JPH09275072A - 移動鏡の真直度誤差補正方法及びステージ装置 - Google Patents
移動鏡の真直度誤差補正方法及びステージ装置Info
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- JPH09275072A JPH09275072A JP8110281A JP11028196A JPH09275072A JP H09275072 A JPH09275072 A JP H09275072A JP 8110281 A JP8110281 A JP 8110281A JP 11028196 A JP11028196 A JP 11028196A JP H09275072 A JPH09275072 A JP H09275072A
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/30—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 移動鏡の固定後の変形成分とともに、移動鏡
自体の加工誤差に由来するレーザ干渉計の測長軸間隔以
下の凹凸やうねり成分についての真直度誤差を確実に補
正する。 【解決手段】 ウエハステージ１４に取り付ける前の移
動鏡２８Ａと２８Ｂの面状データを一端からの距離の関
数データとして測定しメモリに記憶する。次に、ウエハ
ステージ１４に取り付けた後の移動鏡２８Ａと２８Ｂ
を、間隔ｄをおいて平行に配置された２つのレーザ干渉
計を用いて、間隔ｄ毎の離散的な形状誤差データを計測
して、その計測結果をメモリに格納する。そして、主制
御部により、上記したウエハステージ１４取り付け前と
後の移動鏡の面状データと形状誤差データの相関関係に
基づいて、ウエハステージ１４取り付け後の移動鏡の連
続的な形状誤差データを作成し、これを補正データとし
て用いる。
自体の加工誤差に由来するレーザ干渉計の測長軸間隔以
下の凹凸やうねり成分についての真直度誤差を確実に補
正する。 【解決手段】 ウエハステージ１４に取り付ける前の移
動鏡２８Ａと２８Ｂの面状データを一端からの距離の関
数データとして測定しメモリに記憶する。次に、ウエハ
ステージ１４に取り付けた後の移動鏡２８Ａと２８Ｂ
を、間隔ｄをおいて平行に配置された２つのレーザ干渉
計を用いて、間隔ｄ毎の離散的な形状誤差データを計測
して、その計測結果をメモリに格納する。そして、主制
御部により、上記したウエハステージ１４取り付け前と
後の移動鏡の面状データと形状誤差データの相関関係に
基づいて、ウエハステージ１４取り付け後の移動鏡の連
続的な形状誤差データを作成し、これを補正データとし
て用いる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、移動鏡の真直度誤
差補正方法及びステージ装置に係り、更に詳しくはレー
ザ干渉計からのレーザ光を照射してステージ位置を測定
するためにステージに取り付けられる移動鏡の真直度誤
差補正方法及びその補正方法が適用されるステージ装置
に関する。
差補正方法及びステージ装置に係り、更に詳しくはレー
ザ干渉計からのレーザ光を照射してステージ位置を測定
するためにステージに取り付けられる移動鏡の真直度誤
差補正方法及びその補正方法が適用されるステージ装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、例えば、超大規模集積回路
（ＶＬＳＩ：Very Large Scale Integrated circuit ）
のパターン転写に用いられる各種露光装置（ステッパー
等）、転写マスクの描画装置、マスクパターンの位置座
標測定装置、あるいはその他の位置決め装置では、対象
物を保持して直交する２軸（Ｘ軸，Ｙ軸）方向に精密に
移動するＸＹステージが用いられている。このＸＹステ
ージの座標位置の計測には、通常、波長６３３ｎｍで連
続発振するＨｅ−Ｎｅの周波数安定化レーザを光源とし
た光波干渉計（レーザ干渉計）が使われている。
（ＶＬＳＩ：Very Large Scale Integrated circuit ）
のパターン転写に用いられる各種露光装置（ステッパー
等）、転写マスクの描画装置、マスクパターンの位置座
標測定装置、あるいはその他の位置決め装置では、対象
物を保持して直交する２軸（Ｘ軸，Ｙ軸）方向に精密に
移動するＸＹステージが用いられている。このＸＹステ
ージの座標位置の計測には、通常、波長６３３ｎｍで連
続発振するＨｅ−Ｎｅの周波数安定化レーザを光源とし
た光波干渉計（レーザ干渉計）が使われている。
【０００３】このレーザ干渉計は、本質的に一次元の測
定しかできないため、２次元の座標位置の測定には同一
のレーザ干渉計を少なくとも２つ用意し、反射面がほぼ
直交するようにＸＹステージに固定された２つの平面鏡
に対して各レーザ干渉計からのビームを投射して、各反
射面の垂直方向の距離変化を計測することにより、ＸＹ
ステージの２次元の座標位置を求めている。そして、Ｘ
Ｙステージに固定された２つの平面鏡の各反射面は、ス
テージの必要移動ストロークに合わせてＸ軸方向、Ｙ軸
方向に伸びたものとなっている。このような平面鏡は、
座標位置の測定基準となるため、その反射面は極めて高
い平面性が要求される。
定しかできないため、２次元の座標位置の測定には同一
のレーザ干渉計を少なくとも２つ用意し、反射面がほぼ
直交するようにＸＹステージに固定された２つの平面鏡
に対して各レーザ干渉計からのビームを投射して、各反
射面の垂直方向の距離変化を計測することにより、ＸＹ
ステージの２次元の座標位置を求めている。そして、Ｘ
Ｙステージに固定された２つの平面鏡の各反射面は、ス
テージの必要移動ストロークに合わせてＸ軸方向、Ｙ軸
方向に伸びたものとなっている。このような平面鏡は、
座標位置の測定基準となるため、その反射面は極めて高
い平面性が要求される。
【０００４】レーザ干渉計の計測分解能は、０．０１μ
ｍ程度と高精度であって、また、平面鏡の反射面の長さ
は、例えば、６インチの半導体ウエハを載置するステー
ジの場合、２５０ｍｍ程度が必要となる。このため、２
５０ｍｍの平面鏡の反射面全体が傾いていたり、部分的
に曲がっていたり、あるいは、局所的に凹凸がある場合
は、その量が０．０１μｍ以上あると、それがレーザ干
渉計の計測値として取り込まれて、計測誤差の原因とな
っていた。
ｍ程度と高精度であって、また、平面鏡の反射面の長さ
は、例えば、６インチの半導体ウエハを載置するステー
ジの場合、２５０ｍｍ程度が必要となる。このため、２
５０ｍｍの平面鏡の反射面全体が傾いていたり、部分的
に曲がっていたり、あるいは、局所的に凹凸がある場合
は、その量が０．０１μｍ以上あると、それがレーザ干
渉計の計測値として取り込まれて、計測誤差の原因とな
っていた。
【０００５】ところで、近年の半導体集積回路の製造工
程では、集積化が進むにつれて回路パターンが微細化す
るため、回路素子のレイヤー（層）間の重ね合わせ精度
を高める必要がある。しかし、この重ね合わせ精度に最
も大きく影響する要因の一つとしては、ウエハ上のショ
ット領域の配列精度があげられる。このショット領域の
配列精度は、上記したレーザ干渉計に計測誤差がある
と、この誤差に基づいてショット領域が位置決めされる
ため、配列精度が劣化するという不都合があった。
程では、集積化が進むにつれて回路パターンが微細化す
るため、回路素子のレイヤー（層）間の重ね合わせ精度
を高める必要がある。しかし、この重ね合わせ精度に最
も大きく影響する要因の一つとしては、ウエハ上のショ
ット領域の配列精度があげられる。このショット領域の
配列精度は、上記したレーザ干渉計に計測誤差がある
と、この誤差に基づいてショット領域が位置決めされる
ため、配列精度が劣化するという不都合があった。
【０００６】そこで、従来ではこの問題に対処するた
め、予め移動鏡の真直度誤差をウエハステージの位置に
応じて求めた結果を真直度誤差マップとし、これに基づ
いてウエハステージの位置を補正する技術が実開昭５９
ー９８４４６号公報等で開示されている。
め、予め移動鏡の真直度誤差をウエハステージの位置に
応じて求めた結果を真直度誤差マップとし、これに基づ
いてウエハステージの位置を補正する技術が実開昭５９
ー９８４４６号公報等で開示されている。
【０００７】この従来技術は、２次元平面内で直交する
Ｘ軸，Ｙ軸方向に移動可能なウエハステージに対して、
Ｘ軸，Ｙ軸方向からウエハステージの座標位置を計測す
るために、２つの測長軸を所定間隔ｄだけ離したレーザ
干渉計がそれぞれ配置されている。そして、ウエハステ
ージのＸ軸方向に延設された移動鏡の真直度誤差を測定
する場合は、ウエハステージのＹ軸方向の位置を一定に
保ちつつ、Ｘ軸方向に間隔ｄづつ順次ステップ移動させ
て、Ｙ軸方向に設けられた２つのレーザ干渉計で変位量
を測定して、ウエハステージのＸ軸方向に延設された移
動鏡の間隔ｄ毎の離散的な形状誤差データを求めること
ができる。また、これと同時に各ステップ毎にＸ軸方向
に設けられた２つのレーザ干渉計の測長軸の差分データ
を求めることによって、ウエハステージのヨーイング変
化量を測定する。そして、前記ウエハステージのＸ軸方
向に延設された移動鏡の間隔ｄ毎の形状誤差を前記ヨー
イング変化量を用いて補正することにより、Ｘ軸方向に
延設された移動鏡の真直度誤差を求めることができる。
Ｘ軸，Ｙ軸方向に移動可能なウエハステージに対して、
Ｘ軸，Ｙ軸方向からウエハステージの座標位置を計測す
るために、２つの測長軸を所定間隔ｄだけ離したレーザ
干渉計がそれぞれ配置されている。そして、ウエハステ
