DE10006527A1 - Halbautomat zum halbautomatischen Abziehen von UV- Folie - Google Patents
Halbautomat zum halbautomatischen Abziehen von UV- FolieInfo
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- DE10006527A1 DE10006527A1 DE2000106527 DE10006527A DE10006527A1 DE 10006527 A1 DE10006527 A1 DE 10006527A1 DE 2000106527 DE2000106527 DE 2000106527 DE 10006527 A DE10006527 A DE 10006527A DE 10006527 A1 DE10006527 A1 DE 10006527A1
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/707—Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details
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- G—PHYSICS
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- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
Eine Vorrichtung zur Waverbelichtung mit zwei auf einem Drehteller angeordneten Chucks erlaubt das Belichten jeweils eines Wavers in einem Chuck und Abziehen der UV-Folie vom belichteten Waver im anderen Chuck. Ein Drehteller für 6-Zoll-Chucks kann gegen einen Drehteller für 8-Zoll-Chucks austauschbar sein.
Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Belichten eines
Wavers gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1.
Beispielsweise aus dem "Taschenbuch der Mikroprozessortech
nik", Seite 405, von Thomas Beierlein (ISBN 3-446-21049-0)
ist bekannt, einen Waver mit einer UV-undurchlässigen Foto
resist-Folie zu beschichten, mit UV-Licht zu belichten, zu
entwickeln, zu ätzen und weiterzubehandeln.
Während der Belichtung wird ein mit einer UV-undurchlässigen
Folie belegter Waver in einer Halteeinrichtung (= Chuck) ge
halten. Ein Chuck für einen zu belichtenden Waver ist bei
spielsweise aus der EP 0 408 350 B1 bekannt.
Die UV-Folie kann von einem UV-belichteten Waver manuell ab
gezogen werden.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist die Schaffung einer
Vorrichtung zur Belichtung von Wavern, die ein möglichst ra
tionelles Belichten und Abziehen der UV-Folie erlaubt. Die
Aufgabe wird durch das Kennzeichen des Anspruchs 1 gelöst.
Die erfindungsgemäße Vorrichtung erlaubt in einer Anlage ef
fizientes Belichten eines Wavers und Abziehen der UV-Folie
vom Waver. Sie ist insbesondere für dünne Waver, 6-Zoll-Waver
und 8-Zoll-Waver geeignet.
Weitere Merkmale und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus
den Ansprüchen und aus der nachfolgenden Beschreibung eines
Ausführungsbeispiels:
Zwei Chucks sind auf einem Drehteller angeordnet und werden
abwechselnd unter eine UV-Lampe zur Belichtung jeweils eines
in einem Chuck angeordneten Wavers geschwenkt. Das Vakuum in
einem Chuck ist von außen automatisch oder manuell schaltbar.
Nach einer Belichtung eines Wavers mit einer einstellbaren
Belichtungszeit wird die Belichtung automatisch dadurch been
det, daß eine Verdunklungseinrichtung (Shutter) zwischen den
belichteten Waver und die belichtende UV-Lampe gefahren wird.
Danach kann der Drehteller gedreht werden, um den anderen auf
ihm angeordneten Chuck in die Belichtungsposition unter der
UV-Lampe zu fahren. Aus Sicherheitsgründen sind zwei gleich
zeitig zu betätigende Knöpfe oder dergleichen vorgesehen, de
ren Betätigung das Drehen des Drehtellers auslöst. Von dem
Waver am aktuell nicht in einer Belichtungsposition befindli
chen und somit nun manuell zugänglichen Chuck kann die UV-
Folie z. B. manuell abgezogen werden, während der Waver auf
dem anderen Chuck belichtet werden kann. Es wird also jeweils
ein Waver in einer Schublade mit einer UV-Lampe belichtet und
vom anderen Waver die UV-Folie abgezogen.
Der Drehteller ist austauschbar gegen einen Drehteller mit
anderen Chucks. Z. B. kann ein Drehteller mit 6-Zoll-Chucks
gegen einen Drehteller mit 8-Zoll-Chucks ausgetauscht werden.
Der Arbeitstisch mit der Vorrichtung kann z. B. durch einen
Motor in der Höhe verstellbar sein, um eine ergonomische An
passung zu ermöglichen.
Claims (10)
1. Vorrichtung zum Belichten eines Wavers, welche
- - eine Halteeinrichtung zum Belichten des Wavers in einer Be lichtungsposition und
- - eine Belichtungseinrichtung zum Belichten eines in eine Be lichtungsposition gebrachten Wavers aufweist,
- - mindestens zwei Halteeinrichtungen für jeweils einen Waver und
- - eine Positioniereinrichtung zum abwechselnden Positionieren einer der Halteeinrichtungen in einer Belichtungsposition aufweist.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Positioniereinrichtung ein Drehteller ist, auf welchem
mindestens zwei Halteeinrichtungen angeordnet sind.
3. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß
genau zwei Halteeinrichtungen (= Chucks) vorgesehen sind.
4. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Halteeinrichtungen 6-Zoll-Chucks sind.
5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1-3,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Halteeinrichtungen 8-Zoll-Chucks sind.
6. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß
eine Positioniereinrichtung mit 6-Zoll-Chucks gegen eine Po
sitioniereinrichtung mit 8-Zoll-Chucks austauschbar ist.
7. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Belichtungszeit der Belichtungseinrichtung einstellbar
ist.
8. Vorrichtung nach Anspruch 7,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Vorrichtung so ausgebildet ist, daß sie nach Ablauf der
Belichtungszeit automatisch eine Verdunklungseinrichtung zwi
schen einen belichteten Waver und die Belichtungseinrichtung
fährt.
9. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Belichtungseinrichtung eine UV-Lampe umfaßt.
10. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Vorrichtung so ausgebildet ist, daß die aktuell nicht in
der Belichtungseinrichtung befindliche Halteeinrichtung manu
ell zugänglich ist zum Ermöglichen manuellen Abziehens einer
UV-undurchlässigen Folie von einem belichteten Waver.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2000106527 DE10006527A1 (de) | 2000-02-15 | 2000-02-15 | Halbautomat zum halbautomatischen Abziehen von UV- Folie |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2000106527 DE10006527A1 (de) | 2000-02-15 | 2000-02-15 | Halbautomat zum halbautomatischen Abziehen von UV- Folie |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE10006527A1 true DE10006527A1 (de) | 2001-08-23 |
Family
ID=7630869
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE2000106527 Ceased DE10006527A1 (de) | 2000-02-15 | 2000-02-15 | Halbautomat zum halbautomatischen Abziehen von UV- Folie |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE10006527A1 (de) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4179110A (en) * | 1974-05-28 | 1979-12-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for opposing a sheet-like material to a standard plane with predetermined space therebetween |
| US5677758A (en) * | 1995-02-09 | 1997-10-14 | Mrs Technology, Inc. | Lithography System using dual substrate stages |
| US5969441A (en) * | 1996-12-24 | 1999-10-19 | Asm Lithography Bv | Two-dimensionally balanced positioning device with two object holders, and lithographic device provided with such a positioning device |
-
2000
- 2000-02-15 DE DE2000106527 patent/DE10006527A1/de not_active Ceased
Patent Citations (3)
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