JPH03273663A - 基板保持装置 - Google Patents
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- JPH03273663A JPH03273663A JP2071886A JP7188690A JPH03273663A JP H03273663 A JPH03273663 A JP H03273663A JP 2071886 A JP2071886 A JP 2071886A JP 7188690 A JP7188690 A JP 7188690A JP H03273663 A JPH03273663 A JP H03273663A
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- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
この発明は、マスク等の原版の像を半導体ウェハ等の被
露光基板上に高精度に焼付転写する露光装置において、
前記半導体ウェハを搬送するウェハハンド等に用いられ
、または半導体ウェハを保持するウェハチャック等とし
て用いられる基板保持装置に関する。
露光基板上に高精度に焼付転写する露光装置において、
前記半導体ウェハを搬送するウェハハンド等に用いられ
、または半導体ウェハを保持するウェハチャック等とし
て用いられる基板保持装置に関する。
［従来の技術］
半導体集積回路は、近年、ますます高集積化が進められ
ており、それを製造するための露光装置（アライナ）も
転写精度のより高いものが要求されている。例えば、２
５６メガビツトＤＲＡＭクラスの集積回路では、線幅０
．２５ミクロン程度のパターンの焼付を可能にする露光
装置が必要となる。
ており、それを製造するための露光装置（アライナ）も
転写精度のより高いものが要求されている。例えば、２
５６メガビツトＤＲＡＭクラスの集積回路では、線幅０
．２５ミクロン程度のパターンの焼付を可能にする露光
装置が必要となる。
このような超微細パターン焼付用の基板保持装置として
軌道放射光（ｓｏＲ−ＸＭ）を利用していわゆるプロキ
シミティ露光を行なうものが提案されている。
軌道放射光（ｓｏＲ−ＸＭ）を利用していわゆるプロキ
シミティ露光を行なうものが提案されている。
この軌道放射光は、水平方向に均一なシートビーム状で
あるため、面を露光するために、■マスクとウェハとを
鉛直方向に移動して水平方向のシートビーム状Ｘ線で面
走査するスキャン露光方式、 ■シートビーム状Ｘ線を揺動ミラーで反射してマスクと
ウェハ上を鉛直方向に走査するスキャンミラー露先方式
、および ■反射面が凸状に加工されたＸ線ミラーによって水平方
向のシートビーム状Ｘ線を鉛直方向に発散させて露光領
域全体に同時に照射する一括露光方式 等が提案されている。
あるため、面を露光するために、■マスクとウェハとを
鉛直方向に移動して水平方向のシートビーム状Ｘ線で面
走査するスキャン露光方式、 ■シートビーム状Ｘ線を揺動ミラーで反射してマスクと
ウェハ上を鉛直方向に走査するスキャンミラー露先方式
、および ■反射面が凸状に加工されたＸ線ミラーによって水平方
向のシートビーム状Ｘ線を鉛直方向に発散させて露光領
域全体に同時に照射する一括露光方式 等が提案されている。
本発明者等は、この−括露光方式に係る基板保持装置を
、先に特願昭６３−７１０４０号として出願した。
、先に特願昭６３−７１０４０号として出願した。
において、５ＯＲ−Ｘ線束（ＳＯＲビーム）はＳＯＲ装
置から略水平に出射されるので、原版および被露光基板
は露光時略垂直に保持される。そして、この基板等は露
光時の保持状態が略垂直であるから、搬送中も略垂直と
なる機会が多い。このため、正常動作時は真空吸着等に
より保持されている基板等が、停電や、ウェハの受は渡
しのセンサ誤作動時あるいは基板の平面度が悪い時等の
吸着失敗によって脱落して破損してしまい、基板の粉状
の破片が露光装置を構成する各ユニットを損傷させる原
因になるという不都合があった。
置から略水平に出射されるので、原版および被露光基板
は露光時略垂直に保持される。そして、この基板等は露
光時の保持状態が略垂直であるから、搬送中も略垂直と
なる機会が多い。このため、正常動作時は真空吸着等に
より保持されている基板等が、停電や、ウェハの受は渡
しのセンサ誤作動時あるいは基板の平面度が悪い時等の
吸着失敗によって脱落して破損してしまい、基板の粉状
の破片が露光装置を構成する各ユニットを損傷させる原
因になるという不都合があった。
この発明は、被露光基板を立てて露光または搬送を行な
う露光装置に用いられる基板保持装置に於いて、停電時
