JP3266515B2 - 露光装置、デバイス製造方法およびステージ装置 - Google Patents
露光装置、デバイス製造方法およびステージ装置Info
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、設計パターンを基
板上のレジストに露光して半導体デバイス等を製造する
ために用いられる露光装置、それを用い得るデバイス製
造方法、およびこれらに適用できるステージ装置に関す
る。
板上のレジストに露光して半導体デバイス等を製造する
ために用いられる露光装置、それを用い得るデバイス製
造方法、およびこれらに適用できるステージ装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、このような露光装置としては、ウ
エハ等の基板をステップ移動させながら基板上の複数の
露光領域に原版のパターンを投影光学系を介して順次露
光するステッパや、投影光学系に対し相対的にマスク等
の原版と基板とを移動させ、これら原版と基板をスリッ
ト状の露光光によって走査することにより原版のパター
ンを基板上に走査露光する走査型の露光装置等が知られ
ている。
エハ等の基板をステップ移動させながら基板上の複数の
露光領域に原版のパターンを投影光学系を介して順次露
光するステッパや、投影光学系に対し相対的にマスク等
の原版と基板とを移動させ、これら原版と基板をスリッ
ト状の露光光によって走査することにより原版のパター
ンを基板上に走査露光する走査型の露光装置等が知られ
ている。
【０００３】また、近年、より高精度で微細なパターン
の露光が行えるように、前記ステップ移動と走査露光と
を繰り返すことにより、基板上の複数の領域に高精度で
微細なパターンの露光を行う、ステップ・アンド・スキ
ャン型の露光装置が提案されている。この露光装置で
は、スリットにより制限して投影光学系の比較的光軸に
近い部分のみを使用しているため、より高精度で微細な
パターンの露光が可能となっている。
の露光が行えるように、前記ステップ移動と走査露光と
を繰り返すことにより、基板上の複数の領域に高精度で
微細なパターンの露光を行う、ステップ・アンド・スキ
ャン型の露光装置が提案されている。この露光装置で
は、スリットにより制限して投影光学系の比較的光軸に
近い部分のみを使用しているため、より高精度で微細な
パターンの露光が可能となっている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うなステップ・アンド・スキャン型の露光装置等の高精
細な露光を目的とする露光装置においては、原板や基板
を走査方向へ移動する際の加速時の反力が装置に与える
わずかな振動や変形が、重ね露光（オーバーレイ）精度
や露光像の精度を劣化させる原因となる。また、かかる
振動や変形が収束するまで待ってから露光を行うので
は、スループットを低下させてしまうことになる。
うなステップ・アンド・スキャン型の露光装置等の高精
細な露光を目的とする露光装置においては、原板や基板
を走査方向へ移動する際の加速時の反力が装置に与える
わずかな振動や変形が、重ね露光（オーバーレイ）精度
や露光像の精度を劣化させる原因となる。また、かかる
振動や変形が収束するまで待ってから露光を行うので
は、スループットを低下させてしまうことになる。
【０００５】そこで本発明の目的は、原板や基板を走査
方向へ移動する際の加速時の反力による露光性能への影
響をスループットを低下させることなく排除して、投影
光学系の性能を十分に引き出し、真に露光精度を向上さ
せることができる、露光装置、デバイス製造方法および
ステージ装置を提供することにある。
方向へ移動する際の加速時の反力による露光性能への影
響をスループットを低下させることなく排除して、投影
光学系の性能を十分に引き出し、真に露光精度を向上さ
せることができる、露光装置、デバイス製造方法および
ステージ装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
本発明のステージ装置は、固定部、可動部、および前記
固定部と可動部との間で推力を付与することにより前記
可動部を所定の移動方向へ移動させる駆動手段を備えた
ステージ装置であって、ダンパと接続し前記固定部を前
記移動方向については自由度をもたせて支持する第１の
支持手段と、前記固定部を前記移動方向について剛に、
他の方向に対しては柔に支持する一軸支持手段を有する
とともに前記第１支持手段とは振動が伝わらないように
分離した第２の支持手段とを備えたことを特徴とする。
ここで、前記第１支持手段および第２支持手段間を連結
し、それらの間の位置ずれを防止するための板ばねを有
するのが好ましい。
本発明のステージ装置は、固定部、可動部、および前記
固定部と可動部との間で推力を付与することにより前記
可動部を所定の移動方向へ移動させる駆動手段を備えた
ステージ装置であって、ダンパと接続し前記固定部を前
記移動方向については自由度をもたせて支持する第１の
支持手段と、前記固定部を前記移動方向について剛に、
他の方向に対しては柔に支持する一軸支持手段を有する
とともに前記第１支持手段とは振動が伝わらないように
分離した第２の支持手段とを備えたことを特徴とする。
ここで、前記第１支持手段および第２支持手段間を連結
し、それらの間の位置ずれを防止するための板ばねを有
するのが好ましい。
【０００７】前記一軸支持手段としては、十字板ばねヒ
ンジ、円筒ばねヒンジ等の弾性ヒンジを用いて構成した
もの、球面座リンクおよびそのリンク部分に予圧を付与
する予圧ばねを用いて構成したもの、前記移動方向に張
ったワイヤおよびそれを挟持する手段を用いて構成した
もの、前記移動方向の力を受けるエアーパッドとそれに
対して前記移動方向の予圧を付与する磁石とを用いて構
成したもの、前記移動方向の推力を前記固定部に付与す
る推力付与手段を介して前記固定部を支持するもの等を
使用することができる。
ンジ、円筒ばねヒンジ等の弾性ヒンジを用いて構成した
もの、球面座リンクおよびそのリンク部分に予圧を付与
する予圧ばねを用いて構成したもの、前記移動方向に張
ったワイヤおよびそれを挟持する手段を用いて構成した
もの、前記移動方向の力を受けるエアーパッドとそれに
対して前記移動方向の予圧を付与する磁石とを用いて構
成したもの、前記移動方向の推力を前記固定部に付与す
る推力付与手段を介して前記固定部を支持するもの等を
使用することができる。
【０００８】前記推力付与手段としては、前記固定部と
前記第２支持手段との相対速度を検出し、これが減少す
るように前記固定部に推力を付与するもの、前記固定部
の速度、位置、または加速度を検出し、これに基づい
て、前記固定部の絶対位置が一定となるように、前記固
定部に推力を付与するもの、前記固定部の位置を検出
し、この検出位置と前記固定部に付与される推力の予測
値とに基づいて、前記固定部の絶対位置が一定となるよ
うに前記固定部に推力を付与するもの等を用いることが
できる。
前記第２支持手段との相対速度を検出し、これが減少す
るように前記固定部に推力を付与するもの、前記固定部
の速度、位置、または加速度を検出し、これに基づい
て、前記固定部の絶対位置が一定となるように、前記固
定部に推力を付与するもの、前記固定部の位置を検出
し、この検出位置と前記固定部に付与される推力の予測
値とに基づいて、前記固定部の絶対位置が一定となるよ
うに前記固定部に推力を付与するもの等を用いることが
できる。
【０００９】前記第２支持手段は、自身の振動を減衰さ
せるダンパ、電磁マスダンパ等の減衰手段を有するのが
好ましい。また、前記第２支持手段の質量は、前記可動
部の質量よりも大きいのが好ましい。
せるダンパ、電磁マスダンパ等の減衰手段を有するのが
好ましい。また、前記第２支持手段の質量は、前記可動
部の質量よりも大きいのが好ましい。
【００１０】通常は、前記第１支持手段の位置を基準に
して前記可動部の位置を計測する位置計測手段を有す
る。
して前記可動部の位置を計測する位置計測手段を有す
る。
【００１１】また、照明光学系からの照明光により原版
のパターンの一部を投影光学系を介して基板上に投影
し、前記投影光学系に対して前記原板と基板を移動させ
て共に走査することにより前記原版のパターンの所定の
露光領域を前記基板上に走査露光する走査露光手段と、
前記照明光学系における前記原版と共役な位置において
マスキングブレードを前記原版の移動に対応させて移動
させることにより前記原版における露光領域を適宜画定
するマスク手段とを備えた走査型露光装置において前記
原版の走査時の移動用に使用される場合は、前記第１支
持手段は前記投影光学系が取り付けられた鏡筒定盤と結
合しており、前記第２支持手段は前記マスク手段のマス
キングブレードを移動させる際の反力受けと結合してい
るのが好ましい。
のパターンの一部を投影光学系を介して基板上に投影
し、前記投影光学系に対して前記原板と基板を移動させ
て共に走査することにより前記原版のパターンの所定の
露光領域を前記基板上に走査露光する走査露光手段と、
