KR19990087198A - 두 개의 물체 홀더를 가진 이차원적으로 안정화된 위치 설정장치와 이런 위치 설정 장치를 구비한 리소그래픽 장치 - Google Patents

두 개의 물체 홀더를 가진 이차원적으로 안정화된 위치 설정장치와 이런 위치 설정 장치를 구비한 리소그래픽 장치 Download PDF

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KR19990087198A
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에릭 뢸로프 로프스트라
게리트 마르텐 본네마
데르 쇼트 하르멘 클라스 반
게르얀 페터 벨드후이스
베크 파울루스 마르티누스 테르
Original Assignee
제이. 지. 에이. 롤페스
에이에스엠 리소그라피 비.브이.
요트.게.아. 롤페즈
코닌클리케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이.
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Abstract

본 발명에 따른 위치 설정 장치(3, 97, 179)는 제 1 물체 홀더(11, 181)를 변위시키기 위한 제 1 변위 유닛(25, 189)과, 제 2 물체 홀더(13, 183)를 변위시키기 위한 제 2 변위 유닛(27, 191)을 구비한다. 상기 물체 홀더는 위치 설정 장치에 의해 선택적으로 측정 위치로부터 작동위치로 변위될 수 있으며, 각각의 변위 유닛에 의해 서로에 독립적으로 측정 위치에서 작동 위치로 변위될 수 있다.변위 유닛은 포스 엑츄에이터를 구비하고, 상기 포스 엑츄에이터는 각각 제 1 부분(47, 49; 117, 119; 215, 217)을 구비하고, 상기 제 1 부분은 관련된 물체 홀더에 결합되어 있고, 제 2 부분(59, 61; 133, 135, 137, 139; 219, 221)에 대한 구동력의 작용하에서 변위될 수 있으며, 상기 제 2 부분은 두 개의 변위 유닛에 공유되는 안정화 유닛(69, 149, 205)에 고정된다. 상기 안정화 유닛은 베이스(81, 209)에 대해 변위가능하게 안내되고, 그래서, 변위 유닛의 반작용력이 베이스에 대한 안정화 유닛의 변위로 변환되며, 안정화 유닛과 베이스의 기계적 진동이 방지된다. 포스 엑츄에이터를 사용하는 것에 의해 안정화 유닛의 변위가 베이스에 대한 물체 홀더의 위치를 교란하는 것을 방지한다. 상기 위치 설정 장치는 제어 유닛(83, 169, 237)을 추가로 구비하고, 상기 제어 유닛에 의해, 물체 홀더에 결합된 X-엑츄에이터(39, 41; 105, 107; 211, 213)의 X-방향에 평행하게 안내되는 적어도 일부(47, 49; 121, 123; 219, 221)가 X-방향에 평행한 위치에 유지된다. 또한, 베이스에 대한 물체 홀더의 위치가 변위 유닛의 반작용력에 의해 유발된 안정화 유닛의 회전에 의해 방해받는 것도 본 방식에서 방지된다. 상기 위치 설정 장치는 노출 시스템에 대한 마스크의 변위 및 리소그래픽 장치의 노출 시스템에 대한 반도체 기판의 변위를 위해 리소그래픽 장치내에 사용될 수 있다.

Description

두 개의 물체 홀더를 가진 이차원적으로 안정화된 위치 설정 장치와 이런 위치 설정 장치를 구비한 리소그래픽 장치
서두에 설명한 종류의 위치 설정 장치는 EP-A-0 525 872호에 공지되어 있다. 상기 공지된 위치 설정 장치는 광학적 리소그래픽 장치로 반도체 집적 회로를 제조하기 위해 광학적 리소그래픽 장치내에 사용된다. 상기 리소그래픽 장치는 마스크상에 존재하는 이런 반도체 회로의 서브 패턴(sub-pattern)을 광원과 렌즈 시스템에 의해 축소시켜 반도체 기판상에 이미지를 형성한다. 이런 반도체 회로가 복잡한 구조를 갖기 때문에, 반도체 기판은 복수회 노출되어야만 하고, 그때마다, 다른 서브 패턴을 가진 다른 마스크로 작업하게 된다. 마스크는 매거진(magazine)으로부터 연속적으로 취해지고 공지된 위치 설정 장치에 의해 리소그래픽 장치에서 작동 위치에 배치된다. 마스크를 매거진으로부터 작동 위치로 변위시키는 동안, 마스크는 리소그래픽 장치의 기준에 대한 마스크의 위치가 측정되는 측정 위치를 통과하게 된다. 마스크가 측정 위치로부터 작동 위치로 변위되는 동안 마스크를 이동시키는 물체 홀더의 위치가 상기 기준에 대해 측정되며, 그래서, 마스크는 물체 홀더의 적절한 이동을 통해 기준에 대해 원하는 작동 위치에 배치될 수 있다. 관련된 물체 홀더는 상기 마스크를 반도체 기판이 노출되는 동안 원하는 작동 위치에 유지한다. 반면에, 다른 물체 홀더는 다음 마스크를 매거진으로부터 취해서 측정 위치로 이동시킨다. 따라서, 두 개의 물체 홀더를 가진 두 개의 변위 유닛을 사용하는 것은 앞선 마스크가 작동 위치에 있고, 반도체 기판이 이 앞선 마스크를 통해 노출되는 동안 다음의 마스크의 기준선에 대한 위치를 측정하는 것을 가능하게 한다. 리소그래픽 장치의 제조량은 이 방식을 통해 현저하게 증가된다.
부가적으로, 서두에 언급한 종류의 위치 설정 장치는 일반적으로 기계가공 공구 및 기계 설비에서 공지되어 있다. 이 경우에, 두 개의 물체 홀더 중 하나에 의해 지지되는 작업편의 물체 홀더에 대한 위치가 측정 위치에서 측정된다. 그후, 작업편을 가진 관련된 물체 홀더는 작동위치로 이동되고, 그곳에서 작업편이 기계 가공된다. 관련된 물체 홀더의 기계가공 공구의 기준에 대한 위치는 작동위치에서 측정되고, 그 결과로 작업편은 기준에 대해 원하는 작업위치에 놓여질 수 있다. 여기에서, 두 개의 물체 홀더를 가진 두 개의 변위 유닛을 사용하는 것은 앞선 작업편이 가공되는 동안 다음 작업편이 이미 측정 위치로 이동되어 있기 때문에, 기계 가공 공구 또는 기계 가공 설비의 제조량을 현저하게 증가시킨다.
공지된 위치 설정 장치의 제 1 및 제 2 변위 유닛은 관련된 물체 홀더에 고정되는 제 1 부분과, 베이스에 고정되는 제 2 부분을 각각 포함하고, 각 변위 유닛의 상기 제 1 및 제 2 부분은 서로에 대해 구동력을 작용하면서 서로에 대해 변위될 수 있다. 공지된 위치 설정 장치의 단점은 변위 유닛의 두 개의 부분이 각각 베이스에 고정되어서 제 1 및 제 2 변위 유닛용 공통 베이스를 형성한다는 것이다. 물체 홀더의 변위 동안 제 2 부분상에 반작용력이 작용되고, 이 반작용력은 베이스로 전달된다. 상기 반작용력은 베이스에 기계적 진동을 유발시키며, 이 기계적 진동은 제 2 부분과 물체 홀더로 전달된다. 만약, 제 1 물체 홀더가 예로서, 작동위치에 존재한다면, 다음의 마스크가 매거진으로부터 측정 위치로 이동되는 동안 제 2 변위 유닛에 의해 베이스에 작용된 반작용력은 제 1 물체 홀더에 기계적 진동을 유발시킬 것이다. 두 개의 변위 유닛 사이의 이런 상호간섭은 일반적으로 바람직하지 못한 변위 유닛의 위치 설정의 부정확을 유발시킨다. 부가적으로, 베이스에 발생된 기계적 진동은 또한 공지된 위치 결정 장치가 사용되는 장치의 다른 부분으로도 전달되고, 일반적으로 이는 바람직하지 못하다.
본 발명은 베이스와, 상기 베이스에 대하여 X-방향 및 X-방향에 수직인 Y-방향으로 변위될 수 있는 제 1 물체 홀더를 가지는 제 1 변위 유닛과, 상기 베이스에 대하여 X-방향 및 Y-방향에 평행하게 변위될 수 있는 제 2 물체 홀더를 가지는 제 2 변위 유닛을 구비한 위치 설정 장치에 관한 것이고, 상기 제 1 및 제 2 물체 홀더는 측정 위치로부터 작동 위치로 연속적으로 베이스에 대해 이동가능하며, 제 1 및 제 2 변위 유닛은 각각 제 1 및 제 2 부분을 가지고, 상기 제 1 및 제 2 부분은 서로에 대해 변위가능하고 작동 동안 서로 구동력을 작용하며, 제 1 및 제 2 변위 유닛의 제 1 부분은 X-방향 및 Y-방향에 평행하게 제 1 물체 홀더와 제 2 물체 홀더에 각각 결합된다.
본 발명은 또한 방사원과, 마스크 홀더와, 주축을 가진 초점 형성 유닛과, 위치 설정 장치가 고정되어 있는 프레임을 구비한 리소그래픽 장치에 관한 것으로, 상기 장치에서, 위치 설정 장치는 주축에 수직인 X-방향과, 주축 및 X-방향에 수직인 Y-방향에 평행하게 초점 형성 유닛에 대해 변위될 수 있는 기판 홀더를 포함한다.
또한, 본 발명은 위치 설정 장치와, 주축을 가진 초점 형성 유닛과, 추가적인 위치 설정 장치와, 방사원이 고정되는 프레임을 구비한 리소그래픽 장치에 관한 것으로, 상기 장치에서, 위치 설정 장치는 주축에 수직인 X-방향과, 주축 및 X-방향에 수직인 Y-방향에 평행하게 초점 형성 유닛에 대해 변위될 수 있는 기판 홀더를 포함하고, 상기 추가적인 위치 설정 장치는 적어도 X-방향에 평행하게 초점 형성 유닛에 대해 변위될 수 있는 마스크 홀더를 포함한다.
도 1은 본 발명에 따른 변위가능한 기판 홀더를 구비한 리소그래픽 장치를 도시하는 개략적인 도면.
도 2는 도 1의 리소그래픽 장치의 기판 홀더와 함께 변위될 수 있는 본 발명에 따른 위치 설정 장치의 제 1 실시예를 도시하는 개략적인 평면도.
도 3은 도 2의 위치 설정 장치를 회전 위치에서 도시하는 도면.
도 4는 도 1의 리소그래픽 장치의 기판 홀더와 함께 변위될 수 있는 본 발명에 따른 위치 설정 장치의 제 2 실시예를 도시하는 도면.
도 5는 도 4의 위치 설정 장치의 두 개의 기판 홀더가 중간 위치에 있는 위치 설정 장치를 도시하는 도면.
도 6은 본 발명에 따른 변위가능한 마스크 홀더와 변위가능한 기판 홀더를 구비한 리소그래픽 장치를 도시하는 개략적인 도면.
도 7은 도 6의 리소그래픽 장치의 마스크 홀더의 변위에 사용되는 본 발명에 따른 다른 위치 설정 장치를 도시하는 개략적인 도면.
본 발명의 목적은 서두에 언급한 종류의 위치 설정 장치를 제공하는 것이고, 상기 위치 설정 장치에서는 그 베이스가 두 개의 변위 유닛에 의해 공유되며, 상술한 두 변위 유닛 사이의 바람직하지 못한 상호 간섭이 가능한 많이 방지된다.
이를 위해서, 본 발명은 제 1 및 제 2 변위 유닛의 제 2 부분이 X-방향 및 Y-방향에 평행하게 안정화 유닛에 결합되고, 상기 안정화 유닛은 제 1 및 제 2 변위 유닛에 공통되어 있으며 X-방향 및 Y-방향에 평행하게 베이스에 대해 변위가능하게 안내될 수 있고, 상기 제 1 및 제 2 변위 유닛 각각은 구동력을 발생시키기 위한 포스 엑츄에이터를 포함한다. 용어 "포스 엑츄에이터(force actuator)"는 사전 설정된 값의 구동력을 발생시키기 위한 엑츄에이터를 의미한다. 이런 포스 엑츄에이터 외에도 사전 설정된 값을 가지는 변위를 발생시키기 위해 공지되어 있는 위치 엑츄에이터라 지칭되는 것이 사용될 수 있다. 안정화 유닛을 사용하기 때문에, 위치 설정 장치의 변위 유닛의 제 1 부분에 의해 제 2 부분상에 작용되는 반작용력은 베이스로 전달되지 않고, 베이스에 대해 변위가능한 안정화 유닛상에 작용되어 베이스에 대한 안정화 유닛의 변위로 변환된다. 따라서, 안정화 유닛과 베이스내의 기계적 진동이 가능한 많이 방지되며, 또한 이런 진동이 물체 홀더로 전달되는 것도 가능한 많이 방지된다. 베이스에 대한 물체 홀더의 위치는 위치 설정 장치의 변위 유닛의 구동력의 값에 의해 결정되고, 구동력의 값은 제어 유닛에 의해 제어된다. 상기 구동력이 포스 엑츄에이터에 의해 발생되기 때문에, 이 구동력은 제 2 부분에 대한 변위 유닛의 제 1 부분의 위치에 실질적으로 독립적이고, 그래서, 베이스에 대한 물체 홀더의 위치는 물체 홀더에 대한 안정화 유닛의 위치에 실질적으로 독립적이게 된다. 그에 의해, 두 개의 변위 유닛 중 하나의 반작용력에 의해 유발된 X-방향 및 Y-방향에 평행한 베이스에 대한 안정화 유닛의 변위는 베이스에 대한 다른 변위 유닛의 물체 홀더의 위치상에 실질적으로 아무런 영향도 미치지 못하고, 그래서, 두 개의 변위 유닛의 위치 설정 정밀도 사이의 상호 간섭이 가능한 많이 방지된다. 안정화 유닛이 두 개의 변위 유닛에 공유되는 방식에 의해 위치 설정 장치의 구성을 단순하게 할 수 있다.
하나의 변위 유닛을 가지고, 상기 변위 유닛에 의해 광학 유닛이 하나의 주사 방향에 평행하게 변위될 수 있는 사진복사 장치가 US-A-5,208,497호에 공지되어 있다. 또한, 상기 변위 유닛은 안정화 유닛을 구비하고, 상기 안정화 유닛은 광학적 유닛에 결합되고, 또한, 주사방향에 평행하게 변위될 수 있다. 그러나, US-A-5,208,497호는 물체 홀더를 각각 가지는 두 개의 변위 유닛에 있어서, 물체 홀더는 X-방향 및 X-방향에 수직인 Y-방향에 평행하게 변위될 수 있고, 변위 유닛이 X-방향 및 Y-방향에 평행하게 변위될 수 있는 공통의 안정화 유닛과 협력하는 방식의 것을 발표하고 있는 것은 아니다.
본 발명에 따른 위치 설정 장치의 특별한 실시예는 제 1 및 제 2 변위 유닛의 포스 엑츄에이터가 단지 로렌쯔 힘만을 발생시키는 것을 특징으로 한다. 단지 로렌쯔 힘만을 발생시키는 포스 엑츄에이터의 사용은 변위 유닛의 구동력을 변위 유닛의 제 1 및 제 2 부분의 상대적인 위치에 실질적으로 독립적이 되도록 하고, 포스 엑츄에이터의 구성이 특별히 실용적이고 단순해지도록 한다.
본 발명에 따른 다른 실시예는 안정화 유닛이 X-방향 및 Y-방향에 평행하게 연장되는 베이스의 안내면 위에서 정적 가스 베어링에 의해 변위가능하게 안내되는 것을 특징으로 한다. 정적 가스 베어링의 사용은 안정화 유닛을 베이스에 대하여 실질적으로 마찰이 없이 안내하며, 그래서, 변위 유닛의 반작용력의 영향하에서의 안정화 유닛의 변위가 안정화 유닛과 베이스의 안내면 사이에서 발생되는 마찰력에 영향을 받지 않는다. 안정화 유닛의 변위가 마찰력의 영향을 받게되며 안정화 유닛과 베이스내에 바람직하지 못한 기계적 진동이 남게된다.
본 발명에 따른 위치 설정 장치의 다른 실시예는 두 개의 변위 유닛이 각각 X-엑츄에이터와 Y-엑츄에이터를 구비하고, 상기 X-엑츄에이터는 관련된 변위 유닛의 물체 홀더에 X-방향 및 Y-방향에 평행하게 결합되어서 관련된 X-엑츄에이터의 제 2 부분에 대해 X-방향에 평행하게 변위될 수 있는 제 1 부분을 각각 구비하고, 상기 Y-엑츄에이터는 관련된 변위 유닛의 X-엑츄에이터의 제 2 부분에 고정되어서 안정화 유닛에 고정되어있는 관련된 Y-엑츄에이터의 제 2 부분에 대해 Y-방향에 평행하게 변위될 수 있는 제 1 부분을 각각 구비하는 것을 특징으로 한다. 이 추가적인 실시예에서, 상기 물체 홀더는 관련된 변위 유닛의 X-엑츄에이터의 적절한 구동력에 의해 X-방향에 평행하게 각각 변위될 수 있으며, 상기 물체 홀더는 관련된 변위 유닛의 Y-엑츄에이터의 적절한 구동력에 의해 Y-방향에 평행하게 관련된 변위 유닛의 X-엑츄에이터와 함께 변위될 수 있다. 두 개의 변위 유닛의 X-엑츄에이터의 반작용력은 X-엑츄에이터와 Y-엑츄에이터의 제 2 부분을 통해 안정화 유닛으로 전달되고, 두 개의 변위 유닛의 Y-엑츄에이터의 반작용력은 Y-엑츄에이터의 제 2 부분을 통해 안정화 유닛으로 직접 전달된다.
본 발명에 따른 위치 설정 장치의 특별한 실시예는 위치 설정 장치가 하나 이상의 엑츄에이터에서 제어를 위한 제어유닛을 구비하고, 상기 제어 유닛에 의해 두 개의 변위 유닛의 적어도 X-엑츄에이터의 제 2 부분이 X-방향에 평행한 위치에서 유지될 수 있다. 상술한 바와 같이, 두 개의 변위 유닛의 반작용력에 의해 유발된 베이스에 대한 안정화 유닛의 X-방향에 평행한 변위와, 베이스에 대한 안정화 유닛의 Y-방향에 평행한 변위는 두 개의 변위 유닛의 구동력의 값에 실질적으로 어떠한 영향도 미치지 않으며, 그래서, 베이스에 대한 두 개의 물체 홀더의 위치는 이런 안정화 유닛의 변위에 의해 실질적으로 어떠한 영향도 받지 않는다. 상기 제어 유닛은 X-방향 및 Y-방향에 평행한 성분을 가진 안정화 유닛의 변위를 유지한다. 그러나, 변위 유닛의 반작용력은 또한 X-방향 및 Y-방향에 수직인 축에 대해서 안정화 유닛상에 기계적 토크를 작용한다. 추가적인 조치가 없다면, 상기 기계적 토크는 안정화 유닛과 그에 결합된 변위 유닛을 X-방향 및 Y-방향에 수직인 회전축에 대해 회전하도록 한다. 변위 유닛의 구동력의 추가적인 개조가 없이는 이런 회전은 X-방향 및 Y-방향에 평행하게 베이스에 대해 물체 홀더가 변위되게 하고, 그래서, 베이스에 대한 물체 홀더의 위치는 상기 안정화 유닛의 회전에 영향을 받게 된다. 상기 엑츄에이터를 제어하기 위해 상기 제어유닛을 사용하는 것은 적어도 변위 유닛의 X-엑츄에이터의 제 2 부분이 X-방향에 평행한 위치에 유지되게 한다. 물체 홀더가 X-방향 및 Y-방향에 평행하게 X-엑츄에이터의 제 1 부분에 결합되어 있기 때문에, 상기 제어 유닛의 사용은 X-엑츄에이터와 그곳에 결합된 물체 홀더가 X-방향 및 Y-방향에 수직인 회전축에 대해 회전되는 것을 방지하고, 그래서, 이런 회전에 의해 물체 홀더가 베이스에 대해 변위되는 것이 방지된다. 따라서, 안정화 유닛의 첨부된 반작용 토크와 마잔가지로 변위 유닛의 반작용력은 베이스에 대한 물체 홀더의 위치에 실질적으로 어떠한 영향도 미치지 않는다.
본 발명에 따른 위치 설정 장치의 다른 실시예는 변위 유닛의 Y-엑츄에이터가 Y-엑츄에이터의 제 1 부분이 그를따라 변위가능하게 안내될 수 있는 공통 직선 안내부를 구비하고, 상기 위치 설정 장치가 안정화 유닛에 고정된 제 1 부분과, 공통 직선 안내부에 고정되어서 X-방향 및 Y-방향에 수직으로 연장되는 회전축 둘레에서 제 1 부분에 대해 회전할 수 있는 제 2 부분을 구비하는 것을 특징으로 한다. 본 실시예에서, Y-엑츄에이터의 제 1 부분은 공통 직선 안내부를 따라 서로에 독립적으로 변위될 수 있고, X-엑츄에이터의 제 1 부분과 거기에 결합된 물체 홀더는 Y-엑츄에이터의 제 1 부분에 고정된 X-엑츄에이터의 제 2 부분에 대해 서로에 대해 독립적으로 변위될 수 있다. X-엑츄에이터의 반작용력은 관련된 Y-엑츄에이터와, 공통 직선 안내부와, 회전 유닛을 통해 안정화 유닛으로 전달되고, Y-엑츄에이터의 반작용력은 공통 직선 안내부와 회전 유닛을 통해 안정화 유닛으로 전달된다. 따라서, 작동위치의 제 1 물체 홀더와 측정 위치의 제 2 물체 홀더는 작동 동안 서로에 독립적으로 베이스에 대해 변위될 수 있다. 제 2 물체 홀더를 측정 위치로부터 작동 위치로 이동시키기 위해, 공통 직선 안내부는 회전 유닛에 의해 상기 회전축 둘레를 180°만큼 회전되고, 그래서, 동시에 제 1 물체 홀더는 작동 위치로부터 측정 위치로 이동된다. 회전 유닛과 공통 직선 안내부의 사용은 위치 설정 장치의 구조를 단순하게 하고, 여기에서, 제 1 물체 홀더와 제 2 물체 홀더는 공통 직선 안내부의 단순한 회전 이동에 의해 측정 위치로부터 작동위치로 그리고 작동위치로부터 측정 위치로 변위될 수 있다.
본 발명에 따른 위치 설정 장치의 다른 실시예는 제어 유닛이 회전 유닛을 제어하는 것을 특징으로 한다. 본 실시예에서, 회전유닛은 이중 기능을 가지고, 그래서 특히 단순하며 실용적인 구성의 위치 설정 장치가 제공된다. 상기 회전 유닛은 실제로 상기 물체 홀더들을 공통 직선 안내부의 회전 이동에 의해 측정 위치로부터 작동위치로 그리고 작동위치로부터 측정 위치로 이동시키기 위해서 사용되고, 제어 유닛에 의해 회전 유닛을 적절하게 제어함에 의해 공통 직선 안내부를 X-방향 및 Y-방향에 평행하게 유지하고 그래서 X-엑츄에이터의 제 2 부분이 X-방향에 평행한 위치에 유지되게 하기 위해서 사용된다.
본 발명에 따른 위치 설정 장치의 특별한 실시예는 안정화 유닛이 안내면을 구비하는 지지체를 포함하고, 상기 안내면은 X-방향 및 Y-방향에 평행하게 연장되고 두 개의 물체 홀더에 공유되며 그를 따라 두 개의 물체 홀더가 X-방향 및 Y-방향에 평행하게 변위될 수 있으며, 상기 물체 홀더는 양쪽 모두 결합 부재를 구비하고, 상기 결합부재에 의해 관련된 물체 홀더가 제 1 변위 유닛의 X-엑츄에이터의 제 1 부분과 제 2 변위 유닛의 X-엑츄에이터의 제 1 부분에 순차적으로 결합될 수 있다. 본 실시예에서 상기 물체 홀더는 안정화 유닛에 소속되는 공통 안내면에 걸쳐 예로서, 정적 가스 베어링에 의해 변위가능하게 안내될 수 있다. 지지체는 예로서, 화강암판이고, 이중 기능, 즉, 두 개의 물체 홀더를 지지 및 안내하는 기능과 두 개의 변위 유닛을 위한 안정화를 형성하는 기능을 갖는다. 제 1 물체 홀더가 측정 위치로부터 작동위치로 이동되고 제 2 물체 홀더가 작동위치로부터 측정 위치로 이동될 때, 상기 물체 홀더는 반드시 상기 공통 안내면 위에서 서로를 통과하여야만 한다. 이를 달성하기 위해서, 제 1 물체 홀더는 측정 위치로부터 측정 위치와 작동위치 사이의 제 1 중간 위치로 제 1 변위 유닛에 의해 변위되고, 제 2 물체 홀더는 작동위치로부터 측정 위치와 작동위치 사이에서 제 1 중간위치에 이웃하는 제 2 중간위치로 제 2 변위 유닛에 의해 이동된다. 상기 중간위치에서, 제 1 물체 홀더는 제 1 변위 유닛으로부터 분리되어 제 2 변위 유닛에 결합되고, 제 2 물체 홀더는 제 2 변위 유닛으로부터 분리되어 제 1 변위 유닛에 결합된다. 그후, 제 1 물체 홀더는 제 1 중간위치로부터 작동위치로 제 2 변위 유닛에 의해 이동되고, 제 2 물체 홀더는 제 2 중간위치로부터 측정 위치로 제 1 변위 유닛에 의해 이동된다. 상기 물체 홀더가 상기 결합 부재를 구비하기 때문에, 변위 유닛의 제 1 부분이 관련된 변위 유닛의 제 2 부분에 대해 변위되어야만 하는 거리가 감소되고, 그래서, 필요한 변위 유닛의 치수가 감소된다. 이는 부가적으로 제 1 변위 유닛의 변위부와 제 2 변위 유닛의 변위부가 반드시 서로를 통과해야만 한다는 것에 의해 변위유닛의 구조가 비교적 복잡해지는 것을 방지한다.
