JP4474020B2 - 移動装置及び露光装置 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体リソグラフィ工程等の高精度の加工に好適に用いられる移動装置、及びこの移動装置を備える露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、半導体デバイス等の製造に用いられる露光装置としては、基板（ウエハやガラス基板）をステップ移動させながら基板上の複数の露光領域に原版（レチクルやマスク）のパターンを投影光学系を介して順次露光するステップ・アンド・リピート型の露光装置（ステッパと称することもある）や、ステップ移動と走査露光とを繰り返すことにより、基板上の複数の領域に露光転写を繰り返すステップ・アンド・スキャン型の露光装置（スキャナと称することもある）が代表的である。特にステップ・アンド・スキャン型は、スリットにより制限して投影光学系の比較的光軸に近い部分のみを使用しているため、より高精度且つ広画角な微細パターンの露光が可能となっている。
【０００３】
これら露光装置はウエハやレチクルを高速で移動させて位置決めするステージ装置（ウエハステージ、レチクルステージ）を有しているが、ステージを駆動すると加減速に伴う慣性力の反力が生じ、これが定盤に伝わると定盤の揺れや振動を引き起こす原因となる。すると露光装置の機構系の固有振動が励起されて高周波振動となって高速、高精度な位置決めを妨げる可能性がある。
【０００４】
この反力に関する問題を解決するために、いくつかの提案がなされている。例えば、特開平５−７７１２６号公報に記載された装置では、ステージを駆動するためのリニアモータの固定子をステージ定盤とは独立して床で支持することで、反力によるステージ定盤の揺れを防止するシステムとなっている。また、特開平５−１２１２９４号公報に記載された装置では、ウエハステージ及び投影レンズを支持するマシンフレームに対して、水平方向に発生する力アクチュエータによって、ステージの駆動に伴う反力と同等の補償力を付与することによって、反力による装置の揺れを軽減するシステムとなっている。
【０００５】
しかしながら、上記いずれの従来例においても、ステージ装置自体の揺れは軽減できても、ステージの駆動に伴う反力は、直接床に対してもしくは実質的に床と一体とみなせる部材を介して床に対して伝達される。このため床を加振してしまうことになり、露光装置の周辺に設置される装置に対して振動を与えて悪影響を及ぼす可能性がある。通常、露光装置を設置する床は２０〜４０Ｈｚ程度の固有振動数を持っており、露光装置の動作に伴って床の固有振動数が励起されると、周辺の装置への悪影響は大きなものになる。
【０００６】
昨今、処理速度（スループット）の向上に伴うステージ加速度は増加の一途であり、例えばステップ・アンド・スキャン型の露光装置では、いまやステージの最大加速度はレチクルステージは４Ｇ、ウエハステージは１Ｇにも達する。さらにレチクルや基板の大型化に伴ってステージ質量も増大している。このため、＜移動体の質量＞×＜加速度＞で定義される駆動力は非常に大きなものとなり、その反力は膨大なものである。そのため、加速度増加と重量増加に伴い反力が増加し、反力による設置床の加振は見過ごせない問題となってきた。
また、装置の大型化も著しくなり、数多くの製造装置が設置される製造工場内での占有設置面積の増大が問題として顕在化しつつある。
【０００７】
一方、従来、ＬＳＩあるいは超ＬＳＩなどの極微細パターンから形成される半導体素子の製造工程において、マスクに描かれた回路パターンを感光剤が塗布された基板上に縮小投影して焼き付け形成する縮小型投影露光装置が使用されている。半導体素子の実装密度の向上に伴いパターンのより一層の微細化が要求され、露光装置の微細化への対応がなされてきた。
【０００８】
露光装置の解像力を向上させる手段としては、露光波長をより短波長に変えていく方法と、投影光学系の開口数（ＮＡ）を大きくしていく方法とがある。
【０００９】
露光波長については、３６５ｎｍのｉ線から最近では２４８ｎｍ付近の発振波長を有するＫｒＦエキシマレーザ、１９３ｎｍ付近の発振波長を有するＡｒＦエキシマレーザの開発が行なわれている。更に、１５７ｎｍ付近の発振波長を有するフッ素（Ｆ₂ ）エキシマレーザの開発が行なわれている。
【００１０】
遠紫外線とりわけ１９３ｎｍ付近の波長を有するＡｒＦエキシマレーザや、１５７ｎｍ付近の発振波長を有するフッ素（Ｆ₂ ）エキシマレーザにおいては、これら波長付近の帯域には酸素（Ｏ₂ ）の吸収帯が複数存在することが知られている。例えば、フッ素エキシマレーザーは波長が１５７ｎｍと短いため、露光装置への応用が進められているが、１５７ｎｍという波長は一般に真空紫外と呼ばれる波長領域にある。この波長領域では酸素分子による光の吸収が大きいため、大気はほとんど光を透過せず、真空に近くまで気圧を下げ、酸素濃度を充分下げた環境でしか応用ができないためである。
また、酸素が上記光を吸収することによりオゾン（Ｏ₃ ）が生成され、このオゾンが光の吸収をより増加させ、透過率を著しく低下させることに加え、オゾンに起因する各種生成物が光学素子表面に付着し、光学系の効率を低下させる。
【００１１】
従って、ＡｒＦエキシマレーザ、フッ素（Ｆ₂ ）エキシマレーザ等の遠紫外線を光源とする投影露光装置の露光光学系の光路においては、窒素等の不活性ガスによるパージ手段によって、光路中に存在する酸素濃度を数ｐｐｍオーダー以下の低レベルにおさえる方法がとられている。
【００１２】
このように、遠紫外線とりわけ１９３ｎｍ付近の波長を有するＡｒＦエキシマレーザや、１５７ｎｍ付近の波長を有するフッ素（Ｆ₂ ）エキシマレーザ光を利用した露光装置においては、ＡｒＦエキシマレーザ光や、フッ素（Ｆ₂ ）エキシマレーザ光が非常に物質に吸収されやすいため、光路内を数ｐｐｍオーダー以下でパージする必要がある。また水分に対しても同様のことが言え、やはり、ｐｐｍオーダー以下での除去が必要である。
【００１３】