前記照明光学系における前記原版と共役な位置において
マスキングブレードを前記原版の移動に対応させて移動
させることにより前記原版における露光領域を適宜画定
するマスク手段とを備えた走査型露光装置において前記
原版の走査時の移動用に使用される場合は、前記第１支
持手段は前記投影光学系が取り付けられた鏡筒定盤と結
合しており、前記第２支持手段は前記マスク手段のマス
キングブレードを移動させる際の反力受けと結合してい
るのが好ましい。
【００１２】前記駆動手段としては、例えばリニアモー
タを使用することができ、その場合前記固定部は前記リ
ニアモータの固定子を有し、前記可動部は前記リニアモ
ータの可動子を有する。また、前記推力付与手段として
はリニアモータその他のアクチュエータを用いることが
できる。
タを使用することができ、その場合前記固定部は前記リ
ニアモータの固定子を有し、前記可動部は前記リニアモ
ータの可動子を有する。また、前記推力付与手段として
はリニアモータその他のアクチュエータを用いることが
できる。
【００１３】本発明の露光装置は、原版のパターンの一
部を投影光学系を介して基板上に投影し、前記投影光学
系に対して前記原板と基板を移動させて共に走査するこ
とにより前記原版のパターンの所定の露光領域を前記基
板上に走査露光する走査露光手段と、前記走査のために
前記原版を移動させる上述のステージ装置を備え、前記
ステージ装置の第１支持手段は前記投影光学系が取り付
けられた鏡筒定盤と結合していることを特徴とする。
部を投影光学系を介して基板上に投影し、前記投影光学
系に対して前記原板と基板を移動させて共に走査するこ
とにより前記原版のパターンの所定の露光領域を前記基
板上に走査露光する走査露光手段と、前記走査のために
前記原版を移動させる上述のステージ装置を備え、前記
ステージ装置の第１支持手段は前記投影光学系が取り付
けられた鏡筒定盤と結合していることを特徴とする。
【００１４】より具体的には、例えば、前記鏡筒定盤を
支持する３本の支柱を有し、前記ステージ装置の第２支
持手段は、前記３本の支柱のそれぞれとそれらの下部に
おいて板ばねを介して水平方向に剛かつ上下方向に柔に
連結された底部と、この底部から上方に伸びた柱部と、
この柱部から前記走査の方向に伸び、前記ステージ装置
の固定部に連結した部分とを有し、この固定部に連結し
た部分が、前記ステージ装置の一軸支持手段を構成して
いる。この場合、前記３本の支柱をそれらの下部におい
て結合するベースフレームと、このベースフレームと前
記第２支持手段の底部との間に介在して前記底部に対し
下方向の弾性力を付与する弾性手段とを備えるのが好ま
しい。
支持する３本の支柱を有し、前記ステージ装置の第２支
持手段は、前記３本の支柱のそれぞれとそれらの下部に
おいて板ばねを介して水平方向に剛かつ上下方向に柔に
連結された底部と、この底部から上方に伸びた柱部と、
この柱部から前記走査の方向に伸び、前記ステージ装置
の固定部に連結した部分とを有し、この固定部に連結し
た部分が、前記ステージ装置の一軸支持手段を構成して
いる。この場合、前記３本の支柱をそれらの下部におい
て結合するベースフレームと、このベースフレームと前
記第２支持手段の底部との間に介在して前記底部に対し
下方向の弾性力を付与する弾性手段とを備えるのが好ま
しい。
【００１５】あるいは、前記鏡筒定盤をダンパを介して
支持する３本の支柱と、前記３本の支柱をそれらの下部
において結合するベースフレームとを有し、前記ステー
ジ装置の第２支持手段は、前記ベースフレームから上方
に伸びた柱部と、この柱部から前記走査の方向に伸び、
前記ステージ装置の固定部に連結した部分とを有し、こ
の固定部に連結した部分が、前記ステージ装置の一軸支
持手段を構成しているようにしてもよい。
支持する３本の支柱と、前記３本の支柱をそれらの下部
において結合するベースフレームとを有し、前記ステー
ジ装置の第２支持手段は、前記ベースフレームから上方
に伸びた柱部と、この柱部から前記走査の方向に伸び、
前記ステージ装置の固定部に連結した部分とを有し、こ
の固定部に連結した部分が、前記ステージ装置の一軸支
持手段を構成しているようにしてもよい。
【００１６】本発明のデバイス製造方法は、原版のパタ
ーンの一部を投影光学系を介して基板上に投影し、前記
投影光学系に対して前記原板と基板を移動させて共に走
査することにより前記原版のパターンの所定の露光領域
を前記基板上に走査露光するデバイス製造方法におい
て、走査露光を行うに際しては、請求項１７〜２０のい
ずれかに記載の露光装置を用い、前記原板を走査方向に
移動させるときに、前記露光装置のステージ装置の固定
部に生じる反力を、前記ステージ装置の第２支持手段に
よって受けることを特徴とする。
ーンの一部を投影光学系を介して基板上に投影し、前記
投影光学系に対して前記原板と基板を移動させて共に走
査することにより前記原版のパターンの所定の露光領域
を前記基板上に走査露光するデバイス製造方法におい
て、走査露光を行うに際しては、請求項１７〜２０のい
ずれかに記載の露光装置を用い、前記原板を走査方向に
移動させるときに、前記露光装置のステージ装置の固定
部に生じる反力を、前記ステージ装置の第２支持手段に
よって受けることを特徴とする。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、図面を用いて本発明の実施
形態を説明する。図１は本発明の一実施形態に係る露光
装置を側方から見た様子を模式的に示す図であり、図２
は、その露光装置の外観を示す斜視図である。これらの
図に示すように、この露光装置は、レチクルのパターン
の一部を投影光学系２を介してＸ・Ｙステージ３上のウ
エハに投影し、投影光学系２に対し相対的にレチクルと
ウエハをＹ方向に同期走査することによりレチクルのパ
ターンをウエハに露光するとともに、この走査露光を、
ウエハ上の複数領域に対して繰り返し行うためのステッ
プ移動を介在させながら行なうステップ・アンド・スキ
ャン型の露光装置である。
形態を説明する。図１は本発明の一実施形態に係る露光
装置を側方から見た様子を模式的に示す図であり、図２
は、その露光装置の外観を示す斜視図である。これらの
図に示すように、この露光装置は、レチクルのパターン
の一部を投影光学系２を介してＸ・Ｙステージ３上のウ
エハに投影し、投影光学系２に対し相対的にレチクルと
ウエハをＹ方向に同期走査することによりレチクルのパ
ターンをウエハに露光するとともに、この走査露光を、
ウエハ上の複数領域に対して繰り返し行うためのステッ
プ移動を介在させながら行なうステップ・アンド・スキ
ャン型の露光装置である。
【００１８】レチクルの走査方向（Ｙ方向）への移動
は、レチクル側ステージ装置によって行われ、このステ
ージ装置は、固定子４ａと可動子４ｂとの間で推力を付
与することにより可動子４ｂを走査方向へ移動させるリ
ニアモータ４を備え、可動子４ｂにレチクルステージ１
が結合している。固定子４ａは第１の支持手段１０１に
よりＹ方向には自由度をもたせて支持される。そして、
第２の支持手段１０５によりＹ方向について剛に、他の
方向について柔に支持される。この第２支持手段１０５
は、ベースフレーム１０から上方に伸びた柱部１０３、
および柱部１０３からＹ方向に伸び、固定子４ａをＹ方
向について剛に、他の方向について柔に支持する一軸支
持手段１０２を有する。
は、レチクル側ステージ装置によって行われ、このステ
ージ装置は、固定子４ａと可動子４ｂとの間で推力を付
与することにより可動子４ｂを走査方向へ移動させるリ
ニアモータ４を備え、可動子４ｂにレチクルステージ１
が結合している。固定子４ａは第１の支持手段１０１に
よりＹ方向には自由度をもたせて支持される。そして、
第２の支持手段１０５によりＹ方向について剛に、他の
方向について柔に支持される。この第２支持手段１０５
は、ベースフレーム１０から上方に伸びた柱部１０３、
および柱部１０３からＹ方向に伸び、固定子４ａをＹ方
向について剛に、他の方向について柔に支持する一軸支
持手段１０２を有する。
【００１９】レチクルステージ１はリニアモータ４によ
ってＹ方向へ駆動し、Ｘ・Ｙステージ３のＸステージ３
ａはリニアモータ５によってＸ方向に駆動し、Ｙステー
ジ３ｂはリニアモータ６によってＹ方向へ駆動するよう
になっている。レチクルおよびウエハの同期走査は、レ
チクルステージ１およびＹステージ３ｂをＹ方向へ一定
の速度比率（例えば４：１）で駆動させることにより行
なう。また、Ｘ方向へのステップ移動はＸステージ３ａ
により行なう。
ってＹ方向へ駆動し、Ｘ・Ｙステージ３のＸステージ３
ａはリニアモータ５によってＸ方向に駆動し、Ｙステー
ジ３ｂはリニアモータ６によってＹ方向へ駆動するよう
になっている。レチクルおよびウエハの同期走査は、レ
チクルステージ１およびＹステージ３ｂをＹ方向へ一定
の速度比率（例えば４：１）で駆動させることにより行
なう。また、Ｘ方向へのステップ移動はＸステージ３ａ
により行なう。
【００２０】Ｘ・Ｙステージ３は、ステージ定盤７上に
設けられ、ステージ定盤７は３つのダンパ８を介して３