본 발명에 따른 위치 설정 장치의 다른 실시예는 물체 홀더의 결합 부재가 각각 XY 로렌쯔 포스 엑츄에이터를 포함하고, 상기 XY 로렌쯔 포스 엑츄에이터는 관련된 물체 홀더에 고정된 제 1 부분과 관련된 변위 유닛의 X-엑츄에이터의 제 1 부분에 고정된 제 2 부분을 구비하며, XY 로렌쯔 포스 엑츄에이터의 제 1 부분 각각이 두 개의 XY 로렌쯔 포스 엑츄에이터의 제 2 부분과 협력하는 것을 특징으로 한다. 상기 XY 로렌쯔 포스 엑츄에이터 각각은 이중 기능을 가지고, 그래서, 위치 설정 장치의 단순하고 실용적인 구성을 제공한다. 물체 홀더는 상기 XY 로렌쯔 포스 엑츄에이터에 의해 비교적 작은 거리에 걸쳐 비교적 높은 정밀도로 관련된 변위 유닛의 X-엑츄에이터의 제 1 부분에 대해 변위될 수 있다. 이런 로렌쯔 포스 엑츄에이터의 제 1 부분 및 제 2 부분은 단지 로렌쯔 힘만으로 서로 결합되기 때문에, 상기 부분들은 로렌쯔 힘의 활성화 및 비활성화라는 단순한 방법을 통해 서로 결합 및 분리될 수 있다. XY 로렌쯔 포스 엑츄에이터의 제 1 부분을 XY 로렌쯔 포스 엑츄에이터의 양쪽 제 2 부분과 협력하도록 구성하므로써, 각각의 두 개의 XY 로렌쯔 포스 엑츄에이터의 제 1 부분이 상기 물체 홀더의 상기 중간 위치에서 다른 XY 로렌쯔 포스 엑츄에이터의 제 2 부분에 의해 취해질 수 있는 결과를 얻는다.
본 발명에 따른 위치 설정 장치의 다른 실시예는 두 개의 변위 유닛이 각각 두 개의 Y-엑츄에이터를 구비하고, 상기 Y-엑츄에이터는 Y-방향에 평행하게 연장되는 제 2 부분을 각각 구비하고, 두 개의 변위 유닛의 X-엑츄에이터의 제 2 부분은 X-방향 및 Y-방향에 수직으로 연장되는 선회축 둘레에서 관련된 Y-엑츄에이터의 두 개의 제 1 부분에 대해 각각 선회될 수 있으며, 제어 유닛은 양쪽 변위 유닛의 Y-엑츄에이터를 제어하는 것을 특징으로 한다. 본 실시예에서, 베이스에 대한 안정화 유닛의 회전이 변위 유닛의 반작용력의 영향하에서 X-방향 및 Y-방향에 수직으로 안내되는 회전축 둘레에서 발생하고, 그래서 또한 안정화 유닛에 고정된 두 개의 변위 유닛의 Y-엑츄에이터의 제 2 부분도 베이스에 대해 회전된다. X-엑츄에이터의 제 2 부분이 관련된 변위 유닛의 Y-엑츄에이터의 양쪽 제 1 부분에 각각 선회가능하게 결합되기 때문에, 양쪽 변위 유닛의 X-엑츄에이터의 제 2 부분은 X-방향에 평행한 위치에 각각 유지될 수 있고, 관련된 변위 유닛의 두 개의 Y-엑츄에이터는 안정화 유닛에 대해 서로다른 거리에 걸쳐 변위될 수 있다. 따라서, 안정화 유닛과 변위 유닛의 회전을 방지하기 위해 분리된 엑츄에이터를 사용하는 것을 기피할 수 있고, 그래서 위치 설정 장치의 비교적 단순한 구성이 달성된다.
서두에 언급한 종류의 변위가능한 기판 홀더를 구비한 리소그래픽 장치는 EP-A-0 498 496호에 공지되어 있다. 공지된 리소그래픽 장치는 광학적 리소그래픽 공정에 의해 반도체 집적 회로를 제조하는 곳에 사용된다. 공지된 리소그래픽 장치의 방사원은 광원이고, 초점 형성 유닛은 광학적 렌즈시스템이며, 상기 렌즈 시스템에 의해 반도체 집적 회로의 서브 패턴이 위치 설정 장치의 기판 홀더상에 배치될 수 있는 반도체 기판상에 축소되어 이미지 형성되고, 상기 서브 패턴은 리소그래픽 장치의 마스크 홀더상에 배치될 수 있는 마스크상에 존재한다. 이를 위해 반도체 기판의 독립적인 영역이 노출되고, 반도체 기판은 개별적인 영역의 노출 동안 초점 형성 유닛과 마스크에 대해 일정한 위치에 있으며, 두 연속적인 스텝 사이에 반도체 기판의 다음 영역이 위치 설정 장치에 의해 초점형성 유닛에 대한 위치에 배치된다. 이 공정은 매번 다른 서브 패턴을 가진 다른 마스크로 복수회 반복되고, 그래서 비교적 복잡한 구조의 반도체 집적회로가 제조될 수 있다. 이런 반도체 집적 회로의 구조는 1미크론 이하 영역의 세부 치수를 갖는다. 따라서, 연속적인 마스크상에 존재하는 서브패턴은 1 미크론 이하 범위의 상호 정밀도로 반도체 기판의 상기 영역상에 이미지 형성 될 수 있다. 그러므로, 반도체 기판은 위치 설정 장치에 의해 마스크와 초점 형성 유닛에 대해 1 미크론 이하의 범위의 정밀도로 배치될 수 있다. 부가적으로, 반도체 회로의 제조에 소요되는 시간을 제한하기 위하여, 반도체 기판은 두 개의 연속적인 노출 단계 사이에서 비교적 높은 속도로 배치될 수 있다.
본 발명에 따라서, 변위가능한 기판 홀더를 구비한 리소그래픽 장치는 그 내부에 사용되는 위치 설정 장치가 본 발명에 따른 위치 설정 장치이고, 상기 위치 설정 장치에서, 위치 설정 장치의 두 개의 물체 홀더 각각이 리소그래픽 장치의 기판 홀더이며, 기판 홀더의 작동 위치는 기판 홀더상에 배치될 수 있는 기판이 초점 형성 유닛을 경유하여 광원에 의해 조사될 수 있는 위치이며, 위치 설정 장치의 베이스가 프레임에 고정되는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 따른 위치 설정 장치를 사용하는 것은 작동 동안 위치 설정 장치의 측정 위치를 이용하는 것을 가능하게 한다. 예로서, 제 1 기판 홀더에 대해 제 1 기판 홀더상에 존재하는 제 1 반도체 기판의 위치를 정밀하게 측정하기 위해서 사용한다. 이동안, 제 2 반도체 기판 홀더상에 존재하는 제 2 반도체 기판은 조사될 수 있다. 상술한 바와 같이, 베이스에 대한 제 1 기판 홀더의 위치는 노출동안 필요한 제 2 기판 홀더의 변위 동안 위치 설정 장치의 안정화 유닛상의 제 2 기판 홀더의 변위 유닛에 의해 작용되는 반작용력에 실질적으로 어떠한 영향도 받지 않는다. 따라서, 제 1 기판 홀더에 대한 제 1 반도체 기판의 위치의 측정은 상기 반작용력에 의해 실질적으로 어떠한 영향도 받지 않는다. 또한, 리소그래픽 장치의 프레임은 기판 홀더의 변위가 위치 설정 장치의 베이스에 실질적으로 어떠한 기계적 진동도 유발하지 않기 때문에 이런 바람직하지 못한 진동이 발생되지 않는다. 제 1 반도체 기판의 상기 위치가 제 1 반도체 기판이 작동위치로 이동되기 이전에 이미 정밀하게 측정되어 있기 때문에, 제 1 반도체 기판은 작동위치에서 초점 형성 유닛에 대해 정렬될 필요가 없고, 단지 비교적 단순한 초점 형성 유닛에 대한 제 1 기판 홀더의 위치 측정만이 작동위치에서 수행되는 것으로 충분하다. 초점 형성 유닛에 대한 반도체 기판의 정렬이 일반적으로 시간을 많이 소모하는 작업이기 때문에 본 발명에 따른 위치 설정 장치의 사용은 리소그래픽 장치의 제조량을 현저하게 증가시킨다.
본 발명에 따른 변위가능한 기판 홀더를 가진 리소그래픽 장치의 특별한 실시예는 리소그래픽 장치가 추가적인 위치 설정 장치를 포함하고, 상기 추가적인 위치 설정 장치에 의해 마스크 홀더가 적어도 X-방향에 평행하게 초점 형성 유닛에 대해 변위될 수 있는 것을 특징으로 한다. 이 본 발명에 따른 리소그래픽 장치의 특별한 실시예에서, 제조될 반도체 기판은 반도체 기판의 개별적인 영역이 노출되는 동안 초점형성 유닛과 마스크에 대해 일정한 위치에 있지 않고, 그대신 반도체 기판과 마스크는 노출동안 관련된 기판 홀더의 변위 유닛과 마스크 홀더의 추가적인 위치 설정 장치에 의해 각각 초점 형성 유닛에 대해 X-방향에 평행하게 동기되어 변위된다. 따라서, 마스크상에 존재하는 패턴은 X-방향에 평행하게 주사되고 반도체 기판상에 동기되어 이미지형성된다. 그에의해, 초점 형성 유닛을 통해 반도체 기판상에 이미지 형성될 수 있는 마스크의 최대 표면적이 초점 형성 유닛의 이미지 영역 크기의 크기에 의해 더 작은 범위로 제한된다.
본 발명에 따른 변위가능한 기판 홀더를 가진 리소그래픽 장치와, 서두에 언급한 종류의 변위가능한 마스크 홀더와 변위가능한 기판 홀더를 가진 리소그래픽 장치의 다른 실시예는 추가적인 위치 설정 장치가 본 발명에 따른 위치 설정 장치이고, 상기 추가적인 위치 설정 장치에서, 추가적인 위치 설정 장치의 두 개의 물체 홀더 각각은 리소그래픽 장치의 마스크 홀더이고, 상기 마스크 홀더는 추가적인 위치 설정 장치에 의해 X-방향 및 Y-방향에 평행하게 위치될 수 있으며, 마스크 홀더의 작동 위치는 마스크 홀더상에 배치될 수 있는 마스크가 방사원에 의해 조사될 수 있는 위치이며, 추가적인 위치 설정 장치의 베이스는 프레임에 고정된다. 분 발명에 따른 위치 설정 장치의 사용은 작동 동안 추가적인 위치 설정 장치의 측정 위치를 예로서, 제 1 마스크 홀더상에 존재하는 제 1 마스크의 제 1 마스크 홀더에 대한 위치를 정밀하게 측정하기 위해 사용하는 것을 가능하게 한다. 동시에, 제 2 마스크 홀더상에 존재하는 제 2 마스크는 조사될 수 있다. 상술한 바와 같이, 제 1 마스크 홀더의 베이스에 대한 위치는 실질적으로 조사 동안 필요한 제 2 마스크 홀더의 변위 동안 추가적인 위치 설정 장치의 안정화 유닛상의 제 2 마스크 홀더의 변위 유닛에 의해 작용되는 반작용력에 의해 영향을 받지 않는다. 제 1 마스크 홀더에 대한 제 1 마스크의 위치를 측정하는 것은 따라서 실질적으로 상기 반작용력에 어떠한 영향도 받지 않는다. 또한, 마스크 홀더의 변위가 추가적인 위치 설정 장치의 베이스에 어떠한 기계적 진동도 유발하지 않기 때문에 실질적으로 리소그래픽 장치의 프레임은 바람직하지 못한 진동이 남지 않게된다. 제 1 마스크의 상기 위치가 상기 제 1 마스크가 작동위치로 이동되기 이전에 이미 정밀하게 측정되어 있기 때문에, 제 1 마스크는 작동위치에서 초점 형성 유닛에 대해 정렬될 필요가 없으며, 작동위치에서 제 1 마스크 홀더를 초점 형성 유닛에 대해 비교적 단순하게 측정하는 것만으로도 충분하게 된다. 초점 형성 유닛에 대한 마스크의 정렬이 일반적으로 시간을 많이 소모하는 작업이기 때문에, 본 발명에 따른 위치 설정 장치를 사용함으로써 리소그래픽 장치의 제조량을 형저하게 증가시킬 수 있다.
도 1에 도시된 본 발명에 따른 리소그래픽 장치는 "스텝 엔드 리피트(step and repeat)"이라 지칭되는 원리에 따른 이미지 형성 방법으로 광학적 리소그래픽 공정에 의해 반도체 집적 회로를 제조하기 위해 사용된다. 도 1에 개략적으로 도시되어 있는 바와 같이, 상기 리소그래픽 장치는 프레임(1)을 구비하고, 상기 프레임을 Z-방향에 평행하게 보아, 본 발명에 따른 위치 설정 장치(3)와, 초점형성 유닛(5)과, 마스크 홀더(7)와, 방사원(9)이 순서대로 지지하고 있다. 상기 위치 설정 장치는 제 1 기판 홀더(11)와, 동일한 제 2 기판 홀더(13)를 포함한다. 도 1에 도시된 상기 리소그래픽 장치는 광학적 리소그래픽 장치이고, 본 장치에서 방사원(9)은 광원(15)을 포함한다. 기판 홀더(11, 13)는 Z-방향에 수직으로 연장되어 그 위에 제 1 반도체 기판(19)이 배치될 수 있는 지지면(17)과, Z-방향에 수직으로 연장되어 그 위에 제 2 반도체 기판(23)이 배치될 수 있는 지지면(21)을 각각 포함한다. 제 1 반도체 홀더(11)는 위치 설정 장치(3)의 제 1 변위 유닛(25)에 의해 Z-방향에 수직인 X-방향과, Z-방향에 수직인 Y-방향에 평행하게 프레임(1)에 대하여 변위될 수 있고, 상기 제 2 반도체 홀더(13)는 위치 설정 장치(3)의 제 2 변위 유닛(27)에 의해 X-방향과 Y-방향에 평행하게 프레임(1)에 대해 변위될 수 있다. 초점형성 유닛(5)은 이미지 형성 또는 투사 유닛이고, Z-방향에 평행하게 안내되는 광학적 주축(31)을 가지면서 광축사 계수(optical reduction factor)가 4나 5인 광학 렌즈 시스템(29)을 포함한다. 마스크 홀더(7)는 그 위에 마스크(35)가 배치될 수 있는 Z-방향에 수직으로 연장된 지지면(33)을 포함한다. 상기 마스크(35)는 반도체 집적 회로의 패턴 또는 보조패턴을 포함한다. 작동 동안에, 광원(15)으로부터 발생된 광빔은 마스크(35)를 통해 안내되고, 렌즈 시스템(29)에 의해 제 1 반도체 기판(19)상에 초점이 형성되며, 그래서 마스크(35)상에 존재하는 패턴이 제 1 반도체 기판(19)상에 축소된 이미지를 형성한다. 제 1 반도체 기판(19)은 매우 많은 수의 독립적인 필드를 포함하고, 상기 필드상에는 동일한 반도체 회로가 제공된다. 이를 위해서 상기 제 1 반도체 기판의 필드는 연속적으로 마스크(35)를 통해 노출된다. 제 1 반도체 기판(19)의 독립적인 필드가 노출되는 동안에, 상기 제 1 반도체 기판(19)과 마스크(35)는 초점형성 유닛(5)에 대해 고정된 위치에 있고, 그 반면에, 개별적인 필드가 노출 이후에는 매회 제 1 기판 홀더(11)가 제 1 변위 유닛(25)에 의해 X-방향 및/또는 Y-방향에 평행하게 변위되어서 그 다음 필드가 상기 초점 형성 유닛(5)에 대해 위치된다. 이 공정은 매회 다른 마스크에서 복수회 반복되고, 그래서, 층구조를 가진 복잡한 반도체 집적 회로가 제조된다. 리소그래픽 장치에 의해 제조될 반도체 집적 회로는 세부 치수가 1미크론 이하의 범위인 구조를 가진다. 상기 제 1 반도체 기판(19)이 복수개의 다른 마스크를 통해 연속적으로 노출되기 때문에, 이 마스크상에 존재하는 패턴은 1 미크론 이하의 범위 또는 나노미터 범위내의 정밀도로 상기 반도체 기판(19)상에 이미지가 형성되어야한다. 다라서, 반도체 기판(19)은 반드시 두 개의 연속적인 노출 단계 사이에 동등한 정밀도를 가지는 초점형성 유닛(5)에 대해 위치되어야만 하고, 그래서, 위치 설정 장치(3)의 위치 설정 정밀도는 매우 높아야할 필요성이 있다.
1회 제조분의 반도체 기판은 도 1에 도시된 리소그래픽 장치내에서 마스크(35)를 통해 연속적으로 노출되고, 그후, 상기 일군의 반도체 기판은 다음의 마스크를 통해 연속적으로 노출된다. 이 공정은 매회 다른 마스크로 복수회 반복된다. 노출될 반도체 기판은 매거진 안에 존재하고, 그 매거진으로부터 반도체 기판이 전달 기구에 의해 위치 설정 장치(3)의 측정 위치로 연속적으로 전달된다. 두 가지 모두가 공지되어 있는 종류인 상기 매거진과 상기 전달 기구는 간략화를 위해 도 1에는 도시되어 있지 않다. 도 1에 도시되어 있는 리소그래픽 장치의 상태에서, 제 1 기판 홀더(11)는 작동 위치이고, 상기 작동위치에서는 제 1 기판 홀더(11)상에 배치된 제 1 반도체 기판(19)이 방사원(9)에 의해 초점 형성 유닛(5)을 통해 조사될 수 있다. 제 2 기판 홀더(13)는 상기 위치 설정 장치(3)의 측정 위치에 있고, 그 곳에서 제 2 기판 홀더(13)상에 배치된 상기 반도체 기판(23)의 제 2 기판 홀더(13)에 대한 위치가 도 1에만 개략적으로 도시되어 있는 리소그래픽 장치의 광학적 위치 측정 유닛(37)에 의해 X-방향 및 Y-방향에 평행한 방향에서 측정되고, 제 2 반도체 기판(23)은 상기 전달 기구에 의해 사전 설정된 정밀도로 제 2 기판 홀더(13)에 대해 위치된다. 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 광학적 위치 측정 유닛(37)은 또한 프레임(1)에 고정된다. 제 1 반도체 기판(19)의 노출이 완료된 이후에, 제 1 기판 홀더(11)는 위치 설정 장치(3)에 의해 하기에 추가적으로 설명될 방식으로 작동 위치로부터 측정 위치로 이동되고, 그곳에서 상기 제 1 반도체 기판(19)은 상기 전달 기구에 의해 매거진으로 돌아간다. 동시에, 상기 제 2 반도체 기판(23)은 위치 설정 장치(3)에 의해 하기에 추가적으로 설명될 방식으로 측정 위치로부터 작동 위치로 이동된다. 제 2 기판 홀더(13)에 대한 제 2 반도체 기판(23)의 위치가 이미 측정 위치에서 측정되어서 상기 제 2 반도체 기판(23)이 제 2 기판 홀더(13)에 원하는 정밀도로 위치되어 있기 때문에, 작동위치에서는 프레임(1)과 초점 형성 유닛(5)에 대한 제 2 기판 홀더(13)의 위치를 비교적 단순하게 측정할 수 있다. 반도체 기판을 기판 홀더에 대해 측정하고 위치 설정하는 것은 비교적 많은 시간을 필요로하고, 그래서, 본 발명에 따라서 두 개의 변위 유닛(25, 27)을 가진 위치 설정 장치(3)를 사용하는 것은 작동 위치에서 기판 홀더에 대해 반도체 기판을 정렬하는 하나의 기판 홀더만을 가진 리소그래픽 장치에 비해 생산품을 현저하게 증가시킨다.
도 2 및 도 3은 도 1의 리소그래픽 장치에 사용하기에 적합한 본 발명에 따른 위치 설정 장치(3)의 제 1 실시예를 도시한다. 위치 설정 장치(3)의 두 개의 변위 유닛(25, 27)은 각각 X-엑츄에이터(39. 41)와, Y-엑츄에이터(43, 45)를 구비한다. 상기 X-엑츄에이터(39, 41)는 X-방향에 평행하게 연장된 제 1 부분(47, 49)을 각각 구비하고, 상기 제 1 부분은 관련된 변위 유닛(25, 27)의 기판 홀더(11, 13)에 고정되고, 관련된 X-엑츄에이터(39, 41)의 제 2 부분(51, 53)에 대해 변위될 수 있다. 상기 Y-엑츄에이터(43, 45)는 제 1 부분(55, 57)을 각각 구비하고, 상기 제 1 부분은 관련된 변위 유닛(25, 27)의 X-엑츄에이터(39, 41)의 제 2 부분(51, 53)에 고정되며, Y-방향에 평행하게 연장된 관련된 Y-엑츄에이터(43, 45)의 제 2 부분(59, 61)에 대해 변위 될 수 있다. 상기 X-엑츄에이터(39, 41)와 Y-엑츄에이터(43, 45)는 포스 엑츄에이터(force actuator)이고, X-엑츄에이터(39, 41)의 제 1 부분(47, 49) 및 제 1 부분과 협력하는 제 2 부분(51, 53)은 작동 동안 X-방향에 평행하게 사전 설정된 상호 구동력을 작용하고, Y-엑츄에이터(43, 45)의 제 1 부분(55, 57) 및 제 1 부분과 협력하는 제 2 부분(59, 61)은 작동동안 역시 사전설정된 값인 Y-방향에 평행한 상호 구동력을 작용한다. 포스 엑츄에이터는 예로서, 일반적으로 공지되어 있으며 작동 동안 사전 설정된 값의 고유한 로렌쯔 포스를 발생시키는 선형 로렌쯔 포스 모터(linear Lorentz force motor)이다. 그러므로, 상기 기판 홀더(11, 13)는 관련된 변위 유닛(25, 27)의 X-엑츄에이터(43, 45)의 적절한 구동력에 의해 서로 독립적으로 X-방향에 평행하게 각각 변위될 수 있다. 상기 기판 홀더(11, 13)는 각각 관련 변위 유닛(25, 27)의 X-엑츄에이터(43, 45)와 함께 관련 변위 유닛(25, 27)의 Y-엑츄에이터(43, 45)의 적절한 구동력에 의해 서로 독립적으로 Y-방향에 평행하게 변위될 수 있다.
도 2 및 도 3에 추가적으로 도시된 바와 같이, 변위 유닛(25, 27)의 Y-엑츄에이터(43, 45)는 공통 직선 안내부(63)를 구비하고, Y-방향에 평행하게 보아 상기 안내부를 따라서 Y-엑츄에이터(43, 45)의 제 1 부분(55, 57)이 변위가능하게 안내된다. 상기 위치 설정 장치(3)는 회전 유닛(65)을 추가로 구비하고, 도면에 단지 개략적으로만 도시되어 있는 상기 회전 유닛은 하기에 보다 세부적으로 기술될 위치 설정 장치(3)의 안정화 유닛(69)에 고정되어 있는 제 1 디스크형 부분(67)과 공통 직선 안내부(63)에 고정되어 있는 제 2 디스크형 부분(71)을 포함한다. 제 2 디스크형 부분(71)은 제 1 디스크형 부분(67)에 대하여 회전축(73) 둘레에서 회전할 수 있고, 상기 회전축은 Z-방향에 평행하게 연장되어 있다. 이를 위해서, 회전 유닛(65)은 전기 모터(75)를 구비하고, 상기 전동 모터(75)는 안정화 유닛(96)에 고정되어 있고 구동 벨트(77)에 의해 제 2 디스크형 부분(71)에 결합되며, 도면에서는 단지 개략적으로만 도시되어 있다. 제 1 반도체 기판(19)이 작동 동안 작동 위치에 노출되고, 상기 제 2 반도체 기판(23)이 측정 위치에서 제 2 기판 홀더(13)에 대해 정렬된 이후에, 상기 회전 유닛(65)의 제 2 디스크형 부분(71)은 제 1 디스크형 부분(67)에 대해 180°각도만큼 회전축(73)의 둘레에서 회전되고, 그래서, 공통 직선 안내부(63)와 제 1 변위 유닛(25) 및 제 2 변위 유닛(27)은 회전축(73) 둘레에서 회전된다. 상기 공통 직선 안내부(63)의 회전은 제 1 기판 홀더(11)와 제 1 변위 유닛(25)이 작동위치로부터 측정 위치로 완전히 변위되도록 하고, 동시에, 제 2 기판 홀더(13)와 제 2 변위 유닛(27)을 측정 위치로부터 작동 위치로 완전히 변위시킨다. 도 3은 공통 직선 안내부(63)가 180°전체 회전중 일부만 회전되었을 때의 위치에서 위치 설정 장치(3)를 도시한다.