ージのＸ軸方向に延設された移動鏡の真直度誤差を測定
する場合は、ウエハステージのＹ軸方向の位置を一定に
保ちつつ、Ｘ軸方向に間隔ｄづつ順次ステップ移動させ
て、Ｙ軸方向に設けられた２つのレーザ干渉計で変位量
を測定して、ウエハステージのＸ軸方向に延設された移
動鏡の間隔ｄ毎の離散的な形状誤差データを求めること
ができる。また、これと同時に各ステップ毎にＸ軸方向
に設けられた２つのレーザ干渉計の測長軸の差分データ
を求めることによって、ウエハステージのヨーイング変
化量を測定する。そして、前記ウエハステージのＸ軸方
向に延設された移動鏡の間隔ｄ毎の形状誤差を前記ヨー
イング変化量を用いて補正することにより、Ｘ軸方向に
延設された移動鏡の真直度誤差を求めることができる。
【０００８】他方のウエハステージのＹ軸方向に延設さ
れた移動鏡の真直度誤差を測定する場合は、上記Ｘ軸方
向に延設されたＹ側の移動鏡の場合と比べると、ＸとＹ
とが丁度逆になり、ウエハステージをＹ方向に間隔ｄづ
つ順次ステップ移動させながらＹ軸方向に延設された移
動鏡の間隔ｄ毎の離散的な形状誤差データを測定すると
ともに、Ｙ軸方向に設けられた２つのレーザ干渉計の差
分データをとってヨーイング変化量を測定し、Ｙ軸方向
に延設された移動鏡の形状誤差を補正することにより、
Ｙ軸方向に延設された移動鏡の真直度誤差を求めること
ができる。
れた移動鏡の真直度誤差を測定する場合は、上記Ｘ軸方
向に延設されたＹ側の移動鏡の場合と比べると、ＸとＹ
とが丁度逆になり、ウエハステージをＹ方向に間隔ｄづ
つ順次ステップ移動させながらＹ軸方向に延設された移
動鏡の間隔ｄ毎の離散的な形状誤差データを測定すると
ともに、Ｙ軸方向に設けられた２つのレーザ干渉計の差
分データをとってヨーイング変化量を測定し、Ｙ軸方向
に延設された移動鏡の形状誤差を補正することにより、
Ｙ軸方向に延設された移動鏡の真直度誤差を求めること
ができる。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来の移動鏡の真直度誤差補正方法にあっては、測長
軸間隔ｄ毎の移動鏡の真直度誤差を測定することはでき
るが、原理的にレーザ干渉計の測長軸間隔ｄの間の真直
度誤差まで測定することができないという不都合があっ
た。
た従来の移動鏡の真直度誤差補正方法にあっては、測長
軸間隔ｄ毎の移動鏡の真直度誤差を測定することはでき
るが、原理的にレーザ干渉計の測長軸間隔ｄの間の真直
度誤差まで測定することができないという不都合があっ
た。
【００１０】通常、ウエハステージの移動量を測定する
場合、レーザ干渉計の構成は、偏光ビームスプリッタ側
にコーナキューブ・プリズムを設置してダブルパス（光
路を２回折り返す系）とすることにより、ステージに角
度変化があったとしても正しい位置測定が行えるように
なっている。このように光学系をダブルパスで構成した
場合は、平行設置された２つのレーザ干渉計の測長軸間
隔ｄも光学部品の制約などから少なくとも３０ｍｍ以上
となるため、真直度誤差も３０ｍｍ以上の間隔でしか測
定できなかった。
場合、レーザ干渉計の構成は、偏光ビームスプリッタ側
にコーナキューブ・プリズムを設置してダブルパス（光
路を２回折り返す系）とすることにより、ステージに角
度変化があったとしても正しい位置測定が行えるように
なっている。このように光学系をダブルパスで構成した
場合は、平行設置された２つのレーザ干渉計の測長軸間
隔ｄも光学部品の制約などから少なくとも３０ｍｍ以上
となるため、真直度誤差も３０ｍｍ以上の間隔でしか測
定できなかった。
【００１１】そこで、２つの測長軸を有するレーザ干渉
計を用いた移動鏡の真直度誤差の測定では、移動鏡を測
長軸間隔以下（例えば、１５ｍｍ）の間隔で移動させれ
ば、その測長軸間隔（例えば、３０ｍｍ）の間の真直度
誤差も測定可能なように思われる。しかし、測長軸の測
定点が重なるように測長軸間隔で移動鏡を移動させて変
位量を測定する場合は、前後の測定値が関連性を持って
いるため、移動鏡の反射面の形状を示す真直度誤差を得
ることができるが、上記したように測長軸間隔以下で移
動鏡を移動させて変位量を測定する場合は、測定点同士
が重ならず、前後の測定値間に関連性がなくなるため、
移動鏡の反射面の真直度誤差が得られなくなる。したが
って、移動鏡の真直度誤差の測定は、上記の測長軸間隔
に制約されることになる。
計を用いた移動鏡の真直度誤差の測定では、移動鏡を測
長軸間隔以下（例えば、１５ｍｍ）の間隔で移動させれ
ば、その測長軸間隔（例えば、３０ｍｍ）の間の真直度
誤差も測定可能なように思われる。しかし、測長軸の測
定点が重なるように測長軸間隔で移動鏡を移動させて変
位量を測定する場合は、前後の測定値が関連性を持って
いるため、移動鏡の反射面の形状を示す真直度誤差を得
ることができるが、上記したように測長軸間隔以下で移
動鏡を移動させて変位量を測定する場合は、測定点同士
が重ならず、前後の測定値間に関連性がなくなるため、
移動鏡の反射面の真直度誤差が得られなくなる。したが
って、移動鏡の真直度誤差の測定は、上記の測長軸間隔
に制約されることになる。
【００１２】もちろん、集積度のあまり高くない従来の
半導体集積回路を製造する場合は、重ね合せ精度の観点
から見てこの程度（３０ｍｍ）の間隔でも十分であった
が、最近の投影露光装置のようにハーフミクロン以下の
オーダの回路線幅に対応する必要がある場合は、十分な
精度が確保できなくなるという不都合があった。
半導体集積回路を製造する場合は、重ね合せ精度の観点
から見てこの程度（３０ｍｍ）の間隔でも十分であった
が、最近の投影露光装置のようにハーフミクロン以下の
オーダの回路線幅に対応する必要がある場合は、十分な
精度が確保できなくなるという不都合があった。
【００１３】また、従来の移動鏡の真直度誤差補正方法
では、上記した事情による移動鏡の製造工程において、
３０ｍｍ以下のうねり等の鏡面の加工誤差をできるだけ
小さくする必要があるが、鏡面加工の特性上、高い空間
周波数の凹凸やうねりの振幅を小さくしつつ、移動鏡全
体に渡っても高い精度を維持するような加工を行うこと
は困難である。
では、上記した事情による移動鏡の製造工程において、
３０ｍｍ以下のうねり等の鏡面の加工誤差をできるだけ
小さくする必要があるが、鏡面加工の特性上、高い空間
周波数の凹凸やうねりの振幅を小さくしつつ、移動鏡全
体に渡っても高い精度を維持するような加工を行うこと
は困難である。
【００１４】このように、従来の投影露光装置では、移
動鏡の真直度誤差を補正したとしても、移動鏡自体の製
造工程において真直度誤差を補正しない場合と同様に高
精度な加工が要求されることから、鏡面加工に多大の時
間を要し、高コストになるという問題があった。
動鏡の真直度誤差を補正したとしても、移動鏡自体の製
造工程において真直度誤差を補正しない場合と同様に高
精度な加工が要求されることから、鏡面加工に多大の時
間を要し、高コストになるという問題があった。
【００１５】本発明は、かかる従来技術の有する不都合
に鑑みてなされたものであり、その目的は、移動鏡の固
定後の変形成分とともに、移動鏡自体の加工誤差に由来
するレーザ干渉計の測長軸間隔以下の凹凸やうねり成分
についても真直度誤差の補正が可能な移動鏡の真直度誤
差補正方法及びこの補正方法が適用されるステージ装置
を提供することにある。
に鑑みてなされたものであり、その目的は、移動鏡の固
定後の変形成分とともに、移動鏡自体の加工誤差に由来
するレーザ干渉計の測長軸間隔以下の凹凸やうねり成分
についても真直度誤差の補正が可能な移動鏡の真直度誤
差補正方法及びこの補正方法が適用されるステージ装置
を提供することにある。
【００１６】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、２次元平面内で第１軸方向とこれに直交する第２軸
方向とに沿って移動可能なステージに設けられた前記１
軸方向に伸びる移動鏡の真直度誤差補正方法であって、
前記移動鏡を前記ステージに取り付けるに先だって、前
記移動鏡の反射面の形状誤差を測定し、このデータを当
該移動鏡の一端からの距離の関数データとしてメモリに
格納する第１工程と；前記移動鏡をステージに取り付け
後、前記ステージを前記移動鏡の延設方向にほぼ一致す
る第１軸方向に沿って移動しつつ、前記ステージの前記
第２軸方向の位置を計測するために前記第１軸方向に所
定間隔隔てた少なくとも２つの測長軸を有するレーザ干
渉計を用いて前記移動鏡の反射面の測長軸間隔毎の離散
的な形状誤差を計測し、この形状誤差データをメモリに
格納する第２工程と；前記第２工程でメモリに格納され
た前記移動鏡反射面の測長軸間隔毎の離散的な形状誤差
データと、前記第１工程でメモリに格納された移動鏡の
一端からの距離の関数データとを、前記測長軸の位置と
前記移動鏡の取付位置の相対的な関係に基づいて合成す
ることにより、前記移動鏡の真直度誤差補正のための連
続的な補正データを作成する第３工程とを含む。
は、２次元平面内で第１軸方向とこれに直交する第２軸
方向とに沿って移動可能なステージに設けられた前記１
軸方向に伸びる移動鏡の真直度誤差補正方法であって、
前記移動鏡を前記ステージに取り付けるに先だって、前
記移動鏡の反射面の形状誤差を測定し、このデータを当
該移動鏡の一端からの距離の関数データとしてメモリに
格納する第１工程と；前記移動鏡をステージに取り付け
後、前記ステージを前記移動鏡の延設方向にほぼ一致す
る第１軸方向に沿って移動しつつ、前記ステージの前記
第２軸方向の位置を計測するために前記第１軸方向に所
定間隔隔てた少なくとも２つの測長軸を有するレーザ干
渉計を用いて前記移動鏡の反射面の測長軸間隔毎の離散