点で床等の上に支持されている。第１支持手段１０１お
よび投影光学系２は鏡筒定盤９上に設けられ、鏡筒定盤
９はベースフレーム１０上に３つのダンパ１１および支
柱１２を介して支持されている。ダンパ８は６軸方向に
アクティブに制振もしくは除振するアクティブダンパで
あるが、パッシブダンパを用いてもよく、あるいはダン
パを介せずに支持してもよい。
設けられ、ステージ定盤７は３つのダンパ８を介して３
点で床等の上に支持されている。第１支持手段１０１お
よび投影光学系２は鏡筒定盤９上に設けられ、鏡筒定盤
９はベースフレーム１０上に３つのダンパ１１および支
柱１２を介して支持されている。ダンパ８は６軸方向に
アクティブに制振もしくは除振するアクティブダンパで
あるが、パッシブダンパを用いてもよく、あるいはダン
パを介せずに支持してもよい。
【００２１】図３は、ダンパ１１あるいは支柱１２、走
査露光時の走査方向、投影光学系２および露光光間の、
装置の上から見たときの位置的関係を示す。同図に示す
ように、ダンパ１１および支柱１２による鏡筒定盤９の
３つの支持点は二等辺三角形を構成しており、その二等
辺１４、１５が交わる点１６と重心とを結ぶ直線１７に
対して走査方向Ｙは平行であり、かつその重心１８と投
影光学系２の重心１９とはほぼ一致している。図３中の
２０は、スリット状に成形された露光光の断面である。
そのスリット形状の長手方向は走査方向に垂直な方向
（Ｘ方向）である。３つのダンパ１１のうち２つは装置
の前部に位置し、残りの１つは装置の奥側に位置してい
る。そして、装置へのウエハの搬入経路は、装置の前側
より、装置前部に配置した２つの支柱１２の間を経て設
定されている。
査露光時の走査方向、投影光学系２および露光光間の、
装置の上から見たときの位置的関係を示す。同図に示す
ように、ダンパ１１および支柱１２による鏡筒定盤９の
３つの支持点は二等辺三角形を構成しており、その二等
辺１４、１５が交わる点１６と重心とを結ぶ直線１７に
対して走査方向Ｙは平行であり、かつその重心１８と投
影光学系２の重心１９とはほぼ一致している。図３中の
２０は、スリット状に成形された露光光の断面である。
そのスリット形状の長手方向は走査方向に垂直な方向
（Ｘ方向）である。３つのダンパ１１のうち２つは装置
の前部に位置し、残りの１つは装置の奥側に位置してい
る。そして、装置へのウエハの搬入経路は、装置の前側
より、装置前部に配置した２つの支柱１２の間を経て設
定されている。
【００２２】また、この露光装置は、鏡筒定盤９とステ
ージ定盤７との間の距離を３点において測定するレーザ
干渉計、マイクロエンコーダ等の距離測定手段１３を備
え、それらのステージ定盤７上における３つの測定点Ｐ
は、図５に示すように、その測定方向にみれば、ダンパ
８による定盤７の３つの支持点が構成する三角形の各頂
点とそれに隣接する辺の中点とを通る直線上に存在す
る。あるいは、これら測定点における、予め測定された
Ｘ・Ｙステージ３の移動によるステージ定盤７の変形量
を考慮して前記距離の測定を行なうようにしてもよい。
ージ定盤７との間の距離を３点において測定するレーザ
干渉計、マイクロエンコーダ等の距離測定手段１３を備
え、それらのステージ定盤７上における３つの測定点Ｐ
は、図５に示すように、その測定方向にみれば、ダンパ
８による定盤７の３つの支持点が構成する三角形の各頂
点とそれに隣接する辺の中点とを通る直線上に存在す
る。あるいは、これら測定点における、予め測定された
Ｘ・Ｙステージ３の移動によるステージ定盤７の変形量
を考慮して前記距離の測定を行なうようにしてもよい。
【００２３】この構成において、不図示の搬送手段によ
り、装置前部の２つの支柱１２間の搬送経路を経てＸ・
Ｙステージ３上にウエハが搬入され、所定の位置合せが
終了すると、露光装置は、走査露光およびステップ移動
を繰り返しながら、ウエハ上の複数の露光領域に対して
レチクルのパターンを露光転写する。走査露光に際して
は、レチクルステージ１およびＹステージ３ｂをＹ方向
（走査方向）へ、所定の速度比で移動させて、スリット
状の露光光でレチクル上のパターンを走査するととも
に、その投影像でウエハを走査することにより、ウエハ
上の所定の露光領域に対してレチクル上のパターンを露
光する。１つの露光領域に対する走査露光が終了した
ら、Ｘステージ３ａをＸ方向へ駆動してウエハをステッ
プ移動させることにより、他の露光領域を走査露光の開
始位置に対して位置決めし、走査露光を行なう。なお、
このＸ方向へのステップ移動と、Ｙ方向への走査露光の
ための移動との組合せにより、ウエハ上の複数の露光領
域に対して、順次効率良く露光が行なえるように、各露
光領域の配置、Ｙの正または負のいずれかへの走査方
向、各露光領域への露光順等が設定されている。
り、装置前部の２つの支柱１２間の搬送経路を経てＸ・
Ｙステージ３上にウエハが搬入され、所定の位置合せが
終了すると、露光装置は、走査露光およびステップ移動
を繰り返しながら、ウエハ上の複数の露光領域に対して
レチクルのパターンを露光転写する。走査露光に際して
は、レチクルステージ１およびＹステージ３ｂをＹ方向
（走査方向）へ、所定の速度比で移動させて、スリット
状の露光光でレチクル上のパターンを走査するととも
に、その投影像でウエハを走査することにより、ウエハ
上の所定の露光領域に対してレチクル上のパターンを露
光する。１つの露光領域に対する走査露光が終了した
ら、Ｘステージ３ａをＸ方向へ駆動してウエハをステッ
プ移動させることにより、他の露光領域を走査露光の開
始位置に対して位置決めし、走査露光を行なう。なお、
このＸ方向へのステップ移動と、Ｙ方向への走査露光の
ための移動との組合せにより、ウエハ上の複数の露光領
域に対して、順次効率良く露光が行なえるように、各露
光領域の配置、Ｙの正または負のいずれかへの走査方
向、各露光領域への露光順等が設定されている。
【００２４】図４（ａ）および（ｂ）は、それぞれステ
ップ移動および走査露光におけるＸステージ３ａおよび
Ｙステージ３ｂの移動速度の時間的変化の一例を示すグ
ラフである。Ｙステージの加速を開始すると、Ｙステー
ジは０．０５１秒の加速期間および０．０５秒の整定時
間を経た後、１００ｍｍ／秒の一定速度で０．３７５秒
間移動する。この一定速度の移動期間において露光を行
なう。この露光期間の後、Ｙステージを減速させるとと
もにＸステージの加速を開始し、ステップ移動を行な
う。ステップ移動が終了したら、再度Ｙステージの加速
を同様にして開始する。このようにして、ＸおよびＹス
テージの移動を繰り返して、複数の露光領域に対してレ
チクルのパターンを順次走査露光してゆく。
ップ移動および走査露光におけるＸステージ３ａおよび
Ｙステージ３ｂの移動速度の時間的変化の一例を示すグ
ラフである。Ｙステージの加速を開始すると、Ｙステー
ジは０．０５１秒の加速期間および０．０５秒の整定時
間を経た後、１００ｍｍ／秒の一定速度で０．３７５秒
間移動する。この一定速度の移動期間において露光を行
なう。この露光期間の後、Ｙステージを減速させるとと
もにＸステージの加速を開始し、ステップ移動を行な
う。ステップ移動が終了したら、再度Ｙステージの加速
を同様にして開始する。このようにして、ＸおよびＹス
テージの移動を繰り返して、複数の露光領域に対してレ
チクルのパターンを順次走査露光してゆく。
【００２５】一方、レチクルステージ１については、こ
のＹステージ３ｂの移動に同期して上述のような所定の
速度比で加速、整定、一定定速度走行、減速を行うが、
その際、その加減速に応じて、固定子４ａに反力が働
く。しかし、固定部４ａを、第１支持手段１０１により
Ｙ方向については自由度をもたせて支持し、第２支持手
段１０５により、Ｙ方向について剛に、他の方向に対し
ては柔に支持し、かつ第２支持手段１０５と鏡筒定盤９
との間はダンパ１１により振動が伝わらないように分離
されているため、固定子４ａに働く反力は鏡筒定盤９に
伝わらず、第２支持手段１０５を経て吸収される。
のＹステージ３ｂの移動に同期して上述のような所定の
速度比で加速、整定、一定定速度走行、減速を行うが、
その際、その加減速に応じて、固定子４ａに反力が働
く。しかし、固定部４ａを、第１支持手段１０１により
Ｙ方向については自由度をもたせて支持し、第２支持手
段１０５により、Ｙ方向について剛に、他の方向に対し
ては柔に支持し、かつ第２支持手段１０５と鏡筒定盤９
との間はダンパ１１により振動が伝わらないように分離
されているため、固定子４ａに働く反力は鏡筒定盤９に
伝わらず、第２支持手段１０５を経て吸収される。
【００２６】次に、この露光装置を利用することができ
るデバイス製造例を説明する。図６は微小デバイス（Ｉ
ＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄
膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製造のフローを示
す。ステップ１（回路設計）では半導体デバイスの回路
設計を行なう。ステップ２（マスク製作）では設計した
回路パターンを形成したマスクを製作する。一方、ステ
ップ３（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウ
エハを製造する。ステップ４（ウエハプロセス）は前工
程と呼ばれ、上記用意したマスクとウエハを用いて、リ
ソグラフィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成す
る。次のステップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ス
テップ４によって作製されたウエハを用いて半導体チッ
プ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、
ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等
の工程を含む。ステップ６（検査）では、ステップ５で
作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テ
スト等の検査を行なう。こうした工程を経て半導体デバ
イスが完成し、これを出荷（ステップ７）する。
るデバイス製造例を説明する。図６は微小デバイス（Ｉ
ＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄
膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製造のフローを示
す。ステップ１（回路設計）では半導体デバイスの回路
設計を行なう。ステップ２（マスク製作）では設計した
回路パターンを形成したマスクを製作する。一方、ステ
ップ３（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウ
エハを製造する。ステップ４（ウエハプロセス）は前工
程と呼ばれ、上記用意したマスクとウエハを用いて、リ
ソグラフィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成す
る。次のステップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ス
テップ４によって作製されたウエハを用いて半導体チッ
プ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、
ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等
の工程を含む。ステップ６（検査）では、ステップ５で
作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テ
スト等の検査を行なう。こうした工程を経て半導体デバ
イスが完成し、これを出荷（ステップ７）する。
【００２７】図７は上記ウエハプロセスの詳細なフロー
を示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸化
させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶縁
膜を形成する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ上
に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン
打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５
（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステ
ップ１６（露光）では上記説明した露光装置によってマ
スクの回路パターンをウエハに焼付露光する。ステップ
１７（現像）では露光したウエハを現像する。ステップ
１８（エッチング）では現像したレジスト像以外の部分
を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）ではエッチ
ングが済んで不要となったレジストを取り除く。これら
のステップを繰り返し行なうことによってウエハ上に多
重に回路パターンを形成する。
を示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸化
させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶縁
膜を形成する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ上
に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン
打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５
（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステ
ップ１６（露光）では上記説明した露光装置によってマ
スクの回路パターンをウエハに焼付露光する。ステップ
１７（現像）では露光したウエハを現像する。ステップ
１８（エッチング）では現像したレジスト像以外の部分
を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）ではエッチ
ングが済んで不要となったレジストを取り除く。これら
のステップを繰り返し行なうことによってウエハ上に多
重に回路パターンを形成する。
【００２８】本実施例の製造方法を用いれば、従来は製
造が難しかった高集積度の半導体デバイスを低コストで
製造することができる。
造が難しかった高集積度の半導体デバイスを低コストで
製造することができる。
【００２９】次に、一軸支持手段１０２の種々の形態に
ついて例示する。図８は、一軸支持手段１０２の第１の
形態を示す斜視図、図９はその側面図である。この場
合、一軸支持手段１０２は、柱部１０３と固定子４ａと
の間を連結する棒状部材の両端近傍に各々十字板ばねヒ
ンジ１０２ａを設けて構成される。図８中、８１はレチ
クルステージ１の位置を計測するための測長手段であ
る。なお、図８では、第１支持手段１０１として、鏡筒
定盤９上に固定されたステージ定盤１０１ａと、ステー
ジ定盤１０１ａ上において固定子４ａを、Ｙ方向につい
て柔に、他の方向について剛に支持する弾性ガイド１０
１ｂとを有するものを示している。図９では、第１支持
手段１０１として、静圧を利用したエアーガイド９１を
有するものを例示している。第１支持手段１０１として
はこれらの他、転動や摺動ガイド、磁気浮上ガイド等を
用いたものを利用することができる。
ついて例示する。図８は、一軸支持手段１０２の第１の
形態を示す斜視図、図９はその側面図である。この場
合、一軸支持手段１０２は、柱部１０３と固定子４ａと
の間を連結する棒状部材の両端近傍に各々十字板ばねヒ
ンジ１０２ａを設けて構成される。図８中、８１はレチ
クルステージ１の位置を計測するための測長手段であ
る。なお、図８では、第１支持手段１０１として、鏡筒
定盤９上に固定されたステージ定盤１０１ａと、ステー
ジ定盤１０１ａ上において固定子４ａを、Ｙ方向につい
て柔に、他の方向について剛に支持する弾性ガイド１０
１ｂとを有するものを示している。図９では、第１支持
手段１０１として、静圧を利用したエアーガイド９１を
有するものを例示している。第１支持手段１０１として
はこれらの他、転動や摺動ガイド、磁気浮上ガイド等を
用いたものを利用することができる。
【００３０】図１０は、一軸支持手段１０２の第２の形
態を示す側面図である。この場合、一軸支持手段１０２
は、柱部１０３と固定子４ａとの間を連結する棒状部材
の両端近傍に各々円筒ばねヒンジ１０２ｂを設けて構成
される。
態を示す側面図である。この場合、一軸支持手段１０２
は、柱部１０３と固定子４ａとの間を連結する棒状部材
の両端近傍に各々円筒ばねヒンジ１０２ｂを設けて構成
される。
【００３１】図１１は、一軸支持手段１０２の第３の形
態を示す斜視図である。この場合、一軸支持手段１０２
は、柱部１０３からＹ方向に伸びた棒状部材の端部にお
いてＹ方向に張ったワイヤ１０２ｃ、およびそれを一端
において挟持し、他端が固定子４ａに固定された部材１
０２ｄを用いて構成されている。
態を示す斜視図である。この場合、一軸支持手段１０２
は、柱部１０３からＹ方向に伸びた棒状部材の端部にお
いてＹ方向に張ったワイヤ１０２ｃ、およびそれを一端
において挟持し、他端が固定子４ａに固定された部材１
０２ｄを用いて構成されている。
【００３２】図１２は、一軸支持手段１０２の第４の形
態を示す側面図である。この場合、一軸支持手段１０２
は、柱部１０３と固定子４ａとの間を連結する棒状部材
の両端近傍に各々球面座リンクおよび予圧ばねからなる
リンク手段１０２ｅを設けて構成される。
態を示す側面図である。この場合、一軸支持手段１０２
は、柱部１０３と固定子４ａとの間を連結する棒状部材
の両端近傍に各々球面座リンクおよび予圧ばねからなる
リンク手段１０２ｅを設けて構成される。
