JP4824248B2 - インサイチュミラー特徴付け - Google Patents

Description

【０００１】
（発明の背景）
本発明は、概して、干渉計に関し、詳細には、フォトリソグラフィステージミラー等の局所的な表面特徴部にインサイチュでの干渉計による測定を行い、距離測定精度の高い補正信号を提供する干渉計装置およびその方法に関する。
【０００２】
多くの臨界寸法を測定し、制御するための干渉計は、微細加工プロセスにおいて広く用いられている十分に確立された計測学である。この干渉計は、０．１μｍ以下の臨界寸法に比べて１０〜４０％の精度が必要な半導体等の製造において特に重要である。
【０００３】
半導体材料から作製される集積回路は、典型的には平坦な露光面にシリコンウェハを設置した状態で、そのシリコンウェハに異なる材料からなる層を堆積し、続いてパターニングすることによって構築される。この平坦な露光面は、デカルトｘ−ｙ座標と、それに垂直なｚ軸とを有する。パターニングプロセスは、フォトレジストの露光および現像、続いて、その下にある層のエッチングおよびドーピング、そして、次の層の堆積の組み合わせからなる。このプロセスによって、ウェハ上に複雑かつミクロンオーダーの極めて不均一な材料構造が得られる。
【０００４】
典型的なウェハは、それぞれ、「フィールド」と呼ばれる同じパターンの複数のコピーを含む。この「フィールド」は、「グリッド」として知られている名目上は直線で囲まれた配置でウェハに並べられたものである。必ずではないが、各フィールドは、１つの「チップ」に相当する場合が多い。
【０００５】
露光プロセスは、ウェハ上にスピンコーティングされたフォトレジスト上（内）に次の層のパターンイメージを投影するステップからなる。集積回路を適切に機能させるためには、連続して投影された各イメージをウェハにすでに存在するパターンに正確に整合させる必要がある。ウェハにすでに存在するパターンの位置、方向、および、ひずみを決定するステップ、次に、投影されたイメージに対して正確な関係となるようにそれらパターンを配置するステップからなるプロセスは、「アライメント」と呼ばれる。実際の結果（すなわち、連続してパターニングされた各層がどの程度の精度でその前の層に整合しているか）は、「オーバーレイ」と呼ばれる。
【０００６】
一般に、アライメントプロセスは、すでに存在するパターンの実際の形状に整合させるために、ウェハおよび／または投影されたイメージの平行移動による位置付けおよび回転による位置付け、ならびに、イメージのひずみを必要とする。ウェハおよびイメージが、一方のパターンを他方のパターンの上部に正確に位置付けるために必要であるという事実は明らかである。イメージの実際のひずみもまた必要とされる場合が多い。熱および振動等の他の影響もまた補償する必要があり得る。
【０００７】
このことすべての最終的な結果、ウェハに印刷された第１のレベルのパターンの形状は理想的なものではなく、続くすべてのパターンは、ある程度可能な限り第１のレベルの印刷パターンの形状全体に一致するように調整される必要がある。異なる露光ツールは、これらの影響をなくす異なる機能を有するが、一般には、ｘおよびｙ方向の大きさ、および、ゆがみを含むひずみまたは形状変形が、考慮され得る。これらのひずみと平行移動および回転とを組み合わせた場合、これらのひずみは、平面における一次変換の完全なセットを構成する。
【０００８】
問題は、投影されたイメージをウェハにすでに存在するパターンに続けて整合させ、ウェハそのものの位置付けが困難であることにより、露光ツールは、ウェハパターンそのものと投影されたイメージとの両方の相対的な位置、方向、および、ひずみを効率的に検出するか、または、推測できる必要がある。
【０００９】
回路パターンそのものを直接感知することは困難であり、そのため、アライメントは、基準マークまたは「アライメントマーク」を回路パターンに付けることによって行われる。これらのアライメントマークは、レチクルの位置、方向およびひずみ、および／または、投影されたイメージの位置、方向およびひずみを決定するために用いられ得る。これらのアライメントマークはまた、回路パターンとともにウェハに印刷され得、そのため、ウェハパターンの位置、方向およびひずみを決定するためにも用いられ得る。アライメントマークは、一般に、レチクル上の１つ以上の透明または不透明な線からなり、後にウェハに印刷した際には「トレンチ」または「メサ」となる。しかしながら、トレンチおよび／またはメサからなる単純な周期的アレイである格子、および、チェック基板パターン等のより複雑な構造も用いられる。アライメントマークは、通常、各フィールドの「切り口」のエッジに沿って配置されるか、または、いくつかの「マスターマーク」がウェハ全体に配置されるかのいずれかである。アライメントマークは必須であるが、チップ回路の一部ではない。そのため、チップ製造者の立場からすれば、貴重なウェハ領域または「リアルエステート」を無駄にしていることになる。これにより、アライメントマークを可能な限り小さくしようとしており、側面に数百マイクロメートル未満である場合が多い。
【００１０】
アライメントマークを「見る」ために、アライメントセンサが露光ツールに組み込まれている。一般に、ウェハ、レチクル、および／または、投影されたイメージそれ自身用に別個のセンサがある。アライメントストラテジー全般に応じて、これらのセンサは完全に別個のシステムであってもよいし、または、これらのセンサを効率的に組み合わせて１つのセンサとしてもよい。例えば、直接投影されたイメージを見ることができるセンサは、名目上は、ウェハマークについては「見えず」、そのため別個のウェハ用のセンサが必要である。しかし、レチクル用アライメントマークそれ自身を介してウェハ位置で「見る」センサは、基本的に、レチクルおよびウェハアライメントを同時に行っている。そのため別個のレチクル用センサは不要である。この場合、投影されたイメージのアライメントマークの位置が、レチクル用のアライメントマークの位置から推測されており、アライメントステップの前に、イメージ位置に対するレチクルの入念な校正を行う必要があるということに留意されたい。
【００１１】
さらに、上述したように、基本的には全ての露光ツールは、ウェハ用のアライメントマークを光学的に検出するセンサを用いている。つまり、センサは、１つ以上の波長の光をウェハに投影し、ウェハ平面における位置の関数として、アライメントマークからの散乱／回折を検出する。多くのタイプのアライメントセンサが一般に用いられており、光学的な構成により単純な顕微鏡からヘテロダイン格子干渉計までの全スペクトルが網羅されている。また、異なるセンサ構成により所与のウェハのタイプに良くも悪くも作用するので、多くの露光ツールは、可能な広い範囲のウェハタイプについて良好なオーバーレイが可能となるように、１つよりも多くのセンサ構成を実行する。
【００１２】
アライメントセンサ全体の仕事は、露光ツールに対して固定の座標系において、ウェハ上のアライメントマークすべての所与のサブセットのそれぞれの位置を決定することである。次いで、これらの位置データは、２つの一般的な方法（「グローバル」および「フィールドバイフィールド」と呼ばれる）のうちいずれかに用いられ、アライメントが行われる。グローバルアライメントでは、アライメントセンサ（単数または複数）によって、数フィールドのみにあるマークが見つけられ、そのデータが最適一致と感知されるように組み合わされて、ウェハ上のすべてのフィールドの最適アライメントが決定される。フィールドバイフィールドアライメントでは、１つのフィールドから集められたデータを用いて、そのデータのみのアライメントが行われる。グローバルアライメントは、通常、高速かつノイズの影響が小さいとされる。その理由は、ウェハ上のすべてのフィールドのマークを見つけることがなく、データすべてをまとめて組み合わせ、全体から最適一致を見つけるためである。しかしながら、最適一致の結果が、フィードフォワード法または推定法に用いられるため、露光ツールの光機械的安定性全体に依存することになる。