的な形状誤差を計測し、この形状誤差データをメモリに
格納する第２工程と；前記第２工程でメモリに格納され
た前記移動鏡反射面の測長軸間隔毎の離散的な形状誤差
データと、前記第１工程でメモリに格納された移動鏡の
一端からの距離の関数データとを、前記測長軸の位置と
前記移動鏡の取付位置の相対的な関係に基づいて合成す
ることにより、前記移動鏡の真直度誤差補正のための連
続的な補正データを作成する第３工程とを含む。
【００１７】これによれば、ステージ取り付け前の移動
鏡の製造加工時に生じた反射面全体の形状誤差は、予め
測定しておいて、その測定データを移動鏡の一端からの
距離の関数データとしてメモリに格納する。次に、ステ
ージに固定された後の移動鏡は、固定時に加わる応力に
よって変形するため、２つの測長軸を有するレーザ干渉
計を用いてステージ取り付け後の移動鏡の測長軸間隔毎
の離散的な形状誤差データが測定されて、メモリに格納
される。そして、メモリに格納された移動鏡反射面の測
長軸間隔毎の離散的な形状誤差データと、移動鏡の一端
からの距離の関数データとを、測長軸の位置と移動鏡の
取付位置の相対的な関係に基づいて合成することによ
り、ステージ取り付け後の離散的な形状誤差データがス
テージ取り付け前の連続的な形状誤差データで補間さ
れ、移動鏡の真直度誤差の最終的な補正データを作成す
ることができる。
鏡の製造加工時に生じた反射面全体の形状誤差は、予め
測定しておいて、その測定データを移動鏡の一端からの
距離の関数データとしてメモリに格納する。次に、ステ
ージに固定された後の移動鏡は、固定時に加わる応力に
よって変形するため、２つの測長軸を有するレーザ干渉
計を用いてステージ取り付け後の移動鏡の測長軸間隔毎
の離散的な形状誤差データが測定されて、メモリに格納
される。そして、メモリに格納された移動鏡反射面の測
長軸間隔毎の離散的な形状誤差データと、移動鏡の一端
からの距離の関数データとを、測長軸の位置と移動鏡の
取付位置の相対的な関係に基づいて合成することによ
り、ステージ取り付け後の離散的な形状誤差データがス
テージ取り付け前の連続的な形状誤差データで補間さ
れ、移動鏡の真直度誤差の最終的な補正データを作成す
ることができる。
【００１８】請求項２に記載の発明は、請求項１に記載
の発明において、第２工程で前記ステージを移動させる
際に、前記ステージの回転方向の変化量を計測するとと
もに、前記レーザ干渉計により計測された前記移動鏡の
反射面の測長軸間隔毎の離散的な形状誤差から前記計測
された回転方向の変化量成分を引いた値をメモリに格納
することを特徴とする。
の発明において、第２工程で前記ステージを移動させる
際に、前記ステージの回転方向の変化量を計測するとと
もに、前記レーザ干渉計により計測された前記移動鏡の
反射面の測長軸間隔毎の離散的な形状誤差から前記計測
された回転方向の変化量成分を引いた値をメモリに格納
することを特徴とする。
【００１９】これによれば、第２工程において、ステー
ジを移動させる際のステージの回転方向の変化量を計測
し、レーザ干渉計により計測された移動鏡の反射面の測
長軸間隔毎の離散的な形状誤差から回転方向の変化量成
分を引いた値をメモリに格納することから、ステージの
回転方向の変化量（ヨーイング）による誤差が修正さ
れ、より正確な補正データを作成することができる。
ジを移動させる際のステージの回転方向の変化量を計測
し、レーザ干渉計により計測された移動鏡の反射面の測
長軸間隔毎の離散的な形状誤差から回転方向の変化量成
分を引いた値をメモリに格納することから、ステージの
回転方向の変化量（ヨーイング）による誤差が修正さ
れ、より正確な補正データを作成することができる。
【００２０】請求項３に記載の発明は、請求項１又は２
に記載の発明において、第２工程のレーザ干渉計による
前記移動鏡の形状誤差の計測は、各測長軸位置での測長
データの差分を計測することを特徴とする。
に記載の発明において、第２工程のレーザ干渉計による
前記移動鏡の形状誤差の計測は、各測長軸位置での測長
データの差分を計測することを特徴とする。
【００２１】これによれば、第２工程における移動鏡の
形状誤差の計測は、各測長軸位置での測長データの差分
をレーザ干渉計により計測して順次積算することから、
ステージに取り付けた後の移動鏡の測長軸間隔毎の変位
量を形状誤差データとして０．０１μｍ程度と超精密に
計測することができる。
形状誤差の計測は、各測長軸位置での測長データの差分
をレーザ干渉計により計測して順次積算することから、
ステージに取り付けた後の移動鏡の測長軸間隔毎の変位
量を形状誤差データとして０．０１μｍ程度と超精密に
計測することができる。
【００２２】請求項４に記載の発明は、請求項２に記載
の発明において、第２工程におけるステージの回転方向
の変化量は、前記ステージの前記第１軸方向の位置を計
測するために少なくとも２つの測長軸を有するレーザ干
渉計の各測長軸における測定データの差分に基づいて測
定されることを特徴とする。
の発明において、第２工程におけるステージの回転方向
の変化量は、前記ステージの前記第１軸方向の位置を計
測するために少なくとも２つの測長軸を有するレーザ干
渉計の各測長軸における測定データの差分に基づいて測
定されることを特徴とする。
【００２３】これによれば、第２工程におけるステージ
の回転方向の変化量は、第１軸方向の位置を計測する少
なくとも２つの測長軸を有するレーザ干渉計の各測長軸
の差分を０．０１μｍ程度の精度で計測して、これを角
度成分に変換することにより回転方向の変化量を精密に
測定することができる。
の回転方向の変化量は、第１軸方向の位置を計測する少
なくとも２つの測長軸を有するレーザ干渉計の各測長軸
の差分を０．０１μｍ程度の精度で計測して、これを角
度成分に変換することにより回転方向の変化量を精密に
測定することができる。
【００２４】請求項５に記載の発明は、請求項１ないし
４のいずれか一項に記載の発明において、第１工程で反
射面の形状誤差はフィゾー干渉計を用いて測定すること
を特徴とする。
４のいずれか一項に記載の発明において、第１工程で反
射面の形状誤差はフィゾー干渉計を用いて測定すること
を特徴とする。
【００２５】これによれば、フィゾー干渉計を用いたこ
とにより、トワイマン・グリーン干渉計（ Twyman-Gree
n interferometer）等と比べると、より少ない光学部品
で、より高精度に面形状データを測定することができ
る。
とにより、トワイマン・グリーン干渉計（ Twyman-Gree
n interferometer）等と比べると、より少ない光学部品
で、より高精度に面形状データを測定することができ
る。
【００２６】請求項６に記載の発明は、２次元平面内で
第１軸方向とこれに直交する第２軸方向とに沿って移動
可能なステージと；前記ステージの前記第１軸方向に沿
って延設された移動鏡と；前記移動鏡に前記第１軸方向
に所定間隔を隔てて少なくとも２軸の測長ビームを照射
するレーザ干渉計と；前記移動鏡のステージへの取り付
け前に測定された前記移動鏡の反射面の形状誤差データ
が移動鏡の一端からの距離の関数データとして記憶され
た記憶手段と；前記ステージを前記移動鏡の延設方向に
ほぼ一致する前記第１軸方向に沿って移動しつつ、前記
レーザ干渉計の出力に基づいて前記測長軸間隔毎の離散
的な形状誤差データを測定するとともに、該離散的な形
状誤差データと、前記記憶手段に記憶された関数データ
とを、前記測長軸の位置と前記移動鏡の取付位置の相対
的な関係に基づいて合成して前記移動鏡の真直度誤差補
正のための連続的な補正データを作成する補正データ作
成手段とを有する。
第１軸方向とこれに直交する第２軸方向とに沿って移動
可能なステージと；前記ステージの前記第１軸方向に沿
って延設された移動鏡と；前記移動鏡に前記第１軸方向
に所定間隔を隔てて少なくとも２軸の測長ビームを照射
するレーザ干渉計と；前記移動鏡のステージへの取り付
け前に測定された前記移動鏡の反射面の形状誤差データ
が移動鏡の一端からの距離の関数データとして記憶され
た記憶手段と；前記ステージを前記移動鏡の延設方向に
ほぼ一致する前記第１軸方向に沿って移動しつつ、前記
レーザ干渉計の出力に基づいて前記測長軸間隔毎の離散
的な形状誤差データを測定するとともに、該離散的な形
状誤差データと、前記記憶手段に記憶された関数データ
とを、前記測長軸の位置と前記移動鏡の取付位置の相対
的な関係に基づいて合成して前記移動鏡の真直度誤差補
正のための連続的な補正データを作成する補正データ作
成手段とを有する。
【００２７】これによれば、補正データ作成手段は、移
動鏡の延設方向とほぼ一致する第１軸（例えば、Ｘ軸）
方向に沿ってステージを移動しながら、第１軸方向に所
定間隔を隔てて少なくとも２軸の測長ビームを照射する
レーザ干渉計の出力に基づいて測長軸間隔毎の離散的な
形状誤差データを測定し、その離散的な形状誤差データ
と記憶手段に記憶された関数データとを測長軸位置と移
動鏡の取付位置の相対的な関係に基づいて合成すること
により、移動鏡の真直度誤差を補正するための連続的な
補正データを作成する。
動鏡の延設方向とほぼ一致する第１軸（例えば、Ｘ軸）
方向に沿ってステージを移動しながら、第１軸方向に所
定間隔を隔てて少なくとも２軸の測長ビームを照射する
レーザ干渉計の出力に基づいて測長軸間隔毎の離散的な
形状誤差データを測定し、その離散的な形状誤差データ
と記憶手段に記憶された関数データとを測長軸位置と移
動鏡の取付位置の相対的な関係に基づいて合成すること
により、移動鏡の真直度誤差を補正するための連続的な
補正データを作成する。