상술한 위치 설정 장치(3)의 안정화 유닛(69)은 비교적 무거운 예로서 화강암 등으로 제조된 안정화 블록를 포함한다. 상기 안정화 유닛(69)은 도 2 및 도 3에는 도시되어 있지 않은 정적(static) 가스 베어링에 의해 X-방향 및 Y-방향에 평행하게 안내면(79)위로 변위가능하게 안내되고, 상기 안내면은 X-방향 및 Y-방향에 평행하게 연장된다. 안내면(79)은 도 1에 도시된 위치 설정 장치(3)의 베이스(81)상에 제공되고, 상기 베이스는 리소그래픽 장치의 프레임(1)에 고정된다. 두 개의 변위 유닛(25, 27)의 Y-엑츄에이터(43, 45)의 상기 제 2 부분(59, 61)은 공통 직선 안내부(63)를 경유하여 X-방향과 Y-방향에 평행하게 안정화 유닛(69)에 결합되고, 상기 안정화 유닛(69)은 위치 설정 장치(3)의 두 개의 변위 유닛(25, 27)을 위한 공통 안정화 유닛을 참조하게 된다. 작동 동안, Y-엑츄에이터(43, 45)에 의해 발생된 구동력으로부터 발생되고 제 2 부분(59, 61) 상의 Y-엑츄에이터(43, 45)의 제 1 부분(55, 57)에 의해 작용되는 구동력으로부터 발생되는 Y-엑츄에이터(43, 45)의 반작용력은 공통 직선 안내부(63)와 회전 유닛(65)을 경유하여 안정화 유닛(69)으로 전달된다. X-엑츄에이터(39, 41)에 의해 발생된 구동력으로부터 발생되고 제 2 부분(51, 53) 상의 X-엑츄에이터(39, 41)의 제 1 부분(47, 49)에 의해 작용되는 구동력으로부터 발생되는 X-엑츄에이터(39, 41)의 반작용력은 Y-엑츄에이터의 제 1 부분(55, 57)과 제 2 부분(59, 61)을 경유하고 공통 직선 안내부(63)와 회전 유닛(65)을 경유하여 안정화 유닛(69)으로 전달된다. 안정화 유닛(69)이 X-방향 및 Y-방향에 평행한 안내면(79) 위로 변위될 수 있기 때문에, 안정화 유닛(69)은 안정화 유닛(69)으로 전달되는 상기 반작용력의 영향하에 X-방향 및/또는 Y-방향에 평행하게 변위될 수 있다. 안정화 유닛(69)은 비교적 무겁고, 그래서, 안정화 유닛(69)이 베이스(81)에 대해 변위되는 거리는 비교적 작다. 그러므로, 두 개의 변위 유닛(25, 27)의 반작용력은 안내면(79)위의 안정화 유닛(69)의 변위로 변환되며, 그래서, 상기 반작용력은 안정화 유닛(69)과, 위치 설정 장치(3)의 베이스(81)와, 리소그래픽 장치의 프레임(1)에서 기계적 진동을 발생시키지 않는다. 이런 기계적 진동은 진동이 두 개의 변위 유닛(25, 27)의 위치 설정을 부정확하게 하기 때문에 바람직하지 못하다.
상술한 바와 같이, 상기 변위 유닛(25, 27)의 X-엑츄에이터(39, 41)와 Y-엑츄에이터(43, 45)는 사전 설정된 값의 구동력을 발생시키는 세칭 포스 엑츄에이터이다. 이런 포스 엑츄에이터를 사용함으로서, 변위 유닛(25, 27)의 구동력의 값이 실질적으로 X-엑츄에이터(39, 41)와 Y-엑츄에이터(43, 45)의 제 1 부분(47, 49, 55, 57)에 의해 점유되는 제 2 부분(51, 53, 59, 61)에 대한 위치가 실질적으로 독립적이게 된다. 기판 홀더(11, 13)의 베이스(81)에 대한 위치가 제 1 변위 유닛(25)과 제 2 변위 유닛(27)의 구동력의 값을 각각 따르기 때문에, 상기 기판 홀더(11, 13)의 위치는 포스 엑츄에이터의 사용으로 인한 변위 유닛(25, 27)의 제 1 부분(47, 49, 55, 57) 및 제 2 부분(51, 53, 59, 61)의 위치에 대해 실질적으로 독립적이게 되고, 따라서, 제 1 부분(47, 49)에 결합된 기판 홀더(11, 13)에 대한 제 2 부분(59, 61)에 결합된 안정화 유닛(69)의 위치도 실질적으로 독립적이게 된다. 따라서, X-방향에 평행하게 안내되는 베이스(81)에 대한 안정화 유닛(69)의 변위와, Y-방향에 평행하게 안내되는 베이스(81)에 대한 안정화 유닛(69)의 변위와, X-방향에 평행한 성분과 Y-방향에 평행한 성분을 모두 가지고 있는 베이스(81)에 대한 안정화 유닛(69)의 변위가 실질적으로 베이스(81)에 대한 기판 홀더(11, 13)의 위치의 영향을 받지 않는 다는 것도 명확하다. 이런 안정화 유닛의 변위는 상술한 바와 같이 변위 유닛(25, 27)의 반작용력의 결과로서 발생된다. 따라서, 도 1에 도시된 상태에서, 위치 측정 유닛(37)에 대한 제 2 기판 홀더(13)의 위치와 초점 형성 유닛(5)에 대한 제 1 기판 홀더(11)의 위치는 상기 안정화 유닛(69)의 변위에의 한 영향이나 또는 기계적 진동에 의한 영향을 받지 않고, 그래서 변위 유닛(25, 27)의 반작용력으로부터 발생하는 변위 유닛(25, 27)의 위치 설정 정밀도 사이의 상호 간섭이 방지된다.
상기 변위 유닛(25, 27)의 반작용력이 안정화 유닛(69)상에 기계적 토크를 발생시키기 때문에, 상기 안정화 유닛(69)은 반작용력의 영향하에 X-방향 및/또는 Y-방향에 평행하게 배치되어있을 뿐만 아니라, Z-방향에 평행하게 안내되는 회전축에 대해 회전된다. 포스 엑츄에이터의 사용 때문에 X-방향 및/또는 Y-방향에 평행한 안정화 유닛의 변위가 베이스(81)에 대한 기판 홀더(11, 13)의 위치에 실질적으로 어떠한 영향도 미치지 않는 것과는 대조적으로, 만약 더 이상의 측정이 수행되지 않는 다면, 안정화 유닛(69)의 회전은 일반적으로 베이스(81)에 대한 기판 홀더(11, 13)의 위치에 영향을 미친다. 이런 바람직하지 못한 영향을 제거하기 위해서, 위치 설정 장치(3)는 도 2에 개략적으로 도시되어 있는 제어 유닛(83)을 구비하고, 상기 제어 유닛은 위치 설정 장치(3)의 베이스(81)에 고정된 두 개의 광학적 위치 센서(85, 87)과 협력한다. 위치 센서(85, 87)는 Y-방향에 대한 공통 직선 안내부(63)의 방향을 측정한다. 상기 회전 유닛(65)의 전동 모터(75)은 제어 유닛(83)에 의해 제어되고, 그래서, 상기 공통 직선 안내부(63)는 작동 동안 상기 직선 안내부가 180°회전할 때를 제외하고는 Y-방향에 평행한 위치에서 유지된다. 따라서, X-엑츄에이터(39, 41)의 제 1 부분(47, 49)은 X-방향과 병행한 위치에서 유지된다. 상기 공통 직선 안내부(63)가 제어 유닛(83)에 의해 Y-방향에 평행한 위치에 유지되기 때문에, 상기 안정화 유닛(69)의 X-방향 및/또는 Y-방향에 평행한 베이스(81)에 대한 변위와, 베이스(81)에 대한 안정화 유닛(69)의 회전은 실질적으로 베이스(81)에 대한 기판 홀더(11, 13)의 위치에 영향을 미치지 않으며, 그래서, 반작용력에 의해 유발된 안정화 유닛(69)의 회전에서 발생하는 변위 유닛(25, 27)의 위치 설정 정밀도 사이의 상호 간섭도 방지된다.
안정화 유닛(69)이 정적 가스 베어링에 의해 안내면(79)위로 안내된다는 사실은 안정화 유닛(69)이 안내면(79)위로 안내될 때 실질적으로 마찰이 없이 안내되도록 한다. 반작용력에 의해 발생되는 안정화 유닛(69)의 변위는 결과적으로 안내면(79)과 안정화 유닛(69)사이의 마찰력에 의해 간섭되지 않으며, 그래서 반작용력은 실질적으로 완전하게 안정화 유닛(69)의 변위로 전환되며, 실질적으로 어떠한 잉여 진동도 베이스(81)와 안정화 유닛(69)사이에서 발생되지 않는다.
더욱이, 도 2에 개략적으로 도시된 바와 같이, 위치 설정 장치(3)는 세칭 표류 방지 수단(89)을 구비한다. 안정화 유닛(69)이 실질적으로 마찰 없이 안내면(79)위로 안내되기 때문에, 만약, 부가적인 조치가 취해지지 않는다면, 안정화 유닛(69)은 외부적인 간섭력, 즉, 위치 설정 장치(3)에 의해 발생되지 않은 간섭력의 영향하에 안내면(79) 위로 표류할 수 있다. 이런 간섭력의 예는 안내면에 평행하게 안내되어 안정화 유닛(69)과 위치 설정 장치(3)상에 작용하는 중력의 성분이고, 이 성분은 안내면(79)이 완전한 수평이 아닐 때 존재하게 된다. 표류 방지 수단(89)은 비교적 작은 표류 방지력을 안정화 유닛(89)상에 작용하고, 그에 의해 안정화 유닛(69)의 표류가 방지된다. 부가적으로, 표류 방지 수단(89)은 변위 유닛(25, 27)의 반작용력에 의해 유발된 베이스(81)에 대한 안정화 유닛(69)의 변위가 방해받지 않도록 구성된다. 도 2의 실시예에서, 표류 방지 수단(89)은 예로서, 베이스(81)와 안정화 유닛(69)에 고정된 두 개의 기계적 스프링(91, 93)을 포함하고, 이 스프링들은 Y-방향에 평행하게 안정화 유닛(69)상에 비교적 작은 탄성력을 작용하는 기계적 스프링(95)과 마찬가지로 X-방향에 평행하게 안정화 유닛(69)상에 비교적 작은 탄성력을 작용한다.