や、センサ故障および基板の平面度不足時における基板
の脱落を防止し、この脱落による塵の発生や基板の破片
による装置の損傷を防止することを目的とする。
う露光装置に用いられる基板保持装置に於いて、停電時
や、センサ故障および基板の平面度不足時における基板
の脱落を防止し、この脱落による塵の発生や基板の破片
による装置の損傷を防止することを目的とする。
［発明が解決しようとする課題］
ところで、このような５ＯＲ−Ｘ線露光装置［課題を解
決するための手段］ 上記目的を達成するためこの発明では、基板を立てて搬
送する際または基板を立てた状態で露光する際に基板を
保持するため用いられる基板保持装置において、基板の
脱落を防止するための脱落防止手段を設けたことを特徴
としている。
決するための手段］ 上記目的を達成するためこの発明では、基板を立てて搬
送する際または基板を立てた状態で露光する際に基板を
保持するため用いられる基板保持装置において、基板の
脱落を防止するための脱落防止手段を設けたことを特徴
としている。
この発明の３４１の態様において、前記脱落防止手段は
、常時は前記基板に非接触で、該基板が吸着保持状態か
ら吸着を解除されて落下しようとするとき該基板の下端
を、該基板を前記吸着保持手段に立て掛けた状態で保持
するつめである。このようなつめは、基板を支えたとき
基板表面につめが接触しない構造とすることが、基板表
面のレジストが剥がれないで、その基板を再度使用でき
ることから、好ましい。
、常時は前記基板に非接触で、該基板が吸着保持状態か
ら吸着を解除されて落下しようとするとき該基板の下端
を、該基板を前記吸着保持手段に立て掛けた状態で保持
するつめである。このようなつめは、基板を支えたとき
基板表面につめが接触しない構造とすることが、基板表
面のレジストが剥がれないで、その基板を再度使用でき
ることから、好ましい。
また、脱落防止のつめは、出し入れ可能とし、必要時に
のみ出すことが、基板保持装置本来の機能の妨げとなら
ず好ましい。
のみ出すことが、基板保持装置本来の機能の妨げとなら
ず好ましい。
これは、例えば、基板の脱落をセンサで検知してつめを
出す。あるいは、この基板保持装置がハンドに用いられ
る場合であれば、ハンドの姿勢または位置に連動してつ
めの出し入れを行なう。
出す。あるいは、この基板保持装置がハンドに用いられ
る場合であれば、ハンドの姿勢または位置に連動してつ
めの出し入れを行なう。
基板の通常の保持をバキューム吸着により行なう場合、
脱落センサとしては、圧力センサを用いることができる
。この場合、脱落防止のつめは、圧力センサで検知され
る基板保持部の背圧が高くなったときの圧力センサの出
力で動作するアクチュエータによって出すようにすれば
よい。あるいは、アクチエエータ圧力に連動するもの、
すなわち前記基板保持部の背圧が高くなることにより前
記つめを収納位置から基板脱落防止位置へ出すアクチュ
エータを用いるようにしてもよい。
脱落センサとしては、圧力センサを用いることができる
。この場合、脱落防止のつめは、圧力センサで検知され
る基板保持部の背圧が高くなったときの圧力センサの出
力で動作するアクチュエータによって出すようにすれば
よい。あるいは、アクチエエータ圧力に連動するもの、
すなわち前記基板保持部の背圧が高くなることにより前
記つめを収納位置から基板脱落防止位置へ出すアクチュ
エータを用いるようにしてもよい。
［作用および効果］
水平搬送、水平露光を行なう従来の露光装置では、被露
光基板の脱落はなかった。しかし、前記先願のものを含
み垂直搬送、垂直露光を行なう露光装置では、停電時、
基板の受渡し時のセンサ故障、基板の平面度が悪い時等
では、基板が脱落して破れた粉状の破片が他のユニット
を損傷させてしまう。また、真空チャンバ内ではポンプ
を破損させてしまうという問題が生じた。
光基板の脱落はなかった。しかし、前記先願のものを含
み垂直搬送、垂直露光を行なう露光装置では、停電時、
基板の受渡し時のセンサ故障、基板の平面度が悪い時等
では、基板が脱落して破れた粉状の破片が他のユニット
を損傷させてしまう。また、真空チャンバ内ではポンプ
を破損させてしまうという問題が生じた。
この発明では、脱落防止手段を設けることによって、こ
のような問題点を解消することができた。
のような問題点を解消することができた。
また、このような脱落防止手段としては、例えば基板が
吸着を解除されて落下しようとするとき基板の下端を、
該基板を前記吸着保持手段に立て掛けた状態で保持する
つめを用いることができる。そして、このつめを斜めに
しておくと、つめは基板に触れたときも基板表面には触
れないので、基板表面に既に形成されているパターンを
傷つけないで済むため、もう−度その基板を使用するこ
とができる。
吸着を解除されて落下しようとするとき基板の下端を、
該基板を前記吸着保持手段に立て掛けた状態で保持する
つめを用いることができる。そして、このつめを斜めに
しておくと、つめは基板に触れたときも基板表面には触
れないので、基板表面に既に形成されているパターンを
傷つけないで済むため、もう−度その基板を使用するこ
とができる。
［実施例］
第１図Ａ〜Ｃは、この発明に係るウェハハンドの構成を
示す。第１図Ａはウェハ脱落防止用のアームを退避した
状態示す平面図、第１図Ｂは前記アームを作用・位置に
移動した状態を示す平面図、第１図Ｃは第１図Ｂの状態
の側面図である。
示す。第１図Ａはウェハ脱落防止用のアームを退避した
状態示す平面図、第１図Ｂは前記アームを作用・位置に
移動した状態を示す平面図、第１図Ｃは第１図Ｂの状態
の側面図である。
同図のウェハハンド１０はウェハキャリア２０からウェ
ハ３０を取り出して他の搬送手段（不図示）に受は渡し
たり、他の搬送手段から受は渡されたウェハ３０をウェ
ハキャリア２０に収納したりするためのもので、脱落防
止アーム１１．１２およびウェハ３０の有無にしたがっ
て脱落防止アーム１１．１２を脱落防止位置（第１図Ｂ
に示す状！！！すと退避位置（第１図Ａに示す状態）と
に移動するアクチュエータ（１８）、例えばモータを設
けた他はウェハを真空吸着して保持し搬送する従来の同
種のウェハハンドと同様に構成されている。脱落防止ア
ーム１１．１２は、平常時は、ウェハ３０に接触しない
ように構成されている。１３は吸着アーム、１４は回転
軸、１５および１６は脱落防止用のつめ、１７はウェハ
ハンドを図中で左右に案内するガイドである。
ハ３０を取り出して他の搬送手段（不図示）に受は渡し
たり、他の搬送手段から受は渡されたウェハ３０をウェ
ハキャリア２０に収納したりするためのもので、脱落防
止アーム１１．１２およびウェハ３０の有無にしたがっ
て脱落防止アーム１１．１２を脱落防止位置（第１図Ｂ
に示す状！！！すと退避位置（第１図Ａに示す状態）と
に移動するアクチュエータ（１８）、例えばモータを設
けた他はウェハを真空吸着して保持し搬送する従来の同
種のウェハハンドと同様に構成されている。脱落防止ア
ーム１１．１２は、平常時は、ウェハ３０に接触しない
ように構成されている。１３は吸着アーム、１４は回転
軸、１５および１６は脱落防止用のつめ、１７はウェハ
ハンドを図中で左右に案内するガイドである。
上記構成において、ウェハキャリア２０からウェハ３０
を取り出す際は、先ず、吸着アーム１３が取り出したい
ウェハ３０より若干下側に来るようにウェハキャリア２
０の高さを調整する。次いで、脱落防止アーム１１．１
２を第１図Ａに示すように開いた状態でウェハハンド１
０を吸着アーム１３に先端がウェハ３０の下に入るまで
図の右から左の方向へ移動する。さらに、吸着アーム１
３を若干上昇させてウェハ３０をウェハキャリア２０か
ら取り上げ、バキュームでウェハ３ｏを吸着して保持し
、ウェハハンド１０を第１図Ａに示す位置まで右方向に
移動した後、脱落防止アーム１１．１２を第１図Ｂおよ
びＣに示すように閉じる。このようにすれば、この後、
ウェハハンド１０を軸１４の回りに９０”回転してウェ
ハを立てた状態にし、さらに、その状態で、停電、バキ
ューム系（不図示）の故障、ウェハ３０の平面度不良等
によるウェハ３０の落下が起きたとしても、ウェハ３０
は脱落防止アームｉｔ、１２のつめ＄１５．１６によっ
て支えられ、ウェハハンド１０からの脱落が防止される
。
を取り出す際は、先ず、吸着アーム１３が取り出したい
ウェハ３０より若干下側に来るようにウェハキャリア２
０の高さを調整する。次いで、脱落防止アーム１１．１
２を第１図Ａに示すように開いた状態でウェハハンド１
０を吸着アーム１３に先端がウェハ３０の下に入るまで
図の右から左の方向へ移動する。さらに、吸着アーム１
３を若干上昇させてウェハ３０をウェハキャリア２０か
ら取り上げ、バキュームでウェハ３ｏを吸着して保持し
、ウェハハンド１０を第１図Ａに示す位置まで右方向に
移動した後、脱落防止アーム１１．１２を第１図Ｂおよ
びＣに示すように閉じる。このようにすれば、この後、
ウェハハンド１０を軸１４の回りに９０”回転してウェ
ハを立てた状態にし、さらに、その状態で、停電、バキ
ューム系（不図示）の故障、ウェハ３０の平面度不良等
によるウェハ３０の落下が起きたとしても、ウェハ３０
は脱落防止アームｉｔ、１２のつめ＄１５．１６によっ
て支えられ、ウェハハンド１０からの脱落が防止される
。
ウェハ３０のウェハキャリア２０への収納は、上述と逆