【００２８】このように本発明では、ステージ取り付け
後の移動鏡の反射面に対してレーザ干渉計による少なく
とも２軸の測長軸間隔毎に測定した離散的な形状誤差デ
ータを、ステージ取り付け前に測定された移動鏡の反射
面の形状誤差データを用いて補間することにより、ステ
ージ取り付け後の移動鏡の真直度誤差の補正に必要な補
正データを得ることができる。
後の移動鏡の反射面に対してレーザ干渉計による少なく
とも２軸の測長軸間隔毎に測定した離散的な形状誤差デ
ータを、ステージ取り付け前に測定された移動鏡の反射
面の形状誤差データを用いて補間することにより、ステ
ージ取り付け後の移動鏡の真直度誤差の補正に必要な補
正データを得ることができる。
【００２９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態を図１
ないし図５に基づいて説明する。
ないし図５に基づいて説明する。
【００３０】図１には、一実施形態に係るステップアン
ドリピート方式の露光装置１０の構成が概略的に示され
ている。この露光装置１０は、光源１２を含む照明系、
レチクルＲが載置されるレチクルステージＲＳ、レチク
ルＲに形成された回路パターンを感光基板としてのウエ
ハＷ上に所定の縮小倍率で投影露光する投影光学系Ｐ
Ｌ、ウエハＷが搭載されたウエハステージ１４、ウエハ
ステージ１４を水平面内で移動させるウエハステージ駆
動系１６、このウエハステージ駆動系１６等を始めとし
て装置全体を統括的に制御する主制御部１８、ウエハス
テージ１４の座標位置を測定するレーザ干渉計２６、ウ
エハステージ１４上に固定されレーザ干渉計２６からの
光ビーム（測長ビーム）を反射する移動鏡２８、メモリ
３０、ウエハアライメント顕微鏡３２等を備えている。
ドリピート方式の露光装置１０の構成が概略的に示され
ている。この露光装置１０は、光源１２を含む照明系、
レチクルＲが載置されるレチクルステージＲＳ、レチク
ルＲに形成された回路パターンを感光基板としてのウエ
ハＷ上に所定の縮小倍率で投影露光する投影光学系Ｐ
Ｌ、ウエハＷが搭載されたウエハステージ１４、ウエハ
ステージ１４を水平面内で移動させるウエハステージ駆
動系１６、このウエハステージ駆動系１６等を始めとし
て装置全体を統括的に制御する主制御部１８、ウエハス
テージ１４の座標位置を測定するレーザ干渉計２６、ウ
エハステージ１４上に固定されレーザ干渉計２６からの
光ビーム（測長ビーム）を反射する移動鏡２８、メモリ
３０、ウエハアライメント顕微鏡３２等を備えている。
【００３１】前記照明系は、水銀ランプから成る光源１
２、楕円鏡２０及び照明光学系２２を備えている。ま
た、照明光学系２２は、図では単一のレンズ２４のみを
含んで構成されているが、実際には、フライアイレン
ズ、リレーレンズ、コンデンサレンズ等の各種レンズを
含み、図ではこれらのレンズがレンズ２４で代表的に示
されている。この他、不図示のシャッタ、視野絞り、ブ
ラインド等をも備えている。従って、光源１２から発せ
られた露光光は楕円鏡２０で第二焦点に集光された後、
照明光学系２２を通る間に光束の一様化、スペックルの
低減化等が行なわれ、照明光としてレチクルＲのパター
ン面ＰＡを照明する。
２、楕円鏡２０及び照明光学系２２を備えている。ま
た、照明光学系２２は、図では単一のレンズ２４のみを
含んで構成されているが、実際には、フライアイレン
ズ、リレーレンズ、コンデンサレンズ等の各種レンズを
含み、図ではこれらのレンズがレンズ２４で代表的に示
されている。この他、不図示のシャッタ、視野絞り、ブ
ラインド等をも備えている。従って、光源１２から発せ
られた露光光は楕円鏡２０で第二焦点に集光された後、
照明光学系２２を通る間に光束の一様化、スペックルの
低減化等が行なわれ、照明光としてレチクルＲのパター
ン面ＰＡを照明する。
【００３２】レチクルステージＲＳ上には、レチクルＲ
が保持されている。このレチクルＲのパターン面ＰＡに
は、前述した回路パターンが描画されている。
が保持されている。このレチクルＲのパターン面ＰＡに
は、前述した回路パターンが描画されている。
【００３３】前記投影光学系ＰＬは、光軸ＡＸを共通に
する当該光軸ＡＸ方向（図１のＺ軸方向）に沿って所定
間隔で配置された複数枚のレンズエレメント（いずれも
図示せず）とこれらのレンズエレメントを保持する鏡筒
とを備えている。
する当該光軸ＡＸ方向（図１のＺ軸方向）に沿って所定
間隔で配置された複数枚のレンズエレメント（いずれも
図示せず）とこれらのレンズエレメントを保持する鏡筒
とを備えている。
【００３４】ウエハステージ１４は、ウエハステージ駆
動系１６によって、水平面内でＸ軸方向（図１の紙面平
行方向）とＹ軸方向（図１の紙面直交方向）の２次元方
向に駆動される。また、このウエハステージ１４上に
は、所定の長さの平面鏡からなる移動鏡２８が設けら
れ、この移動鏡に光ビームを投射するレーザ干渉計によ
って、ウエハステージ１４の位置が計測されている。
動系１６によって、水平面内でＸ軸方向（図１の紙面平
行方向）とＹ軸方向（図１の紙面直交方向）の２次元方
向に駆動される。また、このウエハステージ１４上に
は、所定の長さの平面鏡からなる移動鏡２８が設けら
れ、この移動鏡に光ビームを投射するレーザ干渉計によ
って、ウエハステージ１４の位置が計測されている。
【００３５】ここで、実際には移動鏡は、ステージ１４
のＸ軸方向位置計測用の移動鏡２８Ａと、Ｙ軸方向の位
置計測用の移動鏡２８Ｂとが設けられ、また、レーザ干
渉計もＸ軸方向位置計測用のレーザ干渉計２６Ａ，２６
Ｂと、Ｙ軸方向位置計測用のレーザ干渉計２６Ｃ，２６
Ｄとが設けられているが、図１では、これらを代表し
て、移動鏡２８、レーザ干渉計２６として表わされてい
る（図２参照）。なお、これらの移動鏡、レーザ干渉計
の配置等については、後に詳述する。
のＸ軸方向位置計測用の移動鏡２８Ａと、Ｙ軸方向の位
置計測用の移動鏡２８Ｂとが設けられ、また、レーザ干
渉計もＸ軸方向位置計測用のレーザ干渉計２６Ａ，２６
Ｂと、Ｙ軸方向位置計測用のレーザ干渉計２６Ｃ，２６
Ｄとが設けられているが、図１では、これらを代表し
て、移動鏡２８、レーザ干渉計２６として表わされてい
る（図２参照）。なお、これらの移動鏡、レーザ干渉計
の配置等については、後に詳述する。
【００３６】主制御部１８は、制御プログラムが格納さ
れたＲＯＭ（Reed Only Memory）、制御動作に必要なワ
ークエリア等が形成されたＲＡＭ（Random Access Memo
ry）、及びこれらのメモリを用いて露光装置１０全体の
動作を制御するＣＰＵ（Central Processing Unit）等
を含むマイクロコンピュータ（又はミニコンピュータ）
から成り、この主制御部１８にはさらに外部記憶手段と
してのメモリ３０が接続されている。
れたＲＯＭ（Reed Only Memory）、制御動作に必要なワ
ークエリア等が形成されたＲＡＭ（Random Access Memo
ry）、及びこれらのメモリを用いて露光装置１０全体の
動作を制御するＣＰＵ（Central Processing Unit）等
を含むマイクロコンピュータ（又はミニコンピュータ）
から成り、この主制御部１８にはさらに外部記憶手段と
してのメモリ３０が接続されている。
【００３７】メモリ３０には、本実施形態では後述する
フィゾー干渉計で測定されたステージ取り付け前の移動
鏡２８（移動鏡２８Ａ，２８Ｂ）の反射面の面形状デー
タ、その他、移動鏡の真直度誤差補正のためのデータを
作成するのに必要な演算データ等が格納されている。
フィゾー干渉計で測定されたステージ取り付け前の移動
鏡２８（移動鏡２８Ａ，２８Ｂ）の反射面の面形状デー
タ、その他、移動鏡の真直度誤差補正のためのデータを
作成するのに必要な演算データ等が格納されている。
【００３８】ウエハアライメント顕微鏡３２は、ウエハ
ステージ１４に載置されたウエハＷに形成された位置合
わせマーク（アライメントマーク）を検出するもので、
その検出結果は、主制御部１８に入力される。
ステージ１４に載置されたウエハＷに形成された位置合
わせマーク（アライメントマーク）を検出するもので、
その検出結果は、主制御部１８に入力される。
【００３９】図２には、図１のウエハステージ１４近傍
の平面図が示されている。この図２において、図２のウ
エハステージ１４は、２次元平面上で直交するＸ軸方向
（紙面の左右方向）とＹ軸方向（紙面の上下方向）の２
軸方向に移動可能とされ、このウエハステージ１４上面
のＸ軸方向の一端部には、Ｘ軸方向位置計測用の移動鏡
２８ＡがＹ軸方向に延設され、また、Ｙ軸方向の一端部
には、Ｙ軸方向位置計測用の移動鏡２８ＢがＸ軸方向に
延設されている。
の平面図が示されている。この図２において、図２のウ
エハステージ１４は、２次元平面上で直交するＸ軸方向
（紙面の左右方向）とＹ軸方向（紙面の上下方向）の２
軸方向に移動可能とされ、このウエハステージ１４上面
のＸ軸方向の一端部には、Ｘ軸方向位置計測用の移動鏡
２８ＡがＹ軸方向に延設され、また、Ｙ軸方向の一端部
には、Ｙ軸方向位置計測用の移動鏡２８ＢがＸ軸方向に
延設されている。
【００４０】Ｘ軸方向位置計測用の移動鏡２８Ａに対向
して、Ｘ軸方向位置計測用のレーザ干渉計２６Ａ，２６
Ｂが配置され、これらの干渉計２６Ａ，２６Ｂから移動
鏡２８Ａに対し、Ｘ軸方向の測長ビームＬＢ１，ＬＢ２
が投射されている。これらの測長ビームＬＢ１，ＬＢ２
の間隔は、距離ｄとされている。
して、Ｘ軸方向位置計測用のレーザ干渉計２６Ａ，２６
Ｂが配置され、これらの干渉計２６Ａ，２６Ｂから移動
鏡２８Ａに対し、Ｘ軸方向の測長ビームＬＢ１，ＬＢ２
