JP2011035377A - 露光装置及びデバイスの製造方法 - Google Patents
露光装置及びデバイスの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011035377A JP2011035377A JP2010139950A JP2010139950A JP2011035377A JP 2011035377 A JP2011035377 A JP 2011035377A JP 2010139950 A JP2010139950 A JP 2010139950A JP 2010139950 A JP2010139950 A JP 2010139950A JP 2011035377 A JP2011035377 A JP 2011035377A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transport
- substrate
- acceleration
- wafer
- exposure apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
- G03F7/70725—Stages control
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/7075—Handling workpieces outside exposure position, e.g. SMIF box
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70783—Handling stress or warp of chucks, masks or workpieces, e.g. to compensate for imaging errors or considerations related to warpage of masks or workpieces due to their own weight
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
【解決手段】レチクルのパターンを基板に転写する露光装置であって、前記基板の下面を吸着して保持しながら前記基板を搬送する搬送部と、前記搬送部によって前記基板を鉛直下方向の加速をともない搬送する場合の搬送加速度が前記搬送部によって前記基板を鉛直上方向の加速をともない搬送する場合の搬送加速度よりも小さくなるように、前記搬送部の搬送条件を制御する制御部と、を有することを特徴とする露光装置を提供する。
【選択図】図1
Description
Claims (11)
- レチクルのパターンを基板に転写する露光装置であって、
前記基板の下面を吸着して保持しながら前記基板を搬送する搬送部と、
前記搬送部によって前記基板を鉛直下方向の加速をともない搬送する場合の搬送加速度が前記搬送部によって前記基板を鉛直上方向の加速をともない搬送する場合の搬送加速度よりも小さくなるように、前記搬送部の搬送条件を制御する制御部と、
を有することを特徴とする露光装置。 - 前記制御部は、前記搬送部によって前記基板を水平方向に搬送する場合の搬送加速度が前記搬送部によって前記基板を鉛直上方向の加速をともない搬送する場合の搬送加速度よりも小さくなるように、前記搬送部の搬送条件を制御することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記搬送条件は、前記基板を吸着する吸着力を含み、
前記制御部は、前記基板の下面の状態を表す状態情報に基づいて、前記搬送加速度及び前記吸着力を決定することを特徴とする請求項1又は2に記載の露光装置。 - 前記制御部は、前記状態情報と前記搬送加速度及び前記吸着力との対応を表すテーブルを有し、前記テーブルを参照して、前記搬送加速度及び前記吸着力を決定することを特徴とする請求項3に記載の露光装置。
- 前記制御部は、
前記搬送部が前記基板を保持している場合には、前記搬送部によって前記基板を鉛直下方向の加速をともない搬送する場合の搬送加速度が前記搬送部によって前記基板を鉛直上方向の加速をともない搬送する場合の搬送加速度よりも小さくなるように、前記搬送部の搬送条件を制御し、
前記搬送部が前記基板を保持していない場合には、前記搬送部によって前記基板を鉛直下方向の加速をともない搬送する場合の搬送加速度が前記搬送部によって前記基板を鉛直上方向の加速をともない搬送する場合の搬送加速度よりも小さくなるようには、前記搬送部の搬送条件を制御しないことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - レチクルのパターンを基板に転写する露光装置であって、
前記基板の下面を吸着して保持しながら前記基板を搬送する搬送部と、
前記搬送部によって前記基板を鉛直下方向の加速をともない搬送する場合の前記基板の下面の吸着を開始してから前記基板の搬送を開始するまでの搬送待ち時間が前記搬送部によって前記基板を鉛直上方向の加速をともない搬送する場合の搬送待ち時間よりも長くなるように、前記搬送部の搬送条件を制御する制御部と、
を有することを特徴とする露光装置。 - 前記制御部は、前記搬送部によって前記基板を水平方向に搬送する場合の搬送待ち時間が前記搬送部によって前記基板を鉛直上方向の加速をともない搬送する場合の搬送待ち時間よりも長くなるように、前記搬送部の搬送条件を制御することを特徴とする請求項6に記載の露光装置。
- 前記搬送条件は、前記基板を搬送するときの搬送加速度及び前記基板を吸着する吸着力を含み、
前記制御部は、前記基板の下面の状態を表す状態情報に基づいて、前記搬送待ち時間、前記搬送加速度及び前記吸着力を決定することを特徴とする請求項6又は7に記載の露光装置。 - 前記制御部は、前記状態情報と前記搬送待ち時間、前記搬送加速度及び前記吸着力との対応を表すテーブルを有し、前記テーブルを参照して、前記搬送待ち時間、前記搬送加速度及び前記吸着力を決定することを特徴とする請求項8に記載の露光装置。
- 前記状態情報は、前記基板の反り量、前記基板が上方に凸形状であるか下方に凸形状であるかを表す反り方向、前記基板の下面への異物の付着の有無及び前記基板の下面の摩擦係数の少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項3又は8に記載の露光装置。
- 請求項1乃至10のうちいずれか1項に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
露光された前記基板を現像するステップと、
を有することを特徴とするデバイスの製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010139950A JP5743437B2 (ja) | 2009-07-09 | 2010-06-18 | 露光装置、露光方法、搬送方法及びデバイスの製造方法 |
US12/832,671 US8502959B2 (en) | 2009-07-09 | 2010-07-08 | Exposure apparatus and device fabrication method |
US13/935,595 US9811004B2 (en) | 2009-07-09 | 2013-07-05 | Exposure apparatus and device fabrication method |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009163007 | 2009-07-09 | ||
JP2009163007 | 2009-07-09 | ||
JP2010139950A JP5743437B2 (ja) | 2009-07-09 | 2010-06-18 | 露光装置、露光方法、搬送方法及びデバイスの製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011035377A true JP2011035377A (ja) | 2011-02-17 |
JP2011035377A5 JP2011035377A5 (ja) | 2013-07-04 |
JP5743437B2 JP5743437B2 (ja) | 2015-07-01 |
Family
ID=43427217