도 4 및 도 5는 도 1의 리소그래픽 장치에 사용하기에 적합한 본 발명에 따른 위치 설정 장치(97)의 제 2 실시예를 도시한다. 리소그래픽 장치(3)의 부품에 대응하는 리소그래픽 장치(97)의 부품은 동일한 참조부호로 도시되어 있다. 위치 설정 장치(97)의 기판 홀더(11, 13)는 정적 가스 베어링을 구비한 기체 정역학적으로(aerostatically) 지지된 기부(99, 101)에 의해 X-방향 및 Y-방향에 평행하게 안내면(103)위로 각각 변위가능하게 안내되고, 상기 안내면은 두 개의 기판 홀더(11, 13)에 공통적이며 X-방향 및 Y-방향에 평행하게 안내된다. 위치 설정 장치(97)의 변위 유닛(25, 27)은 각각 하나의 X-엑츄에이터(105, 107)와 두 개의 Y-엑츄에이터(109, 111 및 113, 115)를 포함하고, 상기 엑츄에이터는 위치 설정 장치(3)와 마찬가지로 포스 엑츄에이터이다. X-엑츄에이터(105, 107)는 각각 X-방향에 평행하게 연장된 제 2 부분(121, 123)에 대해 변위가능하게 안내되는 제 1 부분(117, 119)을 구비하며, Y-엑츄에이터(109, 111, 113, 115)는 각각 Y-방향에 평행하게 연장되는 제 2 부분(133, 135, 137, 139)에 대해 변위가능한 제 1 부분(125, 127, 129, 131)을 구비한다. 도 4에 도시된 바와 같이, X-엑츄에이터(105, 107)의 제 2 부분(121, 123)은 각각 관련된 변위 유닛(25, 27)의 두 개의 Y-엑츄에이터(109, 111 및 113, 115)의 양쪽 제 1 부분(125, 127, 129, 131)에 결합되고, X-엑츄에이터(105, 107)의 상기 제 2 부분(121, 123)은 각각 Y-엑츄에이터(109, 111 및 113, 115)의 두 개의 제 1 부분(125, 127 및 129, 131)에 대해 선회축(141, 143, 145, 147) 둘레에서 선회가능하고, 상기 선회축은 Z-방향에 평행하다. X-엑츄에이터의 제 1 부분(117, 119)은 X-방향 및 Y-방향에 평행하게 관련된 변위 유닛(25, 27)의 기판 홀더(11, 13)에 하기에 추가적으로 설명될 방식으로 결합될 수 있다. Y-엑츄에이터(109, 111, 113, 115)의 제 2 부분(133. 135, 137, 139)은 두 개의 변위 유닛(25, 27)에 공통되는 안정화 유닛(149)에 고정되고, 상기 안정화 유닛은 위치 설정 장치(3)의 안정화 유닛(69)에 대응하며, 도면에는 도시되어 있지 않은 정적 가스 베어링에 의해 X-방향 및 Y-방향에 평행하게 안내면(79)위로 변위가능하게 안내되고, 상기 안내면은 프레임(1)에 고정된 위치 설정 장치(97)의 베이스(81)에 소속되며 X-방향 및 Y-방향에 평행하게 연장되어 있다. 안정화 유닛(149)은 두 개의 기판 홀더(11, 13)용 공통 지지체인 동시에, 안정화 유닛(149)의 상부면에 있는 기판 홀더(11, 13)의 공통 안내면(103)이다. 위치 설정 장치(3)의 안정화 유닛(69)과 유사하게, 위치 설정 장치(97)의 안정화 유닛(149)은 표류 방지 수단(89. 91. 93. 95)을 구비한다. 기판 홀더(11, 13)는 각각 서로에 독립적으로 각각의 X-엑츄에이터(105, 107)에 의해 X-방향에 평행하게 변위될 수 있고, 각각 두 개의 Y-엑츄에이터(109, 111)와 두 개의 Y-엑츄에이터(113, 115)가 동일한 값으로 변위함에 의해 서로에 독립적으로 Y-방향에 평행하게 변위될 수 있다. 작동 동안, X-엑츄에이터(105, 107)의 반작용력은 X-엑츄에이터(105, 107)의 제 2 부분(121, 123)과, Y-엑츄에이터(109, 111, 113, 115)의 제 1 부분(125, 127, 129, 131)과, Y-엑츄에이터(109, 111, 113, 115)의 제 2 부분(133, 135, 137, 139)을 경유하여 안정화 유닛(149)으로 전달되고, Y-엑츄에이터(109, 111, 113, 115)의 반작용력은 Y-엑츄에이터(109, 111, 113, 115)의 제 2 부분(133, 135, 137, 139)을 경유하여 안정화 유닛(149)으로 직접 전달된다.
기판 홀더(11, 13)는 각각 하기에 보다 상세하게 설명될 커플링 부재(151, 153)를 구비하고, 그에의해, 기판 홀더(11, 13)는 제 2 변위 유닛(27)의 X-엑츄에이터(107)의 제 1 부분(119)과 제 1 변위 유닛(25)의 X-엑츄에이터(105)의 제 1 부분에 교대로 X-방향 및 Y-방향에 평행하게 결합될 수 있다. 제 1 기판 홀더(11)의 커플링 부재(151)는 이를 위해 제 1 부분(155)과 제 2 부분(157)을 구비하고, 제 1 부분에 의해 제 1 기판 홀더(11)는 제 1 변위 유닛(25)의 X-엑츄에이터(105)의 제 1 부분(117)에 결합될 수 있고, 제 2 부분에 의해 제 1 기판 홀더(11)는 제 2 변위 유닛(27)의 X-엑츄에이터(107)의 제 1 부분에 결합될 수 있다. 유사하게, 상기 제 2 홀더(13)의 결합 부재(153)는 제 1 부분(159)과 제 2 부분(161)을 구비하고, 제 1 부분(159)에 의해 제 2 기판 홀더(13)는 제 1 변위 유닛(25)의 X-엑츄에이터(105)의 제 1 부분(117)에 결합될 수 있고, 제 2 부분(161)에 의해 제 2 기판 홀더(13)는 제 2 변위 유닛(27)의 X-엑츄에이터(107)의 제 1 부분(119)에 결합될 수 있다. 제 1 기판 홀더(11)가 작동 위치에 있고 제 2 기판 홀더(13)가 측정 위치에 있는 도 1 및 도 4에 도시된 상황에서, 제 1 기판 홀더(11)는 결합 부재(151)의 제 1 부분(155)을 경유하여 제 1 변위 유닛(25)의 X-엑츄에이터(105)의 제 1 부분(117)에 결합되고, 제 2 기판 홀더(13)는 결합 부재(153)의 제 2 부분(161)를 경유하여 제 2 변위 유닛(27)의 X-엑츄에이터(107)의 제 1 부분(119)에 결합된다. 제 1 기판 홀더(11)가 작동 위치에서 측정 위치로 이동되고, 제 2 기판 홀더(13)가 측정 위치에서 작동 위치로 이동될 때, 기판 홀더(11, 13)는 서로 공통 안내면(103)위를 통과하여야만 한다. 이를 위해서, 제 1 기판 홀더(11)는 제 1 변위 유닛(25)에 의해 작동 위치로부터 도 5에 도시되어 있는 작동 위치와 측정 위치 사이의 제 1 중간 위치(M')로 변위되고, 동시에 제 2 기판 홀더(13)는 제 2 변위 유닛(27)에 의해 측정 위치로부터 도 5에 도시된 제 2 중간 위치(M")로 변위되며, 여기서 상기 제 2 중간 위치는 측정 위치와 작동 위치 사이에 위치하고 제 1 중간 위치에 이어서 위치된다. 상기 중간 위치(M', M")에서 기판 홀더(11, 13)는 제 1 변위 유닛(25)과, 제 2 변위 유닛(27)으로부터 각각 분리된다. 그후, 제 1 변위 유닛(25)의 X-엑츄에이터(105)의 제 1 부분(117)은 제 1 중간 위치(M')로부터 제 2 중간 위치(M")로 이동되고, 이 제 2 중간 위치(M")에서 제 2 기판 홀더(13)의 결합 부재(153)의 제 1 부분(159)에 결합된다. 동시에, 제 2 변위 유닛(27)의 X-엑츄에이터(107)의 제 1 부분(119)은 제 2 중간 위치(M")로부터 제 1 중간 위치(M')로 이동되고, 이 제 1 중간 위치(M')에서 제 1 기판 홀더(11)의 결합 부재(151)의 제 2 부분(157)에 결합된다. 이것은 도 5에 도시되어 있는 상황을 만들고, 여기에서, 제 1 중간 위치(M')내의 제 1 기판 홀더(11)는 제 2 변위 유닛(27)의 X-엑츄에이터(107)의 제 1 부분(119)에 결합되어 있고, 제 2 중간 위치(M")내의 제 2 기판 홀더(13)는 제 1 변위 유닛(25)의 X-엑츄에이터(105)의 제 1 부분(117)에 결합되어 있다. 마지막으로, 제 1 기판 홀더(11)는 제 1 중간 위치(M')로부터 제 2 변위 유닛(27)에 의해 측정 위치로 이동되고, 제 2 기판 홀더(13)는 제 2 중간 위치(M")로부터 제 1 변위 유닛(25)에 의해 작동위치로 이동된다. Y-엑츄에이터(109, 111, 113, 115)의 제 1 부분(125, 127, 129, 131)이 제 2 부분(133, 135, 137, 139)에 대해 변위되는 거리는 결합 부재(151, 153)를 사용함에 의해 감소되고, 그래서, 변위 유닛(25, 27)의 치수가 감소된다. 이는 부가적으로 X-엑츄에이터(105, 107)의 제 2 부분(121, 123)이 Y-방향에 평행하게 서로 통과할 수 있도록 하고, 그래서, 변위 유닛(25, 27)이 단순해진다.
상술한 기판 홀더(11, 13)의 결합부재(151, 153)는 세칭 XY 로렌쯔 포스 엑츄에이터(XY Lorentz force actuator)에 의해 구성된다. 이를 위해서, 상기 결합 부재(151, 153)의 제 1 부분(155, 159)은 공지된 방식의 일반적인 영구 자석 시스템을 포함하고, 제 1 변위 유닛(25)의 X-엑츄에이터(105)의 제 1 부분은 공기된 방식의 일반적인 전기 코일 시스템(163)을 포함하며, 상기 전기 코일 시스템은 선택적으로 제 2 기판 홀더(13)의 결합 부재(153)의 제 1 부분(159) 및 제 1 기판 홀더(11)의 결합 부재(151)의 제 1 부분(155)과 선택적으로 협력한다. 결합 부재(151, 153)의 제 2 부분(157, 161) 각각은 한 세트의 영구자석을 포함하고, 상기 영구 자석은 공이된 형식의 일반적인 자석이며, 제 2 변위 유닛(27)의 X-엑츄에이터(107)의 제 1 부분(119)은 공지된 형식의 일반적인 전기 코일 시스템(165)을 포함하며, 상기 코일 시스템은 제 1 기판 홀더(11)의 결합 부재(151)의 제 2 부분 및 제 2 기판 홀더(13)의 결합 부재(153)의 제 2 부분(161)과 선택적으로 협력하도록 설계되어 있다. 코일 시스템(163)과 결합 부재(151)의 제 1 부분(155) 또는 결합 부재(153)의 제 1 부분(159) 중 적절한 것으로 구성된 상기 XY 로렌쯔 포스 엑츄에이터는 X-방향에 평행한 로렌쯔 힘과, Y-방향에 평행한 로렌쯔 힘과, Z-방향에 평행하게 안내되는 모멘트 축에 대한 로렌쯔 힘의 모멘트를 발생시키는 데 적합하고, 그래서, 제 1 기판 홀더(11) 또는 제 2 기판 홀더 중 적절한 것이 제 1 변위 유닛(25)의 X-엑츄에이터(105)의 제 1 부분(117)에 대해 X-방향 및/또는 Y-방향에 평행한 비교적 작은 거리 위를 상기 XY 로렌쯔 포스 엑츄에이터에 의해 변위될 수 있고, Z-방향에 평행하게 안내되는 회전축에 둘레에서 제 1 부분(117)에 대해 비교적 작은 각도만큼 회전될 수 있다. 유사하게, 코일 시스템(165)과 결합부재(151)의 제 2 부분(157) 또는 결합 부재(153)의 제 2 부분(161)중 적당한 것에 의해 형성된 XY 로렌쯔 강제 엑츄에이터는 X-방향에 평행한 로렌쯔 힘과, Y-방향에 평행한 로렌쯔 힘과, Z-방향에 평행하게 안내되는 모멘트축에 대한 로렌쯔 힘의 모멘트를 발생시키는 데 적합하며, 그래서, 제 1 기판 홀더(11) 또는 제 2 기판 홀더(13)중 적절한 것은 제 2 변위 유닛(27)의 X-엑츄에이터(107)의 제 1 부분(119)에 대해 X-방향 및/또는 Y-방향에 평행한 비교적 작은 거리 위를 상기 XY 로렌쯔 포스 엑츄에이터에 의해 변위될 수 있고, Z-방향에 평행하게 안내되는 회전축 둘레에서 비교적 작은 각도만큼 제 1 부분(119)에 대해 회전될 수 있다. 상술한 XY 로렌쯔 포스 엑츄에이터를 사용하는 것은 결합부재(151, 153)의 특히 단순하고 실용적인 구성을 제공하며, 여기에서 결합 부재(151, 153)의 결합 및 분리는 상기 자석 시스템과 코일 시스템 사이에서 작용하는 로렌쯔 힘의 활성화와 비활성화에 의해 각각 달성된다. 더욱이, 상기 XY 로렌쯔 포스 엑츄에이터는 변위 유닛(25, 27)을 위한 제 2의 미세 구동 스테이지로서 작용하고, 이에 의해, 상기 기판 홀더(11, 13)는 X-엑츄에이터(105, 107)와 Y-엑츄에이터(109, 111, 113, 115)에 의해 형성된 제 1 구동 스테이지에 비해 비교적 정밀하게 위치될 수 있다.