が投射されている。これらの測長ビームＬＢ１，ＬＢ２
の間隔は、距離ｄとされている。
【００４１】なお、レーザ干渉計２６Ａ，２６Ｂによる
移動鏡２８Ａの位置計測は、実際にはウエハステージ１
４に固定された移動鏡２８Ａと、基準位置に取り付けら
れた固定鏡に光ビームを照射し、その反射光を合成する
ことによって生じる干渉縞をカウントして、基準位置に
対する変位量の測定を行なっているが、図２では、固定
鏡は図示省略されている。そして、ウエハステージのＸ
軸方向の位置（座標位置）は、レーザ干渉計２６Ａ，２
６Ｂで計測された距離の平均値で与えられる。
移動鏡２８Ａの位置計測は、実際にはウエハステージ１
４に固定された移動鏡２８Ａと、基準位置に取り付けら
れた固定鏡に光ビームを照射し、その反射光を合成する
ことによって生じる干渉縞をカウントして、基準位置に
対する変位量の測定を行なっているが、図２では、固定
鏡は図示省略されている。そして、ウエハステージのＸ
軸方向の位置（座標位置）は、レーザ干渉計２６Ａ，２
６Ｂで計測された距離の平均値で与えられる。
【００４２】同様に、Ｙ軸方向位置計測用の移動鏡２８
Ｂに対向して、Ｙ軸方向位置計測用のレーザ干渉計２６
Ｃ，２６Ｄが配置され、これらの干渉計２６Ｃ，２６Ｄ
から移動鏡２８Ｂに対し、Ｙ軸方向の測長ビームＬＢ
３，ＬＢ４が投射されている。これらの測長ビームＬＢ
３，ＬＢ４の間隔は、距離ｄとされている。
Ｂに対向して、Ｙ軸方向位置計測用のレーザ干渉計２６
Ｃ，２６Ｄが配置され、これらの干渉計２６Ｃ，２６Ｄ
から移動鏡２８Ｂに対し、Ｙ軸方向の測長ビームＬＢ
３，ＬＢ４が投射されている。これらの測長ビームＬＢ
３，ＬＢ４の間隔は、距離ｄとされている。
【００４３】なお、レーザ干渉計２６Ｃ，２６Ｄによる
移動鏡２８Ｂの位置計測は、上記のレーザ干渉計２６
Ａ，２６Ｂの場合と同様に、不図示の基準位置に取り付
けられた固定鏡との間で生じる干渉縞をカウントし、基
準位置に対する変位量を測定することにより行なわれて
いる。そして、ウエハステージのＹ軸方向の位置（座標
位置）は、レーザ干渉計２６Ｃ，２６Ｄで計測された距
離の平均値で与えられる。
移動鏡２８Ｂの位置計測は、上記のレーザ干渉計２６
Ａ，２６Ｂの場合と同様に、不図示の基準位置に取り付
けられた固定鏡との間で生じる干渉縞をカウントし、基
準位置に対する変位量を測定することにより行なわれて
いる。そして、ウエハステージのＹ軸方向の位置（座標
位置）は、レーザ干渉計２６Ｃ，２６Ｄで計測された距
離の平均値で与えられる。
【００４４】また、上記レーザ干渉計２６Ａ，２６Ｂ、
及び２６Ｃ，２６Ｄを用いてウエハステージ１４のヨー
イング変化量を求める場合は、レーザ干渉計２６Ａと２
６Ｂの差分、及びレーザ干渉計２６Ｃと２６Ｄの差分の
平均値をとることによって行なわれる。
及び２６Ｃ，２６Ｄを用いてウエハステージ１４のヨー
イング変化量を求める場合は、レーザ干渉計２６Ａと２
６Ｂの差分、及びレーザ干渉計２６Ｃと２６Ｄの差分の
平均値をとることによって行なわれる。
【００４５】なお、上記したレーザ干渉計２６Ａと２６
Ｂ、及び２６Ｃと２６Ｄは、図２に示されるように、別
々の干渉計で構成してもよいが、２軸の測長軸を有する
干渉計によって、これを構成するようにしてもよい。そ
して、このウエハステージ１４上に搭載されたウエハＷ
は、不図示のウエハホルダにバキューム等により固定さ
れている。
Ｂ、及び２６Ｃと２６Ｄは、図２に示されるように、別
々の干渉計で構成してもよいが、２軸の測長軸を有する
干渉計によって、これを構成するようにしてもよい。そ
して、このウエハステージ１４上に搭載されたウエハＷ
は、不図示のウエハホルダにバキューム等により固定さ
れている。
【００４６】図３には、ウエハステージ取り付け前の移
動鏡２８の反射面全体についての形状誤差を測定するフ
ィゾー干渉計４０の概略図が示されている。このフィゾ
ー干渉計４０は、光源４２、ビームスプリッタ４４、フ
ィゾーレンズ４６、参照面４８及び干渉縞検出部５２な
どを備えている。
動鏡２８の反射面全体についての形状誤差を測定するフ
ィゾー干渉計４０の概略図が示されている。このフィゾ
ー干渉計４０は、光源４２、ビームスプリッタ４４、フ
ィゾーレンズ４６、参照面４８及び干渉縞検出部５２な
どを備えている。
【００４７】具体的には、図３に示すように、フィゾー
干渉計４０の光源４２から発した光は、ビームスプリッ
タ４４を透過してフィゾーレンズ４６で平行光となり、
参照面４８を通って、移動鏡２８の反射面に照射され
る。参照面４８及び移動鏡２８の反射面から反射された
光は、フィゾーレンズ４６を通って集光されながらビー
ムスプリッタ４４で反射されて、干渉縞検出部５２に導
かれる。干渉縞検出部５２では、参照面４８と移動鏡２
８の両方の反射面から反射されて合成された光の干渉縞
を検出して、解析される。これにより、ステージ取り付
け前の移動鏡２８の反射面の連続的な形状を測定するこ
とができる。上記のフィゾー干渉計４０による測定は、
実際には移動鏡２８Ａ，２８Ｂのそれぞれについて行わ
れる。
干渉計４０の光源４２から発した光は、ビームスプリッ
タ４４を透過してフィゾーレンズ４６で平行光となり、
参照面４８を通って、移動鏡２８の反射面に照射され
る。参照面４８及び移動鏡２８の反射面から反射された
光は、フィゾーレンズ４６を通って集光されながらビー
ムスプリッタ４４で反射されて、干渉縞検出部５２に導
かれる。干渉縞検出部５２では、参照面４８と移動鏡２
８の両方の反射面から反射されて合成された光の干渉縞
を検出して、解析される。これにより、ステージ取り付
け前の移動鏡２８の反射面の連続的な形状を測定するこ
とができる。上記のフィゾー干渉計４０による測定は、
実際には移動鏡２８Ａ，２８Ｂのそれぞれについて行わ
れる。
【００４８】次に、本実施形態に係る移動鏡の真直度誤
差の補正データの作成方法について図４及び図５を参照
しながら説明する。
差の補正データの作成方法について図４及び図５を参照
しながら説明する。
【００４９】図４には、移動鏡の真直度誤差を補正する
ための補正データの作成原理を説明する図が示され、同
図（ａ）には、ステージ取り付け前の移動鏡の形状誤差
の測定データが、同図（ｂ）には、ステージ取り付け後
の移動鏡の形状誤差の離散的な測定データが、同図
（ｃ）には、移動鏡の真直度誤差を補正する最終的な補
正データが示されている。なお、図４中の縦方向の６本
の実線の間隔ｄは、Ｘ軸，Ｙ軸方向にそれぞれ設けられ
たレーザ干渉計の測長軸間隔ｄに相当し、また、図４で
は移動鏡の反射面の形状誤差を分かりやすくするために
極端に誇張して表している。
ための補正データの作成原理を説明する図が示され、同
図（ａ）には、ステージ取り付け前の移動鏡の形状誤差
の測定データが、同図（ｂ）には、ステージ取り付け後
の移動鏡の形状誤差の離散的な測定データが、同図
（ｃ）には、移動鏡の真直度誤差を補正する最終的な補
正データが示されている。なお、図４中の縦方向の６本
の実線の間隔ｄは、Ｘ軸，Ｙ軸方向にそれぞれ設けられ
たレーザ干渉計の測長軸間隔ｄに相当し、また、図４で
は移動鏡の反射面の形状誤差を分かりやすくするために
極端に誇張して表している。
【００５０】また、図５には、本実施形態に係る補正デ
ータの作成工程を説明するフローチャートが示されてい
る。
ータの作成工程を説明するフローチャートが示されてい
る。
【００５１】本実施形態では、まず、図１に示される移
動鏡２８をウエハステージ１４に取り付ける前に、反射
面の連続的な形状誤差の測定が行われる（図５のステッ
プ１００参照）。
動鏡２８をウエハステージ１４に取り付ける前に、反射
面の連続的な形状誤差の測定が行われる（図５のステッ
プ１００参照）。
【００５２】具体的には、図３に示されるフィゾー干渉
計４０を用いて、ウエハステージ１４に取り付ける前の
移動鏡２８を測定物体５０の位置でその反射面を紙面の
上方に向け、移動鏡２８を一切拘束せずに重力以外の不
要な外力を加えないようにしてから測定が開始される。
計４０を用いて、ウエハステージ１４に取り付ける前の
移動鏡２８を測定物体５０の位置でその反射面を紙面の
上方に向け、移動鏡２８を一切拘束せずに重力以外の不
要な外力を加えないようにしてから測定が開始される。
【００５３】その結果、上記フィゾー干渉計４０によ
り、図４（ａ）に示されるようなステージ取り付け前の
移動鏡反射面の連続的な形状誤差データを測定すること
ができる。同図（ａ）に示されるように、レーザ干渉計
の測長軸間隔ｄ（ここでは３０ｍｍ）の間には、移動鏡
の製造加工時における高い空間周波数の凹凸やうねり等
が見られることがわかる。このように、移動鏡の反射面
に図４（ａ）に示すような測長軸間隔ｄ以下の高い空間
周波数の凹凸があった場合は、従来技術では計測が不可
能であって、この移動鏡の凹凸を原因とした位置ずれを
補正することができなかった。
り、図４（ａ）に示されるようなステージ取り付け前の
移動鏡反射面の連続的な形状誤差データを測定すること
ができる。同図（ａ）に示されるように、レーザ干渉計
の測長軸間隔ｄ（ここでは３０ｍｍ）の間には、移動鏡
の製造加工時における高い空間周波数の凹凸やうねり等
が見られることがわかる。このように、移動鏡の反射面
に図４（ａ）に示すような測長軸間隔ｄ以下の高い空間
周波数の凹凸があった場合は、従来技術では計測が不可
能であって、この移動鏡の凹凸を原因とした位置ずれを
補正することができなかった。
【００５４】そして、フィゾー干渉計４０によって得ら
れた移動鏡反射面の形状誤差データは、移動鏡２８Ａ，
２８Ｂの一端からの距離の関数として、処理しやすいよ
うに干渉縞検出部５２内のＡ／Ｄ変換器によりデジタル
