磁性層における強磁性粉末の含有量（充填率）は、好ましくは５０〜９０質量％の範囲であり、より好ましくは６０〜９０質量％の範囲である。磁性層の強磁性粉末以外の成分は少なくとも結合剤であり、任意に一種以上の更なる添加剤が含まれ得る。磁性層において強磁性粉末の充填率が高いことは、記録密度向上の観点から好ましい。

＜結合剤＞
上記磁気テープは塗布型磁気テープであって、磁性層に、強磁性粉末および研磨剤とともに結合剤を含む。結合剤としては、一種以上の樹脂を使用する。樹脂は、ホモポリマーでもよく、コポリマー（共重合体）でもよい。結合剤としては、塗布型磁気記録媒体の結合剤として通常使用される各種樹脂を用いることができる。例えば、結合剤としては、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、塩化ビニル樹脂、スチレン、アクリロニトリル、メチルメタクリレート等を共重合したアクリル樹脂、ニトロセルロース等のセルロース樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルキラール樹脂等から選ばれる樹脂を単独で用いるか、または複数の樹脂を混合して用いることができる。これらの中で好ましいものはポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、セルロース樹脂、および塩化ビニル樹脂である。これらの樹脂は、後述する非磁性層および／またはバックコート層においても結合剤として使用することができる。以上の結合剤については、特開２０１０−２４１１３号公報の段落００２８〜００３１を参照できる。結合剤として使用される樹脂の平均分子量は、重量平均分子量として、例えば１０，０００以上２００，０００以下であることができる。本発明および本明細書における重量平均分子量とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定された値をポリスチレン換算して求められる値である。測定条件としては、下記条件を挙げることができる。後述の実施例に示す重量平均分子量は、下記測定条件によって測定された値をポリスチレン換算して求めた値である。
ＧＰＣ装置：ＨＬＣ−８１２０（東ソー社製）
カラム：ＴＳＫ ｇｅｌ Ｍｕｌｔｉｐｏｒｅ ＨＸＬ−Ｍ（東ソー社製、７．８ｍｍＩＤ(ｉｎｎｅｒ ｄｉａｍｅｔｅｒ（内径）)×３０．０ｃｍ）
溶離液：テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）

また、結合剤とともに硬化剤を使用することもできる。硬化剤は、一態様では加熱により硬化反応（架橋反応）が進行する化合物である熱硬化性化合物であることができ、他の一態様では光照射により硬化反応（架橋反応）が進行する光硬化性化合物であることができる。硬化剤は、磁性層形成工程の中で硬化反応が進行することにより、少なくとも一部は、結合剤等の他の成分と反応（架橋）した状態で磁性層に含まれ得る。好ましい硬化剤は、熱硬化性化合物であり、ポリイソシアネートが好適である。ポリイソシアネートの詳細については、特開２０１１−２１６１４９号公報の段落０１２４〜０１２５を参照できる。硬化剤は、磁性層形成用組成物中に、結合剤１００．０質量部に対して例えば０〜８０．０質量部、磁性層等の各層の強度向上の観点からは好ましくは５０．０〜８０．０質量部の量で使用することができる。

＜添加剤＞
磁性層には、強磁性粉末、結合剤および研磨剤が含まれ、必要に応じて一種以上の添加剤が更に含まれていてもよい。添加剤は、所望の性質に応じて、市販品または公知の方法により製造されたものを適宜選択して使用することができる。

添加剤の具体例として、先に説明した分散剤および硬化剤が挙げられる。なお研磨剤の分散性向上のための分散剤が、強磁性粉末の分散性向上のために寄与することもあり得る。強磁性粉末の分散性向上のための分散剤が、研磨剤の分散性の向上に寄与することもあり得る。また、磁性層に含まれ得る添加剤としては、非磁性フィラー、潤滑剤、分散助剤、防黴剤、帯電防止剤、酸化防止剤、カーボンブラック等を挙げることができる。非磁性フィラーとは、非磁性粉末と同義である。非磁性フィラーとしては、磁性層表面に適度に突出する突起を形成する突起形成剤として機能することができる非磁性フィラー（以下、「突起形成剤」と記載する。）を挙げることができる。突起形成剤は、磁性層表面の摩擦特性制御に寄与し得る成分である。突起形成剤としては、一般に突起形成剤として使用される各種非磁性粉末を用いることができる。これらは、無機粉末であっても有機粉末であってもよい。一態様では、摩擦特性の均一化の観点からは、突起形成剤の粒度分布は、分布中に複数のピークを有する多分散ではなく、単一ピークを示す単分散であることが好ましい。単分散粒子の入手容易性の点からは、突起形成剤は無機粉末であることが好ましい。無機粉末としては、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の粉末を挙げることができ、無機酸化物の粉末であることが好ましい。突起形成剤は、より好ましくはコロイド粒子であり、更に好ましくは無機酸化物コロイド粒子である。また、単分散粒子の入手容易性の観点からは、無機酸化物コロイド粒子を構成する無機酸化物は二酸化ケイ素（シリカ）であることが好ましい。無機酸化物コロイド粒子は、コロイダルシリカ（シリカコロイド粒子）であることがより好ましい。本発明および本明細書において、「コロイド粒子」とは、少なくとも、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、トルエンもしくは酢酸エチル、または上記溶媒の二種以上を任意の混合比で含む混合溶媒の少なくとも１つの有機溶媒１００ｍＬあたり１ｇ添加した際に、沈降せず分散しコロイド分散体をもたらすことのできる粒子をいうものとする。他の一態様では、突起形成剤は、カーボンブラックであることも好ましい。突起形成剤の平均粒子サイズは、例えば３０〜３００ｎｍであり、好ましくは４０〜２００ｎｍである。また、突起形成剤が、その機能をより良好に発揮することができるという観点から、磁性層における突起形成剤の含有量は、好ましくは強磁性粉末１００．０質量部に対して、１．０〜４．０質量部であり、より好ましくは１．５〜３．５質量部である。

［非磁性層］
次に非磁性層について説明する。上記磁気テープは、非磁性支持体と磁性層との間に、非磁性粉末および結合剤を含む非磁性層を有する。非磁性層に使用される非磁性粉末は、無機粉末でも有機粉末でもよい。また、カーボンブラック等も使用できる。無機粉末としては、例えば金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の粉末が挙げられる。これらの非磁性粉末は、市販品として入手可能であり、公知の方法で製造することもできる。その詳細については、特開２０１１−２１６１４９号公報の段落０１４６〜０１５０を参照できる。非磁性層に使用可能なカーボンブラックについては、特開２０１０−２４１１３号公報の段落００４０〜００４１も参照できる。非磁性層における非磁性粉末の含有量（充填率）は、好ましくは５０〜９０質量％の範囲であり、より好ましくは６０〜９０質量％の範囲である。

非磁性層の結合剤、添加剤等のその他詳細は、非磁性層に関する公知技術が適用できる。また、例えば、結合剤の種類および含有量、添加剤の種類および含有量等に関しては、磁性層に関する公知技術も適用できる。

本発明および本明細書における非磁性層には、非磁性粉末とともに、例えば不純物として、または意図的に、少量の強磁性粉末を含む実質的に非磁性な層も包含されるものとする。ここで実質的に非磁性な層とは、この層の残留磁束密度が１０ｍＴ以下であるか、保磁力が７．９６ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下であるか、または、残留磁束密度が１０ｍＴ以下であり、かつ保磁力が７．９６ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下である層をいうものとする。非磁性層は、残留磁束密度および保磁力を持たないことが好ましい。

［バックコート層］
上記磁気テープは、非磁性支持体の磁性層を有する側とは反対側に、非磁性粉末および結合剤を含むバックコート層を有することもできる。バックコート層には、カーボンブラックおよび無機粉末のいずれか一方または両方が含有されていることが好ましい。バックコート層に含まれる結合剤および任意に含まれ得る各種添加剤については、磁性層および／または非磁性層の処方に関する公知技術を適用することができる。

［非磁性支持体］
次に、非磁性支持体（以下、単に「支持体」とも記載する。）について説明する。非磁性支持体としては、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポリアミドイミド、芳香族ポリアミド等の公知のものが挙げられる。これらの中でもポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、およびポリアミドが好ましい。これらの支持体には、あらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理等を行ってもよい。

［各種厚み］
上記磁気テープにおける磁性層と非磁性層との合計厚みについては、先に記載した通りである。
上記磁気テープにおける非磁性支持体の厚みは、好ましくは３．００〜６．００μｍであり、より好ましくは３．００〜４．５０μｍである。
磁性層の厚みは、用いる磁気ヘッドの飽和磁化量、ヘッドギャップ長、記録信号の帯域等に応じて最適化することができる。磁性層の厚みは、一般には０．０１μｍ〜０．１５μｍであり、高密度記録化の観点から、好ましくは０．０２μｍ〜０．１２μｍであり、更に好ましくは０．０３μｍ〜０．１０μｍである。磁性層は少なくとも一層あればよく、磁性層を異なる磁気特性を有する２層以上に分離してもかまわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用できる。２層以上に分離する場合の磁性層の厚みとは、これらの層の合計厚みとする。
非磁性層の厚みは、例えば０．１０〜０．５５μｍであり、０．１０〜０．５０μｍであることが好ましい。
バックコート層の厚みは、０．９０μｍ以下であることが好ましく、０．１０〜０．７０μｍの範囲であることが更に好ましい。
また、磁気テープの総厚は、磁気テープカートリッジ１巻あたりの記録容量向上の観点から、６．００μｍ以下であることが好ましく、５．７０μｍ以下であることがより好ましく、５．５０μｍ以下であることが更に好ましい。一方、磁気テープの取り扱いの容易性（ハンドリング性）等の観点からは、磁気テープの総厚は１．００μｍ以上であることが好ましい。

［磁気テープの製造方法］
＜各層形成用組成物の調製＞
磁性層、非磁性層またはバックコート層を形成するための組成物は、先に説明した各種成分とともに、通常、溶媒を含む。溶媒としては、塗布型磁気テープを製造するために一般に使用される各種有機溶媒を用いることができる。中でも、塗布型磁気記録媒体に通常使用される結合剤の溶解性の観点からは、各層形成用組成物には、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、テトラヒドロフラン等のケトン溶媒の一種以上が含まれることが好ましい。各層形成用組成物における溶媒量は特に限定されるものではなく、通常の塗布型磁気記録媒体の各層形成用組成物と同様にすることができる。また、各層を形成するための組成物を調製する工程は、通常、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程を含む。個々の工程はそれぞれ２段階以上に分かれていてもかまわない。本発明で用いられる全ての原料は、どの工程の最初または途中で添加してもかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。磁性層形成用組成物の調製においては、先に記載した通り、研磨剤と強磁性粉末とを別分散することが好ましい。別分散における研磨剤液および磁性液の調製方法、ならびに磁性層形成用組成物の調製方法については、特開２０１４−１７９１４９号公報の段落００４２〜００４８も参照できる。また、磁気テープを製造するためには、公知の製造技術を用いることができる。混練工程ではオープンニーダ、連続ニーダ、加圧ニーダ、エクストルーダ等の強い混練力をもつニーダを使用することが好ましい。これらの混練処理の詳細については特開平１−１０６３３８号公報および特開平１−７９２７４号公報に記載されている。また、各層形成用組成物を分散させるためには、分散メディアとして、ガラスビーズおよびその他の分散ビーズの一種以上を用いることができる。このような分散ビーズとしては、高比重の分散ビーズであるジルコニアビーズ、チタニアビーズ、およびスチールビーズが好適である。これら分散ビーズの粒径（ビーズ径）と充填率は最適化して用いることができる。分散機は公知のものを使用することができる。各層形成用組成物を、塗布工程に付す前に公知の方法によってろ過してもよい。ろ過は、例えばフィルタろ過によって行うことができる。ろ過に用いるフィルタとしては、例えば孔径０．０１〜３μｍのフィルタを用いることができる。

＜塗布工程、冷却工程、加熱乾燥工程、バーニッシュ処理工程、硬化工程＞
磁性層は、磁性層形成用組成物を、非磁性支持体上に直接塗布するか、または非磁性層形成用組成物と逐次もしくは同時に重層塗布することにより形成することができる。各層形成のための塗布の詳細については、特開２０１０−２３１８４３号公報の段落００６６を参照できる。

好ましい一態様では、強磁性粉末、結合剤、研磨剤、硬化剤および溶媒を含む磁性層形成用組成物を非磁性支持体上に直接または他の層を介して塗布することにより塗布層を形成する塗布工程、塗布層を加熱処理により乾燥させる加熱乾燥工程、ならびに、塗布層に硬化処理を施す硬化工程を含む磁性層形成工程を経て、磁性層を形成することができる。磁性層形成工程は、塗布工程と加熱乾燥工程との間に、塗布層を冷却する冷却工程を含むことが好ましく、更に加熱乾燥工程と硬化工程との間に、上記塗布層表面をバーニッシュ（ｂｕｒｎｉｓｈ）処理するバーニッシュ処理工程を含むことが好ましい。

上記の磁性層形成工程の中で冷却工程およびバーニッシュ処理工程を実施することは、対数減衰率を０．０５０以下とするための好ましい手段であると本発明者は考えている。詳しくは、次の通りである。
塗布工程と加熱乾燥工程との間に塗布層を冷却する冷却工程を行うことは、磁性層表面とヘッドとが接触し摺動する際に磁性層表面から遊離する粘着性成分を、上記塗布層の表面および／または表面近傍の表層部分に局在させることに寄与するのではないかと、本発明者は推察している。これは、加熱乾燥工程前に磁性層形成用組成物の塗布層を冷却することにより、加熱乾燥工程における溶媒揮発時に粘着性成分が塗布層表面および／または表層部分に移行しやすくなるためではないかと、本発明者は推察している。ただし、その理由は明らかではない。そして、粘着性成分が表面および／または表層部分に局在した塗布層の表面をバーニッシュ処理することにより、粘着性成分を除去することができると、本発明者は考えている。こうして粘着性成分を除去した後に硬化工程を行うことが、対数減衰率を０．０５０以下にすることにつながると、本発明者は推察している。ただし、以上は推察に過ぎず、本発明を何ら限定するものではない。

上記の通り、磁性層形成用組成物は、非磁性層形成用組成物と逐次または同時に重層塗布することができる。好ましい一態様では、上記磁気テープは、逐次重層塗布により製造することができる。逐次重層塗布を含む製造工程は、好ましくは次のように行うことができる。非磁性層形成用組成物を非磁性支持体上に塗布することにより塗布層を形成する塗布工程、および形成した塗布層を加熱処理により乾燥させる加熱乾燥工程を経て、非磁性層を形成する。そして形成された非磁性層上に磁性層形成用組成物を塗布することにより塗布層を形成する塗布工程、および形成した塗布層を加熱処理により乾燥させる加熱乾燥工程を経て、磁性層を形成する。

以下、上記製造方法の具体的態様を、図４に基づき説明する。ただし本発明は、下記具体的態様に限定されるものではない。

図４は、非磁性支持体の一方の面に非磁性層と磁性層とをこの順に有し、他方の面にバックコート層を有する磁気テープを製造する工程の具体的態様を示す工程概略図である。図４に示す態様では、非磁性支持体（長尺フィルム）を、送り出し部から送り出し巻き取り部で巻き取る操作を連続的に行い、かつ図４に示されている各部または各ゾーンにおいて塗布、乾燥、配向等の各種処理を行うことにより、走行する非磁性支持体上の一方の面に非磁性層および磁性層を逐次重層塗布により形成し、他方の面にバックコート層を形成することができる。かかる製造方法は、磁性層形成工程に冷却ゾーンを含み、かつ硬化処理前にバーニッシュ処理工程を含む点以外は、塗布型磁気記録媒体の製造のために通常行われる製造方法と同様にすることができる。

送り出し部から送り出された非磁性支持体上には、第一の塗布部において、非磁性層形成用組成物の塗布が行われる（非磁性層形成用組成物の塗布工程）。

上記塗布工程後、第一の加熱処理ゾーンでは、塗布工程で形成された非磁性層形成用組成物の塗布層を加熱することにより、塗布層を乾燥させる（加熱乾燥工程）。加熱乾燥工程は、非磁性層形成用組成物の塗布層を有する非磁性支持体を加熱雰囲気中に通過させることにより行うことができる。ここでの加熱雰囲気の雰囲気温度は、例えば６０〜１４０℃程度とすることができる。ただし、溶媒を揮発させて塗布層を乾燥させることができる温度とすればよく、上記範囲に限定されるものではない。また任意に、加熱した気体を塗布層表面に吹き付けてもよい。以上の点は、後述する第二の加熱処理ゾーンにおける加熱乾燥工程および第三の加熱処理ゾーンにおける加熱乾燥工程についても、同様である。

次に、第二の塗布部において、第一の加熱処理ゾーンにて加熱乾燥工程を行い形成された非磁性層上に、磁性層形成用組成物が塗布される（磁性層形成用組成物の塗布工程）。

上記塗布工程後、冷却ゾーンにおいて、塗布工程で形成された磁性層形成用組成物の塗布層が冷却される（冷却工程）。例えば、非磁性層上に上記塗布層を形成した非磁性支持体を冷却雰囲気中に通過させることにより、冷却工程を行うことができる。冷却雰囲気の雰囲気温度は、好ましくは−１０℃〜０℃の範囲とすることができ、より好ましくは−５℃〜０℃の範囲とすることができる。冷却工程を行う時間（例えば、塗布層の任意の部分が冷却ゾーンに搬入されてから搬出されるまでの時間（以下において、「滞在時間」ともいう。））は特に限定されるものではない。滞在時間を長くするほど対数減衰率の値は小さくなる傾向があるため、０．０５０以下の対数減衰率を実現できるように必要に応じて予備実験を行う等して調整することが好ましい。なお冷却工程では、冷却した気体を塗布層表面に吹き付けてもよい。

その後、磁性層形成用組成物の塗布層が湿潤状態にあるうちに、配向ゾーンにおいて塗布層中の強磁性粉末の配向処理が行われる。配向処理については、特開２０１０−２３１８４３号公報の段落００６７を参照できる。

配向処理後の塗布層は、第二の加熱処理ゾーンにおいて加熱乾燥工程に付される。

次いで、第三の塗布部において、非磁性支持体の非磁性層および磁性層が形成された面とは反対側の面に、バックコート層形成用組成物が塗布されて塗布層が形成される（バックコート層形成用組成物の塗布工程）。その後、第三の加熱処理ゾーンにおいて、上記塗布層を加熱処理し乾燥させる。

こうして、非磁性支持体の一方の面に、非磁性層上に加熱乾燥された磁性層形成用組成物の塗布層を有し、他方の面にバックコート層を有する磁気テープを得ることができる。ここで得られた磁気テープは、この後に、後述する各種処理を施した後に、製品磁気テープとなる。

得られた磁気テープは、巻き取り部に巻き取られた後に、製品磁気テープのサイズに裁断（スリット）される。スリットは、公知の裁断機を用いて行うことができる。

スリットされた磁気テープは、磁性層形成用組成物に含まれている硬化剤の種類に応じた硬化処理（加熱、光照射等）を行う前に、加熱乾燥された磁性層形成用組成物の塗布層の表面をバーニッシュ処理される（加熱乾燥工程と硬化工程との間のバーニッシュ処理工程）。このバーニッシュ処理により、冷却ゾーンにおいて冷却されて塗布層表面および／または表層部分に移行した粘着性成分を除去できることが、上記対数減衰率を０．０５０以下にすることにつながると、本発明者は推察している。ただし先に記載した通り、推察に過ぎず、本発明を何ら限定するものではない。

バーニッシュ処理は、部材（例えば研磨テープ、または研削用ブレード、研削用ホイール等の研削具）により処理対象の表面を擦る処理であり、塗布型磁気記録媒体製造のために公知のバーニッシュ処理と同様に行うことができる。ただし、冷却工程および加熱乾燥工程を経た後、硬化工程前の段階でバーニッシュ処理を行うことは、従来行われていなかった。これに対し、上記段階でバーニッシュ処理を行うことにより、上記の対数減衰率を０．０５０以下にすることができる。

バーニッシュ処理は、好ましくは、研磨テープによって処理対象の塗布層表面を擦る（研磨する）ことおよび研削具によって処理対象の塗布層表面を擦る（研削すること）の一方または両方を行うことにより、実施することができる。磁性層形成用組成物が研磨剤を含む場合には、この研磨剤よりモース硬度の高い研磨剤を少なくとも一種含む研磨テープを用いることが好ましい。研磨テープとしては、市販品を用いてもよく、公知の方法で作製した研磨テープを用いてもよい。また、研削具としては、固定式ブレード、ダイヤモンドホイール、回転式ブレード等の公知の研削用ブレード、研削用ホイール等を用いることができる。また、研磨テープおよび／または研削具によって擦られた塗布層表面をワイピング材によって拭き取るワイピング（ｗｉｐｉｎｇ）処理を行ってもよい。好ましい研磨テープ、研削具、バーニッシュ処理およびワイピング処理の詳細については、特開平６−５２５４４号公報の段落００３４〜００４８、図１および同公報の実施例を参照できる。バーニッシュ処理を強化するほど、上記の対数減衰率の値は小さくなる傾向がある。バーニッシュ処理は、研磨テープに含まれる研磨剤として高硬度な研磨剤を用いるほど強化することができ、研磨テープ中の研磨剤量を増やすほど強化することができる。また、研削具として高硬度な研削具を用いるほど強化することができる。バーニッシュ処理条件に関しては、処理対象の塗布層表面と部材（例えば研磨テープまたは研削具）との摺動速度を早くするほど、バーニッシュ処理を強化することができる。上記摺動速度は、部材を移動させる速度および処理対象の磁気テープを移動させる速度の一方または両方を速くすることにより、速くすることができる。

上記のバーニッシュ処理（バーニッシュ処理工程）後、磁性層形成用組成物の塗布層に硬化処理を施す。図４に示す態様では、磁性層形成用組成物の塗布層は、バーニッシュ処理後、硬化処理前に、表面平滑化処理が施される。表面平滑化処理は、カレンダ処理によって行うことが好ましい。カレンダ処理の詳細は、例えば特開２０１０−２３１８４３号公報の段落００２６を参照できる。カレンダ処理を強化するほど、磁気テープ表面を平滑化することができる。カレンダ処理は、カレンダロールの表面温度（カレンダ温度）を高くするほど、および／または、カレンダ圧力を大きくするほど、強化することができる。

その後、磁性層形成用組成物の塗布層に、この塗布層に含まれる硬化剤の種類に応じた硬化処理を施す（硬化工程）。硬化処理は、加熱処理、光照射等の上記塗布層に含まれる硬化剤の種類に応じた処理によって行うことができる。硬化処理条件は特に限定されるものではなく、塗布層形成に用いた磁性層形成用組成物の処方、硬化剤の種類、塗布層の厚み等に応じて適宜設定すればよい。例えば、硬化剤としてポリイソシアネートを含む磁性層形成用組成物を用いて塗布層を形成した場合には、硬化処理は加熱処理であることが好ましい。なお磁性層以外の層に硬化剤が含まれる場合、その層の硬化反応も、ここでの硬化処理により進行させることもできる。または別途、硬化工程を設けてもよい。なお硬化工程後に、更にバーニッシュ処理を行ってもよい。

以上により、本発明の一態様にかかる磁気テープを得ることができる。ただし上記の製造方法は例示であって、対数減衰率および磁性層における研磨剤の存在状態を調整可能な任意の手段によって、対数減衰率および磁性層における研磨剤の存在状態をそれぞれ先に記載したように制御することができ、そのような態様も本発明に包含される。

以上説明した本発明の一態様にかかる磁気テープは、通常、磁気テープカートリッジに収容され、磁気テープカートリッジがドライブに装着される。磁気テープカートリッジおよびドライブの構成は公知である。ドライブ内で磁気テープが走行し（搬送され）、情報の記録および／または再生を行うための磁気ヘッドと磁性層表面とが接触し摺動して、磁気テープへの情報の記録および／または記録された情報の再生が行われる。上記磁気テープは、非磁性層と磁性層との合計厚みが０．６０μｍ以下であるにもかかわらず、低温高湿環境において走行を繰り返すうちに電磁変換特性が低下することを抑制することができる。

以下に、本発明を実施例に基づき説明する。ただし、本発明は実施例に示す態様に限定されるものではない。なお、以下に記載の「部」、「％」の表示は、特に断らない限り、「質量部」、「質量％」を示す。また、以下に記載の工程および評価は、特記しない限り、雰囲気温度２３℃±１℃の環境において行った。

［強磁性六方晶フェライト粉末の調製例］
特開２０１１−２２５４１７号公報の実施例１に記載の方法において、原料混合物に添加するＡｌ_２Ｏ_３量を変えることによりＡｌ被着量を調整し、かつ結晶化させる温度を変えることにより粒子サイズを調整し、粒子表面にＡｌ_２Ｏ_３が被着した強磁性六方晶フェライト粉末（バリウムフェライト粉末）を作製した。
作製された強磁性六方晶フェライト粉末について、先に記載した方法により平均粒子サイズ（平均板径）を求めたところ、２５ｎｍであった。
また、作製された強磁性六方晶フェライト粉末について、特開２０１４−１７９１４９号公報の段落００７０に記載の方法によりＡｌ含有量の測定およびＡｌ存在状態の確認を行った。作製された強磁性六方晶フェライト粉末のＡｌ含有量が、測定に用いた強磁性六方晶フェライト粉末の総質量１００．０質量％に対してＡｌ_２Ｏ_３換算で３．０質量％であった。また、作製された強磁性六方晶フェライト粉末では、一次粒子上にＡｌが被着（詳しくは、Ａｌを含む被膜が存在）していることが確認された。

［実施例１］
１．アルミナ分散物（研磨剤液）の調製
アルファ化率約６５％、表１に示すＢＥＴ比表面積のアルミナ粉末（モース硬度９）１００．０部に対し、表１に示す量の２，３−ジヒドロキシナフタレン（東京化成社製）、極性基としてＳＯ_３Ｎａ基を有するポリエステルポリウレタン樹脂（東洋紡社製ＵＲ−４８００（極性基量：８０ｍｅｑ／ｋｇ））の３２％溶液（溶媒はメチルエチルケトンとトルエンの混合溶媒）を３１．３部、溶媒としてメチルエチルケトンとシクロヘキサノン１：１（質量比）の混合液５７０．０部を混合し、ジルコニアビーズ存在下で、ペイントシェーカーにより、表１に示す時間、分散させた。分散後、メッシュにより分散液とビーズとを分け、アルミナ分散物（研磨剤液）を得た。

２．磁性層形成用組成物処方
（磁性液）
上記調製例で作製された強磁性六方晶バリウムフェライト粉末 １００．０部
ＳＯ_３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂 １４．０部
（重量平均分子量：７０，０００、ＳＯ_３Ｎａ基：０．２ｍｅｑ／ｇ）
分散剤 表４参照
シクロヘキサノン １５０．０部
メチルエチルケトン １５０．０部
（研磨剤液）
上記１．で調製したアルミナ分散物 ６．０部
（シリカゾル（突起形成剤液））
コロイダルシリカ（平均粒子サイズ：１００ｎｍ） ２．０部
メチルエチルケトン １．４部
（その他成分）
ステアリン酸 ２．０部
ブチルステアレート ６．０部
ポリイソシアネート（日本ポリウレタン社製コロネート（登録商標））２．５部
（仕上げ添加溶媒）
シクロヘキサノン ２００．０部
メチルエチルケトン ２００．０部

３．非磁性層形成用組成物処方
非磁性無機粉末：α−酸化鉄 １００．０部
平均粒子サイズ（平均長軸長）：０．１５μｍ
平均針状比：７
ＢＥＴ比表面積：５２ｍ^２／ｇ
カーボンブラック ２０．０部
平均粒子サイズ：２０ｎｍ
ＳＯ_３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂 １８．０部
（重量平均分子量：７０，０００、ＳＯ_３Ｎａ基：０．２ｍｅｑ／ｇ）
ステアリン酸 １．０部
シクロヘキサノン ３００．０部
メチルエチルケトン ３００．０部

４．バックコート層形成用組成物処方
非磁性無機粉末：α−酸化鉄 ８０．０部
平均粒子サイズ（平均長軸長）：０．１５μｍ
平均針状比：７
ＢＥＴ比表面積：５２ｍ^２／ｇ
カーボンブラック ２０．０部
平均粒子サイズ：２０ｎｍ
塩化ビニル共重合体 １３．０部
スルホン酸塩基含有ポリウレタン樹脂 ６．０部
フェニルホスホン酸 ３．０部
メチルエチルケトン １５５．０部
ステアリン酸 ３．０部
ブチルステアレート ３．０部
ポリイソシアネート ５．０部
シクロヘキサノン ３５５．０部

５．各層形成用組成物の調製
（１）磁性層形成用組成物の調製
磁性層形成用組成物を、以下の方法により調製した。
上記の磁性液成分をバッチ式縦型サンドミルにおいて分散メディアとしてビーズを用いてビーズ分散することにより、磁性液を調製した。具体的には、ジルコニアビーズ（ビーズ径：０．１ｍｍ）を用いて、表１に示すビーズ分散時間でビーズ分散を行った。
こうして得られた磁性液を、上記の研磨剤液、シリカゾル、その他成分および仕上げ添加溶媒と混合し、上記サンドミルを用いて、表１に示す時間、ビーズ分散した後、更にバッチ型超音波装置（２０ｋＨｚ、３００Ｗ）で、表１に示す時間、超音波分散を行った。次いで、得られた混合液をフィルタ（孔径：表１参照）を用いてろ過し、磁性層形成用組成物を調製した。
（２）非磁性層形成用組成物の調製
非磁性層形成用組成物を、以下の方法により調製した。
ステアリン酸、シクロヘキサノンおよびメチルエチルケトンを除いた各成分を、バッチ式縦型サンドミルを用いてビーズ分散（分散メディア：ジルコニアビーズ（ビーズ径：０．１ｍｍ）、分散滞留時間：２４時間）して分散液を得た。その後、得られた分散液に残りの成分を添加し、ディゾルバーで攪拌した。次いで、得られた分散液をフィルタ（孔径０．５μｍ）を用いてろ過し、非磁性層形成用組成物を調製した。
（３）バックコート層形成用組成物の調製
バックコート層形成用組成物を、以下の方法により調製した。
ステアリン酸、ブチルステアレート、ポリイソシアネートおよびシクロヘキサノンを除いた各成分をオープンニーダにより混練および希釈した。その後、得られた混合液に対して横型ビーズミルにより、ビーズ径１．０ｍｍのジルコニアビーズを用い、ビーズ充填率８０体積％およびローター先端周速１０ｍ／秒で、１パスあたりの滞留時間を２分とし、１２パスの分散処理を行った。その後、得られた分散液に残りの成分を添加し、ディゾルバーで攪拌した。次いで、得られた分散液をフィルタ（孔径：１．０μｍ）を用いてろ過し、バックコート層形成用組成物を調製した。

６．磁気テープの作製
図４に示す具体的態様により磁気テープを作製した。詳しくは、次の通りとした。
表１に示す厚みのポリエチレンナフタレート製支持体を送り出し部から送り出し、一方の表面に、第一の塗布部において乾燥後の厚みが表１に示す厚みになるように上記５．（２）で調製した非磁性層形成用組成物を塗布し、第一の加熱処理ゾーン（雰囲気温度１００℃）にて乾燥させて塗布層を形成した。
その後、第二の塗布部において乾燥後の厚みが表１に示す厚みになるように上記５．（１）で調製した磁性層形成用組成物を非磁性層上に塗布し塗布層を形成した。形成した塗布層が湿潤状態にあるうちに雰囲気温度０℃に調整した冷却ゾーンに表１に示す滞在時間で通過させて冷却工程を行い、更に配向ゾーンにおいて磁場強度０．３Ｔの磁場を垂直方向に印加し垂直配向処理を行った後、雰囲気温度１００℃の第二の加熱処理ゾーン（雰囲気温度１００℃）にて乾燥させた。
その後、第三の塗布部において、上記ポリエチレンナフタレート製支持体の非磁性層および磁性層を形成した表面とは反対側の表面に、乾燥後の厚みが表１に示す厚みになるように 上記５．（３）で調製したバックコート層形成用組成物を塗布して塗布層を形成し、形成した塗布層を第三の加熱処理ゾーン（雰囲気温度１００℃）にて乾燥させた。
こうして得られた磁気テープを１／２インチ（０．０１２７メートル）幅にスリットした後、磁性層形成用組成物の塗布層表面のバーニッシュ処理およびワイピング処理を行った。バーニッシュ処理およびワイピング処理は、特開平６−５２５４４号公報の図１に記載の構成の処理装置において、研磨テープとして市販の研磨テープ（富士フイルム社製商品名ＭＡ２２０００、研磨剤：ダイヤモンド／Ｃｒ_２Ｏ_３／ベンガラ）を使用し、研削用ブレードとして市販のサファイヤブレード（京セラ社製、幅５ｍｍ、長さ３５ｍｍ、先端角度６０度）を使用し、ワイピング材として市販のワイピング材（クラレ社製商品名ＷＲＰ７３６）を使用して行った。処理条件は、特開平６−５２５４４号公報の実施例１２における処理条件を採用した。
上記バーニッシュ処理およびワイピング処理後、金属ロールのみから構成されるカレンダロールで、速度８０ｍ／分、線圧３００ｋｇ／ｃｍ（２９４ｋＮ／ｍ）、およびカレンダ温度（カレンダロールの表面温度）９５℃にてカレンダ処理（表面平滑化処理）を行った。
その後、雰囲気温度７０℃の環境で３６時間加熱処理を行った。加熱処理後１／２インチ（０．０１２７メートル）幅にスリットした。
以上により、実施例１の磁気テープを作製した。

［実施例２〜８、比較例１〜１１］
表１に示すように各種条件を変更した点以外は実施例１と同様の方法により実施例２〜８および比較例１〜１１の各磁気テープを得た。
表１中、磁性層形成工程の冷却ゾーン滞在時間の欄に「未実施」と記載されている比較例では、冷却ゾーンを含まない製造工程により磁気テープを作製した。
表１中、硬化処理前バーニッシュ処理の欄に「未実施」と記載されている比較例では、上記硬化処理を実施する前の工程でバーニッシュ処理およびその後のワイピング処理を行わない製造工程により磁気テープを作製した。
表１中、硬化工程後バーニッシュ処理の欄に「実施」と記載されている比較例では、上記硬化処理を実施した後の工程で、先に記載したバーニッシュ処理およびワイピング処理を実施した。

以上の工程により得られた実施例１〜８および比較例１〜１１の各磁気テープの各層および非磁性支持体の厚みを、以下の方法により求めた。形成した各層および非磁性支持体の厚みが表１に示す厚みであることが確認された。
磁気テープの厚み方向の断面を、イオンビームにより露出させた後、露出した断面において走査型電子顕微鏡によって断面観察を行った。断面観察において厚み方向の２箇所において求められた厚みの算術平均として、各種厚みを求めた。

７．磁性層における研磨剤の存在状態（研磨剤の平面視最大面積割合）
先に記載した方法により、磁性層の表面において４．３μｍ×６．３μｍ角の領域で確認される研磨剤の平面視最大面積を求めた。

８．対数減衰率の測定
測定装置として、株式会社エー・アンド・ディー製剛体振り子型物性試験器ＲＰＴ−３０００Ｗ（振り子：真鍮製、基板：ガラス基板、基板昇温速度５℃／ｍｉｎ）を用いて、先に記載した方法により磁気テープの磁性層表面の対数減衰率を求めた。磁気テープから切り出した測定用試料は、約３ｃｍ×約５ｃｍのサイズのガラス基板上に、固定用テープ（東レ・デュポン製カプトンテープ）で図１に示すように４箇所を固定し載置した。吸着時間を１秒間かつ測定間隔を７〜１０秒とし、８６回目の測定間隔について変位−時間曲線を作成し、この曲線を用いて対数減衰率を求めた。測定は、相対湿度約５０％の環境下にて行った。

９．低温高湿環境での繰り返し走行後の電磁変換特性（ＳＮＲ（Ｓｉｇｎａｌ−ｔｏ−Ｎｏｉｓｅ−Ｒａｔｉｏ））の変化（ＳＮＲ低下）
電磁変換特性（ＳＮＲ）は、ヘッドを固定した１／２インチ（０．０１２７メートル）リールテスターを用いて以下の方法により測定した。
ヘッド／テープ相対速度を５．５ｍ／秒とし、記録はＭＩＧ（Ｍｅｔａｌ−Ｉｎ−Ｇａｐ）ヘッド（ギャップ長０．１５μｍ、トラック幅１．０μｍ）を使い、記録電流は各磁気テープの最適記録電流に設定した。再生ヘッドには素子厚み１５ｎｍ、シールド間隔０．１μｍおよびリード幅０．５μｍのＧＭＲ（Ｇｉａｎｔ−Ｍａｇｎｅｔｏｒｅｓｉｓｔｉｖｅ）ヘッドを用いた。２７０ｋｆｃｉの線記録密度で信号の記録を行い、再生信号をシバソク社製のスペクトラムアナライザーで測定した。なお単位ｋｆｃｉとは、線記録密度の単位（ＳＩ単位系に換算不可）である。信号は、磁気テープの走行開始後に信号が十分に安定した部分を使用した。キャリア信号の出力値と、スペクトル全帯域の積分ノイズとの比をＳＮＲとした。
以上の条件で、１パスあたりのテープ長を１，０００ｍとして、雰囲気温度１３℃相対湿度８０％の環境において５，０００パス往復走行させて再生（ヘッド／テープ相対速度：６．０ｍ／秒）を行いＳＮＲを測定した。１パス目のＳＮＲと５，０００パス目のＳＮＲとの差分（５，０００パス目のＳＮＲ−１パス目のＳＮＲ）を求めた。差分が−２．０ｄＢ未満であれば、データバックアップテープに望まれる優れた電磁変換特性を示す磁気テープと判断することができる。

以上の結果を、表１に示す。

比較例同士の対比により、非磁性層と磁性層との合計厚みが０．６０μｍ超の場合（比較例１および２）と比べ、非磁性層と磁性層との合計厚みが０．６０μｍ以下の場合（比較例３〜１１）では、低温高湿環境における繰り返し走行によりＳＮＲが顕著に低下することが確認された。
比較例の磁気テープの評価後の再生ヘッドを目視で観察したところ、比較例３、４および１０の評価後の再生ヘッドでは、ＧＭＲヘッドの素子部分と摺動面との段差が広がるＰＴＲ（Ｐｏｌｅ Ｔｉｐ Ｒｅｃｅｓｓｉｏｎ）と呼ばれる現象が発生していることが確認された。このＰＴＲは、磁性層表面との摺動によりＧＭＲヘッドの素子部分が削れたことにより生じたものと推察される。一方、比較例５〜９および１１の評価後の再生ヘッドでは、ＧＭＲヘッドにヘッド付着物が付着していることが確認された。比較例５〜９では磁性層表面から遊離した粘着性成分がヘッド付着物となっていると推察される。また、比較例１１では、磁性層表面の磨耗性が十分発揮されなかったことによりヘッド付着物が十分に除去されなかったと考えられる。
これに対し実施例１〜８の磁気テープは、非磁性層と磁性層との合計厚みが０．６０μｍ以下であるものの、比較例３〜１１の磁気テープと比べてＳＮＲの低下が抑制された。

本発明は、高密度記録用磁気テープの技術分野において有用である。

Claims (9)

1. 非磁性支持体上に非磁性粉末および結合剤を含む非磁性層を有し、前記非磁性層上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有する磁気テープであって、
   前記非磁性層と前記磁性層との合計厚みは、０．６０μｍ以下であり、
   前記磁性層は研磨剤を含み、
   走査型電子顕微鏡を用いて行われる平面観察によって前記磁性層の表面の４．３μｍ×６．３μｍ角の領域で確認される前記研磨剤の平面視最大面積の前記領域の総面積に対する割合は、０．０２％以上０．０６％未満であり、かつ
   前記磁性層の表面において振り子粘弾性試験により求められる対数減衰率は、０．０５０以下である磁気テープ。
2. 前記対数減衰率は、０．０１０以上０．０５０以下である、請求項１に記載の磁気テープ。
3. 走査型電子顕微鏡を用いて行われる平面観察によって前記磁性層の表面の４．３μｍ×６．３μｍ角の領域で確認される前記研磨剤の平面視最大面積の前記領域の総面積に対する割合は、０．０２％以上０．０５％以下である、請求項１または２に記載の磁気テープ。
4. 前記非磁性層と前記磁性層との合計厚みは、０．２０μｍ以上０．６０μｍ以下である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の磁気テープ。
5. 前記研磨剤のＢＥＴ比表面積は、１４〜４０ｍ^２／ｇの範囲である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の磁気テープ。
6. 前記研磨剤はアルミナ粉末である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の磁気テープ。
7. 前記磁性層は、フェノール性ヒドロキシ基を有する芳香族炭化水素化合物を含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載の磁気テープ。
8. 前記強磁性粉末は、強磁性六方晶フェライト粉末である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の磁気テープ。
9. 前記強磁性六方晶フェライト粉末は、Ａｌを含む、請求項８に記載の磁気テープ。