위치 설정 장치(3)의 안정화 유닛(69)과 유사하게, 위치 설정 장치(97)의 안정화 유닛(149)은 안정화 유닛(149)상에 작용하는 변위 유닛(25, 27)의 반작용력의 결과로서 Z-방향에 평행하게 안내되는 회전축 둘레에서 회전된다. 안정화 유닛(149)의 이런 회전이 베이스(81)에 대해 기판 홀더(11, 13)를 바람직하기 못하게 변위시키는 것을 방지하기 위해, 위치 설정 장치(97)는 제 1 제어 유닛(167)과 제 2 제어 유닛(169)을 구비하고, 상기 제 1 제어 유닛에 의해 제 1 변위 유닛(25)의 X-엑츄에이터(105)의 제 2 부분이 X-방향에 평행한 위치에서 유지될 수 있으며, 상기 제 2 제어 유닛에 의해 제 2 변위 유닛(27)의 X-엑츄에이터(107)의 제 2 부분(123)이 X-방향에 평행한 위치에 유지될 수 있다. 도 4에 도시된 바와 같이, 제 1 제어 유닛(167)은 구개의 광학적 위치 센서(117, 173)와 협력하고, 상기 광학 센서들은 베이스에 고정되어 있으며, 이에 의해 X-방향에 대한 X-엑츄에이터(105)의 제 2 부분(121)의 방향이 측정된다. 유사하게, 제 2 제어 유닛(169)은 두 개의 광학적 위치 센서(175, 177)와 협력하고, 상기 광학적 위치 센서는 또한 베이스(81)에 고정되며, 이에 의해 X-엑츄에이터(107)의 제 2 부분의 X-방향에 대한 위치가 측정된다. 제 1 제어 유닛(167)은 제 1 변위 유닛(25)의 두 개의 Y-엑츄에이터(109, 111)를 제어하고, 그래서 X-엑츄에이터(105)의 제 2 부분(121)은 안정화 유닛(149)이 회전하는 경우에 X-방향에 평행한 위치에 남아있게 된다. 유사하게, 제 2 제어 유닛(169)은 제 2 변위 유닛(27)의 두 개의 Y-엑츄에이터(113, 115)를 제어하고, 그래서 X-엑츄에이터(107)의 제 2 부분(123)은 안정화 유닛(149)이 회전하는 경우에 X-방향에 평행한 위치에 남아 있게 된다. 그러므로, X-엑츄에이터(105, 107)의 제 2 부분(121, 123)이 X-방향에 평행한 위치에서 각각 유지된다는 사실이 X-엑츄에이터(105, 107)와 그에 결합된 기판 홀더(11, 13)가 회전하는 것을 방지하며, 일반적으로 X-엑츄에이터와 기판 홀더의 회전은 기판 홀더(11, 13)의 베이스(81)에 대한 바람직하지 못한 변위를 초래한다.
도 6에 개략적으로 도시된 본 발명에 따른 리소그래픽 장치에는 "스텝 앤드 스캔(step and scan)"이라 지칭되는 원리를 사용하는 이미지 형성 방법이 사용된다. 도 6에서, 도 1에 도시된 리소그래픽 장치의 부품에 대응하는 도 6에 도시된 리소그래픽 장치의 부품에는 동일한 참조 부호가 주어져 있다. "스텝 앤드 스캔" 원리에 의한 이미지 형성 방법에서, 제 1 반도체 기판(19)은 노출 동안 초점 형성 유닛(5)에 대해 일정한 위치에 있지 않지만, 제 1 반도체 기판(19)과 마스크(35)는 노출 동안에 초점 형성 유닛(5)에 대하여 X-방향에 평행하게 동기되어 배치된다. 도 6의 리소그래픽 장치는 이를 위해 제 1 반도체 기판(19)을 변위시키기 위한 위치 설정 장치(3) 뿐만 아니라, 마스크(35)를 초점 형성 유닛(5)에 대해 X-방향에 평행하게 변위시키는 추가적인 위치 설정 장치(179)도 구비하고 잇다. 추가적인 위치 설정 장치(179)도 도 6의 리소그래픽 장치내의 본 발명에 따른 위치 설정 장치이다. 도 6에 개략적으로 도시된 바와 같이, 추가적인 위치 설정 장치(179)는 제 1 마스크 홀더(181)와, 동일한 제 2 마스크 홀더(183)를 포함한다. 상기 마스크 홀더(181, 183)는 각각 지지면을 구비한다. 즉, Z-방향에 수직으로 연장되는 지지면(185)상에 제 1 마스크(35)가, Z-방향에 수직으로 연장되는 지지면(187)상에 제 2 마스크(35')가 각각 배치될 수 있다. 제 1 마스크 홀더(181)는 위치 설정 장치(179)의 제 1 변위 유닛(189)에 의해 X-방향 및 Y-방향에 평행하게 프레임(1)에 대해 배치될 수 있고, 제 2 마스크 홀더(183)는 위치 설정 장치(179)의 제 2 변위 유닛(191)에 의해 X-방향 및 Y-방향에 평행하게 프레임(1)에 대해 배치될 수 있다. 도 6에 도시된 상황에서, 제 1 마스크(35)를 가진 제 1 마스크 홀더(181)는 제 1 반도체 기판(19)이 제 1 마스크(35)를 통해 조사될 수 있는 추가적인 위치 설정 장치(179)의 작동 위치에 있고, 반면에 제 2 마스크(35')를 가진 제 2 마스크 홀더(183)는 추가적인 위치 설정 장치(179)의 측정 위치에 있다. 이 측정 위치에서, 제 2 마스크(35')의 제 2 마스크 홀더(183)에 대한 위치는 리소그래픽 장치의 프레임(1)에 고정된 리소그래픽 장치의 추가적인 위치 측정 유닛(193)에 의해 측정될 수 있다. 제 2 마스크(35')는 단순화를 위해 도 6에는 도시되어 있지 않은 추가적인 운송 기구에 의해 제 2 마스크 홀더(183)에 대한 원하는 정밀도로 측정 위치에 배치되며, 상기 운송 기구는 마스크 매거진으로부터 추가적인 위치 설정 장치(179)의 측정 위치로 연속적으로 마스크를 운송하기 위해 사용된다. 제 1 마스크(35)가 하나 또는 몇몇의 반도체 기판을 조사하기 위해 사용된 이후에, 상기 제 1 마스크 홀더(181)는 작동 위치로부터 측정 위치로 추가적인 위치 설정 장치(179)에 의해 이동되고, 상기 제 1 마스크(35)는 상기 추가적인 운송 기우에 의해 측정 위치로부터 마스크 매거진으로 복귀된다. 동시에, 제 2 마스크(35')를 가진 제 2 마스크 홀더(183)가 측정 위치로부터 작동 위치로 추가적인 위치 설정 장치(179)에 의해 이동된다. 따라서, 리소그래픽 장치의 제조량은 본 발명에 따른 추가적인 위치 설정 장치(179)를 사용함으로써 추가적으로 증가되고, 그 이유는 연속적으로 사용될 마스크가 작동위치에 도달할 때 이미 관련된 마스크 홀더에 대해 정렬되어 있기 때문이다.
추가적인 위치 설정 장치(179)는 도 7에 개략적으로 도시되어 있다. 추가적인 위치 설정 장치(179)의 마스크 홀더(181, 183)는 기체 정역학적으로 지지된 기부(195)와 기체 정역학적으로 지지된 기부(197)에 의해 X-방향 및 Y-방향에 평행하게 연장되는 지지체(201)의 공통 안내면(199) 위로 X-방향 및 Y-방향에 평행하게 변위가능하게 안내될 수 있다. 지지체(201)는 회전 유닛(203)을 경유하여 안정화 유닛(205)에 고정되고, 상기 안정화 유닛은 추가적인 위치 설정 장치(179)의 베이스(209)의 일부를 형성하는 안내면(207)위로 정적 가스 베어링에 의해 X-방향 및 Y-방향에 평행하게 변위가능하게 안내될 수 있다. 도 6에 개략적으로 도시된 바와 같이, 추가적인 위치 설정 장치(179)의 베이스(209)는 리소그래픽 장치(209)의 프레임(1)에 고정된다. 추가적인 위치 설정 장치(179)의 회전 유닛(203)과 안정화 유닛(205)은 실질적으로 상술한 위치 설정 장치(3)의 회전 유닛(65)과 안정화 유닛(69)에 대응한다.
추가적인 위치 설정 장치(179)의 제 1 변위 유닛(189)과 제 2 변위 유닛(191) 각각은 포스 엑츄에이터로 구성된 X-엑츄에이터(211, 213)를 포함한다. X-엑츄에이터(211, 213)는 각각 실질적으로 X-방향에 평행하게 연장된 관련된 X-엑츄에이터(211, 213)의 제 2 부분(219, 221)에 대해 X-방향에 평행하게 변위될 수 있다. 상기 X-엑츄에이터(211, 213)의 제 2 부분(219, 221)은 지지체(201)에 고정되고, 실질적으로 X-방향에 평행하게 연장된 공통 직선 안내부(223)를 포함한다. 부가적으로, 변위 유닛(189, 191)은 영구자석 시스템(229, 231)을 가진 XY 로렌쯔 포스 엑츄에이터(225, 227)와 전기 코일 시스템(233, 235)을 각각 포함하고, 상기 영구자석 시스템은 관련된 변위 유닛(189, 191)의 마스크 홀더(181, 183)에 고정되며, 상기 전기 코일 시스템은 관련된 변위 유닛(189, 121)의 X-엑츄에이터(211, 213)의 제 1 부분(215, 217)에 고정된다. 마스크 홀더(181, 183)는 X-엑츄에이터(211, 213)에 의해 비교적 낮은 정밀도로 비교적 큰 거리에 걸쳐 베이스(209)에 대해 X-방향에 평행하게 변위될 수 있으며, 마스크 홀더(181, 183)는 XY 로렌쯔 포스 엑츄에이터(225, 227)에 의해 비교적 높은 정밀도로 비교적 작은 거리에 걸쳐 X-방향 및 Y-방향에 평행하게 X-엑츄에이터(211, 213)의 제 1 부분(215, 217)에 대해 변위될 수 있고, 상기 제 1 부분(215, 217)에 대해 Z-방향에 평행하게 안내되는 회전축 둘레에서 제한된 각도만큼 회전될 수 있다. XY 로렌쯔 포스 엑츄에이터를 사용하는 것은 반도체 기판이 노출되는 동안 마스크 홀더(181, 183)가 Y-방향에 평행하게 비교적 높은 정밀도로 위치될 수 있고, 그래서 X-방향에 평행하게 안내되는 마스크 홀더(181, 183)의 변위가 고도로 X-방향에 평행하게될 수 있게 한다. 마지막으로, 위치 설정 장치(179)는 위치 설정 장치(3)과 마찬가지로 제어 유닛(237)을 구비하고, 이에 의해, 지지체가 회전 유닛(203)에 의해 베이스(209)에 대해 180°만큼 회전되는 순간을 제외하고는 직선 안내부(223)가 작동 동안 X-방향에 평행한 위치에서 유지된다. 도 7에 개략적으로 도시된 바와 같이, 제어 유닛(237)은 두 개의 광학적 위치 센서(239, 241)와 협력하고, 상기 제어 유닛(237)은 회전 유닛(203)의 전기 모터(234)를 제어한다.
도 1 및 도 6에 도시된 리소그래픽 장치에서, 1회 제조분의 반도체 기판은 소정의 마스크로 연속적으로 조사되고, 그후, 상기 1회 제조분의 반도체 기판은 다음의 마스크로 연속적으로 조사된다. 본 발명에 따른 위치 설정 장치(3, 97)를 반도체 기판을 변위시키기 위해 사용함으로써, 리소그래픽 장치의 제조량이 현저하게 증가되고, 상기 제조량은 본 발명에 따른 추가적인 위치 설정 장치(179)를 마스크를 변위시키기 위해 사용할 때 더욱 증가된다. 또한, 본 발명은 제조시에 반도체 기판이 일련의 마스크로 조사되고, 그후, 다음의 반도체 기판이 상기 일련의 마스크로 조사되는 리소그래픽 장치에도 사용될 수 있다. 리소그래픽 장치의 제조량의 주된 증가는 단지 마스크를 변위시키기 위한 위치 설정 장치만이 본 발명에 따른 위치 설정 장치이고, 반도체 기판을 변위시키기 위한 위치 설정 장치는 종래의 위치 설정 장치인 리소그래픽 장치에서도 달성된다.