【００３３】図１３は一軸支持手段１０２の第５の形態
を示す側面図である。この場合、一軸支持手段１０２
は、柱部１０３と固定子４ａとの間を連結する棒状部材
の固定子４ａ側端部近傍において各々Ｙ方向およびＺ方
向の力を受けるように設けた、静圧を利用したエアーパ
ッド１０２ｆおよび１０２ｇと、これらのエアーパッド
１０２ｆおよび１０２ｇに対してそれぞれＹ方およびＺ
方向に予圧を付与するための磁石１０２ｈと１０２ｉと
を用いて構成される。棒状部材の柱部１０３側端部近傍
には円筒ばねヒンジ１０２ｂが介在している。
を示す側面図である。この場合、一軸支持手段１０２
は、柱部１０３と固定子４ａとの間を連結する棒状部材
の固定子４ａ側端部近傍において各々Ｙ方向およびＺ方
向の力を受けるように設けた、静圧を利用したエアーパ
ッド１０２ｆおよび１０２ｇと、これらのエアーパッド
１０２ｆおよび１０２ｇに対してそれぞれＹ方およびＺ
方向に予圧を付与するための磁石１０２ｈと１０２ｉと
を用いて構成される。棒状部材の柱部１０３側端部近傍
には円筒ばねヒンジ１０２ｂが介在している。
【００３４】次に、第２支持手段の他の形態について説
明する。図１および２の形態では、一軸支持手段１０２
は、ベースフレーム１０から上方に伸びた柱部１０３に
連結している。しかしこれに限らず、柱部１０３を床上
に配置した、ベースフレーム１０とは異なる部材上に設
けたり、一軸支持手段１０２を照明系やサーマルチャン
バに連結したりしてもよい。すなわち固定部４ａに作用
する反力を、鏡筒定盤９に伝えないようにすれば良い。
明する。図１および２の形態では、一軸支持手段１０２
は、ベースフレーム１０から上方に伸びた柱部１０３に
連結している。しかしこれに限らず、柱部１０３を床上
に配置した、ベースフレーム１０とは異なる部材上に設
けたり、一軸支持手段１０２を照明系やサーマルチャン
バに連結したりしてもよい。すなわち固定部４ａに作用
する反力を、鏡筒定盤９に伝えないようにすれば良い。
【００３５】例えば、図１４、１５および１６は、ベー
スフレーム１０とは別個に床上に配置したベース上に柱
部１０３を設けた第２支持手段の例を示す平面図、側面
図および斜視図である。ただし、図１４および１６にお
いては、主要な支持機構のみ示してある。この場合、ス
テージ定盤７はベースフレーム１０上に、ダンパ８を介
して配置される。そして第２支持手段１０５の柱部１０
３は、床上にベースフレーム１０とは別個に配置された
反力支持ベース１０４上に設けられている。また、各支
柱１２と反力支持ベース１０４との間は板ばね１６２を
介して水平方向には剛に、上下方向には柔に連結されて
いる。装置の奥側の支柱１２ｂについては、図１７に示
すように、反力支持ベース１０４の穴を通して支柱１２
ｂが配置され、４枚の板ばね１６２により、４方向に連
結される。また、ベースフレーム１０と反力支持ベース
１０４との間には、それらの前側において、空気ばね１
６１が配置される。
スフレーム１０とは別個に床上に配置したベース上に柱
部１０３を設けた第２支持手段の例を示す平面図、側面
図および斜視図である。ただし、図１４および１６にお
いては、主要な支持機構のみ示してある。この場合、ス
テージ定盤７はベースフレーム１０上に、ダンパ８を介
して配置される。そして第２支持手段１０５の柱部１０
３は、床上にベースフレーム１０とは別個に配置された
反力支持ベース１０４上に設けられている。また、各支
柱１２と反力支持ベース１０４との間は板ばね１６２を
介して水平方向には剛に、上下方向には柔に連結されて
いる。装置の奥側の支柱１２ｂについては、図１７に示
すように、反力支持ベース１０４の穴を通して支柱１２
ｂが配置され、４枚の板ばね１６２により、４方向に連
結される。また、ベースフレーム１０と反力支持ベース
１０４との間には、それらの前側において、空気ばね１
６１が配置される。
【００３６】この場合、レチクルステージの加減速時に
第２支持手段が受ける反力に対して、第２支持手段にお
いて剛性が弱いのは、主に反力支持ベース１０４の曲げ
剛性である考えられるが、板ばね１６２による連結が上
下方向に柔であり、空気ばね１６１が介在しているた
め、この曲げ剛性が支配的な固有振動モードがベースフ
レーム１０に伝達するのを防止することができる。ま
た、板ばね１６２による連結が水平方向に剛であるた
め、ベースフレーム１０と反力支持ベース１０４との間
の位置ずれを防止することができる。
第２支持手段が受ける反力に対して、第２支持手段にお
いて剛性が弱いのは、主に反力支持ベース１０４の曲げ
剛性である考えられるが、板ばね１６２による連結が上
下方向に柔であり、空気ばね１６１が介在しているた
め、この曲げ剛性が支配的な固有振動モードがベースフ
レーム１０に伝達するのを防止することができる。ま
た、板ばね１６２による連結が水平方向に剛であるた
め、ベースフレーム１０と反力支持ベース１０４との間
の位置ずれを防止することができる。
【００３７】次に、一軸支持手段１０２のさらに別の形
態を示す。この形態では、図１８に示すように、一軸支
持手段１０２はリニアモータ１８１を有しており、リニ
アモータ１８１のコイル側を固定子４ａ側に固定し、マ
グネット側を、柱部１０３に連結した棒状部分に固定し
ている。すなわち、リニアモータ１８１により、固定子
４ａに対し、Ｙ方向（走査方向）の推力を付与すること
ができるようになっている。図１９〜２１は、リニアモ
ータ１８１の駆動制御の異なる形態を示す。これらの図
に示すように、固定子４ａには、反力Ｒと、これとは逆
向きのリニアモータ１８１の推力Ｐとが働き、これに応
じて固定子４ａは速度Ｖａで移動する。また、柱部１０
３には、リニアモータ１８１の推力Ｐが働き、速度Ｖｂ
で移動する。そこで、図１９の形態では、リニアモータ
１８１の駆動を制御するコントローラ１９１に、速度Ｖ
ａとＶｂとの相対速度を入力し、これを零とすべくリニ
アモータ１８１を制御する。これにより、固定子４ａの
振動の減衰性を向上させることができる。なお、速度Ｖ
ａとＶｂとの相対速度は、それに応じた逆起電力をリニ
アモータ１８１のコイルに生じさせる。
態を示す。この形態では、図１８に示すように、一軸支
持手段１０２はリニアモータ１８１を有しており、リニ
アモータ１８１のコイル側を固定子４ａ側に固定し、マ
グネット側を、柱部１０３に連結した棒状部分に固定し
ている。すなわち、リニアモータ１８１により、固定子
４ａに対し、Ｙ方向（走査方向）の推力を付与すること
ができるようになっている。図１９〜２１は、リニアモ
ータ１８１の駆動制御の異なる形態を示す。これらの図
に示すように、固定子４ａには、反力Ｒと、これとは逆
向きのリニアモータ１８１の推力Ｐとが働き、これに応
じて固定子４ａは速度Ｖａで移動する。また、柱部１０
３には、リニアモータ１８１の推力Ｐが働き、速度Ｖｂ
で移動する。そこで、図１９の形態では、リニアモータ
１８１の駆動を制御するコントローラ１９１に、速度Ｖ
ａとＶｂとの相対速度を入力し、これを零とすべくリニ
アモータ１８１を制御する。これにより、固定子４ａの
振動の減衰性を向上させることができる。なお、速度Ｖ
ａとＶｂとの相対速度は、それに応じた逆起電力をリニ
アモータ１８１のコイルに生じさせる。
【００３８】また、図２０の形態では、固定子４ａの速
度Ｖａ、または位置あるいは加速度をコントローラ１９
１に入力し、固定子４ａの位置が絶対空間に対して変位
しないようにリニアモータ１８１の駆動を制御する。図
２１の形態では、コントローラ１９１に対して固定子４
ａの位置Ｌをフィードバック用に、そして固定子４ａに
付与される推力の予測値Ｆをフィードフォワード用に入
力し、固定子４ａの変位がさらに小さくなるようにリニ
アモータ１８１の駆動を制御する。これによれば、固定
子４ａと可動子４ｂとの相対速度が減少するため、リニ
アモータ４のコイルに発生する逆起電力を減少させて、
レチクルステージ１の制御偏差を減少させることができ
る。
度Ｖａ、または位置あるいは加速度をコントローラ１９
１に入力し、固定子４ａの位置が絶対空間に対して変位
しないようにリニアモータ１８１の駆動を制御する。図
２１の形態では、コントローラ１９１に対して固定子４
ａの位置Ｌをフィードバック用に、そして固定子４ａに
付与される推力の予測値Ｆをフィードフォワード用に入
力し、固定子４ａの変位がさらに小さくなるようにリニ
アモータ１８１の駆動を制御する。これによれば、固定
子４ａと可動子４ｂとの相対速度が減少するため、リニ
アモータ４のコイルに発生する逆起電力を減少させて、
レチクルステージ１の制御偏差を減少させることができ
る。
【００３９】なお、リニアモータ１８１の代わりに、同
様に電磁力を用いたものとして、ＶＣＭモータを用いる
こともできる。また、空気圧を利用したものを用いるこ
ともできる。これら非接触型のものに対し、接触型のも
のとしては、各種のアクチュエータを用いることができ
る。
様に電磁力を用いたものとして、ＶＣＭモータを用いる
こともできる。また、空気圧を利用したものを用いるこ
ともできる。これら非接触型のものに対し、接触型のも
のとしては、各種のアクチュエータを用いることができ
る。
【００４０】図２２および図２３は第２支持手段のさら
に他の形態を示す斜視図である。これらの形態では、第
２支持手段はその振動を減衰させるためのダンパを有す
る。図２２の形態では、ダンパとして柱部１０３の上端
部分に取り付けた電磁マスダンパ２２１を用いている。
電磁マスダンパ２２１は、その近傍に取り付けた加速度
計２２２により検出した加速度を相殺するようにマスに
電磁力を付与することにより、柱部１０３のＹ方向の振
動を減衰させる。図２３の形態では、オイルダンパ２３
１を用いており、柱部１０３の上端部分をオイルダンパ
２３１を介して、床に固定した支持部材２３２によりＹ
方向に受けることにより、柱部１０３のＹ方向の振動を
減衰するようにしている。ダンパとしては、これらの他
に、弾性体、その他の反力受け材料を用いることができ
る。
に他の形態を示す斜視図である。これらの形態では、第
２支持手段はその振動を減衰させるためのダンパを有す
る。図２２の形態では、ダンパとして柱部１０３の上端
部分に取り付けた電磁マスダンパ２２１を用いている。
電磁マスダンパ２２１は、その近傍に取り付けた加速度
計２２２により検出した加速度を相殺するようにマスに
電磁力を付与することにより、柱部１０３のＹ方向の振
動を減衰させる。図２３の形態では、オイルダンパ２３
１を用いており、柱部１０３の上端部分をオイルダンパ
２３１を介して、床に固定した支持部材２３２によりＹ
方向に受けることにより、柱部１０３のＹ方向の振動を
減衰するようにしている。ダンパとしては、これらの他
に、弾性体、その他の反力受け材料を用いることができ
る。
【００４１】これによれば、第２支持手段による反力受
けの揺れ戻しを減衰し、オーバレイ性能、像性能、スル
ープット等をさらに向上させることができる。
けの揺れ戻しを減衰し、オーバレイ性能、像性能、スル
ープット等をさらに向上させることができる。
【００４２】図２４は第２支持手段のさらに別の形態を
示す側面図である。この形態では、第２支持手段１０５
の柱部１０３および下部２４１の合計質量は、レチクル
ステージ１、可動子４ｂ等の可動部の合計質量よりも大
きい。したがって、固定子４ａに負荷される反力を、固
定子４ａをさほど変位させることなく、一軸支持手段１
０２を介して十分に吸収することができる。
示す側面図である。この形態では、第２支持手段１０５
の柱部１０３および下部２４１の合計質量は、レチクル
ステージ１、可動子４ｂ等の可動部の合計質量よりも大
きい。したがって、固定子４ａに負荷される反力を、固
定子４ａをさほど変位させることなく、一軸支持手段１
０２を介して十分に吸収することができる。
【００４３】図２５は、第２支持手段にマスク手段の支
持手段を結合させた形態を模式的に示す。ただし、図２
５では照明光学系は図示していない。マスク手段２５１
は、図２６に模式的に示すように、照明光学系２６１に
おける、レチクル２６２と共役な位置においてマスキン
グブレード２５２をレチクル２６２の移動に対応させて
Ｚ方向に移動させることによりレチクル２６２における
Ｙ方向の露光領域を適宜画定するものである。したがっ
て、走査露光に際しては、マスキングブレード２５２
を、レチクル２６２の走査のための移動に一致させて上
下方向（Ｚ方向）に移動させる必要がある。その際、ブ
レード２５２を駆動するリニアモータ２５３の固定子２
５４には反力が生じるが、この反力を反力受け２５５で
受けると共に、反力受け２５５を第２支持手段１０５の
柱部１０３の上部に結合している。これによれば、マス
キングブレード２５２の加減速に伴う反力も、鏡筒定盤
９に伝えることなく、支持手段１０５により受けること
ができる。また、反力受けのための柱部１０３等を共通
に利用しているため、スペースの有効利用も図ることが
できる。
持手段を結合させた形態を模式的に示す。ただし、図２
５では照明光学系は図示していない。マスク手段２５１
は、図２６に模式的に示すように、照明光学系２６１に
おける、レチクル２６２と共役な位置においてマスキン
グブレード２５２をレチクル２６２の移動に対応させて
Ｚ方向に移動させることによりレチクル２６２における
Ｙ方向の露光領域を適宜画定するものである。したがっ
て、走査露光に際しては、マスキングブレード２５２
を、レチクル２６２の走査のための移動に一致させて上
下方向（Ｚ方向）に移動させる必要がある。その際、ブ
レード２５２を駆動するリニアモータ２５３の固定子２
５４には反力が生じるが、この反力を反力受け２５５で
受けると共に、反力受け２５５を第２支持手段１０５の
柱部１０３の上部に結合している。これによれば、マス
キングブレード２５２の加減速に伴う反力も、鏡筒定盤
９に伝えることなく、支持手段１０５により受けること
ができる。また、反力受けのための柱部１０３等を共通
に利用しているため、スペースの有効利用も図ることが
できる。
【００４４】
【発明の効果】以上説明したように本発明のステージ装
置によれば、固定部をその移動方向については自由度を
もたせて支持する第１支持手段と、固定部を前記移動方
向について剛に、他の方向には柔に支持する一軸支持手
段を有するとともに第１支持手段とは振動が伝わらない
ように分離した第２支持手段とを備えているため、固定
部に付与される反力が第１支持手段へ伝達するのを防止
することができる。したがって、可動部やその位置の計
測手段に対する外乱振動となる各種固有振動を励起せず
に光束高精度なステージの送りを可能にすることができ
る。
置によれば、固定部をその移動方向については自由度を
もたせて支持する第１支持手段と、固定部を前記移動方
向について剛に、他の方向には柔に支持する一軸支持手
段を有するとともに第１支持手段とは振動が伝わらない
ように分離した第２支持手段とを備えているため、固定
部に付与される反力が第１支持手段へ伝達するのを防止
することができる。したがって、可動部やその位置の計
測手段に対する外乱振動となる各種固有振動を励起せず
に光束高精度なステージの送りを可能にすることができ
る。
【００４５】また、第１支持手段および第２支持手段間
を連結し、それらの間の位置ずれを防止するようにした
ため、第１支持手段および第２支持手段間の位置関係
を、良好に維持することができる。
を連結し、それらの間の位置ずれを防止するようにした
ため、第１支持手段および第２支持手段間の位置関係
を、良好に維持することができる。
【００４６】また、一軸支持手段としては、十字板ばね
ヒンジ、円筒ばねヒンジ等の弾性ヒンジを用いて構成し
たもの、球面座リンクおよびそのリンク部分に予圧を付
与する予圧ばねを用いて構成したもの、前記移動方向に
張ったワイヤおよびそれを挟持する手段を用いて構成し
たもの、前記移動方向の力を受けるエアーパッドとそれ
に対して前記移動方向の予圧を付与する磁石とを用いて
構成したもの等を用いることにより、前記移動方向につ
いては、固定部に付与される反力を良好に受けるととも
に、他の方向については、その方向に働く力を良好に逃
がすことができる。たとえば、ウエハ側に対してレチク
ル側がＸ方向にずれた場合でも、このずれによる歪みを
吸収することができる。
ヒンジ、円筒ばねヒンジ等の弾性ヒンジを用いて構成し
たもの、球面座リンクおよびそのリンク部分に予圧を付
与する予圧ばねを用いて構成したもの、前記移動方向に
張ったワイヤおよびそれを挟持する手段を用いて構成し
たもの、前記移動方向の力を受けるエアーパッドとそれ
に対して前記移動方向の予圧を付与する磁石とを用いて
構成したもの等を用いることにより、前記移動方向につ
いては、固定部に付与される反力を良好に受けるととも
に、他の方向については、その方向に働く力を良好に逃
がすことができる。たとえば、ウエハ側に対してレチク
ル側がＸ方向にずれた場合でも、このずれによる歪みを
吸収することができる。
【００４７】また、ステージの移動方向の推力を固定部
に付与する推力付与手段を介して固定部を支持すること
により、より好ましい支持を行うことができる。たとえ
ば、固定部と第２支持手段との相対速度が減少するよう
に固定部に推力を付与することにより、固定部の振動を
良好に減衰させることができる。また、固定部の速度、
位置、または加速度に基づいて固定部の絶対位置が一定
となるように固定部に推力を付与したり、固定部の位置
と固定部に付与される推力の予測値とに基づいて固定部
の絶対位置が一定となるように固定部に推力を付与する
ことができる。固定部の絶対位置が一定であれば、ステ
ージの駆動手段がリニアモータ等の電磁力を利用するも
のである場合、固定子と可動子間の相対速度を小さく
し、コイルに発生する逆起電力を減少させることができ
る。したがって、ステージの制御偏差を減少させること
ができる。
に付与する推力付与手段を介して固定部を支持すること
により、より好ましい支持を行うことができる。たとえ
ば、固定部と第２支持手段との相対速度が減少するよう
に固定部に推力を付与することにより、固定部の振動を
良好に減衰させることができる。また、固定部の速度、
位置、または加速度に基づいて固定部の絶対位置が一定
となるように固定部に推力を付与したり、固定部の位置
と固定部に付与される推力の予測値とに基づいて固定部
の絶対位置が一定となるように固定部に推力を付与する
ことができる。固定部の絶対位置が一定であれば、ステ
ージの駆動手段がリニアモータ等の電磁力を利用するも
のである場合、固定子と可動子間の相対速度を小さく
し、コイルに発生する逆起電力を減少させることができ
る。したがって、ステージの制御偏差を減少させること
ができる。
【００４８】また、第２支持手段は、自身の振動を減衰
させるダンパ、電磁マスダンパ等の減衰手段を有するこ
とにより、第２支持手段が受けた反力の揺れ戻しを減衰
させることができる。また、第２支持手段の質量を可動
部の質量よりも大きくすることにより、固定子の変位を
極力生じさせることなく反力を良好に吸収することがで
きるため、固定子と可動子間の相対速度を小さくしてコ
イルに発生する逆起電力を減少させ、ステージの制御偏
差を減少させることができる。
させるダンパ、電磁マスダンパ等の減衰手段を有するこ
とにより、第２支持手段が受けた反力の揺れ戻しを減衰
させることができる。また、第２支持手段の質量を可動
部の質量よりも大きくすることにより、固定子の変位を
極力生じさせることなく反力を良好に吸収することがで
きるため、固定子と可動子間の相対速度を小さくしてコ
イルに発生する逆起電力を減少させ、ステージの制御偏
差を減少させることができる。
【００４９】また、固定部の反力が伝わらない第１支持
手段の位置を基準にして可動部の位置を計測することに
より、可動部の位置を精度良く計測することができる。
手段の位置を基準にして可動部の位置を計測することに
より、可動部の位置を精度良く計測することができる。
【００５０】また、走査型露光装置において原版の走査
時の移動用に使用される場合に、第１支持手段は投影光
学系が取り付けられた鏡筒定盤と結合させ、第２支持手
段はマスク手段のマスキングブレードを移動させる際の
反力受けと結合させることにより、マスク手段の反力
も、そのためのスペースをそれほど要することなく、同
時に受けることができる。
時の移動用に使用される場合に、第１支持手段は投影光
学系が取り付けられた鏡筒定盤と結合させ、第２支持手
段はマスク手段のマスキングブレードを移動させる際の
反力受けと結合させることにより、マスク手段の反力
も、そのためのスペースをそれほど要することなく、同
時に受けることができる。
【００５１】また、本発明の露光装置によれば、走査露
光のために原版を移動させる上述のステージ装置を備
え、その第１支持手段は投影光学系が取り付けられた鏡
筒定盤と結合しているため、走査露光時の駆動力の反力
が鏡筒定盤に伝達するのを防止することができる。した
がって、鏡筒定盤の振動や変形を極力排除し、オーバー
レイ性能や、露光像の性能を、スループットを低下させ
ることなく向上させることができる。
光のために原版を移動させる上述のステージ装置を備
え、その第１支持手段は投影光学系が取り付けられた鏡
筒定盤と結合しているため、走査露光時の駆動力の反力
が鏡筒定盤に伝達するのを防止することができる。した
がって、鏡筒定盤の振動や変形を極力排除し、オーバー
レイ性能や、露光像の性能を、スループットを低下させ
ることなく向上させることができる。
【００５２】また、本発明のデバイス製造方法によれ
ば、走査露光を行うに際して、かかる露光装置を用い、
原板を走査方向に移動させるときに、そのステージ装置
の固定部に生じる反力を、ステージ装置の第２支持手段
によって受けるようにしているため、反力が鏡筒定盤に
伝達するのを防止することができる。したがって、鏡筒
定盤の振動や変形を極力排除し、オーバーレイ性能や、
露光像の性能を、スループットを低下させることなく向
上させることができる。
ば、走査露光を行うに際して、かかる露光装置を用い、
原板を走査方向に移動させるときに、そのステージ装置
の固定部に生じる反力を、ステージ装置の第２支持手段
によって受けるようにしているため、反力が鏡筒定盤に
伝達するのを防止することができる。したがって、鏡筒
定盤の振動や変形を極力排除し、オーバーレイ性能や、
露光像の性能を、スループットを低下させることなく向
上させることができる。
【図１】 本発明の一実施形態に係る露光装置を側方か
ら見た様子を模式的に示す図である。
ら見た様子を模式的に示す図である。
【図２】 図１の露光装置の外観を示す斜視図である。
【図３】 図１の装置のダンパあるいは支柱、走査露光
時の走査方向、投影光学系および露光光間の、装置の上
から見たときの位置的関係を示す図である。
時の走査方向、投影光学系および露光光間の、装置の上
から見たときの位置的関係を示す図である。
【図４】 図１の装置におけるステップ移動および走査
露光でのＸステージおよびＹステージの移動速度の時間
的変化の一例を示すグラフである。
露光でのＸステージおよびＹステージの移動速度の時間
的変化の一例を示すグラフである。
【図５】 図１の装置におけるステージ定盤の支持点と
ステージ定盤の測定点との位置関係を示す図である。
ステージ定盤の測定点との位置関係を示す図である。
【図６】 図１の装置により製造し得る微小デバイスの
製造の流れを示すフローチャートである。
製造の流れを示すフローチャートである。
【図７】 図６におけるウエハプロセスの詳細な流れを
示すフローチャートである。
示すフローチャートである。
【図８】 図１の装置における一軸支持手段の第１の形
態を示す斜視図である。
態を示す斜視図である。
【図９】 図８の側面図である。
【図１０】 図１の装置における一軸支持手段の第２の
形態を示す斜視図である。
形態を示す斜視図である。
【図１１】 図１の装置における一軸支持手段の第３の
形態を示す斜視図である。
形態を示す斜視図である。
【図１２】 図１の装置における一軸支持手段の第４の
形態を示す斜視図である。
形態を示す斜視図である。
【図１３】 図１の装置における一軸支持手段の第５の
形態を示す斜視図である。
形態を示す斜視図である。
【図１４】 図１の装置における第２支持手段の他の例
を示す平面図である。
を示す平面図である。
【図１５】 図１４の側面図である。
【図１６】 図１４の斜視図である。
【図１７】 図１４の第２支持手段における反力支持ベ
ースと支柱との板ばねによる連結部分を上方から見た様
子を示す図である。
ースと支柱との板ばねによる連結部分を上方から見た様
子を示す図である。
【図１８】 図１の装置における一軸支持手段のさらに
別の形態を示す側面図である。
別の形態を示す側面図である。
【図１９】 図１８の一軸支持手段におけるリニアモー
タの駆動制御の一形態を示すブロック図である。
タの駆動制御の一形態を示すブロック図である。
【図２０】 図１８の一軸支持手段におけるリニアモー
タの駆動制御の他の形態を示すブロック図である。
タの駆動制御の他の形態を示すブロック図である。
【図２１】 図１８の一軸支持手段におけるリニアモー
タの駆動制御の別の形態を示すブロック図である。
タの駆動制御の別の形態を示すブロック図である。
【図２２】 図１の装置における第２支持手段のさらに
他の形態を示す斜視図である。
他の形態を示す斜視図である。
【図２３】 図１の装置における第２支持手段の別の形
態を示す斜視図である。
態を示す斜視図である。
【図２４】 図１の装置における第２支持手段のさらに
別の形態を示す側面図である。
別の形態を示す側面図である。
【図２５】 図１の装置における第２支持手段にマスク
手段の支持手段を結合させた一形態を模式的に示す図で
ある。
手段の支持手段を結合させた一形態を模式的に示す図で
ある。
【図２６】 図１の装置における照明光学系とマスク手
段の位置関係を示す模式図である。
段の位置関係を示す模式図である。
１：レチクルステージ、２：投影光学系、３：Ｘ・Ｙス
テージ、４：リニアモータ、４ａ：固定子、４ｂ：可動
子、３ａ：Ｘステージ、３ｂ：Ｙステージ、６：リニア
モータ、７：ステージ定盤、８：ダンパ、９：鏡筒定
盤、１０：ベースフレーム、１１：ダンパ、１２：支
柱、１２ｂ奥側の支柱、１３：距離測定手段、１８，１
９：重心、２０：露光光の断面、２１：投光手段、２
２：受光手段、２３：レーザ干渉計、８１：測長手段、
９１：エアーガイド、１０１：第１の支持手段、１０
２：一軸支持手段、１０２ａ：十字板ばねヒンジ、１０
１ａ：ステージ定盤、１０１ｂ：弾性ガイド１０１ｂ、
１０２ｃ：ワイヤ、１０２ｄ：部材、１０２ｅ：リンク
手段、１０２ｆ，１０２ｇ：エアーパッド、１０２ｈ，
１０２ｉ：磁石、１０３：柱部、１０４：反力支持ベー
ス、１０５：第２支持手段、１６１：空気ばね、１６
２：板ばね、１８１：リニアモータ、１９１：コントロ
ーラ、２２１：電磁マスダンパ、２２２：加速度計、２
３１：オイルダンパ、２３２：支持部材、２４１：下
部、２５１：マスク手段、２５２：マスキングブレー
ド、２５３：リニアモータ、２５４：固定子、２５５：
反力受け、２６１：照明光学系、２６２：レチクル。
テージ、４：リニアモータ、４ａ：固定子、４ｂ：可動