データ化される。この形状誤差データの横方向の分解能
は、干渉縞検出部５２の分解能で決定されるが、通常、
検出部にＣＣＤカメラ等が用いられるため、横方向は初
めから離散的なデータとなり、分解能は１〜５ｍｍ程度
となる。このようにして得られたステージ固定前の移動
鏡の形状誤差データは、図１に示す露光装置１０の主制
御部１８に接続されたメモリ３０内の真直度誤差テーブ
ルＡに予め格納されている（図５のステップ１０２参
照）。
れた移動鏡反射面の形状誤差データは、移動鏡２８Ａ，
２８Ｂの一端からの距離の関数として、処理しやすいよ
うに干渉縞検出部５２内のＡ／Ｄ変換器によりデジタル
データ化される。この形状誤差データの横方向の分解能
は、干渉縞検出部５２の分解能で決定されるが、通常、
検出部にＣＣＤカメラ等が用いられるため、横方向は初
めから離散的なデータとなり、分解能は１〜５ｍｍ程度
となる。このようにして得られたステージ固定前の移動
鏡の形状誤差データは、図１に示す露光装置１０の主制
御部１８に接続されたメモリ３０内の真直度誤差テーブ
ルＡに予め格納されている（図５のステップ１０２参
照）。
【００５５】以上の工程は、ステージ取り付け前の移動
鏡の反射面の形状誤差を測定し、その測定データを移動
鏡の一端からの関数データとしてメモリに格納する本発
明の第１工程に対応している。
鏡の反射面の形状誤差を測定し、その測定データを移動
鏡の一端からの関数データとしてメモリに格納する本発
明の第１工程に対応している。
【００５６】次に、本実施形態においては、図１に示さ
れるウエハステージ１４に取り付けた後の移動鏡２８の
反射面の形状誤差が、所定間隔毎の離散的な値として測
定される（図５のステップ１０４参照）。
れるウエハステージ１４に取り付けた後の移動鏡２８の
反射面の形状誤差が、所定間隔毎の離散的な値として測
定される（図５のステップ１０４参照）。
【００５７】具体的には、上記のフィゾー干渉計４０で
形状誤差が測定された移動鏡２８Ａ，２８Ｂは、図２に
示されるように、ウエハステージ１４上にＸ軸，Ｙ軸方
向に沿ってそれぞれ延設配置され、固定される。そし
て、ウエハステージ１４に取り付けた後の移動鏡２８
Ａ，２８Ｂの反射面は、取付固定時に加わる応力によっ
て変形し、空間周波数の低いたわみが生じる。このた
め、ステージ取り付け後の移動鏡２８の反射面は、露光
装置１０のレーザ干渉計２６を用いて形状誤差が測定さ
れる。測定に用いられるレーザ干渉計２６（２６Ａと２
６Ｂ、２６Ｃと２６Ｄ）は、測長軸が間隔ｄ（ここでは
３０ｍｍ）だけ離してＸ軸，Ｙ軸方向にそれぞれ２つず
つ平行配置されている。
形状誤差が測定された移動鏡２８Ａ，２８Ｂは、図２に
示されるように、ウエハステージ１４上にＸ軸，Ｙ軸方
向に沿ってそれぞれ延設配置され、固定される。そし
て、ウエハステージ１４に取り付けた後の移動鏡２８
Ａ，２８Ｂの反射面は、取付固定時に加わる応力によっ
て変形し、空間周波数の低いたわみが生じる。このた
め、ステージ取り付け後の移動鏡２８の反射面は、露光
装置１０のレーザ干渉計２６を用いて形状誤差が測定さ
れる。測定に用いられるレーザ干渉計２６（２６Ａと２
６Ｂ、２６Ｃと２６Ｄ）は、測長軸が間隔ｄ（ここでは
３０ｍｍ）だけ離してＸ軸，Ｙ軸方向にそれぞれ２つず
つ平行配置されている。
【００５８】例えば、図２に示されるように、Ｙ軸方向
に面した移動鏡２８Ｂの形状誤差を測定する場合は、Ｙ
軸方向に設けられたレーザ干渉計２６Ｃ，２６Ｄの測長
軸が移動鏡２８Ｂの一端に設けられた基準位置に投射さ
れるようにウエハステージ１４を移動させる。このよう
にして、ウエハステージ１４をウエハステージ駆動系１
６によってＹ軸方向の位置を一定に保ちつつ、Ｘ軸方向
に順次ｄづつステップ移動させながら、ステージ取り付
け後の移動鏡２８Ｂの離散的な変位量をレーザ干渉計２
６Ｃ，２６Ｄにより順次測定する。主制御部１８では、
このレーザ干渉計２６Ｃ，２６Ｄによって測定されたそ
れぞれの測定値の差分をとることによって変位量を測定
する。
に面した移動鏡２８Ｂの形状誤差を測定する場合は、Ｙ
軸方向に設けられたレーザ干渉計２６Ｃ，２６Ｄの測長
軸が移動鏡２８Ｂの一端に設けられた基準位置に投射さ
れるようにウエハステージ１４を移動させる。このよう
にして、ウエハステージ１４をウエハステージ駆動系１
６によってＹ軸方向の位置を一定に保ちつつ、Ｘ軸方向
に順次ｄづつステップ移動させながら、ステージ取り付
け後の移動鏡２８Ｂの離散的な変位量をレーザ干渉計２
６Ｃ，２６Ｄにより順次測定する。主制御部１８では、
このレーザ干渉計２６Ｃ，２６Ｄによって測定されたそ
れぞれの測定値の差分をとることによって変位量を測定
する。
【００５９】上記した移動鏡２８の測長軸間隔ｄ毎の離
散的な変位量の測定は、ウエハステージ１４をＸ軸方向
にステップ移動させながら行われるが、この際にウエハ
ステージ１４にヨーイングが発生するため、そのヨーイ
ングの変化量（回転角）に応じて生じる誤差分を上記測
定値から差し引かなければ、正確な移動鏡の反射面形状
を求めることができない。
散的な変位量の測定は、ウエハステージ１４をＸ軸方向
にステップ移動させながら行われるが、この際にウエハ
ステージ１４にヨーイングが発生するため、そのヨーイ
ングの変化量（回転角）に応じて生じる誤差分を上記測
定値から差し引かなければ、正確な移動鏡の反射面形状
を求めることができない。
【００６０】例えば、Ｙ側の移動鏡２８Ｂの測定値を補
正するヨーイング変化量は、Ｘ軸方向に設けられた２つ
のレーザ干渉計２６Ａ，２６Ｂを用いて求めることがで
きる。すなわち、Ｙ側の移動鏡２８Ｂの形状誤差を測定
する場合は、ウエハステージ１４のＹ軸方向の位置を一
定に保ちながら、Ｘ軸方向に１次元移動させることか
ら、レーザ干渉計２６Ａ，２６Ｂからの光ビームは移動
鏡２８Ａの同一点に投影され続ける。このため、主制御
部１８では、レーザ干渉計２６Ａ，２６Ｂの差分を見る
ことによって、測定点毎のヨーイング変化量を求めるこ
とができる。
正するヨーイング変化量は、Ｘ軸方向に設けられた２つ
のレーザ干渉計２６Ａ，２６Ｂを用いて求めることがで
きる。すなわち、Ｙ側の移動鏡２８Ｂの形状誤差を測定
する場合は、ウエハステージ１４のＹ軸方向の位置を一
定に保ちながら、Ｘ軸方向に１次元移動させることか
ら、レーザ干渉計２６Ａ，２６Ｂからの光ビームは移動
鏡２８Ａの同一点に投影され続ける。このため、主制御
部１８では、レーザ干渉計２６Ａ，２６Ｂの差分を見る
ことによって、測定点毎のヨーイング変化量を求めるこ
とができる。
【００６１】そして、前記測定したＹ側の移動鏡２８Ｂ
の間隔ｄ毎の差分データを上記した測定点毎のヨーイン
グの変化量を用いて補正することにより、ヨーイング量
を含まない真の形状誤差データを求めることができる。
の間隔ｄ毎の差分データを上記した測定点毎のヨーイン
グの変化量を用いて補正することにより、ヨーイング量
を含まない真の形状誤差データを求めることができる。
【００６２】このようにして補正された、形状誤差デー
タを用いて順次積算することにより、図４（ｂ）に示さ
れるようなＹ側の移動鏡２８Ｂの離散的な形状誤差デー
タを求めることができる。
タを用いて順次積算することにより、図４（ｂ）に示さ
れるようなＹ側の移動鏡２８Ｂの離散的な形状誤差デー
タを求めることができる。
【００６３】また、他方のＸ側の移動鏡２８Ａの反射面
の形状誤差データを測定する場合は、上記の場合とＸと
Ｙが丁度逆になり、上記したＹ側の移動鏡２８Ｂの反射
面の形状誤差を測定する動作と同様に行えるため、ここ
では説明を省略する。
の形状誤差データを測定する場合は、上記の場合とＸと
Ｙが丁度逆になり、上記したＹ側の移動鏡２８Ｂの反射
面の形状誤差を測定する動作と同様に行えるため、ここ
では説明を省略する。
【００６４】このようにして得られた移動鏡２８Ａと２
８Ｂのウエハステージ１４取り付け後の形状誤差データ
は、露光装置１０のメモリ３０の真直度誤差テーブルＢ
にそれぞれ格納される（ステップ１０６）。
８Ｂのウエハステージ１４取り付け後の形状誤差データ
は、露光装置１０のメモリ３０の真直度誤差テーブルＢ
にそれぞれ格納される（ステップ１０６）。
【００６５】以上の工程は、ステージ取り付け後の移動
鏡の反射面の測長軸間隔毎の離散的な形状誤差を計測
し、その形状誤差データをメモリに格納する本発明の第
２工程に対応している。
鏡の反射面の測長軸間隔毎の離散的な形状誤差を計測
し、その形状誤差データをメモリに格納する本発明の第
２工程に対応している。
【００６６】次いで、移動鏡の真直度誤差を補正する補
正データが主制御部１８によって作成される（図５のス
テップ１０８参照）。
正データが主制御部１８によって作成される（図５のス
テップ１０８参照）。
【００６７】すなわち、主制御部１８では、メモリ３０
の真直度誤差テーブルＢに格納されたステージ取り付け
後の移動鏡の離散的な形状誤差データを、メモリ３０の
真直度誤差テーブルＡに格納されたウエハステージ取り
付け前の移動鏡の連続的な形状誤差データに基づいて補
間処理を行い、ウエハステージ取り付け後の移動鏡の真
直度誤差を補正する補正データを作成する。
の真直度誤差テーブルＢに格納されたステージ取り付け
後の移動鏡の離散的な形状誤差データを、メモリ３０の
真直度誤差テーブルＡに格納されたウエハステージ取り
付け前の移動鏡の連続的な形状誤差データに基づいて補
間処理を行い、ウエハステージ取り付け後の移動鏡の真
直度誤差を補正する補正データを作成する。
【００６８】具体的には、主制御部１８は、図４に示さ
れるように、真直度誤差テーブルＢに格納された移動鏡
固定後の真直度誤差の測定点に対応させて、前記真直度
誤差テーブルＡのデータ点を特定する。真直度誤差テー
ブルＡのデータは、移動鏡の一端からの距離の関数デー
タとして格納されているため、真直度誤差テーブルＢの
測定点に対応した真直度誤差テーブルＡのデータ点を特
定することができる。そして、主制御部１８では、これ
らの各データ点間を図４（ａ）に示すように直線（破線
で図示）で結び、その直線とのデータの差を補間データ
とする。
れるように、真直度誤差テーブルＢに格納された移動鏡
固定後の真直度誤差の測定点に対応させて、前記真直度
誤差テーブルＡのデータ点を特定する。真直度誤差テー
ブルＡのデータは、移動鏡の一端からの距離の関数デー
タとして格納されているため、真直度誤差テーブルＢの
測定点に対応した真直度誤差テーブルＡのデータ点を特
定することができる。そして、主制御部１８では、これ
らの各データ点間を図４（ａ）に示すように直線（破線
で図示）で結び、その直線とのデータの差を補間データ
とする。
【００６９】そして、図４（ａ）に示す真直度誤差テー
ブルＡの各測定点の間が図４（ｂ）の直線（破線で図
示）と同じ位置関係となるように、ベースライン補間と
しての直線補間を行った後、これに対して真直度誤差テ
ーブルＡで作成した補間データを加えることにより、図
４（ｃ）に示すようなウエハテーブル１４固定後の移動
鏡の反射面の連続的な形状誤差データを得ることができ
る。この形状誤差データは、最終的に真直度誤差補正を
行う際に参照する補正データであり、メモリ３０の真直
度誤差テーブルＣに格納される。
ブルＡの各測定点の間が図４（ｂ）の直線（破線で図
示）と同じ位置関係となるように、ベースライン補間と
しての直線補間を行った後、これに対して真直度誤差テ
ーブルＡで作成した補間データを加えることにより、図
４（ｃ）に示すようなウエハテーブル１４固定後の移動
鏡の反射面の連続的な形状誤差データを得ることができ
る。この形状誤差データは、最終的に真直度誤差補正を
行う際に参照する補正データであり、メモリ３０の真直
度誤差テーブルＣに格納される。
【００７０】以上の工程は、第２工程でメモリに格納さ
れた移動鏡反射面の測長軸間隔毎の離散的な形状誤差デ
ータと、第１工程でメモリに格納された移動鏡の一端か
らの距離の関数データとを、測長軸位置と移動鏡の取付
位置の相対的な関係に基づいて合成することにより、前
記移動鏡の真直度誤差補正のための連続的な補正データ
を作成する本発明の第３工程に対応している。
れた移動鏡反射面の測長軸間隔毎の離散的な形状誤差デ
ータと、第１工程でメモリに格納された移動鏡の一端か
らの距離の関数データとを、測長軸位置と移動鏡の取付
位置の相対的な関係に基づいて合成することにより、前
記移動鏡の真直度誤差補正のための連続的な補正データ
を作成する本発明の第３工程に対応している。
【００７１】次に、本実施形態の露光装置１０の露光に
先立つウエハＷのアライメント動作（位置合わせ動作）
とその位置補正方法について説明する。
先立つウエハＷのアライメント動作（位置合わせ動作）
とその位置補正方法について説明する。
【００７２】ウエハＷのアライメントは、ウエハアライ
メント顕微鏡３２によって検出された位置合わせマーク
に基づいて、主制御部１８によりウエハステージ駆動系
１６が制御され、ウエハステージ１４を所定のアライメ
ント位置に位置決めすることで行われる。ウエハステー
ジ１４の位置決めは、ここでは、ウエハ上の３箇所以上
のショット領域のアライメントマーク位置を予め精密に
計測しておき、その計測結果を統計処理することによっ
てウエハ上の全ての露光ショット位置を決める、統計的
手法を用いたグローバルアライメント、いわゆる、エン
ハンストグローバルアライメント（ＥＧＡ）を採用して
いる。
メント顕微鏡３２によって検出された位置合わせマーク
に基づいて、主制御部１８によりウエハステージ駆動系
１６が制御され、ウエハステージ１４を所定のアライメ
ント位置に位置決めすることで行われる。ウエハステー
ジ１４の位置決めは、ここでは、ウエハ上の３箇所以上
のショット領域のアライメントマーク位置を予め精密に
計測しておき、その計測結果を統計処理することによっ
てウエハ上の全ての露光ショット位置を決める、統計的
手法を用いたグローバルアライメント、いわゆる、エン
ハンストグローバルアライメント（ＥＧＡ）を採用して
いる。
【００７３】本実施形態では、このアライメントマーク
位置を予め計測する際の座標位置を決定する際に、移動
鏡の反射面自体に凹凸やたわみによる真直度誤差がある
と、高精度な位置決めを行うことができなくなる。そこ
で、本実施形態の露光装置１０では、移動鏡の反射面の
真直度誤差による位置ずれを防止するため、各移動鏡の
真直度誤差を補正する固有の補正データを作成してメモ
リに格納しておき、ウエハアライメント顕微鏡３２によ
って検出されるアラインメントマークの位置計測の際
に、補正データに基づいて位置補正が行なわれる。
位置を予め計測する際の座標位置を決定する際に、移動
鏡の反射面自体に凹凸やたわみによる真直度誤差がある
と、高精度な位置決めを行うことができなくなる。そこ
で、本実施形態の露光装置１０では、移動鏡の反射面の
真直度誤差による位置ずれを防止するため、各移動鏡の
真直度誤差を補正する固有の補正データを作成してメモ
リに格納しておき、ウエハアライメント顕微鏡３２によ
って検出されるアラインメントマークの位置計測の際
に、補正データに基づいて位置補正が行なわれる。
【００７４】これまでの説明から明らかなように、本実
施形態では、メモリ３０によって記憶手段が構成され、
主制御部１８によって補正データ作成手段が構成されて
いる。
施形態では、メモリ３０によって記憶手段が構成され、
主制御部１８によって補正データ作成手段が構成されて
いる。
【００７５】以上説明したように、本実施形態による移
動鏡の真直度誤差補正方法では、移動鏡をウエハステー
ジに固定する際に生ずる変形には、３０ｍｍ程度以下の
高い空間周波数の変形成分が非常に少ないことに着目
し、固定前の単体の移動鏡の面形状をフィゾー干渉計を
用いてあらかじめ測定しておく。そして、移動鏡をウエ
ハステージに固定する際に生じる大きなうねり成分は、
２つの測長軸を有するレーザ干渉計を用いて測長軸間隔
毎の離散的な真直度誤差を計測する。そして、固定後の
離散的な真直度誤差データを固定前の移動鏡の面形状デ
ータで補間することにより、ウエハステージ固定後の移
動鏡の真直度誤差を補正する連続的な補正データを作成
することができる。
動鏡の真直度誤差補正方法では、移動鏡をウエハステー
ジに固定する際に生ずる変形には、３０ｍｍ程度以下の
高い空間周波数の変形成分が非常に少ないことに着目
し、固定前の単体の移動鏡の面形状をフィゾー干渉計を
用いてあらかじめ測定しておく。そして、移動鏡をウエ
ハステージに固定する際に生じる大きなうねり成分は、
２つの測長軸を有するレーザ干渉計を用いて測長軸間隔
毎の離散的な真直度誤差を計測する。そして、固定後の
離散的な真直度誤差データを固定前の移動鏡の面形状デ
ータで補間することにより、ウエハステージ固定後の移
動鏡の真直度誤差を補正する連続的な補正データを作成
することができる。
【００７６】このように、本実施形態における移動鏡の
真直度誤差補正方法によると、移動鏡の真直度誤差の内
の大きなうねり成分はもちろん、従来の方式では補正す
ることのできなかったレーザ干渉計の測長軸間隔以下の
細かい凹凸やうねり等の高い空間周波数成分まで補正す
ることが可能となる。
真直度誤差補正方法によると、移動鏡の真直度誤差の内
の大きなうねり成分はもちろん、従来の方式では補正す
ることのできなかったレーザ干渉計の測長軸間隔以下の
細かい凹凸やうねり等の高い空間周波数成分まで補正す
ることが可能となる。
【００７７】なお、上記の実施形態では、真直度誤差テ
ーブルＡの測定点の間のベースライン補間を行う際に直
線補間を行ったが、これに限定されるものではなく、ス
プライン補間などを適用することもできる。
ーブルＡの測定点の間のベースライン補間を行う際に直
線補間を行ったが、これに限定されるものではなく、ス
プライン補間などを適用することもできる。
【００７８】また、上記の実施形態では、ウエハステー
ジ１４のＸ軸，Ｙ軸側に固定される移動鏡は、いずれも
バーミラーを用いて実施したが、一方の側のみをバーミ
ラーとし、他方のレーザ干渉計の照射位置には、コーナ
ーキューブを設けて、そのバーミラーの真直度誤差の補
正のみを行うものであってもよい。
ジ１４のＸ軸，Ｙ軸側に固定される移動鏡は、いずれも
バーミラーを用いて実施したが、一方の側のみをバーミ
ラーとし、他方のレーザ干渉計の照射位置には、コーナ
ーキューブを設けて、そのバーミラーの真直度誤差の補
正のみを行うものであってもよい。
【００７９】さらに、上記の実施形態では、補正データ
を用いて位置補正を行う場合として、統計的手法を用い
たグローバルアライメントを採用したステッパーを例に
あげて説明したが、必ずしもこれに限定されるものでは
なく、上記以外の各種露光装置はもちろん、その他転写
マスクの描画装置、マスクパターンの位置座標測定装
置、あるいはその他の位置決め装置に対しても本発明は
好適に適用することができるものである。
を用いて位置補正を行う場合として、統計的手法を用い
たグローバルアライメントを採用したステッパーを例に
あげて説明したが、必ずしもこれに限定されるものでは
なく、上記以外の各種露光装置はもちろん、その他転写
マスクの描画装置、マスクパターンの位置座標測定装
置、あるいはその他の位置決め装置に対しても本発明は
好適に適用することができるものである。
【００８０】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、ステー
ジ取り付け前の移動鏡の反射面を面形状測定手段により
測定した面状データと、ステージ取り付け後の移動鏡を
ステージの移動方向である第１軸，第２軸方向のうち、
移動鏡の延設方向にほぼ一致する第１軸方向に沿って移
動させながら、レーザ干渉計により測定したステージ取
り付け後の測長軸間隔毎の離散的な形状誤差データとを
合成することにより、移動鏡の真直度誤差を正しく補正
することが可能な補正データを得ることができるという
従来にない優れた効果がある。
ジ取り付け前の移動鏡の反射面を面形状測定手段により
測定した面状データと、ステージ取り付け後の移動鏡を
ステージの移動方向である第１軸，第２軸方向のうち、
移動鏡の延設方向にほぼ一致する第１軸方向に沿って移
動させながら、レーザ干渉計により測定したステージ取
り付け後の測長軸間隔毎の離散的な形状誤差データとを
合成することにより、移動鏡の真直度誤差を正しく補正
することが可能な補正データを得ることができるという
従来にない優れた効果がある。
【図１】一実施形態に係るステップアンドリピート方式
の露光装置の構成を概略的に示す図である。
の露光装置の構成を概略的に示す図である。
【図２】図１のウエハステージとレーザ干渉計との位置
関係を示す平面図である。
関係を示す平面図である。
【図３】ウエハステージ取り付け前の移動鏡の反射面全
体についての形状誤差を測定するフィゾー干渉計の構成
を概略的に示す図である。
体についての形状誤差を測定するフィゾー干渉計の構成
を概略的に示す図である。
【図４】移動鏡の真直度誤差を補正する補正データの作
成原理を説明する図である。
成原理を説明する図である。
【図５】図４の補正データの作成工程を説明するフロー
チャートである。
チャートである。
【符号の説明】 １０ 露光装置（ステージ装置） Ｗ ウエハ（感光基板） １４ ウエハステージ（ステージ） １８ 主制御部（補正データ作成手段） ２６ レーザ干渉計 ２８ 移動鏡 ３０ メモリ（記憶手段）
Claims (6)
- 【請求項１】 ２次元平面内で第１軸方向とこれに直交
する第２軸方向とに沿って移動可能なステージに設けら
れた前記１軸方向に伸びる移動鏡の真直度誤差補正方法
であって、 前記移動鏡を前記ステージに取り付けるに先だって、前
記移動鏡の反射面の形状誤差を測定し、このデータを当
該移動鏡の一端からの距離の関数データとしてメモリに
格納する第１工程と；前記移動鏡をステージに取り付け
後、前記ステージを前記移動鏡の延設方向にほぼ一致す
る第１軸方向に沿って移動しつつ、前記ステージの前記
第２軸方向の位置を計測するために前記第１軸方向に所
定間隔隔てた少なくとも２つの測長軸を有するレーザ干
渉計を用いて前記移動鏡の反射面の測長軸間隔毎の離散
的な形状誤差を計測し、この形状誤差データをメモリに
格納する第２工程と；前記第２工程でメモリに格納され
た前記移動鏡反射面の測長軸間隔毎の離散的な形状誤差
データと、前記第１工程でメモリに格納された移動鏡の
一端からの距離の関数データとを、前記測長軸の位置と
前記移動鏡の取付位置の相対的な関係に基づいて合成す
ることにより、前記移動鏡の真直度誤差補正のための連
続的な補正データを作成する第３工程とを含む移動鏡の
真直度誤差補正方法。 - 【請求項２】 前記第２工程において、前記ステージを
移動させる際に、前記ステージの回転方向の変化量を計
測するとともに、前記レーザ干渉計により計測された前
記移動鏡の反射面の測長軸間隔毎の離散的な形状誤差か
ら前記計測された回転方向の変化量成分を引いた値をメ
モリに格納することを特徴とする請求項１に記載の移動
鏡の真直度誤差補正方法。 - 【請求項３】 前記第２工程におけるレーザ干渉計によ
る前記移動鏡の形状誤差の計測は、各測長軸位置での測
定データの差分を計測することであることを特徴とする
請求項１又は２に記載の真直度誤差補正方法。 - 【請求項４】 前記第２工程におけるステージの回転方
向の変化量は、前記ステージの前記第１軸方向の位置を
計測するために少なくとも２つの測長軸を有するレーザ
干渉計の各測長軸における測定データの差分に基づいて
測定されることを特徴とする請求項２に記載の移動鏡の
真直度誤差補正方法。 - 【請求項５】 前記第１工程において、前記反射面の形
状誤差はフィゾー干渉計を用いて測定することを特徴と
する請求項１ないし４のいずれか一項に記載の真直度誤
差補正方法。 - 【請求項６】 ２次元平面内で第１軸方向とこれに直交
する第２軸方向とに沿って移動可能なステージと；前記
ステージの前記第１軸方向に沿って延設された移動鏡
と；前記移動鏡に前記第１軸方向に所定間隔を隔てて少
なくとも２軸の測長ビームを照射するレーザ干渉計と；
前記移動鏡のステージへの取り付け前に測定された前記
移動鏡の反射面の形状誤差データが移動鏡の一端からの
距離の関数データとして記憶された記憶手段と；前記ス
テージを前記移動鏡の延設方向にほぼ一致する前記第１
軸方向に沿って移動しつつ、前記レーザ干渉計の出力に
基づいて前記測長軸間隔毎の離散的な形状誤差データを
測定するとともに、該離散的な形状誤差データと、前記
記憶手段に記憶された関数データとを、前記測長軸の位
置と前記移動鏡の取付位置の相対的な関係に基づいて合
成して前記移動鏡の真直度誤差補正のための連続的な補
正データを作成する補正データ作成手段とを有するステ
ージ装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8110281A JPH09275072A (ja) | 1996-04-05 | 1996-04-05 | 移動鏡の真直度誤差補正方法及びステージ装置 |
| US08/820,502 US5790253A (en) | 1996-04-05 | 1997-04-04 | Method and apparatus for correcting linearity errors of a moving mirror and stage |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8110281A JPH09275072A (ja) | 1996-04-05 | 1996-04-05 | 移動鏡の真直度誤差補正方法及びステージ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09275072A true JPH09275072A (ja) | 1997-10-21 |
Family
ID=14531720
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8110281A Withdrawn JPH09275072A (ja) | 1996-04-05 | 1996-04-05 | 移動鏡の真直度誤差補正方法及びステージ装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5790253A (ja) |
| JP (1) | JPH09275072A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001345254A (ja) * | 2000-06-01 | 2001-12-14 | Canon Inc | 干渉計搭載ステージ |
| JP2003534541A (ja) * | 2000-05-19 | 2003-11-18 | ザイゴ コーポレイション | インサイチュミラー特徴付け |
| JP2005518523A (ja) * | 2001-08-20 | 2005-06-23 | ザイゴ コーポレイション | インサイチュでの鏡の特徴付け |
| JP2005244088A (ja) * | 2004-02-27 | 2005-09-08 | Canon Inc | ステージ装置及びその制御方法 |
| JP2005538362A (ja) * | 2002-09-09 | 2005-12-15 | ザイゴ コーポレーション | 干渉計の誤差の測定および補償 |
| JP2006510199A (ja) * | 2002-12-12 | 2006-03-23 | ザイゴ コーポレーション | フォトリソグラフィック露光サイクルの間のステージ・ミラー歪の工程内補正 |
| JP2007526450A (ja) * | 2003-06-19 | 2007-09-13 | ザイゴ コーポレーション | 平面ミラー干渉計測定システムにおけるビーム・ミスアライメントの幾何学的な影響に対する補償 |
| KR20110133788A (ko) * | 2010-06-07 | 2011-12-14 | 삼성전자주식회사 | 바미러 장치 |
| JP5040657B2 (ja) * | 2005-10-24 | 2012-10-03 | 株式会社ニコン | 露光装置、露光方法、デバイスの製造方法、デバイス組立方法 |
| JP2018120996A (ja) * | 2017-01-26 | 2018-08-02 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | ステージ機構の位置補正方法及び荷電粒子ビーム描画装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050114 |
|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20060927 |