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010139950A Active JP5743437B2 (ja) | 2009-07-09 | 2010-06-18 | 露光装置、露光方法、搬送方法及びデバイスの製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US8502959B2 (ja) |
JP (1) | JP5743437B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018056339A (ja) * | 2016-09-29 | 2018-04-05 | 株式会社Screenホールディングス | 基板搬送装置および基板搬送方法 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9360772B2 (en) * | 2011-12-29 | 2016-06-07 | Nikon Corporation | Carrier method, exposure method, carrier system and exposure apparatus, and device manufacturing method |
JP2014029957A (ja) * | 2012-07-31 | 2014-02-13 | Canon Inc | ステージ装置、リソグラフィ装置及び物品の製造方法 |
DE102014104979A1 (de) * | 2014-04-08 | 2015-10-08 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Organische Leuchtdiode mit mehreren Leuchtsegmenten |
JP7212558B2 (ja) * | 2019-03-15 | 2023-01-25 | キヤノン株式会社 | 基板処理装置、決定方法及び物品の製造方法 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08222618A (ja) * | 1995-02-09 | 1996-08-30 | Tokyo Electron Ltd | 搬送方法及び搬送装置 |
JPH09162261A (ja) * | 1995-12-12 | 1997-06-20 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板搬送装置 |
JP2002520860A (ja) * | 1998-07-10 | 2002-07-09 | エーエスエム アメリカ インコーポレイテッド | ウェハーを極小接触でハンドリングするためのウェハーキャリア及び方法 |
JP2006024683A (ja) * | 2004-07-07 | 2006-01-26 | Nikon Corp | 搬送装置、露光装置、及び搬送方法 |
JP2006080198A (ja) * | 2004-09-08 | 2006-03-23 | Tokyo Electron Ltd | 基板搬送装置及び基板搬送方法 |
JP2006269867A (ja) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Canon Inc | 露光装置 |
WO2007046430A1 (ja) * | 2005-10-19 | 2007-04-26 | Nikon Corporation | 物体の搬出入方法及び搬出入装置、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 |
JP2007281073A (ja) * | 2006-04-04 | 2007-10-25 | Canon Inc | 基板搬送装置 |
WO2008068845A1 (ja) * | 2006-12-05 | 2008-06-12 | Shimadzu Corporation | パレット搬送装置、および基板検査装置 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE69402918T2 (de) * | 1993-07-15 | 1997-08-14 | Applied Materials Inc | Substratfangvorrichtung und Keramikblatt für Halbleiterbearbeitungseinrichtung |
US5655060A (en) * | 1995-03-31 | 1997-08-05 | Brooks Automation | Time optimal trajectory for cluster tool robots |
US5936710A (en) * | 1996-01-05 | 1999-08-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Scanning type exposure apparatus, position control apparatus, and method therefor |
JPH10270535A (ja) * | 1997-03-25 | 1998-10-09 | Nikon Corp | 移動ステージ装置、及び該ステージ装置を用いた回路デバイス製造方法 |
WO1999028220A1 (fr) * | 1997-12-03 | 1999-06-10 | Nikon Corporation | Dispositif et procede de transfert de substrats |
US20040075822A1 (en) * | 1998-07-03 | 2004-04-22 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and its making method, substrate carrying method, device manufacturing method and device |
JP2000223549A (ja) * | 1999-01-29 | 2000-08-11 | Canon Inc | 基板搬送装置、基板搬送方法、基板搬送用ハンド機構、灰化処理装置及び灰化処理方法 |
TW513617B (en) * | 1999-04-21 | 2002-12-11 | Asml Corp | Lithographic projection apparatus and method of manufacturing a device using a lithographic projection apparatus |
JP4288694B2 (ja) * | 2001-12-20 | 2009-07-01 | 株式会社ニコン | 基板保持装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
US7684895B2 (en) * | 2002-08-31 | 2010-03-23 | Applied Materials, Inc. | Wafer loading station that automatically retracts from a moving conveyor in response to an unscheduled event |
TWI277836B (en) * | 2002-10-17 | 2007-04-01 | Adv Lcd Tech Dev Ct Co Ltd | Method and apparatus for forming pattern on thin-substrate or the like |
JP3769262B2 (ja) * | 2002-12-20 | 2006-04-19 | 株式会社東芝 | ウェーハ平坦度評価方法、その評価方法を実行するウェーハ平坦度評価装置、その評価方法を用いたウェーハの製造方法、その評価方法を用いたウェーハ品質保証方法、その評価方法を用いた半導体デバイスの製造方法、およびその評価方法によって評価されたウェーハを用いた半導体デバイスの製造方法 |
JP4301299B2 (ja) * | 2007-01-31 | 2009-07-22 | 日新イオン機器株式会社 | 基板保持装置および基板押し上げ状態判定方法 |
-
2010
- 2010-06-18 JP JP2010139950A patent/JP5743437B2/ja active Active