【００１３】
アライメントは、一般に、２段階プロセスとして実行される。つまり、マイクロメートルの精度の初期粗アライメントステップを行い、次に、数十ナノメートルの精度の微アライメントステップが行われる。アライメントには、全部で６つの自由度（３つの平行移動と３つの回転）でウェハを位置付けるステップが必要である。しかしながら、投影されたイメージ平面内にウェハが位置するようにウェハを調整するステップ（すなわち、ウェハの水平位置を調整し、フォーカスするステップ）は、一般に、アライメントとは別とみなされる。このステップは、水平移動の自由度１（光学軸、つまりｚ軸（すなわち、ｘ−ｙウェハ方向に垂直な方向に平行な方向）に沿った移動）と、回転の自由度２（投影されたイメージ平面に平行となるようにウェハの平面を方向付ける）とを含む。アライメントを参照する際、通常、面内平行移動（自由度２）および投影光学軸のまわりの回転（自由度１）のみを意味する。名称が異なる理由は、必要な精度が異なるためである。面内平行移動および回転に必要な精度は、一般に、数十ナノメートルのオーダ、または、ウェハに印刷されるべき最小形状サイズ（または臨界寸法（ＣＤ））の約２０〜３０％である必要がある。現在の最新技術のＣＤ値は、数百ナノメートルのオーダであり、したがって、必要なアライメント精度は、１００ｎｍ未満である。一方、面外の平行移動および回転に必要な精度は、ＣＤ値に一般に近いとされる露光ツールの使用可能合計焦点深さに関連する。したがって、ウェハの面外焦点合わせおよび高さ調整には、面内アライメントほど高い精度は必要ではない。また、焦点合わせおよび高さ調整用のセンサは、通常、「アライメント用センサ」とは完全に別個のものであり、焦点合わせおよび高さ調整は、通常、ウェハ上のパターンに依存しない。ウェハ表面またはその代替物のみを感知する必要がある。にもかかわらず、このことは、いまだに実質的な作業、とりわけ、ウェハ上の光学投影システムの垂直方向の位置（高さ）に関する正確な情報を要している。
【００１４】
ダイナミック干渉計を用いて、アライメントを行うことは公知である。このダイナミック干渉計では、フィードバック構成を介して角度方向が制御されたダイナミック素子を用いて、距離測定の精度を高めている。これにより、距離情報を伝えるビームが、適切にアライメントされて、最適信号が確実に提供される。このような干渉計は、例えば、２０００年５月５日に出願された、Ｈｅｎｒｙ Ａ． Ｈｉｌｌの「Ｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｒｙ Ｓｙｓｔｅｍｓ Ｈａｖｉｎｇ ａ Ｄｙｎａｍｉｃ Ｂｅａｍ−Ｓｔｅｅｒｉｎｇ Ａｓｓｅｍｂｌｙ Ｆｏｒ Ｍｅａｓｕｒｉｎｇ Ａｎｇｌｅ ａｎｄ Ｄｉｓｔａｎｃｅ」と称する国際出願番号第ＰＣＴ／ＵＳ００／１２０９７号に示される。しかしながら、ダイナミック干渉計を用いた場合であっても、種々の反射素子の形状が、距離測定で達成可能な精度および角度測定で達成可能な精度に影響を与える。この理由は、ステージミラーが種々の動きをする際に、局所的な傾斜の変化がビームの方向に影響を与えるためである。典型的には、このような反射素子（例えば、薄く高いアスペクト比を有するミラー）の形状は、ステージ外にて特徴を示し、適切に一致すると判定されると、ステージ上に取り付けられる。しかしながら、取り付けプロセスそのものが、検査される形状に比べ素子の形状をひずませ、この形状の変化によって測定誤差が生じ得るために、許容されない場合が多い。
【００１５】
したがって、本発明の主要な目的は、ステージ上にある反射素子（例えば、薄く高いアスペクト比のミラー）を取り付けた後に、その形状をインサイチュで測定し、反射面の形状に関する光路長およびビーム方向の誤差を補償する補正信号を生成し得る干渉計装置およびその方法を提供することである。
【００１６】
本発明の別の目的は、ステージ上にある反射素子（例えば、薄く高いアスペクト比のミラー）を取り付けた後に、その形状をインサイチュで測定し、垂直面に並ぶ反射面の形状に関する光路長およびビーム方向の誤差を補償する補正信号を生成し得る干渉計装置およびその方法を提供することである。
【００１７】
本発明のさらに別の目的は、ステージ上にある反射素子（例えば、薄く高いアスペクト比のミラー）を取り付けた後に、その形状をインサイチュで測定し、反射面の形状に関する光路長およびビーム方向の誤差を補償する補正信号を生成し得るダイナミック干渉計の動作特性から生じる情報を利用することである。
【００１８】
本発明のさらに別の目的は、ステージ外にある反射素子（例えば、薄く高いアスペクト比のミラー）を取り付けた後に、その形状をインサイチュで測定し、反射面の形状に関する光路長およびビーム方向の誤差を補償する補正信号を生成し得る干渉計装置およびその方法を提供することである。
【００１９】
本発明の他の目的の一部は、図面を参照して以下の詳細な説明を読めば明らかとなり、明白となる。
【００２０】
(発明の要旨)
フォトリソグラフィミラー等の局所的な表面の特徴がインサイチュで干渉計によって測定され、距離測定の精度および角測定の精度を高める補正信号を提供する干渉計装置および方法が提供される。１つ以上の方向の１つまたは複数の基準線に沿った表面特徴は、局所的な傾きを決定するために動作時に表面で反射したビームの角変化を測定し、その後、最終的に表面トポロジーを得るためにその傾きを積分することによって得られ得る。ミラーは、フォトリソグラフィステージ上、またはフォトリソグラフィステージ外の基準フレーム上のいずれかに取り付けられ得る。最も簡単な場合では、この目的のために１つのダイナミックビームステアリングアセンブリ、または、干渉計サブシステムが採用される。２つの直交方向におけるミラー特徴については、少なくとも２つのダイナミックビームステアリングアセンブリが用いられる。一方は、基準線に沿ってかつ基準線に直交するミラー面の傾きの変化に関する情報を含む信号を生成し、他方は、ミラーが取り付けられたステージの角方向に関する情報を含む信号を生成する。これらの２つの信号を組み合わせ、基準線に沿ってかつ基準線に直交するミラーの傾きに関する情報を抽出する。その後、傾きは変位を変数として積分され、トポグラフィが得られる。単一ビーム干渉計は、１つのビームのみを用いてミラーに対するピッチ、揺れ角および変位を測定することができるため好ましい。互いに直交する方向に面する複数のミラーを用いても測定することができる。この場合、細長い寸法に沿って第３のミラーを平行移動させつつ、細長い表面に対して１つ以上を固定して保持し、続いて、このプロセスを繰り返すことによって行われる。あるいは、ミラー全部を一緒に移動させ、相対ミラートポグラフィを得てもよい。３ビームステアリングアセンブリを用いて、対応する互いに直交する３つのミラーおよびビームステアリングを完全に特徴付けてもよいし、または、干渉計サブシステムを平行移動ステージ上または平行移動ステージ外に取り付けてもよい。
【００２１】
ミラーのインサイチュトポグラフィが一旦確立すると、ルックアップテーブル（ＬＵＴ）等に格納され、通常動作時に精度を向上させるためにリアルタイムでエラー訂正信号を提供する。
【００２２】
本発明の他の目的および利点とともに、本発明の構造、動作および方法は、図面を参照して詳細な説明を読めば最良に理解され得る。それぞれが一部をなす図面には番号が付してあり、その番号は、その図面が種々の図面のどこで登場したかを特定している。
【００２３】
（詳細な説明）
次に、図１を参照する。図１は、一対の直交して配置されたダイナミック干渉計または干渉計サブシステムを採用している干渉システム１５の模式的斜視図である。干渉システム１５により、ステージ上に取り付けられた細長い対物ミラーの形状は、基準線に沿ってインサイチュにて特徴付けられ得る。図１に示されるように、システム１５は、好ましくは、集積回路またはチップ等の半導体製品を製造するためのフォトリソグラフィ装置の一部をなすステージ１６を備える。ステージ１６には、薄く高いアスペクト比の平面ミラー５０が固定されている。このミラー５０は、ｙ軸方向に細長いｙ−ｚ反射面５１を有している。また、ステージ１６には、別の薄く高いアスペクト比の平面ミラー６０が固定して取り付けられている。このミラー６０は、ｘ軸方向に細長いｘ−ｚ反射面６１を有している。ミラー５０および６０は、それぞれの反射面５１および６１が、それぞれ互いに名目上直交するように、ステージ１６上に取り付けられている。ステージ１６は、名目上は、面内平行移動するように周知の様態で取り付けられるが、ベアリングおよび駆動機構の耐性に起因して、ｘ、ｙおよびｚ軸の周りにわずかに角回転し得る。通常動作時には、システム１５は、ｙ軸方向にのみに変位するように適応されている。
【００２４】
ステージ外には、ステージ１６がｙ軸方向に平行移動する際のｙ軸およびｚ軸まわりのステージ１６、したがって平面ミラーの反射面５１の回転角を測定するための単一ビームダイナミック干渉計（または干渉計サブシステム）１０が固定して取り付けられている。これを達成するために、ダイナミック干渉計１０は、上述の２０００年５月５日に出願された、Ｈｅｎｒｙ Ａ． Ｈｉｌｌの「Ｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｒｙ Ｓｙｓｔｅｍｓ Ｈａｖｉｎｇ ａ Ｄｙｎａｍｉｃ Ｂｅａｍ−Ｓｔｅｅｒｉｎｇ Ａｓｓｅｍｂｌｙ Ｆｏｒ Ｍｅａｓｕｒｉｎｇ Ａｎｇｌｅ ａｎｄ Ｄｉｓｔａｎｃｅ」と称するＰＣＴ特許出願に記載される様態で構成され、配置されている。同出願の全体を本明細書中で参考として援用する。同出願に記載されるように、ビームステアリング能力を備えたミラーが設けられている。このミラーによって、面倒なステージの回転を測定し、ミラーに垂直な光路上にビームを維持するために用いられるフィードバック信号が提供される。ここで、ビーム１２の反射ビーム成分がモニタされ、その角度が、Ｈｅｎｒｙ Ａｌｌｅｎ Ｈｉｌｌの２０００年５月３日に出願された、「Ａｐｐａｒａｔｕｓ Ａｎｄ Ｍｅｔｈｏｄ（ｓ） Ｆｏｒ Ｍｅａｓｕｒｉｎｇ Ａｎｄ／Ｏｒ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｉｎｇ Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ Ｐａｔｈｓ Ｏｆ Ｌｉｇｈｔ Ｂｅａｍｓ」と称する米国特許出願第６０／２０１，４５７号に記載される干渉計装置を介して測定される。同出願の全体を本明細書中で参考として援用する。
【００２５】
入射ビーム１２は、好ましくは、周波数差ｆ_１を有する２つの直交する偏光成分を含む。入射ビーム１２の光源（例えば、レーザ）は、種々の周波数変調装置および／またはレーザのうち任意であり得る。例えば、レーザは、当業者に公知の種々の従来技術のうち任意の安定なガスレーザ（例えば、ＨｅＮｅレーザ）であり得る。例えば、Ｔ． Ｂａｅｒらの「Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ Ｓｔａｂｉｌｉｚａｔｉｏｎ ｏｆ ａ ０．６３３μｍ Ｈｅ−Ｎｅ−ｌｏｎｇｉｔｕｄｉｎａｌ Ｚｅｅｍａｎ Ｌａｓｅｒ」、Ａｐｐｌｉｅｄ Ｏｐｔｉｃｓ、１９、３１７３〜３１７７（１９８０）、Ｂｕｒｇｗａｌｄらの１９７５年６月１０日に付与された米国特許第３，８８９，２０７号、および、Ｓａｎｄｓｔｒｏｍらの１９７２年５月９日に付与された米国特許第３，６６２，２７９号を参照されたい。あるいは、レーザは、当業者に公知の種々の従来技術のうちの１つの安定なダイオードレーザ周波数であり得る。例えば、Ｔ． ＯｋｏｓｈｉおよびＫ． Ｋｉｋｕｃｈｉの「Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ Ｓｔａｂｉｌｉｚａｔｉｏｎ ｏｆ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｌａｓｅｒｓ ｆｏｒ Ｈｅｔｅｒｏｄｙｎｅ−ｔｙｐｅ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｏｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ」、Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｌｅｔｔｅｒｓ、１６、１７９〜１８１（１９８０）、および、Ｓ． ＹａｍａｇｕｃｈｉおよびＭ． Ｓｕｚｕｋｉの「Ｓｉｍｕｌｔａｎｅｏｕｓ Ｓｔａｂｉｌｉｚａｔｉｏｎ ｏｆ ｔｈｅ Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ ａｎｄ Ｐｏｗｅｒ ｏｆ ａｎ ＡｌＧａＡｓ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｌａｓｅｒ ｂｙ Ｕｓｅ ｏｆ ｔｈｅ Ｏｐｔｏｇａｌｖａｎｉｃ Ｅｆｆｅｃｔ ｏｆ Ｋｒｙｐｔｏｎ」、ＩＥＥＥ Ｊ． Ｑｕａｎｔｕｍ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ、ＱＥ−１９、１５１４〜１５１９（１９８３）を参照されたい。
【００２６】
２つの光学周波数は、次の技術のいずれかによって生成され得る。（１）ゼーマン***レーザの使用；例えば、Ｂａｇｌｅｙらの１９６９年７月２９日に付与された米国特許第３，４５８，２５９号、Ｇ． Ｂｏｕｗｈｕｉｓの「Ｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｒｉｅ Ｍｉｔ Ｇａｓｌａｓｅｒｓ」、Ｎｅｄ． Ｔ． Ｎａｔｕｕｒｋ、３４、２２５〜２３２（１９６８年８月）、Ｂａｇｌｅｙらの１９７２年４月１８日に付与された米国特許第３，６５６，８５３号、および、Ｈ． Ｍａｔｓｕｍｏｔｏの「Ｒｅｃｅｎｔ ｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｒｉｃ ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔｓ ｕｓｉｎｇ ｓｔａｂｉｌｉｚｅｄ ｌａｓｅｒｓ」、Ｐｒｅｃｉｓｉｏｎ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ、６（２）、８７〜９４（１９８４）を参照されたい。（２）一対の音響光学ブラッグセルの使用；例えば、Ｙ． ＯｈｔｓｕｋａおよびＫ． Ｉｔｏｈの「Ｔｗｏ−ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ Ｌａｓｅｒ Ｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｅｒ ｆｏｒ Ｓｍａｌｌ Ｄｉｓｐｌａｃｅｍｅｎｔ Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔｓ ｉｎ ａ Ｌｏｗ Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ Ｒａｎｇｅ」、Ａｐｐｌｉｅｄ Ｏｐｔｉｃｓ、１８（２）、２１９〜２２４（１９７９）、Ｎ． Ｍａｓｓｉｅらの「Ｍｅａｓｕｒｉｎｇ Ｌａｓｅｒ Ｆｌｏｗ Ｆｉｅｌｄｓ Ｗｉｔｈ ａ ６４−Ｃｈａｎｎｅｌ Ｈｅｔｅｒｏｄｙｎｅ Ｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｅｒ」、Ａｐｐｌｉｅｄ Ｏｐｔｉｃｓ、２２（１４）、２１４１〜２１５１（１９８３）、Ｙ． ＯｈｔｓｕｋａおよびＭ． Ｔｓｕｂｏｋａｗａの「Ｄｙｎａｍｉｃ Ｔｗｏ−ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ Ｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｒｙ ｆｏｒ Ｓｍａｌｌ Ｄｉｓｐｌａｃｅｍｅｎｔ Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔｓ」、Ｏｐｔｉｃｓ ａｎｄ Ｌａｓｅｒ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、１６、２５〜２９（１９８４）、Ｈ． Ｍａｔｓｕｍｏｔｏ同書、Ｐ． Ｄｉｒｋｓｅｎらの１９９６年１月１６日に付与された米国特許第５，４８５，２７２号、Ｎ． Ａ． ＲｉｚａおよびＭ． Ｍ． Ｋ． Ｈｏｗｌａｄｅｒの「Ａｃｏｕｓｔｏ−ｏｐｔｉｃ ｓｙｓｔｅｍ ｆｏｒ ｔｈｅ ｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ ａｎｄ ｃｏｎｔｒｏｌ ｏｆ ｔｕｎａｂｌｅ ｌｏｗ−ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ ｓｉｇｎａｌｓ」、Ｏｐｔ． Ｅｎｇ．、３５（４）、９２０〜９２５（１９９６）を参照されたい。（３）１つの音響光学ブラッグセルの使用；例えば、Ｇ． Ｅ． Ｓｏｍｍａｒｇｒｅｎの同一人に譲渡された１９８７年８月４日に付与された米国特許第４，６８４，８２８号、Ｇ． Ｅ． Ｓｏｍｍａｒｇｒｅｎの同一人に譲渡された１９８７年８月１８日に付与された米国特許第４，６８７，９５８号、および、Ｐ． Ｄｉｒｋｓｅｎらの同書を参照されたい。（４）ランダム偏光したＨｅＮｅレーザの２つの縦モードの使用；例えば、Ｊ． Ｂ． ＦｅｒｇｕｓｏｎおよびＲ． Ｈ． Ｍｏｒｒｉｓの「Ｓｉｎｇｌｅ Ｍｏｄｅ Ｃｏｌｌａｐｓｅ ｉｎ ６３２８Å ＨｅＮｅ Ｌａｓｅｒｓ」、Ａｐｐｌｉｅｄ Ｏｐｔｉｃｓ、１７（１８）、２９２４〜２９２９（１９７８）を参照されたい。（５）レーザ内部の複屈折素子等の使用；例えば、Ｖ． ＥｖｔｕｈｏｖおよびＡ． Ｅ． Ｓｉｅｇｍａｎの「Ａ 「Ｔｗｉｓｔｅｄ−Ｍｏｄｅ」 Ｔｅｃｈｎｉｑｕｅ ｆｏｒ Ｏｂｔａｉｎｉｎｇ Ａｘｉａｌｌｙ Ｕｎｉｆｏｒｍ Ｅｎｅｒｇｙ Ｄｅｎｓｉｔｙ ｉｎ ａ Ｌａｓｅｒ Ｃａｖｉｔｙ」、Ａｐｐｌｉｅｄ Ｏｐｔｉｃｓ、４（１）、１４２〜１４３（１９６５）を参照されたい。あるいは、Ｈ． Ａ． Ｈｉｌｌの１９９８年４月１７日に出願された、「Ａｐｐａｒａｔｕｓ ｔｏ Ｔｒａｎｓｆｏｒｍ Ｔｗｏ Ｎｏｎ−Ｐａｒａｌｌｅｌ Ｐｒｏｐａｇａｔｉｎｇ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｂｅａｍ Ｃｏｍｐｏｎｅｎｔｓ ｉｎｔｏ Ｔｗｏ Ｏｒｔｈｏｇｏｎａｌｌｙ Ｐｏｌａｒｉｚｅｄ Ｂｅａｍ Ｃｏｍｐｏｎｅｎｔｓ」と称する米国特許出願第０９／０６１，９２８号に記載されるシステムの使用である。同出願の全体を本明細書中で参考として援用する。
【００２７】
ビーム１２の光源に用いられる特定の装置は、ビーム１２の直径および発散を決定する。例えば、ダイオードレーザ等の光源の場合、次に続く素子のための適切な直径および発散を有するビーム１２を提供するために、従来のビーム成形光学素子（例えば、従来の微小対物レンズ）を用いることを必須とするものがある。光源がＨｅＮｅレーザの場合、例えば、ビーム成形光学素子は不要となり得る。
【００２８】
別のダイナミック干渉計装置２０は、好ましくは、干渉計１０の設計と同じ設計であり、ｘ軸およびｚ軸のまわりのステージ１６の回転角を測定するために、ステージ外に固定して取り付けられている。これを達成するために、干渉計２０は、ビーム２２をミラー面６１に投影する。ビーム２２の反射成分は、上述したように角測定干渉計に送られる。ビーム２２は、ビーム１２と同様にして生成される。
【００２９】
システム１５は、通常、ｙ軸方向に平行移動して測定するように動作されるが、基準線に沿ってインサイチュでミラー面５１の形状を測定するように、特別ミラー特徴モードで動作される。特別ミラー特徴モードでは、ステージ１６は、入射ビーム１２が基準線に沿ってミラー面５１を走査し、ステージ１６を移動するための平行移動機構の振動に起因する任意の寄与成分とともに、ｘ軸方向およびｚ軸方向の角方向および表面距離を示す情報を含む信号を生成するように、ｙ軸方向に平行移動される。ステージ１６がｙ軸方向へ平行移動するのと同時に、干渉計２０は、ビーム２２が反射面６１によって遮断される点に相当するミラー６１上の１つの点をモニタする。このステップによって、ステージ１６の平行移動機構（例えば、ベアリング、駆動機構等）の機械的寄与に起因するステージ１６の回転を測定することを可能にする。この情報を用いて、２つの信号が生成される。干渉計１０からの第１の信号は、基準線に沿った、基準線と直交するミラー面５１の傾きの変化に関する情報を含み、干渉計２０から第２の信号は、ステージ１６の角方向に関する情報を含む。これらの２つの信号を組み合わせて、基準線に沿った、基準線と直交するミラー５１の傾きに関する情報（すなわち、ｄｘ／ｄｙおよびｄｘ／ｄｚ）のみが抽出される。次いで、ｄｘ／ｄｙは、ｙの関数としてｘを得るために積分される。したがって、ｘ−ｙ平面およびｘ−ｚ平面の出射ビーム１２の方向変化を測定し、ステージの回転の変化によって生じるこれらの方向変化への寄与成分を考慮することによって、ミラー面５１の形状が、基準線に沿って決定され得、傾きｄｘ／ｄｚは、使用環境に取り付けられた状態で基準線に沿って決定され得る。
【００３０】
単一ビーム干渉計は、ステージミラー５０に入射する１つのビームのみを用いてピッチ、偏揺れ角および距離（Ｐ、ＹおよびＤ）を測定することができるので、このアプリケーションに好ましい。通常動作を変更しない限り、さらにハードウェアを変更することなく、ミラー形状に関する情報をインサイチュで抽出することができる。
【００３１】
しかしながら、ｙ軸方向に平行移動させた場合には、ステージベアリング等によってステージがぐらつき、方向の誤差が大きくなるために、第２の方向の第２の測定が必要となる。したがって、ミラー面６１を用い、ビーム２２の反射ビームの一部を調べることによって、ステージの方向の偏差または変化を測定する。このこともまた好ましくはダイナミック干渉計を用いて行われる。
【００３２】
このアプリケーションの場合に単一ビーム干渉計を用いる重要な特徴は、１つのビームが、１／ｄ（ｄはビーム直径）によって与えられるカットオフ周波数までのすべての空間周波数を含むということである。一方、二重ビーム干渉計（例えば、ＨＳＰＭＩ）を用いることによって、２つの二重ビームまたはその高調波のビーム間隔に等しい波長を有するすべての空間周波数を損失し、その結果、形状を回復できなくなる。
【００３３】
第２の干渉計２０が、本発明の範囲および意図から逸脱することなく、複数のビーム干渉計（図示せず）を含む角測定干渉計の別の形態であり得ることは、当業者にとって明白である。ただし、図示するタイプは、例えば、「Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ Ｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｅｒ Ａｒｒａｎｇｅｍｅｎｔｓ ｆｏｒ Ｄｉｓｔａｎｃｅ ａｎｄ Ａｎｇｌｅ Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔｓ：Ｐｒｉｎｃｉｐｌｅｓ， Ａｄｖａｎｔａｇｅｓ， ａｎｄ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ」、Ｃ． Ｚａｎｏｎｉ、ＶＤＩ Ｂｅｒｉｃｈｔｅ ＮＲ．７４９、（１９８９）に示されており、この内容の全体を本明細書中において参考として援用する。