このため、紫外光の透過率あるいはその安定性を確保するために、不活性ガスで露光装置のレチクルステージ等の紫外光路をパージしていた。例えば、特開平６−２６０３８５では、感光基板に向かって不活性ガスを吹きつけることが開示されているが、酸素や水分をパージするには不十分であった。また、特開平８−２７９４５８では、投影光学系下端部から感光基板近傍の空間の全体を密閉部材で覆うことが開示されているが、ステージの移動が困難となって実用的とは言えなかった。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明が目的とする所は、第１に、ステージの移動に伴う振動や揺れの影響を従来以上に軽減することでができ、より高精度を達成した露光装置を提供することである。また、ステージの加減速に伴う反力が床に及ぼす影響を小さくすることで、同一床に設置されている他の装置に与える影響を小さくするとともに、床への設置面積の増大を防ぐことができる露光装置を提供することである。
【００１５】
そして、第２に、紫外線とりわけＡｒＦエキシマレーザ光やフッ素（Ｆ₂ ）エキシマレーザ光を利用した露光装置においては、ＡｒＦエキシマレーザ光や、フッ素（Ｆ₂ ）エキシマレーザ光の波長における酸素及び水による吸収が大きいため、充分な透過率及び紫外光の安定性を得るためには酸素及び水濃度を低減する必要がある。そこで、露光装置内の紫外光路で移動するウエハ及び／またはレチクル近傍に対する有効なパージ手段を開発することである。
これにより、本発明は、上記露光装置を用いた優れた生産性のデバイス生産方法を提供する。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、可動子と固定子からなる電磁アクチュエーターにより駆動する移動装置において、前記固定子を前記可動部の駆動反力を受ける反力カウンタとすることで上記課題が解決されることを見出したものである。
【００１７】
すなわち、本発明の移動装置は、ガイド面を有する基準構造体と、該ガイド面に沿って移動可能な可動部と、前記可動部の両側に設けられた複数のアクチュエータと、を備え、各アクチュエータは、前記可動部を前記ガイド面に沿う第１及び第２方向に駆動するための可動子と固定子とを有し、各可動子は前記可動部とともに移動可能であり、各固定子は互いに分離して設けられ、前記可動部の駆動に応じて発生する反力により独立して前記第１及び第２方向に移動可能であることを特徴とする。
【００１８】
また、本発明は別の観点では、ガイド面を有する基準構造体と、前記ガイド面に沿う第１方向に移動可能な第１可動部と、前記第１可動部の両端に設けられた複数の第１可動子と、該第１可動子に対向して設けられた複数の第１固定子とを有する第１アクチュエータと、前記ガイド面に沿う第２方向に移動可能な第２可動部と、前記第２可動部の両端に設けられた複数の第２可動子と、該第２可動子に対向して設けられた複数の第２固定子とを有する第２アクチュエータと、前記第１及び第２可動部が交差する位置に設けられるステージと、を備え、前記複数の第１固定子は互いに分離して設けられ、前記複数の第２固定子は互いに分離して設けられ、各固定子は前記第１および第２可動部を駆動に応じて発生する反力により独立して前記第１及び第２方向に移動可能であることを特徴とする。
【００２５】
【発明の実施の形態】
以下、図面に基づいて本発明の実施例を説明する。
（実施例１）
図１（ａ）は本発明の移動装置の１実施例を示す平面図であり、図１（ｂ）はその断面図である。
図１（ａ）及び図１（ｂ）において、基準構造体４上には、基準となる平面ガイド面６が設けられている。可動体３は、平面ガイド面６に対して静圧軸受７によって非接触に支持されており、Ｙ方向に移動可能である。可動体３の両脇には、可動体３をＹ方向に沿って駆動するための電磁アクチュエータ８が設けられている。電磁アクチュエータ８は、可動子２と、左右に互いに分離・独立した固定子１，１’とを有する。ここで、左右の固定子１，１’は、平面ガイド面６に対して静圧軸受９によって非接触に支持されており、Ｙ方向に移動可能である。また、この固定子１、１’は、所定の重量を持ち、後述する反力カウンタの機能を備えている。可動子２は、可動子２によって前記平面ガイド面に平行に移動する可動部３がつながっている。可動部３上には、例えば天板５を設けて、被移動物を置くことができる。可動子２を有する可動部３全体が移動体となっており、可動子２と左右の固定子１，１’を有する電磁アクチュエーター８によってあるＹ方向に移動する。
【００２６】
左右の固定子１、１’は、可動子２を含む可動部３全体の移動に作用する力の駆動反力を受ける。そして、この駆動反力により左右の固定子１，１’が平面ガイド面６上を移動する。左右の固定子１、１’が平面ガイド面６上を移動することにより、左右の固定子１、１’が反力カウンタの役割を果たす。本実施例では、例えば可動部３全体を＋Ｙ方向に駆動すると、左右の固定子１、１’は−Ｙ方向に駆動反力を受けて−Ｙ方向に移動することになる。
【００２７】
本実施例では、電磁アクチュエーターが可動子２と固定子１からなる右側のリニアモータと、可動子２と固定子１’からなる左側のリニアモータから構成されている。また、左右のリニアモータは、固定子をコイル、可動子を永久磁石としているが、この逆であってもよい。移動装置を制御するためには、不図示の干渉計を１個または複数設け、可動子２と基準構造体４との位置決めを行う。同様に、平面内を移動する反力カウンタを位置決めするために、不図示の干渉計により固定子の位置を計測する。
【００２８】
本実施例によれば、移動装置の可動部３全体が移動する際の加減速時の反力を固定子が１，１’が反力カウンタとなって受け、その固定子１，１’（反力カウンタ）が移動することにより、反力が運動エネルギーに変換される。また、作用する力とその反力が基準構造体４上の平面ガイド面６上内に制限されるため、移動装置の反力が装置基準構造体４を加振することを防止するとともに、装置が設置された床への外乱をなくし、自他の装置への振動をなくすことができる。更に、左右に独立した固定子１，１’（反力カウンター）が移動体である可動部３全体の加速度に応じて装置基準構造体４上を移動するので、移動体が移動する時の偏荷重を小さくできオーバーレイ精度の向上が図れる。すなわち、本実施例によれば、移動体が移動する方向と反対の方向に固定子１、１’が移動するため、移動体と固定子とを含めた全体の重心位置の変動を抑え、移動体が移動するときの偏荷重を小さくすることができる。
【００２９】
