JPS5998446A - 電子ビ−ム装置 - Google Patents
電子ビ−ム装置Info
- Publication number
- JPS5998446A JPS5998446A JP20885982A JP20885982A JPS5998446A JP S5998446 A JPS5998446 A JP S5998446A JP 20885982 A JP20885982 A JP 20885982A JP 20885982 A JP20885982 A JP 20885982A JP S5998446 A JPS5998446 A JP S5998446A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- orifice
- gauge
- vacuum
- vacuum gauge
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は高速の電子ビームでワークの熱処理。
溶解、溶接、穴明け、その他の処理を行なう電子ビーム
装置に関するものでろる０゜ これら電子ビーム装置ではワーク側からのカスや反射電
子が電子ビーム発生源（ｉｌＥ子銃）側に侵入し電子ビ
ーム発生の安定性を損うおそれがあるため、それらの侵
入を制限するオリフィス（有孔円筒など）を設けること
がある。このオリスイスはその効果を高めるために、′
！［子ビームの通過を許すぎりぎシに近い寸法までその
電子ビーム通過用孔をせばめるようにしている。従って
初期調整段階や長期間使用後などにおいて電子ビーム軌
道がオリアイスの中心軸からそれてオリフィスやその周
辺にかなシの割合の電子ビームが当ったシすることがあ
る。そしてオリフィス等を損傷したシ。
装置に関するものでろる０゜ これら電子ビーム装置ではワーク側からのカスや反射電
子が電子ビーム発生源（ｉｌＥ子銃）側に侵入し電子ビ
ーム発生の安定性を損うおそれがあるため、それらの侵
入を制限するオリフィス（有孔円筒など）を設けること
がある。このオリスイスはその効果を高めるために、′
！［子ビームの通過を許すぎりぎシに近い寸法までその
電子ビーム通過用孔をせばめるようにしている。従って
初期調整段階や長期間使用後などにおいて電子ビーム軌
道がオリアイスの中心軸からそれてオリフィスやその周
辺にかなシの割合の電子ビームが当ったシすることがあ
る。そしてオリフィス等を損傷したシ。
電子ビームの一部を遮断してしまったシ、オリアイス周
りからの蒸発物で電子銃を汚染したり、を子銃の動作を
不安定にしたシする事態に至ることになる。
りからの蒸発物で電子銃を汚染したり、を子銃の動作を
不安定にしたシする事態に至ることになる。
オリスイスの孔周シに許容できぬほど多くの電子が当っ
た場合にそれを検知する方法の一つとしては、他から絶
縁した電極でその電子を受は電極からの導線を電、流計
などの検知部に接続することが考えられる。しかし、こ
の方法では絶縁電極やそれからの導線が射突電子や反射
電子などによってその機能がだんだん破壊されて行くお
それもあシ、信頼性の点で問題がある。
た場合にそれを検知する方法の一つとしては、他から絶
縁した電極でその電子を受は電極からの導線を電、流計
などの検知部に接続することが考えられる。しかし、こ
の方法では絶縁電極やそれからの導線が射突電子や反射
電子などによってその機能がだんだん破壊されて行くお
それもあシ、信頼性の点で問題がある。
この発明は簡素かつ丈夫な機構でオリアイス周シに許容
量以上の電子ビームが当っていることを検知するように
した電子ビーム装置を提供するものである。
量以上の電子ビームが当っていることを検知するように
した電子ビーム装置を提供するものである。
そのためこの発明の電子ビーム装置は、ある程度以上の
電子ビームがオリアイスやその周シに当っていることを
検知するための真空ゲージを設けている。
電子ビームがオリアイスやその周シに当っていることを
検知するための真空ゲージを設けている。
次に図面を参照しながらこの発明を説明する。
第１図は本発明の電子ビーム装置の一実施例？示す断面
図で、真空容器１（これを排気する真空ポンプ系は図示
せず）内のカソード２から放出された電子はウェーネル
ト３．アノード４によ構成形・加速されて束状の電子ビ
ーム５となり、オリフィス６の孔を通過し電子レンズ７
で集束されて支持体８上のワーク９に入射しワークを処
理する。
図で、真空容器１（これを排気する真空ポンプ系は図示
せず）内のカソード２から放出された電子はウェーネル
ト３．アノード４によ構成形・加速されて束状の電子ビ
ーム５となり、オリフィス６の孔を通過し電子レンズ７
で集束されて支持体８上のワーク９に入射しワークを処
理する。
オリフィス６の上方に近接して真空ゲージ１０に取シ付
け、オリフィスに電子ビームがある程度以上当ると電子
ビーム衝撃加熱作用でオリフィスまわり（通常、銅、ア
ルミニウム、鉄などが使われている）の金属体等から放
出されるガスによる圧力上昇（真空度の低下）を検出す
るようにしている。真空ゲージ１０としてはよく知られ
ている冷陰極あるいは熱陰極のイオンゲージなどを用い
る。
け、オリフィスに電子ビームがある程度以上当ると電子
ビーム衝撃加熱作用でオリフィスまわり（通常、銅、ア
ルミニウム、鉄などが使われている）の金属体等から放
出されるガスによる圧力上昇（真空度の低下）を検出す
るようにしている。真空ゲージ１０としてはよく知られ
ている冷陰極あるいは熱陰極のイオンゲージなどを用い
る。
このようにしてオリフィス６にかなジの電子ビームが当
っていることが検知されたと＠は、サポート１１上のア
ノード４を回転つまみ１２で水平方向に移動させ、電子
ビーム軌道を修正して電子ビーム５（の大部分）がオリ