- 2010-07-08 US US12/832,671 patent/US8502959B2/en active Active
-
2013
- 2013-07-05 US US13/935,595 patent/US9811004B2/en active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08222618A (ja) * | 1995-02-09 | 1996-08-30 | Tokyo Electron Ltd | 搬送方法及び搬送装置 |
JPH09162261A (ja) * | 1995-12-12 | 1997-06-20 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板搬送装置 |
JP2002520860A (ja) * | 1998-07-10 | 2002-07-09 | エーエスエム アメリカ インコーポレイテッド | ウェハーを極小接触でハンドリングするためのウェハーキャリア及び方法 |
JP2006024683A (ja) * | 2004-07-07 | 2006-01-26 | Nikon Corp | 搬送装置、露光装置、及び搬送方法 |
JP2006080198A (ja) * | 2004-09-08 | 2006-03-23 | Tokyo Electron Ltd | 基板搬送装置及び基板搬送方法 |
JP2006269867A (ja) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Canon Inc | 露光装置 |
WO2007046430A1 (ja) * | 2005-10-19 | 2007-04-26 | Nikon Corporation | 物体の搬出入方法及び搬出入装置、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 |
JP2007281073A (ja) * | 2006-04-04 | 2007-10-25 | Canon Inc | 基板搬送装置 |
WO2008068845A1 (ja) * | 2006-12-05 | 2008-06-12 | Shimadzu Corporation | パレット搬送装置、および基板検査装置 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018056339A (ja) * | 2016-09-29 | 2018-04-05 | 株式会社Screenホールディングス | 基板搬送装置および基板搬送方法 |
US10734266B2 (en) | 2016-09-29 | 2020-08-04 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate transporter and substrate transport method |
US11276595B2 (en) | 2016-09-29 | 2022-03-15 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate transporter and substrate transport method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20110007296A1 (en) | 2011-01-13 |
US9811004B2 (en) | 2017-11-07 |
US8502959B2 (en) | 2013-08-06 |
JP5743437B2 (ja) | 2015-07-01 |
US20130293864A1 (en) | 2013-11-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6122299B2 (ja) | 処理装置、処理方法、及びデバイスの製造方法 | |
US20100133735A1 (en) | Substrate holding apparatus, substrate holding method, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
US7809460B2 (en) | Coating and developing apparatus, coating and developing method and storage medium in which a computer-readable program is stored | |
JP2006269867A (ja) | 露光装置 | |
JP5743437B2 (ja) | 露光装置、露光方法、搬送方法及びデバイスの製造方法 | |
JP2009094461A (ja) | 基板の処理方法及び基板の処理システム | |
KR20160103927A (ko) | 주변 노광 장치, 주변 노광 방법, 프로그램, 및 컴퓨터 기억 매체 | |
WO2015098282A1 (ja) | 基板処理システム、基板搬送方法及びコンピュータ記憶媒体 | |
JP2007293376A (ja) | 露光装置及び基板製造方法 | |
JP4020261B2 (ja) | 露光方法、露光装置、及び基板製造方法 | |
JP4312247B2 (ja) | プロキシミティ露光装置及び基板製造方法 | |
JP4332409B2 (ja) | 基板保持機構およびそれを用いた露光装置並びにデバイス製造方法 | |
JP5241368B2 (ja) | 処理装置及びデバイス製造方法 | |
JP2007005617A (ja) | 進捗状況表示方法、表示プログラム、及び表示装置、並びにデバイス製造方法 | |
JP4312248B2 (ja) | プロキシミティ露光装置及び基板製造方法 | |
JP2010166008A (ja) | 基板搬送システム、露光装置およびデバイス製造方法 | |
JP2009182364A (ja) | 基板保持機構およびそれを用いた露光装置並びにデバイス製造方法 | |
JP4442904B2 (ja) | 露光装置及びデバイス製造方法 | |
US20110116070A1 (en) | Exposure apparatus and method of manufacturing device | |
JP3818620B2 (ja) | 露光装置 | |
JP2010192559A (ja) | 基板処理システム | |
JP2009076579A (ja) | 物体処理システム、物体処理方法、露光装置、露光方法、塗布現像装置、塗布現像方法及びデバイス製造方法 | |
JP2007306034A (ja) | 露光装置及び基板製造方法 | |
JP2023183679A (ja) | 基板処理システム及び基板処理方法 | |
JP6773435B2 (ja) | 露光装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130517 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130517 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140131 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140207 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140408 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20141006 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141205 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150330 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150428 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5743437 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |