WO2009123141A1 - 紫外線吸収剤組成物 - Google Patents

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WO2009123141A1
WO2009123141A1 PCT/JP2009/056541 JP2009056541W WO2009123141A1 WO 2009123141 A1 WO2009123141 A1 WO 2009123141A1 JP 2009056541 W JP2009056541 W JP 2009056541W WO 2009123141 A1 WO2009123141 A1 WO 2009123141A1
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group
general formula
ultraviolet absorbent
ultraviolet
represented
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和史 古川
木村　桂三
竹島　洋一郎
一路 尼崎
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富士フイルム株式会社
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    • C08K5/45—Heterocyclic compounds having sulfur in the ring

Definitions

  • the present invention relates to an ultraviolet absorber composition. More specifically, the present invention is excellent in long-wave ultraviolet absorbing ability without causing precipitation of the ultraviolet absorber and bleeding out due to long-term use, and this absorbing ability for a long time. It is related with the ultraviolet absorber composition which is excellent in light resistance to maintain.
  • ultraviolet absorbers are commonly used with various resins to impart ultraviolet absorptivity.
  • the ultraviolet absorber is added for the purpose of improving the stability of the resin itself to be added, and the importance of cutting the long wave side UV-A is hardly known.
  • An inorganic ultraviolet absorber and an organic ultraviolet absorber may be used as the ultraviolet absorber.
  • Inorganic ultraviolet absorbers are excellent in durability such as weather resistance and heat resistance, but are selected because the absorption wavelength is determined by the band gap of the compound. There is no degree of freedom, and there is nothing that can absorb the long-wave ultraviolet (UV-A) region of 320 to 400 nm.
  • the organic ultraviolet absorber has a high degree of freedom in the structural design of the absorbent, it is possible to obtain various absorption wavelengths by devising the structure of the absorbent.
  • benzophenone and benzotriazole UV absorbers have relatively good light resistance, and can be cut relatively clearly up to a long wavelength region by increasing the concentration and film thickness (see, for example, Patent Documents 6 and 7). .)
  • the film thickness is limited to about several tens of ⁇ m.
  • there has been a problem that simply adding to a high concentration causes precipitation of ultraviolet absorbers and bleeding out due to long-term use.
  • some benzophenone and benzotriazole ultraviolet absorbers have skin irritation properties and accumulation properties in the living body, and careful attention is required for use.
  • the present invention solves the above-mentioned problems, does not cause precipitation of ultraviolet absorbers or bleed-out due to long-term use, has excellent long-wave ultraviolet absorption ability, and maintains this absorption ability for a long time. It is an object of the present invention to provide an ultraviolet absorber composition having excellent properties.
  • the ultraviolet absorber represented by the general formula (1) described later is excellent in long-wave ultraviolet absorbing ability, and is mixed with a resin or the like as a composition. It was found that when used, precipitation of the ultraviolet absorber and bleeding out due to long-term use do not occur. As a result of further detailed studies on the ultraviolet absorber, the present inventors have found that the ultraviolet absorber represented by the general formula (1) may be deteriorated in performance due to bleeding out due to the addition of the additive. Although it was difficult to think that it is desirable to add, even when the ultraviolet absorber does not last for a long time when used alone, it can be used in combination with a specific compound, It has been found that its performance can last for a long time.
  • JP-T-2006-501339 discloses a dispersant, a fluorescent dye, an antifoaming agent, a lubricant as necessary when a compound represented by the general formula (1) described later is used for a polymer film.
  • various known additives such as anti-fading agents and preservatives may be used, but specific types and structures of additives are not mentioned, and their effects are also described. There wasn't. The present invention has been made based on such findings.
  • the ultraviolet absorber composition characterized by including.
  • Het 1 represents a divalent 5- or 6-membered aromatic heterocyclic residue.
  • the aromatic heterocyclic residue may have a substituent.
  • X a , X b , X c and X d each independently represent a hetero atom.
  • X a to X d may have a substituent.
  • Y a , Y b , Y c , Y d , Y e and Y f each independently represent a hetero atom or a carbon atom.
  • Y a to Y f may have a substituent.
  • the ring bonded to Het 1 may have a double bond at any position.
  • R 91 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an acyl group, an alkyl or alkenyloxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group.
  • R 97 , R 98 and R 99 may be the same or different and each represents an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, an alkoxy group, an alkenyloxy group or an aryloxy group.
  • —X 91 — represents —O—, —S— or —N (—R 100 ) —.
  • R 100 is synonymous with R 91 .
  • R 92 , R 93 , R 94 , R 95 and R 96 may be the same as or different from each other, and each represents a hydrogen atom or a substituent.
  • R 91 and R 92 , R 100 and R 96 , and R 91 and R 100 may be bonded to each other to form a 5- to 7-membered ring.
  • R 92 and R 93 , R 93 and R 94 may be bonded to each other to form a 5- to 7-membered ring, a spiro ring, or a bicyclo ring.
  • R 91 , R 92 , R 93 , R 94 , R 95 , R 96 and R 100 are not all hydrogen atoms, and the total number of carbon atoms is 10 or more.
  • R 101 , R 102 , R 103 and R 104 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group or an alkenyl group, and R 101 and R 102 , R 103 and R 104 are bonded.
  • a 5- to 7-membered ring may be formed.
  • X 101 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkyloxy group, an alkenyloxy group, an alkyl or alkenyloxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an acyl group, an acyloxy group, an alkyloxycarbonyloxy group, an alkenyloxycarbonyloxy group, An aryloxycarbonyloxy group, an alkyl or alkenylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, an alkyl or alkenylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, a sulfamoyl group, a carbamoyl group, a hydroxy group, or an oxy radical group.
  • X 102 represents a nonmetallic atom group necessary for forming a 5- to 7-membered ring.
  • R 105 and R 106 represent a hydrogen atom, an aliphatic group, an acyl group, an aliphatic oxycarbonyl group, an aromatic oxycarbonyl group, an aliphatic sulfonyl group, an aromatic sulfonyl group, and R 107 is an aliphatic group, aliphatic oxy group, aromatic oxy group, aliphatic thio group, aromatic thio group, acyloxy group, aliphatic oxycarbonyloxy group, aromatic oxycarbonyloxy group, substituted amino group, heterocyclic group Represents a hydroxy group, and when possible, R 105 and R 106 , R 106 and R 107 , R 105 and R 107 may be bonded to each other to form a 5- to 7-membered ring, Except for the case where a 6,6
  • R 105 and R 106 are not both hydrogen atoms, and the total number of carbon atoms is 7 or more.
  • R 111 , R 112 represents an aliphatic group, R 111 and R 112 may be bonded to each other to form a 5- to 7-membered ring.
  • n represents 0, 1, 2; However, the total carbon number of R 111 and R 112 is 10 or more.
  • R 121 and R 122 represent an aliphatic oxy group and an aromatic oxy group
  • R 123 represents an aliphatic group, an aromatic group, an aliphatic oxy group and an aromatic oxy group
  • m represents 0 or 1
  • R 121 and R 122 , and R 121 and R 123 may be bonded to each other to form a 5- to 8-membered ring.
  • the total carbon number of R 121 , R 122 and R 123 is 10 or more.
  • the total content of the compounds represented by any one of the general formulas (TS-I) to (TS-V) is greater than 0% by mass and equal to or less than 80% by mass with respect to the entire composition.
  • ⁇ 4> In the general formula (1), a ring formed by X a , X b , Y a to Y c and a carbon atom and a ring formed by X c , X d , Y d to Y f and a carbon atom
  • Het 2 is synonymous with Het 1 in the general formula (1).
  • X 2a , X 2b , X 2c and X 2d have the same meanings as X a , X b , X c and X d in the general formula (1), respectively.
  • Y 2b , Y 2c , Y 2e and Y 2f have the same meanings as Y b , Y c , Y e and Y f in the general formula (1), respectively.
  • L 1 and L 2 each independently represents an oxygen atom, a sulfur atom or ⁇ NR a (R a represents a hydrogen atom or a monovalent substituent).
  • Z 1 and Z 2 each independently represents an atomic group necessary for forming a 4- to 8-membered ring together with Y 2b and Y 2c or Y 2e and Y 2f .
  • Het 3 is synonymous with Het 2 in the general formula (2).
  • X 3a , X 3b , X 3c and X 3d have the same meanings as X 2a , X 2b , X 2c and X 2d in the general formula (2), respectively.
  • R 3a , R 3b , R 3c , R 3d , R 3e , R 3f , R 3g and R 3h each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent.
  • Het 4 is synonymous with Het 3 in the general formula (3).
  • R 4a , R 4b , R 4c , R 4d , R 4e , R 4f , R 4g and R 4h are R 3a , R 3b , R 3c , R 3d , R 3e , R 3f in the general formula (3), respectively. , R 3g and R 3h .
  • R 5a , R 5b , R 5c , R 5d , R 5e , R 5f , R 5g and R 5h are R 4a , R 4b , R 4c , R 4d , R 4e , R in the general formula (4), respectively. It is synonymous with 4f , R4g and R4h .
  • R 5i and R 5j each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent.
  • TS-I general formula
  • An ultraviolet absorbent dispersion comprising the ultraviolet absorbent composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 10>.
  • An ultraviolet absorbent solution comprising the ultraviolet absorbent composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 10>.
  • a polymer material comprising the ultraviolet absorbent composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 10>.
  • the ultraviolet absorbent composition of the present invention does not cause precipitation of the ultraviolet absorbent or bleed out due to long-term use, and has an excellent effect of being excellent in ultraviolet absorbing ability over a long period of time and having no absorption in the visible region. Play.
  • an aliphatic group means an alkyl group, a substituted alkyl group, an alkenyl group, a substituted alkenyl group, an alkynyl group, a substituted alkynyl group, an aralkyl group, and a substituted aralkyl group.
  • the alkyl group may have a branch or may form a ring.
  • the number of carbon atoms of the alkyl group is preferably 1-20, and more preferably 1-18.
  • the alkyl part of the substituted alkyl group is the same as the above alkyl group.
  • the alkenyl group may have a branch or may form a ring.
  • the alkenyl group has preferably 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 18 carbon atoms.
  • the alkenyl part of the substituted alkenyl group is the same as the above alkenyl group.
  • the alkynyl group may have a branch or may form a ring.
  • the alkynyl group preferably has 2 to 20 carbon atoms, and more preferably 2 to 18 carbon atoms.
  • the alkynyl part of the substituted alkynyl group is the same as the above alkynyl group.
  • the alkyl part of the aralkyl group and the substituted aralkyl group is the same as the above alkyl group.
  • the aryl part of the aralkyl group and the substituted aralkyl group is the same as the following aryl group.
  • Examples of the substituent of the alkyl part of the substituted alkyl group, substituted alkenyl group, substituted alkynyl group and substituted aralkyl group include a halogen atom (eg, chlorine atom, bromine atom, iodine atom), alkyl group [straight chain, branched, cyclic Represents a substituted or unsubstituted alkyl group.
  • a halogen atom eg, chlorine atom, bromine atom, iodine atom
  • alkyl group straight chain, branched, cyclic Represents a substituted or unsubstituted alkyl group.
  • alkyl groups preferably alkyl groups having 1 to 30 carbon atoms such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, t-butyl, n-octyl, eicosyl, 2-chloroethyl, 2-cyanoethyl, 2-ethylhexyl).
  • a cycloalkyl group preferably a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, such as cyclohexyl, cyclopentyl, 4-n-dodecylcyclohexyl
  • a bicycloalkyl group preferably having 5 to 30 carbon atoms.
  • a substituted or unsubstituted bicycloalkyl group that is, a monovalent group obtained by removing one hydrogen atom from a bicycloalkane having 5 to 30 carbon atoms, for example, bicyclo [1,2,2] heptan-2-yl, bicyclo Including [2,2,2] octane-3-yl) and tricyclo structures with more ring structures It is intended to.
  • An alkyl group for example, an alkyl group of an alkylthio group in the substituents described below also represents such an alkyl group.
  • Alkenyl group [represents a linear, branched or cyclic substituted or unsubstituted alkenyl group. They are alkenyl groups (preferably substituted or unsubstituted alkenyl groups having 2 to 30 carbon atoms, such as vinyl, allyl, prenyl, geranyl, oleyl), cycloalkenyl groups (preferably substituted or unsubstituted 3 to 30 carbon atoms or An unsubstituted cycloalkenyl group, that is, a monovalent group obtained by removing one hydrogen atom of a cycloalkene having 3 to 30 carbon atoms (for example, 2-cyclopenten-1-yl, 2-cyclohexen-1-yl), Bicycloalkenyl group (a substituted or unsubstituted bicycloalkenyl group, preferably a substituted or unsubstituted bicycloalkenyl group having 5 to 30 carbon atoms, that is, a mono
  • bicyclo [2,2,1] hept-2-en-1-yl bicyclo [2,2 2] is intended to encompass oct-2-en-4-yl).
  • An alkynyl group preferably a substituted or unsubstituted alkynyl group having 2 to 30 carbon atoms, such as ethynyl, propargyl, trimethylsilylethynyl group
  • An aryl group preferably a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 30 carbon atoms such as phenyl, p-tolyl, naphthyl, m-chlorophenyl, o-hexadecanoylaminophenyl
  • a heterocyclic group preferably 5 or 6 A monovalent group obtained by removing one hydrogen atom from a substituted or unsubstituted aromatic or non-aromatic heterocyclic compound, more preferably a 5- or 6-membered aromatic having 3 to 30 carbon atoms
  • 2-furyl, 2-thienyl, 2-pyrimidinyl, 2-benzothiazolyl cyano group, hydroxyl group, nitro group, carboxyl group, alkoxy group (preferably having 1 to 30 carbon atoms)
  • Substituted or unsubstituted alkoxy groups such as methoxy, ethoxy, isopropoxy, t-butoxy, n-octyl
  • Acyloxy group (preferably formyloxy group, substituted or unsubstituted alkylcarbonyloxy group having 2 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted arylcarbonyloxy group having 6 to 30 carbon atoms, such as formyloxy, acetyloxy, pivaloyloxy , Stearoyloxy, benzoyloxy, p-methoxyphenylcarbonyloxy), a carbamoyloxy group (preferably a substituted or unsubstituted carbamoyloxy group having 1 to 30 carbon atoms, such as N, N-dimethylcarbamoyloxy, N, N -Diethylcarbamoyloxy, morpholinocarbonyloxy, N, N-di-n-octylaminocarbonyloxy, Nn-octylcarbamoyloxy), an alkoxycarbonyloxy group (preferably a substituted or unsubstituted group
  • An acylamino group (preferably a formylamino group, a substituted or unsubstituted alkylcarbonylamino group having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted arylcarbonylamino group having 6 to 30 carbon atoms, such as formylamino, acetylamino, Pivaloylamino, lauroylamino, benzoylamino, 3,4,5-tri-n-octyloxyphenylcarbonylamino), aminocarbonylamino group (preferably substituted or unsubstituted aminocarbonylamino having 1 to 30 carbon atoms, for example, Carbamoylamino, N, N-dimethylaminocarbonylamino, N, N-diethylaminocarbonylamino, morpholinocarbonylamino), alkoxycarbonylamino group (preferably substituted or unsubstituted alkoxycarbonylamino having 2 to
  • Sulfamoylamino group (preferably a substituted or unsubstituted sulfamoylamino group having 0 to 30 carbon atoms, such as sulfamoylamino, N, N-dimethylaminosulfonylamino, Nn-octylaminosulfonylamino ), Alkyl and arylsulfonylamino groups (preferably substituted or unsubstituted alkylsulfonylamino having 1 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted arylsulfonylamino having 6 to 30 carbon atoms, such as methylsulfonylamino, butylsulfonylamino) , Phenylsulfonylamino, 2,3,5-trichlorophenylsulfonylamino, p-methylphenylsulfonylamino), mercapto group, alkyl
  • a sulfo group, an alkyl and an arylsulfinyl group preferably a substituted or unsubstituted alkylsulfinyl group having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted arylsulfinyl group having 6 to 30 carbon atoms, such as methylsulfinyl, ethylsulfinyl, phenylsulfinyl, etc.
  • alkyl and arylsulfonyl groups preferably substituted or unsubstituted alkylsulfonyl groups having 1 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted arylsulfonyl groups having 6 to 30 carbon atoms such as methylsulfonyl, Ethylsulfonyl, phenylsulfonyl, p-methylphenylsulfonyl
  • acyl group preferably formyl group, substituted or unsubstituted alkylcarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted arylcarbonyl group having 7 to 30 carbon atoms
  • Aryl and heterocyclic azo groups preferably substituted or unsubstituted arylazo groups having 6 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted heterocyclic azo groups having 3 to 30 carbon atoms, such as phenylazo, p-chlorophenylazo, 5- Ethylthio-1,3,4-thiadiazol-2-ylazo), an imide group (preferably N-succinimide, N-phthalimide), a phosphino group (preferably a substituted or unsubstituted phosphino group having 2 to 30 carbon atoms, For example, dimethylphosphino, diphenylphosphino, methylphenoxyphosphino), phosphinyl group (preferably a substituted or unsubstituted phosphinyl group having 2 to 30 carbon atoms, such as phosphinyl, dioctyloxyphosphinyl, diethoxyphosphini ), A phosphin
  • those having a hydrogen atom may be substituted with the above groups by removing this.
  • Examples of such functional groups include an alkylcarbonylaminosulfonyl group, an arylcarbonylaminosulfonyl group, an alkylsulfonylaminocarbonyl group, and an arylsulfonylaminocarbonyl group.
  • Examples thereof include methylsulfonylaminocarbonyl, p-methylphenylsulfonylaminocarbonyl, acetylaminosulfonyl, and benzoylaminosulfonyl groups.
  • Examples of the substituent of the aryl part of the substituted aralkyl group are the same as the examples of the substituent of the following substituted aryl group.
  • the aromatic group means an aryl group and a substituted aryl group. These aromatic groups may be condensed with an aliphatic ring, another aromatic ring or a heterocyclic ring.
  • the number of carbon atoms in the aromatic group is preferably 6 to 40, more preferably 6 to 30, and still more preferably 6 to 20.
  • the aryl group is preferably phenyl or naphthyl, particularly preferably phenyl.
  • the aryl part of the substituted aryl group is the same as the above aryl group.
  • Examples of the substituent of the substituted aryl group are the same as those described above as examples of the substituent of the alkyl portion of the substituted alkyl group, the substituted alkenyl group, the substituted alkynyl group, and the substituted aralkyl group.
  • the heterocyclic group preferably contains a 5-membered or 6-membered saturated or unsaturated heterocyclic ring.
  • the heterocyclic ring may be condensed with an aliphatic ring, an aromatic ring or another heterocyclic ring.
  • heteroatoms of the heterocycle include B, N, O, S, Se and Te.
  • Heteroatoms are preferably N, O and S.
  • the heterocyclic ring preferably has a valence (monovalence) in which the carbon atom is free (the heterocyclic group is bonded at the carbon atom).
  • the number of carbon atoms of the heterocyclic group is preferably 1 to 40, more preferably 1 to 30, and still more preferably 1 to 20.
  • Examples of the saturated heterocyclic ring include a pyrrolidine ring, a morpholine ring, a 2-bora-1,3-dioxolane ring and a 1,3-thiazolidine ring.
  • Examples of the unsaturated heterocyclic ring include imidazole ring, thiazole ring, benzothiazole ring, benzoxazole ring, benzotriazole ring, benzoselenazole ring, pyridine ring, pyrimidine ring and quinoline ring.
  • the heterocyclic group may have a substituent. Examples of the substituent are the same as those described above as examples of the substituent of the alkyl portion of the substituted alkyl group, the substituted alkenyl group, the substituted alkynyl group, and the substituted aralkyl group.
  • the solution for confirming the spectral absorption maximum wavelength is obtained by dissolving the ultraviolet absorber represented by the general formula (1) by using an organic or inorganic solvent or water alone or a mixture thereof.
  • organic solvent include amide solvents (for example, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, 1-methyl-2-pyrrolidone), sulfone solvents (for example, sulfolane), sulfoxide solvents (for example, dimethyl sulfoxide).
  • Ureido solvents eg tetramethylurea
  • ether solvents eg dioxane, tetrahydrofuran, cyclopentylmethyl ether
  • ketone solvents eg acetone, cyclohexanone
  • hydrocarbon solvents eg toluene, xylene, n-decane
  • Halogen solvents eg, tetrachloroethane, chlorobenzene, chloronaphthalene
  • alcohol solvents eg, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, ethylene glycol, cyclohexanol, phenol
  • pyridi Solvent eg pyridine, ⁇ -picoline, 2,6-lutidine
  • ester solvent eg ethyl acetate, butyl acetate
  • carboxylic acid solvent eg acetic acid, propionic acid
  • nitrile solvent eg aceton
  • amide solvents from the solubility point of the ultraviolet absorber represented by the general formula (1), amide solvents, sulfone solvents, sulfoxide solvents, ureido solvents, ether solvents, ketone solvents, halogen solvents, hydrocarbons
  • a system solvent, an alcohol solvent, an ester solvent, or a nitrile solvent is preferable.
  • the concentration of the ultraviolet absorber represented by the general formula (1) for measurement is not particularly limited as long as the maximum wavelength of spectral absorption can be confirmed, and preferably 1 ⁇ 10 ⁇ 7 to 1 ⁇ 10 13.
  • the range is mol / L.
  • the temperature for measurement is not particularly limited, and is preferably 0 ° C. to 80 ° C.
  • the spectral absorption measurement device is not particularly limited, and an ordinary spectral absorption measurement device (for example, U-4100 spectrophotometer, trade name, manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation) can be used.
  • the ultraviolet absorbent composition of the present invention is represented by at least one ultraviolet absorbent represented by the general formula (1) and any one of the general formulas (TS-I) to (TS-V). It comprises at least one kind of compound.
  • the compound represented by any one of the general formulas (TS-I) to (TS-V) functions as a light stabilizer that prevents the resin from being decomposed by sharing it with various resins.
  • the ultraviolet absorber composition of the present invention containing such a compound together with the ultraviolet absorber represented by the general formula (1) not only the light stability of the composition itself is improved, but also the ultraviolet absorber.
  • the long-wave ultraviolet absorbing ability of the ultraviolet absorber can be maintained over a long period of time.
  • Het 1 represents a divalent 5- or 6-membered aromatic heterocyclic residue having at least one hetero atom. Het 1 may be condensed.
  • the hetero atom include a boron atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, a silicon atom, a phosphorus atom, a sulfur atom, a selenium atom, and a tellurium atom.
  • a hetero atom is preferably a nitrogen atom, an oxygen atom, or a sulfur atom. More preferably, they are a nitrogen atom and a sulfur atom. Particularly preferred is a sulfur atom. When two or more hetero atoms are present, they may be the same atom or different atoms.
  • Examples of the aromatic heterocyclic ring in which two hydrogen atoms are added to a divalent aromatic heterocyclic residue include pyrrole, pyrazole, imidazole, 1,2,3-triazole, 1,2,4-triazole, pyridine, pyridazine, Examples include pyrimidine, pyrazine, 1,3,5-triazine, furan, thiophene, oxazole, isoxazole, thiazole, isothiazole, 1,2,3-oxadiazole, 1,3,4-thiadiazole and the like.
  • Preferred examples of the aromatic heterocycle include pyrrole, pyridine, furan and thiophene. More preferred are pyridine and thiophene.
  • thiophene Any position for removing the hydrogen atom of the aromatic heterocycle may be used.
  • the bonding positions in the hetero 5-membered ring compound pyrrole include the 2,3-position, 2,4-position, 2,5-position, 3,4-position, and 3,5-position.
  • examples of the bonding position in thiophene include 2,3-position, 2,4-position, 2,5-position, 3,4-position, and 3,5-position.
  • the 2,5th, 2,4th and 3,4th positions are preferred, the 2,5th, 3rd and 4th positions are more preferred, and the 2,5th place is particularly preferred.
  • the bonding positions in the hetero 6-membered ring compound pyridine include the 2,3 position, 2,4 position, 2,5 position, 2,6 position, 3,4 position, 3,5 position and 3,6 position. It is done. Of these, preferred are the 2,5th, 2,6th and 3,5th positions, more preferred are the 2,5th and 2,6th positions, and particularly preferred are the 2,5th positions.
  • the aromatic heterocyclic residue Het 1 may have a substituent.
  • a monovalent substituent is mentioned as a substituent.
  • R examples include a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom), an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (for example, methyl, ethyl), a carbon number of 6 ⁇ 20 aryl groups (eg phenyl, naphthyl), cyano groups, carboxyl groups, alkoxycarbonyl groups (eg methoxycarbonyl), aryloxycarbonyl groups (eg phenoxycarbonyl), substituted or unsubstituted carbamoyl groups (eg carbamoyl, N- Phenylcarbamoyl, N, N-dimethylcarbamoyl), alkylcarbonyl group (eg acety
  • the substituent may be further substituted, and when there are a plurality of substituents, they may be the same or different.
  • the above-mentioned monovalent substituent R can be mentioned as an example of a substituent.
  • Preferred examples of the substituent include an alkyl group, an alkoxy group, and an aryl group. An alkyl group and an aryl group are more preferable, and an alkyl group is particularly preferable.
  • X a , X b , X c and X d each independently represent a hetero atom.
  • the hetero atom include a boron atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, a silicon atom, a phosphorus atom, a sulfur atom, a selenium atom, and a tellurium atom.
  • a hetero atom is preferably a nitrogen atom, an oxygen atom, or a sulfur atom. More preferably, they are a nitrogen atom and an oxygen atom.
  • X a to X d may have a substituent. Examples of the substituent include the examples of the monovalent substituent R described above.
  • Y a , Y b , Y c , Y d , Y e and Y f each independently represent a hetero atom or a carbon atom.
  • the atoms constituting Y a to Y f include a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom.
  • the atoms constituting Y a to Y f are preferably a carbon atom, a nitrogen atom and an oxygen atom, and more preferably a carbon atom and a nitrogen atom. More preferred is a carbon atom, and particularly preferred is a case where all represent a carbon atom.
  • the atoms may be substituted, the substituents may be bonded to each other to form a ring, or may be further condensed. Examples of the substituent include the examples of the monovalent substituent R described above.
  • the two rings bonded to the aromatic heterocyclic residue may have a double bond at any position. At least one of the two rings is preferably condensed. Moreover, it is preferable that at least one of the two rings is not a perimidine ring.
  • the ring formed by X a , X b , Y a to Y c and the carbon atom is A
  • the aromatic heterocyclic residue represented by Het 1 is Het
  • Specific examples of each ring are shown by assuming that the ring formed by X c , X d , Y d to Y f and carbon atom is B.
  • the ultraviolet absorber represented by the general formula (1) is preferably the ultraviolet absorber represented by the general formula (2).
  • the ultraviolet absorber represented by the general formula (2) will be described.
  • Het 2 has the same meaning as Het 1 in the general formula (1). The same applies to the preferred case.
  • X 2a , X 2b , X 2c and X 2d are the same as X a , X b , X c and X d in the general formula (1), respectively, and are the same when preferred.
  • X 2a , X 2b , X 2c and X 2d may be different from each other, but it is more preferable that X 2a and X 2b , and X 2c and X 2d each represent the same combination, particularly preferably X In this case, 2a and X 2c represent an oxygen atom, and X 2b and X 2d represent a nitrogen atom.
  • Y 2b , Y 2c , Y 2e and Y 2f have the same meanings as Y b , Y c , Y e and Y f in the general formula (1), respectively. The same applies to the preferred case.
  • L 1 and L 2 each independently represents an oxygen atom, a sulfur atom or ⁇ NR a (R a represents a hydrogen atom or a monovalent substituent.
  • the substituent is the above-described monovalent substituent R.
  • the oxygen atom is preferably ⁇ NR a . More preferred is an oxygen atom.
  • L 1 and L 2 may be different from each other, but are preferably the same. Among these, it is particularly preferable that both L 1 and L 2 are oxygen atoms.
  • Z 1 and Z 2 each independently represents an atomic group necessary for forming a 4- to 8-membered ring together with Y 2b and Y 2c or Y 2e and Y 2f . These rings may have a substituent and may further be condensed.
  • the ring to be formed include aliphatic hydrocarbon rings such as cyclohexane and cyclopentane, aromatic hydrocarbon rings such as benzene ring and naphthalene ring, pyridine, pyrrole, pyridazine, thiophene, imidazole, furan, pyrazole, oxazole, triazole, thiazo Or heterocyclic rings such as benzo-condensed ring thereof.
  • An aromatic hydrocarbon ring and a hetero ring are preferable.
  • An aromatic hydrocarbon ring is more preferable, and a benzene ring is particularly preferable.
  • the ultraviolet absorber represented by the general formula (2) is an ultraviolet absorber represented by the general formula (3).
  • the ultraviolet absorber represented by the general formula (3) will be described.
  • Het 3 has the same meaning as Het 2 in the general formula (2). The same applies to the preferred case.
  • X 3a , X 3b , X 3c and X 3d have the same meanings as X 2a , X 2b , X 2c and X 2d in the general formula (2), respectively, and are the same when preferred.
  • X 3a , X 3b , X 3c and X 3d may be different from each other, but it is more preferable that X 3a and X 3b , and X 3c and X 3d each represent the same combination, particularly preferably X In this case, 3a and X 3c represent an oxygen atom, and X 3b and X 3d represent a nitrogen atom.
  • R 3a , R 3b , R 3c , R 3d , R 3e , R 3f , R 3g and R 3h each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent.
  • substituents include the examples of the monovalent substituent R described above. Any two substituents of R 3a to R 3d and R 3e to R 3h may be bonded to each other to form a ring, and may further be condensed.
  • R 3a to R 3h are preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 10 or less carbon atoms, an alkoxy group having 10 or less carbon atoms, and a hydroxy group, and more preferably a hydrogen atom and an alkoxy group having 10 or less carbon atoms. More preferred is a hydrogen atom, and particularly preferred is a case where all of R 3a to R 3h represent a hydrogen atom.
  • the ultraviolet absorber represented by the general formula (3) is the ultraviolet absorber represented by the general formula (4).
  • the ultraviolet absorber represented by the general formula (4) will be described.
  • Het 4 has the same meaning as Het 3 in the general formula (3). The same applies to the preferred case.
  • R 4a , R 4b , R 4c , R 4d , R 4e , R 4f , R 4g and R 4h are R 3a , R 3b , R 3c , R 3d , R 3e , R 3f in the general formula (3), respectively. , R 3g and R 3h . The same applies to the preferred case.
  • the ultraviolet absorber represented by the general formula (4) is an ultraviolet absorber represented by the general formula (5).
  • the ultraviolet absorber represented by the general formula (5) will be described.
  • Het 5 has the same meaning as Het 4 in the general formula (4). The same applies to the preferred case.
  • R 5a , R 5b , R 5c , R 5d , R 5e , R 5f , R 5g and R 5h are R 4a , R 4b , R 4c , R 4d , R 4e , R 4f in the general formula (4), respectively. , R 4g and R 4h . The same applies to the preferred case.
  • R 5i and R 5j each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent.
  • the monovalent substituent include the examples of the monovalent substituent R described above.
  • R 5i and R 5j may be bonded to each other to form a ring or may be further condensed.
  • R 5i and R 5j are preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 10 or less carbon atoms, an alkoxy group having 10 or less carbon atoms, and a hydroxy group, and more preferably a hydrogen atom and an alkoxy group having 10 or less carbon atoms. More preferred is a hydrogen atom, and particularly preferred is a case where R 5i and R 5j both represent a hydrogen atom.
  • ultraviolet absorber represented by any one of the general formulas (1) to (5) are shown below, but the present invention is not limited thereto.
  • the ultraviolet absorber represented by any one of the general formulas (1) to (5) can be synthesized by any method.
  • publicly known patent documents and non-patent documents for example, the example of page 4 left 43rd line to right 8th line of JP-A-2000-264879, page 4 right column 5th line 30 to 30 of JP-A-2003-155375. It can be synthesized with reference to the example of the line, “Bioorganic & Medicinal Chemistry”, 2000, Vol. 8, pp. 2095-2103, “Bioorganic & Medicinal Chemistry Letters”, 2003, Vol. 13, pages 4077-4080.
  • Exemplified Compound (15) can be synthesized by reacting 3,5-pyrazole dicarbonyl dichloride with anthranilic acid.
  • the exemplified compound (32) can be synthesized by reacting 2,5-thiophene dicarbonyl dichloride with 4,5-dimethoxyanthranilic acid.
  • the ultraviolet absorber represented by any one of the general formulas (1) to (5) can take a tautomer depending on the structure and the environment in which it is placed.
  • tautomers different from those described in the present invention are also included in the ultraviolet absorber used in the present invention.
  • the ultraviolet absorber represented by any one of the general formulas (1) to (5) contains an isotope (eg, 2 H, 3 H, 13 C, 15 N, 17 O, 18 O, etc.). It may be.
  • Polymers containing the structure of the ultraviolet absorber represented by any one of the general formulas (1) to (5) in the repeating unit can also be suitably used in the present invention.
  • the polymer may be a homopolymer or a copolymer composed of two or more types of repeating units. Further, it may be a copolymer containing other repeating units.
  • the polymer containing the ultraviolet absorber structure in the repeating unit is described in JP-B-1-53455, JP-A-61-189530, and European Patent 27242. The description of these patent documents can be referred to for the method of obtaining the polymer.
  • R 91 represents a hydrogen atom, an alkyl group (including a cyclic alkyl group such as a cycloalkyl group, a bicycloalkyl group, and a tricycloalkyl group), an alkenyl group (a cycloalkenyl group, a bicycloalkenyl group).
  • Cyclic alkenyl groups such as tricycloalkenyl groups), aryl groups, heterocyclic groups, acyl groups, alkoxycarbonyl groups, aryloxycarbonyl groups, alkylsulfonyl groups (cycloalkylsulfonyl groups, bicycloalkylsulfonyl groups, tricyclo A cyclic alkylsulfonyl group such as an alkylsulfonyl group), an arylsulfonyl group, a phosphino group, a phosphinyl group, or —Si (R 97 ) (R 98 ) (R 99 ).
  • R 97 , R 98 and R 99 may be the same or different and each represents an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, an alkoxy group, an alkenyloxy group or an aryloxy group.
  • —X 91 — represents —O—, —S— or —N (—R 100 ) —.
  • R 100 is synonymous with R 91 .
  • R 92 , R 93 , R 94 , R 95 and R 96 may be the same as or different from each other, and each represents a hydrogen atom or a substituent.
  • R 91 and R 92 , R 100 and R 96 , and R 91 and R 100 may be bonded to each other to form a 5- to 7-membered ring.
  • R 92 and R 93 , R 93 and R 94 may be bonded to each other to form a 5- to 7-membered ring, a spiro ring, or a bicyclo ring.
  • R 91 , R 92 , R 93 , R 94 , R 95 , R 96 and R 100 are not all hydrogen atoms, and the total number of carbon atoms is 10 or more.
  • the aliphatic moiety may be linear, branched or cyclic and saturated or unsaturated, such as alkyl, alkenyl, cycloalkyl, Represents cycloalkenyl, and these may be unsubstituted or may have a substituent.
  • the aryl moiety may be a single ring or a condensed ring, and may be unsubstituted or have a substituent.
  • a heterocyclic moiety when a heterocyclic moiety is included, the heterocyclic moiety has a heteroatom (for example, a nitrogen atom, a sulfur atom, or an oxygen atom) in the ring.
  • the substituent in the present invention may be any group that can be substituted, for example, an aliphatic group, an aryl group, a heterocyclic group, an acyl group, an acyloxy group, an acylamino group, an aliphatic oxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy Group, aliphatic oxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, heterocyclic oxycarbonyl group, carbamoyl group, aliphatic sulfonyl group, arylsulfonyl group, heterocyclic sulfonyl group, aliphatic sulfonyloxy group, arylsulfonyloxy group, heterocyclic sulfonyl Oxy group, sulfamoyl group, aliphatic sulfonamide group, aryl sulfonamide group, heterocyclic sulfonamide group, aliphatic amino group, arylamin
  • R 91 includes a hydrogen atom, an alkyl group (including a cyclic alkyl group such as a cycloalkyl group, a bicycloalkyl group, and a tricycloalkyl group, such as a methyl group, an i-propyl group, an s-butyl group, a dodecyl group).
  • an alkyl group including a cyclic alkyl group such as a cycloalkyl group, a bicycloalkyl group, and a tricycloalkyl group, such as a methyl group, an i-propyl group, an s-butyl group, a dodecyl group).
  • alkenyl group including cycloalkenyl group, bicycloalkenyl group, for example, allyl group
  • aryl group for example, phenyl group, p-methoxyphenyl group
  • heterocyclic group for example, 2- Tetrahydrfuryl group, pyranyl group
  • acyl group for example, acetyl group, pivaloyl group, benzoyl group, acryloyl group
  • alkyl or alkenyloxycarbonyl group for example, mexycarbonyl group, hexadecyloxycarbonyl group
  • aryloxycarbonyl group for example, phenoxycarbonyl group, p-methoxy Phenoxycarbonyl group
  • alkylsulfonyl group eg methanesulfonyl group, butanesulfonyl group
  • arylsulfonyl group eg benzen
  • R 97 , R 98 and R 99 may be the same or different, and are each an alkyl group (for example, methyl group, ethyl group, t-butyl group, benzyl group), alkenyl group (for example, allyl group), aryl A group (for example, phenyl group), an alkoxy group (for example, methoxy group, butoxy group), an alkenyloxy group (for example, allyloxy group), or an aryloxy group (for example, phenoxy group) is represented.
  • alkyl group for example, methyl group, ethyl group, t-butyl group, benzyl group
  • alkenyl group for example, allyl group
  • aryl A group for example, phenyl group
  • an alkoxy group for example, methoxy group, butoxy group
  • an alkenyloxy group for example, allyloxy group
  • aryloxy group for example, phenoxy group
  • —X 91 — represents —O—, —S— or —N (—R 100 ) —.
  • R 100 has the same meaning as R 91, and preferred ranges are also the same.
  • R 92 , R 93 , R 94 , R 95 , and R 96 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, an alkyl group (cycloalkyl group, bicycloalkyl).
  • a cyclic alkyl group such as a tricycloalkyl group
  • an alkenyl group including a cyclic alkenyl group such as a cycloalkenyl group, a bicycloalkenyl group, and a tricycloalkenyl group
  • an alkynyl group an aryl group, and a heterocyclic group.
  • Cyano group hydroxyl group, nitro group, carboxyl group, alkoxy group, aryloxy group, silyloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, carbamoyloxy group, alkoxycarbonyloxy group, aryloxycarbonyloxy, amino group (anilino group)
  • substituents are alkyl groups (for example, methyl group, t-butyl group, t-hexyl group, benzyl group), alkenyl groups (aryl group), aryl groups (for example, phenyl group), alkoxycarbonyl groups (for example, methoxy group).
  • aryloxycarbonyl group for example, phenoxycarbonyl group
  • alkyl or alkenylsulfonyl group for example, methanesulfonyl group, butanesulfonyl group
  • arylsulfonyl group for example, benzenesulfonyl group, p-hydroxybenzene
  • a sulfonyl group or —X 91 —R 91 .
  • R 91 and R 92 , R 100 and R 96 , and R 91 and R 100 may be bonded to each other to form a 5- to 7-membered ring (eg, chroman ring, morpholine ring). Further, R 92 and R 93 , R 93 and R 94 may be bonded to each other to form a 5- to 7-membered ring (eg, chroman ring, indane ring), spiro ring, or bicyclo ring. However, R 91 , R 92 , R 93 , R 94 , R 95 , R 96 , R 100 are not all hydrogen atoms, and the total number of carbons is 10 or more, preferably 16 or more. is there.
  • the compound represented by the general formula (TS-I) used in the present invention is represented by the general formula (I) of JP-B-63-50691 and the general formulas (IIIa) and (IIIb) of JP-B-2-37575. (IIIc), the general formula of JP-A-2-50457, the general formula of JP-A-5-67220, the general formula of Formula (IX) of 5-70809, the general formula of JP-A-6-19534, JP-A-62-2
  • R 91 to R 97 are the same as those defined in the general formula (TS-I), and preferred ranges are also the same.
  • R a1 to R a4 each represent a hydrogen atom or an aliphatic group
  • X 92 and X 93 each represent a divalent linking group.
  • a bivalent coupling group an alkylene group, an oxy group, and a sulfonyl group are represented, for example.
  • the same symbols in the same molecule may be the same or different.
  • R 101 , R 102 , R 103 and R 104 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group (a cycloalkyl group, a bicycloalkyl group, a tricycloalkyl group or the like). including.), an alkenyl group (the cycloalkenyl group, a bicycloalkenyl group, including a cyclic alkenyl group such as a tri-cycloalkenyl group.), R 101 and R 102, R 103 and R 104 are attached, a 5- to 7-membered A ring may be formed.
  • X 101 is a hydrogen atom, an alkyl group (including a cyclic alkyl group such as a cycloalkyl group, a bicycloalkyl group, or a tricycloalkyl group), an alkenyl group (a cyclic alkenyl group such as a cycloalkenyl group, a bicycloalkenyl group, or a tricycloalkenyl group).
  • an alkyl group including a cyclic alkyl group such as a cycloalkyl group, a bicycloalkyl group, or a tricycloalkyl group
  • an alkenyl group a cyclic alkenyl group such as a cycloalkenyl group, a bicycloalkenyl group, or a tricycloalkenyl group.
  • X 102 represents a nonmetallic atom group necessary for forming a 5- to 7-membered ring.
  • R 101 , R 102 , R 103 , and R 104 are a hydrogen atom, an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group), or an alkenyl group (for example, an allyl group), and preferably an alkyl group.
  • X 101 represents a hydrogen atom, an alkyl group (for example, methyl group, ethyl group), an alkenyl group (for example, allyl group), an alkyloxy group (for example, methoxy group, octyloxy group, cyclohexyloxy group), an alkenyloxy group (for example, allyloxy group).
  • alkyloxycarbonyl group for example, methoxycarbonyl group, hexadecyloxycarbonyl group
  • alkenyloxycarbonyl group for example, allyloxycarbonyl group
  • aryloxycarbonyl group for example, phenoxycarbonyl group, p-chlorophenoxycarbonyl group
  • An acyl group eg acetyl group, pivaloyl group, methacryloyl group
  • an acyloxy group eg acetoxy group, benzoyloxy group
  • an alkyloxycarbonyloxy group eg methoxycarbonyloxy group, octylo group
  • Sicarbonyloxy group alkenyloxycarbonyloxy group
  • alkylsulfonyl group for example, methanesulfonyl group, butanes
  • R 103 , R 104 , R 105 and R 106 are all alkyl groups having 1 to 3 carbon atoms
  • X 101 is an oxy radical, and 1 to 12 carbon atoms.
  • X 102 represents a cyclohexane ring.
  • the general formula (TS-II) is particularly preferably represented by the following general formula (TS-IIa).
  • X 101 has the same meaning as X 101 in formula (TS-II), and the preferred range is also the same.
  • R 200 represents a monovalent substituent. Examples of the monovalent substituent include the examples of the monovalent substituent described above.
  • the compound represented by the general formula (TS-II) used in the present invention is represented by the general formula (I) of JP-B-2-32298, the general formula (I) of 3-39296, and 3- No. 40373, general formula (I) of JP-A-2-49762, general formula (II) of JP-A-2-208653, general formula (III) of JP-A-2-217845, US Pat.
  • R 105 and R 106 represent a hydrogen atom, aliphatic group, acyl group, aliphatic oxycarbonyl group, aromatic oxycarbonyl group, aliphatic sulfonyl group, aromatic sulfonyl group
  • R107 is an aliphatic group, aliphatic oxy group, aromatic oxy group, aliphatic thio group, aromatic thio group, acyloxy group, aliphatic oxycarbonyloxy group, aromatic oxycarbonyloxy group, substituted amino group, heterocyclic ring A hydroxyl group, and if possible, R 105 and R 106 , R 106 and R 107 , R 105 and R 107 may be bonded to each other to form a 5- to 7-membered ring, , 6,6-Tetraalkylpiperidine skeleton is excluded.
  • R 105 and R 106 are not both hydrogen atoms, and the total number of carbon atoms is
  • R 105 and R 106 are a hydrogen atom, an aliphatic group (for example, methyl group, ethyl group, t-butyl group, octyl group, methoxyethoxy group), acyl group (for example, acetyl group, pivaloyl group, methacryloyl group), Aliphatic oxycarbonyl group (for example, methoxycarbonyl group, hexadecyloxycarbonyl group), aromatic oxycarbonyl group (for example, phenoxycarbonyl group), aliphatic sulfonyl group (for example, methanesulfonyl group, butanesulfonyl group), aromatic sulfonyl group (
  • R 107 represents an aliphatic group (for example, methyl group, ethyl group, t-butyl group, octyl group, methoxyethoxy group), acyl group (for example, acetyl
  • the compound represented by the general formula (TS-III) used in the present invention is represented by the general formula (I) of JP-B-6-97332, the general formula (I) of JP-B-6-97334, General formula (I) of JP-A-2-148037, general formula (I) of JP-A-2-150841, general formula (I) of JP-A-2-181145, and general formula (I) of JP-A-3-266636 And compounds represented by general formula (IV) of JP-A-4-350854, general formula (I) of JP-A-5-61166, and the like.
  • Examples of the compound represented by the general formula (TS-III) include compounds represented by the following general formulas (TS-IIIA) to (TS-IIID). In the present invention, compounds having these structures are preferable. .
  • R 105 to R 106 are the same as those defined in the general formula (TS-III), and preferred ranges are also the same.
  • R b1 to R b3 have the same meaning as R 105 , and the preferred range is also the same.
  • R b4 , R b5 and R b6 each represents an aliphatic group.
  • X 103 represents a group of nonmetallic atoms necessary for forming a 5- to 7-membered ring.
  • R 111 and R 112 may represent an aliphatic group, and R 111 and R 112 may be bonded to each other to form a 5- to 7-membered ring.
  • n represents 0, 1, 2; However, the total carbon number of R 111 and R 112 is 10 or more.
  • R 111, R 112 represents an aliphatic group (e.g., methyl group, methoxycarbonyl ethyl group, dodecyloxycarbonylethyl group) a, R 111 and R 112 are bonded to each other, 5 ⁇ A 7-membered ring (for example, a tetrahydrothiophene ring or a thiomorpholine ring) may be formed.
  • n represents 0, 1, 2; However, the total carbon number of R 111 and R 112 is 10 or more.
  • the compound represented by the general formula (TS-IV) used in the present invention is represented by the general formula (I) of JP-B-2-44052, the general formula (T) of JP-A-3-48242, and 3- The general formula (A) of US Pat. No. 2,668,36, the general formula (I) (II) (III) of US Pat. No. 5,323,545, the general formula (I) of US Pat. No. 4,933,271, The compound represented by general formula (I) etc. is included.
  • R 121 and R 122 represent an aliphatic oxy group and an aromatic oxy group
  • R 123 represents an aliphatic group, an aromatic group, an aliphatic oxy group, and an aromatic oxy group.
  • M represents 0 or 1.
  • R 121 and R 122 , and R 121 and R 123 may be bonded to each other to form a 5- to 8-membered ring. However, the total carbon number of R 121 , R 122 and R 123 is 10 or more.
  • R 121 and R 122 are aliphatic oxy groups (for example, methoxy group, t-octyloxy group), aromatic oxy groups (for example, phenoxy group, 2,4-di-t-butyl).
  • R 123 represents an aliphatic group (for example, a methyl group, an ethyl group, or a t-octyl group), an aromatic group (for example, a phenyl group or a 4-t-butylphenyl group), an aliphatic oxy group (for example, a methoxy group) Group, t-octyloxy group) and an aromatic oxy group (for example, phenoxy group, 4-t-butylphenoxy group), and m represents 0 or 1.
  • R 121 and R 122 , and R 121 and R 123 may be bonded to each other to form a 5- to 8-membered ring.
  • the compound represented by the general formula (TS-V) used in the present invention is represented by the general formula (I) of JP-A-3-25437, the general formula (I) of JP-A-3-142444, and US Pat. This includes compounds represented by the general formula of No. 4747945, the general formula of No. 4980275, and the like.
  • the compound represented by any one of the general formulas (TS-I) to (TS-V) is represented by any one of the general formulas (TS-I), (TS-II), or (TS-V).
  • TS-I general formulas
  • TS-II preferably selected from the compounds represented by the general formula (TS-I) or (TS-II), and are preferably selected from the general formula (TS-II). It is further more preferable that it is a compound represented by these.
  • those composed of a 2,2,6,6-tetraalkylpiperidine skeleton are particularly preferable.
  • TS-I general formulas
  • TS-V Specific examples of the compound represented by any one of the general formulas (TS-I) to (TS-V) are shown below, but the present invention is not limited thereto.
  • the compounds corresponding to the general formula (TS-I) are represented by TI-1 to 56, and the compounds corresponding to the general formula (TS-II) are represented by TII-1 to 36
  • TIII-1 to 13 correspond to the general formula (TS-IV)
  • TIV-1 to 6 correspond to the general formula (TS-V).
  • TV-1 to 8 are assigned as reference numbers to the compounds.
  • the compound represented by any one of the general formulas (TS-I) to (TS-V) is preferably any one of the general formulas (TS-I), (TS-II), or (TS-V). It is a compound represented. More preferred is a compound represented by formula (TS-I) or (TS-II). Particularly preferred is a compound represented by formula (TS-II).
  • two or more compounds represented by any one of the general formulas (TS-I) to (TS-V) are contained, two or more compounds from the same group may be used in combination (for example, the general formula ( (When two types of compounds represented by TS-II) are used), two or more types may be used in combination over a plurality of groups (for example, the compound represented by the general formula (TS-I) and the general formula A case where one compound each represented by formula (TS-II) is used).
  • two or more types are used in combination over a plurality of groups.
  • two or more kinds of compounds represented by the general formula (1) having different structures may be used in combination, or one having the compound represented by the general formula (1) and other structures.
  • Two or more kinds of ultraviolet absorbers (ultraviolet stabilizers) may be used in combination. When two types (preferably three types) of ultraviolet absorbers are used in combination, ultraviolet rays in a wide wavelength region can be absorbed. In addition, when two or more kinds of ultraviolet absorbers are used in combination, the dispersion state of the ultraviolet absorber is also stabilized. Any ultraviolet absorber having a structure other than the general formula (1) can be used.
  • the benzotriazole-based compound is preferably a compound having an effective absorption wavelength of about 270 to 380 nm and represented by any of the following general formulas (IIa), (IIb) or (IIc).
  • R 1 is a hydrogen atom, alkyl having 1 to 24 carbon atoms, phenylalkyl having 1 to 4 carbon atoms in the alkyl moiety, cycloalkyl having 5 to 8 carbon atoms, or the following general formula: (Wherein R 4 and R 5 independently of one another represent alkyl having 1 to 5 carbon atoms.
  • R 4 together with the C n H 2n + 1-m group represents 5 to 12
  • a cycloalkyl group having a carbon atom may be formed, m represents 1 or 2, n represents an integer of 2 to 20, M represents —COOR 6 (where R 6 represents a hydrogen atom, 1 Alkyl having 1 to 12 carbon atoms, alkoxyalkyl having 1 to 20 carbon atoms in the alkyl and alkoxy moieties, or phenylalkyl having 1 to 4 carbon atoms in the alkyl moiety).
  • R 6 represents a hydrogen atom, 1 Alkyl having 1 to 12 carbon atoms, alkoxyalkyl having 1 to 20 carbon atoms in the alkyl and alkoxy moieties, or phenylalkyl having 1 to 4 carbon atoms in the alkyl moiety.
  • R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl having 1 to 18 carbon atoms, and a phenylalkyl having 1 to 4 carbon atoms in the alkyl moiety;
  • R 3 is a hydrogen atom, a chlorine atom, an alkyl or alkoxy having 1 to 4 carbon atoms, or —COOR 6 (where R 6 is as defined above). However, at least one of R 1 and R 2 is other than a hydrogen atom.
  • T is a hydrogen atom or an alkyl having 1 to 6 carbon atoms
  • T 1 is a hydrogen atom, a chlorine atom, or an alkyl or alkoxy having 1 to 4 carbon atoms
  • n is 1 or 2
  • T 2 is a chlorine atom, —OT 3
  • T 2 is represented by the formula: Or a group of —OT 9 —O—.
  • T 3 is a hydrogen atom, an alkyl having 1 to 18 carbon atoms and unsubstituted or substituted by 1 to 3 hydroxyl groups or by —OCOT 6 ; Alkyl having one carbon atom, a continuous carbon-carbon bond interrupted once or several times by —O— or —NT 6 — and unsubstituted or substituted by hydroxyl or —OCOT 6 Cycloalkyl having 5 to 12 carbon atoms and unsubstituted or substituted by hydroxyl and / or alkyl having 1 to 4 carbon atoms, having 2 to 18 carbon atoms And unsubstituted or substituted by hydroxyl, alkenyl, phenylalkyl having 1 to 4 carbon atoms in the alkyl moiety, or- H 2 CH (OH) -T 7 or And
  • T 4 and T 5 are, independently of one another, a hydrogen atom, an alkyl having 1 to 18 carbon atoms, a 3 to 18 carbon atom, and a continuous carbon — by —O— or —NT 6 —.
  • T 6 is a hydrogen atom, an alkyl having 1 to 18 carbon atoms, a cycloalkyl having 5 to 12 carbon atoms, an alkenyl having 3 to 8 carbon atoms, phenyl, 1 to 4 carbon atoms Phenyl substituted by an alkyl having a phenylalkyl having 1 to 4 carbon atoms in the alkyl moiety;
  • T 7 is a hydrogen atom, alkyl having 1 to 18 carbon atoms, phenyl unsubstituted or substituted by hydroxyl, phenylalkyl having 1 to 4 carbon atoms in the alkyl moiety, or —CH 2 OT 8 , T 8 is alkyl having 1 to 18 carbon atoms, alkenyl having 3 to 8 carbon atoms, cycloalkyl having 5 to 10 carbon atoms, phenyl, alkyl having 1 to 4 carbon atoms Or phenylalkyl having 1 to 4 carbon atoms in the alkyl moiety,
  • T 9 is an alkylene having 2 to 8 carbon atoms, an alkenylene having 4 to 8 carbon atoms, an alkynylene having 4 carbon atoms, cyclohexylene, 2 to 8 carbon atoms and Alkylene in which the continuous carbon-carbon bond is interrupted once or several times by O—, or —CH 2 CH (OH) CH 2 O—T 11 —OCH 2 CH (OH) CH 2 —, or —CH 2 — C (CH 2 OH) 2 —CH 2 —,
  • T 10 is alkylene, having 2 to 20 carbon atoms and in which a continuous carbon-carbon bond can be interrupted once or several times by —O—, or cyclohexylene,
  • T 11 is an alkylene having 2 to 8 carbon atoms, an alkylene having 2 to 18 carbon atoms and a continuous carbon-carbon bond interrupted once or several times by —O—, 1,3 -Cyclohexylene, 1,4-cyclohexylene, 1,3-phenylene, or 1,4-phenylene, or T 10 and T 6 together with two nitrogen atoms form a piperazine ring. Become. ]]
  • R ′ 2 is C 1 -C 12 alkyl, and k is a number of 1 to 4.
  • Representative examples of the compounds represented by any of the general formulas (IIa) to (IIc) include 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-5) '-T-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-t-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3', 5 '-Di-t-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-dodecyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy- 3 ′, 5′-di-t-amylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-5 ′-(1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenyl) benzotriazole, 2- (2 ′ -Hydroxy- '-Oc
  • the triazine compound is preferably a compound having an effective absorption wavelength of about 270 to 380 nm and represented by the following general formula (III).
  • u is 1 or 2
  • r is an integer from 1 to 3
  • Substituent Y 1 is, independently of one another, a hydrogen atom, hydroxyl, phenyl or halogen, halogenomethyl, alkyl having 1 to 12 carbon atoms, alkoxy having 1 to 18 carbon atoms, —COO— (C alkoxy having 1 to 18 carbon atoms which is substituted by 1 ⁇ C 18 alkyl).
  • Y 2 is alkyl having 1 to 18 carbon atoms, unsubstituted or phenyl substituted by hydroxyl, halogen, alkyl having 1 to 18 carbon atoms or alkoxy; Having 1 to 12 carbon atoms and —COOH, —COOY 8 , —CONH 2 , —CONHY 9 , —CONY 9 Y 10 , —NH 2 , —NHY 9 , —NY 9 Y 10 , —NHCOY 11 , Alkyl substituted by -CN and / or -OCOY 11 ; Having 4 to 20 carbon atoms, the continuous carbon-carbon bond being interrupted by one or more oxygen atoms and unsubstituted or substituted by hydroxyl or alkoxy having 1 to 12 carbon atoms Alkyl, alkenyl having 3 to 6 carbon atoms, glycidyl, unsubstituted or hydroxyl, alkyl having 1 to 4 carbon atoms
  • Y 2 is an alkylene having 2 to 16 carbon atoms, an alkenylene having 4 to 12 carbon atoms, a xylylene, 3 to 20 carbon atoms, one or more An alkylene in which a continuous carbon-carbon bond is interrupted by —O— atoms and / or substituted by hydroxyl, —CH 2 CH (OH) CH 2 —O—Y 15 —OCH 2 CH (OH) CH 2 , — CO—Y 16 —CO—, —CO—NH—Y 17 —NH—CO—, or — (CH 2 ) m —CO 2 —Y 18 —OCO— (CH 2 ) m .
  • Y 9 and Y 10 are independently of each other an alkyl having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxyalkyl having 3 to 12 carbon atoms, a dialkylaminoalkyl having 4 to 16 carbon atoms, or 5 Cyclohexyl having ⁇ 12 carbon atoms, or Y 9 and Y 10 together may be alkylene, oxaalkylene or azaalkylene having 3 to 9 carbon atoms, Y 11 is alkyl having 1 to 18 carbon atoms, alkenyl having
  • Y 16 is alkylene having 2 to 10 carbon atoms, oxaalkylene or thiaalkylene, phenylene, or alkenylene having 2 to 6 carbon atoms;
  • Y 17 is alkylene having 2 to 10 carbon atoms, phenylene, or alkyl phenylene having 1 to 11 carbon atoms in the alkyl moiety, and
  • Y 18 is alkylene having 2 to 10 carbon atoms Or alkylene having from 4 to 20 carbon atoms and having a continuous carbon-carbon bond interrupted once or several times by oxygen. ]]
  • Representative examples of the compound represented by the general formula (III) include 2- (4-butoxy-2-hydroxyphenyl) -4,6-di (4-butoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2- (4-Butoxy-2-hydroxyphenyl) -4,6-di (2,4-dibutoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-di (4-butoxy-2-hydroxyphenyl) ) -6- (4-butoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-di (4-butoxy-2-hydroxyphenyl) -6- (2,4-dibutoxyphenyl) -1,3 , 5-triazine, 2,4,6-tris (2-hydroxy-4-octyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2- (2-hydroxy-4-octyloxyphenyl) -4,6- Bis (2,4-dimethylpheny ) -1,3,5-triazine, 2-
  • the benzophenone compound is preferably a compound having an effective absorption wavelength of about 270 to 380 nm, and representative examples thereof include 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-octyl.
  • the salicylic acid compound is preferably a compound having an effective absorption wavelength of about 290 to 330 nm, and representative examples thereof include phenyl salicylate, 4-t-butylphenyl salicylate, 4-octylphenyl salicylate, dibenzoylresorcinol, bis ( 4-t-butylbenzoyl) resorcinol, benzoylresorcinol, 2,4-di-t-butylphenyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxysalicylate, hexadecyl 3,5-di-t-butyl-4- Hydroxy salicylate and the like can be mentioned.
  • the acrylate compound is preferably a compound having an effective absorption wavelength of about 270 to 350 nm, and representative examples thereof include 2-ethylhexyl 2-cyano-3,3-diphenyl acrylate, ethyl 2-cyano-3,3- Diphenyl acrylate, isooctyl 2-cyano-3,3-diphenyl acrylate, hexadecyl 2-cyano-3- (4-methylphenyl) acrylate, methyl 2-cyano-3-methyl-3- (4-methoxyphenyl) cinnamate, butyl 2-cyano-3-methyl-3- (4-methoxyphenyl) cinnamate, methyl 2-carbomethoxy-3- (4-methoxyphenyl) cinnamate 2-cyano-3- (4-methylphenyl) acrylate, 1 , 3-Bis (2'-cyano-3,3'-diph Nylacryloyl) oxy) -2,2-bis (((2′-cyano
  • the oxalic acid diamide-based compound preferably has an effective absorption wavelength of about 250 to 350 nm, and representative examples thereof include 4,4′-dioctyloxyoxanilide, 2,2′-dioctyloxy-5, 5′-di-t-butyl oxanilide, 2,2′-didodecyloxy-5,5′-di-t-butyl oxanilide, 2-ethoxy-2′-ethyl oxanilide, N, N '-Bis (3-dimethylaminopropyl) oxamide, 2-ethoxy-5-t-butyl-2'-ethyloxanilide, 2-ethoxy-2'-ethyl-5,4'-di-t-butyloxa Nilide etc. can be mentioned.
  • the mixing ratio of the ultraviolet absorber represented by the general formula (1) used in the present invention and the compound represented by any one of the general formulas (TS-I) to (TS-V) is 1: 0. It can be mixed in any ratio of ⁇ 0: 1.
  • the total content of the ultraviolet absorber represented by the general formula (1) is preferably 0% by mass or more and 70% by mass or less, more preferably 10% by mass with respect to the entire ultraviolet absorber composition. % Or more and 60% by mass or less, particularly preferably 30% by mass or more and 50% by mass or less.
  • the total content of the compounds represented by any one of the general formulas (TS-I) to (TS-V) is preferably greater than 0% by mass and 80% by mass with respect to the entire ultraviolet absorbent composition. It is the following case, more preferably 30% by mass or more and 70% by mass or less, and particularly preferably 40% by mass or more and 60% by mass or less.
  • the compound represented by the general formula (1) and the compound represented by any one of the general formulas (TS-I) to (TS-V) used in the present invention may be present alone. However, they may be linked to each other in advance or by forming a bond in the composition.
  • a monomer is obtained by bonding a polymerizable group, and by polymerizing this, the compound represented by the general formula (1) and any one of the general formulas (TS-I) to (TS-V) are used. It may be a copolymer containing a compound represented by a unit structure. Another monomer not bonded to these may be used in combination to form a copolymer.
  • the composition as a monomer is a case where polymerization is performed at a desired time to form a copolymer.
  • the ultraviolet absorbent composition of the present invention may be in any form.
  • a liquid dispersion, a solution, a polymer material, and the like can be given.
  • the ultraviolet absorbent composition of the present invention is used for purposes. Accordingly, any compound can be appropriately contained as the other component.
  • the ultraviolet absorbent composition of the present invention is preferably in the state of a dispersion dispersed in a dispersion medium.
  • a dispersion medium for example, water, an organic solvent, a resin, a resin solution, and the like can be given. These may be used alone or in combination.
  • organic solvent for the dispersion medium used in the present invention examples include hydrocarbons such as pentane, hexane and octane, aromatics such as benzene, toluene and xylene, ethers such as diethyl ether and methyl t-butyl ether, Alcohols such as methanol, ethanol and isopropanol, esters such as acetone, ethyl acetate and butyl acetate, ketones such as methyl ethyl ketone, nitriles such as acetonitrile and propionitrile, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethyl Amides such as acetamide and N-methylpyrrolidone, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, amines such as triethylamine and tributylamine, carboxylic acids such as acetic acid and propionic acid, halogens such as methylene chloride
  • thermoplastic resins examples include polyethylene resins, polypropylene resins, poly (meth) acrylic ester resins, polystyrene resins, styrene-acrylonitrile resins, acrylonitrile-butadiene-styrene resins, polyvinyl chloride resins, Polyvinylidene chloride resin, polyvinyl acetate resin, polyvinyl butyral resin, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-vinyl alcohol resin, polyethylene terephthalate resin (PET), polybutylene terephthalate resin (PBT), liquid crystal polyester Resin (LCP), polyacetal resin (POM), polyamide resin (PA), polycarbonate resin, polyurethane resin, polyphenylene sulfide resin (PPS), and the like.
  • thermoplastic resins examples include polyethylene resins, polypropylene resins, poly (meth) acrylic ester resins, polystyrene resins, styren
  • resins are also used as thermoplastic molding materials in which natural resins contain fillers such as glass fibers, carbon fibers, semi-carbonized fibers, cellulosic fibers, glass beads, flame retardants, and the like.
  • conventionally used additives for resins for example, polyolefin resin fine powder, polyolefin wax, ethylene bisamide wax, metal soap, etc. can be used alone or in combination as required.
  • the ultraviolet absorber When used with a thermoplastic resin, the ultraviolet absorber may be added during the polymerization process of the thermoplastic resin or may be added after the polymerization. When added in a molten state to the thermoplastic resin after polymerization, the ultraviolet absorber may be added alone or in a state dispersed in a solvent or the like. The solvent used at this time may be any solvent that does not deteriorate the resin to be kneaded and disperses the ultraviolet absorber.
  • Such melt mixing can be performed by adding an ultraviolet absorber at a temperature equal to or higher than the melting temperature of the polymer using a melt mixing facility such as a single screw or twin screw extruder.
  • a melt mixing facility such as a single screw or twin screw extruder.
  • the ultraviolet absorber may be added to the molten state of the thermoplastic resin during film formation and kneaded. This method is a preferable method because the deterioration of the thermoplastic resin can be suppressed by reducing the heat history.
  • thermoplastic polymer capable of melt polymerization for example, a thermoplastic polyester such as polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate
  • a dispersion of an ultraviolet absorber may be added before or during the polymerization.
  • the ultraviolet absorber may be added alone or may be added in a state dispersed in a solvent in advance.
  • the solvent in this case is preferably a polymer raw material.
  • the polymerization reaction may be carried out according to the usual polymer polymerization conditions.
  • thermoplastic resin containing an ultraviolet absorber at a relatively high concentration of 0.5 to 50% by mass obtained by the above method can be used as a master batch and further kneaded with a thermoplastic resin to which no ultraviolet absorber is added.
  • a target ultraviolet absorber-containing polymer can be obtained.
  • thermosetting resin examples include epoxy resins, melamine resins, unsaturated polyester resins, and the like. These include natural resins, glass fibers, carbon fibers, semi-carbonized fibers, cellulosic fibers, glass beads, and the like. It can also be used as a thermosetting molding material containing a flame retardant.
  • a dispersant an antifoaming agent, a preservative, an antifreezing agent, a surfactant and the like can be used in combination.
  • any compound may be included.
  • dyes, pigments, infrared absorbers, fragrances, polymerizable compounds, polymers, inorganic substances, metals and the like can be mentioned.
  • a high-speed stirring type disperser having a large shearing force a disperser that gives high-intensity ultrasonic energy, or the like can be used.
  • a colloid mill a homogenizer, a capillary emulsifying device, a liquid siren, an electromagnetic distortion ultrasonic generator, an emulsifying device having a Paulman whistle, and the like.
  • a high-speed stirring type disperser preferable for use in the present invention is a high-speed rotation (500 to 15,000 rpm) in a liquid in which essential parts such as a dissolver, polytron, homomixer, homoblender, ket mill, and jet agitator are dispersed.
  • the high-speed stirring type disperser used in the present invention is also called a dissolver or a high-speed impeller disperser.
  • a saw-tooth plate is attached to a shaft that rotates at high speed.
  • a preferred example is one in which impellers that are alternately bent in the vertical direction are mounted.
  • a hydrophobic compound is dissolved in an organic solvent, one kind arbitrarily selected from a high-boiling organic substance, a water-immiscible low-boiling organic solvent, or a water-miscible organic solvent, or two or more kinds of arbitrary substances Dissolve in the multi-component mixture and then disperse in water or aqueous hydrophilic colloid in the presence of a surface active compound.
  • the mixing method of the water-insoluble phase containing the hydrophobic compound and the aqueous phase may be a so-called forward mixing method in which the water-insoluble phase is added to the aqueous phase with stirring or a reverse mixing method.
  • the content of the ultraviolet absorbent composition in the ultraviolet absorbent dispersion of the present invention differs depending on the purpose of use and form of use and cannot be uniquely determined, but may be any concentration depending on the purpose of use. Good.
  • the content is 0.001 to 50% by mass, more preferably 0.01 to 20% by mass, based on the total amount of the ultraviolet absorbent dispersion.
  • the ultraviolet absorbent composition of the present invention is preferably in the form of a solution dissolved in a liquid medium.
  • the ultraviolet absorbent solution of the present invention will be described. Any liquid may be used for dissolving the ultraviolet absorbent composition of the present invention.
  • water, an organic solvent, a resin, a resin solution, and the like can be given.
  • the organic solvent, the resin, and the resin solution include those described as the above dispersion medium. These may be used alone or in combination.
  • the solution of the ultraviolet absorbent composition of the present invention may contain any other compound in addition.
  • dyes, pigments, infrared absorbers, fragrances, polymerizable compounds, polymers, inorganic substances, metals and the like can be mentioned.
  • the content of the ultraviolet absorbent composition in the ultraviolet absorbent solution of the present invention varies depending on the purpose of use and form of use and cannot be uniquely determined, but may be any concentration depending on the purpose of use.
  • the content is 0.001 to 30% by mass, and more preferably 0.01 to 10% by mass with respect to the total amount of the solution. It is also possible to prepare a solution at a high concentration in advance and dilute it when desired.
  • the dilution solvent can be arbitrarily selected from the above-mentioned solvents.
  • the polymer composition is used for the preparation of the polymer material of the present invention.
  • the polymer composition used in the present invention is obtained by adding the ultraviolet absorbent composition of the present invention to a polymer material described later.
  • the ultraviolet absorbent composition of the present invention can be contained in the polymer substance by various methods. When the ultraviolet absorbent composition of the present invention is compatible with the polymer substance, the ultraviolet absorbent composition of the present invention can be directly added to the polymer substance.
  • the ultraviolet absorbent composition of the present invention may be dissolved in an auxiliary solvent having compatibility with the polymer material, and the solution may be added to the polymer material.
  • the ultraviolet absorbent composition of the present invention may be dispersed in a high-boiling organic solvent or polymer, and the dispersion may be added to the polymer substance.
  • the boiling point of the high-boiling organic solvent is preferably 180 ° C. or higher, and more preferably 200 ° C. or higher.
  • the melting point of the high-boiling organic solvent is preferably 150 ° C. or lower, and more preferably 100 ° C. or lower.
  • Examples of the high-boiling organic solvent include phosphate ester, phosphonate ester, benzoate ester, phthalate ester, fatty acid ester, carbonate ester, amide, ether, halogenated hydrocarbon, alcohol and paraffin. Phosphate esters, phosphonate esters, phthalate esters, benzoate esters and fatty acid esters are preferred.
  • the content of the ultraviolet absorbent composition in the ultraviolet absorbent solution of the present invention varies depending on the purpose of use and form of use and cannot be uniquely determined, but may be any concentration depending on the purpose of use.
  • the content is preferably 0.001 to 10% by mass in the polymer material, more preferably 0.01 to 5% by mass.
  • the ultraviolet absorber composition of the present invention is preferably used for a polymer material.
  • the polymer material of the present invention will be described.
  • a sufficient ultraviolet shielding effect can be obtained practically only by the ultraviolet absorbent composition of the present invention, but when more strictness is required, a white pigment having a strong hiding power, such as titanium oxide, is used in combination. May be.
  • a fluorescent brightening agent may be used in combination. Examples of the optical brightener include those commercially available, general formula [1] described in JP-A-2002-53824, and specific compound examples 1 to 35.
  • the polymer substance used for the polymer composition will be described.
  • the polymeric material is a natural or synthetic polymer or copolymer.
  • Polymers of monoolefins and diolefins such as polypropylene, polyisobutylene, polybut-1-ene, poly-4-methylpent-1-ene, polyvinylcyclohexane, polyisoprene or polybutadiene, and cycloolefins such as cyclopentene or norbornene
  • Polymers polyethylene (which can be optionally cross-linked) such as high density polyethylene (HDPE), high density and high molecular weight polyethylene (HDPE-HMW), high density and ultra high molecular weight polyethylene (HDPE-UHMW), medium density polyethylene (MDPE) Low density polyethylene (LDPE), linear low density polyethylene (LLDPE), (VLDPE) and (ULDPE).
  • Polyolefins ie the polymers of monoolefins exemplified in the previous paragraph, preferably polyethylene and polypropylene, can be prepared by different methods and especially by the following methods: a) Radical polymerization (usually under high pressure and at elevated temperature). b) Catalytic polymerization using a catalyst that normally contains one or more of the metals of groups IVb, Vb, VIb or VIII of the periodic table. These metals are usually one or more ligands, typically oxides, halides, alcoholates, esters, ethers, amines, alkyls, alkenyls and / or aryls that can be ⁇ - or ⁇ -coordinated.
  • ligands typically oxides, halides, alcoholates, esters, ethers, amines, alkyls, alkenyls and / or aryls that can be ⁇ - or ⁇ -coordinated.
  • These metal complexes can be in free form or fixed to a substrate, typically activated magnesium chloride, titanium (III) chloride, alumina or silicon oxide.
  • These catalysts can be soluble or insoluble in the polymerization medium.
  • the catalyst can be used as such in the polymerization or is another activator, typically a metal alkyl, metal hydride, metal alkyl halide, metal alkyl oxide or metal alkyl oxane, wherein the metal is Ia of the periodic table. , IIa and / or IIIa group elements can be used.
  • the activator can be conveniently modified with other ester, ether, amine or silyl ether groups.
  • These catalyst systems are usually named Philips, Standard Oil Indiana, Ziegler (-Natta), TNZ (DuPont), metallocene or single site catalysts (SSC).
  • a mixture of polymers mentioned in the above ⁇ 1> for example, polypropylene and polyisobutylene, a mixture of polypropylene and polyethylene (for example, PP / HDPE, PP / LDPE), and a mixture of different types of polyethylene (for example, LDPE). / HDPE).
  • Copolymers of monoolefins and diolefins with each other or with other vinyl monomers such as ethylene / propylene copolymers, linear low density polyethylene (LLDPE) and mixtures thereof with low density polyethylene (LDPE), propylene / propylene Te-1-ene copolymer, propylene / isobutylene copolymer, ethylene / but-1-ene copolymer, ethylene / hexene copolymer, ethylene / methylpentene copolymer, ethylene / heptene copolymer, ethylene / octene copolymer, ethylene / vinylcyclohexane copolymer, Ethylene / cycloolefin copolymers (for example, ethylene / norbornene such as COC (Cyclo-Olefin Copolymer)), ethylene / 1-olefin copolymers in which 1-olef
  • a hydrocarbon resin for example, having 5 to 9 carbon atoms
  • a hydrogenated product for example, a tackifier
  • the homopolymers and copolymers of ⁇ 1> to ⁇ 4> can have any stereostructure including syndiotactic, isotactic, hemi-isotactic or atactic; atactic polymers are preferred. Stereo block polymers are also included.
  • Copolymers comprising the above-mentioned aromatic vinyl monomers and comonomers selected from ethylene, propylene, dienes, nitriles, acids, maleic anhydride, maleimide, vinyl acetate and vinyl chloride or acrylic derivatives and mixtures thereof, for example Styrene / butadiene, styrene / acrylonitrile, styrene / ethylene (copolymer), styrene / alkyl methacrylate, styrene / butadiene / alkyl acrylate, styrene / butadiene / alkyl methacrylate, styrene / maleic anhydride, styrene / acrylonitrile / methyl acrylate; High impact resistant mixtures of styrene copolymers and other polymers such as polyacrylates, diene polymers or ethylene / propylene / dien
  • ⁇ 6b> prepared by hydrogenating a hydrogenated aromatic polymer, especially atactic polystyrene, derived from hydrogenation of the polymer referred to in ⁇ 6> above, often referred to as polyvinylcyclohexane (PVCH) Includes cyclohexylethylene (PCHE).
  • PVCH polyvinylcyclohexane
  • PCHE cyclohexylethylene
  • Homopolymers and copolymers can have any stereostructure including syndiotactic, isotactic, hemi-isotactic or atactic; atactic polymers are preferred. Stereo block polymers are also included.
  • Graft copolymer of aromatic vinyl monomer such as styrene or ⁇ -methylstyrene, eg styrene to polybutadiene, styrene to polybutadiene-styrene or polybutadiene-acrylonitrile copolymer; styrene and acrylonitrile (or methacrylonitrile) to polybutadiene; Styrene, acrylonitrile and methyl methacrylate; styrene and maleic anhydride to polybutadiene; styrene, acrylonitrile and maleic anhydride or maleimide to polybutadiene; styrene and maleimide to polybutadiene; styrene and alkyl acrylate or methacrylate to polybutadiene; ethylene / propylene / consumer Styrene and acrylonitrile as polymer; polyalkyl acrylate Known as
  • Polymers derived from ⁇ , ⁇ -unsaturated acids and their derivatives such as polyacrylates and polymethacrylates; polymethylmethacrylates, polyacrylamides and polyacrylonitriles with impact resistance improved with butylacrylate.
  • Copolymers of the monomers mentioned in the above ⁇ 9> with each other or with other unsaturated monomers such as acrylonitrile / butadiene copolymer, acrylonitrile / alkyl acrylate copolymer, acrylonitrile / alkoxyalkyl acrylate or acrylonitrile / vinyl halide copolymer or Acrylonitrile / alkyl methacrylate / butadiene terpolymer.
  • cyclic ethers such as polyalkylene glycol, polyethylene oxide, polypropylene oxide or bisglycidyl ether and copolymers thereof.
  • Polyacetals such as polyoxymethylene and polyoxymethylene containing ethylene oxide as a comonomer; polyacetals modified with thermoplastic polyurethane, acrylate or MBS.
  • Polyamides and copolyamides derived from diamis and dicarboxylic acids and / or from aminocarboxylic acids or the corresponding lactams for example polyamide 4, polyamide 6, polyamide 6/6, 6/10, 6/9, 6/12 4/6, 12/12, polyamide 11, polyamide 12, aromatic polyamides starting from m-xylenediamine and adipic acid; from hexamethylenediamine and isophthalic acid and / or terephthalic acid and using elastomers as modifiers
  • Polyesters derived from dicarboxylic acids and diols and / or from hydroxycarboxylic acids or corresponding lactones such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, poly-1,4-dimethylolcyclohexane terephthalate, polyalkylene naphthalate (PAN)
  • PAN polyalkylene naphthalate
  • Block copolyetheresters derived from polyhydroxybenzoates and hydroxyl-terminated polyethers and also polyesters modified with polycarbonate or MBS.
  • Polyesters and polyester copolymers as defined in US Pat. No. 5,807,932 (column 2, line 53) are incorporated herein by reference.
  • Crosslinkable acrylic resins derived from substituted acrylates such as epoxy acrylate, urethane acrylate or polyester acrylate.
  • Alkyd resins polyester resins and acrylate resins crosslinked with melamine resins, urea resins, isocyanates, isocyanurates, polyisocyanates or epoxy resins.
  • Natural polymers such as cellulose, rubber, gelatin and chemically modified derivatives of their homologous series such as cellulose acetate, cellulose propionate and cellulose butyrate, or cellulose ethers such as methylcellulose; and rosin and them Derivatives of
  • Blends (polyblends) of the above polymers such as PP / EPDM, polyamide / EPDM or ABS, PVC / EVA, PVC / ABS, PVC / MBS, PC / ABS, PBTP / ABS, PC / ASA, PC / PBT, PVC / CPE, PVC / acrylate, POM / thermoplastic PUR, PC / thermoplastic PUR, POM / acrylate, POM / MBS, PPO / HIPS, PPO / PA6.6 and copolymers, PA / HDPE, PA / PP PA / PPO, PBT / PC / ABS or PBT / PET / PC.
  • ⁇ 30> based on pure monomeric compounds or natural and synthetic organic materials which are mixtures of said compounds, such as mineral oil, animal and vegetable fats, oils and waxes, or synthetic esters (for example phthalate, adipate, phosphate or trimellitate) Mixtures of oils, fats and waxes and any mass ratio of synthetic esters and mineral oils, typically mixtures used as fiber spinning compositions, and aqueous emulsions of said materials.
  • mineral oil animal and vegetable fats, oils and waxes
  • synthetic esters for example phthalate, adipate, phosphate or trimellitate
  • An aqueous emulsion of natural or synthetic rubber such as natural latex or latex of carboxylated styrene / butadiene copolymer.
  • Polyketimine combined with unsaturated acrylic polyacetoacetate resin or unsaturated acrylic resin.
  • the unsaturated acrylic resin includes urethane acrylate, polyester acrylate, vinyl or acrylic copolymer having pendant unsaturated groups, and acrylated melamine.
  • the polyketimine is produced from a polyamine and a ketone in the presence of an acid catalyst.
  • a radiation curable composition containing an ethylenically unsaturated monomer or oligomer and a polyunsaturated aliphatic oligomer.
  • An epoxy melamine resin such as a light-stabilized epoxy resin crosslinked with an epoxy-functional co-etherified high solid content melamine resin such as LSE-4103 (trade name, manufactured by Monsanto).
  • the polymer substance used in the present invention is preferably a synthetic polymer, more preferably a polyolefin, an acrylic polymer, polyester, polycarbonate, or cellulose ester.
  • polyethylene, polypropylene, poly (4-methylpentene), polymethyl methacrylate, polycarbonate, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, and triacetyl cellulose are particularly preferable.
  • the polymer substance used in the present invention is preferably a thermoplastic resin.
  • the polymer material of the present invention may contain any additive such as an antioxidant, a light stabilizer, a processing stabilizer, an anti-aging agent, a compatibilizing agent, etc., if necessary, in addition to the above-described polymer substance and ultraviolet absorber. May be contained as appropriate.
  • the polymer material of the present invention comprises the above polymer substance.
  • the polymer material of the present invention may be formed only from the polymer substance, or may be formed by dissolving the polymer substance in an arbitrary solvent.
  • the polymer material of the present invention can be used for all applications in which a synthetic resin is used, but can be particularly preferably used for applications that may be exposed to sunlight or light including ultraviolet rays. Specific examples include, for example, glass substitutes and surface coating materials thereof, window glass for houses, facilities, and transportation equipment, coating materials for daylighting glass and light source protection glass, interior and exterior materials and interior and exterior materials for residences, facilities, and transportation equipment.
  • Materials for light sources that emit ultraviolet rays such as wear paint, fluorescent lamps, mercury lamps, precision machinery, components for electronic and electrical equipment, materials for shielding electromagnetic waves generated from various displays, containers or packaging materials for food, chemicals, chemicals, etc.
  • Industrial sheet or film material, anti-fading agent such as printed matter, dyed matter and dyeing pigment, sunscreen cream, shampoo, rinse, hairdressing cosmetics, sportswear, stockings, hats and other textile products for textiles and textiles, curtains , Carpets, wallpaper and other home interior items, plastic lenses, contact lenses, artificial eyes, and other medical instruments, optical filters, prisms, mirrors, photos
  • Optical articles such as the material, a tape, such as ink stationery, sign plate, and a marking device such as a surface coating material or the like.
  • the shape of the polymer material of the present invention may be any of a flat film shape, a powder shape, a spherical particle, a crushed particle, a massive continuous body, a fiber shape, a tubular shape, a hollow fiber shape, a granular shape, a plate shape, a porous shape, and the like. There may be.
  • the polymer material of the present invention contains the ultraviolet absorbent composition of the present invention, it has excellent light resistance (fastness to ultraviolet light), and bleeding out due to precipitation of the ultraviolet absorbent or long-term use. Will not occur.
  • the polymer material of the present invention has an excellent long-wave ultraviolet absorbing ability, it can be used as an ultraviolet absorbing filter or a container, and can protect compounds that are sensitive to ultraviolet rays.
  • a molded product such as a container
  • a molded article coated with the ultraviolet absorbing film made of the polymer material of the present invention can be obtained by applying and drying the polymer substance solution to a separately produced molded article.
  • the polymer material of the present invention is preferably transparent.
  • transparent polymer materials include cellulose esters (eg, diacetylcellulose, triacetylcellulose (TAC), propionylcellulose, butyrylcellulose, acetylpropionylcellulose, nitrocellulose), polyamides, polycarbonates, polyesters (eg, polyethylene terephthalate, Polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, poly-1,4-cyclohexanedimethylene terephthalate, polyethylene-1,2-diphenoxyethane-4,4′-dicarboxylate, polybutylene terephthalate), polystyrene (eg, syndiotactic) Polystyrene), polyolefin (eg, polyethylene, polypropylene, polymethylpentene), polymethyl methacrylate, syndiotactic polystyrene Emissions,
  • TAC triacetylcellulose
  • propionylcellulose buty
  • the polymer material of the present invention can also be used as a transparent support, and the transmittance of the transparent support is preferably 80% or more, and more preferably 86% or more.
  • the packaging material containing the ultraviolet absorbent composition of the present invention will be described.
  • the packaging material containing the ultraviolet absorbent composition of the present invention includes an ultraviolet absorbent represented by the general formula (1) and a compound represented by any one of the general formulas (TS-I) to (TS-V)
  • a packaging material made of any kind of polymer may be used.
  • thermoplastic resin described in JP-A-8-208765 the polyvinyl alcohol described in JP-A-8-15155, the polyvinyl chloride described in JP-A-8-245849, and JP-A-10-168292
  • Polyester described in JP-A-2004-285189 heat-shrinkable polyester described in JP-A-2001-323082
  • styrene resin described in JP-A-10-298397 JP-A-11-315175
  • examples thereof include polyolefins described in JP-A-2001-26081 and JP-A-2005-305745, ROMP described in JP-T-2003-524019, and the like.
  • a resin having an inorganic vapor-deposited thin film layer described in JP-A-2004-50460 and JP-A-2004-243674 may be used.
  • it may be paper coated with a resin containing an ultraviolet absorber described in JP-A-2006-240734.
  • the packaging material containing the ultraviolet absorbent composition of the present invention may package any foods, beverages, drugs, cosmetics, personal care products and the like.
  • Photosensitive material packaging photographic film packaging described in JP-A-2000-56433, UV-curable ink packaging described in JP-A-2005-178832, JP-A-2003-200966, JP-A-2006-323339
  • the shrink label etc. which are described in the gazette are mentioned.
  • the packaging material containing the ultraviolet absorbent composition of the present invention may be, for example, a transparent package described in JP-A-2004-51174, or a light-shielding package described in JP-A-2006-224317, for example. It may be.
  • the packaging material containing the ultraviolet absorbent composition of the present invention has not only ultraviolet shielding properties as described in, for example, JP-A-2001-26081 and JP-A-2005-305745, but also combines other performances. You may have it. For example, those having gas barrier properties described in JP-A-2002-160321, those containing an oxygen indicator described in JP-A-2005-156220, for example, described in JP-A-2005-146278 And a combination of an ultraviolet absorber and an optical brightener.
  • the packaging material containing the ultraviolet absorbent composition of the present invention may be produced using any method.
  • a method of forming an ink layer described in JP-A-2006-130807 for example, a method of melt-extruding and laminating a resin containing an ultraviolet absorber described in JP-A-2001-323082 and JP-A-2005-305745
  • a method of coating on a substrate film described in JP-A-9-145539 for example, a method of dispersing an ultraviolet absorber in an adhesive described in JP-A-9-57626, and the like can be mentioned.
  • the container containing the ultraviolet absorbent composition of the present invention will be described.
  • the container containing the ultraviolet absorbent composition of the present invention contains the ultraviolet absorbent represented by the general formula (1) and the compound represented by any one of the general formulas (TS-I) to (TS-V).
  • a container made of any kind of polymer may be used as long as it is contained.
  • thermoplastic resin container described in JP-A-8-324572 a polyester container described in JP-A-2001-48153, JP-A 2005-105004, JP-A 2006-1568, JP-A 2000 Polyethylene naphthalate container described in JP-A-238857, polyethylene container described in JP-A-2001-88815, cyclic olefin resin composition container described in JP-A-7-216152, JP-A-2001- Examples thereof include a plastic container described in Japanese Patent No. 270531 and a transparent polyamide container described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-83858.
  • it may be a paper container containing a resin described in JP-A-2001-114262 and JP-A-2001-213427.
  • a glass container having an ultraviolet absorbing layer described in JP-A-7-242444, JP-A-8-133787, and JP-A-2005-320408 may be used.
  • the use of the container containing the ultraviolet absorbent composition of the present invention may contain any foods, beverages, drugs, cosmetics, personal care products, shampoos and the like.
  • a liquid fuel storage container described in JP-A-5-139434, a golf ball container described in JP-A-7-289665, a food container described in JP-A-9-295664, and JP-A-2003-237825 Container sake container described in JP-A-9-58687, drug-filled container described in JP-A-8-15507, beverage container described in JP-A-8-324572, JP-A-2006-298456 ,
  • JP-A 2002-68322 JP-A 2005-278678, light-resistant cosmetic container described in JP-A-11-276550, pharmaceutical container described in JP-A-11-290420 Containers for high-purity chemical liquids, containers for liquid agents described in JP-A-2001-106218, containers for ultraviolet curable inks described in JP-A-2005-178832, containers for WO04 / 93775
  • the plastic ampules described on the frets For example, the plastic ampules described on the frets.
  • the container containing the ultraviolet absorbent composition of the present invention not only has ultraviolet blocking properties as described in, for example, JP-A-5-305975 and JP-A-7-40954, but also has other performance. It may be.
  • the antibacterial container described in JP-A-10-237312, the flexible container described in JP-A-2000-152974, the dispenser container described in JP-A-2002-264979, for example, JP-A-2005-255736 Examples include biodegradable containers described in the publication.
  • the container containing the ultraviolet absorbent composition of the present invention may be produced using any method.
  • the paint and coating film containing the ultraviolet absorbent composition of the present invention comprises an ultraviolet absorbent represented by the general formula (1) and a compound represented by any one of the general formulas (TS-I) to (TS-V).
  • Any paint may be used as long as it is contained.
  • an acrylic resin system, a urethane resin system, an amino alkyd resin system, an epoxy resin system, a silicone resin system, a fluororesin system, etc. are mentioned. These resins can be arbitrarily mixed with a main agent, a curing agent, a diluent, a leveling agent, a repellant and the like.
  • acrylic urethane resin or silicon acrylic resin is selected as the transparent resin component
  • polyisocyanate is used as the curing agent
  • hydrocarbon solvents such as toluene and xylene are used as the diluent
  • Alcohol solvents such as ester solvents, isopropyl alcohol, and butyl alcohol can be used.
  • the acrylic urethane resin refers to an acrylic urethane resin obtained by reacting a methacrylic ester (typically methyl), a hydroxyethyl methacrylate copolymer and a polyisocyanate.
  • the polyisocyanate in this case includes tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, polymethylene polyphenylene polyisocyanate, tolidine diisocyanate, naphthalene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate and the like.
  • the transparent resin component include polymethyl methacrylate, polymethyl methacrylate styrene copolymer, polyvinyl chloride, and polyvinyl acetate.
  • a leveling agent such as an acrylic resin or a silicone resin, an anti-fogging agent such as a silicone or acrylic resin, and the like can be blended as necessary.
  • the use purpose of the paint containing the ultraviolet absorbent composition of the present invention may be any use.
  • UV curable paint described in JP 2001-288410 A electron beam curable coating composition described in JP 2002-69331 A
  • thermosetting paint composition described in JP 2002-80781 A special table Water-based paint for baking lacquer described in 2003-525325
  • powder paint and slurry paint described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-162021 paint for repair described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-233010
  • 11- An aqueous dispersion of powder coating material described in Japanese Patent No. 514689 a coating material for plastics described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-59068, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-160847, and an electron beam curable coating material described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-69331 Etc.
  • the paint containing the ultraviolet absorbent composition of the present invention is generally composed of a paint (containing a transparent resin component as a main component) and an ultraviolet absorbent, but preferably 0 to 20% by weight of the ultraviolet absorbent based on the resin. Of the composition.
  • the thickness at the time of application is preferably 2 to 1000 ⁇ m, more preferably 5 to 200 ⁇ m.
  • the method of applying these paints is arbitrary, but there are a spray method, a dipping method, a roller coat method, a flow coater method, a flow coating method and the like. Drying after application varies depending on the paint components, but it is preferably performed at room temperature to 120 ° C. for about 10 to 90 minutes.
  • the coating film containing the ultraviolet absorbent composition of the present invention includes an ultraviolet absorbent represented by the general formula (1) and a compound represented by any one of the general formulas (TS-I) to (TS-V) It is a coating film formed using the coating material containing said ultraviolet absorber composition of this invention.
  • the ink containing the ultraviolet absorbent composition of the present invention will be described.
  • the ink containing the ultraviolet absorbent composition of the present invention comprises an ultraviolet absorbent represented by the general formula (1) and a compound represented by any one of the general formulas (TS-I) to (TS-V).
  • Any form of ink may be used as long as it is contained. Examples thereof include dye ink, pigment ink, water-based ink, and oil-based ink. Moreover, you may use for any use.
  • JP-A-11-199808, WO99 / 67337 pamphlet JP-A-2005-325150, JP-A-2005-350559, JP-A-2006-8811, JP-T-2006-514130 Ink-jet inks, photochromic inks described in JP-A-2006-257165, thermal transfer inks described in JP-A-8-108650, masking inks described in JP-A-2005-23111, JP-A-2004-75888 And the fluorescent ink described in JP-A-7-164729, the DNA ink described in JP-A-2006-22300, and the like.
  • any form obtained by using an ink containing the ultraviolet absorbent composition of the present invention is also included in the present invention.
  • the printed matter described in JP-A-2006-70190, a laminate obtained by laminating the printed matter, a packaging material or container using the laminate, and an ink receiving layer described in JP-A-2002-127596 may be mentioned. .
  • the fiber containing the ultraviolet absorbent composition of the present invention comprises an ultraviolet absorbent represented by the general formula (1) and a compound represented by any one of the general formulas (TS-I) to (TS-V). As long as it contains, it may be a fiber made of any kind of polymer.
  • the fiber containing the ultraviolet absorbent composition of the present invention may be produced by any method.
  • the ultraviolet absorber represented by the general formula (1) and the compound represented by any one of the general formulas (TS-I) to (TS-V) May be processed into a fibrous form, for example, as described in JP-A-5-9870, JP-A-8-188921, JP-A-10-1587,
  • the processed product is treated with a solution containing the ultraviolet absorber represented by the general formula (1) and the compound represented by any one of the general formulas (TS-I) to (TS-V). You may do.
  • treatment may be performed using a supercritical fluid.
  • the fiber containing the ultraviolet absorbent composition of the present invention can be used for various applications.
  • JP-A-11-247028 extra fine fibers, JP-A-7-310283, JP 2003-528974, anti-woven fibers, JP-A 2001-30861, airbags
  • ultraviolet absorbent fiber products described in JP-A-7-324283, JP-A-8-20579, and JP-A-2003-147617.
  • the building material containing the ultraviolet absorbent composition of the present invention comprises an ultraviolet absorbent represented by the general formula (1) and a compound represented by any one of the general formulas (TS-I) to (TS-V). It may be a building material made of any kind of polymer as long as it is included.
  • the vinyl chloride system described in JP-A-10-6451, the olefin system described in JP-A-10-16152, the polyester system described in JP-A-2002-161158, and JP-A 2003-49065 examples thereof include polyphenylene ethers described above, polycarbonates described in JP-A-2003-160724, and the like.
  • the building material containing the ultraviolet absorbent composition of the present invention may be produced by any method.
  • the ultraviolet absorber represented by the general formula (1) and the compound represented by any one of the general formulas (TS-I) to (TS-V) May be formed into a desired shape by using a material containing, for example, as described in JP-A-10-205056, the ultraviolet absorber represented by the general formula (1) and the general formula (TS -I) to (TS-V) may be formed by laminating a material containing a compound represented by any one of the above formulas.
  • the above general formula ( A coating layer may be formed using the ultraviolet absorber represented by 1) and the compound represented by any one of the general formulas (TS-I) to (TS-V).
  • the ultraviolet absorber represented by the general formula (1) and the general formulas (TS-I) to (TS-V) Paint containing compound represented by any one of may be formed by painting.
  • the building material containing the ultraviolet absorbent composition of the present invention can be used for various applications.
  • exterior building materials described in JP-A-7-3955, JP-A-8-151457, and JP-A-2006-266042, wooden structures for building materials described in JP-A-89-197511 The roofing material for building materials described in JP-A-9-183159, the antibacterial building material described in JP-A-11-236734, the building material substrate described in JP-A-10-205056, and JP-A-11-300880
  • the recording medium containing the ultraviolet absorbent composition of the present invention includes an ultraviolet absorbent represented by the general formula (1) and a compound represented by any one of the general formulas (TS-I) to (TS-V) As long as it contains, any may be sufficient.
  • an ultraviolet absorbent represented by the general formula (1) and a compound represented by any one of the general formulas (TS-I) to (TS-V) As long as it contains, any may be sufficient.
  • TS-I general formulas
  • TS-V general formulas
  • An image display device containing the ultraviolet absorbent composition of the present invention will be described.
  • An image display device including the ultraviolet absorbent composition of the present invention is represented by the ultraviolet absorbent represented by the general formula (1) and any one of the general formulas (TS-I) to (TS-V).
  • Any compound containing a compound may be used.
  • an image display device using an electrochromic element described in JP-A-2006-301268, an image display device called so-called electronic paper described in JP-A-2006-293155, and described in JP-A-9-306344 And an image display device using an organic EL element described in JP-A-2000-223271.
  • the ultraviolet absorbent composition of the present invention may be one in which an ultraviolet absorbing layer is formed in a laminated structure described in, for example, JP-A-2000-223271, or a circularly polarizing plate described in, for example, JP-A-2005-189645 A member containing an ultraviolet absorber in a necessary member may be used.
  • the cover for solar cells containing the ultraviolet absorbent composition of the present invention will be described.
  • the solar cell applied in the present invention may be a solar cell comprising any type of element such as a crystalline silicon solar cell, an amorphous silicon solar cell, and a dye-sensitized solar cell.
  • a cover material is used as a protective member for imparting antifouling, impact resistance and durability as described in JP-A-2000-174296.
  • dye-sensitized solar cells as described in JP-A-2006-282970, a metal oxide semiconductor that becomes active when excited by light (particularly ultraviolet rays) is used as an electrode material, so that it is adsorbed as a photosensitizer.
  • the dyes that have been deteriorated and the photovoltaic power generation efficiency gradually decreases, and it has been proposed to provide an ultraviolet absorbing layer.
  • the solar cell cover including the ultraviolet absorbent composition of the present invention is represented by the ultraviolet absorbent represented by the general formula (1) and any one of the general formulas (TS-I) to (TS-V).
  • the solar cell cover may be made of any kind of polymer as long as it contains a compound.
  • polyester described in JP-A-2006-310461 thermosetting transparent resin described in JP-A-2006-257144, ⁇ -olefin polymer described in JP-A-2006-210906, JP-A-2003-168814 Polypropylene described in the publication, polyethersulfone described in JP-A-2005-129713, acrylic resin described in JP-A-2004-227843, transparent fluororesin described in JP-A-2004-168057, etc. Can be mentioned.
  • the solar cell cover containing the ultraviolet absorbent composition of the present invention may be produced by any method.
  • an ultraviolet absorbing layer described in JP-A-11-40833 may be formed, or layers containing respective ultraviolet absorbers described in JP-A-2005-129926 may be laminated, or JP2000-2000A may be laminated. May be contained in the resin of the filler layer described in JP-A-91611, or a film may be formed from a polymer containing an ultraviolet absorber described in JP-A-2005-346999.
  • the solar cell cover containing the ultraviolet absorbent composition of the present invention may have any shape.
  • the sealing material described in JP-A-2001-261904 may contain an ultraviolet absorber.
  • JP-A-8-102296 JP-A-2000-67629, JP-A-2005-353554, JP-A-5-272076, JP-A-2003.
  • the solid wax described in the publication No. is mentioned.
  • the evaluation for each application can be achieved by the following known evaluation method.
  • Degradation due to light of polymer materials is JIS-K7105: 1981, JIS-K7101: 1981, JIS-K7102: 1981, JIS-K7219: 1998, JIS-K7350-1: 1995, JIS-K7350-2: 1995, JIS -K7350-3: 1996, JIS-K7350-4: 1996, and methods based on this can be used for evaluation.
  • the light resistance when used as a packaging / container application can be evaluated by the method of JIS-K7105 and a method referring to this.
  • Specific examples thereof include light transmittance and transparency evaluation of a bottle body described in JP-A-2006-298456, sensory test evaluation of bottle contents after UV exposure using a xenon light source, JP-A-2000-238857 Haze value evaluation after xenon lamp irradiation described in JP-A-2006-224317, haze value evaluation as a halogen lamp light source described in JP-A-2006-224317, blue wool scale after exposure to mercury lamp described in JP-A-2006-240734 Yellow degree evaluation, haze value evaluation using a sunshine weather meter described in JP-A-2005-105004, JP-A-2006-1568, visual evaluation of colorability, JP-A-7-40954, JP-A-8 -151455, JP-A-10-168292, JP-A-2001-323082, JP-A-2005-146278
  • JIS-K5400 JIS-K5600-7-5: 1999, JIS-K5600-7-6: 2002, JIS-K5600-7-7: 1999, JIS -K5600-7-8: 1999, JIS-K8741 method and a method based on this can be evaluated.
  • Specific examples are the color density after exposure using the xenon light resistance tester and UVCON device described in JP 2000-509082, and the color difference ⁇ Ea * b * in the CIE L * a * b * color coordinates and residual gloss.
  • Light resistance when used as an ink application can be evaluated by the method of JIS-K5701-1: 2000, JIS-K7360-2, ISO105-B02 and a method referring to this. Specifically, evaluation by measuring the color density and CIE L * a * b * color coordinates after exposure using a fluorescent lamp for offices described in JP-T-2006-514130, a fading tester, JP 2006-514130 Electrophoretic evaluation after exposure to ultraviolet rays using a xenon arc light source described in No.
  • the light resistance of the solar cell module can be evaluated by the method of JIS-C8917: 1998, JIS-C8938: 1995 and a method referring to this. Specifically, IV measurement photovoltaic power generation efficiency evaluation after exposure with a light source in which a correction filter for solar simulation is mounted on a xenon lamp described in JP-A-2006-282970, JP-A-11-261085, JP-A-2000 No. -144583 publication, chromatic weather scale evaluation, color, and appearance adhesion evaluation after exposure using a sunshine weather meter and a fade meter.
  • the light resistance of fibers and textile products is JIS-L1096: 1999, JIS-A5905: 2003, JIS-L0842, JIS-K6730, JIS-K7107, DIN75.202, SAEJ1885, SN-ISO-105-B02, AS / NZS4399
  • This method can be evaluated by the method described above and a method based on this method.
  • the light resistance of building materials can be evaluated by the method of JIS-A1415: 1999 and a method based on this method. Specifically, surface color evaluation after exposure using a sunshine weatherometer described in JP-A-2006-266402, carbon arc light source described in JP-A-2004-3191 and JP-A-2006-306020 Appearance evaluation after exposure using CRT, Appearance evaluation after exposure using Eye Super UV tester, Absorbance evaluation after exposure, Chromaticity after exposure, Color difference evaluation, CIE L * after exposure using metal hydride light source Evaluation using color difference ⁇ Ea * b * in a * b * color coordinates, evaluation of gloss retention, JP-A-10-44352, JP-A2003-211538, JP-A-9-239921, JP-A-9- Evaluation of change in haze value after exposure using a sunshine weather meter described in JP-A-254345, JP-A-2003-211606, evaluation of elongation retention using a tensile tester after exposure, JP
  • the light resistance when used as a recording medium can be evaluated by the method of JIS-K7350 and a method referring to this.
  • JIS-K7103 and ISO / DIS9050 evaluation methods can be evaluated by the methods of JIS-K7103 and ISO / DIS9050 and methods based on this method. Specifically, the appearance evaluation of the polycarbonate-coated film described in JP-A-2006-89697 after exposure with a UV tester, the blue scale evaluation after exposure to UV rays in artificial hair described in JP-A-2006-316395, Evaluation of treatment water contact angle after exposure using the accelerated weathering tester described in Kaikai 2006-335855, projection screen after exposure using the weathering tester described in JP-A-2005-55615 Visual evaluation of projected images, Sunshine weather meter described in JP-A-2005-74735, test piece surface deterioration after exposure using a metal weather meter, visual evaluation of design changes, JP-A-2005-326761 Appearance visual evaluation after lighting exposure using the metal lamp reflector described in JP-A-2002-189415, JP-A-2004-352847 JP-A-2003-19776 Kise
  • Example 1 A sample solution was prepared by dissolving 2 mg of composition sample 1 (mass ratio 1: 1) composed of exemplary compound (1) (ultraviolet absorber) and exemplary compound (TII-25) in 100 ml of ethyl acetate. The absorption spectrum of this sample solution was measured. Similarly, a sample solution was prepared using a composition sample having a combination shown in Table 7 below.
  • Example 2 (Preparation of acrylic coating film sample) 30 mL of a solution obtained by dissolving 20 g of polymethyl methacrylate resin (PMMA resin) in 100 mL of dichloromethane was added, and 20 mg of Sample 1 was added. The obtained solution was filtered with a filter having a mesh diameter of 45 ⁇ m to obtain a paint sample 201. Similarly, paint samples 202 to 208 were prepared in the same manner except that the sample 1 was replaced with the samples 2 to 8. Each of these was coated on a 100 ⁇ m polyethylene terephthalate (PET) film to a thickness of about 30 ⁇ m using a bar coater, and dried to prepare PET films (film 201 to film 208) having an ultraviolet absorbing layer. .
  • PET polyethylene terephthalate
  • the molded plates 201 to 206 using the ultraviolet absorbent composition samples 1 to 6 of the present invention are any of the general formulas (TS-I) to (TS-V). It was found that the residual ratio of the contained ultraviolet absorber was very high as compared with the molded plates 207 and 208 using the ultraviolet absorber composition sample 7 or 8 not containing the represented compound.
  • Example 3 (Production of films 301 to 308) 50 g of the ultraviolet absorber (A) was added to 1 kg of polyethylene terephthalate resin (PET), and the mixture was stirred with a stainless steel tumbler for 1 hour. This mixture was melt-mixed at 280 ° C. with a twin-screw kneading extrusion kneader to produce molding pellets by a conventional method. Using this pellet, a film 301 having a thickness of 100 ⁇ m was produced by an injection molding machine.
  • PET polyethylene terephthalate resin
  • Films 302 to 308 were produced in the same manner as the film 301 except that the sample 1 was replaced with the samples 2 to 8 in the production of the film 301.
  • the films 301 to 306 using the ultraviolet absorbent composition samples 1 to 6 of the present invention are represented by any one of the above general formulas (TS-I) to (TS-V). It was found that the residual rate of the ultraviolet absorber contained was higher than that of the films 307 and 308 using the ultraviolet absorber composition sample 7 or 8 containing no compound.

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Abstract

　下記に例示されるような特定の紫外線吸収剤の少なくとも１種と、下記に例示されるような特定の化合物の少なくとも１種とを含む、紫外線吸収剤組成物。

Description

紫外線吸収剤組成物
　本発明は、紫外線吸収剤組成物に関し、さらに詳しく言えば、本発明は、紫外線吸収剤の析出や長期使用によるブリードアウトの生じることがなく、長波紫外線吸収能に優れかつこの吸収能を長期間維持して耐光性に優れる紫外線吸収剤組成物に関する。
　従来から紫外線吸収剤（紫外線安定剤ともいう。）を種々の樹脂などと共用して紫外線吸収性を付与することがおこなわれている。なお、従来、紫外線吸収剤は添加する樹脂そのものの安定性を向上する目的で添加されており、長波側ＵＶ－Ａをカットする重要性はほとんど知られていない。紫外線吸収剤として無機系紫外線吸収剤と有機系紫外線吸収剤を用いる場合がある。無機系紫外線吸収剤（例えば、特許文献１～３等を参照。）では、耐候性や対熱性などの耐久性に優れている反面、吸収波長が化合物のバンドギャップによって決定されるために選択の自由度が少なく、３２０～４００ｎｍの長波紫外線（ＵＶ－Ａ）領域まで吸収できるものはなく、長波紫外線を吸収するものは可視域まで吸収を有するために着色を伴ってしまう。
　これに対して、有機系紫外線吸収剤は、吸収剤の構造設計の自由度が高いために、吸収剤の構造を工夫することによって様々な吸収波長のものを得ることができる。
　これまでにも様々な有機系紫外線吸収剤を用いた系が検討されており、長波紫外線領域まで吸収する場合には、極大吸収波長が長波紫外線領域にあるものを用いるか、濃度を高くするかの２通りが考えられている。しかし、特許文献４及び５等に記載された極大吸収波長が長波紫外線領域にあるものは、耐光性が悪く、吸収能が時間とともに減少していってしまう。
　これに対してベンゾフェノン系やベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤は比較的耐光性も良く、濃度や膜厚を大きくすれば長波長領域まで比較的クリアにカットできる（例えば特許文献６及び７等を参照。）。しかし、通常これらの紫外線吸収剤を樹脂等に混ぜて塗布する場合、膜厚は数十μｍ程度が限界である。この膜厚で長波長領域までカットしようとするとかなり高濃度に紫外線吸収剤を添加する必要がある。しかしながら、単に高濃度に添加しただけでは紫外線吸収剤の析出や長期使用によるブリードアウトが生じるという問題があった。また、ベンゾフェノン系やベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤の中には、皮膚刺激性や生体内への蓄積性を有するものがあり、使用にあたっては細心の注意が必要であった。
特開平５－３３９０３３号公報 特開平５－３４５６３９号公報 特開平６－５６４６６号公報 特開平６－１４５３８７号公報 特開２００３－１７７２３５号公報 特表２００５－５１７７８７号公報 特開平７－２８５９２７号公報
発明の概要
　本発明は、上記の問題点を解決するものであり、紫外線吸収剤の析出や長期使用によるブリードアウトの生じることがなく、長波紫外線吸収能に優れ、かつこの吸収能を長期間維持して耐光性に優れる紫外線吸収剤組成物を提供することを課題とする。
　本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、後述する一般式（１）で表される紫外線吸収剤が、長波紫外線吸収能に優れ、しかも該紫外線吸収剤を樹脂等に混ぜて組成物として用いた場合には該紫外線吸収剤の析出や長期使用によるブリードアウトが生じないことを見出した。本発明者らは、紫外線吸収剤についてさらに詳細に検討を重ねた結果、一般式（１）で表される紫外線吸収剤は、添加剤の添加によりブリードアウトなどにより性能の低下が懸念され添加剤を添加することは望ましいとは考えにくかったが、紫外線吸収剤単独で用いた場合にはその紫外線吸収能が長期間持続しないようなものであっても、特定の化合物と合わせて用いることによって、その性能が長期にわたって持続し得ることを見出した。この特定の化合物はその性質などからも、当業者が容易に想起するものでない。
　なお、特表２００６－５０１３３９号公報には、後述する一般式（１）で表される化合物をポリマーフィルムに用いた場合に、必要に応じて、分散剤、蛍光染料、消泡剤、潤滑剤、褪色防止剤、防腐剤等の公知の各種添加剤を用いても良いことが記載されているが、具体的な添加剤の種類や構造については言及されてなく、その効果についても記載されていなかった。
　本発明は、このような知見に基づきなされるに至ったものである。
　本発明によれば、以下の手段が提供される：
＜１＞　下記一般式（１）で表される紫外線吸収剤の少なくとも１種と、下記一般式（ＴＳ－Ｉ）～（ＴＳ－Ｖ）のいずれかで表される化合物の少なくとも１種とを含むことを特徴とする紫外線吸収剤組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
［Ｈｅｔ1は、２価の５あるいは６員環の芳香族ヘテロ環残基を表す。また、該芳香族ヘテロ環残基は置換基を有していても良い。
　Ｘa、Ｘb、Ｘc及びＸdは、互いに独立してヘテロ原子を表す。また、Ｘa～Ｘdは置換基を有していても良い。
　Ｙa、Ｙb、Ｙc、Ｙd、Ｙe及びＹfは、互いに独立してヘテロ原子または炭素原子を表す。また、Ｙa～Ｙfは置換基を有していても良い。
　Ｈｅｔ1に結合している環は、任意の位置に二重結合を有していても良い。］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
〔一般式（ＴＳ－Ｉ）中、Ｒ91は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルもしくはアルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ホスフィノトリル基、ホスフィニル基、又は－Ｓｉ(Ｒ97)(Ｒ98)(Ｒ99)を表す。ここで、Ｒ97、Ｒ98、Ｒ99は同一でも異なってもいてもよく、それぞれアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基又はアルケニルオキシ基、アリールオキシ基を表す。－Ｘ91－は－Ｏ－、－Ｓ－又は－Ｎ(－Ｒ100)－を表す。ここで、Ｒ100はＲ91と同義である。Ｒ92、Ｒ93、Ｒ94、Ｒ95、Ｒ96は互いに同一でも異なってもよく、それぞれ、水素原子又は置換基を表す。Ｒ91とＲ92、Ｒ100とＲ96、Ｒ91とＲ100は互いに結合して５～７員環を形成していてもよい。さらに、Ｒ92とＲ93、Ｒ93とＲ94が互いに結合して、５～７員環又はスピロ環、ビシクロ環を形成してもよい。但し、Ｒ91、Ｒ92、Ｒ93、Ｒ94、Ｒ95、Ｒ96、Ｒ100のすべてが水素原子であることはなく、総炭素数は１０以上である。
　一般式（ＴＳ－ＩＩ）中、Ｒ101、Ｒ102、Ｒ103、Ｒ104は各々独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基を表し、Ｒ101とＲ102、Ｒ103とＲ104は結合し、５～７員環を形成してもよい。Ｘ101は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキルオキシ基、アルケニルオキシ基、アルキルもしくはアルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アルキルオキシカルボニルオキシ基、アルケニルオキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アルキルもしくはアルケニルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルもしくはアルケニルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、スルファモイル基、カルバモイル基、ヒドロキシ基又はオキシラジカル基を表す。Ｘ102は５～７員環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。
　一般式（ＴＳ－ＩＩＩ）中、Ｒ105、Ｒ106は水素原子、脂肪族基、アシル基、脂肪族オキシカルボニル基、芳香族オキシカルボニル基、脂肪族スルホニル基、芳香族スルホニル基を表し、Ｒ107は脂肪族基、脂肪族オキシ基、芳香族オキシ基、脂肪族チオ基、芳香族チオ基、アシルオキシ基、脂肪族オキシカルボニルオキシ基、芳香族オキシカルボニルオキシ基、置換アミノ基、複素環基、ヒドロキシ基を表し、可能な場合にはＲ105とＲ106、Ｒ106とＲ107、Ｒ105とＲ107は互いに結合し、５～７員環を形成してもよいが、２，２，６，６－テトラアルキルピペリジン骨格を形成する場合を除く。但し、Ｒ105、Ｒ106の両方が水素原子であることはなく、総炭素数は７以上である。
　一般式（ＴＳ－ＩＶ）中、Ｒ111、Ｒ112は脂肪族基を表し、Ｒ111とＲ112は互いに結合し、５～７員環を形成してもよい。ｎは０、１、２を表す。但し、Ｒ111とＲ112の総炭素数は１０以上である。
　一般式（ＴＳ－Ｖ）中、Ｒ121、Ｒ122は脂肪族オキシ基、芳香族オキシ基を表し、Ｒ123は脂肪族基、芳香族基、脂肪族オキシ基、芳香族オキシ基を表し、ｍは０又は１を表す。Ｒ121とＲ122、Ｒ121とＲ123は互いに結合し、５～８員環を形成してもよい。但し、Ｒ121、Ｒ122、Ｒ123の総炭素数は１０以上である。〕
＜２＞　前記一般式（１）で表される紫外線吸収剤の総含有量が、該組成物全体に対し０質量％より大きく７０％質量以下である、＜１＞項に記載の紫外線吸収剤組成物。
＜３＞　前記一般式（ＴＳ－Ｉ）～（ＴＳ－Ｖ）のいずれかで表される化合物の総含有量が、該組成物全体に対し０質量％より大きく８０質量％以下である、＜１＞又は＜２＞項に記載の紫外線吸収剤組成物。
＜４＞　前記一般式（１）において、Ｘa、Ｘb、Ｙa～Ｙc及び炭素原子によって形成される環並びにＸc、Ｘd、Ｙd～Ｙf及び炭素原子によって形成される環の少なくとも一方が縮環している、＜１＞～＜３＞のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
＜５＞　前記一般式（１）において、Ｘa、Ｘb、Ｙa～Ｙc及び炭素原子によって形成される環並びにＸc、Ｘd、Ｙd～Ｙf及び炭素原子によって形成される環の少なくとも一方がペリミジン環ではない、＜１＞～＜４＞のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
＜６＞　前記一般式（１）で表される紫外線吸収剤が下記一般式（２）で表される紫外線吸収剤である、＜１＞～＜５＞のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
［Ｈｅｔ2は、前記一般式（１）のＨｅｔ1と同義である。
　Ｘ2a、Ｘ2b、Ｘ2c及びＸ2dは、それぞれ前記一般式（１）のＸa、Ｘb、Ｘc及びＸdと同義である。
　Ｙ2b、Ｙ2c、Ｙ2e及びＹ2fは、それぞれ前記一般式（１）のＹb、Ｙc、Ｙe及びＹfと同義である。
　Ｌ1及びＬ2は、それぞれ独立して酸素原子、硫黄原子または＝ＮＲaを表す（Ｒaは、水素原子または１価の置換基を表す。）。
　Ｚ1及びＺ2はそれぞれ独立して、Ｙ2b及びＹ2cまたはＹ2e及びＹ2fと一緒になって４～８員環を形成するのに必要な原子群を表す。］
＜７＞　前記一般式（２）で表される紫外線吸収剤が下記一般式（３）で表される紫外線吸収剤である、＜６＞項に記載の紫外線吸収剤組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
［Ｈｅｔ3は、前記一般式（２）のＨｅｔ2と同義である。
　Ｘ3a、Ｘ3b、Ｘ3c及びＸ3dは、それぞれ前記一般式（２）のＸ2a、Ｘ2b、Ｘ2c及びＸ2dと同義である。
　Ｒ3a、Ｒ3b、Ｒ3c、Ｒ3d、Ｒ3e、Ｒ3f、Ｒ3g及びＲ3hは互いに独立して、水素原子または１価の置換基を表す。］
＜８＞　前記一般式（３）で表される紫外線吸収剤が下記一般式（４）で表される紫外線吸収剤である、＜７＞項に記載の紫外線吸収剤組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
［Ｈｅｔ4は、前記一般式（３）のＨｅｔ3と同義である。
　Ｒ4a、Ｒ4b、Ｒ4c、Ｒ4d、Ｒ4e、Ｒ4f、Ｒ4g及びＲ4hは、それぞれ前記一般式（３）のＲ3a、Ｒ3b、Ｒ3c、Ｒ3d、Ｒ3e、Ｒ3f、Ｒ3g及びＲ3hと同義である。］
＜９＞　前記一般式（４）で表される紫外線吸収剤が下記一般式（５）で表される紫外線吸収剤である、＜８＞項に記載の紫外線吸収剤組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
［Ｒ5a、Ｒ5b、Ｒ5c、Ｒ5d、Ｒ5e、Ｒ5f、Ｒ5g及びＲ5hは、それぞれ前記一般式（４）のＲ4a、Ｒ4b、Ｒ4c、Ｒ4d、Ｒ4e、Ｒ4f、Ｒ4g及びＲ4hと同義である。Ｒ5i及びＲ5jは互いに独立して、水素原子または１価の置換基を表す。］
＜１０＞　前記一般式（ＴＳ－Ｉ）で表される化合物を含む、＜１＞～＜９＞のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
＜１１＞　＜１＞～＜１０＞のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物を含む紫外線吸収剤分散物。
＜１２＞　＜１＞～＜１０＞のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物を含む紫外線吸収剤溶液。
＜１３＞　＜１＞～＜１０＞のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物を含む高分子材料。
　本発明の紫外線吸収剤組成物は、紫外線吸収剤の析出や長期使用によるブリードアウトの生じることがなく、長期間に亘って紫外線吸収能に優れると同時に可視域に吸収がないという優れた効果を奏する。
　本発明の上記及び他の特徴及び利点は、下記の記載からより明らかになるであろう。
発明を実施するための形態
　以下、本発明について詳細に説明する。
　まず、本明細書において脂肪族基は、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アラルキル基および置換アラルキル基を意味する。アルキル基は分岐を有していてもよく、また環を形成していてもよい。アルキル基の炭素原子数は１～２０であることが好ましく、１～１８であることが更に好ましい。置換アルキル基のアルキル部分は、上記アルキル基と同様である。アルケニル基は分岐を有していてもよく、また環を形成していてもよい。アルケニル基の炭素原子数は２～２０であることが好ましく、２～１８であることが更に好ましい。置換アルケニル基のアルケニル部分は、上記アルケニル基と同様である。アルキニル基は分岐を有していてもよく、また環を形成していてもよい。アルキニル基の炭素原子数は２～２０であることが好ましく、２～１８であることが更に好ましい。置換アルキニル基のアルキニル部分は、上記アルキニル基と同様である。アラルキル基および置換アラルキル基のアルキル部分は、上記アルキル基と同様である。アラルキル基および置換アラルキル基のアリール部分は下記アリール基と同様である。
　置換アルキル基、置換アルケニル基、置換アルキニル基および置換アラルキル基のアルキル部分の置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基［直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルキル基を表す。それらは、アルキル基（好ましくは炭素数１～３０のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｔ－ブチル、ｎ－オクチル、エイコシル、２－クロロエチル、２－シアノエチル、２－エチルヘキシル）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３～３０の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル、シクロペンチル、４－ｎ－ドデシルシクロヘキシル）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５～３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５～３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン－２－イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン－３－イル）、更に環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。以下に説明する置換基の中のアルキル基（例えばアルキルチオ基のアルキル基）もこのような概念のアルキル基を表す。］、
アルケニル基［直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルケニル基を表す。それらは、アルケニル基（好ましくは炭素数２～３０の置換または無置換のアルケニル基、例えば、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３～３０の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３～３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２－シクロペンテン－１－イル、２－シクロヘキセン－１－イル）、ビシクロアルケニル基（置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５～３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト－２－エン－１－イル、ビシクロ［２，２，２］オクト－２－エン－４－イル）を包含するものである。］、アルキニル基（好ましくは、炭素数２～３０の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル、プロパルギル、トリメチルシリルエチニル基）、
アリール基（好ましくは炭素数６～３０の置換もしくは無置換のアリール基、例えばフェニル、ｐ－トリル、ナフチル、ｍ－クロロフェニル、ｏ－ヘキサデカノイルアミノフェニル）、ヘテロ環基（好ましくは５または６員の置換もしくは無置換の、芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、更に好ましくは、炭素数３～３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２－フリル、２－チエニル、２－ピリミジニル、２－ベンゾチアゾリル）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１～３０の置換もしくは無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｔ－ブトキシ、ｎ－オクチルオキシ、２－メトキシエトキシ）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６～３０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ、２－メチルフェノキシ、４－ｔ－ブチルフェノキシ、３－ニトロフェノキシ、２－テトラデカノイルアミノフェノキシ）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３～２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ、ｔ－ブチルジメチルシリルオキシ）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２～３０の置換もしくは無置換のヘテロ環オキシ基、１－フェニルテトラゾール－５－オキシ、２－テトラヒドロピラニルオキシ）、
アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２～３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６～３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ステアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ｐ－メトキシフェニルカルボニルオキシ）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１～３０の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ－ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ，Ｎ－ジエチルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ、Ｎ，Ｎ－ジ－ｎ－オクチルアミノカルボニルオキシ、Ｎ－ｎ－オクチルカルバモイルオキシ）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２～３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、ｔ－ブトキシカルボニルオキシ、ｎ－オクチルカルボニルオキシ）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７～３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ、ｐ－メトキシフェノキシカルボニルオキシ、ｐ－ｎ－ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ）、アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１～３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６～３０の置換もしくは無置換のアニリノ基、例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、Ｎ－メチル－アニリノ、ジフェニルアミノ）、
アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１～３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６～３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、３，４，５－トリ－ｎ－オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１～３０の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ、例えば、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ－ブトキシカルボニルアミノ、ｎ－オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ－メチル－メトキシカルボニルアミノ）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７～３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ、ｐ－クロロフェノキシカルボニルアミノ、ｍ－ｎ－オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ）、
スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０～３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノスルホニルアミノ、Ｎ－ｎ－オクチルアミノスルホニルアミノ）、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１～３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ、炭素数６～３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ、例えば、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、２，３，５－トリクロロフェニルスルホニルアミノ、ｐ－メチルフェニルスルホニルアミノ）、メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１～３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ、エチルチオ、ｎ－ヘキサデシルチオ）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６～３０の置換もしくは無置換のアリールチオ、例えば、フェニルチオ、ｐ－クロロフェニルチオ、ｍ－メトキシフェニルチオ）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２～３０の置換または無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２－ベンゾチアゾリルチオ、１－フェニルテトラゾール－５－イルチオ）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０～３０の置換もしくは無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ－エチルスルファモイル、Ｎ－（３－ドデシルオキシプロピル）スルファモイル、Ｎ，Ｎ－ジメチルスルファモイル、Ｎ－アセチルスルファモイル、Ｎ－ベンゾイルスルファモイル、Ｎ－（Ｎ‘－フェニルカルバモイル）スルファモイル）、
スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１～３０の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、６～３０の置換または無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、ｐ－メチルフェニルスルフィニル）、アルキル及びアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１～３０の置換または無置換のアルキルスルホニル基、６～３０の置換または無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ－メチルフェニルスルホニル）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２～３０の置換または無置換のアルキルカルボニル基、、炭素数７～３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数４～３０の置換もしくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基、例えば、アセチル、ピバロイル、２－クロロアセチル、ステアロイル、ベンゾイル、ｐ－ｎ－オクチルオキシフェニルカルボニル、２－ピリジルカルボニル、２－フリルカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７～３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル、ｏ－クロロフェノキシカルボニル、ｍ－ニトロフェノキシカルボニル、ｐ－ｔ－ブチルフェノキシカルボニル）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２～３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ－ブトキシカルボニル、ｎ－オクタデシルオキシカルボニル）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１～３０の置換もしくは無置換のカルバモイル、例えば、カルバモイル、Ｎ－メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ－ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ－ジ－ｎ－オクチルカルバモイル、Ｎ－（メチルスルホニル）カルバモイル）、
アリール及びヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６～３０の置換もしくは無置換のアリールアゾ基、炭素数３～３０の置換もしくは無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ、ｐ－クロロフェニルアゾ、５－エチルチオ－１，３，４－チアジアゾール－２－イルアゾ）、イミド基（好ましくは、Ｎ－スクシンイミド、Ｎ－フタルイミド）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２～３０の置換もしくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ、ジフェニルホスフィノ、メチルフェノキシホスフィノ）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２～３０の置換もしくは無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル、ジオクチルオキシホスフィニル、ジエトキシホスフィニル）、ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２～３０の置換もしくは無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２～３０の置換もしくは無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ、ジメチルアミノホスフィニルアミノ）、シリル基（好ましくは、炭素数３～３０の置換もしくは無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル、ｔ－ブチルジメチルシリル、フェニルジメチルシリル）を表す。
　上記の官能基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去り更に上記の基で置換されていても良い。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。その例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル、ｐ－メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル、アセチルアミノスルホニル、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。
　置換アラルキル基のアリール部分の置換基の例は、下記置換アリール基の置換基の例と同様である。
　本明細書において芳香族基は、アリール基および置換アリール基を意味する。またこれらの芳香族基は脂肪族環、他の芳香族環または複素環が縮合していてもよい。芳香族基の炭素原子数は６～４０が好ましく、６～３０が更に好ましく、６～２０が更に好ましい。またその中でもアリール基としてはフェニルまたはナフチルであることが好ましく、フェニルが特に好ましい。
　置換アリール基のアリール部分は、上記アリール基と同様である。置換アリール基の置換基の例としては、先に置換アルキル基、置換アルケニル基、置換アルキニル基及び置換アラルキル基のアルキル部分の置換基の例としてあげたものと同様である。
　本明細書において、複素環基は５員または６員の飽和または不飽和複素環を含むことが好ましい。複素環に脂肪族環、芳香族環または他の複素環が縮合していてもよい。複素環のヘテロ原子の例にはＢ，Ｎ，Ｏ，Ｓ，ＳｅおよびＴｅが含まれる。ヘテロ原子としてはＮ，ＯおよびＳが好ましい。複素環は炭素原子が遊離の原子価（一価）を有する（複素環基は炭素原子において結合する）ことが好ましい。好ましい複素環基の炭素原子数は１～４０であり、より好ましくは１～３０であり、更に好ましくは１～２０である。飽和複素環の例には、ピロリジン環、モルホリン環、２－ボラ－１，３－ジオキソラン環および１，３－チアゾリジン環が含まれる。不飽和複素環の例には、イミダゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾセレナゾール環、ピリジン環、ピリミジン環およびキノリン環が含まれる。複素環基は置換基を有していても良い。置換基の例としては、先に置換アルキル基、置換アルケニル基、置換アルキニル基及び置換アラルキル基のアルキル部分の置換基の例としてあげたものと同様である。
　分光吸収極大波長を確認するための溶液は、前記一般式（１）で表される紫外線吸収剤を有機或いは無機の溶媒または水を単独或いはそれらの混合物を用いて溶解したものである。
　有機溶媒としては、例えばアミド系溶媒（例えばＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、１－メチル－２－ピロリドン）、スルホン系溶媒（例えばスルホラン）、スルホキシド系溶媒（例えばジメチルスルホキシド）、ウレイド系溶媒（例えばテトラメチルウレア）、エーテル系溶媒（例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル）、ケトン系溶媒（例えばアセトン、シクロヘキサノン）、炭化水素系溶媒（例えばトルエン、キシレン、ｎ－デカン）、ハロゲン系溶媒（例えばテトラクロロエタン，クロロベンゼン、クロロナフタレン）、アルコール系溶媒（例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール、シクロヘキサノール、フェノール）、ピリジン系溶媒（例えばピリジン、γ－ピコリン、２，６－ルチジン）、エステル系溶媒（例えば酢酸エチル、酢酸ブチル）、カルボン酸系溶媒（例えば酢酸、プロピオン酸）、ニトリル系溶媒（例えばアセトニトリル）、スルホン酸系溶媒（例えばメタンスルホン酸）、アミン系溶媒（例えばトリエチルアミン、トリブチルアミン）等を用いることができる。
　無機溶媒としては、例えば硫酸、リン酸等を用いることができる。
　前記一般式（１）で表される紫外線吸収剤の溶解性の点から、アミド系溶媒、スルホン系溶媒、スルホキシド系溶媒、ウレイド系溶媒、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、ハロゲン系溶媒、炭化水素系溶媒、アルコール系溶媒、エステル系溶媒、又はニトリル系溶媒が好ましい。
　測定のための前記一般式（１）で表される紫外線吸収剤の濃度は、分光吸収の極大波長が確認できる濃度であれば特に制限されず、好ましくは１×１０－７～１×１０１３ｍｏｌ／Ｌの範囲である。
　測定のための温度は特に制限されず、好ましくは０℃～８０℃である。
　分光吸収測定装置としては、特に制限されず、通常の分光吸収測定装置（例えば、Ｕ－４１００スペクトロフォトメーター、商品名、日立ハイテクノロジーズ(株)製）を用いることができる。
　本発明の紫外線吸収剤組成物は、前記一般式（１）で表される紫外線吸収剤の少なくとも１種と、前記一般式（ＴＳ－Ｉ）～（ＴＳ－Ｖ）のいずれかで表される化合物の少なくとも１種とを含んでなることを特徴とするものである。前記一般式（ＴＳ－Ｉ）～（ＴＳ－Ｖ）のいずれかで表される化合物は、種々の樹脂などと共用することで樹脂の分解を防止する光安定剤として機能する。このような化合物を前記一般式（１）で表される紫外線吸収剤と共に含有する本発明の紫外線吸収剤組成物においては、組成物自体の光安定性を向上するだけでなく、前記紫外線吸収剤も安定化し、前記紫外線吸収剤が有する長波紫外線吸収能を長期間に亘って維持することができる。
　続いて、前記一般式（１）で表される紫外線吸収剤について詳細に説明する。
　前記一般式（１）において、Ｈｅｔ1は、少なくとも一つのヘテロ原子を有する２価の５あるいは６員環の芳香族ヘテロ環残基を表す。また、Ｈｅｔ1は、縮環していても良い。
　ヘテロ原子としては例えば、ホウ素原子、窒素原子、酸素原子、ケイ素原子、リン原子、硫黄原子、セレン原子、テルル原子などを挙げることができる。ヘテロ原子として好ましくは、窒素原子、酸素原子、硫黄原子である。より好ましくは、窒素原子、硫黄原子である。特に好ましくは、硫黄原子である。ヘテロ原子を二つ以上有する場合は、同一原子であっても異なる原子であっても良い。
　２価の芳香族ヘテロ環残基に２つの水素原子を付加した芳香族ヘテロ環として例えば、ピロール、ピラゾール、イミダゾール、１，２，３－トリアゾール、１，２，４－トリアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、１，３，５－トリアジン、フラン、チオフェン、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、１，２，３－オキサジアゾール、１，３，４－チアジアゾールなどを挙げることができる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピロール、ピリジン、フラン、チオフェンである。より好ましくは、ピリジン、チオフェンである。特に好ましくは、チオフェンである。芳香族ヘテロ環の水素原子を取り除く位置はいずれでも良い。例えばヘテロ５員環化合物ピロールでの結合位置は、２，３位、２，４位、２，５位、３，４位、３，５位が挙げられる。また、チオフェンでの結合位置は、２，３位、２，４位、２，５位、３，４位、３，５位が挙げられる。これらのうち好ましくは、２，５位、２，４位、３，４位であり、より好ましくは２，５位、３，４位であり、特に好ましくは２，５位である。また、ヘテロ６員環化合物ピリジンでの結合位置は、２，３位、２，４位、２，５位、２，６位、３，４位、３，５位、３，６位が挙げられる。これらのうち好ましくは、２，５位、２，６位、３，５位であり、より好ましくは２，５位、２，６位であり、特に好ましくは２，５位である。
　また、芳香族ヘテロ環残基Ｈｅｔ1は、置換基を有していても良い。置換基として１価の置換基が挙げられる。１価の置換基（以下Ｒとする）の例として、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、炭素数１～２０のアルキル基（例えばメチル、エチル）、炭素数６～２０のアリール基（例えばフェニル、ナフチル）、シアノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル）、置換又は無置換のカルバモイル基（例えばカルバモイル、Ｎ－フェニルカルバモイル、Ｎ，Ｎ－ジメチルカルバモイル）、アルキルカルボニル基（例えばアセチル）、アリールカルボニル基（例えばベンゾイル）、ニトロ基、置換または無置換のアミノ基（例えばアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ）、アシルアミノ基（例えばアセトアミド、エトキシカルボニルアミノ）、スルホンアミド基（例えばメタンスルホンアミド）、イミド基（例えばスクシンイミド、フタルイミド）、イミノ基（例えばベンジリデンアミノ）、ヒドロキシ基、炭素数１～２０のアルコキシ基（例えばメトキシ）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ）、アシルオキシ基（例えばアセトキシ）、アルキルスルホニルオキシ基（例えばメタンスルホニルオキシ）、アリールスルホニルオキシ基（例えばベンゼンスルホニルオキシ）、スルホ基、置換または無置換のスルファモイル基（例えばスルファモイル、Ｎ－フェニルスルファモイル）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ）、アルキルスルホニル基（例えばメタンスルホニル）、アリールスルホニル基（例えばベンゼンスルホニル）、炭素数６～２０のヘテロ環基（例えばピリジル、モルホリノ）などを挙げることができる。また、置換基は更に置換されていても良く、置換基が複数ある場合は、同じでも異なっても良い。その際、置換基の例としては、上述の１価の置換基Ｒを挙げることができる。また置換基同士で結合して環を形成しても良い。
　置換基として好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、アリール基がある。より好ましくは、アルキル基、アリール基であり、特に好ましくは、アルキル基である。
　Ｘa、Ｘb、Ｘc及びＸdは、互いに独立してヘテロ原子を表す。ヘテロ原子としては例えば、ホウ素原子、窒素原子、酸素原子、ケイ素原子、リン原子、硫黄原子、セレン原子、テルル原子などを挙げることができる。ヘテロ原子として好ましくは、窒素原子、酸素原子、硫黄原子である。より好ましくは、窒素原子、酸素原子である。また、Ｘa～Ｘdは置換基を有していても良い。置換基としては上述した１価の置換基Ｒの例が挙げられる。
　Ｙa、Ｙb、Ｙc、Ｙd、Ｙe及びＹfは、互いに独立してヘテロ原子または炭素原子を表す。Ｙa～Ｙfを構成する原子としては例えば、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子などが挙げられる。Ｙa～Ｙfを構成する原子として好ましくは、炭素原子、窒素原子、酸素原子であり、より好ましくは、炭素原子、窒素原子である。さらに好ましくは、炭素原子であり、特に好ましくは、全て炭素原子を表す場合である。また、原子は置換されていても良く、置換基同士で結合して環を形成しても良く、さらに縮環していても良い。置換基としては上述した１価の置換基Ｒの例が挙げられる。
　前記のＸa、Ｘb、Ｙa～Ｙc及び炭素原子によって形成される環並びにＸc、Ｘd、Ｙd～Ｙf及び炭素原子によって形成される環（前記のＨｅｔ1で表される芳香族ヘテロ環残基に結合している２つの環）は、任意の位置に二重結合を有していても良い。該２つの環の少なくとも一方は、縮環していることが好ましい。また、該２つの環の少なくとも一方はペリミジン環ではないことが好ましい。
　下記表１～６に、前記のＸa、Ｘb、Ｙa～Ｙc及び炭素原子によって形成される環をＡ、前記のＨｅｔ1で表される芳香族ヘテロ環残基をＨｅｔ、前記のＸc、Ｘd、Ｙd～Ｙf及び炭素原子によって形成される環をＢとして、それぞれの具体例を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000013
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000014
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000015
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000016
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000017
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000018
　前記一般式（１）で表される紫外線吸収剤は前記一般式（２）で表される紫外線吸収剤であることが好ましい。以下、前記一般式（２）で表される紫外線吸収剤について説明する。
　Ｈｅｔ2は、前記一般式（１）のＨｅｔ1と同義である。好ましい場合も同じである。
　Ｘ2a、Ｘ2b、Ｘ2c及びＸ2dは、それぞれ前記一般式（１）のＸa、Ｘb、Ｘc及びＸdと同義であり、好ましい場合も同じである。Ｘ2a、Ｘ2b、Ｘ2c及びＸ2dはそれぞれ異なっていても良いが、Ｘ2a及びＸ2b、並びにＸ2c及びＸ2dの組は、それぞれ同じ組み合わせを表す場合がより好ましく、特に好ましくはＸ2a及びＸ2cが酸素原子、Ｘ2b及びＸ2dが窒素原子を表す場合である。
　Ｙ2b、Ｙ2c、Ｙ2e及びＹ2fは、それぞれ前記一般式（１）のＹb、Ｙc、Ｙe及びＹfと同義である。好ましい場合も同じである。
　Ｌ1及びＬ2は、それぞれ独立して酸素原子、硫黄原子または＝ＮＲaを表す（Ｒaは、水素原子または１価の置換基を表す。置換基としては上述の１価の置換基Ｒの例が挙げられる。）好ましくは酸素原子、＝ＮＲaである。より好ましくは酸素原子である。Ｌ1及びＬ2はそれぞれ異なっていても良いが、同じであることが好ましい。中でもＬ1及びＬ2はいずれも酸素原子であることが特に好ましい。
　Ｚ1及びＺ2はそれぞれ独立して、Ｙ2b及びＹ2cまたはＹ2e及びＹ2fと一緒になって４～８員環を形成するのに必要な原子群を表す。これらの環は置換基を有していても良く、さらに縮環していても良い。形成する環として例えば、シクロヘキサン、シクロペンタンなどの脂肪族炭化水素環、ベンゼン環、ナフタレン環などの芳香族炭化水素環、ピリジン、ピロール、ピリダジン、チオフェン、イミダゾール、フラン、ピラゾール、オキサゾール、トリアゾール、チアゾ－ルまたはこれらのベンゾ縮環体などのヘテロ環が挙げられる。好ましくは芳香族炭化水素環、ヘテロ環である。より好ましくは芳香族炭化水素環であり、特に好ましくはベンゼン環である。
　さらに、前記一般式（２）で表される紫外線吸収剤は、前記一般式（３）で表される紫外線吸収剤であることが好ましい。以下、前記一般式（３）で表される紫外線吸収剤について説明する。
　Ｈｅｔ3は、前記一般式（２）のＨｅｔ2と同義である。好ましい場合も同じである。
　Ｘ3a、Ｘ3b、Ｘ3c及びＸ3dは、それぞれ前記一般式（２）のＸ2a、Ｘ2b、Ｘ2c及びＸ2dと同義であり、好ましい場合も同じである。Ｘ3a、Ｘ3b、Ｘ3c及びＸ3dはそれぞれ異なっていても良いが、Ｘ3a及びＸ3b、並びにＸ3c及びＸ3dの組は、それぞれ同じ組み合わせを表す場合がより好ましく、特に好ましくはＸ3a及びＸ3cが酸素原子、Ｘ3b及びＸ3dが窒素原子を表す場合である。
　Ｒ3a、Ｒ3b、Ｒ3c、Ｒ3d、Ｒ3e、Ｒ3f、Ｒ3g及びＲ3hは互いに独立して、水素原子または１価の置換基を表す。置換基としては上述の１価の置換基Ｒの例を挙げることができる。Ｒ3a～Ｒ3d及びＲ3e～Ｒ3hのうち任意の２つの置換基は互いに結合して環を形成しても良く、さらに縮環していても良い。Ｒ3a～Ｒ3hとして好ましくは、水素原子、炭素数１０以下のアルキル基、炭素数１０以下のアルコキシ基、ヒドロキシ基であり、より好ましくは、水素原子、炭素数１０以下のアルコキシ基である。さらに好ましくは、水素原子であり、特に好ましくは、Ｒ3a～Ｒ3hの全てが水素原子を表す場合である。
　さらに、前記一般式（３）で表される紫外線吸収剤は、前記一般式（４）で表される紫外線吸収剤であることが好ましい。以下、前記一般式（４）で表される紫外線吸収剤について説明する。
　Ｈｅｔ4は、前記一般式（３）のＨｅｔ3と同義である。好ましい場合も同じである。
　Ｒ4a、Ｒ4b、Ｒ4c、Ｒ4d、Ｒ4e、Ｒ4f、Ｒ4g及びＲ4hは、それぞれ前記一般式（３）のＲ3a、Ｒ3b、Ｒ3c、Ｒ3d、Ｒ3e、Ｒ3f、Ｒ3g及びＲ3hと同義である。好ましい場合も同じである。
　さらに、前記一般式（４）で表される紫外線吸収剤は、前記一般式（５）で表される紫外線吸収剤であることが好ましい。以下、前記一般式（５）で表される紫外線吸収剤について説明する。
　Ｈｅｔ5は、前記一般式（４）のＨｅｔ4と同義である。好ましい場合も同じである。
　Ｒ5a、Ｒ5b、Ｒ5c、Ｒ5d、Ｒ5e、Ｒ5f、Ｒ5g及びＲ5hは、それぞれ前記一般式（４）のＲ4a、Ｒ4b、Ｒ4c、Ｒ4d、Ｒ4e、Ｒ4f、Ｒ4g及びＲ4hと同義である。好ましい場合も同じである。
　Ｒ5i及びＲ5jは互いに独立して、水素原子または１価の置換基を表す。１価の置換基としては上述の１価の置換基Ｒの例を挙げることができる。Ｒ5i及びＲ5jは互いに結合して環を形成しても良く、さらに縮環していても良い。Ｒ5i及びＲ5jとして好ましくは、水素原子、炭素数１０以下のアルキル基、炭素数１０以下のアルコキシ基、ヒドロキシ基であり、より好ましくは、水素原子、炭素数１０以下のアルコキシ基である。さらに好ましくは、水素原子であり、特に好ましくは、Ｒ5i及びＲ5jが共に水素原子を表す場合である。
　前記一般式（１）～（５）のいずれかで表される紫外線吸収剤の具体例を以下に示すが、本発明はこれに限定されない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
　前記一般式（１）～（５）のいずれかで表される紫外線吸収剤は、任意の方法で合成することができる。例えば、公知の特許文献や非特許文献、例えば特開２０００－２６４８７９号公報の４ページ左４３行目～右８行目の実施例、特開２００３－１５５３７５の４ページ右欄５行目～３０行目の実施例、「Ｂｉｏｏｒｇａｎｉｃ　＆　Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」，２０００年，８巻，２０９５－２１０３ページ、「Ｂｉｏｏｒｇａｎｉｃ　＆　Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　Ｌｅｔｔｅｒｓ」，２００３年，１３巻，４０７７－４０８０ページなどを参考にして合成できる。例えば、例示化合物（１５）は３，５－ピラゾールジカルボニルジクロリドとアントラニル酸とを反応させることにより合成できる。また、例示化合物（３２）は２，５－チオフェンジカルボニルジクロリドと４，５－ジメトキアントラニル酸とを反応させることにより合成できる。
　前記一般式（１）～（５）のいずれかで表される紫外線吸収剤は、構造とその置かれた環境によって互変異性体を取り得る。本発明においては代表的な形の一つで記述しているが、本発明の記述と異なる互変異性体も本発明に用いられる紫外線吸収剤に含まれる。
　前記一般式（１）～（５）のいずれかで表されるの紫外線吸収剤は、同位元素（例えば、２Ｈ、３Ｈ、１３Ｃ、１５Ｎ、１７Ｏ、１８Ｏなど）を含有していてもよい。
　前記一般式（１）～（５）のいずれかで表される紫外線吸収剤の構造を繰り返し単位内に含むポリマーも、本発明に好適に使用できる。ポリマーは、ホモポリマーであってもよいし、２種類以上の繰り返し単位からなるコポリマーであってもよい。さらに他の繰り返し単位を含むコポリマーであってもよい。なお、紫外線吸収剤構造を繰り返し単位内に含むポリマーについては、特公平１－５３４５５号、特開昭６１－１８９５３０号の各公報および欧州特許２７２４２号明細書に記載がある。ポリマーを得る方法についてはこれら特許文献の記述を参考にすることができる。
　続いて、本発明に用いられる下記一般式（ＴＳ－Ｉ）～（ＴＳ－Ｖ）で表される化合物について説明する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
　一般式（ＴＳ－Ｉ）中、Ｒ91は水素原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基等の環状アルキル基を含む。）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基、トリシクロアルケニル基等の環状アルケニル基を含む。）、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基（シクロアルキルスルホニル基、ビシクロアルキルスルホニル基、トリシクロアルキルスルホニル基等の環状アルキルスルホニル基を含む。）、アリールスルホニル基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、又は－Ｓｉ(Ｒ97)(Ｒ98)(Ｒ99)を表す。ここで、Ｒ97、Ｒ98、Ｒ99は同一でも異なってもいてもよく、それぞれアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基又はアルケニルオキシ基、アリールオキシ基を表す。－Ｘ91－は－Ｏ－、－Ｓ－又は－Ｎ(－Ｒ100)－を表す。ここで、Ｒ100はＲ91と同義である。Ｒ92、Ｒ93、Ｒ94、Ｒ95、Ｒ96は互いに同一でも異なってもよく、それぞれ、水素原子又は置換基を表す。Ｒ91とＲ92、Ｒ100とＲ96、Ｒ91とＲ100は互いに結合して５～７員環を形成していてもよい。さらに、Ｒ92とＲ93、Ｒ93とＲ94が互いに結合して、５～７員環又はスピロ環、ビシクロ環を形成してもよい。但し、Ｒ91、Ｒ92、Ｒ93、Ｒ94、Ｒ95、Ｒ96、Ｒ100のすべてが水素原子であることはなく、総炭素数は１０以上である。
　本明細書中における基が脂肪族部位を含む場合には、その脂肪族部位は直鎖、分岐鎖又は環状で飽和であっても不飽和であってもよく、例えばアルキル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニルを表し、これらは無置換であっても置換基を有していてもよい。また、アリール部位を含む場合には、そのアリール部位は、単環であっても縮合環であってもよく、無置換であっても置換基を有していてもよい。また、複素環部位を含む場合には、その複素環部位は環内にヘテロ原子（例えば、窒素原子、イオウ原子、酸素原子）を持つものであり、飽和環であっても、不飽和環であってもよく、単環であっても縮合環であってもよく、無置換であっても置換基を有していてもよく、環状のヘテロ原子で結合しても、炭素原子で結合してもよい。
　本発明における置換基とは、置換可能な基であればよく、例えば脂肪族基、アリール基、複素環基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、脂肪族オキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、脂肪族オキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環オキシカルボニル基、カルバモイル基、脂肪族スルホニル基、アリールスルホニル基、複素環スルホニル基、脂肪族スルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、複素環スルホニルオキシ基、スルファモイル基、脂肪族スルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、複素環スルホンアミド基、脂肪族アミノ基、アリールアミノ基、複素環アミノ基、脂肪族オキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、複素環オキシカルボニルアミノ基、脂肪族スルフィニル基、アリールスルフィニル基、脂肪族チオ基、アリールチオ基、ヒドロキシ基、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、脂肪族オキシアミノ基、アリールオキシアミノ基、カルバモイルアミノ基、スルファモイルアミノ基、ハロゲン原子、スルファモイルカルバモイル基、カルバモイルスルファモイル基、ホスフィニル基、ホスホリル基等を挙げることができる。
　前記一般式（ＴＳ－Ｉ）をさらに詳細に述べる。
　Ｒ91は水素原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基等の環状アルキル基等の環状アルキル基を含む、例えば、メチル基、ｉ－プロピル基、ｓ－ブチル基、ドデシル基、メトキシエトキシ基、ベンジル基）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む、例えば、アリル基）、アリール基（例えば、フェニル基、ｐ－メトキシフェニル基）ヘテロ環基（例えば２－テトラヒドフリル基、ピラニル基）、アシル基（例えばアセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基）、アルキルもしくはアルケニルオキシカルボニル基（例えばメキシカルボニル基、ヘキサデシルオキシカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル基、ｐ－メトキシフェノキシカルボニル基）、アルキルスルホニル基（例えばメタンスルホニル基、ブタンスルホニル基）、アリールスルホニル基（例えばベンゼンスルホニル基、ｐ－トルエンスルホニル基）、ホスフィノトリル基（例えばジメトキシホスフィノ基、ジフェノキシホスフィノ基）、ホスフィニル基（例えばジエチルホスフィニル基、ジフェニルホスフィニル基）、又は－Ｓｉ(Ｒ97)(Ｒ98)(Ｒ99)を表す。ここで、Ｒ97、Ｒ98、Ｒ99は同一でも異なってもいてもよく、それぞれアルキル基（例えばメチル基、エチル基、ｔ－ブチル基、ベンジル基）、アルケニル基（例えばアリル基）、アリール基（例えばフェニル基）、アルコキシ基（例えばメトキシ基、ブトキシ基）、アルケニルオキシ基（例えばアリルオキシ基）、又はアリールオキシ基（例えばフェノキシ基）を表す。
　－Ｘ91－は、－Ｏ－、－Ｓ－又は－Ｎ(－Ｒ100)－を表す。ここで、Ｒ100はＲ91と同義であり、好ましい範囲も同様である。Ｒ92、Ｒ93、Ｒ94、Ｒ95、Ｒ96は各々同一でも異なってもよく、それぞれ、水素原子又は置換基を表し、置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基等の環状アルキル基を含む。）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基、トリシクロアルケニル基等の環状アルケニル基を含む。）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ、アミノ基（アニリノ基を含む。）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルもしくはアリールスルフィニル基、アルキルもしくはアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールもしくはヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基が例として挙げられる。
　その中でも好ましい置換基としてはアルキル基（例えばメチル基、ｔ－ブチル基、ｔ－ヘキシル基、ベンジル基）、アルケニル基（アリール基）、アリール基（例えばフェニル基）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル基）、アルキルもしくはアルケニルスルホニル基（例えばメタンスルホニル基、ブタンスルホニル基）、アリールスルホニル基（例えば、ベンゼンスルホニル基、ｐ－ヒドロキシベンゼンスルホニル基）又は－Ｘ91－Ｒ91である。
　Ｒ91とＲ92、Ｒ100とＲ96、Ｒ91とＲ100は互いに結合して５～７員環（例えばクロマン環、モルホリン環）を形成していてもよい。さらに、Ｒ92とＲ93、Ｒ93とＲ94が互いに結合して、５～７員環（例えばクロマン環、インダン環）又はスピロ環、ビシクロ環を形成してもよい。但し、Ｒ91、Ｒ92、Ｒ93、Ｒ94、Ｒ95、Ｒ96、Ｒ100のすべてが水素原子であることはなく、総炭素数は１０以上であり、好ましくは総炭素数１６以上である。
　本発明に用いられる前記一般式（ＴＳ－Ｉ）で表される化合物は、特公昭６３－５０６９１号公報の一般式（Ｉ）、特公平２－３７５７５号公報の一般式（ＩＩＩａ）（ＩＩＩｂ）（ＩＩＩｃ）、同２－５０４５７号公報の一般式、同５－６７２２０号公報の一般式、同５－７０８０９の一般式（ＩＸ）、同６－１９５３４号公報の一般式、特開昭６２－２２７８８９号公報の一般式（Ｉ）、同６２－２４４０４６号公報の一般式（Ｉ）（ＩＩ）、特開平２－６６５４１号公報の一般式（Ｉ）（ＩＩ）、同２－１３９５４４号公報の一般式（ＩＩ）（ＩＩＩ）、同２－１９４０６２号公報の一般式（Ｉ）、同２－２１２８３６号公報の一般式（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）、同３－２００７５８号公報の一般式（ＩＩＩ）、同３－４８８４５号公報の一般式（ＩＩ）（ＩＩＩ）、同３－２６６８３６号公報の一般式（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）、同３－９６９４４０号公報の一般式（Ｉ）、同４－３３０４４０号公報の一般式（Ｉ）、同５－２９７５４１号公報の一般式（Ｉ）、同６－１３０６０２号公報の一般式、国際公開ＷＯ９１／１１７４９号パンフレットの一般式（１）、（２）、（３）、独国特許出願公開第４００８７８５Ａ１号明細書の一般式（Ｉ）、米国特許第４９３１３８２号明細書の一般式（ＩＩ）、欧州特許第２０３７４６Ｂ１号明細書の一般式（ａ）、欧州特許第２６４７３０Ｂ１号明細書の一般式（Ｉ）等で表される化合物を包含する。
　前記一般式（ＴＳ－Ｉ）で表される化合物としては、下記一般式（ＴＳ－ＩＡ）～（ＴＳ－ＩＧ）で表される化合物が挙げられ、本発明においてはこれらの構造の化合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
　前記一般式（ＴＳ－ＩＡ）～（ＴＳ－ＩＧ）において、Ｒ91～Ｒ97は一般式（ＴＳ－Ｉ）で定義したものと同じであり、好ましい範囲も同様である。Ｒa1～Ｒa4は水素原子又は脂肪族基を表し、Ｘ92及びＸ93は２価の連結基を表す。２価の連結基としては、例えば、アルキレン基、オキシ基、スルホニル基を表す。式中、同一分子中の同記号は同じであっても異なっていてもよい。
　前記一般式（ＴＳ－ＩＩ）中、Ｒ101、Ｒ102、Ｒ103、Ｒ104は各々独立に、水素原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基等の環状アルキル基を含む。）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基、トリシクロアルケニル基等の環状アルケニル基を含む。）を表し、Ｒ101とＲ102、Ｒ103とＲ104は結合し、５～７員環を形成してもよい。
　Ｘ101は水素原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基等の環状アルキル基を含む。）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基、トリシクロアルケニル基等の環状アルケニル基を含む。）基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキルもしくはアルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アルキルオキシカルボニルオキシ基、アルケニルオキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アルキルもしくはアルケニルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルもしくはアルケニルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、スルファモイル基、カルバモイル基、ヒドロキシ基又はオキシラジカル基を表す。
　Ｘ102は５～７員環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。
　前記一般式（ＴＳ－ＩＩ）をさらに詳細に述べる。
　式中、Ｒ101、Ｒ102、Ｒ103、Ｒ104は、水素原子、アルキル基（例えばメチル基、エチル基）、アルケニル基（例えばアリル基）であるが、好ましくはアルキル基である。
　Ｘ101は、水素原子、アルキル基（例えばメチル基、エチル基）、アルケニル基（例えば、アリル基）、アルキルオキシ基（例えばメトキシ基、オクチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基）、アルケニルオキシ基（例えばアリルオキシ基）、アルキルオキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル基、ヘキサデシルオキシカルボニル基）、アルケニルオキシカルボニル基(例えば、アリルオキシカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル基、ｐ－クロロフェノキシカルボニル基）、アシル基（例えばアセチル基、ピバロイル基、メタクリロイル基）、アシルオキシ基（例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基）、アルキルオキシカルボニルオキシ基（例えば、メトキシカルボニルオキシ基、オクチルオキシカルボニルオキシ基）、アルケニルオキシカルボニルオキシ基（例えば、アリルオキシカルボニルオキシ基）、アリールオキシカルボニルオキシ基（例えばフェノキシカルボニルオキシ基）、アルキルスルホニル基（例えばメタンスルホニル基、ブタンスルホニル基）、アルケニルスルホニル基（例えば、アリルスルホニル基）、アリールスルホニル基（例えばベンゼンスルホニル基、ｐ－トルエンスルホニル基）、アルキルスルフィニル基（例えばメタンスルフィニル基、オクタンスルフィニル基）、アルケニルスルフィニル基（例えば、アリルスルフィニル基）、アリールスルフィニル基（例えばベンゼンスルフィニル基、ｐ－トルエンスルフィニル基）、スルファモイル基（例えばジメチルスルファモイル基）、カルバモイル基（例えばジメチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基）、ヒドロキシ基又はオキシラジカル基を表す。
　Ｘ102は５～７員環（例えばピペリジン環、ピペラジン環）を形成するのに必要な非金属原子群を表す。
　前記一般式（ＴＳ－ＩＩ）においては、更に好ましくは、Ｒ103、Ｒ104、Ｒ105、Ｒ106が共に炭素数１～３のアルキル基であり、Ｘ101がオキシラジカル、炭素数１～１２のアルキル基、炭素数３～１２のアルケニル基、炭素数５～１２のシクロアルキル基、炭素数２～１４のアシル基、又は炭素数６～２０のアリール基であり、Ｘ102がシクロヘキサン環を形成するものである。
　前記一般式（ＴＳ－ＩＩ）は下記一般式（ＴＳ－ＩＩａ）で表される場合が特に好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
　式中、Ｘ101は前記一般式（ＴＳ－ＩＩ）におけるＸ101と同義であり、好ましい範囲も同様である。Ｒ200は１価の置換基を表す。１価の置換基としては上述した１価の置換基の例が挙げられる。
　本発明に用いられる前記一般式（ＴＳ－ＩＩ）で表される化合物は、特公平２－３２２９８号公報の一般式（Ｉ）、同３－３９２９６号公報の一般式（Ｉ）、同３－４０３７３号公報の一般式、特開平２－４９７６２号公報の一般式（Ｉ）、同２－２０８６５３号公報の一般式（ＩＩ）、同２－２１７８４５号公報の一般式（ＩＩＩ）、米国特許第４９０６５５５号明細書の一般式（Ｂ）、欧州特許出願公開第３０９４００Ａ２号明細書の一般式、同第３０９４０１Ａ１号明細書の一般式、同第３０９４０２Ａ１号明細書の一般式等で表される化合物を包含する。
　前記一般式（ＴＳ－ＩＩＩ）中、Ｒ105、Ｒ106は水素原子、脂肪族基、アシル基、脂肪族オキシカルボニル基、芳香族オキシカルボニル基、脂肪族スルホニル基、芳香族スルホニル基を表し、Ｒ107は脂肪族基、脂肪族オキシ基、芳香族オキシ基、脂肪族チオ基、芳香族チオ基、アシルオキシ基、脂肪族オキシカルボニルオキシ基、芳香族オキシカルボニルオキシ基、置換アミノ基、複素環基、ヒドロキシ基を表し、可能な場合にはＲ105とＲ106、Ｒ106とＲ107、Ｒ105とＲ107は互いに結合し、５～７員環を形成してもよいが、２，２，６，６－テトラアルキルピペリジン骨格を形成する場合を除く。但し、Ｒ105、Ｒ106の両方が水素原子であることはなく、総炭素数は７以上である。
　前記一般式（ＴＳ－ＩＩＩ）を更に詳細に述べる。
　式中、Ｒ105、Ｒ106は水素原子、脂肪族基（例えばメチル基、エチル基、ｔ－ブチル基、オクチル基、メトキシエトキシ基）、アシル基（例えばアセチル基、ピバロイル基、メタクリロイル基）、脂肪族オキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル基、ヘキサデシルオキシカルボニル基）、芳香族オキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル基）、脂肪族スルホニル基（例えばメタンスルホニル基、ブタンスルホニル基）、芳香族スルホニル基（例えば、フェニルスルホニル基）を表し、Ｒ107は脂肪族基（例えばメチル基、エチル基、ｔ－ブチル基、オクチル基、メトキシエトキシ基）、脂肪族オキシ基（例えばメトキシ基、オクチルオキシ基）、芳香族オキシ基（例えばフェノキシ基、ｐ－メトキシフェノキシ基）、脂肪族チオ基（例えばメチルチオ基、オクチルチオ基）、芳香族チオ基（例えばフェニルチオ基、ｐ－メトキシフェニルチオ基）、アシルオキシ基（例えばアセトキシ基、ピバロイルオキシ基）、脂肪族オキシカルボニルオキシ基（例えばメトキシカルボニルオキシ基、オクチルオキシカルボニルオキシ基）、芳香族オキシカルボニルオキシ基（例えばフェノキシカルボニルオキシ基）、置換アミノ基（置換基としては置換可能ならばよく、例えば脂肪族基、芳香族基、アシル基、脂肪族スルホニル基、芳香族スルホニル基等の置換したアミノ基）、複素環基（例えばピペリジン環、チオモルホリン環）、ヒドロキシ基を表し、可能な場合にはＲ105とＲ106、Ｒ106とＲ107、Ｒ105とＲ107は互いに結合し、５～７員環（例えばピペリジン環、ピラゾリジン環）を形成してもよい。但し、Ｒ105、Ｒ106の両方が水素原子であることはなく、総炭素数は７以上である。
　本発明に用いられる前記一般式（ＴＳ－ＩＩＩ）で表される化合物は、特公平６－９７３３２号公報の一般式（Ｉ）、特公平６－９７３３４号公報の一般式（Ｉ）、特開平２－１４８０３７号公報の一般式（Ｉ）、同２－１５０８４１号公報の一般式（Ｉ）、同２－１８１１４５号公報の一般式（Ｉ）、同３－２６６８３６号公報の一般式（Ｉ）、同４－３５０８５４号公報の一般式（ＩＶ）、同５－６１１６６号公報の一般式（Ｉ）等で表される化合物を包含する。
　前記一般式（ＴＳ－ＩＩＩ）で表される化合物としては、下記一般式（ＴＳ－ＩＩＩＡ）～（ＴＳ－ＩＩＩＤ）で表される化合物が挙げられ、本発明においてはこれらの構造の化合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
　前記一般式（ＴＳ－ＩＩＩＡ）～（ＴＳ－ＩＩＩＤ）において、Ｒ105～Ｒ106は前記一般式（ＴＳ－ＩＩＩ）で定義したものと同じであり、好ましい範囲も同様である。Ｒb1～Ｒb3はＲ105と同義であり、好ましい範囲も同様である。Ｒb4、Ｒb5、Ｒb6は脂肪族基を表す。Ｘ103は５～７員環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。
　前記一般式（ＴＳ－ＩＶ）中、Ｒ111、Ｒ112は脂肪族基を表し、Ｒ111とＲ112は互いに結合し、５～７員環を形成してもよい。ｎは０、１、２を表す。但しＲ111、Ｒ112の総炭素数は１０以上である。
　前記一般式（ＴＳ－ＩＶ）を更に詳細に述べる。
　前記一般式（ＴＳ－ＩＶ）中、Ｒ111、Ｒ112は脂肪族基（例えばメチル基、メトキシカルボニルエチル基、ドデシルオキシカルボニルエチル基）を表し、Ｒ111とＲ112は互いに結合し、５～７員環（例えばテトラヒドロチオフェン環、チオモルホリン環）を形成してもよい。ｎは０、１、２を表す。但し、Ｒ111、Ｒ112の総炭素数は１０以上である。
　本発明に用いられる前記一般式（ＴＳ－ＩＶ）で表される化合物は、特公平２－４４０５２号の一般式（Ｉ）、特開平３－４８２４２号公報の一般式（Ｔ）、同３－２６６８３６号公報の一般式（Ａ）、同５－３２３５４５号公報の一般式（Ｉ）（ＩＩ）（ＩＩＩ）、同６－１４８８３７号公報の一般式（Ｉ）、米国特許第４９３３２７１号明細書の一般式（Ｉ）等で表される化合物を包含する。
　前記一般式（ＴＳ－Ｖ）中、Ｒ121、Ｒ122は脂肪族オキシ基、芳香族オキシ基を表し、Ｒ123は脂肪族基、芳香族基、脂肪族オキシ基、芳香族オキシ基を表し、ｍは０又は１を表す。Ｒ121とＲ122、Ｒ121とＲ123は互いに結合し、５～８員環を形成してもよい。但し、Ｒ121、Ｒ122、Ｒ123の総炭素数は１０以上である。
　前記一般式（ＴＳ－Ｖ）を更に詳細に述べる。
　前記一般式（ＴＳ－Ｖ）中、Ｒ121、Ｒ122は脂肪族オキシ基（例えばメトキシ基、ｔ－オクチルオキシ基）、芳香族オキシ基（例えばフェノキシ基、２，４－ジ－ｔ－ブチルフェノキシ基）を表し、Ｒ123は脂肪族基（例えばメチル基、エチル基、ｔ－オクチル基）、芳香族基（例えばフェニル基、４－ｔ－ブチルフェニル基）、脂肪族オキシ基（例えばメトキシ基、ｔ－オクチルオキシ基）、芳香族オキシ基（例えばフェノキシ基、４－ｔ－ブチルフェノキシ基）を表し、ｍは０又は１を表す。Ｒ121とＲ122、Ｒ121とＲ123は互いに結合し、５～８員環を形成してもよい。但し、Ｒ121、Ｒ122、Ｒ123の総炭素数は１０以上である。
　本発明に用いられる前記一般式（ＴＳ－Ｖ）で表される化合物は、特開平３－２５４３７号公報の一般式（Ｉ）、同３－１４２４４４号公報の一般式（Ｉ）、米国特許第４７４９６４５号明細書の一般式、同第４９８０２７５号明細書の一般式等で表される化合物を包含する。
　前記一般式（ＴＳ－Ｉ）～（ＴＳ－Ｖ）のいずれかで表される化合物は、前記一般式（ＴＳ－Ｉ）、（ＴＳ－ＩＩ）、又は（ＴＳ－Ｖ）のいずれかで表される化合物から選ばれたものであることが好ましく、前記一般式（ＴＳ－Ｉ）又は（ＴＳ－ＩＩ）で表される化合物から選ばれたものがより好ましく、前記一般式（ＴＳ－ＩＩ）で表される化合物であることがさらに好ましい。前記一般式（ＴＳ－ＩＩ）で表される化合物としては、２，２，６，６－テトラアルキルピペリジン骨格からなるものが特に好ましい。
　前記一般式（ＴＳ－Ｉ）～（ＴＳ－Ｖ）のいずれかで表される化合物の具体的化合物例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。尚、前記一般式（ＴＳ－Ｉ）に該当する化合物には、ＴＩ－１～５６が、前記一般式（ＴＳ－ＩＩ）に該当する化合物には、ＴＩＩ－１～３６が、前記一般式（ＴＳ－ＩＩＩ）に該当する化合物には、ＴＩＩＩ－１～１３が、前記一般式（ＴＳ－ＩＶ）に該当する化合物には、ＴＩＶ－１～６が、前記一般式（ＴＳ－Ｖ）に該当する化合物には、ＴＶ－１～８が、参照番号として付されている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
　前記一般式（ＴＳ－Ｉ）～（ＴＳ－Ｖ）のいずれかで表される化合物として好ましくは、前記一般式（ＴＳ－Ｉ）、（ＴＳ－ＩＩ）又は（ＴＳ－Ｖ）のいずれかで表される化合物である。より好ましくは前記一般式（ＴＳ－Ｉ）又は（ＴＳ－ＩＩ）で表される化合物である。特に好ましくは前記一般式（ＴＳ－ＩＩ）で表される化合物である。
　前記一般式（ＴＳ－Ｉ）～（ＴＳ－Ｖ）のいずれかで表される化合物が２種以上含まれる場合、同一の群から２種以上併用しても良いし（例えば、前記一般式（ＴＳ－ＩＩ）で表される化合物を２種類使用する場合）、複数の群に亘って２種以上併用しても良い（例えば、前記一般式（ＴＳ－Ｉ）で表される化合物と前記一般式（ＴＳ－ＩＩ）で表される化合物をそれぞれ１種類ずつ使用する場合）。好ましくは、複数の群に亘って２種以上併用する場合である。
　本発明において、異なる構造を有する二種類以上の前記一般式（１）で表される化合物を併用してもよいし、前記一般式（１）で表される化合物とそれ以外の構造を有する一種類以上の紫外線吸収剤（紫外線安定剤）を併用してもよい。二種類（好ましくは三種類）の紫外線吸収剤を併用すると、広い波長領域の紫外線を吸収することができる。また、二種類以上の紫外線吸収剤を併用すると、紫外線吸収剤の分散状態が安定化するという作用もある。前記一般式（１）以外の構造を有する紫外線吸収剤として任意のものを使用できる。例えば、大勝靖一監修「高分子添加剤の開発と環境対策」（シーエムシー出版、２００３年）第２章、東レリサーチセンター調査研究部門編集「高分子用機能性添加剤の新展開」（東レリサーチセンター、１９９９年）2.3.1、などに記載されている紫外線吸収剤が挙げられる。例えば、紫外線吸収剤の構造として知られているトリアジン系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、メロシアニン系、シアニン系、ジベンゾイルメタン系、桂皮酸系、アクリレート系、安息香酸エステル系シュウ酸ジアミド系などの化合物が挙げられる。例えば、ファインケミカル、２００４年５月号、２８～３８ページ、東レリサーチセンター調査研究部門発行「高分子用機能性添加剤の新展開」（東レリサーチセンター、１９９９年）９６～１４０ページ、大勝靖一監修「高分子添加剤の開発と環境対策」（シーエムシー出版、２００３年）５４～６４ページなどに記載されている。
　好ましくは、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、サリチル酸系、アクリレート系、トリアジン系の化合物である。より好ましくはベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、トリアジン系の化合物である。特に好ましくはベンゾトリアゾール系、トリアジン系の化合物である。
　前記ベンゾトリアゾール系化合物としては、その有効吸収波長が約２７０～３８０ｎｍで、下記一般式（IIａ）、（IIｂ）または（IIｃ）のいずれかで表される化合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
［前記一般式（IIａ）中、
　Ｒ１は、水素原子、１～２４個の炭素原子を有するアルキル、アルキル部分に１～４個の炭素原子を有するフェニルアルキル、５～８個の炭素原子を有するシクロアルキル、または下記一般式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
 （式中、Ｒ４及びＲ５は、互いに独立して１～５個の炭素原子を有するアルキルを表す。Ｒ４は、ＣｎＨ２ｎ＋１－ｍ基と一緒になって、５～１２個の炭素原子を有するシクロアルキル基を形成してもよい。ｍは１又は２を表す。ｎは２～２０の整数を表す。Ｍは、－ＣＯＯＲ６（ここで、Ｒ６は、水素原子、１～１２個の炭素原子を有するアルキル、アルキル部分及びアルコキシ部分に１～２０個の炭素原子を有するアルコキシアルキル、またはアルキル部分に１～４個の炭素原子を有するフェニルアルキルである。）を表す。）
で表される基であり、
　Ｒ２は、水素原子、ハロゲン原子、１～１８個の炭素原子を有するアルキル、及びアルキル部分に１～４個の炭素原子を有するフェニルアルキルであり、
　Ｒ３は、水素原子、塩素原子、１～４個の炭素原子を有するアルキルもしくはアルコキシ、または－ＣＯＯＲ６（ここで、Ｒ６は先に規定される通りである。）である。
　但し、Ｒ１及びＲ２のうちの少なくとも１つは、水素原子以外である。］
［前記一般式（IIｂ）中、
　Ｔは、水素原子または１～６個の炭素原子を有するアルキルであり、
　Ｔ１は、水素原子、塩素原子、または１～４個の炭素原子を有するアルキルもしくはアルコキシであり、
　ｎは１又は２であり、
　ｎが１のときＴ２は、塩素原子、－ＯＴ３、または式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
 であり、
　また、ｎが２のときＴ２は、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
 、又は－Ｏ－Ｔ９－Ｏ－の基である。
（ここで、Ｔ３は、水素原子、１～１８個の炭素原子を有しそして非置換であるか、または１～３個のヒドロキシル基によってもしくは－ＯＣＯＴ６によって置換されるアルキル、３～１８個の炭素原子を有し、－Ｏ－または－ＮＴ６－によって連続的炭素－炭素結合が１回または数回中断され、そして非置換であるか、またはヒドロキシルもしくは－ＯＣＯＴ６によって置換されるアルキル、５～１２個の炭素原子を有しそして非置換であるか、またはヒドロキシル及び／又は１～４個の炭素原子を有するアルキルによって置換されるシクロアルキル、２～１８個の炭素原子を有しそして非置換であるか、またはヒドロキシルによって置換されるアルケニル、アルキル部分に１～４個の炭素原子を有するフェニルアルキル、または、－ＣＨ２ＣＨ(ＯＨ)－Ｔ７もしくは
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
 であり、
　Ｔ４及びＴ５は、互いに独立して、水素原子、１～１８個の炭素原子を有するアルキル、３～１８個の炭素原子を有しそして－Ｏ－または－ＮＴ６－によって連続的炭素－炭素結合が１回または数回中断されるアルキル、５～１２個の炭素原子を有するシクロアルキル、フェニル、１～４個の炭素原子を有するアルキルによって置換されるフェニル、３～８個の炭素原子を有するアルケニル、アルキル部分に１～４個の炭素原子を有するフェニルアルキル、または２～４個の炭素原子を有するヒドロキシアルキルであり、
　Ｔ６は、水素原子、１～１８個の炭素原子を有するアルキル、５～１２個の炭素原子を有するシクロアルキル、３～８個の炭素原子を有するアルケニル、フェニル、１～４個の炭素原子を有するアルキルによって置換されるフェニル、アルキル部分に１～４個の炭素原子を有するフェニルアルキルであり、
　Ｔ７は、水素原子、１～１８個の炭素原子を有するアルキル、非置換であるか、またはヒドロキシルによって置換されるフェニル、アルキル部分に１～４個の炭素原子を有するフェニルアルキル、または－ＣＨ２ＯＴ８であり、
　Ｔ８は、１～１８個の炭素原子を有するアルキル、３～８個の炭素原子を有するアルケニル、５～１０個の炭素原子を有するシクロアルキル、フェニル、１～４個の炭素原子を有するアルキルによって置換されるフェニル、または、アルキル部分に１～４個の炭素原子を有するフェニルアルキルであり、
　Ｔ９は、２～８個の炭素原子を有するアルキレン、４～８個の炭素原子を有するアルケニレン、４個の炭素原子を有するアルキニレン、シクロヘキシレン、２～８個の炭素原子を有しそして－Ｏ－によって連続的炭素－炭素結合が１回または数回中断されるアルキレン、または－ＣＨ２ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ２Ｏ－Ｔ１１－ＯＣＨ２ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ２－、もしくは－ＣＨ２－Ｃ(ＣＨ２ＯＨ)２－ＣＨ２－であり、
　Ｔ１０は、２～２０個の炭素原子を有しそして－Ｏ－によって連続的炭素－炭素結合が１回もしくは数回中断されることができるアルキレン、またはシクロヘキシレンであり、
　Ｔ１１は、２～８個の炭素原子を有するアルキレン、２～１８個の炭素原子を有しそして－Ｏ－によって連続的炭素－炭素結合が１回もしくは数回中断されるアルキレン、１，３－シクロヘキシレン、１，４－シクロヘキシレン、１，３－フェニレン、もしくは１，４－フェニレンであり、または、Ｔ１０、及びＴ６は、２個の窒素原子と一緒になって、ピペラジン環になる。）］
［前記一般式（IIｃ）中、Ｒ’２は、Ｃ１～Ｃ１２アルキルであり、そしてｋは１～４の数である。］
　前記一般式（IIａ）～（IIｃ）のいずれかで表される化合物の代表例としては、２－（２’－ヒドロキシ－５’－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－５’－ｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－３’－ｔ－ブチル－５’－メチルフェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－３’，５’－ジ－ｔ－ブチルフェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－３’－ドデシル－５’－メチルフェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－３’，５’－ジ－ｔ－アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－５’－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－４’－オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－３’－（３，４，５，６－テトラヒドロフタルイミジルメチル）－５’－メチルベンジル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２－（３’－ｓｅｃ－ブチル－５’－ｔ－ブチル－２’－ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（３’，５’－ビス－（α，α－ジメチルベンジル）－２’－ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（３’－ｔ－ブチル－２’－ヒドロキシ－５’－（２－オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）－５－クロロ－ベンゾトリアゾール、２－（３’－ｔ－ブチル－５’－［２－（２－エチルヘキシルオキシ）－カルボニルエチル］－２’－ヒドロキシフェニル）－５－クロロ－ベンゾトリアゾール、２－（３’－ｔ－ブチル－２’－ヒドロキシ－５’－（２－メトキシカルボニルエチル）フェニル）－５－クロロ－ベンゾトリアゾール、２－（３’－ｔ－ブチル－２’－ヒドロキシ－５’－（２－メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２－（３’－ｔ－ブチル－２’－ヒドロキシ－５’－（２－オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２－（３’－ｔ－ブチル－５’－［２－（２－エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］－２’－ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（３’－ドデシル－２’－ヒドロキシ－５’－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（３’－ｔ－ブチル－２’－ヒドロキシ－５’－（２－イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾール、２，２’－メチレン－ビス［４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）－６－ベンゾトリアゾール－２－イルフェノール］、２－［３’－ｔ－ブチル－５’－（２－メトキシカルボニルエチル）－２’－ヒドロキシフェニル］－２Ｈ－ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換生成物；
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
 （式中、Ｒ＝３’－ｔｅｒｔ－ブチル－４’－ヒドロキシ－５’－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イルフェニル、２－［２’－ヒドロキシ－３’－（α，α－ジメチルベンジル）－５’－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）－フェニル］ベンゾトリアゾール；２－［２’－ヒドロキシ－３’－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）－５’－（α，α－ジメチルベンジル）－フェニル］ベンゾトリアゾール等を挙げることができる。
　前記トリアジン系化合物としては、その有効吸収波長が約２７０～３８０ｎｍで、下記一般式（III）で表される化合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
［前記一般式（III）中、
　ｕは１又は２であり、そしてｒは１～３の整数であり、
　置換基Ｙ１は、互いに独立して、水素原子、ヒドロキシル、フェニルもしくはハロゲン、ハロゲノメチル、１～１２個の炭素原子を有するアルキル、１～１８個の炭素原子を有するアルコキシ、－ＣＯＯ－（Ｃ１～Ｃ１８アルキル）によって置換される１～１８個の炭素原子を有するアルコキシである。
　ｕが１のときＹ２は、１～１８個の炭素原子を有するアルキル、非置換であるか、またはヒドロキシル、ハロゲン、１～１８個の炭素原子を有するアルキルもしくはアルコキシによって置換されるフェニル；
　１～１２個の炭素原子を有しそして－ＣＯＯＨ、－ＣＯＯＹ８、－ＣＯＮＨ２、－ＣＯＮＨＹ９、－ＣＯＮＹ９Ｙ１０、－ＮＨ２、－ＮＨＹ９、－ＮＹ９Ｙ１０、－ＮＨＣＯＹ１１、－ＣＮ、及び／又は－ＯＣＯＹ１１によって置換されるアルキル；
　４～２０個の炭素原子を有し、１個以上の酸素原子によって連続的炭素－炭素結合が中断されそして非置換であるか、またはヒドロキシルもしくは１～１２個の炭素原子を有するアルコキシによって置換されるアルキル、３～６個の炭素原子を有するアルケニル、グリシジル、非置換であるか、またはヒドロキシル、１～４個の炭素原子を有するアルキル及び／又は－ＯＣＯＹ１１によって置換されるシクロヘキシル、アルキル部分に１～５個の炭素原子を有しそして非置換であるか、またはヒドロキシル、塩素及び／又はメチルによって置換されるフェニルアルキル、－ＣＯＹ１２もしくは－ＳＯ２Ｙ１３である。
　また、ｕが２のときＹ２は、２～１６個の炭素原子を有するアルキレン、４～１２個の炭素原子を有するアルケニレン、キシリレン、３～２０個の炭素原子を有し、１個以上の－Ｏ－原子によって連続的炭素－炭素結合が中断され、及び／又はヒドロキシルによって置換されるアルキレン、－ＣＨ２ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ２－Ｏ－Ｙ１５－ＯＣＨ２ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ２、－ＣＯ－Ｙ１６－ＣＯ－、－ＣＯ－ＮＨ－Ｙ１７－ＮＨ－ＣＯ－、または－(ＣＨ２)ｍ－ＣＯ２－Ｙ１８－ＯＣＯ－(ＣＨ２)ｍである。
（ここで、
　ｍは、１、２または３であり、
　Ｙ８は、１～１８個の炭素原子を有するアルキル、３～１８個の炭素原子を有するアルケニル、３～２０個の炭素原子を有し、１個以上の酸素もしくは硫黄原子または－ＮＴ６－によって連続的炭素－炭素結合が中断され、及び／又はヒドロキシルによって置換されるアルキル、１～４個の炭素原子を有しそして－Ｐ(Ｏ)(ＯＹ１４)２、－ＮＹ９Ｙ１０、もしくは－ＯＣＯＹ１１及び／又はヒドロキシルによって置換されるアルキル、３～１８個の炭素原子を有するアルケニル、グリシジル、またはアルキル部分に１～５個の炭素原子を有するフェニルアルキルであり、
　Ｙ９及びＹ１０は、互いに独立して、１～１２個の炭素原子を有するアルキル、３～１２個の炭素原子を有するアルコキシアルキル、４～１６個の炭素原子を有するジアルキルアミノアルキル、もしくは５～１２個の炭素原子を有するシクロヘキシルであり、または、Ｙ９及びＹ１０は、一緒になって３～９個の炭素原子を有するアルキレン、オキサアルキレンまたはアザアルキレンであってもよく、
　Ｙ１１は、１～１８個の炭素原子を有するアルキル、２～１８個の炭素原子を有するアルケニル、またはフェニルであり、
　Ｙ１２は、１～１８個の炭素原子を有するアルキル、２～１８個の炭素原子を有するアルケニル、フェニル、１～１２個の炭素原子を有するアルコキシ、フェノキシ、１～１２個の炭素原子を有するアルキルアミノ、またはフェニルアミノであり、
　Ｙ１３は、１～１８個の炭素原子を有するアルキル、フェニル、またはアルキル基に１～８個の炭素原子を有するアルキルフェニルであり、
　Ｙ１４は、１～１２個の炭素原子を有するアルキル、またはフェニルであり、
　Ｙ１５は、２～１０個の炭素原子を有するアルキレン、フェニレン、または－フェニレン－Ｍ－フェニレン－（ここで、Ｍは、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－、－ＣＨ２－または－Ｃ(ＣＨ３)２－である。）であり、
　Ｙ１６は、２～１０個の炭素原子を有するアルキレン、オキサアルキレンまたはチアアルキレン、フェニレン、または２～６個の炭素原子を有するアルケニレンであり、
　Ｙ１７は、２～１０個の炭素原子を有するアルキレン、フェニレン、またはアルキル部分に１～１１個の炭素原子を有するアルキルフェニレンであり、そして
　Ｙ１８は、２～１０個の炭素原子を有するアルキレン、または４～２０個の炭素原子を有しそして酸素によって連続的炭素－炭素結合が１回もしくは数回中断されるアルキレンである。）］
　前記一般式（III）で表される化合物の代表例としては、２－（４－ブトキシ－２－ヒドロキシフェニル）－４，６－ジ（４－ブトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２－（４－ブトキシ－２－ヒドロキシフェニル）－４，６－ジ（２，４－ジブトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ジ（４－ブトキシ－２－ヒドロキシフェニル）－６－（４－ブトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ジ（４－ブトキシ－２－ヒドロキシフェニル）－６－（２，４－ジブトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４，６－トリス（２－ヒドロキシ－４－オクチルオキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２－（２－ヒドロキシ－４－オクチルオキシフェニル）－４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン、２－（２，４－ジヒドロキシフェニル）－４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（２－ヒドロキシ－４－プロピルオキシフェニル）－６－（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン、２－（２－ヒドロキシ－４－オクチルオキシフェニル）－４，６－ビス（４－メチルフェニル）－１，３，５－トリアジン、２－（２－ヒドロキシ－４－ドデシルオキシフェニル）－４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン、２－（２－ヒドロキシ－４－トリデシルオキシフェニル）－４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン、２－［２－ヒドロキシ－４－（２－ヒドロキシ－３－ブチルオキシプロポキシ）フェニル］－４，６－ビス（２，４－ジメチル）－１，３，５－トリアジン、２－［２－ヒドロキシ－４－（２－ヒドロキシ－３－オクチルオキシプロピルオキシ）フェニル］－４，６－ビス（２，４－ジメチル）－１，３，５－トリアジン、２－［４－（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ－２－ヒドロキシプロポキシ）－２－ヒドロキシフェニル］－４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン、２－［２－ヒドロキシ－４－（２－ヒドロキシ－３－ドデシルオキシプロポキシ）フェニル］－４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン、２－（２－ヒドロキシ－４－ヘキシルオキシ）フェニル－４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン、２－（２－ヒドロキシ－４－メトキシフェニル）－４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン、２，４，６－トリス（２－ヒドロキシ－４－（３－ブトキシ－２－ヒドロキシプロポキシ）フェニル）－１，３，５－トリアジン、２－（２－ヒドロキシフェニル）－４－（４－メトキシフェニル）－６－フェニル－１，３，５－トリアジン、２－｛２－ヒドロキシ－４－［３－（２－エチルヘキシル－１－オキシ）－２－ヒドロキシ－プロピルオキシ］フェニル｝－４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン、２－（２－ヒドロキシ－４－（２－エチルヘキシル）オキシ）フェニル－４，６－ジ（４－フェニル）フェニル－１，３，５－トリアジン等を挙げることができる。
　前記ベンゾフェノン系化合物としては、その有効吸収波長が約２７０～３８０ｎｍである化合物が好ましく、その代表例としては２，４－ジヒドロキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－オクチルオキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－デシルオキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－ドデシルオキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－ベンジルオキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－（２－ヒドロキシ－３－メタクリルオキシプロポキシ）ベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシ－５－スルホベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシ－５－スルホベンゾフェノントリヒドレート、２－ヒドロキシ－４－メトキシ－２’－カルボキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－オクタデシロキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－ジエチルアミノ－２’－ヘキシルオキシカルボニルベンゾフェノン、２，２’－ジヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’－テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’－ジヒドロキシ－４，４’－ジメトキシベンゾフェノン、１，４－ビス（４－ベンジルオキシ－３－ヒドロキシフェノキシ）ブタン等を挙げることができる。
　前記サリチル酸系化合物としては、その有効吸収波長が約２９０～３３０ｎｍである化合物が好ましく、その代表例としてはフェニルサリシレート、４－ｔ－ブチルフェニルサリシレート、４－オクチルフェニルサリシレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４－ｔ－ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル　３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシサリシレート、ヘキサデシル　３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシサリシレートなどを挙げることができる。
　前記アクリレート系化合物としては、その有効吸収波長が約２７０～３５０ｎｍである化合物が好ましく、その代表例としては２－エチルヘキシル　２－シアノ－３，３－ジフェニルアクリレート、エチル　２－シアノ－３，３－ジフェニルアクリレート、イソオクチル　２－シアノ－３，３－ジフェニルアクリレート、ヘキサデシル　２－シアノ－３－（４－メチルフェニル）アクリレート、メチル　２－シアノ－３－メチル－３－（４－メトキシフェニル）シンナメート、ブチル　２－シアノ－３－メチル－３－（４－メトキシフェニル）シンナメート、メチル　２－カルボメトキシ－３－（４－メトキシフェニル）シンナメート２－シアノ－３－（４－メチルフェニル）アクリル酸塩、１，３－ビス（２’－シアノ－３，３’－ジフェニルアクリロイル）オキシ）－２，２－ビス（（（２’－シアノ－３，３’－ジフェニルアクリロイル）オキシ）メチル）プロパン、Ｎ－（２－カルボメトキシ－２－シアノビニル）－２－メチルインドリン等を挙げることができる。
　前記シュウ酸ジアミド系化合物としては、その有効吸収波長が約２５０～３５０ｎｍであるものが好ましく、その代表例としては４，４’－ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’－ジオクチルオキシ－５，５’－ジ－ｔ－ブチルオキサニリド、２，２’－ジドデシルオキシ－５，５’－ジ－ｔ－ブチルオキサニリド、２－エトキシ－２’－エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’－ビス（３－ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２－エトキシ－５－ｔ－ブチル－２’－エチルオキサニリド、２－エトキシ－２’－エチル－５，４’－ジ－ｔ－ブチルオキサニリド等を挙げることができる。
　本発明に用いられる前記一般式（１）で表される紫外線吸収剤と前記一般式（ＴＳ－Ｉ）～（ＴＳ－Ｖ）のいずれかで表される化合物との混合比率は、１：０～０：１の任意の比率で混合することができる。
　前記一般式（１）で表される紫外線吸収剤の総含有量は、紫外線吸収剤組成物全体に対して、好ましくは０質量％より大きく７０質量％以下の場合であり、より好ましくは１０質量％以上６０質量％以下の場合であり、特に好ましくは３０質量％以上５０質量％以下の場合である。
　また、前記一般式（ＴＳ－Ｉ）～（ＴＳ－Ｖ）のいずれかで表される化合物の総含有量は、紫外線吸収剤組成物全体に対して、好ましくは０質量％より大きく８０質量％以下の場合であり、より好ましくは３０質量％以上７０質量％以下の場合であり、特に好ましくは４０質量％以上６０質量％以下の場合である。
　本発明に用いられる前記一般式（１）で表される化合物および前記一般式（ＴＳ－Ｉ）～（ＴＳ－Ｖ）のいずれかで表される化合物は、それぞれ単独で存在していてもよいが、あらかじめあるいは組成物中で結合を形成することで、互いに連結していてもよい。また、それぞれ重合性基を結合させることでモノマーとし、これを重合させることで前記一般式（１）で表される化合物と前記一般式（ＴＳ－Ｉ）～（ＴＳ－Ｖ）のいずれかで表される化合物とを単位構造に含む共重合体となってもよい。これらが結合していない別のモノマーを併用して共重合体となってもよい。好ましくは、それぞれ単量体として組成物になっていたものが、所望の時に重合をおこなって共重合体を形成する場合である。
　本発明の紫外線吸収剤組成物は、いずれの形態のものであってもよい。例えば、液体分散物、溶液、高分子材料などが挙げられる。また、本発明の紫外線吸収剤組成物は、前記一般式（１）で表される化合物および前記（ＴＳ－Ｉ）～（ＴＳ－Ｖ）のいずれかで表される化合物の他に、目的に応じてその他の成分として適宜任意の化合物を含有することができる。
　本発明の紫外線吸収剤組成物は、分散媒体に分散された分散物の状態が好適である。以下、本発明の紫外線吸収剤分散物について説明する。
　本発明の紫外線吸収剤組成物を分散する媒体はいずれのものであってもよい。例えば、水、有機溶剤、樹脂、樹脂の溶液などが挙げられる。これらを単独で用いてもよいし、組み合わせて使用してもよい。
　本発明に用いられる分散媒体の有機溶剤としては、例えば、ペンタン、ヘキサン、オクタンなどの炭化水素系、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族系、ジエチルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテルなどのエーテル系、メタノール、エタノール、イソプロパノールなどのアルコール系、アセトン、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系、メチルエチルケトンなどのケトン系、アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル系、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドンなどのアミド系、ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド系、トリエチルアミン、トリブチルアミンなどのアミン系、酢酸、プロピオン酸などのカルボン酸系、塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン系、テトラヒドロフラン、ピリジンなどのヘテロ環系、などが挙げられる。これらを任意の割合で組み合わせて使用することもできる。
　本発明に用いられる分散媒体の樹脂としては、従来公知の各種成形体、シート、フィルム等の製造に従来から使用されている熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂が挙げられる。熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、スチレン－アクリロニトリル系樹脂、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、エチレン－酢酸ビニル系共重合体、エチレン－ビニルアルコール系樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート樹脂（ＰＢＴ）、液晶ポリエステル樹脂（ＬＣＰ）、ポリアセタール樹脂（ＰＯＭ）、ポリアミド樹脂（ＰＡ）、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂およびポリフェニレンサルファイド樹脂（ＰＰＳ）等が挙げられ、これらは一種または二種以上のポリマーブレンドあるいはポリマーアロイとして使用される。また、これらの樹脂は、ナチュラル樹脂にガラス繊維、炭素繊維、半炭化繊維、セルロース系繊維、ガラスビーズ等のフィラーや難燃剤等を含有させた熱可塑性成形材料としても使用される。また、必要に応じて従来使用されている樹脂用の添加剤、例えば、ポリオレフィン系樹脂微粉末、ポリオレフィン系ワックス、エチレンビスアマイド系ワックス、金属石鹸等を単独であるいは組み合わせて使用することもできる。
　熱可塑性樹脂とともに用いる場合、紫外線吸収剤は、熱可塑性樹脂の重合過程で添加してもよく、重合後に添加しても良い。重合後の熱可塑性樹脂に溶融状態で添加する場合、紫外線吸収剤は単体で添加してもよく、また溶媒等に分散した状態で添加しても良い。この際使用する溶媒は混練する樹脂を劣化させず、紫外線吸収剤を分散させるものであればよい。
　こうした溶融混合は、一軸あるいは二軸押し出し機などの溶融混合設備を使用して、重合体の溶融温度以上の温度で、紫外線吸収剤を添加することにより可能である。分散液を使用した場合は分散液を加圧下で添加した後、有機溶媒を除去することにより、実行可能である。
　紫外線吸収剤は製膜時に熱可塑性樹脂の溶融状態に添加し混練してもよい。この方法は、熱履歴を少なくすることで熱可塑性樹脂の劣化を抑えることができるため好ましい方法である。
　溶融重合可能な熱可塑性樹脂、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートといった熱可塑性ポリエステルの場合には、紫外線吸収剤の分散液を重合前、もしくは重合中に添加しても良い。紫外線吸収剤は単体で添加してもよくまたあらかじめ溶媒で分散した状態で添加してもよい。この場合の溶媒は重合体の原料であるものが好ましい。重合反応は通常の重合体の重合条件に準じて実施すればよい。
　上記の方法で得られた０．５～５０質量％の比較的高い濃度で紫外線吸収剤を含有する熱可塑性樹脂をマスターバッチとして、さらに紫外線吸収剤未添加の熱可塑性樹脂に混練させることでも、目的とする紫外線吸収剤含有ポリマーを得ることができる。
　熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等が挙げられ、これらはナチュラル樹脂のほかガラス繊維、炭素繊維、半炭化繊維、セルロース系繊維、ガラスビーズ等のフィラーや難燃剤を含有させた熱硬化性成形材料としても使用することができる。
　本発明の紫外線吸収剤分散物には、分散剤、泡防止剤、保存剤、凍結防止剤、界面活性剤などを合わせて用いることもできる。その他に任意の化合物を合わせて含んでいてもよい。例えば、染料、顔料、赤外線吸収剤、香料、重合性化合物、ポリマー、無機物、金属などが挙げられる。
　本発明の紫外線吸収剤分散物を得るための装置として、大きな剪断力を有する高速撹拌型分散機、高強度の超音波エネルギーを与える分散機などを使用できる。具体的には、コロイドミル、ホモジナイザー、毛細管式乳化装置、液体サイレン、電磁歪式超音波発生機、ポールマン笛を有する乳化装置などがある。本発明で使用するのに好ましい高速撹拌型分散機は、ディゾルバー、ポリトロン、ホモミキサー、ホモブレンダー、ケデイーミル、ジェットアジターなど、分散作用する要部が液中で高速回転（５００～１５，０００ｒｐｍ。好ましくは２，０００～４，０００ｒｐｍ）するタイプの分散機である。本発明で使用する高速撹拌型分散機は、ディゾルバーないしは高速インペラー分散機とも呼ばれ、特開昭５５－１２９１３６号公報にも記載されているように、高速で回転する軸に鋸歯状のプレートを交互に上下方向に折り曲げたインペラーを着装して成るものも好ましい一例である。
　疎水性化合物を含む乳化分散物を調製する際には、種々のプロセスに従うことができる。例えば、疎水性化合物を有機溶媒に溶解するときは、高沸点有機物質、水非混和性低沸点有機溶媒または水混和性有機溶媒の中から任意に選択された一種、又は二種以上の任意の複数成分混和物に溶解し、次いで界面活性化合物の存在化で、水中あるいは親水性コロイド水溶液中に分散せしめる。疎水性化合物を含む水不溶性相と水性相との混合方法としては、撹拌下に水性相中に水不溶性相を加えるいわゆる順混合法でも、その逆の逆混合法でもよい。
　本発明の紫外線吸収剤分散物中における前記紫外線吸収剤組成物の含有量は、使用目的と使用形態によって異なるため一義的に定めることはできないが、使用する目的に応じて任意の濃度であってよい。好ましくは紫外線吸収剤分散物の全量に対して０．００１～５０質量％であり、より好ましくは０．０１～２０質量％である。
　また、本発明の紫外線吸収剤組成物は、液体状の媒体に溶解された溶液の状態が好適である。以下、本発明の紫外線吸収剤溶液について説明する。
　本発明の紫外線吸収剤組成物を溶解する液体はいずれのものであってもよい。例えば、水、有機溶剤、樹脂、樹脂の溶液などが挙げられる。有機溶剤、樹脂、樹脂の溶液の例としては、上述の分散媒体として記載したものが挙げられる。これらを単独で用いてもよいし、組み合わせて使用してもよい。
　本発明の紫外線吸収剤組成物の溶液は、その他に任意の化合物を合わせて含んでいてもよい。例えば、染料、顔料、赤外線吸収剤、香料、重合性化合物、ポリマー、無機物、金属などが挙げられる。本発明の紫外線吸収剤組成物以外は必ずしも溶解していなくてもよい。
　本発明の紫外線吸収剤溶液における前記紫外線吸収剤組成物の含有量は、使用目的と使用形態によって異なるため一義的に定めることはできないが、使用する目的に応じて任意の濃度であってよい。好ましくは溶液の全量に対して０．００１～３０質量％であり、より好ましくは０．０１～１０質量％である。あらかじめ高濃度で溶液を作製しておき、所望の時に希釈して使用することもできる。希釈溶媒としては上述の溶媒から任意に選択できる。
　本発明の高分子材料の調製には、その高分子組成物が用いられる。本発明に用いられる高分子組成物は、後述する高分子物質に本発明の紫外線吸収剤組成物を添加してなる。
　本発明の紫外線吸収剤組成物は、様々な方法で高分子物質に含有させることができる。本発明の紫外線吸収剤組成物が高分子物質との相溶性を有する場合は、本発明の紫外線吸収剤組成物を高分子物質に直接添加することができる。高分子物質との相溶性を有する補助溶媒に、本発明の紫外線吸収剤組成物を溶解し、その溶液を高分子物質に添加してもよい。本発明の紫外線吸収剤組成物を高沸点有機溶媒やポリマー中に分散し、その分散物を高分子物質に添加してもよい。
　高沸点有機溶媒の沸点は、１８０℃以上であることが好ましく、２００℃以上であることがさらに好ましい。高沸点有機溶媒の融点は、１５０℃以下であることが好ましく、１００℃以下であることがさらに好ましい。高沸点有機溶媒の例には、リン酸エステル、ホスホン酸エステル、安息香酸エステル、フタル酸エステル、脂肪酸エステル、炭酸エステル、アミド、エーテル、ハロゲン化炭化水素、アルコールおよびパラフィンが含まれる。リン酸エステル、ホスホン酸エステル、フタル酸エステル、安息香酸エステルおよび脂肪酸エステルが好ましい。
　本発明の紫外線吸収剤組成物の添加方法については、特開昭５８－２０９７３５号、同６３－２６４７４８号、特開平４－１９１８５１号、同８－２７２０５８号の各公報および英国特許第２０１６０１７Ａ号明細書を参考にできる。
　本発明の紫外線吸収剤溶液における前記紫外線吸収剤組成物の含有量は、使用目的と使用形態によって異なるため一義的に定めることはできないが、使用する目的に応じて任意の濃度であってよい。好ましくは高分子材料中０．００１～１０質量％であり、より好ましくは０．０１～５質量％である。
　また、本発明の紫外線吸収剤組成物は、高分子材料に好ましく用いられる。以下、本発明の高分子材料について説明する。
　本発明においては、本発明の紫外線吸収剤組成物のみで実用的には十分な紫外線遮蔽効果が得られるものの、更に厳密を要求する場合には隠蔽力の強い白色顔料、例えば酸化チタンなどを併用してもよい。また、外観、色調が問題となる時、あるいは好みによって微量（０．０５質量％以下）の着色剤を併用することができる。また、透明あるいは白色であることが重要である用途に対しては蛍光増白剤を併用してもよい。蛍光増白剤としては市販のものや特開２００２－５３８２４号公報記載の一般式［１］や具体的化合物例１～３５などが挙げられる。
　前記高分子組成物に用いられる高分子物質について説明する。高分子物質としては、天然又は合成ポリマーもしくはコポリマーである。例えば以下のものが挙げられる。
＜１＞　モノオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテ－１－エン、ポリ－４－メチルペンテ－１－エン、ポリビニルシクロヘキサン、ポリイソプレン又はポリブタジエン、並びにシクロオレフィン、例えばシクロペンテン又はノルボルネンのポリマー、ポリエチレン（所望により架橋され得る）、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度及び高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ－ＨＭＷ）、高密度及び超高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ－ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、（ＶＬＤＰＥ）及び（ＵＬＤＰＥ）。
　ポリオレフィン、すなわち前の段落において例示したモノオレフィンのポリマー、好ましくはポリエチレン及びポリプロピレンは、異なる方法によりそしてとりわけ以下の方法により調製され得る：
ａ）ラジカル重合（通常は高圧下において及び高められた温度において）。
ｂ）通常、周期表のＩＶｂ、Ｖｂ、ＶＩｂ又はＶＩＩＩ群の金属の一つ又はそれ以上を含む触媒を使用した触媒重合。これらの金属は通常、一つ又はそれ以上の配位子、典型的にはπ－又はσ－配位し得るオキシド、ハロゲン化物、アルコレート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニル及び／又はアリールを有する。これらの金属錯体は遊離形態であるか、又は基材に、典型的には活性化塩化マグネシウム、チタン（ＩＩＩ）クロリド、アルミナ又は酸化ケイ素に固定され得る。これらの触媒は、重合媒体中に可溶又は不溶であり得る。該触媒は重合においてそのまま使用され得、又は他の活性化剤、典型的には金属アルキル、金属ヒドリド、金属アルキルハライド、金属アルキルオキシドまたは金属アルキルオキサンであって、該金属が周期表のＩａ、ＩＩａ及び／又はＩＩＩａ群の元素であるものが使用されることができる。該活性化剤は、他のエステル、エーテル、アミン又はシリルエーテル基で都合良く変性され得る。これらの触媒系は、通常、フィリップス、スタンダード・オイル・インディアナ、チグラー（－ナッタ）、ＴＮＺ（デュポン）、メタロセン又はシングルサイト触媒（ＳＳＣ）と命名される。
＜２＞　前記＜１＞項で言及されたポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレン、ポリプロピレンとポリエチレン（例えば、ＰＰ／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）の混合物、及び異なる型のポリエチレンの混合物（例えば、ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
＜３＞　モノオレフィン及びジオレフィンの互いの又は他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）及びそれの低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブテ－１－エンコポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブテ－１－エンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、エチレン／ビニルシクロヘキサンコポリマー、エチレン／シクロオレフィンコポリマー（例えば、ＣＯＣ(Cyclo-Olefin　Copolymer)のようなエチレン／ノルボルネン）、１－オレフィンが現場で生成されるエチレン／１－オレフィンコポリマー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／ビニルシクロヘキセンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン／酢酸ビニルコポリマー又はエチレン／アクリル酸コポリマー及びそれらの塩（アイオノマー）、ならびにエチレンとプロピレン及びへキサジエン、ジシクロペンタジエン又はエチリデン－ノルボルネンのようなジエンとのターポリマー；及びそのようなコポリマーの互いの及び１）で上述したポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン－プロピレンコポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン－酢酸ビニルコポリマー（ＥＶＡ）、ＬＤＰＥ／エチレン－アクリル酸コポリマー（ＥＡＡ）、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡ及び交互の又はランダムのポリアルキレン／一酸化炭素コポリマー及びそれらの他のポリマー、例えばポリアミドとの混合物。
＜４＞　水素化変性物（例えば粘着付与剤）を含む炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし９）及びポリアルキレン及びデンプンの混合物。
　前記＜１＞ないし＜４＞項のホモポリマー及びコポリマーは、シンジオタクチック、アイソタクチック、ヘミ－アイソタクチック又はアタクチックを含むいずれの立体構造をも有し得；アタクチックポリマーが好ましい。ステレオブロックポリマーもまた含まれる。
＜５＞　ポリスチレン、ポリ（ｐ－メチルスチレン）、ポリ（α－メチルスチレン）。
＜６＞　スチレン、α－メチルスチレン、ビニルトルエンの全ての異性体、とりわけｐ－ビニルトルエン、エチルスチレン、プロピルスチレン、ビニルビフェニル、ビニルナフタレン、及びビニルアントラセンの全ての異性体、及びそれらの混合物を含む芳香族ビニルモノマーから誘導された芳香族ホモポリマー及びコポリマー。ホモポリマー及びコポリマーはシンジオタクチック、アイソタクチック、ヘミ－アイソタクチック又はアタクチックを含むいずれの立体構造をも有し得；アタクチックポリマーが好ましい。ステレオブロックポリマーもまた含まれる。
＜６ａ＞　エチレン、プロピレン、ジエン、ニトリル、酸、マレイン酸無水物、マレイミド、酢酸ビニル及び塩化ビニル又はそのアクリル誘導体及び混合物から選択される上述された芳香族ビニルモノマー及びコモノマーを含むコポリマー、例えば、スチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／エチレン（共重合体）、スチレン／アルキルメタクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルアクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルメタクリレート、スチレン／マレイン酸無水物、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレート；スチレンコポリマー及び他のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエンポリマー又はエチレン／プロピレン／ジエンターポリマーの高耐衝撃性の混合物；及びスチレン／ブタジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン又はスチレン／エチレン／プロピレン／スチレンのようなスチレンのブロックコポリマー。
＜６ｂ＞　前記＜６＞項で言及されたポリマーの水素化から誘導された水素化芳香族ポリマー、とりわけアタクチックポリスチレンを水素化することにより調製され、しばしばポリビニルシクロヘキサン（ＰＶＣＨ）として言及されるポリシクロヘキシルエチレン（ＰＣＨＥ）を含む。
＜６ｃ＞　前記＜６ａ＞項で言及されたポリマーの水素化から誘導された水素化芳香族ポリマー。
　ホモポリマー及びコポリマーはシンジオタクチック、アイソタクチック、ヘミ－アイソタクチック又はアタクチックを含むいずれの立体構造をも有し得；アタクチックポリマーが好ましい。ステレオブロックポリマーもまた含まれる。
＜７＞　スチレン又はα－メチルスチレンのような芳香族ビニルモノマーのグラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレン、ポリブタジエン－スチレン又はポリブタジエン－アクリロニトリルコポリマーにスチレン；ポリブタジエンにスチレン及びアクリロニトリル（又はメタクリロニトリル）；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリル及びメチルメタクリレート；ポリブタジエンにスチレン及びマレイン酸無水物；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリル及びマレイン酸無水物又はマレイミド；ポリブタジエンにスチレン及びマレイミド；ポリブタジエンにスチレン及びアルキルアクリレート又はメタクリレート；エチレン／プロピレン／ジエンターポリマーにスチレン及びアクリロニトリル；ポリアルキルアクリレート又はポリアルキルメタクリレートにスチレン及びアクリロニトリル；アクリレート／ブタジエンコポリマーにスチレン及びアクリロニトリル、並びにそれらの前記＜６＞項に列挙されたコポリマーとの混合物、例えばＡＢＳ、ＳＡＮ、ＭＢＳ、ＡＳＡ又はＡＥＳポリマーとして既知であるコポリマー混合物。
＜８＞　ポリクロロプレン、塩素化ゴム、イソブチレン－イソプレンの塩素化及び臭素化コポリマー（ハロブチルゴム）、塩素化又はスルホ塩素化ポリエチレン、エチレン及び塩素化エチレンのコポリマー、エピクロロヒドリンホモ－及びコポリマー、とりわけハロゲン含有ビニル化合物のポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ボリフッ化ビニリデン、ならびに塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニル又は塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマーのようなそれらのコポリマー、のようなハロゲン含有ポリマー。
＜９＞　α，β－不飽和酸及びから誘導されたポリマー、及びポリアクリレート及びポリメタクリレートのようなその誘導体；ブチルアクリレートで耐衝撃改善されたポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミド及びポリアクリロニトリル。
＜１０＞　前記＜９＞項で言及されたモノマーの互いの又は他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル／アルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレート又はアクリロニトリル／ビニルハライドコポリマー又はアクリロニトリル／アルキルメタクリレート／ブタジエンターポリマー。
＜１１＞　不飽和アルコール及びアミンから誘導されたポリマー又はそれらのアシル誘導体又はアセタール、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレート又はポリアリルメラミン；ならびに前記＜１＞項で言及されたオレフィンとそれらのコポリマー。
＜１２＞　ポリアルキレングリコール、ボリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはビスグリシジルエーテルとそれらのコポリマーのような環式エーテルのホモポリマー及びコポリマー。
＜１３＞　ポリオキシメチレン及びコモノマーとしてエチレンオキシドを含むポリオキシメチレンのようなポリアセタール；熱可塑性ポリウレタン、アクリレートまたはＭＢＳで変性されたポリアセタール。
＜１４＞　ポリフェニレンオキシド及びスルフィド、及びポリフェニレンオキシドとスチレンポリマー又はポリアミドとの混合物。
＜１５＞　一方はヒドロキシル基末端を有するポリエーテル、ポリエステル及びポリブタジエンと、他方は脂肪族又は芳香族のポリイソシアナートから誘導されたポリウレタン、ならびにそれらの前駆体。
＜１６＞　ジアミシとジカルボン酸から及び／又はアミノカルボン酸又は対応するラクタムから誘導されたポリアミド及びコポリアミド、例えばポリアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／９、６／１２、４／６、１２／１２、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ｍ－キシレンジアミン及びアジピン酸から開始した芳香族ポリアミド；へキサメチレンジアミン及びイソフタル酸及び／又はテレフタル酸から及び変性剤としてのエラストマーを用いて又は用いずに調製されたポリアミド、例えばポリ－２，４，４－トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミド又はポリ－ｍ－フェニレンイソフタルアミド：及び上述されたポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、アイオノマー又は化学的に結合されたか又はグラフトされたエラストマーとのブロックコポリマー；又は例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール又はポリテトラメチレングリコールのようなポリエーテルとのブロックコポリマー；ならびにＥＰＤＭ又はＡＢＳで変性されたポリアミド又はコポリアミド；及び加工の間に縮合されたポリアミド（ＲＩＭポリアミド系）。
＜１７＞　ポリ尿素、ポリイミド、ボリアミド－イミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド、ポリヒダントイン及びポリベンズイミダゾール。
＜１８＞　ジカルボン酸とジオールから及び／又はヒドロキシカルボン酸又は対応するラクトンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ－１，４－ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート、ポリアルキレンナフタレート（ＰＡＮ）及びポリヒドロキシベンゾエート、ならびにヒドロキシル末端ポリエーテルから誘導されたブロックコポリエーテルエステル；及びまたポリカーボネート又はＭＢＳで変性されたポリエステル。米国特許第５，８０７，９３２号明細書（２欄、５３行）で定義されたようなポリエステル及びポリエステルコポリマーは、参照としてここに組込まれる。
＜１９＞　ポリカーボネート及びポリエステルカーボネート。
＜２０＞　ポリケトン。
＜２１＞　ポリスルホン、ポリエーテルスルホン及びポリエーテルケトン。
＜２２＞　一成分としてのアルデヒドと他成分としてのフェノール、尿素及びメラミンとから誘導された架橋ポリマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿素／ホルムアルデヒド樹脂及びメラミン／ホルムアルデヒド樹脂。
＜２３＞　乾性及び非乾性アルキド樹脂。
＜２４＞　飽和及び不飽和ジカルボン酸と多価アルコールと架橋剤としてのビニル化合物とから誘導された不飽和ポリエステル樹脂、及び更に低燃性のそのハロゲン含有変性体。
＜２５＞　置換アクリレート、例えばエポキシアクリレート、ウレタンアクリレート又はポリエステルアクリレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。
＜２６＞　メラミン樹脂、尿素樹脂、イソシアネート、イソシアヌレート、ポリイソシアネート又はエポキシ樹脂を用いて架橋されたアルキド樹脂、ポリエステル樹脂及びアクリレート樹脂。
＜２７＞　脂肪族、脂環式、複素環式又は芳香族グリシジル化合物から誘導された架橋エポキシ樹脂、例えば、促進剤を用いて又は用いずに、無水物又はアミンのような慣例の硬化剤で架橋されている、ビスフェノールＡ及びビスフェノールＦのグリシジルエーテル生成物。
＜２８＞　天然ポリマー、例えばセルロース、ゴム、ゼラチン及び化学的に変性されたそれらの同族列の誘導体、例えばセルロースアセテート、セルロースプロピオネート及びセルロースブチレート、又はセルロースエーテル、例えばメチルセルロース；並びにロジン及びそれらの誘導体。
＜２９＞　上述のポリマーの配合物（ポリブレンド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭ又はＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ６．６及びコポリマー、ＰＡ／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ、ＰＢＴ／ＰＣ／ＡＢＳ又はＰＢＴ／ＰＥＴ／ＰＣ。
＜３０＞　純粋なモノマー状化合物又は前記化合物の混合物である天然及び合成有機材料、例えば鉱油、動物及び植物脂肪、油及びワックス、又は合成エステル（例えばフタレート、アジペート、ホスフェート又はトリメリテート）をベースとする油、脂肪及びワックス、及び更に何れかの質量比の合成エステルと鉱油との混合物、代表的には繊維紡糸組成物として使用される混合物、並びに前記材料の水性エマルジョン。
＜３１＞　天然又は合成ゴムの水性エマルジョン、例えば天然ラテックス又はカルボキシル化スチレン／ブタジエンコポリマーのラテックス。
＜３２＞　ポリシロキサン類、例えば、アメリカ合衆国特許第４２５９４６７号明細書に記載された軟質、親水性のポリシロキサン、及び、例えば、アメリカ合衆国特許第４３５５１４７号明細書に記載された硬質ポリオルガノシロキサン。
＜３３＞　不飽和アクリルポリアセトアセテート樹脂と又は不飽和アクリル樹脂と組み合わせたポリケチミン。前記不飽和アクリル樹脂はウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、ペンダント不飽和基を持つビニル若しくはアクリルコポリマー、及びアクリル化されたメラミンを包含する。前記ポリケチミンは、酸触媒の存在下で、ポリアミンとケトンから製造される。
＜３４＞　エチレン性不飽和モノマー又はオリゴマー及び多不飽和脂肪族オリゴマーを含む輻射線硬化性組成物。
＜３５＞　ＬＳＥ－４１０３［商品名、モンサント（Ｍｏｎｓａｎｔｏ）社製］のようなエポキシ官能性の共エーテル化された高固形分メラミン樹脂により架橋された光安定化エポキシ樹脂のようなエポキシメラミン樹脂。
　本発明に用いられる高分子物質は、合成ポリマーである場合が好ましく、ポリオレフィン、アクリル系ポリマー、ポリエステル、ポリカーボネート、セルロースエステルがより好ましい。中でも、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ（４－メチルペンテン）、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、トリアセチルセルロースが特に好ましい。
　本発明に用いられる高分子物質は、熱可塑性樹脂であることが好ましい。
　本発明の高分子材料は、上記の高分子物質および紫外線吸収剤に加えて、必要に応じて酸化防止剤、光安定剤、加工安定剤、老化防止剤、相溶化剤等の任意の添加剤を適宜含有してもよい。
　本発明の高分子材料は前記高分子物質を用いてなる。本発明の高分子材料は、前記高分子物質のみから形成されたものでもよく、また、前記高分子物質を任意の溶媒に溶解して形成されたものでもよい。
　本発明の高分子材料は、合成樹脂が使用される全ての用途に使用可能であるが、特に日光又は紫外線を含む光に晒される可能性のある用途に特に好適に使用できる。具体例としては、例えばガラス代替品とその表面コーティング材、住居、施設、輸送機器等の窓ガラス、採光ガラス及び光源保護ガラス用のコーティング材、住居、施設、輸送機器等の内外装材及び内外装用塗料、蛍光灯、水銀灯等の紫外線を発する光源用部材、精密機械、電子電気機器用部材、各種ディスプレイから発生する電磁波等の遮断用材、食品、化学品、薬品等の容器又は包装材、農工業用シート又はフィルム材、印刷物、染色物、染顔料等の退色防止剤、日焼け止めクリーム、シャンプー、リンス、整髪料等の化粧品、スポーツウェア、ストッキング、帽子等の衣料用繊維製品及び繊維、カーテン、絨毯、壁紙等の家庭用内装品、プラスチックレンズ、コンタクトレンズ、義眼等の医療用器具、光学フィルタ、プリズム、鏡、写真材料等の光学用品、テープ、インク等の文房具、標示板、標示器等とその表面コーティング材等を挙げることができる。
　本発明の高分子材料の形状としては、平膜状、粉状、球状粒子、破砕粒子、塊状連続体、繊維状、管状、中空糸状、粒状、板状、多孔質状などのいずれの形状であってもよい。
　本発明の高分子材料は、本発明の紫外線吸収剤組成物を含有しているため、優れた耐光性（紫外光堅牢性）を有しており、紫外線吸収剤の析出や長期使用によるブリードアウトが生じることがない。また、本発明の高分子材料は、優れた長波紫外線吸収能を有するので、紫外線吸収フィルタや容器として用いることができ、紫外線に弱い化合物などを保護することもできる。例えば、前記高分子物質を押出成形又は射出成形などの任意の方法により成形することで、本発明の高分子材料からなる成形品（容器等）を得ることができる。また、別途作製した成形品に前記高分子物質の溶液を塗布・乾燥することで、本発明の高分子材料からなる紫外線吸収膜がコーティングされた成形品を得ることもできる。
　本発明の高分子材料を紫外線吸収フィルタや紫外線吸収膜として用いる場合、高分子物質は透明であることが好ましい。透明高分子材料の例としては、セルロースエステル（例、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ－１，４－シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン－１，２－ジフェノキシエタン－４，４’－ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン）、ポリメチルメタクリレート、シンジオタクチックポリスチレン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルイミドおよびポリオキシエチレンなどが挙げられる。好ましくはセルロースエステル、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリオレフィン、アクリル樹脂である。本発明の高分子材料は透明支持体として用いることもでき、透明支持体の透過率は８０％以上であることが好ましく、８６％以上であることがさらに好ましい。
　本発明の紫外線吸収剤組成物を含む包装材料について説明する。本発明の紫外線吸収剤組成物を含む包装材料は、前記の一般式（１）で表される紫外線吸収剤および一般式（ＴＳ－Ｉ）～（ＴＳ－Ｖ）のいずれかで表される化合物を含むものであればいずれの種類の高分子から成る包装材料であってもよい。例えば、特開平8-208765号公報に記載の熱可塑性樹脂、特開平8-151455号公報に記載のポリビニルアルコール、特開平8-245849号公報に記載のポリ塩化ビニル、特開平10-168292号公報、特開2004-285189号公報に記載のポリエステル、特開2001-323082号公報に記載の熱収縮性ポリエステル、特開平10-298397号公報に記載のスチレン系樹脂、特開平11-315175号公報、特開2001-26081号公報、特開2005-305745号公報に記載のポリオレフィン、特表2003-524019号公報に記載のROMPなどが挙げられる。例えば特開2004-50460号公報、特開2004-243674号公報に記載の無機物の蒸着薄膜層を有する樹脂であってもよい。例えば特開2006-240734号公報に記載の紫外線吸収剤を含む樹脂を塗布した紙であってもよい。
　本発明の紫外線吸収剤組成物を含む包装材料は、食料品、飲料、薬剤、化粧品、個人ケア用品等いずれのものを包装するものであってもよい。例えば、特開平11-34261号公報、特開2003-237825号公報に記載の食品包装、特開平8-80928号公報に記載の着色液体包装、特開2004-51174号公報に記載の液状製剤用包装、特開平8-301363号公報、特開平11-276550号公報に記載の医薬品容器包装、特開2006-271781号公報に記載の医療品用滅菌包装、特開平7-287353号公報に記載の写真感光材料包装、特開2000-56433号公報に記載の写真フィルム包装、特開2005-178832号公報に記載の紫外線硬化型インク用包装、特開2003-200966号公報、特開2006-323339号公報に記載のシュリンクラベルなどが挙げられる。
　本発明の紫外線吸収剤組成物を含む包装材料は、例えば特開2004-51174号公報に記載の透明包装体であってもよいし、例えば特開2006-224317号公報に記載の遮光性包装体であってもよい。
　本発明の紫外線吸収剤組成物を含む包装材料は、例えば特開2001-26081号公報、特開2005-305745号公報に記載のように紫外線遮蔽性を有するだけでなく、他の性能を合わせて持っていても良い。例えば特開2002-160321号公報に記載のガスバリヤー性を合わせて有するものや、例えば特開2005-156220号公報に記載の酸素インジケータを内包するものや、例えば特開2005-146278号公報に記載の紫外線吸収剤と蛍光増白剤を組み合わせるものなどが挙げられる。
　本発明の紫外線吸収剤組成物を含む包装材料は、いずれの方法を用いて製造してもよい。例えば特開2006-130807号公報に記載のインキ層を形成させる方法、例えば特開2001-323082号公報、特開2005-305745号公報に記載の紫外線吸収剤を含有した樹脂を溶融押出し積層する方法、例えば特開平9-142539号公報に記載の基材フィルム上にコーティングする方法、例えば特開平9-157626号公報に記載の接着剤に紫外線吸収剤を分散する方法などが挙げられる。
　本発明の紫外線吸収剤組成物を含む容器について説明する。本発明の紫外線吸収剤組成物を含む容器は、前記の一般式（１）で表される紫外線吸収剤および一般式（ＴＳ－Ｉ）～（ＴＳ－Ｖ）のいずれかで表される化合物を含むものであればいずれの種類の高分子から成る容器であってもよい。例えば、特開平8-324572号公報に記載の熱可塑性樹脂容器、特開2001-48153号公報、特開2005-105004号公報、特開2006-1568号公報に記載のポリエステル製容器、特開2000-238857号公報に記載のポリエチレンナフタレート製容器、特開2001-88815号公報に記載のポリエチレン製容器、特開平7-216152号公報に記載の環状オレフィン系樹脂組成物製容器、特開2001-270531号公報に記載のプラスチック容器、特開2004-83858号公報に記載の透明ポリアミド容器などが挙げられる。例えば特開2001-114262号公報、特開2001-213427号公報に記載の樹脂を含む紙容器であってもよい。例えば特開平7-242444号公報、特開平8-133787号公報、特開2005-320408号公報に記載の紫外線吸収層を有するガラス容器であってもよい。
　本発明の紫外線吸収剤組成物を含む容器の用途は食料品、飲料、薬剤、化粧品、個人ケア用品、シャンプー等いずれのものを入れるものであってもよい。例えば特開平5-139434号公報に記載の液体燃料貯蔵容器、特開平7-289665号公報に記載のゴルフボール容器、特開平9-295664号公報、特開2003-237825号公報に記載の食品用容器、特開平9-58687号公報に記載の酒用容器、特開平8-155007号公報に記載の薬剤充填容器、特開平8-324572号公報、特開2006-298456号公報に記載の飲料容器、特開平9-86570号公報に記載の油性食品用容器、特開平9-113494号公報に記載の分析試薬用溶液容器、特開平9-239910号公報に記載の即席麺容器、特開平11-180474号公報、特開2002-68322号公報、特開2005-278678号公報に記載の耐光性化粧料容器、特開平11-276550号公報に記載の医薬品容器、特開平11-290420号公報に記載の高純度薬品液用容器、特開2001-106218号公報に記載の液剤用容器、特開2005-178832号公報に記載の紫外線硬化型インク用容器、WO04/93775号パンフレットに記載のプラスチックアンプルなどが挙げられる。
　本発明の紫外線吸収剤組成物を含む容器は、例えば特開平5-305975号公報、特開平7-40954号公報に記載のように紫外線遮断性を有するだけでなく、他の性能を合わせて持っていてもよい。例えば特開平10-237312号公報に記載の抗菌性容器、特開2000-152974号公報に記載の可撓性容器、特開2002-264979号公報に記載のディスペンサー容器、例えば特開2005-255736号公報に記載の生分解性容器などが挙げられる。
　本発明の紫外線吸収剤組成物を含む容器はいずれの方法を用いて製造してもよい。例えば特開2002-370723号公報に記載の二層延伸ブロー成形による方法、特開2001-88815号公報に記載の多層共押出ブロー成形方法、特開平9-241407号公報に記載の容器の外側に紫外線吸収層を形成させる方法、特開平8-91385号公報、特開平9-48935号公報、特表平11-514387号公報、特開2000-66603号公報、特開2001-323082号公報、特開2005-105032号公報、WO99/29490号パンフレットに記載の収縮性フィルムを用いた方法、特開平11-255925号公報に記載の超臨界流体を用いる方法などが挙げられる。
　本発明の紫外線吸収剤組成物を含む塗料および塗膜について説明する。本発明の紫外線吸収剤組成物を含む塗料は、前記の一般式（１）で表される紫外線吸収剤および一般式（ＴＳ－Ｉ）～（ＴＳ－Ｖ）のいずれかで表される化合物を含むものであればいずれの成分からなる塗料であってもよい。例えば、アクリル樹脂系、ウレタン樹脂系、アミノアルキッド樹脂系、エポキシ樹脂系、シリコーン樹脂系、フッ素樹脂系などが挙げられる。これらの樹脂は主剤、硬化剤、希釈剤、レベリング剤、はじき防止剤などを任意に配合することができる。
　例えば、透明樹脂成分としてアクリルウレタン樹脂、シリコンアクリル樹脂を選んだ場合には、硬化剤としてポリイソシアネートなどを、希釈剤としてトルエン、キシレンなどの炭化水素系溶剤、酢酸イソブチル、酢酸ブチル、酢酸アミルなどのエステル系溶剤、イソプロピルアルコール、ブチルアルコールなどのアルコール系を用いることができる。また、ここでアクリルウレタン樹脂とは、メタクリル酸エステル（メチルが代表的）とヒドロキシエチルメタクリレート共重合体とポリイソシアネートと反応させて得られるアクリルウレタン樹脂をいう。なおこの場合のポリイソシアネートとはトリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ポリメチレンポリフェニレンポリイソシアネート、トリジンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートなどが挙げられる。透明樹脂成分としては、他にも例えば、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチルスチレン共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル等が挙げられる。更にこれら成分に加えアクリル樹脂、シリコーン樹脂などのレベリング剤、シリコーン系、アクリル系等のはじき防止剤等を必要に応じて配合することができる。
　本発明の紫外線吸収剤組成物を含む塗料の使用目的としてはいずれの用途であってもよい。例えば特開平7-26177号公報、特開平9-169950号公報、特開平9-221631号公報、特開2002-80788号公報に記載の紫外線遮蔽塗料、特開平10-88039号公報に記載の紫外線・近赤外線遮断塗料、特開2001-55541号公報に記載の電磁波遮蔽用塗料、特開平8-81643号公報に記載のクリアー塗料、特開2000-186234号公報に記載のメタリック塗料組成物、特開平7-166112号公報に記載のカチオン電着塗料、特開2002-294165号公報に記載の抗菌性および無鉛性カチオン電着塗料、特開2000-273362号公報、特開2001-279189号公報、特開2002-271227号公報に記載の粉体塗料、特開2001-9357号公報に記載の水性中塗り塗料、水性メタリック塗料、水性クリヤー塗料、特開2001-316630号公報に記載の自動車、建築物、土木系品に用いられる上塗り用塗料、特開2002-356655号公報に記載の硬化性塗料、特開2004-937号公報に記載の自動車バンパー等プラスチック材等に使用される塗膜形成組成物、特開2004-2700号公報に記載の金属板用塗料、特開2004-169182号公報に記載の硬化傾斜塗膜、特開2004-107700号公報に記載の電線用塗装材、特開平6-49368号公報に記載の自動車補修塗料、特開2002-38084号公報、特開2005-307161号公報に記載のアニオン電着塗料、特開平5-78606号公報、特開平5-185031号公報、特開平10-140089号公報、特表2000-509082号公報、特表2004-520284号公報、WO2006/097201号パンフレットに記載の自動車用塗料、特開平6-1945号公報に記載の塗装鋼板用塗料、特開平6-313148号公報に記載のステンレス用塗料、特開平7-3189号公報に記載のランプ用防虫塗料、特開平7-82454号公報に記載の紫外線硬化型塗料、特開平7-118576号公報に記載の抗菌性塗料、特開2004-217727号公報に記載の眼精疲労防止用塗料、特開2005-314495号公報に記載の防曇塗料、特開平10-298493号公報に記載の超耐候性塗料、特開平9-241534号公報に記載の傾斜塗料、特開2002-235028号公報に記載の光触媒塗料、特開2000-345109号公報に記載の可剥塗料、特開平6-346022号公報に記載のコンクリート剥離用塗料、特開2002-167545号公報に記載の防食塗料、特開平8-324576号公報に記載の保護塗料、特開平9-12924号公報に記載の撥水性保護塗料、特開平9-157581号公報に記載の板ガラス飛散防止用塗料、特開平9-59539号公報に記載のアルカリ可溶型保護塗料、特開2001-181558号公報に記載の水性一時保護塗料組成物、特開平10-183057号公報に記載の床用塗料、特開2001-115080号公報に記載のエマルション塗料、特開2001-262056号公報に記載の２液型水性塗料、特開平9-263729号公報に記載の１液性塗料、特開2001-288410号公報に記載のUV硬化性塗料、特開2002-69331号公報に記載の電子線硬化型塗料組成物、特開2002-80781号公報に記載の熱硬化性塗料組成物、特表2003-525325号公報に記載の焼付ラッカー用水性塗料、特開2004-162021号公報に記載の粉体塗料およびスラリー塗料、特開2006-233010号公報に記載の補修用塗料、特表平11-514689号公報に記載の粉体塗料水分散物、特開2001-59068号公報、特開2006-160847号公報に記載のプラスチック用塗料、特開2002-69331号公報に記載の電子線硬化型塗料などが挙げられる。
　本発明の紫外線吸収剤組成物を含む塗料は一般に塗料（透明樹脂成分を主成分として含む）および紫外線吸収剤から構成されるが、好ましくは樹脂を基準に考えて紫外線吸収剤０～２０質量％の組成である。塗布する際の厚さは、好ましくは２～１０００μｍであるが、更に好ましくは５～２００μｍの間である。これら塗料を塗布する方法は任意であるが、スプレー法、ディッピング法、ローラーコート法、フローコーター法、流し塗り法などがある。塗布後の乾燥は塗料成分によって異なるが概ね室温～１２０℃で１０～９０分程度行うことが好ましい。
　本発明の紫外線吸収剤組成物を含む塗膜は、前記の一般式（１）で表される紫外線吸収剤および一般式（ＴＳ－Ｉ）～（ＴＳ－Ｖ）のいずれかで表される化合物を含む塗膜であり、上記の本発明の紫外線吸収剤組成物を含む塗料を用いて形成された塗膜である。
　本発明の紫外線吸収剤組成物を含むインクについて説明する。本発明の紫外線吸収剤組成物を含むインクは、前記の一般式（１）で表される紫外線吸収剤および一般式（ＴＳ－Ｉ）～（ＴＳ－Ｖ）のいずれかで表される化合物を含むものであればいずれの形態のインクであってもよい。例えば、染料インク、顔料インク、水性インク、油性インクなどが挙げられる。また、いずれの用途に用いられてもよい。例えば、特開平8-3502号公報に記載のスクリーン印刷インク、特表2006-521941号公報に記載のフレキソ印刷インク、特表2005-533915号公報に記載のグラビア印刷インク、特表平11-504954号公報に記載の平版オフセット印刷インク、特表2005-533915号公報に記載の凸版印刷インク、特開平5-254277号公報に記載のＵＶインク、特開2006-30596号公報に記載のＥＢインクなどが挙げられる。また例えば、特開平11-199808号公報、WO99/67337号パンフレット、特開2005-325150号公報、特開2005-350559号公報、特開2006-8811号公報、特表2006-514130号公報に記載のインクジェットインク、特開2006-257165号公報に記載のフォトクロミックインク、特開平8-108650号公報に記載の熱転写インク、特開2005-23111号公報に記載のマスキングインク、特開2004-75888号公報に記載の蛍光インク、特開平7-164729号公報に記載のセキュリティインク、特開2006-22300号公報に記載のＤＮＡインクなども挙げられる。
　本発明の紫外線吸収剤組成物を含むインクを用いることで得られるいずれの形態も本発明に含まれる。例えば特開2006-70190号公報に記載の印刷物、印刷物をラミネートして得られる積層体、積層体を用いた包装材料や容器、特開2002-127596号公報に記載のインク受理層などが挙げられる。
　本発明の紫外線吸収剤組成物を含む繊維について説明する。本発明の紫外線吸収剤組成物を含む繊維は、前記の一般式（１）で表される紫外線吸収剤および一般式（ＴＳ－Ｉ）～（ＴＳ－Ｖ）のいずれかで表される化合物を含むものであればいずれの種類の高分子から成る繊維であってもよい。例えば、特開平5-117508号公報、特開平7-119036号公報、特開平7-196631号公報、特開平8-188921号公報、特開平10-237760号公報、特開2000-54287号公報、特開2006-299428号公報、特開2006-299438号公報に記載のポリエステル繊維、特開2002-322360号公報、特開2006-265770号公報に記載のポリフェニレンサルファイド繊維、特開平7-76580号公報、特開2001-348785号公報、特開2003-41434号公報、特開2003-239136号公報に記載のポリアミド繊維、WO03/2661号パンフレットに記載のエポキシ繊維、特開平10-251981号公報に記載のアラミド繊維、特開平6-228816号公報に記載のポリウレタン繊維、特表2005-517822号公報に記載のセルロース繊維などが挙げられる。
　本発明の紫外線吸収剤組成物を含む繊維はいずれの方法で製造してもよい。例えば特開平6-228818号公報に記載のように、前記の一般式（１）で表される紫外線吸収剤および一般式（ＴＳ－Ｉ）～（ＴＳ－Ｖ）のいずれかで表される化合物をあらかじめ含んだ高分子を繊維状に加工してもよいし、例えば特開平5-9870号公報、特開平8-188921号公報、特開平10-1587号公報に記載のように、繊維状に加工したものに対して前記の一般式（１）で表される紫外線吸収剤および一般式（ＴＳ－Ｉ）～（ＴＳ－Ｖ）のいずれかで表される化合物を含む溶液などを用いて処理をおこなってもよい。特開2002-212884号公報、特開2006-16710号公報に記載のように超臨界流体を用いて処理をおこなってもよい。
　本発明の紫外線吸収剤組成物を含む繊維は各種用途に用いることができる。例えば、特開平5-148703号公報に記載の衣料、特開2004-285516号公報に記載の裏地、特開2004-285517号公報に記載の肌着、特開2003-339503号公報に記載の毛布、特開2004-11062号公報に記載の靴下、特開平11-302982号公報に記載の人工皮革、特開平7-289097号公報に記載の防虫メッシュシート、特開平10-1868号公報に記載の工事用メッシュシート、特開平5-256464号公報に記載のカーペット、特開平5-193037号公報に記載の透湿・防水性シート、特開平6-114991号公報に記載の不織布、特開平11-247028号公報に記載の極細繊維、特開2000-144583号公報に記載の繊維からなるシート状物、特開平5-148703号公報に記載の清涼衣料、特開平5-193037号公報に記載の透湿防水性シート、特開平7-18584号公報に記載の難燃性人工スエード状構造物、特開平8-41785号公報に記載の樹脂ターポリン、特開平8-193136号公報に記載の膜剤、外壁材剤、農業用ハウス、特開平8-269850号公報に記載の建築資材用ネット、メッシュ、特開平8-284063号公報に記載のフィルター基材、特開平9-57889号公報に記載の防汚膜剤、特開平9-137335号公報に記載のメッシュ織物、陸上ネット、特開平10-165045号公報に記載の水中ネット、特開平11-247027号公報、特開平11-247028号公報に記載の極細繊維、特開平7-310283号公報、特表2003-528974号公報に記載の防織繊維、特開2001-30861号公報に記載のエアバッグ用基布、特開平7-324283号公報、特開平8-20579号公報、特開2003-147617号公報に記載の紫外線吸収性繊維製品などが挙げられる。
　本発明の紫外線吸収剤組成物を含む建材について説明する。本発明の紫外線吸収剤組成物を含む建材は、前記の一般式（１）で表される紫外線吸収剤および一般式（ＴＳ－Ｉ）～（ＴＳ－Ｖ）のいずれかで表される化合物を含むものであればいずれの種類の高分子から成る建材であってもよい。例えば、特開平10-6451号公報に記載の塩化ビニル系、特開平10-16152号公報に記載のオレフィン系、特開2002-161158号公報に記載のポリエステル系、特開2003-49065号公報に記載のポリフェニレンエーテル系、特開2003-160724号公報に記載のポリカーボネート系などが挙げられる。
　本発明の紫外線吸収剤組成物を含む建材はいずれの方法で製造してもよい。例えば特開平8-269850号公報に記載のように、前記の一般式（１）で表される紫外線吸収剤および一般式（ＴＳ－Ｉ）～（ＴＳ－Ｖ）のいずれかで表される化合物を含む材料を用いて所望の形に形成してもよいし、例えば特開平10-205056号公報に記載のように、前記の一般式（１）で表される紫外線吸収剤および一般式（ＴＳ－Ｉ）～（ＴＳ－Ｖ）のいずれかで表される化合物を含む材料を積層して形成してもよいし、例えば特開平8-151457号公報に記載のように、前記の一般式（１）で表される紫外線吸収剤および一般式（ＴＳ－Ｉ）～（ＴＳ－Ｖ）のいずれかで表される化合物を用いた被覆層を形成させてもよいし、例えば特開2001-172531号公報に記載のように、前記の一般式（１）で表される紫外線吸収剤および一般式（ＴＳ－Ｉ）～（ＴＳ－Ｖ）のいずれかで表される化合物を含有する塗料を塗装して形成してもよい。
　本発明の紫外線吸収剤組成物を含む建材は各種用途に用いることができる。例えば、特開平7-3955号公報、特開平8-151457号公報、特開2006-266042号公報に記載の外装用建材、特開平8-197511号公報に記載の建材用木質構造体、特開平9-183159号公報に記載の建材用屋根材、特開平11-236734号公報に記載の抗菌性建築資材、特開平10-205056号公報に記載の建材用基材、特開平11-300880号公報に記載の防汚建材、特開2001-9811号公報に記載の難燃性材料、特開2001-172531号公報に記載の窯業系建材、特開2003-328523号公報に記載の装飾用建材、特開2002-226764号公報に記載の建材用塗装物品、特開平10-6451号公報、特開平10-16152号公報、特開2006-306020号公報に記載の化粧材、特開平8-269850号公報に記載の建築資材用ネット、特開平9-277414号公報に記載の建材用透湿防水シート、特開平10-1868号公報に記載の建築工事用メッシュシート、特開平7-269016号公報に記載の建材用フィルム、特開2003-211538号公報に記載の表装用フィルム、特開平9-239921号公報、特開平9-254345号公報、特開平10-44352号公報に記載の建材用被覆材料、特開平8-73825号公報に記載の建材用接着剤組成物、特開平8-207218号公報に記載の土木建築構造物、特開2003-82608号公報に記載の歩行路用塗装材、特開2001-139700号公報に記載のシート状光硬化性樹脂、特開平5-253559号公報に記載の木材用保護塗装、特開2005-2941780号公報に記載の押釦スイッチ用カバー、特開平9-183159号公報に記載の接合シート剤、特開平10-44352号公報に記載の建材用基材、特開2000-226778号公報に記載の壁紙、特開2003-211538号公報に記載の表装用ポリエステルフィルム、特開2003-211606号公報に記載の成形部材表装用ポリエステルフィルム、特開2004-3191号公報に記載の床材などが挙げられる。
　本発明の紫外線吸収剤組成物を含む記録媒体について説明する。本発明の紫外線吸収剤組成物を含む記録媒体は、前記の一般式（１）で表される紫外線吸収剤および一般式（ＴＳ－Ｉ）～（ＴＳ－Ｖ）のいずれかで表される化合物を含むものであればいずれのものであってもよい。例えば、特開平9-309260号公報、特開2002-178625号公報、特開2002-212237号公報、特開2003-266926号公報、特開2003-266927号公報、特開2004-181813号公報に記載のインクジェット被記録媒体、特開平8-108650熱転写インク用受像媒体、特開平10-203033号公報に記載の昇華転写用受像シート、特開2001-249430号公報に記載の画像記録媒体、特開平8-258415号公報に記載の感熱記録媒体、特開平9-95055号公報、特開2003-145949号公報、特開2006-167996号公報に記載の可逆性感熱記録媒体、特開2002-367227号公報に記載の光情報記録媒体などが挙げられる。
　本発明の紫外線吸収剤組成物を含む画像表示装置について説明する。本発明の紫外線吸収剤組成物を含む画像表示装置は、前記の一般式（１）で表される紫外線吸収剤および一般式（ＴＳ－Ｉ）～（ＴＳ－Ｖ）のいずれかで表される化合物を含むものであればいずれのものであってもよい。例えば、特開2006-301268号公報に記載のエレクトロクロミック素子を用いた画像表示装置、特開2006-293155号公報に記載のいわゆる電子ペーパーと呼ばれる画像表示装置、特開平9-306344号公報に記載のプラズマディスプレー、特開2000-223271号公報に記載の有機ＥＬ素子を用いた画像表示装置などが挙げられる。本発明の紫外線吸収剤組成物は、例えば特開2000-223271号公報に記載の積層構造中に紫外線吸収層を形成させるものでもよいし、例えば特開2005-189645号公報に記載の円偏光板など必要な部材中に紫外線吸収剤を含むものを用いてもよい。
　本発明の紫外線吸収剤組成物を含む太陽電池用カバーについて説明する。本発明における適用する太陽電池は、結晶シリコン太陽電池、アモルファスシリコン太陽電池、色素増感太陽電池などいずれの形式の素子からなる太陽電池であってもよい。結晶シリコン太陽電池やアモルファスシリコン太陽電池において、特開2000-174296号公報に記載のように防汚や耐衝撃性、耐久性を付与する保護部材としてカバー材が用いられている。また色素増感太陽電池において、特開2006-282970号公報に記載のように光（特に紫外線）に励起されて活性となる金属酸化物系半導体を電極材料として用いるため、光増感剤として吸着させた色素が劣化し、光発電効率が徐々に低下する問題があり、紫外線吸収層を設けることが提案されている。
　本発明の紫外線吸収剤組成物を含む太陽電池用カバーは、前記の一般式（１）で表される紫外線吸収剤および一般式（ＴＳ－Ｉ）～（ＴＳ－Ｖ）のいずれかで表される化合物を含むものであればいずれの種類の高分子から成る太陽電池用カバーであってもよい。例えば特開2006-310461号公報に記載のポリエステル、特開2006-257144号公報に記載の熱硬化性透明樹脂、特開2006-210906号公報に記載のα－オレフィンポリマー、特開2003-168814号公報に記載のポリプロピレン、特開2005-129713号公報に記載のポリエーテルサルホン、特開2004-227843号公報に記載のアクリル樹脂、特開2004-168057号公報に記載の透明フッ素系樹脂等が挙げられる。
　本発明の紫外線吸収剤組成物を含む太陽電池用カバーはいずれの方法で製造してもよい。例えば特開平11-40833号公報に記載の紫外線吸収層を形成してもよいし、特開2005-129926号公報に記載のそれぞれ紫外線吸収剤を含む層を積層してもよいし、特開2000-91611号公報に記載の充填材層の樹脂に含まれていてもよいし、特開2005-346999号公報に記載の紫外線吸収剤を含む高分子からフィルムを形成してもよい。
　本発明の紫外線吸収剤組成物を含む太陽電池用カバーはいずれの形状であってもよい。特開2000-91610号公報、特開平11-261085号公報に記載のフィルム、シート、例えば特開平11-40833号公報に記載の積層フィルム、特開平11-214736号公報に記載のカバーガラス構造などが挙げられる。特開2001-261904号公報に記載の封止材に紫外線吸収剤を含むものであってもよい。
　また、その他使用例としては特開平8-102296号公報、特開2000-67629号公報、特開2005-353554号公報に記載の照明装置用光源カバー、特開平5-272076号公報、特開2003-239181号公報に記載の人工皮革、特開2006-63162号公報に記載のスポーツゴーグル、特開2007-93649号公報に記載の偏向レンズ、特開2001-214121号公報、特開2001-214122号公報、特開2001-315263号公報、特開2003-206422号公報、特開2003-25478号公報、特開2004-137457号公報、特開2005-132999号公報に記載の各種プラスチック製品向けハードコート、特開2002-36441号公報に記載の窓外側貼り付け用ハードコート、特開平10-250004号公報に記載の窓張りフィルム、特開2002-36452号公報に記載の高精細防眩性ハードコートフィルム、特開2003-39607号公報に記載の帯電防止性ハードコートフィルム、特開2004-114355号公報に記載の透過性ハードコートフィルム、特開2002-113937号公報に記載の偽造防止帳表、特開2002-293706号公報に記載の芝の紫斑防止剤、特開2006-274179号公報に記載の樹脂フィルムシート接合用シール剤、特開2005-326761号公報に記載の導光体、特開2006-335855号公報に記載のゴム用コーティング剤、特開平10-34841号公報、特開2002-114879号公報に記載の農業用被覆材、特表2004-532306号公報、特表2004-530024号公報に記載の染色ろうそく、特表2004-525273号公報に記載の布地リンス剤組成物、特開平10-194796号公報に記載の合わせガラス、特開平10-287804号公報に記載のプリズムシート、特開2000-71626号公報に記載の保護層転写シート、特開2001-139700号公報に記載の光硬化性樹脂製品、特開2001-159228号公報に記載の床用シート、特開2002-127310号公報に記載の水滴付着防止性及び熱線遮断性を有するガラス板、特開2002-189415号公報に記載の遮光性印刷ラベル、特開2002-130591号公報に記載の給油カップ、特開2002-307619号公報に記載の硬質塗膜塗工物品、特開2002-307845号公報に記載の中間転写記録媒体、特開2006-316395号公報に記載の人工毛髪、WO99/29490号パンフレット、特開2004-352847号公報に記載のラベル用低温熱収縮性フィルム、特開2000-224942号公報に記載の釣り用品、特開平8-208976号公報に記載のマイクロビーズ、特開平8-318592号公報に記載のプレコート金属板、特開2005-504735号公報に記載の薄肉フィルム、特開2005-105032号公報に記載の熱収縮性フィルム、特開2005-37642号公報に記載のインモールド成形用ラベル、特開2005-55615号公報に記載の投影スクリーン、特開平9-300537号公報、特開2000-25180号公報、特開2003-19776号公報、特開2005-74735号公報に記載の化粧シート、特開2001-207144号公報に記載のホットメルト接着剤、特表2002-543265号公報、特表2002-543266号公報、米国特許第6225384号明細書に記載の接着剤、特開2004-352783号公報に記載の電着コート、ベースコート、特開平7-268253号公報に記載の木材表面保護、特開2003-253265号公報、特開2005-105131号公報、特開2005-300962号公報、特許第3915339号公報に記載の調光材料、調光フィルム、調光ガラス、特開2005-304340号公報に記載の防蛾灯、特開2005-44154号公報に記載のタッチパネル、特開2006-274197号公報に記載の樹脂フィルムシート接合用シール剤、特開2006-89697号公報に記載のポリカーボネートフィルム被覆、特開2000-231044号公報に記載の光ファイバテープ、特表2002-527559号公報に記載の固形ワックスなどが挙げられる。
　次に、高分子材料の耐光性を評価する方法について説明する。高分子材料の耐光性を評価する方法として、「高分子の光安定化技術」（株式会社シーエムシー，2000年）85ページ～107ページ、「高機能塗料の基礎と物性」（株式会社シーエムシー，2003年）314ページ～359ページ、「高分子材料と複合材製品の耐久性」（株式会社シーエムシー，2005年）、「高分子材料の長寿命化と環境対策」（株式会社シーエムシー，2000年）、H.Zweifel編「Plastics　Additives　Handbook　5th　Edition」（Hanser　Publishers）238ページ～244ページ、葛良忠彦著「基礎講座２　プラスチック包装容器の科学」（日本包装学会，2003年）第８章などの記載を参考にできる。
　また各々の用途に対する評価としては下記の既知評価法により達成できる。
　高分子材料の光による劣化は、JIS-K7105:1981、JIS-K7101:1981、JIS-K7102:1981、JIS-K7219:1998、JIS-K7350-1:1995、JIS-K7350-2:1995、JIS-K7350-3:1996、JIS-K7350-4:1996の方法およびこれを参考にした方法によって評価することができる。
　包装・容器用途として用いられる場合の耐光性は、JIS-K7105の方法およびこれを参考にした方法によって評価することができる。その具体例としては、特開2006-298456号公報に記載のボトル胴体の光線透過率、透明性評価、キセノン光源を用いた紫外線暴露後のボトル中身の官能試験評価、特開2000-238857号公報に記載のキセノンランプ照射後のヘーズ値評価、特開2006-224317号公報に記載のハロゲンランプ光源としたヘイズ値評価、特開2006-240734号公報に記載の水銀灯暴露後のブルーウールスケールを用いた黄変度評価、特開2005-105004号公報、特開2006-1568号公報に記載のサンシャインウェザーメーターを用いたヘーズ値評価、着色性目視評価、特開平7-40954号公報、特開平8-151455号公報、特開平10-168292号公報、特開2001-323082号公報、特開2005-146278号公報に記載の紫外線透過率評価、特開平9-48935号公報、特開平9-142539号公報に記載の紫外線遮断率評価、特開平9-241407号公報、特開2004-243674号公報、特開2005-320408号公報、特開2005-305745号公報、特開2005-156220号公報に記載の光線透過率評価、特開2005-178832号公報に記載のインク容器内インキの粘度評価、特開2005-278678号公報に記載の光線透過率評価、日光暴露後の容器内サンプル目視、色差ΔE評価、特開2004-51174号公報に記載の白色蛍光灯照射後の紫外線透過率評価、光透過率評価、色差評価、特開2004-285189号公報に記載の光線透過率評価、ヘーズ値評価、色調評価、特開2003-237825号公報に記載の黄色度評価、特開2003-20966号公報に記載の遮光性評価、L*a*b*表色系色差式を用いた白色度評価、特開2002-68322号公報に記載のキセノン光を分光した後の波長ごとの暴露後サンプルにおける色差ΔEa*b*を用いた黄ばみ評価、特開2001-26081号公報に記載の紫外線暴露後、紫外線吸収率評価、特開平10-298397号公報に記載のサンシャインウェザーメーターを用いた暴露後のフィルム引っ張り伸び評価、特開平10-237312号公報に記載のキセノンウェザーメーター暴露後の抗菌性評価、特開平9-239910号公報に記載の蛍光灯照射後の包装内容物褪色性評価、特開平9-86570号公報に記載のサラダ油充填ボトルに対する蛍光灯暴露後の油の過酸化物価評価、色調評価、特開平8-301363号公報に記載のケミカルランプ照射後の吸光度差評価、特開平8-208765号公報に記載のサンシャインウェザーメーターを用いた暴露後の表面光沢度保持率、外観評価、特開平7-216152号公報に記載のサンシャインウェザロメーターを用いた暴露後の色差、曲げ強度評価、特開平5-139434号公報に記載の遮光比評価、灯油中の過酸化物生成量評価などがあげられる。
　塗料・塗膜用途として用いられる場合の長期耐久性は、JIS-K5400、JIS-K5600-7-5:1999、JIS-K5600-7-6:2002、JIS-K5600-7-7:1999、JIS-K5600-7-8:1999、JIS-K8741の方法およびこれを参考にした方法によって評価することができる。その具体例としては、特表2000-509082号公報に記載のキセノン耐光試験機およびUVCON装置による暴露後の色濃度およびCIE　L*a*b*色座標における色差ΔEa*b*、残留光沢を用いた評価、特表2004-520284号公報に記載の石英スライド上フィルムに対するキセノンアーク耐光試験機を用いた暴露後の吸光度評価、ロウにおける蛍光灯、UVランプ暴露後の色濃度およびCIE　L*a*b*色座標における色差ΔEa*b*を用いた評価、特開2006-160847号公報に記載のメタルウェザー耐候性試験機を用いた暴露後の色相評価、特開2005-307161号公報に記載のメタルハイドランプを用いた暴露試験後の光沢保持率評価および色差ΔEa*b*を用いた評価、サンシャインカーボンアーク光源を用いた暴露後光沢感の評価、特開2002-69331号公報に記載のメタルウェザー耐候性試験機を用いた暴露後の色差ΔEa*b*を用いた評価、光沢保持率、外観評価、特開2002-38084号公報に記載のサンシャインウェザオメーターを用いた暴露後の光沢保持率評価、特開2001-59068号公報に記載のQUV耐候性試験機を用いた暴露後の色差ΔEa*b*を用いた評価、光沢保持率評価、特開2001-115080号公報、特開平6-49368号公報、特開2001-262056号公報に記載のサンシャインウェザオメーターを用いた暴露後光沢保持率評価、特開平8-324576号公報、特開平9-12924号公報、特開平9-169950号公報、特開平9-241534号公報、特開2001-181558号公報に記載の塗装板に対するサンシャインウェザオメーターを用いた暴露後の外観評価、特開2000-186234号公報に記載のサンシャインウェザオメーターを用いた暴露後の光沢保持率、明度値変化評価、特開平10-298493号公報に記載の塗膜に対するデューサイクルWOM暴露後の塗膜劣化状態の外観評価、特開平7-26177号公報に記載の塗膜の紫外線透過率評価、特開平7-3189号公報、特開平9-263729号公報に記載の塗膜の紫外線遮断率評価、特開平6-1945号公報に記載のサンシャインウェザーオーメーターを用いた塗膜の光沢保持率80%となる時間比較評価、特開平6-313148号公報に記載のデューパネル光コントロールウェザーメーターを用いた暴露後の錆発生評価、特開平6-346022号公報に記載の屋外暴露後の塗装済み型枠に対するコンクリートの強度評価、特開平5-185031号公報に記載の屋外暴露後の色差ΔEa*b*を用いた評価、碁盤目密着評価、表面外観評価、特開平5-78606号公報に記載の屋外暴露後の光沢保持率評価、特開2006-63162号公報に記載のカーボンアーク光源を用いた暴露後の黄変度（ΔYI）評価等があげられる。
　インク用途として用いられる場合の耐光性は、JIS-K5701-1:2000、JIS-K7360-2、ISO105-B02の方法およびこれを参考にした方法によって評価することができる。具体的には特表2006-514130号公報に記載の事務所用蛍光灯、褪色試験機を用いた暴露後の色濃度およびCIE　L*a*b*色座標の測定による評価、特開2006-22300号公報に記載のキセノンアーク光源を用いた紫外線暴露後の電気泳動評価、特開2006-8811号公報に記載のキセノンフェードメーターによる印刷物の濃度評価、特開2005-23111号公報に記載の100Wケミカルランプを用いたインク抜け性評価、特開2005-325150号公報に記載のウェザーメーターによる画像形成部位の色素残存率評価、特開2002-127596号公報に記載のアイスーパーUVテスターを用いた印刷物のチョーキング評価、および変色評価、特開平11-199808号公報、特開平8-108650号公報に記載のキセノンフェードメーター暴露後の印刷物についてCIE　L*a*b*色座標における色差ΔEa*b*を用いた評価、特開平7-164729号公報に記載のカーボンアーク光源を用いた暴露後の反射率評価などが挙げられる。
　太陽電池モジュールの耐光性は、JIS-C8917:1998、JIS-C8938:1995の方法およびこれを参考にした方法によって評価することができる。具体的には、特開2006-282970号公報に記載のキセノンランプに太陽光シミュレーション用補正フィルタを装着した光源による暴露後のI-V測定光発電効率評価、特開平11-261085号公報、特開2000-144583号公報に記載のサンシャインウェザーメーター、フェードメータを用いた暴露後の変褪色グレースケール等級評価、色、外観密着性評価などがあげられる。
　繊維および繊維製品の耐光性は、JIS-L1096:1999、JIS-A5905:2003、JIS-L0842、JIS-K6730、JIS-K7107、DIN75.202、SAEJ1885、SN-ISO-105-B02、AS/NZS4399の方法およびこれを参考にした方法によって評価することができる。特開平10-1587号公報、特開2006-299428号公報、特開2006-299438号公報に記載の紫外線透過率評価、特開平6-228816号公報、特開平7-76580号公報、特開平8-188921号公報、特開平11-247028号公報、特開平11-247027号公報、特開2000-144583号公報、特開2002-322360号公報、特開2003-339503号公報、特開2004-11062号公報に記載のキセノン光源、カーボンアーク光源を用いた暴露後のブルースケール変褪色評価、特開2003-147617号公報に記載のUVカット率評価、特開2003-41434号公報に記載の紫外線遮断性評価、特開平11-302982号公報に記載のドライクリーニング後のカーボンアーク光源を用いた暴露後ブルースケール変褪色評価、特開平7-119036号公報、特開平10-251981号公報に記載のフェードオメーターを用いた暴露後の明度指数、クロマティクネス指数に基づく色差ΔE*評価、特開平9-57889号公報、特開平9-137335号公報、特開平10-1868号公報、特開平10-237760号公報に記載のUVテスター、サンシャインウェザーメーターを用いた暴露後の引っ張り強度評価、特開平8-41785号公報、特開平8-193136号公報に記載の全透過率評価、強力保持率評価、特表2003-528974号公報、特表2005-517822号公報、特開平8-20579号公報に記載の紫外線保護係数（UPF）評価、特開平6-228818号公報、特開平7-324283号公報、特開平7-196631号公報、特開平7-18584号公報に記載の高温フェードメーターを用いた暴露後の変褪色グレースケール評価、特開平7-289097号公報に記載の屋外暴露後の外観評価、特開平7-289665号公報に記載の紫外線暴露後の黄色度(YI)、黄変度（ΔYI）評価、特表2003-528974号公報に記載の規約反射率評価等があげられる。
　建材の耐光性は、JIS-A1415:1999の方法およびこれを参考にした方法によって評価することができる。具体的には、特開2006-266402号公報に記載のサンシャインウェザオメーターを用いた暴露後の表面色調評価、特開2004-3191号公報、特開2006-306020号公報に記載のカーボンアーク光源を用いた暴露後の外観評価、アイスーパーUVテスターを用いた暴露後の外観評価、暴露後の吸光度評価、暴露後の色度、色差評価、メタルハイドランプ光源を用いた暴露後のCIE　L*a*b*色座標における色差ΔEa*b*を用いた評価、光沢保持率評価、特開平10-44352号公報、特開2003-211538号公報、特開平9-239921号公報、特開平9-254345号公報、特開2003-211606号公報に記載のサンシャインウェザーメーターを用いた暴露後のヘーズ値変化評価、暴露後の引張試験機を用いた伸度保持率評価、特開2002-161158号公報に記載の溶媒浸漬後の紫外線透過率評価、アイスーパーUVテスターを用いた暴露後の外観目視評価、特開2002-226764号公報に記載のQUV試験後の光沢率変化評価、特開2001-172531号公報に記載のサンシャインウェザオメーターを用いた暴露後の光沢保持率評価、特開平11-300880号公報に記載のブラックライトブルー蛍光灯を用いた紫外線暴露後の色差ΔEa*b*を用いた評価、特開平10-205056号公報に記載のコーブコン促進試験機を用いた暴露後の密着保持率評価、紫外線遮断性評価、特開平8-207218号公報、特開平9-183159号公報に記載の屋外暴露（JIS-A1410）後の外観評価、全光透過率評価、ヘイズ変化評価、引張せん断接着強さ評価、特開平8-151457号公報に記載のキセノンウェザーメーターを用いた暴露後の全光線透過率評価、ヘイズ評価、黄変度評価、特開平7-3955号公報に記載のサンシャインウェザオメーターを用いた暴露後の黄変度(ΔYI)、紫外線吸収剤残存率評価等が挙げられる。
　記録媒体用途として用いられる場合の耐光性はJIS-K7350の方法およびこれを参考にした方法によって評価することができる。具体的には、特開2006-167996号公報に記載の蛍光灯照射後の印字部位における地肌色差変化評価、特開平10-203033号公報、特開2004-181813号公報に記載のキセノンウェザーメーターを用いた暴露による画像濃度残存率評価、特開2002-207845号公報に記載のキセノンウェザーメーターを用いた暴露による光学反射濃度変化評価、特開2003-266926号公報に記載のサンテストCPS光褪色試験機を用いた暴露後のL*a*b*評価形による黄変度評価、特開2003-145949号公報に記載のフェードメーターを用いた暴露後の褪色評価、特開2002-212237号公報に記載のキセノンフェードメーターを用いた暴露後の褪色目視評価、特開2002-178625号公報に記載の室内太陽光暴露後の色濃度保持率評価、キセノンウェザーメーターを用いた暴露後の色濃度保持率評価、特開2002-367227号公報に記載のフェードメーターを用いた暴露後のC/N評価、特開2001-249430号公報に記載の蛍光灯暴露後のかぶり濃度評価、特開平9-95055号公報に記載の蛍光灯を用いた暴露後の光学反射濃度評価、消去性評価、特開平9-309260号公報に記載のアトラスフェードメーターを用いた暴露後の色差ΔE*評価、特開平8-258415号公報に記載のカーボンアークフェードメーターを用いた暴露後の褪色目視評価、特開2000-223271号公報に記載の有機EL素子色変換特性保持率評価、特開2005-189645号公報に記載のキセノン褪色試験機による暴露後の有機ELディスプレイ輝度測定評価などが挙げられる。
　その他の評価法としてはJIS-K7103、ISO/DIS9050の方法およびこれを参考とした方法によって評価できる。具体的には、特開2006-89697号公報に記載のポリカーボネート被覆フィルムのUVテスターによる暴露後の外観評価、特開2006-316395号公報に記載の人工毛髪における紫外線暴露後のブルースケール評価、特開2006-335855号公報に記載の促進耐候性試験機を用いた暴露後の評価用処理布水接触角評価、特開2005-55615号公報に記載の耐候試験機を用いた暴露後の投影スクリーンに映し出された映像目視評価、特開2005-74735号公報に記載のサンシャインウェザーメーター、メタルウェザーメーターを用いた暴露後の試験体表面劣化、意匠性変化目視評価、特開2005-326761号公報に記載の金属ランプリフレクターを用いた点灯暴露後の外観目視評価、特開2002-189415号公報、特開2004-352847号公報に記載のボトル用ラベルの光線透過率評価、特開2003-19776号公報に記載のキセノンウェザーメーターを用いた湿度条件下、暴露後のポリプロピレン劣化評価、特開2002-36441号公報、特開2003-25478号公報に記載のサンシャインウェザオメーターを用いたハードコートフィルムの劣化評価、基材の劣化評価、親水性評価、耐擦傷性評価、特開2003-239181号公報に記載のキセノンランプ光源を用いた暴露後の人工皮革のグレースケール色差評価、特開2003-253265号公報に記載の水銀灯を用いた暴露後の液晶デバイス特性評価、特開2002-307619号公報に記載のサンシャインウェザオメーターを用いた暴露後の密着性評価、特開2002-293706号公報に記載の芝の紫斑度合い評価、特開2002-114879号公報に記載のキセノンアーク光源を用いた暴露後紫外線透過率評価、引張強度評価、特開2001-139700号公報に記載のコンクリート密着速度評価、特開2001-315263号公報に記載のサンシャインウェザオメーターを用いた暴露後外観評価、および塗膜密着性評価、特開2001-214121号公報、特開2001-214122号公報に記載のカーボンアーク光源を用いた暴露後の黄変度、密着性評価、特開2001-207144号公報に記載の紫外線フェードメーターを用いた接着性能評価、特開2000-67629号公報に記載の照明点灯時における昆虫類飛来抑制評価、特開平10-194796号公報に記載のアイスーパーUVテスターを用いた合わせガラスの黄変度（ΔYI）評価、特開平8-318592号公報に記載のQUV照射、耐湿テストを行った後の表面外観評価、光沢保持率評価、特開平8-208976号公報に記載のデューパネル光コントロールウェザーメーターを用いた経時色差評価、特開平7-268253号公報に記載のキセノンウェザロメーターを用いた暴露後の木材基材塗布状態における光沢度（DI）、黄色度指数（YI）評価、特表2002-5443265号公報、特表2002-543266号公報に記載の紫外線照射、暗闇を繰り返した後の紫外線吸収率評価、特表2004-532306号公報に記載の紫外線暴露後の染料褪色色差ΔＥ評価等が挙げられる。
　以下、本発明を実施例に基づき更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例１
　例示化合物（１）（紫外線吸収剤）と例示化合物（ＴＩＩ－２５）とからなる組成物試料１（質量比１：１）２ｍｇを酢酸エチル１００ｍｌに溶解し、試料溶液を作製した。この試料溶液の吸収スペクトルを測定した。
　また、同様にして、下記表７に示す組み合わせの組成物試料を用いて試料溶液を作製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000056
　これらの試料溶液に、キセノンランプで照度１７万ルクスになるように光照射し、２４時間照射後の紫外線吸収剤の残存量をそれぞれ測定した。残存量は次式に従い計算した。
　　残存量（％）＝１００×（１００－照射後の透過率）／（１００－照射前の透過率）
　ここで、透過率は、島津製作所製分光光度計Ｕ－４１００（商品名）を用いて３８０ｎｍで測定した。結果を表７に示す。なお、表７中、試料９は紫外線吸収剤を含んでいないため残存量の測定を行わなかった。
　表７の結果から明らかなように、前記一般式（ＴＳ－Ｉ）～（ＴＳ－Ｖ）のいずれかで表される化合物を含有しない試料７及び８では、紫外線吸収剤の残存率が６８％又は７５％と低かったのに対し、本発明の試料１～６は、紫外線吸収剤組成物中の紫外線吸収剤の残存率が９２～９６％と非常に高いことがわかった。
実施例２
（アクリル系塗布膜試料の作製）
　ポリメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ樹脂）２０ｇをジクロロメタン１００ｍＬに溶解した溶液を３０ｍＬとり、試料１を２０ｍｇ加えた。得られた溶液をメッシュ経４５μｍのフィルタでろ過し、塗料サンプル２０１とした。同様に、試料１を試料２～８に取り替えた以外は同様にして、塗料サンプル２０２～２０８をそれぞれ作製した。
　これらをそれぞれ、バーコーターを用いて、１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に３０μｍ程度となるように塗布し、乾燥することにより紫外線吸収層を有するＰＥＴフィルム（膜２０１～膜２０８）を作製した。
（評価）
　作製した各フィルムに、キセノンランプで照度１７万ルクスになるように光照射し、５０時間照射後の紫外線吸収剤の残存量をそれぞれ測定した。残存量は次式に従い計算した。
　　残存量（％）＝１００×（１００－照射後の透過率）／（１００－照射前の透過率）
　ここで、透過率は、実施例１と同様にして３８０ｎｍで測定した。結果を表８に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000057
　表８の結果から明らかなように、本発明の紫外線吸収剤組成物試料１～６を用いた成形板２０１～２０６は、前記一般式（ＴＳ－Ｉ）～（ＴＳ－Ｖ）のいずれかで表される化合物を含有しない紫外線吸収剤組成物試料７又は８を用いた成形板２０７および２０８と比較して、含まれる紫外線吸収剤の残存率が非常に高いことがわかった。
実施例３
（フィルム３０１～３０８の作製）
　ポリエチレンテレフタレート樹脂（ＰＥＴ）１ｋｇに対して試料１を、紫外線吸収剤（Ａ）を５０ｇ加え、ステンレス製タンブラーで１時間撹拌した。この混合物を二軸練押出し混練機で２８０℃にて溶融混合し、常法によって成形用ペレットを作製した。このペレットを用いて射出成形機で厚さ１００μｍのフィルム３０１を作製した。
　フィルム３０１の作製において試料１を試料２～８に代えたこと以外はフィルム３０１と同様にしてフィルム３０２～３０８を作製した。
（評価）
　作製した各フィルム（成形板）に、キセノンランプで照度１７万ルクスになるように光照射し、５００時間照射後の紫外線吸収剤の残存量をそれぞれ測定した。残存量は次式に従い計算した。
　　残存量（％）＝１００×（１００－照射後の透過率）／（１００－照射前の透過率）
　ここで、透過率は、実施例１と同様にして３８０ｎｍで測定した。結果を表９に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000058
　表９の結果から明らかなように、本発明の紫外線吸収剤組成物試料１～６を用いたフィルム３０１～３０６は、前記一般式（ＴＳ－Ｉ）～（ＴＳ－Ｖ）のいずれかで表される化合物を含有しない紫外線吸収剤組成物試料７又は８を用いたフィルム３０７及び３０８と比較して、含まれる紫外線吸収剤の残存率が高いことがわかった。
　本発明をその実施態様とともに説明したが、我々は特に指定しない限り我々の発明を説明のどの細部においても限定しようとするものではなく、添付の請求の範囲に示した発明の精神と範囲に反することなく幅広く解釈されるべきであると考える。
　本願は、2008年3月31日に日本国で特許出願された特願2008-091836に基づく優先権を主張するものであり、これはここに参照してその内容を本明細書の記載の一部として取り込む。

Claims (13)

  1. 　下記一般式（１）で表される紫外線吸収剤の少なくとも１種と、下記一般式（ＴＳ－Ｉ）～（ＴＳ－Ｖ）のいずれかで表される化合物の少なくとも１種とを含むことを特徴とする紫外線吸収剤組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     ［Ｈｅｔ1は、２価の５あるいは６員環の芳香族ヘテロ環残基を表す。また、該芳香族ヘテロ環残基は置換基を有していても良い。
    　Ｘa、Ｘb、Ｘc及びＸdは、互いに独立してヘテロ原子を表す。また、Ｘa～Ｘdは置換基を有していても良い。
    　Ｙa、Ｙb、Ｙc、Ｙd、Ｙe及びＹfは、互いに独立してヘテロ原子または炭素原子を表す。また、Ｙa～Ｙfは置換基を有していても良い。
    　Ｈｅｔ1に結合している環は、任意の位置に二重結合を有していても良い。］
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     〔一般式（ＴＳ－Ｉ）中、Ｒ91は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルもしくはアルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ホスフィノトリル基、ホスフィニル基、又は－Ｓｉ(Ｒ97)(Ｒ98)(Ｒ99)を表す。ここで、Ｒ97、Ｒ98、Ｒ99は同一でも異なってもいてもよく、それぞれアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基又はアルケニルオキシ基、アリールオキシ基を表す。－Ｘ91－は－Ｏ－、－Ｓ－又は－Ｎ(－Ｒ100)－を表す。ここで、Ｒ100はＲ91と同義である。Ｒ92、Ｒ93、Ｒ94、Ｒ95、Ｒ96は互いに同一でも異なってもよく、それぞれ、水素原子又は置換基を表す。Ｒ91とＲ92、Ｒ100とＲ96、Ｒ91とＲ100は互いに結合して５～７員環を形成していてもよい。さらに、Ｒ92とＲ93、Ｒ93とＲ94が互いに結合して、５～７員環又はスピロ環、ビシクロ環を形成してもよい。但し、Ｒ91、Ｒ92、Ｒ93、Ｒ94、Ｒ95、Ｒ96、Ｒ100のすべてが水素原子であることはなく、総炭素数は１０以上である。
    　一般式（ＴＳ－ＩＩ）中、Ｒ101、Ｒ102、Ｒ103、Ｒ104は各々独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基を表し、Ｒ101とＲ102、Ｒ103とＲ104は結合し、５～７員環を形成してもよい。Ｘ101は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキルオキシ基、アルケニルオキシ基、アルキルもしくはアルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アルキルオキシカルボニルオキシ基、アルケニルオキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アルキルもしくはアルケニルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルもしくはアルケニルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、スルファモイル基、カルバモイル基、ヒドロキシ基又はオキシラジカル基を表す。Ｘ102は５～７員環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。
    　一般式（ＴＳ－ＩＩＩ）中、Ｒ105、Ｒ106は水素原子、脂肪族基、アシル基、脂肪族オキシカルボニル基、芳香族オキシカルボニル基、脂肪族スルホニル基、芳香族スルホニル基を表し、Ｒ107は脂肪族基、脂肪族オキシ基、芳香族オキシ基、脂肪族チオ基、芳香族チオ基、アシルオキシ基、脂肪族オキシカルボニルオキシ基、芳香族オキシカルボニルオキシ基、置換アミノ基、複素環基、ヒドロキシ基を表し、可能な場合にはＲ105とＲ106、Ｒ106とＲ107、Ｒ105とＲ107は互いに結合し、５～７員環を形成してもよいが、２，２，６，６－テトラアルキルピペリジン骨格を形成する場合を除く。但し、Ｒ105、Ｒ106の両方が水素原子であることはなく、総炭素数は７以上である。
    　一般式（ＴＳ－ＩＶ）中、Ｒ111、Ｒ112は脂肪族基を表し、Ｒ111とＲ112は互いに結合し、５～７員環を形成してもよい。ｎは０、１、２を表す。但し、Ｒ111とＲ112の総炭素数は１０以上である。
    　一般式（ＴＳ－Ｖ）中、Ｒ121、Ｒ122は脂肪族オキシ基、芳香族オキシ基を表し、Ｒ123は脂肪族基、芳香族基、脂肪族オキシ基、芳香族オキシ基を表し、ｍは０又は１を表す。Ｒ121とＲ122、Ｒ121とＲ123は互いに結合し、５～８員環を形成してもよい。但し、Ｒ121、Ｒ122、Ｒ123の総炭素数は１０以上である。〕
  2. 　前記一般式（１）で表される紫外線吸収剤の総含有量が、該組成物全体に対し０質量％より大きく７０％質量以下である、請求項１記載の紫外線吸収剤組成物。
  3. 　前記一般式（ＴＳ－Ｉ）～（ＴＳ－Ｖ）のいずれかで表される化合物の総含有量が、該組成物全体に対し０質量％より大きく８０質量％以下である、請求項１又は２に記載の紫外線吸収剤組成物。
  4. 　前記一般式（１）において、Ｘa、Ｘb、Ｙa～Ｙc及び炭素原子によって形成される環並びにＸc、Ｘd、Ｙd～Ｙf及び炭素原子によって形成される環の少なくとも一方が縮環している、請求項１～３のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
  5. 　前記一般式（１）において、Ｘa、Ｘb、Ｙa～Ｙc及び炭素原子によって形成される環並びにＸc、Ｘd、Ｙd～Ｙf及び炭素原子によって形成される環の少なくとも一方がペリミジン環ではない、請求項１～４のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
  6. 　前記一般式（１）で表される紫外線吸収剤が下記一般式（２）で表される紫外線吸収剤である、請求項１～５のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
     ［Ｈｅｔ2は、前記一般式（１）のＨｅｔ1と同義である。
    　Ｘ2a、Ｘ2b、Ｘ2c及びＸ2dは、それぞれ前記一般式（１）のＸa、Ｘb、Ｘc及びＸdと同義である。
    　Ｙ2b、Ｙ2c、Ｙ2e及びＹ2fは、それぞれ前記一般式（１）のＹb、Ｙc、Ｙe及びＹfと同義である。
    　Ｌ1及びＬ2は、それぞれ独立して酸素原子、硫黄原子または＝ＮＲaを表す（Ｒaは、水素原子または１価の置換基を表す。）。
    　Ｚ1及びＺ2はそれぞれ独立して、Ｙ2b及びＹ2cまたはＹ2e及びＹ2fと一緒になって４～８員環を形成するのに必要な原子群を表す。］
  7. 　前記一般式（２）で表される紫外線吸収剤が下記一般式（３）で表される紫外線吸収剤である、請求項６記載の紫外線吸収剤組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
     ［Ｈｅｔ3は、前記一般式（２）のＨｅｔ2と同義である。
    　Ｘ3a、Ｘ3b、Ｘ3c及びＸ3dは、それぞれ前記一般式（２）のＸ2a、Ｘ2b、Ｘ2c及びＸ2dと同義である。
    　Ｒ3a、Ｒ3b、Ｒ3c、Ｒ3d、Ｒ3e、Ｒ3f、Ｒ3g及びＲ3hは互いに独立して、水素原子または１価の置換基を表す。］
  8. 　前記一般式（３）で表される紫外線吸収剤が下記一般式（４）で表される紫外線吸収剤である、請求項７記載の紫外線吸収剤組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
     ［Ｈｅｔ4は、前記一般式（３）のＨｅｔ3と同義である。
    　Ｒ4a、Ｒ4b、Ｒ4c、Ｒ4d、Ｒ4e、Ｒ4f、Ｒ4g及びＲ4hは、それぞれ前記一般式（３）のＲ3a、Ｒ3b、Ｒ3c、Ｒ3d、Ｒ3e、Ｒ3f、Ｒ3g及びＲ3hと同義である。］
  9. 　前記一般式（４）で表される紫外線吸収剤が下記一般式（５）で表される紫外線吸収剤である、請求項８記載の紫外線吸収剤組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
     ［Ｒ5a、Ｒ5b、Ｒ5c、Ｒ5d、Ｒ5e、Ｒ5f、Ｒ5g及びＲ5hは、それぞれ前記一般式（４）のＲ4a、Ｒ4b、Ｒ4c、Ｒ4d、Ｒ4e、Ｒ4f、Ｒ4g及びＲ4hと同義である。Ｒ5i及びＲ5jは互いに独立して、水素原子または１価の置換基を表す。］
  10. 　前記一般式（ＴＳ－Ｉ）で表される化合物を含む、請求項１～９のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物。
  11. 　請求項１～１０のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物を含む紫外線吸収剤分散物。
  12. 　請求項１～１０のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物を含む紫外線吸収剤溶液。
  13. 　請求項１～１０のいずれか１項に記載の紫外線吸収剤組成物を含む高分子材料。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU2010318078B2 (en) * 2009-11-12 2014-12-18 Essilor International Method for producing an anti-UV plastic film with non-uniform spatial distribution of the UV absorber and photochromic optical elements covered with such a plastic film

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010083980A (ja) * 2008-09-30 2010-04-15 Fujifilm Corp 固体高分子材料
KR20120079322A (ko) * 2011-01-04 2012-07-12 삼성전자주식회사 반사형 폴리머 분산 액정 디스플레이 장치
JP5569437B2 (ja) * 2011-03-09 2014-08-13 コニカミノルタ株式会社 光学フィルム及びそれを用いた偏光板、液晶表示装置
JP6028792B2 (ja) * 2012-02-22 2016-11-16 コニカミノルタ株式会社 光学フィルム、偏光板及び液晶表示装置
CN103296437B (zh) * 2012-02-29 2017-04-26 深圳光启创新技术有限公司 超材料板材的制造方法、超材料天线罩及其制造方法
US20160347035A1 (en) * 2014-02-20 2016-12-01 Sekisui Chemical Co., Ltd. Interlayer for laminated glass, and laminated glass
JP6326003B2 (ja) * 2014-05-19 2018-05-16 富士フイルム株式会社 波長変換部材、バックライトユニット、および液晶表示装置、ならびに量子ドット含有重合性組成物

Citations (418)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2016017A (en) 1978-02-13 1979-09-19 Konishiroku Photo Ind Process for preparing impregnated polymer latex composition
JPS55129136A (en) 1979-03-27 1980-10-06 Fuji Photo Film Co Ltd Emulsifying method
US4259467A (en) 1979-12-10 1981-03-31 Bausch & Lomb Incorporated Hydrophilic contact lens made from polysiloxanes containing hydrophilic sidechains
EP0027242A1 (en) 1979-10-12 1981-04-22 Minnesota Mining And Manufacturing Company Polymeric ultraviolet absorbers, photographic material including them, and process
US4355147A (en) 1981-02-26 1982-10-19 Bausch & Lomb Incorporated Polysiloxane with polycyclic modifier composition and biomedical devices
JPS58209735A (ja) 1982-06-01 1983-12-06 Konishiroku Photo Ind Co Ltd カラ−写真感光材料
JPS61189530A (ja) 1985-02-16 1986-08-23 アグフア‐ゲヴエルト・アクチエンゲゼルシヤフト 感光性の安定化された写真記録材料
JPS62227889A (ja) 1986-03-31 1987-10-06 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd バラ積貨物船の横隔壁の構造
JPS62244046A (ja) 1986-04-16 1987-10-24 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラ−写真感光材料
US4749645A (en) 1986-10-21 1988-06-07 Eastman Kodak Company Heterocyclic phosphorus compound stabilizers
JPS6350691B2 (ja) 1981-06-10 1988-10-11 Fuji Photo Film Co Ltd
JPS63264748A (ja) 1987-04-22 1988-11-01 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラ−写真感光材料
EP0309401A1 (en) 1987-09-21 1989-03-29 Ciba-Geigy Ag Stabilization of coatings with N-hydroxy hindered amines
EP0309400A2 (en) 1987-09-21 1989-03-29 Ciba-Geigy Ag N-acyloxy hindered amine stabilizers
EP0309402A1 (en) 1987-09-21 1989-03-29 Ciba-Geigy Ag N-substituted hindered amine stabilizers
JPH01261085A (ja) 1988-04-12 1989-10-18 Fujitsu Ltd 画像拡大表示装置
JPH0153455B2 (ja) 1982-04-14 1989-11-14 Fuji Photo Film Co Ltd
JPH0249762A (ja) 1985-04-15 1990-02-20 Stepan Co 三酸化イオウ・アシルオキシベンゼン付加物および貯蔵安定な組成物
US4906555A (en) 1985-10-18 1990-03-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Silver halide color photographic material comprising specified couplers and anti-fading agents
JPH02139544A (ja) 1988-08-15 1990-05-29 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料
US4931382A (en) 1984-06-08 1990-06-05 Fuji Photo Film Co., Ltd. Silver halide color photographic light-sensitive material
JPH02148037A (ja) 1988-11-30 1990-06-06 Dainippon Printing Co Ltd 伝送画像製版システム
JPH02150841A (ja) 1988-12-02 1990-06-11 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料
US4933271A (en) 1987-09-30 1990-06-12 Ciba-Geigy Ag Stabilizers for color photography recording materials
JPH02181145A (ja) 1988-11-22 1990-07-13 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料
JPH0232298B2 (ja) 1976-05-04 1990-07-19 Ciba Geigy
JPH02194062A (ja) 1989-01-20 1990-07-31 Konica Corp 有機着色物質の光褪色防止方法
JPH02208653A (ja) 1989-02-08 1990-08-20 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料
JPH0237575B2 (ja) 1982-08-31 1990-08-24 Konishiroku Photo Ind
JPH02217845A (ja) 1989-02-20 1990-08-30 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料
DE4008785A1 (de) 1989-03-22 1990-09-27 Ciba Geigy Ag Stabilisatoren fuer farbphotographische aufzeichnungsmaterialien
JPH0244052B2 (ja) 1982-06-29 1990-10-02 Konishiroku Photo Ind Harogenkaginkaraashashinseihin
JPH0250457B2 (ja) 1983-01-07 1990-11-02 Fuji Photo Film Co Ltd
EP0203746B1 (en) 1985-05-11 1990-11-14 Konica Corporation Light-sensitive silver halide photographic material
US4980275A (en) 1988-04-13 1990-12-25 Eastman Kodak Company Photographic material and process comprising a dye stabilizer
JPH0325437A (ja) 1989-06-22 1991-02-04 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料
JPH0348845A (ja) 1989-07-18 1991-03-01 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料および該感材を用いて得られたカラー写真
JPH0348242A (ja) 1989-04-18 1991-03-01 Konica Corp ハロゲン化銀カラー写真感光材料
JPH0396940A (ja) 1989-09-11 1991-04-22 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料
JPH0339296B2 (ja) 1982-09-21 1991-06-13 Ciba Geigy
JPH0340373B2 (ja) 1981-12-17 1991-06-18
JPH03142444A (ja) 1989-10-27 1991-06-18 Konica Corp 色素画像の堅牢性が改良されたハロゲン化銀写真感光材料
WO1991011749A1 (en) 1990-01-23 1991-08-08 Kodak Limited Photographic silver halide materials containing a stabiliser compound
JPH03200758A (ja) 1989-12-28 1991-09-02 Konica Corp スルホン酸エステル誘導体及び含窒素６員環化合物の製造方法
JPH03266836A (ja) 1990-03-16 1991-11-27 Konica Corp 色素画像の堅牢性が改良されたハロゲン化銀写真感光材料
JPH04191851A (ja) 1990-11-27 1992-07-10 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料
JPH04330440A (ja) 1991-02-08 1992-11-18 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料
JPH04350854A (ja) 1991-05-29 1992-12-04 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料
JPH059870A (ja) 1991-07-05 1993-01-19 Toray Ind Inc 耐光性良好な繊維構造物およびその製造方法
JPH0561166A (ja) 1991-05-28 1993-03-12 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料
JPH0578606A (ja) 1991-02-21 1993-03-30 Ciba Geigy Ag 光誘起の崩壊に対して安定化された塗料
JPH05117508A (ja) 1991-10-28 1993-05-14 Kuraray Co Ltd 紫外線遮蔽性能を有するポリエステル組成物、該ポリエステル組成物の製造方法および繊維
JPH05139434A (ja) 1991-11-11 1993-06-08 Idemitsu Kosan Co Ltd 液体燃料貯蔵容器
JPH05148703A (ja) 1991-11-27 1993-06-15 Toray Ind Inc 清涼衣料
EP0264730B1 (en) 1986-10-10 1993-07-14 Konica Corporation Silver halide photographic light-sensitive material to provide dye-image with improved color-fastness to light
JPH05185031A (ja) 1992-01-17 1993-07-27 Nissan Motor Co Ltd 自動車用上塗り塗膜
JPH05193037A (ja) 1992-01-16 1993-08-03 Toray Ind Inc 張り腰のある透湿・防水性シート
JPH0567220B2 (ja) 1986-04-16 1993-09-24 Fuji Photo Film Co Ltd
JPH05254277A (ja) 1992-03-11 1993-10-05 Dainippon Printing Co Ltd 紫外線硬化型インキによる印刷層を有する印刷物及びその製造方法
JPH05253559A (ja) 1992-03-10 1993-10-05 Toshiba Corp 廃棄物の処理方法
JPH0570809B2 (ja) 1985-02-02 1993-10-05 Fuji Photo Film Co Ltd
JPH05256464A (ja) 1992-03-12 1993-10-05 Kuraray Co Ltd ホットカーペットおよびホットカーペットカバー
JPH05272076A (ja) 1991-05-02 1993-10-19 Ciba Geigy Ag 皮革の耐光堅牢性を改良する方法
JPH05305975A (ja) 1992-04-17 1993-11-19 Goou Kagaku Kogyo Kk 紫外線遮蔽機能を有する容器
JPH05323545A (ja) 1992-05-19 1993-12-07 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料
JPH05339033A (ja) 1992-03-31 1993-12-21 Sumitomo Cement Co Ltd 紫外線遮断ガラスの製造方法、自動車用窓ガラス及び建築用窓ガラス
JPH05345639A (ja) 1992-04-15 1993-12-27 Honjiyou Chem Kk 透明酸化亜鉛膜形成用溶液組成物
JPH061945A (ja) 1992-06-19 1994-01-11 Toray Ind Inc 塗装鋼板用塗料組成物
JPH0649368A (ja) 1983-07-30 1994-02-22 Dainippon Ink & Chem Inc 自動車補修塗料用樹脂組成物
JPH0656466A (ja) 1992-08-05 1994-03-01 Asahi Glass Co Ltd 日射透過率及び紫外線透過率の小さいガラス
JPH0619534B2 (ja) 1985-06-10 1994-03-16 富士写真フイルム株式会社 カラ−写真材料
JPH06114991A (ja) 1992-10-02 1994-04-26 Toray Ind Inc 複合不織布
JPH06130602A (ja) 1992-10-19 1994-05-13 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料
JPH06145387A (ja) 1992-11-09 1994-05-24 Central Glass Co Ltd 紫外線吸収透明体
JPH06148837A (ja) 1992-11-13 1994-05-27 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料
JPH06228818A (ja) 1993-02-01 1994-08-16 Teijin Ltd 改質ポリエステル繊維の製造方法
JPH06228816A (ja) 1993-02-02 1994-08-16 Kuraray Co Ltd 耐光性に優れたポリウレタン繊維の製法
JPH06313148A (ja) 1993-04-28 1994-11-08 Central Glass Co Ltd ステンレス用コーティング組成物
JPH0697334B2 (ja) 1987-04-14 1994-11-30 コニカ株式会社 有機着色物質の光褪色防止方法
JPH0697332B2 (ja) 1987-03-09 1994-11-30 コニカ株式会社 有機着色物質の光褪色防止方法
JPH06346022A (ja) 1993-06-03 1994-12-20 Honen Corp コンクリート剥離用塗料および該塗料を塗装した型枠
JPH073955A (ja) 1992-12-29 1995-01-06 Takiron Co Ltd 建 材
JPH073189A (ja) 1993-06-21 1995-01-06 Akiyama Seiji ランプ用防虫塗料
JPH0718584A (ja) 1993-06-30 1995-01-20 Toray Ind Inc 難燃性人工スエード状構造物およびその製造方法
JPH0726177A (ja) 1993-07-16 1995-01-27 Sekisui Jushi Co Ltd 紫外線遮蔽塗料及び紫外線遮蔽性透明体
JPH0740954A (ja) 1993-07-19 1995-02-10 Mitsubishi Chem Corp 紫外線遮断性多層容器
JPH0776580A (ja) 1992-12-17 1995-03-20 Ciba Geigy Ag カチオン性化合物、その製造方法及び塩基性の被染色性ポリアミド繊維材料の光化学的安定化のための、その用途
JPH0782454A (ja) 1993-09-10 1995-03-28 Nissan Motor Co Ltd 熱硬化型塗料組成物及び塗装体
JPH07118576A (ja) 1993-10-19 1995-05-09 Saraya Kk 光増感抗菌性塗料
JPH07119036A (ja) 1993-10-15 1995-05-09 Teijin Ltd 耐光堅牢度の改良されたポリエステル繊維
JPH07166112A (ja) 1993-12-10 1995-06-27 Nippon Paint Co Ltd カチオン電着塗料組成物
JPH07164729A (ja) 1993-12-17 1995-06-27 Mitsui Toatsu Chem Inc セキュリティインキ印刷物
JPH07196631A (ja) 1993-12-06 1995-08-01 Ciba Geigy Ag 非染色及び染色又は捺染したポリエステル繊維材料を光化学的及び熱的に安定化する方法
JPH07216152A (ja) 1994-02-07 1995-08-15 Mitsui Petrochem Ind Ltd 環状オレフィン系樹脂組成物製容器
JPH07242444A (ja) 1994-02-28 1995-09-19 Nippon Electric Glass Co Ltd 医薬用紫外線吸収性ガラス物品の製造方法
JPH07269016A (ja) 1994-03-29 1995-10-17 Shin Etsu Polymer Co Ltd 建材用フィルム
JPH07268253A (ja) 1994-02-10 1995-10-17 Ciba Geigy Ag 木材のための保護コーティング
JPH07285927A (ja) 1994-03-31 1995-10-31 Ciba Geigy Ag チオエーテル置換されたヒドロキシベンゾフェノンおよび安定化された組成物
JPH07287353A (ja) 1994-04-20 1995-10-31 Fuji Photo Film Co Ltd 写真感光材料用包装材料及びその製造方法並びに写真感光材料包装体
JPH07289665A (ja) 1994-04-27 1995-11-07 Dainippon Printing Co Ltd ゴルフボール容器及びその製造方法
JPH07289097A (ja) 1994-04-25 1995-11-07 Kuraray Co Ltd 防虫メッシュシート
JPH07310283A (ja) 1994-04-20 1995-11-28 Ciba Geigy Ag 紡織繊維の処理方法
JPH07324283A (ja) 1994-03-26 1995-12-12 Sandoz Ag 繊維材料の日光堅牢度を改良するための４ｈ−３，１−ベンズオキサジン−４−オン化合物の使用
JPH083502A (ja) 1994-06-20 1996-01-09 Bayer Ag 耐熱性で柔軟なスクリーン印刷インク
JPH0820579A (ja) 1994-03-24 1996-01-23 Sandoz Ag ｓ−トリアジン列の化合物
JPH0841785A (ja) 1994-07-26 1996-02-13 Toray Ind Inc オレフィン系樹脂ターポリン
JPH0873825A (ja) 1994-09-01 1996-03-19 Hitachi Chem Co Ltd ゴム系接着剤組成物
JPH0880928A (ja) 1994-09-09 1996-03-26 Toyo Seikan Kaisha Ltd 着色液体包装体
JPH0881643A (ja) 1994-09-12 1996-03-26 Kansai Paint Co Ltd クリヤー塗料およびその塗装法
JPH0891385A (ja) 1994-09-29 1996-04-09 Kamaya Kagaku Kogyo Co Ltd 加飾容器
JPH08102296A (ja) 1994-09-30 1996-04-16 Matsushita Electric Works Ltd 照明装置用光源カバーの製造方法
JPH08108650A (ja) 1994-10-13 1996-04-30 Brother Ind Ltd 熱転写インク用受像シート及びラベル印字用カセット
JPH08133787A (ja) 1994-11-11 1996-05-28 Asai Glass Kk 化粧品硝子容器
JPH08151455A (ja) 1994-11-29 1996-06-11 Kuraray Co Ltd ポリビニルアルコール系フィルムの製造方法
JPH08151457A (ja) 1994-09-30 1996-06-11 Takiron Co Ltd 樹脂成形品とその製造方法
JPH08155007A (ja) 1994-12-02 1996-06-18 Mitsui Petrochem Ind Ltd 薬剤充填容器製剤及びこれに用いる容器
JPH08188921A (ja) 1994-12-28 1996-07-23 Toray Ind Inc 耐候性の改善されたポリエステル系繊維およびその製造方法ならびにその繊維を用いてなる繊維製品
JPH08193136A (ja) 1995-01-17 1996-07-30 Toray Ind Inc 高透光難燃性膜材、外壁材、屋根材および農業用ハウス
JPH08197511A (ja) 1995-01-26 1996-08-06 Sanyo Chem Ind Ltd 建材用木質構造体
JPH08207218A (ja) 1995-02-02 1996-08-13 Dainippon Shikizai Kogyo Kk 軟質ポリ塩化ビニルシート及び土木建築構造物
JPH08208976A (ja) 1994-10-31 1996-08-13 Dainippon Ink & Chem Inc 蛍光顔料及び／又は蛍光染料を含むマイクロビーズ
JPH08208765A (ja) 1995-01-31 1996-08-13 Dainippon Ink & Chem Inc 熱可塑性樹脂組成物、その製造方法、耐候性改質剤およびそれを含む重合体組成物
JPH08245849A (ja) 1994-12-09 1996-09-24 Ciba Geigy Ag 安定化されたポリ塩化ビニル
JPH08258415A (ja) 1995-03-24 1996-10-08 Toppan Printing Co Ltd 感熱記録媒体
JPH08269850A (ja) 1995-03-30 1996-10-15 Toray Ind Inc 建築資材用ネットおよびメッシュ
JPH08272058A (ja) 1995-03-31 1996-10-18 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料
JPH08284063A (ja) 1995-04-10 1996-10-29 Toray Ind Inc エレクトレットシートおよびその製造方法およびフィルター基材
JPH08301363A (ja) 1995-05-02 1996-11-19 Green Cross Corp:The 液状製剤用包装袋
JPH08318592A (ja) 1995-05-25 1996-12-03 Nippon Paint Co Ltd プレコート金属板
JPH08324576A (ja) 1995-06-05 1996-12-10 Toyo Ink Mfg Co Ltd 樹脂製コンテナの表面を保護する方法及びそれに用いる樹脂製コンテナの表面を保護する塗料
JPH08324572A (ja) 1991-04-26 1996-12-10 Ppg Ind Inc 外面ポリウレタン層を有する加圧可能な熱可塑性樹脂容器およびその製造方法
JPH0912924A (ja) 1995-06-29 1997-01-14 Inter Seputo Kk 撥水性保護塗料
JPH0948935A (ja) 1995-05-31 1997-02-18 Mitsubishi Rayon Co Ltd 容器用被覆組成物及びその硬化被膜を有する容器
JPH0958687A (ja) 1995-08-11 1997-03-04 Fuji Seal Co Ltd 酒用容器
JPH0957889A (ja) 1995-08-23 1997-03-04 Toray Ind Inc 防汚膜材
JPH0959539A (ja) 1995-08-21 1997-03-04 Nippon Paint Co Ltd アルカリ可溶型保護塗料組成物
JPH0986570A (ja) 1995-09-21 1997-03-31 Toyo Seikan Kaisha Ltd 油性食品用容器
JPH0995055A (ja) 1995-09-28 1997-04-08 Toppan Printing Co Ltd 可逆性感熱記録媒体
JPH09113494A (ja) 1995-10-24 1997-05-02 Tosoh Corp 分析試薬用溶液容器
JPH09137335A (ja) 1995-11-15 1997-05-27 Toray Ind Inc メッシュ織物および陸上ネット
JPH09142539A (ja) 1995-11-14 1997-06-03 Toppan Printing Co Ltd 紫外線遮断性包装材料
JPH09157626A (ja) 1995-12-07 1997-06-17 Toppan Printing Co Ltd ラッピング用接着剤およびこの接着剤を用いたラッピング部材
JPH09157581A (ja) 1995-12-06 1997-06-17 Arakawa Toryo Kogyo Kk 板ガラスの強化及び破損時の飛散防止用塗料
JPH09169950A (ja) 1995-12-20 1997-06-30 Nof Corp 熱硬化性塗料組成物
JPH09183159A (ja) 1995-10-30 1997-07-15 Toray Ind Inc 接合シート材
JPH09221631A (ja) 1995-09-29 1997-08-26 Basf Corp 耐久性向上のためにヒドラジド化合物を含有させたコーティング
JPH09239921A (ja) 1996-03-13 1997-09-16 Toray Ind Inc 積層フイルム
JPH09239910A (ja) 1996-03-13 1997-09-16 Toppan Printing Co Ltd 即席麺容器用蓋材
JPH09241407A (ja) 1996-03-07 1997-09-16 Japan Atom Energy Res Inst 熱可塑性合成樹脂製容器の処理方法
JPH09241534A (ja) 1996-03-11 1997-09-16 Toyo Ink Mfg Co Ltd 傾斜塗料組成物
JPH09254345A (ja) 1996-03-26 1997-09-30 Toray Ind Inc 積層フイルム
JPH09263729A (ja) 1996-03-27 1997-10-07 Koji Tagami １液性紫外線遮蔽兼破損保護及び 飛散防止剤組成物
JPH09277414A (ja) 1996-04-18 1997-10-28 Mitsui Toatsu Chem Inc 建材用透湿防水シートおよびその製造方法
JPH09295664A (ja) 1996-04-30 1997-11-18 Heisei Polymer Co Ltd 食品容器用蓋材
JPH09300537A (ja) 1996-05-20 1997-11-25 Dainippon Printing Co Ltd 化粧シート
JPH09306344A (ja) 1996-05-07 1997-11-28 Toray Ind Inc プラズマディスプレイの製造方法
JPH09309260A (ja) 1996-05-21 1997-12-02 Nippon Paper Ind Co Ltd インクジェット記録媒体
JPH101587A (ja) 1996-06-13 1998-01-06 Kuraray Co Ltd 紫外線吸収剤
JPH101868A (ja) 1996-06-14 1998-01-06 Toray Ind Inc 建築工事用メッシュシートおよびその製造方法
JPH106451A (ja) 1996-06-20 1998-01-13 Achilles Corp 塩化ビニル系樹脂製化粧材
JPH1016152A (ja) 1996-06-28 1998-01-20 Achilles Corp オレフィン系樹脂積層フィルム
JPH1034841A (ja) 1996-07-19 1998-02-10 Toray Ind Inc 農業用被覆材
JPH1044352A (ja) 1996-08-02 1998-02-17 Toray Ind Inc 積層フィルム
JPH1088039A (ja) 1996-09-20 1998-04-07 Nobuhito Oohara 紫外線・近赤外線遮断塗料
JPH10140089A (ja) 1996-11-07 1998-05-26 Ciba Specialty Chem Holding Inc 増強した耐久性を持つベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤
JPH10168292A (ja) 1996-12-17 1998-06-23 Teijin Ltd 延伸ポリエステルフィルム
JPH10165045A (ja) 1996-12-06 1998-06-23 Toray Ind Inc 水中ネット
JPH10183057A (ja) 1996-12-25 1998-07-07 Wakamiya Sangyo:Kk 床用塗料
JPH10194796A (ja) 1996-11-13 1998-07-28 Sekisui Chem Co Ltd 合わせガラス用中間膜及び合わせガラス
JPH10205056A (ja) 1997-01-29 1998-08-04 Toray Ind Inc 建材用基材
JPH10203033A (ja) 1996-11-21 1998-08-04 Ricoh Co Ltd 昇華転写用受像媒体及び熱記録方法
JPH10237312A (ja) 1997-02-25 1998-09-08 Toppan Printing Co Ltd 抗菌性樹脂組成物及び成形品
JPH10237760A (ja) 1997-02-21 1998-09-08 Toray Ind Inc ポリエステル繊維構造物
US5807932A (en) 1994-10-14 1998-09-15 Ciba Specialty Chemicals Corporation Increasing the molecular weight of polycondensates
JPH10251981A (ja) 1997-03-04 1998-09-22 Teijin Ltd メタ系アラミド繊維構造物の耐光改良方法
JPH10250004A (ja) 1997-03-10 1998-09-22 Diafoil Co Ltd 窓貼り用フイルム
JPH10287804A (ja) 1997-04-16 1998-10-27 Teijin Chem Ltd 光機能性シート用組成物及びプリズムシート
JPH10298397A (ja) 1997-04-25 1998-11-10 Kyodo Yakuhin Kk スチレン系樹脂組成物
JPH10298493A (ja) 1997-04-24 1998-11-10 Otsuka Chem Co Ltd 超耐候性塗料組成物
JPH1134261A (ja) 1997-05-21 1999-02-09 Kalle Nalo Gmbh 二層の酸素遮断層を含む多層二軸延伸食品ケーシング
JPH1140833A (ja) 1997-07-22 1999-02-12 Toray Ind Inc 太陽電池カバー用積層フィルム
JPH11504954A (ja) 1995-05-04 1999-05-11 ヘンケル・コマンディットゲゼルシャフト・アウフ・アクチエン 印刷インク用非芳香族系溶媒
WO1999029490A1 (fr) 1997-12-05 1999-06-17 Gunze Limited Film retrecissable a basses temperatures pour etiquettes
JPH11180474A (ja) 1997-12-22 1999-07-06 Shiseido Co Ltd 化粧品容器
JPH11199808A (ja) 1998-01-16 1999-07-27 Seiko Epson Corp 水性インク組成物とこれを用いた記録方法、並びに、これらを用いて記録された記録物
JPH11214736A (ja) 1998-01-28 1999-08-06 Misawa Homes Co Ltd 太陽電池モジュール用カバーガラス構造
JPH11218602A (ja) * 1998-02-03 1999-08-10 Asahi Optical Co Ltd プラスチックレンズ
JPH11236734A (ja) 1998-02-20 1999-08-31 Kawai Musical Instr Mfg Co Ltd 抗菌性建築資材
JPH11247027A (ja) 1998-03-04 1999-09-14 Toray Ind Inc 極細繊維およびその製造方法
JPH11247028A (ja) 1998-03-05 1999-09-14 Toray Ind Inc 耐光性を有する極細繊維およびその製造方法
JPH11255925A (ja) 1998-03-10 1999-09-21 Asahi Chem Ind Co Ltd 医療用ポリマーの改質方法及び医療用ポリマー基材
JPH11261085A (ja) 1998-03-10 1999-09-24 Mitsubishi Plastics Ind Ltd 太陽電池用裏面保護シート
JPH11276550A (ja) 1998-02-20 1999-10-12 Bracco Internatl Bv 柔軟な医薬品容器の包装
JPH11290420A (ja) 1998-04-08 1999-10-26 Aicello Chemical Co Ltd 高純度薬品液用容器および高純度薬品液の排出方法
JPH11300880A (ja) 1998-04-24 1999-11-02 Toto Ltd 建 材
JPH11302982A (ja) 1998-04-17 1999-11-02 Toray Ind Inc 人工皮革
JPH11315175A (ja) 1998-01-21 1999-11-16 Fina Res Sa ポリオレフイン及びその使用
JPH11514387A (ja) 1995-03-27 1999-12-07 グルーポ シドゥサ，サーエー デ セーベー スチレン−ブタジエンコポリマーとポリオレフィン樹脂ベースの収縮フィルム
JPH11514689A (ja) 1995-11-03 1999-12-14 ビーエーエスエフ コーティングス アクチェンゲゼルシャフト 粉末塗料水性分散液
WO1999067337A1 (fr) 1998-06-24 1999-12-29 Seiko Epson Corporation Composition d'encre donnant une image tres stable a la lumiere
JP2000025180A (ja) 1998-07-10 2000-01-25 Tohcello Co Ltd 化粧用シートおよびその製造方法
JP2000054287A (ja) 1998-07-31 2000-02-22 Oji Paper Co Ltd オフセット印刷用新聞用紙およびその製造方法
JP2000056433A (ja) 1998-08-07 2000-02-25 Fuji Photo Film Co Ltd 写真フィルム包装体
JP2000066603A (ja) 1998-08-20 2000-03-03 Fuji Seal Inc ポリスチレン系フロスト調熱収縮ラベル
JP2000067629A (ja) 1998-08-25 2000-03-03 Mitsubishi Rayon Co Ltd 照明カバー
JP2000071626A (ja) 1998-08-31 2000-03-07 Dainippon Printing Co Ltd 保護層転写シートおよび印画物
JP2000091610A (ja) 1998-09-17 2000-03-31 Dainippon Printing Co Ltd 太陽電池のカバーフィルムおよびその製造方法、およびそのカバーフィルムを用いた太陽電池モジュール
JP2000091611A (ja) 1998-09-17 2000-03-31 Dainippon Printing Co Ltd 太陽電池のカバーフィルムおよびその製造方法、およびそのカバーフィルムを用いた太陽電池モジュール
JP2000144583A (ja) 1998-11-12 2000-05-26 Toray Ind Inc シート状物
JP2000152974A (ja) 1998-11-19 2000-06-06 Bracco Internatl Bv 液体の収納及び送出用の可撓性容器
JP2000174296A (ja) 1998-12-07 2000-06-23 Bridgestone Corp 太陽電池用カバー材、封止膜及び太陽電池
JP2000186234A (ja) 1998-12-21 2000-07-04 Toagosei Co Ltd メタリック塗料組成物
JP2000509082A (ja) 1991-01-07 2000-07-18 クラリアント・インターナシヨナル・リミテツド 塗料の安定化
JP2000223271A (ja) 1999-01-29 2000-08-11 Fuji Electric Co Ltd 有機ｅｌ素子
JP2000226778A (ja) 1998-11-30 2000-08-15 Toray Ind Inc 透湿防水加工布
JP2000224942A (ja) 1999-02-04 2000-08-15 Shimano Inc 釣り用品
JP2000231044A (ja) 1999-02-12 2000-08-22 Sumitomo Electric Ind Ltd 光ファイバテープ心線
JP2000238857A (ja) 1999-02-22 2000-09-05 Teijin Ltd ポリエチレンナフタレート製容器及びその使用方法
JP2000264879A (ja) 1999-03-18 2000-09-26 Nippon Paper Industries Co Ltd ビスベンゾオキサジノン化合物の製造方法
JP2000273362A (ja) 1999-03-25 2000-10-03 Honda Motor Co Ltd 粉体塗料組成物およびその塗膜を含む積層塗膜の形成方法
JP2000345109A (ja) 1999-06-02 2000-12-12 Mitsuo Oyanagi 美観・剥離性に優れた可剥塗料
JP2001009811A (ja) 1999-06-29 2001-01-16 Takashi Ueda セルロースと難燃剤の混合材料及びその製造方法
JP2001009357A (ja) 1999-04-30 2001-01-16 Nippon Paint Co Ltd 塗膜形成方法
JP2001026081A (ja) 1999-07-13 2001-01-30 Fujimori Kogyo Co Ltd 包装用積層体
JP2001030861A (ja) 1999-07-22 2001-02-06 Du Pont Toray Co Ltd エアバッグ用基布およびエアバッグ
JP2001048153A (ja) 1999-08-03 2001-02-20 Teijin Ltd ポリエステル製容器、その再生方法および使用方法
JP2001055541A (ja) 1999-06-28 2001-02-27 Samhwa Paints Ind Co Ltd 電磁波遮蔽用塗料
JP2001059068A (ja) 1999-08-23 2001-03-06 Toray Ind Inc 塗料用樹脂組成物
JP2001088815A (ja) 1999-09-17 2001-04-03 Alpha Techno Co Ltd ２−シアノアクリレート系組成物用ポリエチレン製容器
JP2001106218A (ja) 1999-10-05 2001-04-17 Taisei Kako Co Ltd 液剤用容器
JP2001114262A (ja) 1993-11-30 2001-04-24 Dainippon Printing Co Ltd 紙容器
JP2001115080A (ja) 1999-10-13 2001-04-24 Nippon Shokubai Co Ltd エマルション塗料
US6225384B1 (en) 1999-05-03 2001-05-01 Ciba Specialty Chemicals Corporation Stabilized adhesive compositions containing highly soluble, high extinction, photostable hydroxyphenyl-s-trianzine UV absorbers and laminated articles derived therefrom
JP2001139700A (ja) 1999-08-31 2001-05-22 Dainippon Ink & Chem Inc 光硬化性樹脂コンパウンドおよびその硬化法
JP2001159228A (ja) 1999-12-03 2001-06-12 Dainippon Printing Co Ltd 床用シート
JP2001172531A (ja) 1999-12-21 2001-06-26 Asahi Glass Co Ltd フッ素樹脂塗料用組成物および窯業系建材
JP2001181558A (ja) 1999-12-27 2001-07-03 Takeda Chem Ind Ltd 水性一時保護塗料組成物
JP2001207144A (ja) 2000-01-27 2001-07-31 Taoka Chem Co Ltd ホットメルト接着剤組成物
JP2001213427A (ja) 2000-11-29 2001-08-07 Dainippon Printing Co Ltd 紙容器
JP2001214121A (ja) 2000-02-04 2001-08-07 Shin Etsu Chem Co Ltd コーティング剤組成物並びにコーティング方法及びコーティング物品
JP2001214122A (ja) 2000-02-04 2001-08-07 Shin Etsu Chem Co Ltd 下塗り剤組成物及びコーティング方法
JP2001249430A (ja) 2000-03-07 2001-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録媒体
JP2001261904A (ja) 2000-03-22 2001-09-26 Du Pont Mitsui Polychem Co Ltd エチレン共重合体組成物
JP2001262056A (ja) 2000-03-23 2001-09-26 Kansai Paint Co Ltd ２液型水性塗料組成物
JP2001270531A (ja) 2000-03-23 2001-10-02 Toppan Printing Co Ltd プラスチック容器
JP2001279189A (ja) 2000-03-29 2001-10-10 Dainippon Ink & Chem Inc 粉体塗料の製造方法、粉体塗料および塗膜形成方法
JP2001288410A (ja) 2000-03-31 2001-10-16 Bayer Ag Ｕｖ硬化性のイソシアネート基含有ウレタン（メタ）アクリレートおよびヒドロキシル基含有ウレタン（メタ）アクリレートを含有する塗料組成物
JP2001315263A (ja) 2000-05-01 2001-11-13 Mitsubishi Rayon Co Ltd ハードコートシート、それを用いた樹脂成形品、及びその製造方法
JP2001316630A (ja) 2000-05-09 2001-11-16 Nippon Paint Co Ltd 上塗り用塗料組成物
JP2001323082A (ja) 2000-05-15 2001-11-20 Toyobo Co Ltd 熱収縮性ポリエステル系フィルム
JP2001348785A (ja) 2000-06-06 2001-12-21 Du Pont Toray Co Ltd 全芳香族ポリアミド繊維の処理方法および処理繊維
JP2002036441A (ja) 2000-07-19 2002-02-05 Lintec Corp ハードコートフィルム
JP2002036452A (ja) 2000-07-21 2002-02-05 Lintec Corp 高精細防眩性ハードコートフィルム
JP2002038084A (ja) 2000-07-21 2002-02-06 Kansai Paint Co Ltd アニオン型電着塗料組成物
JP2002053824A (ja) 2000-06-02 2002-02-19 Fuji Photo Film Co Ltd 紫外線吸収粘着フイルム
JP2002068322A (ja) 2000-08-24 2002-03-08 Shiseido Co Ltd 耐光性化粧料容器および無色透明化粧料容器の黄ばみ評価方法
JP2002069331A (ja) 2000-08-30 2002-03-08 Dainippon Ink & Chem Inc 電子線硬化型塗料組成物
JP2002080788A (ja) 2000-09-06 2002-03-19 Fuji Photo Film Co Ltd 紫外線吸収塗料
JP2002080781A (ja) 2000-09-11 2002-03-19 Nippon Yushi Basf Coatings Kk 熱硬化性塗料組成物
JP2002113937A (ja) 2000-10-06 2002-04-16 Kobayashi Kirokushi Co Ltd 偽造防止帳票
JP2002114879A (ja) 2000-07-26 2002-04-16 Ciba Specialty Chem Holding Inc 薄い厚さの透明ポリマー製品
JP2002127596A (ja) 2000-08-15 2002-05-08 Dainippon Ink & Chem Inc インク受理層用組成物、被記録材、及びそれを用いてなる印刷物
JP2002127310A (ja) 2000-10-25 2002-05-08 Dainippon Printing Co Ltd 水滴付着防止性及び熱線遮断性を有するガラス板
JP2002130591A (ja) 2000-10-26 2002-05-09 Nippon Mitsubishi Oil Corp 給油カップ及び給油装置
JP2002160321A (ja) 2000-11-22 2002-06-04 Haruhiko Watanabe ガスバリヤ性プラスチック
JP2002161158A (ja) 2000-11-24 2002-06-04 C I Kasei Co Ltd ポリエステル樹脂製建材
JP2002167545A (ja) 2000-12-01 2002-06-11 Kansai Paint Co Ltd 一回塗装仕上げ用防食塗料組成物
JP2002178625A (ja) 2000-12-11 2002-06-26 Daicel Chem Ind Ltd インクジェット記録用樹脂組成物および記録シート
JP2002189415A (ja) 2000-12-20 2002-07-05 Dainippon Printing Co Ltd 遮光性印刷ラベル
JP2002207845A (ja) 2001-01-09 2002-07-26 Un Tochi Riyo Kenkyusho:Kk 土地利用促進システム
JP2002212884A (ja) 2001-01-12 2002-07-31 Teijin Ltd 繊維構造物への機能付与方法
JP2002212237A (ja) 2001-01-15 2002-07-31 Ipposha Oil Ind Co Ltd インクジェット記録シート用紫外線吸収剤
JP2002226764A (ja) 2001-01-31 2002-08-14 Asahi Glass Co Ltd 建材用塗装物品
JP2002235028A (ja) 2001-02-09 2002-08-23 Ishihara Chem Co Ltd 光触媒塗料組成物
JP2002527559A (ja) 1998-10-12 2002-08-27 クラリアント・インターナシヨナル・リミテツド 着色、成形された固形ワックス物品
JP2002264979A (ja) 2001-03-12 2002-09-18 Shiseido Co Ltd 高粘度中味用のディスペンサー容器
JP2002271227A (ja) 2001-03-09 2002-09-20 Aiwa Co Ltd 無線通信機器
JP2002294165A (ja) 2001-03-30 2002-10-09 Nippon Paint Co Ltd カチオン電着塗料用ハジキ防止方法及びハジキ防止剤
JP2002293706A (ja) 2001-01-25 2002-10-09 Nishinihon Green Research Institute 芝の紫斑防止剤
JP2002307845A (ja) 2001-04-16 2002-10-23 Dainippon Printing Co Ltd 中間転写記録媒体及び画像形成方法
JP2002307619A (ja) 2001-04-11 2002-10-23 Dainippon Printing Co Ltd 硬質塗膜塗工物品
JP2002322360A (ja) 2001-02-21 2002-11-08 Toray Ind Inc ポリフェニレンサルファイド部材
JP2002356655A (ja) 2001-03-27 2002-12-13 Nippon Paint Co Ltd 硬化性塗料組成物および塗膜形成方法
JP2002543266A (ja) 1999-05-03 2002-12-17 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド 高度に溶解性で、レッド−シフトされた、光安定なベンゾトリアゾール紫外線吸収剤を含む安定化された接着剤組成物及びそれから誘導された積層物品
JP2002367227A (ja) 2001-06-04 2002-12-20 Fuji Photo Film Co Ltd 光情報記録媒体
JP2002370723A (ja) 2001-06-13 2002-12-24 Toppan Printing Co Ltd Ｐｅｔ二層延伸ブロー成形容器
WO2003002661A1 (en) 2001-06-28 2003-01-09 Toray Industries, Inc. Epoxy resin composition excellent in weather resistance and fiber-reinforced composite materials
JP2003019776A (ja) 2001-07-06 2003-01-21 Dainippon Printing Co Ltd 化粧鋼板用ポリオレフィン系化粧シート及び化粧鋼板
JP2003020966A (ja) 2001-07-04 2003-01-24 Toyota Motor Corp 機関作動特性変更手段のロック待機作動制御方法
JP2003025478A (ja) 2001-07-17 2003-01-29 Lintec Corp ハードコートフィルム
JP2003039607A (ja) 2001-07-27 2003-02-13 Lintec Corp 帯電防止性ハードコートフィルム及びその製造方法
JP2003041434A (ja) 2001-07-23 2003-02-13 Toray Ind Inc 衣料用ポリアミド繊維
JP2003049065A (ja) 2001-08-07 2003-02-21 Ge Plastics Japan Ltd ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物
JP2003082608A (ja) 2001-06-27 2003-03-19 Dainippon Ink & Chem Inc 歩行路用舗装材及びその製造方法
JP2003145949A (ja) 2001-11-08 2003-05-21 Minolta Co Ltd 可逆性感熱記録媒体及び該記録媒体を備えた情報記録表示カード
JP2003147617A (ja) 2001-11-07 2003-05-21 Gunze Ltd 紫外線吸収性繊維製品及びその製造方法
JP2003155375A (ja) 2001-11-20 2003-05-27 Takemoto Oil & Fat Co Ltd 熱可塑性高分子用紫外線吸収剤
JP2003160724A (ja) 2001-09-11 2003-06-06 Ge Plastics Japan Ltd ポリカーボネート系樹脂組成物
JP2003177235A (ja) 2001-10-03 2003-06-27 Eastman Kodak Co Ｕｖフィルター素子
JP2003200966A (ja) 2002-01-08 2003-07-15 Dainippon Printing Co Ltd 遮光性シュリンクフィルム
JP2003206422A (ja) 2002-01-16 2003-07-22 Pilot Corp 水性インキ組成物
JP2003211606A (ja) 2002-01-17 2003-07-29 Teijin Dupont Films Japan Ltd 成形部材表装用ポリエステルフィルム
JP2003211538A (ja) 2002-01-25 2003-07-29 Teijin Dupont Films Japan Ltd 表装用ポリエステルフィルム
JP2003524019A (ja) 2000-02-22 2003-08-12 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド オリゴマー性紫外線吸収剤を有するｒｏｍｐ
JP2003525325A (ja) 2000-02-28 2003-08-26 バイエル アクチェンゲゼルシャフト 高固形分焼付ラッカー用水性塗料およびその使用
JP2003239136A (ja) 2002-02-12 2003-08-27 Teijin Ltd 高耐光性全芳香族ポリアミド繊維構造物
JP2003239181A (ja) 2002-02-12 2003-08-27 Toray Ind Inc 人工皮革およびその製造方法
JP2003237825A (ja) 2002-02-12 2003-08-27 Nakagawa Kaseihin Kk 食品の容器・包装材料用透明樹脂組成物
JP2003526650A (ja) * 2000-03-17 2003-09-09 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング キノキサリン誘導体を含む調製物
JP2003253265A (ja) 2002-02-27 2003-09-10 Dainippon Ink & Chem Inc 調光層形成材料及び液晶デバイス
JP2003266926A (ja) 2002-03-18 2003-09-25 Mitsubishi Paper Mills Ltd インクジェット被記録材
JP2003266927A (ja) 2002-03-19 2003-09-25 Mitsubishi Paper Mills Ltd インクジェット被記録材
JP2003528974A (ja) 2000-03-28 2003-09-30 ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト 紡織繊維に対して親和性を有するｕｖ吸収剤混合物
JP2003328523A (ja) 2002-05-09 2003-11-19 Kubota Corp 装飾用建材
JP2003339503A (ja) 2002-05-31 2003-12-02 Toray Ind Inc 保温毛布
JP2004000937A (ja) 2002-04-09 2004-01-08 Hiraga Kikai Kogyo Kk 粘着剤付着防止装置
JP2004003191A (ja) 2002-05-31 2004-01-08 Dainippon Printing Co Ltd 床材及びその製造方法
JP2004002700A (ja) 2002-04-01 2004-01-08 Nippon Steel Corp 静電気による障害の発生しにくいプレコート金属板用塗料組成物及びプレコート金属板
JP2004011062A (ja) 2002-06-07 2004-01-15 Toray Ind Inc 保温靴下
JP2004051174A (ja) 2002-07-22 2004-02-19 Mitsubishi Pharma Corp 透明包装袋及びこれで外包装された液状製剤包装体
JP2004050460A (ja) 2002-07-17 2004-02-19 Dainippon Printing Co Ltd 無機蒸着樹脂フィルムおよびそれを使用した積層材
JP2004075888A (ja) 2002-08-20 2004-03-11 Konica Minolta Holdings Inc 蛍光塗料または蛍光インク並びに蛍光画像及びその形成方法
JP2004083858A (ja) 2002-06-05 2004-03-18 Ems-Chemie Ag 改良された透明度、耐薬品性および高い永久疲労強度を有する透明ポリアミド成形材料
JP2004107700A (ja) 2002-09-13 2004-04-08 Nippon Paint Co Ltd 電線の塗装方法及び絶縁電線
JP2004114355A (ja) 2002-09-24 2004-04-15 Lintec Corp ハードコートフィルム
JP2004137457A (ja) 2002-08-22 2004-05-13 Lintec Corp ポリカーボネート用表面保護フィルム
JP2004162021A (ja) 2002-07-26 2004-06-10 Sanyo Chem Ind Ltd 粉体塗料およびスラリー塗料
JP2004168057A (ja) 2002-11-07 2004-06-17 Matsushita Electric Works Ltd フッ素系複合樹脂フィルム及び太陽電池
JP2004169182A (ja) 2002-11-08 2004-06-17 Nippon Paint Co Ltd 硬化傾斜塗膜およびこの塗膜を含む積層塗膜の形成方法
JP2004181813A (ja) 2002-12-04 2004-07-02 Fuji Photo Film Co Ltd インクジェット記録用シート
JP2004520284A (ja) 2000-11-27 2004-07-08 チバ　スペシャルティ　ケミカルズ　ホールディング　インコーポレーテッド Ｕｖ吸収剤としての置換５−アリール及び５−ヘテロアリール−２−（２−ヒドロキシフェニル）−２ｈ−ベンゾトリアゾール誘導体
JP2004217727A (ja) 2003-01-10 2004-08-05 Nippon Technical System Kk 眼精疲労防止用塗料組成物および眼精疲労防止用塗料
JP2004227843A (ja) 2003-01-21 2004-08-12 Mitsubishi Rayon Co Ltd 色素増感型太陽電池保護用アクリル樹脂フィルム
JP2004525273A (ja) 2001-03-27 2004-08-19 チバ　スペシャルティ　ケミカルズ　ホールディング　インコーポレーテッド ベンズトリアゾール吸収剤を含む布すすぎ組成物
JP2004243674A (ja) 2003-02-14 2004-09-02 Toppan Printing Co Ltd 紫外線遮断性を有する透明バリア性包装材料
JP2004530024A (ja) 2001-06-06 2004-09-30 チバ　スペシャルティ　ケミカルズ　ホールディング　インコーポレーテッド Ｕｖ吸収剤と金属との組み合わせにより安定化されているロウソクのロウ組成物
JP2004285517A (ja) 2003-03-24 2004-10-14 Toray Ind Inc 肌着
JP2004285516A (ja) 2003-03-24 2004-10-14 Toray Ind Inc 裏地
JP2004285189A (ja) 2003-03-20 2004-10-14 Mitsubishi Plastics Ind Ltd 紫外線遮断性ポリエステルシート及び包装体
JP2004532306A (ja) 2001-04-02 2004-10-21 チバ　スペシャルティ　ケミカルズ　ホールディング　インコーポレーテッド ｓ−トリアジン／ＨＡＬＳで安定化されたロウソクのワックス
WO2004093775A1 (ja) 2003-04-23 2004-11-04 Otsuka Pharmaceutical Factory, Inc. 薬液充填プラスチックアンプルおよびその製造方法
JP2004352783A (ja) 2003-05-27 2004-12-16 Matsushita Electric Works Ltd 封止用樹脂組成物
JP2004352847A (ja) 2003-05-29 2004-12-16 Teijin Dupont Films Japan Ltd ポリエステルフィルムおよびボトル用ラベル
JP2005023111A (ja) 2003-06-30 2005-01-27 Union Chemicar Co Ltd マスキング用インク
JP2005037642A (ja) 2003-07-14 2005-02-10 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 多チャネル光モジュール
JP2005504735A (ja) 2001-07-02 2005-02-17 チバ　スペシャルティ　ケミカルズ　ホールディング　インコーポレーテッド 薄肉フィルム用途の高分子量ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール紫外線吸収剤
JP2005044154A (ja) 2003-07-23 2005-02-17 Gunze Ltd タッチパネル
JP2005055615A (ja) 2003-08-01 2005-03-03 Dainippon Printing Co Ltd 投影スクリーン
JP2005074735A (ja) 2003-08-29 2005-03-24 Dainippon Printing Co Ltd 金属板化粧用シート
JP2005105131A (ja) 2003-09-30 2005-04-21 Dainippon Ink & Chem Inc 調光材料、調光フィルムおよびその製造方法
JP2005105004A (ja) 2003-09-26 2005-04-21 Asahi Denka Kogyo Kk 耐候性の改善されたポリエステル樹脂製容器
JP2005105032A (ja) 2003-09-29 2005-04-21 Asahi Kasei Chemicals Corp 重合体組成物からなる熱収縮性フィルム
JP2005129713A (ja) 2003-10-23 2005-05-19 Sharp Corp 薄膜太陽電池およびその製造方法
JP2005129926A (ja) 2003-10-03 2005-05-19 Du Pont Mitsui Polychem Co Ltd 太陽電池封止材用シート
JP2005132999A (ja) 2003-10-31 2005-05-26 Dainippon Ink & Chem Inc ハードコートフィルムの作成方法
JP2005146278A (ja) 2003-11-13 2005-06-09 Eastman Chem Co 包装材料又は容器内容物保護用の紫外線遮断組成物
JP2005517822A (ja) 2002-02-18 2005-06-16 チバ　スペシャルティ　ケミカルズ　ホールディング　インコーポレーテッド セルロース繊維材料の紫外線防護指数を改善する方法
JP2005156220A (ja) 2003-11-21 2005-06-16 Toppan Printing Co Ltd 酸素インジケータ及び酸素インジケータを配置した包装体
JP2005517787A (ja) 2002-02-19 2005-06-16 チバ　スペシャルティ　ケミカルズ　ホールディング　インコーポレーテッド 紫外線の影響に対して内容物を保護するための、ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール紫外線吸収剤を含む容器又はフィルム。
JP2005178832A (ja) 2003-12-19 2005-07-07 Konica Minolta Medical & Graphic Inc 紫外線硬化型インク用包装材料及び紫外線硬化型インク用容器
JP2005189645A (ja) 2003-12-26 2005-07-14 Fuji Photo Film Co Ltd 円偏光板、および円偏光板を有する有機ｅｌデイスプレー素子
JP2005255736A (ja) 2004-03-09 2005-09-22 Toyo Seikan Kaisha Ltd バリアー性及び透明性を有する生分解性容器
JP2005278678A (ja) 2004-03-26 2005-10-13 Nippon Zeon Co Ltd 化粧品容器と美爪料の保存方法
JP2005294170A (ja) 2004-04-02 2005-10-20 Shin Etsu Polymer Co Ltd 押釦スイッチ用カバー部材
JP2005300962A (ja) 2004-04-13 2005-10-27 Dainippon Ink & Chem Inc 調光材料、調光フィルムおよび調光ガラスならびにその製造方法
JP2005307161A (ja) 2004-03-22 2005-11-04 Kansai Paint Co Ltd アニオン電着塗料と塗装物品
JP2005305745A (ja) 2004-04-20 2005-11-04 Toppan Printing Co Ltd 紫外線吸収フィルムおよびそのフィルムを用いた包装体
JP2005304340A (ja) 2004-04-19 2005-11-04 Matsushita Electric Works Ltd 防蛾灯
JP2005314495A (ja) 2004-04-27 2005-11-10 Dainichiseika Color & Chem Mfg Co Ltd 防曇塗料、防曇性フィルムおよびその製造方法
JP2005533915A (ja) 2002-07-26 2005-11-10 チバ　スペシャルティ　ケミカルズ　ホールディング　インコーポレーテッド 有機溶媒ベースの印刷インク
JP2005320408A (ja) 2004-05-07 2005-11-17 Dainippon Ink & Chem Inc ガラス容器用水性被覆剤及びガラス容器
JP2005326761A (ja) 2004-05-17 2005-11-24 Mitsubishi Rayon Co Ltd 光学特性に優れた導光体
JP2005325150A (ja) 2004-05-12 2005-11-24 Fuji Photo Film Co Ltd インク組成物
JP2005346999A (ja) 2004-06-01 2005-12-15 Mitsubishi Polyester Film Copp 色素増感太陽電池用ポリエステルフィルム
JP2005350559A (ja) 2004-06-10 2005-12-22 Fuji Photo Film Co Ltd インク組成物
JP2005353554A (ja) 2004-06-14 2005-12-22 Matsushita Electric Works Ltd 照明器具
JP2006001568A (ja) 2004-06-16 2006-01-05 Asahi Denka Kogyo Kk 耐候性の改善されたポリエステル樹脂製容器
JP2006008811A (ja) 2004-06-24 2006-01-12 Canon Inc 分散性色材、及び該色材を含む水性インクジェット記録用インク
JP2006501339A (ja) 2002-10-02 2006-01-12 チバ　スペシャルティ　ケミカルズ　ホールディング　インコーポレーテッド Ｕｖ吸収剤の相乗的組合せ
JP2006016710A (ja) 2004-06-30 2006-01-19 Teijin Techno Products Ltd 合成繊維の処理方法
JP2006022300A (ja) 2004-06-09 2006-01-26 National Printing Bureau 耐光性ｄｎａインキ
JP2006030596A (ja) 2004-07-16 2006-02-02 Dainippon Printing Co Ltd レンチキュラーレンズシート、その製造方法、透過型スクリーン及び背面投射型表示装置
JP2006063162A (ja) 2004-08-26 2006-03-09 Tsutsunaka Plast Ind Co Ltd 紫外線硬化型塗料
JP2006070190A (ja) 2004-09-03 2006-03-16 Toyo Ink Mfg Co Ltd 印刷インキ及び包装材料
JP2006089697A (ja) 2004-09-27 2006-04-06 Nippon Paint Co Ltd ポリカーボネートフィルム被覆方法
JP2006514130A (ja) 2003-01-29 2006-04-27 チバ　スペシャルティ　ケミカルズ　ホールディング　インコーポレーテッド インクジェットインクおよび記録材料
JP2006130807A (ja) 2004-11-08 2006-05-25 Toppan Printing Co Ltd 遮光性包装材料と該遮光性包装材料を用いた包装袋
JP2006160847A (ja) 2004-12-06 2006-06-22 Dainippon Ink & Chem Inc プラスチック塗装成形物
JP2006167996A (ja) 2004-12-13 2006-06-29 Ricoh Co Ltd 可逆性感熱記録媒体、並びに、可逆性感熱記録ラベル、可逆性感熱記録部材、画像処理装置及び画像処理方法
JP2006210906A (ja) 2004-12-28 2006-08-10 Mitsui Chemical Fabro Inc 太陽電池封止材
JP2006224317A (ja) 2005-02-15 2006-08-31 Toppan Printing Co Ltd 遮光性積層フィルムおよびそのフィルムを用いた遮光性包装体
JP2006233010A (ja) 2005-02-24 2006-09-07 Chugoku Electric Power Co Inc:The 補修用塗料
JP2006240734A (ja) 2004-03-05 2006-09-14 L'oreal Sa 光に対して保護するためのワニスを被覆した包装材料
WO2006097201A1 (de) 2005-03-16 2006-09-21 Basf Coatings Ag Mehrschichtlackierungen, verfahren zu ihrer herstellung und deren verwendung im automobilbau
JP2006257165A (ja) 2005-03-15 2006-09-28 Bii Son Yun ホトクロミックインク組成物、これの製造方法及びこれを利用した原反の印刷方法。
JP2006521941A (ja) 2003-04-01 2006-09-28 トレス アンレーイ アクティーゼルスカブ フレキソ印刷インク及びラッカーを用いる印刷
JP2006257144A (ja) 2005-03-15 2006-09-28 Dainippon Printing Co Ltd 太陽電池モジュール用表面保護シート
JP2006265770A (ja) 2005-03-24 2006-10-05 Toray Ind Inc ポリフェニレンスルフィド・ナノファイバーを含む混繊糸または混紡糸または織編物
JP2006266042A (ja) 2005-03-25 2006-10-05 Matsushita Electric Works Ltd 建材及びその色調変更方法
JP2006266402A (ja) 2005-03-24 2006-10-05 Kayaba Ind Co Ltd リリーフバルブ
JP2006274179A (ja) 2005-03-30 2006-10-12 Ntn Corp 高誘電性エラストマー組成物および高周波用電子部品
JP2006274197A (ja) 2005-03-30 2006-10-12 Gunze Ltd 樹脂フィルムシート接合用シール剤、筒状フィルム、シール剤未塗布部検出装置、不可視光吸収剤添加装置、シール剤未塗布部検出システム及びシール剤未塗布部検出方法
JP2006271781A (ja) 2005-03-30 2006-10-12 Toppan Printing Co Ltd 医療品用滅菌包装袋の製造方法
JP2006282970A (ja) 2005-04-05 2006-10-19 Teijin Dupont Films Japan Ltd 色素増感型太陽電池用積層フィルムおよびそれを用いた色素増感型太陽電池用電極
JP2006293155A (ja) 2005-04-13 2006-10-26 Fuji Photo Film Co Ltd 画像表示装置
JP2006299438A (ja) 2005-04-18 2006-11-02 Teijin Fibers Ltd 紫外線カット性と採光性に優れた布帛および繊維製品
JP2006301268A (ja) 2005-04-20 2006-11-02 Fuji Photo Film Co Ltd 画像表示装置及び画像形成方法
JP2006299428A (ja) 2005-04-15 2006-11-02 Teijin Fibers Ltd 鮮明性に優れた紫外線吸収性ポリエステル繊維および布帛および製織方法
JP2006298456A (ja) 2005-04-22 2006-11-02 Toyo Ink Mfg Co Ltd 飲料用容器
JP2006310461A (ja) 2005-04-27 2006-11-09 Teijin Dupont Films Japan Ltd 太陽電池裏面保護膜用ポリエステルフィルムおよびそれを用いた太陽電池裏面保護膜
JP2006306020A (ja) 2005-03-31 2006-11-09 Dainippon Printing Co Ltd 化粧シート
JP2006316395A (ja) 2005-05-16 2006-11-24 Kaneka Corp 難燃性ポリエステル系人工毛髪
JP2006323339A (ja) 2005-04-20 2006-11-30 Gunze Ltd シュリンクラベル
JP2006335855A (ja) 2005-06-01 2006-12-14 Shin Etsu Chem Co Ltd 紫外線吸収性基含有オルガノポリシロキサン、該ポリシロキサンの製造方法、及び該ポリシロキサンを配合してなる処理剤
JP2007093649A (ja) 2005-09-27 2007-04-12 Tsutsunaka Plast Ind Co Ltd 偏光レンズ
JP3915339B2 (ja) 1999-09-10 2007-05-16 富士ゼロックス株式会社 調光ガラス
JP2008273927A (ja) * 2007-03-30 2008-11-13 Fujifilm Corp ヘテロ環化合物
JP2009096974A (ja) * 2007-02-20 2009-05-07 Fujifilm Corp 紫外線吸収剤組成物

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1793272A4 (en) * 2004-08-24 2008-01-23 Fujifilm Corp PHOTOGRAPHIC PHOTOSENSITIVE COLOR MATERIAL BASED ON SILVER HALIDE AND METHOD OF FORMING IMAGES
JP2010132846A (ja) * 2008-03-30 2010-06-17 Fujifilm Corp 樹脂成形物及びポリマーフィルム

Patent Citations (419)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0232298B2 (ja) 1976-05-04 1990-07-19 Ciba Geigy
GB2016017A (en) 1978-02-13 1979-09-19 Konishiroku Photo Ind Process for preparing impregnated polymer latex composition
JPS55129136A (en) 1979-03-27 1980-10-06 Fuji Photo Film Co Ltd Emulsifying method
EP0027242A1 (en) 1979-10-12 1981-04-22 Minnesota Mining And Manufacturing Company Polymeric ultraviolet absorbers, photographic material including them, and process
US4259467A (en) 1979-12-10 1981-03-31 Bausch & Lomb Incorporated Hydrophilic contact lens made from polysiloxanes containing hydrophilic sidechains
US4355147A (en) 1981-02-26 1982-10-19 Bausch & Lomb Incorporated Polysiloxane with polycyclic modifier composition and biomedical devices
JPS6350691B2 (ja) 1981-06-10 1988-10-11 Fuji Photo Film Co Ltd
JPH0340373B2 (ja) 1981-12-17 1991-06-18
JPH0153455B2 (ja) 1982-04-14 1989-11-14 Fuji Photo Film Co Ltd
JPS58209735A (ja) 1982-06-01 1983-12-06 Konishiroku Photo Ind Co Ltd カラ−写真感光材料
JPH0244052B2 (ja) 1982-06-29 1990-10-02 Konishiroku Photo Ind Harogenkaginkaraashashinseihin
JPH0237575B2 (ja) 1982-08-31 1990-08-24 Konishiroku Photo Ind
JPH0339296B2 (ja) 1982-09-21 1991-06-13 Ciba Geigy
JPH0250457B2 (ja) 1983-01-07 1990-11-02 Fuji Photo Film Co Ltd
JPH0649368A (ja) 1983-07-30 1994-02-22 Dainippon Ink & Chem Inc 自動車補修塗料用樹脂組成物
US4931382A (en) 1984-06-08 1990-06-05 Fuji Photo Film Co., Ltd. Silver halide color photographic light-sensitive material
JPH0570809B2 (ja) 1985-02-02 1993-10-05 Fuji Photo Film Co Ltd
JPS61189530A (ja) 1985-02-16 1986-08-23 アグフア‐ゲヴエルト・アクチエンゲゼルシヤフト 感光性の安定化された写真記録材料
JPH0249762A (ja) 1985-04-15 1990-02-20 Stepan Co 三酸化イオウ・アシルオキシベンゼン付加物および貯蔵安定な組成物
EP0203746B1 (en) 1985-05-11 1990-11-14 Konica Corporation Light-sensitive silver halide photographic material
JPH0619534B2 (ja) 1985-06-10 1994-03-16 富士写真フイルム株式会社 カラ−写真材料
US4906555A (en) 1985-10-18 1990-03-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Silver halide color photographic material comprising specified couplers and anti-fading agents
JPS62227889A (ja) 1986-03-31 1987-10-06 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd バラ積貨物船の横隔壁の構造
JPH0567220B2 (ja) 1986-04-16 1993-09-24 Fuji Photo Film Co Ltd
JPS62244046A (ja) 1986-04-16 1987-10-24 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラ−写真感光材料
EP0264730B1 (en) 1986-10-10 1993-07-14 Konica Corporation Silver halide photographic light-sensitive material to provide dye-image with improved color-fastness to light
US4749645A (en) 1986-10-21 1988-06-07 Eastman Kodak Company Heterocyclic phosphorus compound stabilizers
JPH0697332B2 (ja) 1987-03-09 1994-11-30 コニカ株式会社 有機着色物質の光褪色防止方法
JPH0697334B2 (ja) 1987-04-14 1994-11-30 コニカ株式会社 有機着色物質の光褪色防止方法
JPS63264748A (ja) 1987-04-22 1988-11-01 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラ−写真感光材料
EP0309401A1 (en) 1987-09-21 1989-03-29 Ciba-Geigy Ag Stabilization of coatings with N-hydroxy hindered amines
EP0309400A2 (en) 1987-09-21 1989-03-29 Ciba-Geigy Ag N-acyloxy hindered amine stabilizers
EP0309402A1 (en) 1987-09-21 1989-03-29 Ciba-Geigy Ag N-substituted hindered amine stabilizers
US4933271A (en) 1987-09-30 1990-06-12 Ciba-Geigy Ag Stabilizers for color photography recording materials
JPH01261085A (ja) 1988-04-12 1989-10-18 Fujitsu Ltd 画像拡大表示装置
US4980275A (en) 1988-04-13 1990-12-25 Eastman Kodak Company Photographic material and process comprising a dye stabilizer
JPH02139544A (ja) 1988-08-15 1990-05-29 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料
JPH02181145A (ja) 1988-11-22 1990-07-13 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料
JPH02148037A (ja) 1988-11-30 1990-06-06 Dainippon Printing Co Ltd 伝送画像製版システム
JPH02150841A (ja) 1988-12-02 1990-06-11 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料
JPH02194062A (ja) 1989-01-20 1990-07-31 Konica Corp 有機着色物質の光褪色防止方法
JPH02208653A (ja) 1989-02-08 1990-08-20 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料
JPH02217845A (ja) 1989-02-20 1990-08-30 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料
DE4008785A1 (de) 1989-03-22 1990-09-27 Ciba Geigy Ag Stabilisatoren fuer farbphotographische aufzeichnungsmaterialien
JPH0348242A (ja) 1989-04-18 1991-03-01 Konica Corp ハロゲン化銀カラー写真感光材料
JPH0325437A (ja) 1989-06-22 1991-02-04 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料
JPH0348845A (ja) 1989-07-18 1991-03-01 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料および該感材を用いて得られたカラー写真
JPH0396940A (ja) 1989-09-11 1991-04-22 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料
JPH03142444A (ja) 1989-10-27 1991-06-18 Konica Corp 色素画像の堅牢性が改良されたハロゲン化銀写真感光材料
JPH03200758A (ja) 1989-12-28 1991-09-02 Konica Corp スルホン酸エステル誘導体及び含窒素６員環化合物の製造方法
WO1991011749A1 (en) 1990-01-23 1991-08-08 Kodak Limited Photographic silver halide materials containing a stabiliser compound
JPH03266836A (ja) 1990-03-16 1991-11-27 Konica Corp 色素画像の堅牢性が改良されたハロゲン化銀写真感光材料
JPH04191851A (ja) 1990-11-27 1992-07-10 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料
JP2000509082A (ja) 1991-01-07 2000-07-18 クラリアント・インターナシヨナル・リミテツド 塗料の安定化
JPH04330440A (ja) 1991-02-08 1992-11-18 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料
JPH0578606A (ja) 1991-02-21 1993-03-30 Ciba Geigy Ag 光誘起の崩壊に対して安定化された塗料
JPH08324572A (ja) 1991-04-26 1996-12-10 Ppg Ind Inc 外面ポリウレタン層を有する加圧可能な熱可塑性樹脂容器およびその製造方法
JPH05272076A (ja) 1991-05-02 1993-10-19 Ciba Geigy Ag 皮革の耐光堅牢性を改良する方法
JPH0561166A (ja) 1991-05-28 1993-03-12 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料
JPH04350854A (ja) 1991-05-29 1992-12-04 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料
JPH059870A (ja) 1991-07-05 1993-01-19 Toray Ind Inc 耐光性良好な繊維構造物およびその製造方法
JPH05117508A (ja) 1991-10-28 1993-05-14 Kuraray Co Ltd 紫外線遮蔽性能を有するポリエステル組成物、該ポリエステル組成物の製造方法および繊維
JPH05139434A (ja) 1991-11-11 1993-06-08 Idemitsu Kosan Co Ltd 液体燃料貯蔵容器
JPH05148703A (ja) 1991-11-27 1993-06-15 Toray Ind Inc 清涼衣料
JPH05193037A (ja) 1992-01-16 1993-08-03 Toray Ind Inc 張り腰のある透湿・防水性シート
JPH05185031A (ja) 1992-01-17 1993-07-27 Nissan Motor Co Ltd 自動車用上塗り塗膜
JPH05253559A (ja) 1992-03-10 1993-10-05 Toshiba Corp 廃棄物の処理方法
JPH05254277A (ja) 1992-03-11 1993-10-05 Dainippon Printing Co Ltd 紫外線硬化型インキによる印刷層を有する印刷物及びその製造方法
JPH05256464A (ja) 1992-03-12 1993-10-05 Kuraray Co Ltd ホットカーペットおよびホットカーペットカバー
JPH05339033A (ja) 1992-03-31 1993-12-21 Sumitomo Cement Co Ltd 紫外線遮断ガラスの製造方法、自動車用窓ガラス及び建築用窓ガラス
JPH05345639A (ja) 1992-04-15 1993-12-27 Honjiyou Chem Kk 透明酸化亜鉛膜形成用溶液組成物
JPH05305975A (ja) 1992-04-17 1993-11-19 Goou Kagaku Kogyo Kk 紫外線遮蔽機能を有する容器
JPH05323545A (ja) 1992-05-19 1993-12-07 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料
JPH061945A (ja) 1992-06-19 1994-01-11 Toray Ind Inc 塗装鋼板用塗料組成物
JPH0656466A (ja) 1992-08-05 1994-03-01 Asahi Glass Co Ltd 日射透過率及び紫外線透過率の小さいガラス
JPH06114991A (ja) 1992-10-02 1994-04-26 Toray Ind Inc 複合不織布
JPH06130602A (ja) 1992-10-19 1994-05-13 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料
JPH06145387A (ja) 1992-11-09 1994-05-24 Central Glass Co Ltd 紫外線吸収透明体
JPH06148837A (ja) 1992-11-13 1994-05-27 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料
JPH0776580A (ja) 1992-12-17 1995-03-20 Ciba Geigy Ag カチオン性化合物、その製造方法及び塩基性の被染色性ポリアミド繊維材料の光化学的安定化のための、その用途
JPH073955A (ja) 1992-12-29 1995-01-06 Takiron Co Ltd 建 材
JPH06228818A (ja) 1993-02-01 1994-08-16 Teijin Ltd 改質ポリエステル繊維の製造方法
JPH06228816A (ja) 1993-02-02 1994-08-16 Kuraray Co Ltd 耐光性に優れたポリウレタン繊維の製法
JPH06313148A (ja) 1993-04-28 1994-11-08 Central Glass Co Ltd ステンレス用コーティング組成物
JPH06346022A (ja) 1993-06-03 1994-12-20 Honen Corp コンクリート剥離用塗料および該塗料を塗装した型枠
JPH073189A (ja) 1993-06-21 1995-01-06 Akiyama Seiji ランプ用防虫塗料
JPH0718584A (ja) 1993-06-30 1995-01-20 Toray Ind Inc 難燃性人工スエード状構造物およびその製造方法
JPH0726177A (ja) 1993-07-16 1995-01-27 Sekisui Jushi Co Ltd 紫外線遮蔽塗料及び紫外線遮蔽性透明体
JPH0740954A (ja) 1993-07-19 1995-02-10 Mitsubishi Chem Corp 紫外線遮断性多層容器
JPH0782454A (ja) 1993-09-10 1995-03-28 Nissan Motor Co Ltd 熱硬化型塗料組成物及び塗装体
JPH07119036A (ja) 1993-10-15 1995-05-09 Teijin Ltd 耐光堅牢度の改良されたポリエステル繊維
JPH07118576A (ja) 1993-10-19 1995-05-09 Saraya Kk 光増感抗菌性塗料
JP2001114262A (ja) 1993-11-30 2001-04-24 Dainippon Printing Co Ltd 紙容器
JPH07196631A (ja) 1993-12-06 1995-08-01 Ciba Geigy Ag 非染色及び染色又は捺染したポリエステル繊維材料を光化学的及び熱的に安定化する方法
JPH07166112A (ja) 1993-12-10 1995-06-27 Nippon Paint Co Ltd カチオン電着塗料組成物
JPH07164729A (ja) 1993-12-17 1995-06-27 Mitsui Toatsu Chem Inc セキュリティインキ印刷物
JPH07216152A (ja) 1994-02-07 1995-08-15 Mitsui Petrochem Ind Ltd 環状オレフィン系樹脂組成物製容器
JPH07268253A (ja) 1994-02-10 1995-10-17 Ciba Geigy Ag 木材のための保護コーティング
JPH07242444A (ja) 1994-02-28 1995-09-19 Nippon Electric Glass Co Ltd 医薬用紫外線吸収性ガラス物品の製造方法
JPH0820579A (ja) 1994-03-24 1996-01-23 Sandoz Ag ｓ−トリアジン列の化合物
JPH07324283A (ja) 1994-03-26 1995-12-12 Sandoz Ag 繊維材料の日光堅牢度を改良するための４ｈ−３，１−ベンズオキサジン−４−オン化合物の使用
JPH07269016A (ja) 1994-03-29 1995-10-17 Shin Etsu Polymer Co Ltd 建材用フィルム
JPH07285927A (ja) 1994-03-31 1995-10-31 Ciba Geigy Ag チオエーテル置換されたヒドロキシベンゾフェノンおよび安定化された組成物
JPH07310283A (ja) 1994-04-20 1995-11-28 Ciba Geigy Ag 紡織繊維の処理方法
JPH07287353A (ja) 1994-04-20 1995-10-31 Fuji Photo Film Co Ltd 写真感光材料用包装材料及びその製造方法並びに写真感光材料包装体
JPH07289097A (ja) 1994-04-25 1995-11-07 Kuraray Co Ltd 防虫メッシュシート
JPH07289665A (ja) 1994-04-27 1995-11-07 Dainippon Printing Co Ltd ゴルフボール容器及びその製造方法
JPH083502A (ja) 1994-06-20 1996-01-09 Bayer Ag 耐熱性で柔軟なスクリーン印刷インク
JPH0841785A (ja) 1994-07-26 1996-02-13 Toray Ind Inc オレフィン系樹脂ターポリン
JPH0873825A (ja) 1994-09-01 1996-03-19 Hitachi Chem Co Ltd ゴム系接着剤組成物
JPH0880928A (ja) 1994-09-09 1996-03-26 Toyo Seikan Kaisha Ltd 着色液体包装体
JPH0881643A (ja) 1994-09-12 1996-03-26 Kansai Paint Co Ltd クリヤー塗料およびその塗装法
JPH0891385A (ja) 1994-09-29 1996-04-09 Kamaya Kagaku Kogyo Co Ltd 加飾容器
JPH08102296A (ja) 1994-09-30 1996-04-16 Matsushita Electric Works Ltd 照明装置用光源カバーの製造方法
JPH08151457A (ja) 1994-09-30 1996-06-11 Takiron Co Ltd 樹脂成形品とその製造方法
JPH08108650A (ja) 1994-10-13 1996-04-30 Brother Ind Ltd 熱転写インク用受像シート及びラベル印字用カセット
US5807932A (en) 1994-10-14 1998-09-15 Ciba Specialty Chemicals Corporation Increasing the molecular weight of polycondensates
JPH08208976A (ja) 1994-10-31 1996-08-13 Dainippon Ink & Chem Inc 蛍光顔料及び／又は蛍光染料を含むマイクロビーズ
JPH08133787A (ja) 1994-11-11 1996-05-28 Asai Glass Kk 化粧品硝子容器
JPH08151455A (ja) 1994-11-29 1996-06-11 Kuraray Co Ltd ポリビニルアルコール系フィルムの製造方法
JPH08155007A (ja) 1994-12-02 1996-06-18 Mitsui Petrochem Ind Ltd 薬剤充填容器製剤及びこれに用いる容器
JPH08245849A (ja) 1994-12-09 1996-09-24 Ciba Geigy Ag 安定化されたポリ塩化ビニル
JPH08188921A (ja) 1994-12-28 1996-07-23 Toray Ind Inc 耐候性の改善されたポリエステル系繊維およびその製造方法ならびにその繊維を用いてなる繊維製品
JPH08193136A (ja) 1995-01-17 1996-07-30 Toray Ind Inc 高透光難燃性膜材、外壁材、屋根材および農業用ハウス
JPH08197511A (ja) 1995-01-26 1996-08-06 Sanyo Chem Ind Ltd 建材用木質構造体
JPH08208765A (ja) 1995-01-31 1996-08-13 Dainippon Ink & Chem Inc 熱可塑性樹脂組成物、その製造方法、耐候性改質剤およびそれを含む重合体組成物
JPH08207218A (ja) 1995-02-02 1996-08-13 Dainippon Shikizai Kogyo Kk 軟質ポリ塩化ビニルシート及び土木建築構造物
JPH08258415A (ja) 1995-03-24 1996-10-08 Toppan Printing Co Ltd 感熱記録媒体
JPH11514387A (ja) 1995-03-27 1999-12-07 グルーポ シドゥサ，サーエー デ セーベー スチレン−ブタジエンコポリマーとポリオレフィン樹脂ベースの収縮フィルム
JPH08269850A (ja) 1995-03-30 1996-10-15 Toray Ind Inc 建築資材用ネットおよびメッシュ
JPH08272058A (ja) 1995-03-31 1996-10-18 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料
JPH08284063A (ja) 1995-04-10 1996-10-29 Toray Ind Inc エレクトレットシートおよびその製造方法およびフィルター基材
JPH08301363A (ja) 1995-05-02 1996-11-19 Green Cross Corp:The 液状製剤用包装袋
JPH11504954A (ja) 1995-05-04 1999-05-11 ヘンケル・コマンディットゲゼルシャフト・アウフ・アクチエン 印刷インク用非芳香族系溶媒
JPH08318592A (ja) 1995-05-25 1996-12-03 Nippon Paint Co Ltd プレコート金属板
JPH0948935A (ja) 1995-05-31 1997-02-18 Mitsubishi Rayon Co Ltd 容器用被覆組成物及びその硬化被膜を有する容器
JPH08324576A (ja) 1995-06-05 1996-12-10 Toyo Ink Mfg Co Ltd 樹脂製コンテナの表面を保護する方法及びそれに用いる樹脂製コンテナの表面を保護する塗料
JPH0912924A (ja) 1995-06-29 1997-01-14 Inter Seputo Kk 撥水性保護塗料
JPH0958687A (ja) 1995-08-11 1997-03-04 Fuji Seal Co Ltd 酒用容器
JPH0959539A (ja) 1995-08-21 1997-03-04 Nippon Paint Co Ltd アルカリ可溶型保護塗料組成物
JPH0957889A (ja) 1995-08-23 1997-03-04 Toray Ind Inc 防汚膜材
JPH0986570A (ja) 1995-09-21 1997-03-31 Toyo Seikan Kaisha Ltd 油性食品用容器
JPH0995055A (ja) 1995-09-28 1997-04-08 Toppan Printing Co Ltd 可逆性感熱記録媒体
JPH09221631A (ja) 1995-09-29 1997-08-26 Basf Corp 耐久性向上のためにヒドラジド化合物を含有させたコーティング
JPH09113494A (ja) 1995-10-24 1997-05-02 Tosoh Corp 分析試薬用溶液容器
JPH09183159A (ja) 1995-10-30 1997-07-15 Toray Ind Inc 接合シート材
JPH11514689A (ja) 1995-11-03 1999-12-14 ビーエーエスエフ コーティングス アクチェンゲゼルシャフト 粉末塗料水性分散液
JPH09142539A (ja) 1995-11-14 1997-06-03 Toppan Printing Co Ltd 紫外線遮断性包装材料
JPH09137335A (ja) 1995-11-15 1997-05-27 Toray Ind Inc メッシュ織物および陸上ネット
JPH09157581A (ja) 1995-12-06 1997-06-17 Arakawa Toryo Kogyo Kk 板ガラスの強化及び破損時の飛散防止用塗料
JPH09157626A (ja) 1995-12-07 1997-06-17 Toppan Printing Co Ltd ラッピング用接着剤およびこの接着剤を用いたラッピング部材
JPH09169950A (ja) 1995-12-20 1997-06-30 Nof Corp 熱硬化性塗料組成物
JPH09241407A (ja) 1996-03-07 1997-09-16 Japan Atom Energy Res Inst 熱可塑性合成樹脂製容器の処理方法
JPH09241534A (ja) 1996-03-11 1997-09-16 Toyo Ink Mfg Co Ltd 傾斜塗料組成物
JPH09239921A (ja) 1996-03-13 1997-09-16 Toray Ind Inc 積層フイルム
JPH09239910A (ja) 1996-03-13 1997-09-16 Toppan Printing Co Ltd 即席麺容器用蓋材
JPH09254345A (ja) 1996-03-26 1997-09-30 Toray Ind Inc 積層フイルム
JPH09263729A (ja) 1996-03-27 1997-10-07 Koji Tagami １液性紫外線遮蔽兼破損保護及び 飛散防止剤組成物
JPH09277414A (ja) 1996-04-18 1997-10-28 Mitsui Toatsu Chem Inc 建材用透湿防水シートおよびその製造方法
JPH09295664A (ja) 1996-04-30 1997-11-18 Heisei Polymer Co Ltd 食品容器用蓋材
JPH09306344A (ja) 1996-05-07 1997-11-28 Toray Ind Inc プラズマディスプレイの製造方法
JPH09300537A (ja) 1996-05-20 1997-11-25 Dainippon Printing Co Ltd 化粧シート
JPH09309260A (ja) 1996-05-21 1997-12-02 Nippon Paper Ind Co Ltd インクジェット記録媒体
JPH101587A (ja) 1996-06-13 1998-01-06 Kuraray Co Ltd 紫外線吸収剤
JPH101868A (ja) 1996-06-14 1998-01-06 Toray Ind Inc 建築工事用メッシュシートおよびその製造方法
JPH106451A (ja) 1996-06-20 1998-01-13 Achilles Corp 塩化ビニル系樹脂製化粧材
JPH1016152A (ja) 1996-06-28 1998-01-20 Achilles Corp オレフィン系樹脂積層フィルム
JPH1034841A (ja) 1996-07-19 1998-02-10 Toray Ind Inc 農業用被覆材
JPH1044352A (ja) 1996-08-02 1998-02-17 Toray Ind Inc 積層フィルム
JPH1088039A (ja) 1996-09-20 1998-04-07 Nobuhito Oohara 紫外線・近赤外線遮断塗料
JPH10140089A (ja) 1996-11-07 1998-05-26 Ciba Specialty Chem Holding Inc 増強した耐久性を持つベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤
JPH10194796A (ja) 1996-11-13 1998-07-28 Sekisui Chem Co Ltd 合わせガラス用中間膜及び合わせガラス
JPH10203033A (ja) 1996-11-21 1998-08-04 Ricoh Co Ltd 昇華転写用受像媒体及び熱記録方法
JPH10165045A (ja) 1996-12-06 1998-06-23 Toray Ind Inc 水中ネット
JPH10168292A (ja) 1996-12-17 1998-06-23 Teijin Ltd 延伸ポリエステルフィルム
JPH10183057A (ja) 1996-12-25 1998-07-07 Wakamiya Sangyo:Kk 床用塗料
JPH10205056A (ja) 1997-01-29 1998-08-04 Toray Ind Inc 建材用基材
JPH10237760A (ja) 1997-02-21 1998-09-08 Toray Ind Inc ポリエステル繊維構造物
JPH10237312A (ja) 1997-02-25 1998-09-08 Toppan Printing Co Ltd 抗菌性樹脂組成物及び成形品
JPH10251981A (ja) 1997-03-04 1998-09-22 Teijin Ltd メタ系アラミド繊維構造物の耐光改良方法
JPH10250004A (ja) 1997-03-10 1998-09-22 Diafoil Co Ltd 窓貼り用フイルム
JPH10287804A (ja) 1997-04-16 1998-10-27 Teijin Chem Ltd 光機能性シート用組成物及びプリズムシート
JPH10298493A (ja) 1997-04-24 1998-11-10 Otsuka Chem Co Ltd 超耐候性塗料組成物
JPH10298397A (ja) 1997-04-25 1998-11-10 Kyodo Yakuhin Kk スチレン系樹脂組成物
JPH1134261A (ja) 1997-05-21 1999-02-09 Kalle Nalo Gmbh 二層の酸素遮断層を含む多層二軸延伸食品ケーシング
JPH1140833A (ja) 1997-07-22 1999-02-12 Toray Ind Inc 太陽電池カバー用積層フィルム
WO1999029490A1 (fr) 1997-12-05 1999-06-17 Gunze Limited Film retrecissable a basses temperatures pour etiquettes
JPH11180474A (ja) 1997-12-22 1999-07-06 Shiseido Co Ltd 化粧品容器
JPH11199808A (ja) 1998-01-16 1999-07-27 Seiko Epson Corp 水性インク組成物とこれを用いた記録方法、並びに、これらを用いて記録された記録物
JPH11315175A (ja) 1998-01-21 1999-11-16 Fina Res Sa ポリオレフイン及びその使用
JPH11214736A (ja) 1998-01-28 1999-08-06 Misawa Homes Co Ltd 太陽電池モジュール用カバーガラス構造
JPH11218602A (ja) * 1998-02-03 1999-08-10 Asahi Optical Co Ltd プラスチックレンズ
JPH11276550A (ja) 1998-02-20 1999-10-12 Bracco Internatl Bv 柔軟な医薬品容器の包装
JPH11236734A (ja) 1998-02-20 1999-08-31 Kawai Musical Instr Mfg Co Ltd 抗菌性建築資材
JPH11247027A (ja) 1998-03-04 1999-09-14 Toray Ind Inc 極細繊維およびその製造方法
JPH11247028A (ja) 1998-03-05 1999-09-14 Toray Ind Inc 耐光性を有する極細繊維およびその製造方法
JPH11261085A (ja) 1998-03-10 1999-09-24 Mitsubishi Plastics Ind Ltd 太陽電池用裏面保護シート
JPH11255925A (ja) 1998-03-10 1999-09-21 Asahi Chem Ind Co Ltd 医療用ポリマーの改質方法及び医療用ポリマー基材
JPH11290420A (ja) 1998-04-08 1999-10-26 Aicello Chemical Co Ltd 高純度薬品液用容器および高純度薬品液の排出方法
JPH11302982A (ja) 1998-04-17 1999-11-02 Toray Ind Inc 人工皮革
JPH11300880A (ja) 1998-04-24 1999-11-02 Toto Ltd 建 材
WO1999067337A1 (fr) 1998-06-24 1999-12-29 Seiko Epson Corporation Composition d'encre donnant une image tres stable a la lumiere
JP2000025180A (ja) 1998-07-10 2000-01-25 Tohcello Co Ltd 化粧用シートおよびその製造方法
JP2000054287A (ja) 1998-07-31 2000-02-22 Oji Paper Co Ltd オフセット印刷用新聞用紙およびその製造方法
JP2000056433A (ja) 1998-08-07 2000-02-25 Fuji Photo Film Co Ltd 写真フィルム包装体
JP2000066603A (ja) 1998-08-20 2000-03-03 Fuji Seal Inc ポリスチレン系フロスト調熱収縮ラベル
JP2000067629A (ja) 1998-08-25 2000-03-03 Mitsubishi Rayon Co Ltd 照明カバー
JP2000071626A (ja) 1998-08-31 2000-03-07 Dainippon Printing Co Ltd 保護層転写シートおよび印画物
JP2000091610A (ja) 1998-09-17 2000-03-31 Dainippon Printing Co Ltd 太陽電池のカバーフィルムおよびその製造方法、およびそのカバーフィルムを用いた太陽電池モジュール
JP2000091611A (ja) 1998-09-17 2000-03-31 Dainippon Printing Co Ltd 太陽電池のカバーフィルムおよびその製造方法、およびそのカバーフィルムを用いた太陽電池モジュール
JP2002527559A (ja) 1998-10-12 2002-08-27 クラリアント・インターナシヨナル・リミテツド 着色、成形された固形ワックス物品
JP2000144583A (ja) 1998-11-12 2000-05-26 Toray Ind Inc シート状物
JP2000152974A (ja) 1998-11-19 2000-06-06 Bracco Internatl Bv 液体の収納及び送出用の可撓性容器
JP2000226778A (ja) 1998-11-30 2000-08-15 Toray Ind Inc 透湿防水加工布
JP2000174296A (ja) 1998-12-07 2000-06-23 Bridgestone Corp 太陽電池用カバー材、封止膜及び太陽電池
JP2000186234A (ja) 1998-12-21 2000-07-04 Toagosei Co Ltd メタリック塗料組成物
JP2000223271A (ja) 1999-01-29 2000-08-11 Fuji Electric Co Ltd 有機ｅｌ素子
JP2000224942A (ja) 1999-02-04 2000-08-15 Shimano Inc 釣り用品
JP2000231044A (ja) 1999-02-12 2000-08-22 Sumitomo Electric Ind Ltd 光ファイバテープ心線
JP2000238857A (ja) 1999-02-22 2000-09-05 Teijin Ltd ポリエチレンナフタレート製容器及びその使用方法
JP2000264879A (ja) 1999-03-18 2000-09-26 Nippon Paper Industries Co Ltd ビスベンゾオキサジノン化合物の製造方法
JP2000273362A (ja) 1999-03-25 2000-10-03 Honda Motor Co Ltd 粉体塗料組成物およびその塗膜を含む積層塗膜の形成方法
JP2001009357A (ja) 1999-04-30 2001-01-16 Nippon Paint Co Ltd 塗膜形成方法
JP2002543266A (ja) 1999-05-03 2002-12-17 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド 高度に溶解性で、レッド−シフトされた、光安定なベンゾトリアゾール紫外線吸収剤を含む安定化された接着剤組成物及びそれから誘導された積層物品
JP2002543265A (ja) 1999-05-03 2002-12-17 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド 高溶解性、高吸光性、光安定ヒドロキシフェニル−ｓ−トリアジン紫外線吸収剤を含む安定化された接着剤組成物およびそれらから得られる積層品
US6225384B1 (en) 1999-05-03 2001-05-01 Ciba Specialty Chemicals Corporation Stabilized adhesive compositions containing highly soluble, high extinction, photostable hydroxyphenyl-s-trianzine UV absorbers and laminated articles derived therefrom
JP2000345109A (ja) 1999-06-02 2000-12-12 Mitsuo Oyanagi 美観・剥離性に優れた可剥塗料
JP2001055541A (ja) 1999-06-28 2001-02-27 Samhwa Paints Ind Co Ltd 電磁波遮蔽用塗料
JP2001009811A (ja) 1999-06-29 2001-01-16 Takashi Ueda セルロースと難燃剤の混合材料及びその製造方法
JP2001026081A (ja) 1999-07-13 2001-01-30 Fujimori Kogyo Co Ltd 包装用積層体
JP2001030861A (ja) 1999-07-22 2001-02-06 Du Pont Toray Co Ltd エアバッグ用基布およびエアバッグ
JP2001048153A (ja) 1999-08-03 2001-02-20 Teijin Ltd ポリエステル製容器、その再生方法および使用方法
JP2001059068A (ja) 1999-08-23 2001-03-06 Toray Ind Inc 塗料用樹脂組成物
JP2001139700A (ja) 1999-08-31 2001-05-22 Dainippon Ink & Chem Inc 光硬化性樹脂コンパウンドおよびその硬化法
JP3915339B2 (ja) 1999-09-10 2007-05-16 富士ゼロックス株式会社 調光ガラス
JP2001088815A (ja) 1999-09-17 2001-04-03 Alpha Techno Co Ltd ２−シアノアクリレート系組成物用ポリエチレン製容器
JP2001106218A (ja) 1999-10-05 2001-04-17 Taisei Kako Co Ltd 液剤用容器
JP2001115080A (ja) 1999-10-13 2001-04-24 Nippon Shokubai Co Ltd エマルション塗料
JP2001159228A (ja) 1999-12-03 2001-06-12 Dainippon Printing Co Ltd 床用シート
JP2001172531A (ja) 1999-12-21 2001-06-26 Asahi Glass Co Ltd フッ素樹脂塗料用組成物および窯業系建材
JP2001181558A (ja) 1999-12-27 2001-07-03 Takeda Chem Ind Ltd 水性一時保護塗料組成物
JP2001207144A (ja) 2000-01-27 2001-07-31 Taoka Chem Co Ltd ホットメルト接着剤組成物
JP2001214121A (ja) 2000-02-04 2001-08-07 Shin Etsu Chem Co Ltd コーティング剤組成物並びにコーティング方法及びコーティング物品
JP2001214122A (ja) 2000-02-04 2001-08-07 Shin Etsu Chem Co Ltd 下塗り剤組成物及びコーティング方法
JP2003524019A (ja) 2000-02-22 2003-08-12 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド オリゴマー性紫外線吸収剤を有するｒｏｍｐ
JP2003525325A (ja) 2000-02-28 2003-08-26 バイエル アクチェンゲゼルシャフト 高固形分焼付ラッカー用水性塗料およびその使用
JP2001249430A (ja) 2000-03-07 2001-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録媒体
JP2003526650A (ja) * 2000-03-17 2003-09-09 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング キノキサリン誘導体を含む調製物
JP2001261904A (ja) 2000-03-22 2001-09-26 Du Pont Mitsui Polychem Co Ltd エチレン共重合体組成物
JP2001270531A (ja) 2000-03-23 2001-10-02 Toppan Printing Co Ltd プラスチック容器
JP2001262056A (ja) 2000-03-23 2001-09-26 Kansai Paint Co Ltd ２液型水性塗料組成物
JP2003528974A (ja) 2000-03-28 2003-09-30 ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト 紡織繊維に対して親和性を有するｕｖ吸収剤混合物
JP2001279189A (ja) 2000-03-29 2001-10-10 Dainippon Ink & Chem Inc 粉体塗料の製造方法、粉体塗料および塗膜形成方法
JP2001288410A (ja) 2000-03-31 2001-10-16 Bayer Ag Ｕｖ硬化性のイソシアネート基含有ウレタン（メタ）アクリレートおよびヒドロキシル基含有ウレタン（メタ）アクリレートを含有する塗料組成物
JP2001315263A (ja) 2000-05-01 2001-11-13 Mitsubishi Rayon Co Ltd ハードコートシート、それを用いた樹脂成形品、及びその製造方法
JP2001316630A (ja) 2000-05-09 2001-11-16 Nippon Paint Co Ltd 上塗り用塗料組成物
JP2001323082A (ja) 2000-05-15 2001-11-20 Toyobo Co Ltd 熱収縮性ポリエステル系フィルム
JP2002053824A (ja) 2000-06-02 2002-02-19 Fuji Photo Film Co Ltd 紫外線吸収粘着フイルム
JP2001348785A (ja) 2000-06-06 2001-12-21 Du Pont Toray Co Ltd 全芳香族ポリアミド繊維の処理方法および処理繊維
JP2002036441A (ja) 2000-07-19 2002-02-05 Lintec Corp ハードコートフィルム
JP2002038084A (ja) 2000-07-21 2002-02-06 Kansai Paint Co Ltd アニオン型電着塗料組成物
JP2002036452A (ja) 2000-07-21 2002-02-05 Lintec Corp 高精細防眩性ハードコートフィルム
JP2002114879A (ja) 2000-07-26 2002-04-16 Ciba Specialty Chem Holding Inc 薄い厚さの透明ポリマー製品
JP2002127596A (ja) 2000-08-15 2002-05-08 Dainippon Ink & Chem Inc インク受理層用組成物、被記録材、及びそれを用いてなる印刷物
JP2002068322A (ja) 2000-08-24 2002-03-08 Shiseido Co Ltd 耐光性化粧料容器および無色透明化粧料容器の黄ばみ評価方法
JP2002069331A (ja) 2000-08-30 2002-03-08 Dainippon Ink & Chem Inc 電子線硬化型塗料組成物
JP2002080788A (ja) 2000-09-06 2002-03-19 Fuji Photo Film Co Ltd 紫外線吸収塗料
JP2002080781A (ja) 2000-09-11 2002-03-19 Nippon Yushi Basf Coatings Kk 熱硬化性塗料組成物
JP2002113937A (ja) 2000-10-06 2002-04-16 Kobayashi Kirokushi Co Ltd 偽造防止帳票
JP2002127310A (ja) 2000-10-25 2002-05-08 Dainippon Printing Co Ltd 水滴付着防止性及び熱線遮断性を有するガラス板
JP2002130591A (ja) 2000-10-26 2002-05-09 Nippon Mitsubishi Oil Corp 給油カップ及び給油装置
JP2002160321A (ja) 2000-11-22 2002-06-04 Haruhiko Watanabe ガスバリヤ性プラスチック
JP2002161158A (ja) 2000-11-24 2002-06-04 C I Kasei Co Ltd ポリエステル樹脂製建材
JP2004520284A (ja) 2000-11-27 2004-07-08 チバ　スペシャルティ　ケミカルズ　ホールディング　インコーポレーテッド Ｕｖ吸収剤としての置換５−アリール及び５−ヘテロアリール−２−（２−ヒドロキシフェニル）−２ｈ−ベンゾトリアゾール誘導体
JP2001213427A (ja) 2000-11-29 2001-08-07 Dainippon Printing Co Ltd 紙容器
JP2002167545A (ja) 2000-12-01 2002-06-11 Kansai Paint Co Ltd 一回塗装仕上げ用防食塗料組成物
JP2002178625A (ja) 2000-12-11 2002-06-26 Daicel Chem Ind Ltd インクジェット記録用樹脂組成物および記録シート
JP2002189415A (ja) 2000-12-20 2002-07-05 Dainippon Printing Co Ltd 遮光性印刷ラベル
JP2002207845A (ja) 2001-01-09 2002-07-26 Un Tochi Riyo Kenkyusho:Kk 土地利用促進システム
JP2002212884A (ja) 2001-01-12 2002-07-31 Teijin Ltd 繊維構造物への機能付与方法
JP2002212237A (ja) 2001-01-15 2002-07-31 Ipposha Oil Ind Co Ltd インクジェット記録シート用紫外線吸収剤
JP2002293706A (ja) 2001-01-25 2002-10-09 Nishinihon Green Research Institute 芝の紫斑防止剤
JP2002226764A (ja) 2001-01-31 2002-08-14 Asahi Glass Co Ltd 建材用塗装物品
JP2002235028A (ja) 2001-02-09 2002-08-23 Ishihara Chem Co Ltd 光触媒塗料組成物
JP2002322360A (ja) 2001-02-21 2002-11-08 Toray Ind Inc ポリフェニレンサルファイド部材
JP2002271227A (ja) 2001-03-09 2002-09-20 Aiwa Co Ltd 無線通信機器
JP2002264979A (ja) 2001-03-12 2002-09-18 Shiseido Co Ltd 高粘度中味用のディスペンサー容器
JP2002356655A (ja) 2001-03-27 2002-12-13 Nippon Paint Co Ltd 硬化性塗料組成物および塗膜形成方法
JP2004525273A (ja) 2001-03-27 2004-08-19 チバ　スペシャルティ　ケミカルズ　ホールディング　インコーポレーテッド ベンズトリアゾール吸収剤を含む布すすぎ組成物
JP2002294165A (ja) 2001-03-30 2002-10-09 Nippon Paint Co Ltd カチオン電着塗料用ハジキ防止方法及びハジキ防止剤
JP2004532306A (ja) 2001-04-02 2004-10-21 チバ　スペシャルティ　ケミカルズ　ホールディング　インコーポレーテッド ｓ−トリアジン／ＨＡＬＳで安定化されたロウソクのワックス
JP2002307619A (ja) 2001-04-11 2002-10-23 Dainippon Printing Co Ltd 硬質塗膜塗工物品
JP2002307845A (ja) 2001-04-16 2002-10-23 Dainippon Printing Co Ltd 中間転写記録媒体及び画像形成方法
JP2002367227A (ja) 2001-06-04 2002-12-20 Fuji Photo Film Co Ltd 光情報記録媒体
JP2004530024A (ja) 2001-06-06 2004-09-30 チバ　スペシャルティ　ケミカルズ　ホールディング　インコーポレーテッド Ｕｖ吸収剤と金属との組み合わせにより安定化されているロウソクのロウ組成物
JP2002370723A (ja) 2001-06-13 2002-12-24 Toppan Printing Co Ltd Ｐｅｔ二層延伸ブロー成形容器
JP2003082608A (ja) 2001-06-27 2003-03-19 Dainippon Ink & Chem Inc 歩行路用舗装材及びその製造方法
WO2003002661A1 (en) 2001-06-28 2003-01-09 Toray Industries, Inc. Epoxy resin composition excellent in weather resistance and fiber-reinforced composite materials
JP2005504735A (ja) 2001-07-02 2005-02-17 チバ　スペシャルティ　ケミカルズ　ホールディング　インコーポレーテッド 薄肉フィルム用途の高分子量ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール紫外線吸収剤
JP2003020966A (ja) 2001-07-04 2003-01-24 Toyota Motor Corp 機関作動特性変更手段のロック待機作動制御方法
JP2003019776A (ja) 2001-07-06 2003-01-21 Dainippon Printing Co Ltd 化粧鋼板用ポリオレフィン系化粧シート及び化粧鋼板
JP2003025478A (ja) 2001-07-17 2003-01-29 Lintec Corp ハードコートフィルム
JP2003041434A (ja) 2001-07-23 2003-02-13 Toray Ind Inc 衣料用ポリアミド繊維
JP2003039607A (ja) 2001-07-27 2003-02-13 Lintec Corp 帯電防止性ハードコートフィルム及びその製造方法
JP2003049065A (ja) 2001-08-07 2003-02-21 Ge Plastics Japan Ltd ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物
JP2003160724A (ja) 2001-09-11 2003-06-06 Ge Plastics Japan Ltd ポリカーボネート系樹脂組成物
JP2003177235A (ja) 2001-10-03 2003-06-27 Eastman Kodak Co Ｕｖフィルター素子
JP2003147617A (ja) 2001-11-07 2003-05-21 Gunze Ltd 紫外線吸収性繊維製品及びその製造方法
JP2003145949A (ja) 2001-11-08 2003-05-21 Minolta Co Ltd 可逆性感熱記録媒体及び該記録媒体を備えた情報記録表示カード
JP2003155375A (ja) 2001-11-20 2003-05-27 Takemoto Oil & Fat Co Ltd 熱可塑性高分子用紫外線吸収剤
JP2003200966A (ja) 2002-01-08 2003-07-15 Dainippon Printing Co Ltd 遮光性シュリンクフィルム
JP2003206422A (ja) 2002-01-16 2003-07-22 Pilot Corp 水性インキ組成物
JP2003211606A (ja) 2002-01-17 2003-07-29 Teijin Dupont Films Japan Ltd 成形部材表装用ポリエステルフィルム
JP2003211538A (ja) 2002-01-25 2003-07-29 Teijin Dupont Films Japan Ltd 表装用ポリエステルフィルム
JP2003239136A (ja) 2002-02-12 2003-08-27 Teijin Ltd 高耐光性全芳香族ポリアミド繊維構造物
JP2003239181A (ja) 2002-02-12 2003-08-27 Toray Ind Inc 人工皮革およびその製造方法
JP2003237825A (ja) 2002-02-12 2003-08-27 Nakagawa Kaseihin Kk 食品の容器・包装材料用透明樹脂組成物
JP2005517822A (ja) 2002-02-18 2005-06-16 チバ　スペシャルティ　ケミカルズ　ホールディング　インコーポレーテッド セルロース繊維材料の紫外線防護指数を改善する方法
JP2005517787A (ja) 2002-02-19 2005-06-16 チバ　スペシャルティ　ケミカルズ　ホールディング　インコーポレーテッド 紫外線の影響に対して内容物を保護するための、ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール紫外線吸収剤を含む容器又はフィルム。
JP2003253265A (ja) 2002-02-27 2003-09-10 Dainippon Ink & Chem Inc 調光層形成材料及び液晶デバイス
JP2003266926A (ja) 2002-03-18 2003-09-25 Mitsubishi Paper Mills Ltd インクジェット被記録材
JP2003266927A (ja) 2002-03-19 2003-09-25 Mitsubishi Paper Mills Ltd インクジェット被記録材
JP2004002700A (ja) 2002-04-01 2004-01-08 Nippon Steel Corp 静電気による障害の発生しにくいプレコート金属板用塗料組成物及びプレコート金属板
JP2004000937A (ja) 2002-04-09 2004-01-08 Hiraga Kikai Kogyo Kk 粘着剤付着防止装置
JP2003328523A (ja) 2002-05-09 2003-11-19 Kubota Corp 装飾用建材
JP2003339503A (ja) 2002-05-31 2003-12-02 Toray Ind Inc 保温毛布
JP2004003191A (ja) 2002-05-31 2004-01-08 Dainippon Printing Co Ltd 床材及びその製造方法
JP2004083858A (ja) 2002-06-05 2004-03-18 Ems-Chemie Ag 改良された透明度、耐薬品性および高い永久疲労強度を有する透明ポリアミド成形材料
JP2004011062A (ja) 2002-06-07 2004-01-15 Toray Ind Inc 保温靴下
JP2004050460A (ja) 2002-07-17 2004-02-19 Dainippon Printing Co Ltd 無機蒸着樹脂フィルムおよびそれを使用した積層材
JP2004051174A (ja) 2002-07-22 2004-02-19 Mitsubishi Pharma Corp 透明包装袋及びこれで外包装された液状製剤包装体
JP2004162021A (ja) 2002-07-26 2004-06-10 Sanyo Chem Ind Ltd 粉体塗料およびスラリー塗料
JP2005533915A (ja) 2002-07-26 2005-11-10 チバ　スペシャルティ　ケミカルズ　ホールディング　インコーポレーテッド 有機溶媒ベースの印刷インク
JP2004075888A (ja) 2002-08-20 2004-03-11 Konica Minolta Holdings Inc 蛍光塗料または蛍光インク並びに蛍光画像及びその形成方法
JP2004137457A (ja) 2002-08-22 2004-05-13 Lintec Corp ポリカーボネート用表面保護フィルム
JP2004107700A (ja) 2002-09-13 2004-04-08 Nippon Paint Co Ltd 電線の塗装方法及び絶縁電線
JP2004114355A (ja) 2002-09-24 2004-04-15 Lintec Corp ハードコートフィルム
JP2006501339A (ja) 2002-10-02 2006-01-12 チバ　スペシャルティ　ケミカルズ　ホールディング　インコーポレーテッド Ｕｖ吸収剤の相乗的組合せ
JP2004168057A (ja) 2002-11-07 2004-06-17 Matsushita Electric Works Ltd フッ素系複合樹脂フィルム及び太陽電池
JP2004169182A (ja) 2002-11-08 2004-06-17 Nippon Paint Co Ltd 硬化傾斜塗膜およびこの塗膜を含む積層塗膜の形成方法
JP2004181813A (ja) 2002-12-04 2004-07-02 Fuji Photo Film Co Ltd インクジェット記録用シート
JP2004217727A (ja) 2003-01-10 2004-08-05 Nippon Technical System Kk 眼精疲労防止用塗料組成物および眼精疲労防止用塗料
JP2004227843A (ja) 2003-01-21 2004-08-12 Mitsubishi Rayon Co Ltd 色素増感型太陽電池保護用アクリル樹脂フィルム
JP2006514130A (ja) 2003-01-29 2006-04-27 チバ　スペシャルティ　ケミカルズ　ホールディング　インコーポレーテッド インクジェットインクおよび記録材料
JP2004243674A (ja) 2003-02-14 2004-09-02 Toppan Printing Co Ltd 紫外線遮断性を有する透明バリア性包装材料
JP2004285189A (ja) 2003-03-20 2004-10-14 Mitsubishi Plastics Ind Ltd 紫外線遮断性ポリエステルシート及び包装体
JP2004285517A (ja) 2003-03-24 2004-10-14 Toray Ind Inc 肌着
JP2004285516A (ja) 2003-03-24 2004-10-14 Toray Ind Inc 裏地
JP2006521941A (ja) 2003-04-01 2006-09-28 トレス アンレーイ アクティーゼルスカブ フレキソ印刷インク及びラッカーを用いる印刷
WO2004093775A1 (ja) 2003-04-23 2004-11-04 Otsuka Pharmaceutical Factory, Inc. 薬液充填プラスチックアンプルおよびその製造方法
JP2004352783A (ja) 2003-05-27 2004-12-16 Matsushita Electric Works Ltd 封止用樹脂組成物
JP2004352847A (ja) 2003-05-29 2004-12-16 Teijin Dupont Films Japan Ltd ポリエステルフィルムおよびボトル用ラベル
JP2005023111A (ja) 2003-06-30 2005-01-27 Union Chemicar Co Ltd マスキング用インク
JP2005037642A (ja) 2003-07-14 2005-02-10 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 多チャネル光モジュール
JP2005044154A (ja) 2003-07-23 2005-02-17 Gunze Ltd タッチパネル
JP2005055615A (ja) 2003-08-01 2005-03-03 Dainippon Printing Co Ltd 投影スクリーン
JP2005074735A (ja) 2003-08-29 2005-03-24 Dainippon Printing Co Ltd 金属板化粧用シート
JP2005105004A (ja) 2003-09-26 2005-04-21 Asahi Denka Kogyo Kk 耐候性の改善されたポリエステル樹脂製容器
JP2005105032A (ja) 2003-09-29 2005-04-21 Asahi Kasei Chemicals Corp 重合体組成物からなる熱収縮性フィルム
JP2005105131A (ja) 2003-09-30 2005-04-21 Dainippon Ink & Chem Inc 調光材料、調光フィルムおよびその製造方法
JP2005129926A (ja) 2003-10-03 2005-05-19 Du Pont Mitsui Polychem Co Ltd 太陽電池封止材用シート
JP2005129713A (ja) 2003-10-23 2005-05-19 Sharp Corp 薄膜太陽電池およびその製造方法
JP2005132999A (ja) 2003-10-31 2005-05-26 Dainippon Ink & Chem Inc ハードコートフィルムの作成方法
JP2005146278A (ja) 2003-11-13 2005-06-09 Eastman Chem Co 包装材料又は容器内容物保護用の紫外線遮断組成物
JP2005156220A (ja) 2003-11-21 2005-06-16 Toppan Printing Co Ltd 酸素インジケータ及び酸素インジケータを配置した包装体
JP2005178832A (ja) 2003-12-19 2005-07-07 Konica Minolta Medical & Graphic Inc 紫外線硬化型インク用包装材料及び紫外線硬化型インク用容器
JP2005189645A (ja) 2003-12-26 2005-07-14 Fuji Photo Film Co Ltd 円偏光板、および円偏光板を有する有機ｅｌデイスプレー素子
JP2006240734A (ja) 2004-03-05 2006-09-14 L'oreal Sa 光に対して保護するためのワニスを被覆した包装材料
JP2005255736A (ja) 2004-03-09 2005-09-22 Toyo Seikan Kaisha Ltd バリアー性及び透明性を有する生分解性容器
JP2005307161A (ja) 2004-03-22 2005-11-04 Kansai Paint Co Ltd アニオン電着塗料と塗装物品
JP2005278678A (ja) 2004-03-26 2005-10-13 Nippon Zeon Co Ltd 化粧品容器と美爪料の保存方法
JP2005294170A (ja) 2004-04-02 2005-10-20 Shin Etsu Polymer Co Ltd 押釦スイッチ用カバー部材
JP2005300962A (ja) 2004-04-13 2005-10-27 Dainippon Ink & Chem Inc 調光材料、調光フィルムおよび調光ガラスならびにその製造方法
JP2005304340A (ja) 2004-04-19 2005-11-04 Matsushita Electric Works Ltd 防蛾灯
JP2005305745A (ja) 2004-04-20 2005-11-04 Toppan Printing Co Ltd 紫外線吸収フィルムおよびそのフィルムを用いた包装体
JP2005314495A (ja) 2004-04-27 2005-11-10 Dainichiseika Color & Chem Mfg Co Ltd 防曇塗料、防曇性フィルムおよびその製造方法
JP2005320408A (ja) 2004-05-07 2005-11-17 Dainippon Ink & Chem Inc ガラス容器用水性被覆剤及びガラス容器
JP2005325150A (ja) 2004-05-12 2005-11-24 Fuji Photo Film Co Ltd インク組成物
JP2005326761A (ja) 2004-05-17 2005-11-24 Mitsubishi Rayon Co Ltd 光学特性に優れた導光体
JP2005346999A (ja) 2004-06-01 2005-12-15 Mitsubishi Polyester Film Copp 色素増感太陽電池用ポリエステルフィルム
JP2006022300A (ja) 2004-06-09 2006-01-26 National Printing Bureau 耐光性ｄｎａインキ
JP2005350559A (ja) 2004-06-10 2005-12-22 Fuji Photo Film Co Ltd インク組成物
JP2005353554A (ja) 2004-06-14 2005-12-22 Matsushita Electric Works Ltd 照明器具
JP2006001568A (ja) 2004-06-16 2006-01-05 Asahi Denka Kogyo Kk 耐候性の改善されたポリエステル樹脂製容器
JP2006008811A (ja) 2004-06-24 2006-01-12 Canon Inc 分散性色材、及び該色材を含む水性インクジェット記録用インク
JP2006016710A (ja) 2004-06-30 2006-01-19 Teijin Techno Products Ltd 合成繊維の処理方法
JP2006030596A (ja) 2004-07-16 2006-02-02 Dainippon Printing Co Ltd レンチキュラーレンズシート、その製造方法、透過型スクリーン及び背面投射型表示装置
JP2006063162A (ja) 2004-08-26 2006-03-09 Tsutsunaka Plast Ind Co Ltd 紫外線硬化型塗料
JP2006070190A (ja) 2004-09-03 2006-03-16 Toyo Ink Mfg Co Ltd 印刷インキ及び包装材料
JP2006089697A (ja) 2004-09-27 2006-04-06 Nippon Paint Co Ltd ポリカーボネートフィルム被覆方法
JP2006130807A (ja) 2004-11-08 2006-05-25 Toppan Printing Co Ltd 遮光性包装材料と該遮光性包装材料を用いた包装袋
JP2006160847A (ja) 2004-12-06 2006-06-22 Dainippon Ink & Chem Inc プラスチック塗装成形物
JP2006167996A (ja) 2004-12-13 2006-06-29 Ricoh Co Ltd 可逆性感熱記録媒体、並びに、可逆性感熱記録ラベル、可逆性感熱記録部材、画像処理装置及び画像処理方法
JP2006210906A (ja) 2004-12-28 2006-08-10 Mitsui Chemical Fabro Inc 太陽電池封止材
JP2006224317A (ja) 2005-02-15 2006-08-31 Toppan Printing Co Ltd 遮光性積層フィルムおよびそのフィルムを用いた遮光性包装体
JP2006233010A (ja) 2005-02-24 2006-09-07 Chugoku Electric Power Co Inc:The 補修用塗料
JP2006257144A (ja) 2005-03-15 2006-09-28 Dainippon Printing Co Ltd 太陽電池モジュール用表面保護シート
JP2006257165A (ja) 2005-03-15 2006-09-28 Bii Son Yun ホトクロミックインク組成物、これの製造方法及びこれを利用した原反の印刷方法。
WO2006097201A1 (de) 2005-03-16 2006-09-21 Basf Coatings Ag Mehrschichtlackierungen, verfahren zu ihrer herstellung und deren verwendung im automobilbau
JP2006265770A (ja) 2005-03-24 2006-10-05 Toray Ind Inc ポリフェニレンスルフィド・ナノファイバーを含む混繊糸または混紡糸または織編物
JP2006266402A (ja) 2005-03-24 2006-10-05 Kayaba Ind Co Ltd リリーフバルブ
JP2006266042A (ja) 2005-03-25 2006-10-05 Matsushita Electric Works Ltd 建材及びその色調変更方法
JP2006271781A (ja) 2005-03-30 2006-10-12 Toppan Printing Co Ltd 医療品用滅菌包装袋の製造方法
JP2006274197A (ja) 2005-03-30 2006-10-12 Gunze Ltd 樹脂フィルムシート接合用シール剤、筒状フィルム、シール剤未塗布部検出装置、不可視光吸収剤添加装置、シール剤未塗布部検出システム及びシール剤未塗布部検出方法
JP2006274179A (ja) 2005-03-30 2006-10-12 Ntn Corp 高誘電性エラストマー組成物および高周波用電子部品
JP2006306020A (ja) 2005-03-31 2006-11-09 Dainippon Printing Co Ltd 化粧シート
JP2006282970A (ja) 2005-04-05 2006-10-19 Teijin Dupont Films Japan Ltd 色素増感型太陽電池用積層フィルムおよびそれを用いた色素増感型太陽電池用電極
JP2006293155A (ja) 2005-04-13 2006-10-26 Fuji Photo Film Co Ltd 画像表示装置
JP2006299428A (ja) 2005-04-15 2006-11-02 Teijin Fibers Ltd 鮮明性に優れた紫外線吸収性ポリエステル繊維および布帛および製織方法
JP2006299438A (ja) 2005-04-18 2006-11-02 Teijin Fibers Ltd 紫外線カット性と採光性に優れた布帛および繊維製品
JP2006301268A (ja) 2005-04-20 2006-11-02 Fuji Photo Film Co Ltd 画像表示装置及び画像形成方法
JP2006323339A (ja) 2005-04-20 2006-11-30 Gunze Ltd シュリンクラベル
JP2006298456A (ja) 2005-04-22 2006-11-02 Toyo Ink Mfg Co Ltd 飲料用容器
JP2006310461A (ja) 2005-04-27 2006-11-09 Teijin Dupont Films Japan Ltd 太陽電池裏面保護膜用ポリエステルフィルムおよびそれを用いた太陽電池裏面保護膜
JP2006316395A (ja) 2005-05-16 2006-11-24 Kaneka Corp 難燃性ポリエステル系人工毛髪
JP2006335855A (ja) 2005-06-01 2006-12-14 Shin Etsu Chem Co Ltd 紫外線吸収性基含有オルガノポリシロキサン、該ポリシロキサンの製造方法、及び該ポリシロキサンを配合してなる処理剤
JP2007093649A (ja) 2005-09-27 2007-04-12 Tsutsunaka Plast Ind Co Ltd 偏光レンズ
JP2009096974A (ja) * 2007-02-20 2009-05-07 Fujifilm Corp 紫外線吸収剤組成物
JP2008273927A (ja) * 2007-03-30 2008-11-13 Fujifilm Corp ヘテロ環化合物

Non-Patent Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
"Basis and Physical Properties of High Functional Coatings", 2003, CMC PUBLISHING, pages: 314 - 359
"Durability of Polymer Materials and Composite Material Products", 2005, CMC PUBLISHING
"Elongation of Lifetime of Polymer Materials and Environmental Measures", 2000, CMC PUBLISHING
"Methods for Improving the Photostability of Polymers", 2000, CMC PUBLISHING, pages: 85 - 107
"New Trend of Functional Polymer Additives", 1999, TORAY RESEARCH CENTER INC., article "Chapter 2.3.1."
"New Trend of Functional Polymer Additives", 1999, TORAY RESEARCH CENTER INC., pages: 96 - 140
BIOORGANIC & MEDICINAL CHEMISTRY LETTERS, vol. 13, 2003, pages 4077 - 4080
BIOORGANIC & MEDICINAL CHEMISTRY, vol. 8, 2000, pages 2095 - 2103
FINE CHEMICALS, May 2004 (2004-05-01), pages 28 - 38
H. ZWEIFEL: "Plastics Additives Handbook", HANSER PUBLISHERS, pages: 238 - 244
See also references of EP2272935A4 *
TADAHIKO KUTSURA: "Basic Seminar 2. Science of Plastic Packaging Container", 2003, SOCIETY OF PACKAGING SCIENCE & TECHNOLOGY, article "Chapter 8"
YASUICHI OKATSU: "Development of Polymer Additives and Environmental Measures", 2003, CMC PUBLISHING, article "Chapter 2"
YASUICHI OKATSU: "Development of Polymer Additives and Environmental Measures", 2003, CMC PUBLISHING, pages: 54 - 64

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU2010318078B2 (en) * 2009-11-12 2014-12-18 Essilor International Method for producing an anti-UV plastic film with non-uniform spatial distribution of the UV absorber and photochromic optical elements covered with such a plastic film

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