さらに、本実施例によれば、左右の固定子１、１’を独立に設けている。そのため、左右の電磁アクチュエータが出力する力が異なっていても、それぞれの固定子が別個に移動することにより、反力を打ち消すことができる。なお、左右の電磁アクチュエータの出力が異なる場合とは、例えば移動体をθ方向に回転移動させる場合や、移動体に載置された物体がＸ方向に偏荷重を持っている場合などが想定される。
【００３０】
本実施例においては、電磁アクチュエータが移動体をＹ方向に移動する場合について述べていたが、これに限られるものではない。例えば、移動体がＸＹ方向に移動可能であっても良い。この場合、電磁アクチュエータは、移動体にＸＹ方向に駆動力を発生する機構であることが望ましい。また、この場合、固定子１、１’が、平面ガイド面６に対して静圧軸受９によってＸＹ方向に移動可能に支持されていても良い。
【００３１】
（実施例２）
図２は本発明のステージが、可動部を位置決めするための位置計測手段と駆動手段を有する場合の実施例を示す。
実施例の移動装置と同様に、基準構造体４上には、基準となる平面ガイド面６が設けられている。可動体（不図示）は、平面ガイド面６に対して静圧軸受によって非接触に支持されており、ＸＹ方向に移動可能である。可動体の両脇には、可動体３をＹ方向の長ストロークおよびＸ方向の短ストロークに駆動するための電磁アクチュエータが設けられている。電磁アクチュエータは、可動子２と、左右に互いに分離・独立した固定子１，１’とを有する。ここで、左右の固定子１，１’は、平面ガイド面に対して静圧軸受によって非接触に支持されており、ＸＹ方向（平面方向）に移動可能である。また、この固定子１、１’は、所定の重量を持つ持ち、後述する反力カウンタの機能を備えている。左右の可動子２には、左右２個の可動部Ｙマグネット１０と、左右２個の可動部Ｘマグネット１１が取り付けてある。また、全体が図面上は見えない可動部上には天板５が取り付けられている。この天板５がＸ−Ｙステージとして機能し、可動子２によって平面ガイド面６に平行な方向に移動する。左右の固定子１，１’の内部には、Ｘ軸リニアモータ単相コイル１２と、Ｙ方向に複数のコイルを並べたＹ軸リニアモータ多相コイル１３が配置され、これらを切り替えてＸ軸−Ｙ軸の移動を行う。
【００３２】
天板５（Ｘ−Ｙステージ）の位置情報は、レーザヘッド１６、Ｙ軸計測用ミラー１７、Ｘ軸計測用バーミラー１８、左右２個のＹ軸計測用ディテクタ１９、前後２個のＸ軸計測用ディテクタ２０等から構成されるレーザ干渉計によって計測される。また、固定子１，１’のＹ軸位置は左右２個の固定子Ｙ軸計測用ディテクタ２１で計測される。更に、天板５のＸ軸位置は、天板５に塔載された光学素子２２、２２’にＹ方向からレーザ光が照射され、その計測光がＸ軸方向に反射または偏光されてＸ軸計測用バーミラー１８に照射されてＸ軸計測用ディテクタ２０で計測される。
【００３３】
本実施例のＸ−Ｙステージを露光装置のレチクルステージ及び／またはウエハステージとして用いることができ、可動部の天板５（Ｘ−Ｙステージ）上に、原版（レチクル）や基板（ウエハ）を載置する。
【００３４】
天板５（Ｘ−Ｙステージ）に原版（レチクル）や基板（ウエハ）を載置した可動部は、可動子２と左右の固定子１，１’からなる電磁アクチュエーターによってＸＹ方向に移動する。そして、左右の固定子１、１’は、この可動部全体の移動に作用する力の駆動反力を受ける。この駆動反力により左右の固定子１，１’が平面ガイド面上を移動する。左右の固定子１、１’が平面ガイド面６上を移動することにより、左右の固定子１、１’が反力カウンタの役割を果たす。本実施例では、例えば可動部全体が＋Ｙ方向に移動すると、左右の固定子１、１’は−Ｙ方向に駆動反力を受けて−Ｙ方向に移動することになる。この反力カウンタによる効果は、前述の実施例とほぼ同様である。
【００３５】
なお、本実施例では、Ｙ軸方向へ所定以上に移動した左右の固定子１，１’を押し戻す左右２個のＹ軸位置制御用リニアモータ１４が基準構造体４に設けられ、同じくＸ軸方向へ所定以上に移動した固定子１，１’を押し戻す左右前後４個のＸ軸位置制御用リニアモータ１５が基準構造体４に配置されている。これにより、可動部が所定以上に移動した場合には、これとともに固定子１、１’も所定以上に移動されることになるが、Ｙ軸位置制御用リニアモータ１４およびＸ軸位置制御用リニアモータ１５により固定子１、１’を所定の位置になるよう制御することができる。また、抵抗や摩擦などの影響によって、固定子の位置にずれが生じても、前述の電磁アクチュエータの駆動によらず、上記のＹ軸位置制御用リニアモータおよびＸ軸位置制御用リニアモータを用いれば、固定子の位置を修正することができる。
【００３６】
本実施例の露光装置は、レチクルとウエハを共に同期走査しながら露光を行ってウエハの１つのショット領域にレチクルパターンの露光転写を行い、ウエハをステップ移動させることで複数のショット領域にパターンを並べて転写する、いわゆるステップ・アンド・スキャン型の走査型露光装置に好適に用いられる。なお、本発明はステップ・アンド・スキャン型の露光装置への適用に限定されるものではなく、ウエハステージが高速ステップ移動するステップ・アンド・リピート型の露光装置においても有効である。
【００３７】
本実施例により、Ｘ−Ｙステージが移動する際の加減速時に生じる反力を固定子が受け、固定子がＸ−Ｙステージと逆方向へ移動することにより反力が運動エネルギーに変換され、Ｘ−Ｙステージ装置を加振することを防止することができるので、露光時にオーバーレイ精度、線幅精度、スループットの向上を図ることができる。また、左右２個の固定子（反力カウンター）がＸ−Ｙステージが移動する際の加速度に応して装置基準構造体上を移動するので、Ｘ−Ｙステージが移動する時の偏荷重を小さくできオーバーレイ精度の向上が図れる。
【００３８】
（実施例３）
図３は、本発明のＸ−Ｙステージが、固定子の位置制御用アクチュエータを有し、該アクチュエータが実施例２のように基準構造体に設けられるのではなく、基準構造体とは別に設置された外部構造体に設けられた場合の実施例を示す。
【００３９】