상술한 본 발명에 따른 리소그래픽 장치는 반도체 집적 전자 회로의 제조에서 반도체 기판을 노출하기 위해 사용된다. 이런 리소그래픽 장치는 또한 1 미크론 이하 범위의 세부 치수를 가진 구조물을 가진 다른 생산품을 제조할 때도 사용되고, 여기에서, 마스크 패턴은 리소그래픽 장치에 의해 기판상에 이미지 형성된다. 이런 구조물의 예는 집적 광학 시스템이나 메모리 패턴의 검출 및 유도구조와 액정 디스플레이 패턴 구조이다.
본 발명에 따른 위치 설정 장치는 리소그래픽 장치에 뿐만 아니라 마감 기계와, 기계가공 공구와, 측정 위치에서 물체 홀더에 대해 가공물을 정렬하고 작동 위치에서 실질적으로 가공하는 다른 기계나 장치에 사용될 수 있다.
상술한 본 발명에 따른 위치 설정 장치(3)의 변위 유닛(25, 27)은 각각 X-엑츄에이터(39, 41)와 Y-엑츄에이터(43, 45)를 포함한다. 상술한 바와 같은 본 발명에 따른 위치 설정 장치(97)의 변위 유닛(25, 27)은 각각 X-엑츄에이터(105, 107)와, 두 개의 Y-엑츄에이터(109, 111 및 113, 115)와, XY 로렌쯔 포스 엑츄에이터(151, 153)를 포함한다. 상술한 바와 같은 본 발명에 따른 위치 설정 장치(179)의 변위 유닛(189, 191)은 각각 X-엑츄에이터(211, 213)와 XY 로렌쯔 포스 엑츄에이터(225, 227)를 포함한다. 본 발명에 따른 위치 설정 장치는 선택적인 형태의 변위 유닛을 구비할 수도 있다. 따라서, 상술한 선형 X-엑츄에이터와 Y-엑츄에이터는 일반적으로 공지되어 있는 세칭 2차원 전자기 모터로 대체될 수 있다. 위치 설정 장치(3)에 예로서, 한편에 X-엑츄에이터(39, 41)의 두 개의 제 1 부분(47, 49) 각각과 다른 편의 대응하는 기판 홀더(11, 13) 사이에 XYZ 로렌쯔 포스 엑츄에이터를 사용하는 것도 가능하고, 그에 의해 상기 기판 홀더(11, 13)는 X-방향과, Y-방향 및 Z-방향에 평행하게 높은 정밀도로 작은 거리에 걸쳐 대응하는 제 1 부분(47, 49)에 대해 변위될 수 있고, 그에 의해 기판 홀더(11, 13)는 X-방향에 평행한 회전축과, Y-방향에 평행한 회전축과, Z-방향에 평행한 회전축 둘레에서 제한된 각도만큼 대응하는 제 1 부분(47, 49)에 대해 회전될 수 있다. 이런 XYZ 로렌쯔 포스 엑츄에이터는 또한 예로서, XY 로렌쯔 포스 엑츄에이터와 그 내부에 사용되는 기체 정역학적으로 지지된 기부를 대체하기 위한 위치 설정 장치(97, 179)내에서 사용될 수 있다.

Claims (14)

  1. 베이스와, X-방향 및 X-방향에 수직인 Y-방향에 평행하게 베이스에 대해 변위될 수 있는 제 1 물체 홀더를 가진 제 1 변위 유닛과, X-방향 및 Y-방향에 평행하게 베이스에 대해 변위될 수 있는 제 2 물체 홀더를 가진 제 2 변위 유닛을 구비하고,
    상기 제 1 및 제 2 물체 홀더는 베이스에 대해 측정 위치로부터 작동위치로 연속적으로 변위될 수 있고,
    각각의 상기 제 1 및 제 2 변위 유닛은 작동 동안 서로에게 구동력을 작용하면서 서로에 대해 변위될 수 있는 제 1 부분 및 제 2 부분을 포함하고,
    상기 제 1 및 제 2 변위 유닛의 제 1 부분이 X-방향 및 Y-방향에 평행하게 제 1 물체 홀더와 제 2 물체 홀더에 각각 결합되어 있는 위치 설정 장치에 있어서,
    제 1 및 제 2 변위 유닛의 제 2 부분은 X-방향 및 Y-방향에 평행하게 안정화 유닛에 결합되고,
    상기 안정화 유닛은 제 1 및 제 2 변위 유닛에 공유되어서 X-방향 및 Y-방향에 평행하게 베이스에 대해 변위될 수 있도록 안내될 수 있으며,
    각각의 제 1 및 제 2 변위 유닛은 구동력을 발생시키는 포스 엑츄에이터(force actuator)를 포함하는 것을 특징으로 하는 위치 설정 장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 제 1 및 제 2 변위 유닛의 포스 엑츄에이터는 단지 로렌쯔 힘(Lorentz force)만을 발생시키는 것을 특징으로 하는 위치 설정 장치.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 안정화 유닛은 정적 가스 베어링에 의해 X-방향 및 Y-방향에 평행하게 연장된 베이스의 안내면 위에서 변위될 수 있도록 안내되는 것을 특징으로 하는 위치 설정 장치.
  4. 제 1 항, 제 2 항 또는 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 두 개의 변위 유닛은 각각 X-엑츄에이터와 Y-엑츄에이터를 구비하고,
    각각의 상기 X-엑츄에이터는 관련된 변위 유닛의 물체 홀더에 X-방향 및 Y-방향에 평행하게 결합되어서 관련된 X-엑츄에이터의 제 2 부분에 대해 X-방향에 평행하게 변위될 수 있는 제 1 부분을 구비하고,
    각각의 상기 Y-엑츄에이터는 관련된 변위 유닛의 X-엑츄에이터의 제 2 부분에 고정되어서 안정화 유닛에 고정되어 있는 관련된 Y-엑츄에이터의 제 2 부분에 대해 Y-방향에 평행하게 변위될 수 있는 제 1 부분을 구비하는 것을 특징으로 하는 위치 설정 장치.
  5. 제 4 항에 있어서, 하나 이상의 엑츄에이터를 제어하기 위한 제어 유닛을 구비하고, 상기 제어 유닛에 의해 두 개의 변위 유닛의 X-엑츄에이터의 적어도 제 2 부분이 X-방향에 평행한 위치에 유지되는 것을 특징으로 하는 위치 설정 장치.
  6. 제 4 항에 있어서, 변위 유닛의 Y-엑츄에이터는 공통 직선 안내부를 구비하고, 상기 공통 직선 안내부를 따라 Y-엑츄에이터의 제 1 부분이 변위가능하게 안내되며,
    상기 위치 결정 장치는 회전 유닛을 구비하고,
    상기 회전 유닛은 안정화 유닛에 고정된 제 1 부분과, X-방향 및 Y-방향에 수직으로 연장된 회전축 둘레에서 상기 제 1 부분에 대해 회전가능하며 공통 직선 안내부에 고정된 제 2 부분을 가지는 것을 특징으로 하는 위치 설정 장치.
  7. 제 5 항 및 제 6 항에 있어서, 제어 유닛은 회전 유닛을 제어하는 것을 특징으로 하는 위치 설정 장치.
  8. 제 4 항에 있어서, 안정화 유닛은 안내면을 구비하고,
    상기 안내면은 X-방향 및 Y-방향에 평행하게 연장되어 있으며 두 개의 물체 홀더에 공유되고, 상기 안내면을 따라서 두 개의 물체 홀더가 X-방향과 Y-방향에 평행하게 변위될 수 있으며,
    상기 물체 홀더는 양쪽 모두가 결합 부재를 구비하고, 결합부재에 의해 관련된 물체 홀더가 순차적으로 제 1 변위 유닛의 X-엑츄에이터의 제 1 부분과 제 2 변위 유닛의 X-엑츄에이터의 제 1 부분에 결합될 수 있는 것을 특징으로 하는 위치 설정 장치.
  9. 제 8 항에 있어서, 상기 물체 홀더의 각 결합 부재는 XY 로렌쯔 포스 엑츄에이터를 포함하고,
    상기 XY 로렌쯔 포스 엑츄에이터는 관련된 물체 홀더에 고정된 제 1 부분과, 관련된 변위 유닛의 X-엑츄에이터의 제 1 부분에 고정된 제 2 부분을 구비하고,
    XY 로렌쯔 포스 엑츄에이터의 제 1 부분 각각은 두 개의 XY 로렌쯔 포스 엑츄에이터의 제 2 부분과 협력할 수 있는 것을 특징으로 하는 위치 설정 장치.
  10. 제 5 항 및 제 8 항에 있어서, 두 개의 변위 유닛은 Y-방향에 평행하게 연장되는 제 2 부분을 각각 가지는 두 개의 Y-엑츄에이터를 각각 구비하고,
    두 개의 변위 유닛의 X-엑츄에이터의 제 2 부분은 X-방향 및 Y-방향에 수직으로 연장되는 선회축 둘레에서 각각 관련된 Y-엑츄에이터의 두 개의 제 1 부분에 대해 선회할수 있고,
    제어 유닛은 양쪽 변위 유닛의 Y-엑츄에이터를 제어하는 것을 특징으로 하는 위치 설정 장치.
  11. 방사원과, 마스크 홀더와, 주축을 가진 초점 형성 유닛과, 상기 주축에 수직인 X-방향에 평행하고 X-방향 및 주축에 수직인 Y-방향에 평행하게 초점 형성 유닛에 대하여 변위될 수 있는 기판 홀더를 포함하는 위치 설정 장치가 고정되는 프레임을 구비한 리소그래픽 장치에 있어서,
    사용되는 위치 설정 장치는 청구범위 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 기재된 위치 설정 장치 이고,
    상기 위치 설정 장치의 두 개의 물체 홀더 각각은 리소그래픽 장치의 기판 홀더이고,
    상기 기판 홀더의 작동 위치는 상기 위치 설정 장치의 베이스가 상기 프레임에 고정되어 있는 동안 기판 홀더상의 기판이 방사원에 의해 초점 형성 유닛을 경유하여 조사될 수 있는 위치인 것을 특징으로 하는 리소그래픽 장치.
  12. 제 11 항에 있어서, 추가적인 위치 설정 장치를 구비하고, 상기 추가적인 위치 설정 장치에 의해 마스크 홀더가 적어도 X-방향에 평행하게 초점 형성 유닛에 대해 변위될 수 있는 것을 특징으로 하는 리소그래픽 장치.
  13. 제 12 항에 있어서, 상기 추가적인 위치 설정 장치는 청구범위 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 기재된 위치 설정 장치이고,
    상기 추가적인 위치 설정 장치의 두 개의 물체 홀더 각각은 추가적인 위치 설정 장치에 의해 X-방향 및 Y-방향에 평행하게 위치될 수 있는 리소그래픽 장치의 마스크 홀더이며,
    상기 마스크 홀더의 작동 위치는 마스크 홀더상에 배치될수 있는 마스크가 상기 추가적인 위치 설정 장치의 베이스가 프레임에 고정되어 있는 동안 방사원에 의해 조사될 수 있는 위치인 것을 특징으로 하는 리소그래픽 장치.
  14. 주축을 가진 초점 형성 유닛과, 상기 주축에 수직인 X-방향에 평행하고 X-방향 및 주축에 수직인 Y-방향에 평행하게 초점 형성 유닛에 대하여 변위될 수 있는 기판 홀더를 포함하는 위치 설정 장치와, 적어도 X-방향에 평행하게 초점 형성 유닛에 대해 변위될 수 있는 마스크 홀더를 포함하는 추가적인 위치 설정 장치와, 방사원이 고정되는 프레임을 구비한 리소그래픽 장치에 있어서,
    추가적인 위치 설정 장치는 청구범위 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 기재된 위치 설정 장치이고,
    상기 추가적인 위치 설정 장치의 두 개의 물체 홀더 각각은 추가적인 위치 설정 장치에 의해 X-방향 및 Y-방향에 평행하게 배치될 수 있는 리소그래픽 장치의 마스크 홀더이고,
    마스크 홀더의 작동 위치는 상기 추가적인 위치 설정 장치의 베이스가 상기 프레임에 고정되어 있는 동안 마스크 홀더상의 마스크가 방사원에 의해 조사될 수 있는 위치인 것을 특징으로 하는 리소그래픽 장치.
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