【００３４】
次に、図２を参照する。図２は、システム１１５として示される干渉計装置の模式的斜視図である。システム１１５は、一対の直交して配置されたダイナミック干渉計を採用している。それにより、ステージがまず一方の方向に平行移動され、その後直交方向に移動された場合に、ステージ上に直交するように取り付けられた細長い対物ミラーの形状が、各ミラーに関連する基準線に沿ってインサイチュで特徴付けられ得るか、または、ミラーの相対形状が、直交方向に沿ってステージを移動させると同時に得られ得る。
【００３５】
図２に示されるように、システム１１５は、ここでもやはり面内平行移動するように取り付けられたステージ１６を備える。ただし、ステージ１６は、ここでは通常、ｘ方向およびｙ方向の両方への移動を測定するように動作される。薄く高いアスペクト比のミラー１５０は、ｙ軸方向に細長いミラー面１５１を有しており、ステージ１６に固定されている。薄く高いアスペクト比のミラー１６０は、ｘ軸方向に細長い細長反射面１６１を有しており、これもまたステージ１６に固定して取り付けられており、ミラー１５０と名目上直交している。
【００３６】
システム１１５はまた、２つのミラー特徴モードのうちいずれかで動作され、表面１５１および１６１をインサイチュで測定し得る。第１のミラー特徴モードでは、システム１１５は、図１のシステム１５のミラー特徴モードの様態で動作され、表面１５１の形状を得る。その後、ステージ１６は、ｙ軸方向の並進は固定したままｘ軸方向に移動され、ミラー１５１の形状を得るのと同様の様態でミラー１６１の形状を得る。したがって、これは２段階動作である。
【００３７】
第２のミラー特徴モードでは、ステージ１６は、ｘ軸方向およびｙ軸方向に同時に移動され得る。しかしながら、ミラー面の形状間の関係のみを得ることができる。限られた情報のみをこのモードを用いて得るが、この情報が意図した下流での使用に十分である場合には、このモードによって、以前のプロセスにおける１ステップが省略される。
【００３８】
図１の実施形態および図２の実施形態のいずれの通常動作にも関わる目的は、ミラーの形状に関する情報を得て、この情報を用いてミラーの形状が精度の及ぼす影響を補正し得ることである。これにより距離を測定することができる。この点について、ルックアップテーブル（ＬＵＴ）または多項式あるいはフーリエ級数閉近似式を用いて実現され得る距離補正アルゴリズムは、測定距離を調整するために用いられ得る。１ナノメートルの１／１０のオーダの補正が可能である。
【００３９】
図３は、直交して配置された３つのダイナミック干渉計を採用する干渉計装置の模式的斜視図である。これにより、ステージが３つの直交方向ｘ、ｙおよびｚに沿って平行移動されると、ステージ上に直交して取り付けられた細長い対物ミラーの形状は、各ミラーに関連する複数の直交する基準線（ｘ−ｚ平面、ｘ−ｙ平面およびｙ−ｚ平面）に沿ってインサイチュで特徴付けられ得る。
【００４０】
次に図３を参照する。図３において、この実施形態の装置は、ステージ１６を備えたシステム２０２として示されている。ステージ１６の上部には、平面ミラー２７０および平面ミラー２６０が固定して取り付けられている。平面ミラー２６０は、ｘ−ｚ平面の向きに、ｘ軸方向に細長い反射面２６１を有する。平面ミラー２７０は、ｙ−ｚ平面の向きに、ｙ軸方向に細長い反射面２７１を有する。ミラー２７０はまた、ｘ−ｙ平面の向きに、ｙ軸方向に細長い上部反射面２７２も有する。
【００４１】
基準体（図示せず）には細長い平面ミラー２８０が固定して取り付けられている。このミラー２８０は、下向き、すなわちステージ１６の方向に面する下部反射面を有する。単一ビーム干渉計２３１は、ｘ軸方向にのみ平行移動するステージ１６のある部分に対して固定して取り付けられている。この干渉計２３１は、ミラー面２７２とミラー２８０の下面との間の垂直方向の間隔または高さを測定するように適応されている。
【００４２】
ビーム２１２内に出射ビーム成分および反射ビーム成分を有する単一ビーム干渉計２１０は、上述したように、ｘ、および、ｙ軸およびｚ軸まわりのピッチならびに揺れ角を測定する。ビーム２２２内に出射ビーム成分および反射ビーム成分を有する単一ビーム干渉計２２０は、これも上述したように、ｙ、および、それぞれｘ軸およびｚ軸まわりのピッチならびに揺れ角を測定する。
【００４３】
任意の高さにおける、ミラー２７０および２６０のｘおよびｙプロフィールは、上述した手順を用いて測定され得る。しかしながら、これに加えて、この実施形態によれば、異なる高さにおいても、ミラー２６０および２７０のｘおよびｙ形状を測定することが可能となる。例えば、ｘおよびｙ形状は、ステージ１６のある高さにて決定され得、その後、垂直方向に間隔を空けられ得る別の高さ（例えば、最初の高さの上下４〜５ｍｍ）にて測定され得る。このことを行うために、ｚ軸方向への移動によって生じるステージ１６の角変化を最適精度に考慮する必要がある。
【００４４】
干渉計２３１は、ステージ１６の方向の変化に敏感となるように上述された様態で適応されてる。これにより、単一ビーム干渉計は、表面２８０および２７２の１つの光路をなし、さもなくば、ビーム２３３のピッチおよび揺れ角を測定するように構成される。光源／検出器２３０は、干渉計２３１にビームを提供する（図４ａおよび図４ｂを参照のこと）。したがって、ステージ１６がｘ軸またはｙ軸のまわりを回転する場合、干渉計２３１は、ｚ軸方向へ平行移動している間にそれを補正する。ビーム２３３が、ビーム２１２に対してｘ軸のまわりを回転し、かつ、ビーム２２２に対してｙ軸のまわりを回転する場合も補正が行われる。ステージ１６の回転は、ｚ軸方向への移動の情報を用いて、表面２７１および２６１が、ｚ軸方向およびｙ軸方向、ならびにｘ軸方向にマッピングされ得るように、補正されたｚの移動をともなって決定され得る。
【００４５】
表面２７２の形状もまた表面２６１および２７１の形状を決定するプロセスにより得られることは、当業者には明らかである。
【００４６】
図４ａおよび図４ｂは、それぞれ、図３のシステム２０２に用いられる干渉計２３１の模式的平面図および正面図である。図から分かるように、干渉計２３１は、紙面に垂直な方向に配置された偏光ビームスプリッタ層３０２を有する第１の偏光ビームスプリッタ３００（ＰＢＳ）を備える。ＰＢＳ３００は、ＰＢＳ層３０２に直角の向きのＰＢＳ層３２４を有するＰＢＳ３１２に続く。ＰＢＳ３１２は、１／４波長板３１４、その後、ポロプリズム３１６に続く。
【００４７】
ＰＢＳ３００は、一方の側面に１／４波長板３０４を有しており、その上部にはミラー反射面３０６が位置し、ＰＢＳ３００の反対の側面には１／４波長板３０８が設けられている。この１／４波長板３０８の上には、反射面３１０が位置する。
【００４８】
ＰＢＳ３１２は、上面には１／４波長板３２６および下面には別の１／４波長板３３０を有する。ミラー２８０は１／４波長板３２６の上に、ミラー２７０は１／４波長板３３０の下に位置する。
【００４９】
第３のＰＢＳ３１８は、ＰＢＳ３００の出射端部に設けられており、ＰＢＳ層３１９を含む。ビーム２３２の反射成分は、ＰＢＳ３１８によって２つのビーム３４３および３４５に分けられる。これらのビーム３４３および３４５は、光検出器３２２および３２０にそれぞれ送られ、さらなる解析を行うために電気信号に変換される。
【００５０】
この構成によれば、干渉計２３１が回転している場合には、出射ビームの方向を変更させない。しかしながら、ミラー２７０または２８０のいずれかが回転している場合には、それに対応する角が測定される。
【００５１】
図４ａの干渉計の平面図は、基準ビームが干渉計２３１を伝搬する場合の光路を示している。図４ｂの正面図は、測定ビームが干渉計２３１を伝搬する場合の光路を示している。
【００５２】
ステージミラーがインサイチュで特徴付けられ得る上述の装置を説明してきたが、次に、図５に注目する。図５は、ステージミラーのトポグラフィをインサイチュで特徴付ける方法のフローチャートを示す。図から分かるように、この方法は、まずブロック４００から開始する。ここで、ステージ１６は、好ましくは、パーク位置にある。次のステップは、ブロック４０２に示されるように、面内移動するために、平行移動ステージに細長い平面対物ミラーを取り付けるステップである。この次は、干渉計から１つのビームを対物ミラーに指向させるステップである。次に、ブロック４０６に示されるように、ステージは、ビームがミラーに指向されている間、ミラーの細長い方向に沿って移動され、ビームが基準線に沿ってミラーを走査する。この後、ブロック４０８に示されるように、ミラーが、基準線に沿ってミラー面の局所的な傾きに関する情報を含む信号を生成するように走査される間、ミラーからの反射ビームがモニタされ、反射ビームの角変化が測定される。その後、ブロック４１０に示されるように、ステージがミラーの長い寸法の方向に移動すると、ステージの角方向は、もう一方の直行するように位置付けられた干渉計からの１つのビームを平行移動しないステージ上のある点に指向することによって測定される。この後、第１の干渉計からの信号を測定されたステージ方向情報と組み合わせて、ステージの変位を変数として、ミラー面の局所的な傾きを決定する。その後、ブロック４１４において、傾き情報を積分して、基準線に沿ったミラーのトポグラフィが得られる。最後に、ブロック４１６に示されるようにプロセスを繰り返し、もう一方の直交するように位置付けられたステージミラーをマッピングするか、または、ｚ軸方向の初期基準線から間隔を空けて配置された同じミラー上を基準線に沿って走査し得る。
【００５３】
上述のプロセスは、適切にプログラムされた汎用コンピュータ、または、システムハードウェアエレメントの全制御を行い、システム制御および人間の介入用にユーザインターフェースを提供し、一般的なハウスキーピング機能を実行するためにさらに用いられ得る専用マイクロプロセッサを介して実行され得ることを理解されたい。
【００５４】
種々の実施形態を説明してきたが、当業者であれば、本発明の教示内容に基づいてさらなる変更をどのようにして行うかは明らかであり、このような変更は本発明の範囲内であるとみなされる。例えば、リソグラフィツールウェハステージの計測学において、ウェハステージ上に干渉計を配置し、リソグラフィツールの基準フレーム上にウェハステージ外の関連するバーミラーを配置することもまた公知である。例えば、Ｃａｒｌ Ａ． Ｚａｎｏｎｉによる１９９８年３月に付与された、「Ｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｒｉｃ Ａｐｐａｒａｔｕｓ Ｆｏｒ Ｍｅａｓｕｒｉｎｇ Ｍｏｔｉｏｎｓ Ｏｆ Ａ Ｓｔａｇｅ Ｒｅｌａｔｉｖｅ ｔｏ Ｆｉｘｅｄ Ｒｅｆｌｅｃｔｏｒｓ」と称する同一人に譲渡された米国特許第５，７２４，１３６号、および、Ｊｕｓｔｉｎ Ｋｒｅｕｚｅｒによる１９９８年５月に付与された、「Ｍｏｖｉｎｇ Ｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｅｒ Ｗａｆｅｒ Ｓｔａｇｅ」と称する米国特許第５，７５７，１６０号を参照されたい。同特許のいずれも本明細書中において参考として援用する。
【００５５】
上述の方法および装置はまた、ウェハステージ上に位置する干渉計として用いられるダイナミック干渉計を用いて、ウェハステージ外に位置するバーミラーの形状をインサイチュで特徴付けるために用いられ得る。したがって、ウェハステージ上のウェハの平面に直交する方向に向けられた測定表面（単数または複数）を有するバーミラー（単数または複数）の形状（単数または複数）を特徴付けることに関連する上述の実施形態の各々について、リソグラフィツールの基準フレームに固定されたウェハステージ外に位置付けられたバーミラー（単数または複数）およびウェハステージ上に位置付けられた１つ以上のダイナミック干渉計を有する実施形態のセットに相当する。このような実施形態の一例が図６に示され得る。次に、図６を参照する。
【００５６】
図６は、干渉計装置６０２の模式的斜視図である。干渉計装置６０２は、ステージ上に直交して配置された３つのダイナミック干渉計または干渉計サブシステムを採用しており、これにより、ステージ外に直交して取り付けられた、薄く細長い対物ミラーの形状、および、ステージ上に取り付けられた薄く細長いミラーの形状は、平行移動ステージ６１６が３つの直交する方向（ｘ、ｙおよびｚ）に沿って平行移動されると、各ミラーに関連する複数の基準線（好ましくは、ｘ−ｚ平面、ｘ−ｙ平面およびｙ−ｚ平面）に沿ってインサイチュで特徴付けられ得る。理解されるように、関連するミラー（単数または複数）と組み合わされた各干渉計サブシステムは、平行移動ステージ６１６の変位を測定するために主に用いられる干渉計であり、それにより、ウェハホルダ６０３によってステージ６１６上の所定位置で保持されるウェハ６０４は、基準フレーム６００（一部分を示す）によって取り付けられた周知の露光ユニット６０１によって生成される露光ビーム６０６に正確に位置付けられ得る。干渉計サブシステムは、好ましくは、単一ビーム平面ミラー干渉計であるが、これは、本発明の動作に必須ではない。
【００５７】
続いて、図６を参照する。システム６０２は、平行移動ステージ６１６を備えることが分かり得る。その平行移動ステージ６１６の上には、干渉計サブシステム６１０および干渉計サブシステム６２０が固定して取り付けられている。平面ミラー６５０および６７０は、基準フレーム６００に固定して取り付けられている。平面ミラー６５０は、実質的にｘ−ｚ平面に向いており、実質的にｘ軸方向に細長い反射面６６１を有する。平面ミラー６７０は、実質的にｙ−ｚ平面に向いており、実質的にｙ軸方向に細長い反射面６７１を有する。
【００５８】
ミラー６８０は、平行移動ステージ６１６の上部に固定して取り付けられ、実質的にｘ−ｙ平面に向いており、実質的にｙ軸方向に細長い上部反射面６８２も有する。
【００５９】
基準フレーム６００（ここでもやはり一部を示す）には、下方向、すなわちステージ６１６方向に面する下部反射面を有する細長い平面ミラー６９０が固定して取り付けられている。実質的にｘ軸方向にのみ平行移動するステージ６１６のある部分には、単一ビーム干渉計６３１が固定して取り付けられている。この単一ビーム干渉計６３１は、ミラー面６８２およびミラー６９０の下面との間の垂直方向の間隔または高さを測定するように適応さている。
【００６０】
ビーム６１２内に出射ビーム成分および反射ビーム成分を有する単一ビーム干渉計６１０は、上述したように、ｘ軸方向の実質的な変位、および、ｙ軸およびｚ軸まわりの実質的なピッチならびに揺れ角をそれぞれ測定する。ビーム６２２内に出射ビーム成分および反射ビーム成分を有する単一ビーム干渉計６２０は、これも上述したように、ｙ軸方向の実質的な変位、および、ｘ軸およびｚ軸まわりの実質的なピッチならびに揺れ角をそれぞれ測定する。
【００６１】
任意の高さにおける、ミラー６５０および６７０のｘおよびｙプロフィールは、上述した手順を用いて測定され得る。しかしながら、これに加えて、この実施形態によれば、異なる高さにおいても、高さを変数として、ミラー６５０および６７０のｘおよびｙ形状を測定することが可能となる。例えば、ｘおよびｙ形状は、ステージ６１６のある高さにて決定され得、その後、垂直方向に間隔を空けられ得る別の高さ（例えば、最初の高さの上下４〜５ｍｍ）にて測定され得る。このことを行うために、ｚ軸方向への移動によって生じるステージ６１６の角変化を最適精度に考慮する必要がある。
【００６２】
干渉計サブシステム６３１は、ステージ６１６の方向の変化に敏感となるように上述された様態で適応されてる。これにより、単一ビーム干渉計は、下部６９０および表面６８２の１つの光路をなし、さもなくば、ビーム６３４のピッチおよび揺れ角に対する、ビーム６３３のピッチおよび揺れ角を測定するように構成される。したがって、ステージ６１６がｘ軸またはｙ軸のまわりを回転する場合、干渉計６３１は、ｚ軸方向へ平行移動している間にそれを補正する。ｚ軸方向への移動の情報を用いて、ステージ６１６の回転は、表面６７１および６６１が、ｚ軸方向およびｙ軸方向、ならびにｘ軸方向にマッピングされ得るように、補正されたｚの移動を用いて決定され得る。光源／検出器６３０は、類似する図４ａおよび図４ｂの装置に関連して説明された様態で干渉計サブシステム６３１にビームを提供する。
【００６３】
表面６８２の形状およびミラー６９０の下面もまた表面６６１および６７１の形状を決定するプロセスにより得られ得ることは、当業者には明らかである。
【００６４】
上述の記載から、フォトリソグラフィ用途および機器に用いる薄く、細長いミラーは、ミラー特徴モードで動作中の平行移動ステージの移動を制御することによって得られる相対移動を有するミラーに関連付けられた干渉計サブシステムを用いることで、インサイチュにて特徴付けられ得ることが分かる。相対移動は、平行移動ステージ上に干渉計サブシステムを取り付け、ステージ外に取り付けられた薄く細長いミラーのうちいくつかを基準フレームに固定して取り付ける（または、その逆）と得られ得る。ミラーが一旦特徴付けされると、装置が測定モードで動作している場合、基準フレームに対して、その後ウェハを露光するために用いられるマスクに対して、ウェハを正確に位置付けるために、エラー訂正信号が用いられ得る。
【００６５】
図６のステージ上のダイナミック干渉計へのレーザビームの提供は、光源／検出器６３０を介して、または、Ｚａｎｏｎｉによるｏｐ． ｃｉｔ．に記載される光ファイバ、あるいは、例えば、Ｋｒｅｕｚｅｒによるｏｐ． ｃｉｔ．に記載される自由空間輸送、もしくは、これらの組み合わせによって説明され得る。
【００６６】
上述の教示内容および実施形態に基づく本発明の他の改変は、当業者には明らかであり、このような改変は、特許請求の範囲内であるとみなされる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 図１は、一対の直交して配置されたダイナミック干渉計を採用している干渉計装置の模式的斜視図である。これにより、ステージ上に取り付けられた細長い対物ミラーの形状は、ステージが一方の方向に平行移動されると、基準線に沿ってインサイチュにて特徴付けられ得る。
【図２】 図２は、一対の直交して配置されたダイナミック干渉計を採用している干渉計装置の模式的斜視図である。これにより、ステージ上に直交するように取り付けられた細長い対物ミラーの形状は、ステージが好ましくは、まず、一方の方向に平行移動され、その後直交方向に移動された場合に、各ミラーに関連する基準線に沿ってインサイチュで特徴付けられ得るか、または、ミラーの相対形状が、直交方向に沿ってステージを移動させると同時に得られ得る。
【図３】 図３は、直交して配置された３つのダイナミック干渉計を採用する干渉計装置の模式的斜視図である。これにより、ステージ上に直交して取り付けられた細長い対物ミラーの形状は、ステージが３つの直交方向に沿って平行移動されると、各ミラーに関連する複数の直交する基準線に沿ってインサイチュで特徴付けられ得る。
【図４ａ】 図４ａは、図３の装置に用いられる干渉計の模式的平面図である。
【図４ｂ】 図４ｂは、図３の装置に用いられる干渉計の模式的正面図である。
【図５】 図５は、本発明の方法によるフローチャートである。
【図６】 図６は、ステージ上に直交して配置された３つのダイナミック干渉計を採用している干渉計装置の模式的斜視図である。これにより、対応するステージ外に直交して取り付けられた、細長い対物ミラーの形状は、ステージが３つの直交方向に沿って平行移動されると、各ミラーに関連する複数の基準線に沿ってインサイチュで特徴付けられ得る。

Claims (18)

1. 基準フレームを含む平行移動ステージと、
   該平行移動ステージを該基準フレームに対して少なくとも２つの直交方向のうちの少なくとも１つの方向に選択的に平行移動する電気機械的構成と、
   該基準フレームに対して所定の態様で取り付けられた少なくとも１つの薄く細長いミラーであって、反射面と、自身の長手方向の寸法に沿って延びる公称基準線とを有する、少なくとも１つの薄く細長いミラーと、
   ダイナミック干渉計を含む少なくとも１つの干渉計サブシステムであって、該少なくとも１つの干渉計サブシステムは、該少なくとも１つの薄く細長いミラーに対して所定の態様で取り付けられ、該少なくとも１つの薄く細長いミラーと協働して、少なくとも１つの方位における該平行移動ステージの変位を測定するように適応されており、該少なくとも１つの薄く細長いミラーの基準線に沿って該少なくとも１つの薄く細長いミラーの局所的な傾きを測定し、該少なくとも１つの薄く細長いミラーの該反射面に垂直な方向の局所的な変位を測定するように適応されており、該局所的な傾きは、該少なくとも１つの薄く細長いミラーに照射された単一の干渉計ビームが該少なくとも１つの薄く細長いミラーによって遮断される点の直径における傾きである、少なくとも１つの干渉計サブシステムと
   動作モード時に、該平行移動ステージと、該少なくとも１つの薄く細長いミラーとを、該少なくとも１つの干渉計サブシステムに対して移動するように選択的に平行移動する動作モードを有する制御手段であって、該少なくとも１つの干渉計サブシステムは、該動作モード中に、対応する基準線に沿って該少なくとも１つの薄く細長いミラーの該反射面の局所的な傾きおよび局所的な変位を走査して、該電気機械的構成自身から現れる変化に起因する何らかの寄与成分とともに、該反射面のトポグラフィを示す情報を含む信号を生成する、制御手段と、
   該信号に含まれる該情報を抽出し、該制御手段が該動作モード中に、該反射面の形状に関する光路長の誤差およびビーム方向の誤差を補償するために訂正信号を生成する信号合成および信号解析手段であって、該制御手段は、該平行移動ステージの該選択的な平行移動においてフィードバックとして該訂正信号を用いる、信号合成および信号解析手段と
   を備える、干渉計装置。
2. 前記少なくとも１つの薄く細長いミラーは、前記平行移動ステージとともに移動するように、該平行移動ステージに取り付けられ、前記少なくとも１つの干渉計サブシステムは、該平行移動ステージ外に固定して取り付けられている、請求項１に記載の干渉計装置。
3. 前記少なくとも１つの干渉計サブシステムは、前記平行移動ステージとともに移動するように該平行移動ステージに固定して取り付けられており、前記少なくとも１つの薄く細長いミラーは、該平行移動ステージ外に固定して取り付けられている、請求項１に記載の干渉計装置。
4. 前記制御手段は、前記平行移動ステージの移動が、前記基準フレームに対して少なくとも１つの方位で測定される別の動作モードを有するように構成され、かつ、配置されている、請求項１に記載の干渉計装置。
5. 少なくとも２つの薄く細長いミラーであって、互いに対して直交するように配置された反射面を有し、該少なくとも２つの薄く細長いミラーの各々が自身の長手方向の寸法に沿って延びる公称基準線を含む、少なくとも２つの薄く細長いミラーと、
   前記平行移動ステージ外に少なくとも一部分が取り付けられた少なくとも２つの干渉計サブシステムであって、該少なくとも２つの干渉計サブシステムの各々が、該薄く細長いミラーのうちの対応する１つを走査するように適応されており、走査されたミラーの基準線に沿った、および、該走査されたミラーの基準線に直交した、該走査されたミラーの局所的な傾きと、該反射面に垂直方向の該走査されたミラーの局所的な変位とを測定するように構成されている、少なくとも２つの干渉計サブシステムと
   を備え、
   前記制御手段は、前記動作モードにおいて、前記平行移動ステージの可能な移動方向の１つまたはすべてに該平行移動ステージを選択的に平行移動するようにさらに構成されており、これにより、該干渉計サブシステムのうちの少なくとも１つは、対応する基準線に沿って該薄く細長いミラーのうちの対応する１つを走査して、前記電気機械的構成自身から現れる変化に起因する何らかの寄与成分とともに、対応する反射面の表面トポグラフィを示す情報を含む信号を生成する一方、該干渉計サブシステムのうちの他方は、少なくとも該平行移動ステージの角変化に関する情報を含む信号を生成し、
   前記信号合成および信号解析手段は、該信号に含まれる情報を抽出して、該少なくとも２つの薄く細長いミラーの形状に関する光路長の誤差およびビーム方向の誤差を補償するために訂正信号を生成する、請求項１に記載の干渉計装置。
6. 前記少なくとも１つの干渉計サブシステムは、単一ビーム平面ミラー干渉計サブシステムを含む、請求項１に記載の干渉計装置。
7. 前記干渉計装置は、直交するように配置された３つの薄く細長いミラーと、前記制御手段が３つの方向における該ミラーの表面トポグラフィを測定するために前記動作モードにある間に互いに相対移動するように取り付けられた対応する３つの干渉計サブシステムとを備える、請求項１に記載の干渉計装置。
8. 前記平行移動ステージとともに移動するように該平行移動ステージ上に位置付けられたフォトリソグラフィウェハマウントをさらに備える、請求項１に記載の干渉計装置。
9. 前記平行移動ステージ上に位置付けられたウェハ上にマスクパターンを形成するために、前記基準フレームに固定して取り付けられたフォトリソグラフィ露光ユニットをさらに備える、請求項８に記載の干渉計装置。
10. 平行移動ステージを基準フレームに対して移動するように提供するステップと、
    該平行移動ステージを該基準フレームに対して少なくとも２つの直交方向のうちの少なくとも１つの方向に選択的に平行移動するステップと、
    該基準フレームに対して所定の態様で少なくとも１つの薄く細長いミラーを取り付けるステップであって、該少なくとも１つの薄く細長いミラーは、反射面と、自身の長手方向の寸法に沿って延びる公称基準線とを有する、ステップと、
    該少なくとも１つの薄く細長いミラーに対して所定の態様で、ダイナミック干渉計を含む少なくとも１つの干渉計サブシステムを取り付けるステップであって、該少なくとも１つの干渉計サブシステムは、該少なくとも１つの薄く細長いミラーと協働して、少なくとも１つの方位における該平行移動ステージの変位を測定するように適応されており、該少なくとも１つの薄く細長いミラーの基準線に沿って該少なくとも１つの薄く細長いミラーの局所的な傾きを測定し、該少なくとも１つの薄く細長いミラーの該反射面に垂直な方向の局所的な変位を測定するようにも適応されており、該局所的な傾きは、該少なくとも１つの薄く細長いミラーに照射された単一の干渉計ビームが該少なくとも１つの薄く細長いミラーによって遮断される点の直径における傾きである、ステップと、
    動作モード時に該平行移動ステージを選択的に平行移動するステップであって、該少なくとも１つの薄く細長いミラーと該少なくとも１つの干渉計サブシステムとは、該動作モード時に、互いに相対移動し、該少なくとも１つの干渉計サブシステムは、該動作モード中に、対応する基準線に沿って該少なくとも１つの薄く細長いミラーの該反射面の局所的な傾きおよび局所的な変位を走査して、該平行移動ステージを選択的に平行移動するステップ時に現れる変化に起因する何らかの他の寄与成分とともに、該反射面のトポグラフィを示す情報を含む信号を生成する、ステップと、
    該信号に含まれる該情報を抽出し、該動作モード中に、該少なくとも１つの薄く細長いミラーの該反射面の形状に関する光路長の誤差およびビーム方向の誤差を補償するために訂正信号を生成するステップであって、該選択的に該平行移動ステージを平行移動することは、該訂正信号をフィードバックとして用いることを含む、ステップと
    を包含する、干渉計による方法。
11. 前記少なくとも１つの薄く細長いミラーは、前記平行移動ステージとともに移動するように、該平行移動ステージに取り付けられ、前記少なくとも１つの干渉計サブシステムは、該平行移動ステージ外に固定して取り付けられている、請求項１０に記載の干渉計による方法。
12. 前記少なくとも１つの干渉計サブシステムは、前記平行移動ステージとともに移動するように該平行移動ステージに固定して取り付けられており、前記少なくとも１つの薄く細長いミラーは、該平行移動ステージ外に固定して取り付けられている、請求項１０に記載の干渉計による方法。
13. 前記平行移動ステージの移動が、前記基準フレームに対して少なくとも１つの方位で測定される別の動作モードを有する、請求項１０に記載の干渉計による方法。
14. 少なくとも２つの薄く細長いミラーであって、互いに対して直交するように配置された反射面を有し、該少なくとも２つの薄く細長いミラーの各々が自身の長手方向の寸法に沿って延びる公称基準線を含む、少なくとも２つの薄く細長いミラーと、
    前記平行移動ステージ外に少なくとも一部分が取り付けられた少なくとも２つの干渉計サブシステムであって、該少なくとも２つの干渉計サブシステムの各々が、該薄く細長いミラーのうちの対応する１つを走査するように適応されており、走査されたミラーの基準線に沿った、および、該走査されたミラーの基準線に直交した、該走査されたミラーの局所的な傾きと、該反射面に垂直方向の該走査されたミラーの局所的な変位とを測定するように構成されている、少なくとも２つの干渉計サブシステムと
    が提供されており、
    前記方法は、前記動作モードにおいて、該平行移動ステージの可能な移動方向の１つまたはすべてに該平行移動ステージを選択的に平行移動するようにさらに構成されており、これにより、該干渉計サブシステムのうちの少なくとも１つは、対応する基準線に沿って該薄く細長いミラーのうちの対応する１つを走査して、該平行移動ステージを選択的に平行移動するステップ時に現れる何らかの他の寄与成分から生じる変化に起因する何らかの寄与成分とともに、対応する反射面のトポグラフィを示す情報を含む信号を生成する一方、該干渉計サブシステムのうちの他方は、少なくとも該平行移動ステージの角変化に関する情報を含む信号を生成し、
    該信号に含まれる情報を抽出するステップは、該少なくとも２つの薄く細長いミラーの形状に関する光路長の誤差およびビーム方向の誤差を補償するために訂正信号を生成する、請求項１０に記載の干渉計による方法。
15. 前記少なくとも１つの干渉計サブシステムは、単一ビーム平面ミラー干渉計サブシステムを含む、請求項１０に記載の干渉計による方法。
16. 直交するように配置された３つの薄く細長いミラーと、３つの方向において該ミラーの局所的な形状を測定するために前記動作モードにある間に互いに相対移動するように取り付けられた対応する３つの干渉計サブシステムとが提供されている、請求項１０に記載の干渉計による方法。
17. 前記平行移動ステージとともに移動するように該平行移動ステージ上にフォトリソグラフィウェハを取り付けるステップをさらに包含する、請求項１０に記載の干渉計による方法。
18. 照射のマスクパターンによって、前記基準フレームから前記ウェハをフォトリソグラフィ露光することをさらに包含する、請求項１７に記載の干渉計による方法。

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