図３において、図２と共通する箇所には番号を付していない。実施例１と同様に、基準構造体４上には、基準となる平面ガイド面６が設けられている。可動体（不図示）は、平面ガイド面６に対して静圧軸受によって非接触に支持されており、ＸＹ方向に移動可能である。可動体の両脇には、可動体をＹ方向の長ストロークおよびＸ方向の短ストロークに駆動するための電磁アクチュエータが設けられている。電磁アクチュエータは、可動子２と、左右に互いに分離・独立した固定子１，１’とを有する。ここで、左右の固定子１，１’は、平面ガイド面に対して静圧軸受によって非接触に支持されており、ＸＹ方向（平面方向）に移動可能である。また、この固定子１、１’は、所定の重量を持つ持ち、後述する反力カウンタの機能を備えている。左右の可動子２には、左右２個の可動部Ｙマグネット１０と、左右２個の可動部Ｘマグネットが取り付けてある。また、全体が図面上は見えない可動部上には天板５が取り付けられている。この天板５がＸ−Ｙステージとして機能し、可動子２によって平面ガイド面６に平行な方向に移動する。左右の固定子１，１’の内部には、Ｘ軸リニアモータ単相コイルと、Ｙ方向に複数のコイルを並べたＹ軸リニアモータ多相コイルが配置され、これらを切り替えてＸ軸−Ｙ軸の移動を行う。
【００４０】
天板５（Ｘ−Ｙステージ）の位置情報は、レーザヘッド、Ｙ軸計測用ミラー、Ｘ軸計測用バーミラー、左右２個のＹ軸計測用ディテクタ、前後２個のＸ軸計測用ディテクタ等から構成されるレーザ干渉計によって計測される。また、固定子１，１’のＹ軸位置は左右２個の固定子Ｙ軸計測用ディテクタで計測される。更に、天板５のＸ軸位置は、天板５に塔載された光学素子にＹ方向からレーザ光が照射され、その計測光がＸ軸方向に反射または偏光されてＸ軸計測用バーミラーに照射されてＸ軸計測用ディテクタで計測される。
【００４１】
本実施例では、左右の固定子１，１’には左右２個のＹ軸位置制御用リニアモータ１４が外部構造体２３上に設けられ、所定以上にＹ軸方向に移動した固定子１，１’を押し戻す。同様に、左右の固定子１，１’にはＸ軸方向に所定以上に移動した固定子１，１’を押し戻す左右前後４個のＸ軸位置制御用リニアモータ１５が外部構造体２３上に設けられている。
【００４２】
外部構造体２３は、基準構造体４とは振動的に独立な構成となっている。これにより、Ｘ−Ｙステージが所定以上に移動した場合に、Ｙ軸位置制御用リニアモータ１４とＸ軸位置制御用リニアモータ１５が固定子１、１’を所定の位置になるよう駆動したとき、この駆動反力が基準構造体４に伝達されることなく、基準構造体上の可動部の精密な位置決めを行なうことができる。特に、固定子１、１’を所定の位置に高速に戻す必要性があるとき、位置制御用リニアモータの制御帯域を上げても、位置制御用リニアモータの駆動反力が基準構造体４に伝達されない。
【００４３】
（実施例４）
図４（ａ）及び図４（ｂ）は、本発明の露光装置を、更にθ，Ｚ軸チルトステージを搭載する微動ステージ（６軸可動ステージ）に適用する場合の実施例を示す。
【００４４】
図４（ａ）及び図４（ｂ）において、天板５は、ウエハチャック３０と位置計測用のバーミラー５０が設けられている。ウエハチャック３０は、位置決め対象物であるウエハを真空吸着して保持する。バーミラー５０，５１は、不図示のレーザ干渉計からの計測光を反射する。天板５は、ＸＹスライダー３８に対して、磁石を利用した自重補償部（不図示）によって非接触で浮上し、６軸方向に自由度をもっている。また、天板５は、天板５とＸＹスライダー３８との間で駆動力を発生するアクチュエータによって、６軸方向（ＸＹＺ方向およびこの軸回り方向）に微小駆動される。６軸微動用のアクチュエータとしては、Ｘ方向に２個、Ｙ方向に１個、Ｚ方向に３個のリニアモータが設けられている。２つのＸ方向微動リニアモータを逆方向に駆動すれば、Ｚ軸回り（θ方向）に天板を駆動することができ、３つのＺ方向微動リニアモータのそれぞれの駆動力を調整することで、Ｘ軸回り（ωＸ方向）及びＹ軸回り（ωＹ方向）に天板を駆動することができる。また、微動用リニアモータの固定子となるコイルはＸＹスライダー３８側に設けられ、微動用リニアモータの可動子となる永久磁石は天板側に設けられる。
【００４５】
ＸＹスライダー３８上板は、ＸＹの平面方向に長ストローク移動できるＸＹスライダー３８に搭載されている。ＸＹスライダー３８は、エアーベアリング（静圧軸受け）３５により、Ｘガイドバー２８とＹガイドバー２９にガイドされている。また、ＸＹスライダー３８は、Ｚ方向に関して、エアーベアリング（静圧軸受け）３５により基準構造体４上面にガイドされている。
【００４６】
Ｘガイドバー２８とＹガイドバー２９の両端部付近にはリニアモータの可動子（マグネット）２６，２７が取り付けられていて、ＸＹ各２個のリニアモータ固定子（コイル）２４，２５に電流を流すことによりローレンツ力を発生させ、Ｘガイドバー２８をＹ方向に、Ｙガイドバー２９をＸ方向に駆動できる構成になっている。ＸＹ各２個のリニアモータ固定子（コイル）２４，２５は、Ｚ方向にエアーベアリング（静圧軸受け）３４により基準構造体４上面にガイドされていて、ＸＹ方向（平面方向）に自由度を持っている。
【００４７】
ＸＹスライダー３８のＸ方向に関する移動について説明する。前記ローレンツ力によりＹガイドバーをＸ方向に駆動すると、静圧軸受３５を介してＸＹスライダー３８にＸ方向の力が加わる。ここで、ＸＹスライダーとＹガイドバーを以下Ｘ可動部と称する。Ｘ可動部を加減速させると、Ｘリニアモータ固定子２５にその反力が働く。Ｘリニアモータ固定子２５は、静圧軸受３４によってＸＹ方向に移動可能に支持されているため、この反力によって、Ｘリニアモータ固定子２５はＸ方向に移動する。その移動時の加速度と速度は、Ｘリニアモータ固定子２５の質量とＸ可動部の質量比により決まる。例えば、Ｘリニアモータ固定子２５の質量を２００ｋｇ／個、Ｘ可動部の質量４０ｋｇとすると質量比は１０：１になるので、Ｘリニアモータ固定子２１の加速度、速度ともＸ可動部の１／１０になる。このようにして、Ｘリニアモータ固定子２５がＸ方向に移動することにより、基準構造体にはＸリニアモータ固定子２５にかかるＸ方向反力がかからない。
【００４８】
またＸ可動部重心とＸリニアモータ可動子の力の発生点のＺ方向高さを同一にすることにより、ωＹ方向のモーメント力の発生を押さえることができるので、基準構造体４に駆動反力が入らなくできる。同様に、Ｘリニアモータ可動子２２の力の発生点と、Ｘリニアモータ固定子２５の重心のＺ方向高さを同一にすることにより、ωＹ方向のモーメント力の発生を押さえることができる。
【００４９】
Ｘリニアモータ固定子２５には、基準構造体４との相対位置を維持するための、リニアモータ固定子位置制御用リニアモータ３３が少なくともＸ方向２個、Ｙ方向１個設けられている。リニアモータ固定子位置制御用リニアモータ３３は、Ｘ可動部が所定の範囲以上に駆動された場合でも、リニアモータ固定子２５が所定の移動範囲から外れるのを防止している。また、リニアモータ固定子位置制御用リニアモータ３３により、リニアモータ固定子２５が移動するときに抵抗や摩擦により位置ずれが生じても、修正することができる。
上記説明は、Ｘ方向で説明したがＹ方向に関しても同様である。
【００５０】
本実施例によれば、ＸＹスライダーがＸＹ方向に移動可能であるため、ＸＹスライダーの位置に応じてリニアモータが出力する駆動力が異なる。例えば、図４（ａ）においてＸＹスライダー３８が＋Ｙ方向に移動した後＋Ｘ方向に移動するとき、ＸＹスライダーを＋Ｘ方向に移動する際にはＸＹスライダーが＋Ｙ方向に寄っているため、図面上側のＸリニアモータが出力する駆動力の方が、図面下側のＸリニアモータ出力する駆動力よりも大きい。このような場合に両Ｘリニアモータの出力する駆動力が同じであれば、ＸＹスライダー３８がθ方向にモーメントを受けるためである。もし仮に、各固定子を一体的に連結した場合、ＸＹスライダーの位置によっては駆動反力を打ち消す際にθ方向のモーメントがかかることになる。本実施例では、このようにリニアモータが出力する駆動力が異なる場合でも、リニアモータ固定子が独立して基準構造体４にＸＹ方向に移動可能に支持されているので、それぞれの固定子が独立して駆動反力を打ち消すことができる。
【００５１】
（実施例５）
次に前述した実施形態のステージ装置をウエハステージとして搭載した走査型露光装置の実施形態を、図５を用いて説明する。
鏡筒定盤３９は床または基盤４０からダンパ４１を介して支持されている。また鏡筒定盤３９は、レチクル定盤４２を支持すると共に、レチクルステージ４３とウエハステージ４４の間に位置する投影光学系４５を支持している。
【００５２】
ウエハステージは、床または基盤から支持されたステージ定盤４６上に支持され、ウエハを載置して位置決めを行う。また、レチクルステージは、鏡筒定盤に支持されたレチクルステージ定盤上に支持され、回路パターンが形成されたレチクルを搭載して移動可能である。レチクルステージ４３上に搭載されたレチクルをウエハステージ４４上のウエハに露光する露光光は、照明光学系４７から発生される。
【００５３】
なお、ウエハステージ４４は、レチクルステージ４３と同期して走査される。レチクルステージ４３とウエハステージ４４の走査中、両者の位置はそれぞれ干渉計によって継続的に検出され、レチクルステージ４３とウエハステージ４４の駆動部にそれぞれフィードバックされる。これによって、両者の走査開始位置を正確に同期させるとともに、定速走査領域の走査速度を高精度で制御することができる。投影光学系に対して両者が走査している間に、ウエハ上にはレチクルパターンが露光され、回路パターンが転写される。
露光光としては、フッ素エキシマレーザ、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ等の紫外光を用いた。
【００５４】
本実施形態では、前述の実施形態のステージの加速減速に伴う反力が床に及ぼす影響を小さくしたステージ装置をウエハステージとして用いているため、振動や揺れの軽減が可能となり、高速・高精度な露光が可能となる。
【００５５】
（実施例６）
本発明で、電磁アクチュエーターが可動子と固定子からなるリニアモータである場合、可動子と固定子は図６（ａ）に示されるような入れ子構造、または図６（ｂ）に示されるような開放構造をとることができる。図６（ａ）及び図６（ｂ）において、平面ガイド面６を有する基準構造体４上に、可動子２と左右に互いに分離・独立した固定子１，１’からなる電磁アクチュエーターが設けられている。ここで、左右の固定子１，１’は所定の重量を持つ反力カウンタを兼ねており、基準構造体４上の平面ガイド面６上を自由に移動できる。図６（ａ）に示されるような入れ子構造の場合、固定子１，１’は直道方向の両端で支持され、該両端部で基準構造体４上の平面ガイド面６上を自由に移動できる。可動子２には、可動子２によって前記平面ガイド面に平行に移動する可動部３がつながっており、可動部３上には例えば天板５を設けて、被移動物を置くことができる。これに対して、図６（ｂ）に示されるような開放構造をとる場合の構造と機能は実施例１で説明した通りである。
【００５６】
通常の移動装置、Ｘ−Ｙステージ、露光装置では、入れ子構造と開放構造の両者いずれの構造をとることができる。しかしながら、上記従来技術で説明したように、紫外光を露光光とする露光装置では、紫外光の光路から酸素や水分を徹底してパージしなければならない。
【００５７】
図７（ａ）及び図７（ｂ）は、本発明の露光装置が、Ｘ−Ｙステージにおいて、リニアモーターの固定子と可動子の関係を、入れ子構造ではなく開放構造にし、かつ固定子の内側に照明光学系からレチクルを載置した可動部を包み投影光学系を兼ねる基板構造体までの端面に、遮へい壁を設けて内側を不活性ガスでパージする場合の実施例を示す。
図７（ａ）は、本実施例のレチクルを載置したＸ−Ｙステージ付近の斜視図であり、図７（ｂ）は、該斜視図のＡ方向からの断面図である。
【００５８】
図７（ａ）において、平面ガイド面６を有する基準構造体４上に、永久磁石からなる可動子２と左右に互いに分離・独立し、コイル４８ａとヨーク４８ｂからなる固定子１，１’で構成される電磁アクチュエーターが設けられている。ここで、左右の固定子１，１’は所定の重量を持つ反力カウンタを兼ねており、基準構造体４上の平面ガイド面６上を自由に移動できる。左右の可動子２を有する可動部３上には天板５が取り付けられ、この天板５がＸ−Ｙステージとして機能する。天板５上にはレチクル５２が載置され、可動子２によって平面ガイド面６に平行に移動する。天板５上には干渉計を構成するミラーやバーミラー５２ａ，５２ｂ，５２ｃが設けられ、ディテクタ４９ａ，４９ｂ，４９ｃや不図示のレーザヘッド等とともに干渉計を構成する。
【００５９】
図７（ｂ）に示されるように、上記の可動子２、可動部３、天板５、レチクル５２、干渉計を構成するミラー、バーミラー、ディテクタ等を包み覆うように、遮蔽壁５３が照明光学系５４から投影光学系５５を兼ねる基板構造体までの端面に設けられている。特に、固定子１，１’とは、入れ子構造ではなく開放構造となっており、該遮蔽壁の内側は不活性ガスで不純物がパージされている。
【００６０】
このように、ステージのリニアモータの固定子と可動子の関係を開放構造にし、固定子と可動子の隙間に遮蔽壁を設けて、内側を不活性ガスで不純物がパージされているため、フッ素ガスレーザ光を用いても、酸素や水分によって透過率が減衰することがなく、その安定性を確保することが出来る。また、レチクル周りのパージ空間を小さく出来るので、不活性ガスの置換時間を短くすることが出来る。更に、固定子がパージ空間の外側なので、固定子からの脱ガスの影響を受けない。
【００６１】
本実施例では、１軸駆動のレチクルステージについて説明したが、レチクルステージを可動子に対しＸ軸方向に可動にしてＸ−Ｙステージとしたり、更にθ，Ｚチルトステージを搭載して６軸可動ウエハステージとしてもよい。
【００６２】
＜半導体生産システムの実施例＞
次に、半導体デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の生産システムの例を説明する。これは半導体製造工場に設置された製造装置のトラブル対応や定期メンテナンス、あるいはソフトウェア提供などの保守サービスを、製造工場外のコンピュータネットワークを利用して行うものである。
【００６３】
図８は全体システムをある角度から切り出して表現したものである。図中、１０１は半導体デバイスの製造装置を提供するベンダー（装置供給メーカー）の事業所である。製造装置の実例として、半導体製造工場で使用する各種プロセス用の半導体製造装置、例えば、前工程用機器（露光装置、レジスト処理装置、エッチング装置等のリソグラフィ装置、熱処理装置、成膜装置、平坦化装置等）や後工程用機器（組立て装置、検査装置等）を想定している。事業所１０１内には、製造装置の保守データベースを提供するホスト管理システム１０８、複数の操作端末コンピュータ１１０、これらを結んでイントラネットを構築するローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）１０９を備える。ホスト管理システム１０８は、ＬＡＮ１０９を事業所の外部ネットワークであるインターネット１０５に接続するためのゲートウェイと、外部からのアクセスを制限するセキュリティ機能を備える。
【００６４】
一方、１０２〜１０４は、製造装置のユーザーとしての半導体製造メーカーの製造工場である。製造工場１０２〜１０４は、互いに異なるメーカーに属する工場であっても良いし、同一のメーカーに属する工場（例えば、前工程用の工場、後工程用の工場等）であっても良い。各工場１０２〜１０４内には、夫々、複数の製造装置１０６と、それらを結んでイントラネットを構築するローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）１１１と、各製造装置１０６の稼動状況を監視する監視装置としてホスト管理システム１０７とが設けられている。各工場１０２〜１０４に設けられたホスト管理システム１０７は、各工場内のＬＡＮ１１１を工場の外部ネットワークであるインターネット１０５に接続するためのゲートウェイを備える。これにより各工場のＬＡＮ１１１からインターネット１０５を介してベンダー１０１側のホスト管理システム１０８にアクセスが可能となり、ホスト管理システム１０８のセキュリティ機能によって限られたユーザーだけがアクセスが許可となっている。具体的には、インターネット１０５を介して、各製造装置１０６の稼動状況を示すステータス情報（例えば、トラブルが発生した製造装置の症状）を工場側からベンダー側に通知する他、その通知に対応する応答情報（例えば、トラブルに対する対処方法を指示する情報、対処用のソフトウェアやデータ）や、最新のソフトウェア、ヘルプ情報などの保守情報をベンダー側から受け取ることができる。各工場１０２〜１０４とベンダー１０１との間のデータ通信および各工場内のＬＡＮ１１１でのデータ通信には、インターネットで一般的に使用されている通信プロトコル（ＴＣＰ／ＩＰ）が使用される。なお、工場外の外部ネットワークとしてインターネットを利用する代わりに、第三者からのアクセスができずにセキュリティの高い専用線ネットワーク（ＩＳＤＮなど）を利用することもできる。また、ホスト管理システムはベンダーが提供するものに限らずユーザーがデータベースを構築して外部ネットワーク上に置き、ユーザーの複数の工場から該データベースへのアクセスを許可するようにしてもよい。
【００６５】
さて、図９は本実施形態の全体システムを図８とは別の角度から切り出して表現した概念図である。先の例ではそれぞれが製造装置を備えた複数のユーザー工場と、該製造装置のベンダーの管理システムとを外部ネットワークで接続して、該外部ネットワークを介して各工場の生産管理や少なくとも１台の製造装置の情報をデータ通信するものであった。これに対し本例は、複数のベンダーの製造装置を備えた工場と、該複数の製造装置のそれぞれのベンダーの管理システムとを工場外の外部ネットワークで接続して、各製造装置の保守情報をデータ通信するものである。図中、２０１は製造装置ユーザー（半導体デバイス製造メーカー）の製造工場であり、工場の製造ラインには各種プロセスを行う製造装置、ここでは例として露光装置２０２、レジスト処理装置２０３、成膜処理装置２０４が導入されている。なお図９では製造工場２０１は１つだけ描いているが、実際は複数の工場が同様にネットワーク化されている。工場内の各装置はＬＡＮ２０６で接続されてイントラネットを構成し、ホスト管理システム２０５で製造ラインの稼動管理がされている。一方、露光装置メーカー２１０、レジスト処理装置メーカー２２０、成膜装置メーカー２３０などベンダー（装置供給メーカー）の各事業所には、それぞれ供給した機器の遠隔保守を行なうためのホスト管理システム２１１，２２１，２３１を備え、これらは上述したように保守データベースと外部ネットワークのゲートウェイを備える。ユーザーの製造工場内の各装置を管理するホスト管理システム２０５と、各装置のベンダーの管理システム２１１，２２１，２３１とは、外部ネットワーク２００であるインターネットもしくは専用線ネットワークによって接続されている。このシステムにおいて、製造ラインの一連の製造機器の中のどれかにトラブルが起きると、製造ラインの稼動が休止してしまうが、トラブルが起きた機器のベンダーからインターネット２００を介した遠隔保守を受けることで迅速な対応が可能で、製造ラインの休止を最小限に抑えることができる。
【００６６】
半導体製造工場に設置された各製造装置はそれぞれ、ディスプレイと、ネットワークインターフェースと、記憶装置にストアされたネットワークアクセス用ソフトウェアならびに装置動作用のソフトウェアを実行するコンピュータを備える。記憶装置としては内蔵メモリやハードディスク、あるいはネットワークファイルサーバーなどである。上記ネットワークアクセス用ソフトウェアは、専用又は汎用のウェブブラウザを含み、例えば図１０に一例を示す様な画面のユーザーインターフェースをディスプレイ上に提供する。各工場で製造装置を管理するオペレータは、画面を参照しながら、製造装置の機種（４０１）、シリアルナンバー（４０２）、トラブルの件名（４０３）、発生日（４０４）、緊急度（４０５）、症状（４０６）、対処法（４０７）、経過（４０８）等の情報を画面上の入力項目に入力する。入力された情報はインターネットを介して保守データベースに送信され、その結果の適切な保守情報が保守データベースから返信されディスプレイ上に提示される。またウェブブラウザが提供するユーザーインターフェースはさらに図示のごとくハイパーリンク機能（４１０〜４１２）を実現し、オペレータは各項目の更に詳細な情報にアクセスしたり、ベンダーが提供するソフトウェアライブラリから製造装置に使用する最新バージョンのソフトウェアを引出したり、工場のオペレータの参考に供する操作ガイド（ヘルプ情報）を引出したりすることができる。ここで、保守データベースが提供する保守情報には、上記説明した本発明の特徴に関する情報も含まれ、また前記ソフトウェアライブラリは本発明の特徴を実現するための最新のソフトウェアも提供する。
【００６７】
次に上記説明した生産システムを利用した半導体デバイスの製造プロセスを説明する。図１１は半導体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す。ステップ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行なう。ステップ２（マスク製作）では設計した回路パターンを形成したマスクを製作する。一方、ステップ３（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記用意したマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ４によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の組立て工程を含む。ステップ６（検査）ではステップ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行なう。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これを出荷（ステップ７）する。前工程と後工程はそれぞれ専用の別の工場で行い、これらの工場毎に上記説明した遠隔保守システムによって保守がなされる。また前工程工場と後工程工場との間でも、インターネットまたは専用線ネットワークを介して生産管理や装置保守のための情報がデータ通信される。
【００６８】
図１２は上記ウエハプロセスの詳細なフローを示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶縁膜を成膜する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステップ１６（露光）では上記説明した露光装置によってマスクの回路パターンをウエハに焼付露光する。ステップ１７（現像）では露光したウエハを現像する。ステップ１８（エッチング）では現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）ではエッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行なうことによって、ウエハ上に多重に回路パターンを形成する。各工程で使用する製造機器は上記説明した遠隔保守システムによって保守がなされているので、トラブルを未然に防ぐと共に、もしトラブルが発生しても迅速な復旧が可能で、従来に比べて半導体デバイスの生産性を向上させることができる。
【００６９】
【発明の効果】
本発明の移動装置では、可動部が移動する際の加減速時反力を固定子が受け、反力を受けた固定子が移動することにより、反力が固定子の運動エネルギーに変換・吸収され、固定子が反力カウンタとして作用する。これにより、移動装置及びステージの反力が装置の基準構造体を加振することを防止することができる。また、左右２個の固定子（反力カウンタ）が移動体の加速度に応して装置基準構造体上を移動するので、移動体が移動する時の偏荷重を小さくできる。
【００７０】
上記移動装置を有する本発明の露光装置によれば、第１に、ステージの移動に伴う振動や揺れの影響を軽減することで、オーバーレイ精度、線幅精度、スループットの向上等、従来以上の高精度を達成することができる。また、移動体が移動する時の偏荷重を小さくできることにより、オーバーレイ精度の向上が図れる。更に、ステージの加減速に伴う反力が床に及ぼす影響を小さくすることで、同一床に設置されている他の装置に与える影響を小さくすることができるとともに、床への設置面積の増大を防ぐことができる。
【００７１】
第２に、紫外光を用いた本発明の露光装置では、レチクルステージ周りのパージ空間を小さくできるので、置換時間を短くできる。また、固定子がパージ空間の外なので、固定子の脱ガスの影響をうけなくなり、紫外光、特にフッ素ガスレーザ光路の透過率あるいはその安定性を確保できる。
これらにより、高精度、高アウトプットの露光を行うことが出来る。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の移動装置の一実施例を示す。
【図２】 本発明のステージの一実施例を示す。
【図３】 本発明のステージの他の実施例を示す。