フィス６を通過し、真空ゲージＩＯで圧力上昇が認めら
れなくなるよりな状態にする。
っていることが検知されたと＠は、サポート１１上のア
ノード４を回転つまみ１２で水平方向に移動させ、電子
ビーム軌道を修正して電子ビーム５（の大部分）がオリ
フィス６を通過し、真空ゲージＩＯで圧力上昇が認めら
れなくなるよりな状態にする。
図面からも知られるように真空ゲージ１０はオリフィス
６に直接つながっていないので入射電子や反射電子によ
る劣化がすく、長期の使用にわたってオリスイスに当る
電子を安定に検出可能な信頼できる検知機構となる。こ
れら電子ビーム装置では電子銃室またはそれにつらなる
空間の真空度を測定する真空ゲージを用いるのが常であ
るので、それを上記検知機構で兼用させればよく本発明
は特別な付加装置を要しないでもすむという利店も備え
ている。
６に直接つながっていないので入射電子や反射電子によ
る劣化がすく、長期の使用にわたってオリスイスに当る
電子を安定に検出可能な信頼できる検知機構となる。こ
れら電子ビーム装置では電子銃室またはそれにつらなる
空間の真空度を測定する真空ゲージを用いるのが常であ
るので、それを上記検知機構で兼用させればよく本発明
は特別な付加装置を要しないでもすむという利店も備え
ている。
なお、０リング１３はつまみ１２のシャフト１４の気密
封止用であり、ゲージボート１５は真空ゲージ１０を気
密に挿入かつ置市できるものである。
封止用であり、ゲージボート１５は真空ゲージ１０を気
密に挿入かつ置市できるものである。
本図ではつまみ１２は１個しか示してないがアノード４
を水平直円で任意の方向に移動させ得るよう同一水平面
内で互いｖｃ１２ｏ度ずらした方向から３個取伺けるの
がよい０不図ではまた真箪ゲージ１００℃源や電子銃電
源その他のコントロール電源も図示してない０
を水平直円で任意の方向に移動させ得るよう同一水平面
内で互いｖｃ１２ｏ度ずらした方向から３個取伺けるの
がよい０不図ではまた真箪ゲージ１００℃源や電子銃電
源その他のコントロール電源も図示してない０
第１図は本発明の電子ビーム装置の一失施例ケ示す装置
本体断面図ケ示す。 １・・・真空容器、２・・・カソード、３・・・ウェー
坏ルト、４・・・アノード、５・・・電子ビーム、６・
・・オリフィス、７・・・電子レンズ、９・・・ワーク
、１０・・・真空ゲージ。 第 ／ 閃
本体断面図ケ示す。 １・・・真空容器、２・・・カソード、３・・・ウェー
坏ルト、４・・・アノード、５・・・電子ビーム、６・
・・オリフィス、７・・・電子レンズ、９・・・ワーク
、１０・・・真空ゲージ。 第 ／ 閃
Claims (1)
- オリアイスやその周シに電子ビームが当っていることを
検知する真空ゲージを備えたこと特徴とする電子ビーム
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20885982A JPS5998446A (ja) | 1982-11-29 | 1982-11-29 | 電子ビ−ム装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20885982A JPS5998446A (ja) | 1982-11-29 | 1982-11-29 | 電子ビ−ム装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5998446A true JPS5998446A (ja) | 1984-06-06 |
Family
ID=16563293
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20885982A Pending JPS5998446A (ja) | 1982-11-29 | 1982-11-29 | 電子ビ−ム装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5998446A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5790253A (en) * | 1996-04-05 | 1998-08-04 | Nikon Corporation | Method and apparatus for correcting linearity errors of a moving mirror and stage |
| USRE38113E1 (en) | 1993-04-02 | 2003-05-06 | Nikon Corporation | Method of driving mask stage and method of mask alignment |
-
1982
- 1982-11-29 JP JP20885982A patent/JPS5998446A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| USRE38113E1 (en) | 1993-04-02 | 2003-05-06 | Nikon Corporation | Method of driving mask stage and method of mask alignment |
| US5790253A (en) * | 1996-04-05 | 1998-08-04 | Nikon Corporation | Method and apparatus for correcting linearity errors of a moving mirror and stage |
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