の手順で行なえばよい。
の手順で行なえばよい。
なお、上述においては、ウェハキャリア２゜からウェハ
３０を取り出す時等は脱落防止アーム１１．１２を収納
位置に置き、ウェハ３ｏを立てて搬送する時は脱落防止
アーム１１．１２を脱落防止位置に置くというように、
ハンド１ｏの位置に連動してつめ１５．１６を出したり
、出さなかったりしている。しかし、このように、ハン
ド１０の位置に連動してつめ１５．１６の出し入れを制
御する代わりに、ハンド１ｏの姿勢または状態に応じて
つめ１５．１６の出し入れを制御してもよい。
３０を取り出す時等は脱落防止アーム１１．１２を収納
位置に置き、ウェハ３ｏを立てて搬送する時は脱落防止
アーム１１．１２を脱落防止位置に置くというように、
ハンド１ｏの位置に連動してつめ１５．１６を出したり
、出さなかったりしている。しかし、このように、ハン
ド１０の位置に連動してつめ１５．１６の出し入れを制
御する代わりに、ハンド１ｏの姿勢または状態に応じて
つめ１５．１６の出し入れを制御してもよい。
第２図ＡおよびＢは、ウェハハンド１０の姿勢に連動し
てつめ１５．１６を制御する例を示す。
てつめ１５．１６を制御する例を示す。
すなわち、ウェハハンド１ｏの姿勢がウェハ３０を水平
（横）に保持する状態であれば、第２図Ａに示すように
、つめ１５．１６を引っ込め、ウェハ３０を縦に保持す
る状態であれば、第２図Ｂに示すように、つめ１５．１
６を出すように、シーケンスまたはセンサで制御する。
（横）に保持する状態であれば、第２図Ａに示すように
、つめ１５．１６を引っ込め、ウェハ３０を縦に保持す
る状態であれば、第２図Ｂに示すように、つめ１５．１
６を出すように、シーケンスまたはセンサで制御する。
第１図ＡＳ−Ｃに示すように、つめ１５．１６の出し入
れをシーケンスによって制御する代わりに、ウェハの有
無を検知し、この検知結果に応じて、つめ１５．１６の
出し入れを制御することもできる。また、してもよい。
れをシーケンスによって制御する代わりに、ウェハの有
無を検知し、この検知結果に応じて、つめ１５．１６の
出し入れを制御することもできる。また、してもよい。
あるいは、シーケンスによる制御とウェハの有無よる制
御とを組み合わせてもよい。
御とを組み合わせてもよい。
第３図は、この発明に係るウェハチャックの構成を示す
。
。
同図において、３０１はＸステージ、３０２はＹステー
ジ、３０３はθステージ、３０４はウェハチャック、３
０５はウェハである。ここでは、Ｘステージ３０１、Ｙ
ステージ３０２、θステージ３０３およびウェハチャッ
ク３０４からなる従来のものと同様に構成されたウェハ
ステージ３１０に対して、ウェハ３０５の有無を検知す
る静電センサ３０６およびこの静電センサ３０６の出力
に応じて出し入れされるつめ３０７が設けられている。
ジ、３０３はθステージ、３０４はウェハチャック、３
０５はウェハである。ここでは、Ｘステージ３０１、Ｙ
ステージ３０２、θステージ３０３およびウェハチャッ
ク３０４からなる従来のものと同様に構成されたウェハ
ステージ３１０に対して、ウェハ３０５の有無を検知す
る静電センサ３０６およびこの静電センサ３０６の出力
に応じて出し入れされるつめ３０７が設けられている。
、第３図は、つめ３０７が引っ込められている状態を示
す。３０８はつめ３０７を出し入れするアクチュエータ
としてのモータである。
す。３０８はつめ３０７を出し入れするアクチュエータ
としてのモータである。
第４図ＡＮＣは、この発明に係るウェハチャックおよび
ウェハハンドの他の例を示す。
ウェハハンドの他の例を示す。
図において、４０１はプリアライメントステージ、４０
２は露光ステージ、４０３はウェハ３０５を立てた状態
でプリアライメントステージ４０１から露光ステージ４
０２へ搬送するウェハハンド、４０４はウェハハンド４
０３に設けられたウェハ脱落防止用のつめ、４０５はウ
ェハハンド４０３を′ｓ４図Ａ甲で左右に案内するガイ
ドである。
２は露光ステージ、４０３はウェハ３０５を立てた状態
でプリアライメントステージ４０１から露光ステージ４
０２へ搬送するウェハハンド、４０４はウェハハンド４
０３に設けられたウェハ脱落防止用のつめ、４０５はウ
ェハハンド４０３を′ｓ４図Ａ甲で左右に案内するガイ
ドである。
第４図へ一〇において、つめ４０４はウェハハンド４０
３ｋｍ固定されており、引っ込めることはできない。ま
た、ウェハチャック３０４側のっめ３０７は、第３図の
ものと同様に、ウェハ３０５の有無に応じて出し入れさ
れる。但し、ここでは、ウェハ検知用のセンサ３０６は
用いず、代わりにウェハ３０５がウェハチャック３０４
上に無いときにウェハ吸着用バキュームの背圧が高くな
ることを利用してつめ３０７を出すようにしている。
３ｋｍ固定されており、引っ込めることはできない。ま
た、ウェハチャック３０４側のっめ３０７は、第３図の
ものと同様に、ウェハ３０５の有無に応じて出し入れさ
れる。但し、ここでは、ウェハ検知用のセンサ３０６は
用いず、代わりにウェハ３０５がウェハチャック３０４
上に無いときにウェハ吸着用バキュームの背圧が高くな
ることを利用してつめ３０７を出すようにしている。
このようにウェハ吸着用バキュームの背圧が高くなるこ
とを利用してつめ３０７を出すアクチュエータは、例え
ば第５図に示すような構成にすればよい。第５図におい
て、５０１は真空ポンプ等の真空源、５０２はつめ３０
７をウェハ脱落防止位置３０７°方向へ付勢するバネ、
５０３はベローズ、５０４は吸着孔、５０５は真空供給
路である。ウェハ３０５がウェハチャック３０４に保持
されていれば、吸着孔５０４はウェハ３０５に塞がれる
ため、真空供給路５０５内の圧力は低い。
とを利用してつめ３０７を出すアクチュエータは、例え
ば第５図に示すような構成にすればよい。第５図におい
て、５０１は真空ポンプ等の真空源、５０２はつめ３０
７をウェハ脱落防止位置３０７°方向へ付勢するバネ、
５０３はベローズ、５０４は吸着孔、５０５は真空供給
路である。ウェハ３０５がウェハチャック３０４に保持
されていれば、吸着孔５０４はウェハ３０５に塞がれる
ため、真空供給路５０５内の圧力は低い。
したがって、ベローズ５０４が縮んでっめ３０７は実線
で示す退避位置に引っ込められている。停電、真空系不
良、ウェハ平面度不良等によって、ウェハ３０５がウェ
ハチャック３０４から離れると、吸着孔５０４が開放す
るため、真空供給路５０５内の圧力が高くなる。これに
より、ベローズ５０４が伸び、つめ３０７はバネ５０２
の偏倚力により付勢され、ウェハ脱落防止位置へ出され
る。そして、第４図Ｃに示されるように、ウェハチャッ
ク３０４から離れて落下しようとするウェハ３０５は、
下端をつめ３０７の傾斜部３０７ａで支えられてここを
僅かの距離滑り落ち、つめ３０７の立ち上がり部３０７
ｂで停止される。
で示す退避位置に引っ込められている。停電、真空系不
良、ウェハ平面度不良等によって、ウェハ３０５がウェ
ハチャック３０４から離れると、吸着孔５０４が開放す
るため、真空供給路５０５内の圧力が高くなる。これに
より、ベローズ５０４が伸び、つめ３０７はバネ５０２
の偏倚力により付勢され、ウェハ脱落防止位置へ出され
る。そして、第４図Ｃに示されるように、ウェハチャッ
ク３０４から離れて落下しようとするウェハ３０５は、
下端をつめ３０７の傾斜部３０７ａで支えられてここを
僅かの距離滑り落ち、つめ３０７の立ち上がり部３０７
ｂで停止される。
これにより、ウェハ３０５は、上部をウェハチャック３
０４に立て掛けられた状態で下端をつめ３０７で支えら
れて、ウェハチャック３０４からの脱落を防止される。
０４に立て掛けられた状態で下端をつめ３０７で支えら
れて、ウェハチャック３０４からの脱落を防止される。
つめ３０７の立ち上がり部３０７ｂは、上記脱落防止状
態ではウェハ３０５の表面に接触しないような角度に設
定されている。このため、ウェハチャック３０４から落
ちてもウェハの表面のパターンを傷つけないで済む。
態ではウェハ３０５の表面に接触しないような角度に設
定されている。このため、ウェハチャック３０４から落
ちてもウェハの表面のパターンを傷つけないで済む。
したがって、このウェハを再度使用することができる。
ところで、′ｓ４図Ａ−Ｃに示すような、クエへを正面
からローディングする方式においては、ウェハチャック
３０４側のつめ３０７がウェハローディングの邪魔にな
りがちである。邪魔になる場合は、ローディング時、つ
め３０７を退避位置に引いておく必要がある。
からローディングする方式においては、ウェハチャック
３０４側のつめ３０７がウェハローディングの邪魔にな
りがちである。邪魔になる場合は、ローディング時、つ
め３０７を退避位置に引いておく必要がある。
第６図は、この場合のシーケンスを示す。
すなわち、アライメントステージ４０１においてウェハ
ハンド４０３にウェハを吸着する（ステップ６０１）と
、すぐに、露光ステージ４０２側のウェハチャック３０
４のつめ３０７を退避位置へ引く（ステップ６０２）。
ハンド４０３にウェハを吸着する（ステップ６０１）と
、すぐに、露光ステージ４０２側のウェハチャック３０
４のつめ３０７を退避位置へ引く（ステップ６０２）。
そして、つめ３０７がローディングの邪魔にならない位
置まで引っ込むまで待機した（ステップ６０３）後、ウ
ェハハンド４０３を露光ステージ４０２のウェハチャッ
ク３０４の前まで移動しくステップ６０４）、ウェハ３
０５をウェハハンド４０３からウェハチャック３０４へ
受は渡す（ステップ６０５）。さらに、ウェハハンド４
０３をウェハチャック３０４の位置から離しくステップ
６０６）、ウェハハンド４０３が露光等に支障のない位
置まで移動するのを待って（ステップ６０７）、ウェハ
チャック３０４のつめ３０７が落下防止位置へ出るのを
可能化する。
置まで引っ込むまで待機した（ステップ６０３）後、ウ
ェハハンド４０３を露光ステージ４０２のウェハチャッ
ク３０４の前まで移動しくステップ６０４）、ウェハ３
０５をウェハハンド４０３からウェハチャック３０４へ
受は渡す（ステップ６０５）。さらに、ウェハハンド４
０３をウェハチャック３０４の位置から離しくステップ
６０６）、ウェハハンド４０３が露光等に支障のない位
置まで移動するのを待って（ステップ６０７）、ウェハ
チャック３０４のつめ３０７が落下防止位置へ出るのを
可能化する。
［発明の効果］
以上のような本発明によれば、停電やポンプ、センサー
の故障等が起きた時に、基板を破損させることがない。
の故障等が起きた時に、基板を破損させることがない。
さらに、破損した基板がポンプや装置内の他のユニット
を破壊させることがなくなる。
を破壊させることがなくなる。
第１図ＡＮＣは、この発明に係るウェハハントの構成例
を示し、第１図ＡおよびＢは平面図、第１図Ｃは側面図
、 第２図ＡおよびＢは、この発明に係る他のウェハハンド
の構成例を示す斜視図、 第３図は、この発明に係るウェハチャックの構成例を示
す側面図、 第４図Ａ−Ｃは、この発明に係る露光装置の要部の構成
を示し、第４図Ａは正面図、′ｓ４図ＢおよびＣは側面
図、 第５図は、第４図Ａ−Ｃにおけるウェハチャックの構成
例を示す説明図、そして 第６図は、第４図Ａ−Ｃに示す露光装置の動作例を示す
フローチャートである。 １０．４０３：ウェハハンド １１，１２：脱落防止用アーム １３：吸着アーム １５．１６，３０７，４０４：つめ ３０．３０５：ウェハ ３０４：ウェハチャック ３０６：センサ ３０７ａ：傾斜部 ３０７ｂ：立ち上がり部 ３０８：モータ ５０１：真空源 ５０２：バネ ５０３：ベローズ ５０４：吸着孔 ５０５：真空供給路
を示し、第１図ＡおよびＢは平面図、第１図Ｃは側面図
、 第２図ＡおよびＢは、この発明に係る他のウェハハンド
の構成例を示す斜視図、 第３図は、この発明に係るウェハチャックの構成例を示
す側面図、 第４図Ａ−Ｃは、この発明に係る露光装置の要部の構成
を示し、第４図Ａは正面図、′ｓ４図ＢおよびＣは側面
図、 第５図は、第４図Ａ−Ｃにおけるウェハチャックの構成
例を示す説明図、そして 第６図は、第４図Ａ−Ｃに示す露光装置の動作例を示す
フローチャートである。 １０．４０３：ウェハハンド １１，１２：脱落防止用アーム １３：吸着アーム １５．１６，３０７，４０４：つめ ３０．３０５：ウェハ ３０４：ウェハチャック ３０６：センサ ３０７ａ：傾斜部 ３０７ｂ：立ち上がり部 ３０８：モータ ５０１：真空源 ５０２：バネ ５０３：ベローズ ５０４：吸着孔 ５０５：真空供給路
Claims (10)
- （１）基板を立てて搬送する際または基板を立てた状態
で露光する際に基板を保持するため用いられる基板保持
装置であって、基板を吸着保持するための吸着保持手段
と基板の脱落を防止するための脱落防止手段とを有する
ことを特徴とする基板保持装置。 - （２）前記脱落防止手段は、常時は前記基板に非接触で
、該基板が吸着保持状態から吸着を解除されて落下しよ
うとするとき該基板の下端を、該基板を前記吸着保持手
段に立て掛けた状態で保持するつめである請求項１の基
板保持装置。 - （３）前記脱落防止手段は、前記基板が吸着保持状態か
ら吸着を解除されて略垂直に落下したとき該基板の下端
を前記吸着保持手段の表面を含む略垂直の面から引き離
す方向に案内する傾斜部と、該下端を該基板の表面に接
触しない状態で停止し保持する立ち上がり部とを有する
Ｖ字形のつめである請求項２の基板保持装置。 - （４）前記つめが、出し入れ可能である請求項２または
３の基板保持装置。 - （５）前記基板の脱落を検知するセンサ手段と、該セン
サ手段の基板脱落検知出力に応じて前記つめを収納位置
から基板脱落防止位置へ出すつめ駆動手段を有する請求
項４の基板保持装置。 - （６）前記吸着保持手段は基板を真空吸着するものであ
り、前記センサ手段は吸着用真空の圧力を検知する圧力
センサである請求項５の基板保持装置。 - （７）前記圧力センサは、前記吸着保持手段の背圧を検
知するものであり、前記つめ駆動手段は、前記背圧が高
くなったときの圧力センサの出力に応じて前記つめを収
納位置から基板脱落防止位置へ出すアクチュエータであ
る請求項６の基板保持装置。 - （８）前記センサ手段およびつめ駆動手段が、前記吸着
保持手段の背圧が高くなることにより前記つめを収納位
置から基板脱落防止位置へ出すアクチュエータである請
求項５の基板保持装置。 - （９）基板搬送用のハンドに用いられ、該ハンドの姿勢
に連動して前記つめを出し入れする請求項４の基板保持
装置。 - （１０）基板搬送用のハンドに用いられ、該ハンドの動
作または位置に連動して前記つめを出し入れする請求項
４の基板保持装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2071886A JPH03273663A (ja) | 1990-03-23 | 1990-03-23 | 基板保持装置 |
| EP91302286A EP0448316B1 (en) | 1990-03-23 | 1991-03-18 | Substrate holding device |
| DE69121747T DE69121747T2 (de) | 1990-03-23 | 1991-03-18 | Einrichtung zum Halten eines Substrats |
| US07/672,636 US5160961A (en) | 1990-03-23 | 1991-03-20 | Substrate holding device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2071886A JPH03273663A (ja) | 1990-03-23 | 1990-03-23 | 基板保持装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03273663A true JPH03273663A (ja) | 1991-12-04 |
Family
ID=13473464
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2071886A Pending JPH03273663A (ja) | 1990-03-23 | 1990-03-23 | 基板保持装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5160961A (ja) |
| EP (1) | EP0448316B1 (ja) |
| JP (1) | JPH03273663A (ja) |
| DE (1) | DE69121747T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05235154A (ja) * | 1992-02-24 | 1993-09-10 | Mitsubishi Electric Corp | ウエハ把持装置 |
Families Citing this family (21)
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| US5298939A (en) * | 1991-11-04 | 1994-03-29 | Swanson Paul A | Method and apparatus for transfer of a reticle pattern onto a substrate by scanning |
| JP3224157B2 (ja) * | 1992-03-31 | 2001-10-29 | キヤノン株式会社 | Ｘ線マスクとその製造方法、並びに該ｘ線マスクを用いたデバイス製造方法とｘ線露光装置 |
| JP3173928B2 (ja) * | 1992-09-25 | 2001-06-04 | キヤノン株式会社 | 基板保持装置、基板保持方法および露光装置 |
| JP3332425B2 (ja) * | 1992-11-10 | 2002-10-07 | キヤノン株式会社 | 基板保持装置、並びにこれを用いた露光装置と半導体デバイス製造方法 |
| DE69505448T2 (de) * | 1994-03-15 | 1999-04-22 | Canon Kk | Maske und Maskenträger |
| JP3208000B2 (ja) * | 1994-03-28 | 2001-09-10 | キヤノン株式会社 | 基板保持システム |
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| DE19544684A1 (de) * | 1995-11-30 | 1997-06-05 | Kodak Ag | Vorrichtung zur Entnahme und Überführung plattenförmiger Gegenstände von einem Stapel mit einer Ansaugvorrichtung |
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| KR20010032714A (ko) | 1997-12-03 | 2001-04-25 | 오노 시게오 | 기판 반송방법 및 기판 반송장치, 이것을 구비한 노광장치및 이 노광장치를 이용한 디바이스 제조방법 |
| JP2000040728A (ja) * | 1998-07-22 | 2000-02-08 | Nippon Asm Kk | ウェハ搬送機構 |
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| TWI245170B (en) * | 2003-07-22 | 2005-12-11 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
| KR100712551B1 (ko) * | 2006-02-09 | 2007-05-02 | 삼성전자주식회사 | 스핀 유닛의 위치 재현성 실현이 가능한 스핀너 장비 및 그 운용 방법 |
| US11175309B2 (en) * | 2014-12-24 | 2021-11-16 | Qualitau, Inc. | Semi-automatic prober |
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| US4820930A (en) * | 1984-06-20 | 1989-04-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Photomask positioning device |
| DE3620969A1 (de) * | 1985-06-24 | 1987-01-02 | Canon Kk | Praezisionszufuehrmechanismus |
| US4757355A (en) * | 1985-10-29 | 1988-07-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Mask storing mechanism |
| JPH01281231A (ja) * | 1987-10-22 | 1989-11-13 | Fujitsu Ltd | 試料保持装置 |
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-
1990
- 1990-03-23 JP JP2071886A patent/JPH03273663A/ja active Pending
-
1991
- 1991-03-18 DE DE69121747T patent/DE69121747T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-03-18 EP EP91302286A patent/EP0448316B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-03-20 US US07/672,636 patent/US5160961A/en not_active Expired - Lifetime
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| JPH05235154A (ja) * | 1992-02-24 | 1993-09-10 | Mitsubishi Electric Corp | ウエハ把持装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0448316A2 (en) | 1991-09-25 |
| US5160961A (en) | 1992-11-03 |
| DE69121747T2 (de) | 1997-01-23 |
| EP0448316B1 (en) | 1996-09-04 |
| DE69121747D1 (de) | 1996-10-10 |
| EP0448316A3 (en) | 1992-03-04 |
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