【図４】 本発明のステージを露光装置に適用した一実施例を示す。
【図５】 本発明のステージを露光装置に適用した一実施例を示す。
【図６】 固定子と可動子の関係を示す。
【図７】 本発明の露光装置の一実施例のレチクルステージ付近を示す。
【図８】 半導体デバイスの生産システムをある角度から見た概念図。
【図９】 半導体デバイスの生産システムを別の角度から見た概念図。
【図１０】 ユーザーインターフェースの具体例。
【図１１】 デバイスの製造プロセスのフローを説明する図。
【図１２】 ウエハプロセスを説明する図。
【符号の説明】
１，１’：固定子、２：可動子、３：可動部、４：基準構造体、５：天板、６：平面ガイド面、７：静圧軸受、８：電磁アクチュエーター、９：静圧軸受、１０：可動部Ｙマグネット、１１：可動部Ｘマグネット、１２：Ｘ軸リニアモータ単相コイル、１３：Ｙ軸リニアモータ多相コイル、１４：Ｙ軸位置制御用リニアモータ、１５：Ｘ軸位置制御用リニアモータ、１６：レーザヘッド、１７：Ｙ軸計測用ミラー、１８：Ｘ軸計測用バーミラー、１９：Ｙ軸計測用ディテクタ、２０：Ｘ軸計測用ディテクタ、２１：固定子Ｙ軸計測用ディテクタ、２２，２２’：光学素子、２３：外部構造体、２４：リニアモータ固定子（コイル）、２５：リニアモータ固定子（コイル）、２６：リニアモータの可動子（マグネット）、２７：リニアモータの可動子（マグネット）、２８：Ｘガイドバー、２９：Ｙガイドバー、３０：θ，Ｚ軸チルトステージ、３１：ウエハチャック、３２：リニアモータ固定子位置制御用リニアモータ（Ｙ軸）、３３：リニアモータ固定子位置制御用リニアモータ（Ｘ軸）、３４：エアーベアリング（静圧軸受け）、３５：エアベアリング、３６：リニアモータ、３７：リニアモータ、３８：ＸＹスライダー、３９：鏡筒定盤、４０：床・基盤、４１：ダンパ、４２：レチクルステージ定盤、４３：レチクルステージ、４４：ウエハステージ、４５：投影光学系、４６：ステージ定盤、４７：照明光学系、４８ａ：コイル、４８ｂ：ヨーク、４９：ディテクタ、５０，５１：バーミラー、５２：ミラー，バーミラー、５２：レチクル、５３：遮蔽壁、５４：照明光学系、５５：投影光学系。

Claims (14)

1. ガイド面を有する基準構造体と、
   該ガイド面に沿って移動可能な可動部と、
   前記可動部の両側に設けられた複数のアクチュエータと、を備え、
   各アクチュエータは、前記可動部を前記ガイド面に沿う第１及び第２方向に駆動するための可動子と固定子とを有し、
   各可動子は前記可動部とともに移動可能であり、各固定子は互いに分離して設けられ、前記可動部の駆動に応じて発生する反力により独立して前記第１及び第２方向に移動可能であることを特徴とする移動装置。
2. 各固定子は、前記ガイド面に沿って移動可能であることを特徴とする請求項１に記載の移動装置。
3. 各固定子の位置を計測する位置計測手段と、該位置計測手段の計測結果にもとづいて各固定子を駆動する固定子用アクチュエータと、を有することを特徴とする請求項１または２に記載の移動装置。
4. 前記可動部の位置を計測する位置計測手段を備えることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１つに記載の移動装置。
5. 前記可動部は６軸に可動であること特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の移動装置。
6. ガイド面を有する基準構造体と、
   前記ガイド面に沿う第１方向に移動可能な第１可動部と、
   前記第１可動部の両端に設けられた複数の第１可動子と、該第１可動子に対向して設けられた複数の第１固定子とを有する第１アクチュエータと、
   前記ガイド面に沿う第２方向に移動可能な第２可動部と、
   前記第２可動部の両端に設けられた複数の第２可動子と、該第２可動子に対向して設けられた複数の第２固定子とを有する第２アクチュエータと、
   前記第１及び第２可動部が交差する位置に設けられるステージと、を備え、
   前記複数の第１固定子は互いに分離して設けられ、前記複数の第２固定子は互いに分離して設けられ、各固定子は前記第１および第２可動部を駆動に応じて発生する反力により独立して前記第１及び第２方向に移動可能であることを特徴とする移動装置。
7. 原版のパターンの一部を投影光学系を介して基板上に投影し、前記原版のパターンの所定の露光領域を前記基板上に露光する露光手段と、前記露光のために前記原版及び／または基板を移動させる請求項１乃至６のいずれかに記載の移動装置とを備えていることを特徴とする露光装置。
8. 前記露光が、前記投影光学系に対して前記原版と基板を移動させて共に走査することにより前記原版のパターンの所定の露光領域を前記基板上に露光する走査露光であり、前記可動部により前記走査のために前記原版及び／または基板を移動させることを特徴とする請求項７に記載の露光装置。
9. 前記基準構造体は前記投影光学系が取り付けられた鏡筒定盤と結合していることを特徴とする請求項７または８に記載の露光装置。
10. 露光光としてフッ素エキシマレーザまたはＡｒＦエキシマレーザが用いられることを特徴とする請求項７乃至９のいずれか１項に記載の露光装置。
11. ガイド面を有する基準構造体と、
    該ガイド面に沿って移動可能な可動部と、
    該可動部側に設けられた可動子と、該ガイド面に沿って移動可能で、該可動部を駆動するときの反力により該ガイド面上を移動する固定子とを有するリニアモータとを備え、前記リニアモータの固定子と可動子の関係を、開放構造にし、かつ前記固定子の内側に照明光学系及び／または投影光学系から前記可動部を包み前記基準構造体までの端面に、遮へい壁を設けることを特徴とする露光装置。
12. 前記遮へい壁の内側を不活性ガスでパージすることを特徴とする請求項１１に記載の露光装置。
13. 前記可動部の位置計測手段に用いる干渉計が前記遮へい壁の内側のパージエリアに設けられていることを特徴とする請求項１２に記載の露光装置。
14. 請求項７乃至１３のいずれかに記載の露光装置を用いて基板にパターンを露光する工程と、露光された基板を現像する工程とを有することを特徴とする半導体デバイス製造方法。

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