子、３ａ：Ｘステージ、３ｂ：Ｙステージ、６：リニア
モータ、７：ステージ定盤、８：ダンパ、９：鏡筒定
盤、１０：ベースフレーム、１１：ダンパ、１２：支
柱、１２ｂ奥側の支柱、１３：距離測定手段、１８，１
９：重心、２０：露光光の断面、２１：投光手段、２
２：受光手段、２３：レーザ干渉計、８１：測長手段、
９１：エアーガイド、１０１：第１の支持手段、１０
２：一軸支持手段、１０２ａ：十字板ばねヒンジ、１０
１ａ：ステージ定盤、１０１ｂ：弾性ガイド１０１ｂ、
１０２ｃ：ワイヤ、１０２ｄ：部材、１０２ｅ：リンク
手段、１０２ｆ，１０２ｇ：エアーパッド、１０２ｈ，
１０２ｉ：磁石、１０３：柱部、１０４：反力支持ベー
ス、１０５：第２支持手段、１６１：空気ばね、１６
２：板ばね、１８１：リニアモータ、１９１：コントロ
ーラ、２２１：電磁マスダンパ、２２２：加速度計、２
３１：オイルダンパ、２３２：支持部材、２４１：下
部、２５１：マスク手段、２５２：マスキングブレー
ド、２５３：リニアモータ、２５４：固定子、２５５：
反力受け、２６１：照明光学系、２６２：レチクル。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊藤 浩司 東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 井上 充 東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤ ノン株式会社内 (56)参考文献 特開 平６−204107（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−121294（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−111374（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/027 H01L 21/68
Claims (34)
- 【請求項１】 固定部、可動部、および前記固定部と可
動部との間で推力を付与することにより前記可動部を所
定の移動方向へ移動させる駆動手段を備えたステージ装
置であって、ダンパと接続し前記固定部を前記移動方向
については自由度をもたせて支持する第１の支持手段
と、前記固定部を前記移動方向について剛に、他の方向
に対しては柔に支持する一軸支持手段を有するとともに
前記第１支持手段とは振動が伝わらないように分離した
第２の支持手段とを備えたことを特徴とするステージ装
置。 - 【請求項２】 前記第１支持手段および第２支持手段間
を連結し、それらの間の位置ずれを防止するための板ば
ねを有することを特徴とする請求項１記載のステージ装
置。 - 【請求項３】 前記一軸支持手段は、十字板ばねヒン
ジ、円筒ばねヒンジ等の弾性ヒンジを用いて構成されて
いることを特徴とする請求項１または２記載のステージ
装置。 - 【請求項４】 前記一軸支持手段は、球面座リンクおよ
びそのリンク部分に予圧を付与する予圧ばねを用いて構
成されていることを特徴とする請求項１または２記載の
ステージ装置。 - 【請求項５】 前記一軸支持手段は、前記移動方向に張
ったワイヤおよびそれを挟持する手段を用いて構成され
ていることを特徴とする請求項１または２記載のステー
ジ装置。 - 【請求項６】 前記一軸支持手段は、前記移動方向の力
を受けるエアーパッドとそれに対して前記移動方向の予
圧を付与する磁石とを用いて構成されていることを特徴
とする請求項１または２記載のステージ装置。 - 【請求項７】 前記一軸支持手段は、前記移動方向の推
力を前記固定部に付与する推力付与手段を介して前記固
定部を支持するものであることを特徴とする請求項１〜
６記載のステージ装置。 - 【請求項８】 前記推力付与手段は、前記固定部と前記
第２支持手段との相対速度を検出し、これが減少するよ
うに前記固定部に推力を付与するものであることを特徴
とする請求項７記載のステージ装置。 - 【請求項９】 前記推力付与手段は、前記固定部の速
度、位置、または加速度を検出し、これに基づいて、前
記固定部の絶対位置が一定となるように、前記固定部に
推力を付与するものであることを特徴とする請求項７記
載のステージ装置。 - 【請求項１０】 前記推力付与手段は、前記固定部の位
置を検出し、この検出位置と前記固定部に付与される推
力の予測値とに基づいて、前記固定部の絶対位置が一定
となるように前記固定部に推力を付与するものであるこ
とを特徴とする請求項７記載のステージ装置。 - 【請求項１１】 前記第２支持手段は、自身の振動を減
衰させるダンパ、電磁マスダンパ等の減衰手段を有する
ことを特徴とする請求項１〜１０記載のステージ装置。 - 【請求項１２】 前記第２支持手段の質量は、前記可動
部の質量よりも大きいことを特徴とする請求項１〜１１
記載のステージ装置。 - 【請求項１３】 前記第１支持手段の位置を基準にして
前記可動部の位置を計測する位置計測手段を有すること
を特徴とする請求項１〜１２記載のステージ装置。 - 【請求項１４】 照明光学系からの照明光により原版の
パターンの一部を投影光学系を介して基板上に投影し、
前記投影光学系に対して前記原板と基板を移動させて共
に走査することにより前記原版のパターンの所定の露光
領域を前記基板上に走査露光する走査露光手段と、前記
照明光学系における前記原版と共役な位置においてマス
キングブレードを前記原版の移動に対応させて移動させ
ることにより前記原版における露光領域を適宜画定する
マスク手段とを備えた走査型露光装置において前記原版
の走査時の移動用に使用されるとともに、前記第１支持
手段は前記投影光学系が取り付けられた鏡筒定盤と結合
しており、前記第２支持手段は前記マスク手段のマスキ
ングブレードを移動させる際の反力受けと結合している
ことを特徴とする請求項１〜１３記載のステージ装置。 - 【請求項１５】 前記駆動手段はリニアモータであり、
前記固定部は前記リニアモータの固定子を有し、前記可
動部は前記リニアモータの可動子を有することを特徴と
する請求項１〜１４記載のステージ装置。 - 【請求項１６】 前記推力付与手段はリニアモータであ
ることを特徴とする７〜１０記載のステージ装置。 - 【請求項１７】 原版のパターンの一部を投影光学系を
介して基板上に投影し、前記投影光学系に対して前記原
板と基板を移動させて共に走査することにより前記原版
のパターンの所定の露光領域を前記基板上に走査露光す
る走査露光手段と、前記走査のために前記原版を移動さ
せる請求項１〜１６のいずれかに記載のステージ装置を
備え、前記ステージ装置の第１支持手段は前記投影光学
系が取り付けられた鏡筒定盤と結合していることを特徴
とする露光装置。 - 【請求項１８】 前記鏡筒定盤を支持する３本の支柱を
有し、前記ステージ装置の第２支持手段は、前記３本の
支柱のそれぞれとそれらの下部において板ばねを介して
水平方向に剛かつ上下方向に柔に連結された底部と、こ
の底部から上方に伸びた柱部と、この柱部から前記走査
の方向に伸び、前記ステージ装置の固定部に連結した部
分とを有し、この固定部に連結した部分が、前記ステー
ジ装置の一軸支持手段を構成していることを特徴とする
請求項１７記載の露光装置。 - 【請求項１９】 前記３本の支柱をそれらの下部におい
て結合するベースフレームと、このベースフレームと前
記第２支持手段の底部との間に介在して前記底部に対し
下方向の弾性力を付与する弾性手段とを備えることを特
徴とする請求項１８記載の露光装置。 - 【請求項２０】 前記鏡筒定盤をダンパを介して支持す
る３本の支柱と、前記３本の支柱をそれらの下部におい
て結合するベースフレームとを有し、前記ステージ装置
の第２支持手段は、前記ベースフレームから上方に伸び
た柱部と、この柱部から前記走査の方向に伸び、前記ス
テージ装置の固定部に連結した部分とを有し、この固定
部に連結した部分が、前記ステージ装置の一軸支持手段
を構成していることを特徴とする請求項１７記載の露光
装置。 - 【請求項２１】 原版のパターンの一部を投影光学系を
介して基板上に投影し、前記投影光学系に対して前記原
板と基板を移動させて共に走査することにより前記原版
のパターンの所定の露光領域を前記基板上に走査露光す
るデバイス製造方法において、走査露光を行うに際して
は、請求項１７〜２０のいずれかに記載の露光装置を用
い、前記原板を走査方向に移動させるときに、前記露光
装置のステージ装置の固定部に生じる反力を、前記ステ
ージ装置の第２支持手段によって受けることを特徴とす
るデバイス製造方法。 - 【請求項２２】 固定部、可動部、および前記固定部と
可動部との間で推力を付与することにより前記可動部を
所定の移動方向へ移動させる駆動手段を備えたステージ
装置であって、前記固定部を前記移動方向に自由度をも
たせて支持する支持手段と、前記固定部に対し前記移動
方向に推力を付与する推力付与手段を有することを特徴
とするステージ装置。 - 【請求項２３】 前記推力付与手段は、前記固定部側に
設けられた部分と反力を受けるための反力受けに設けら
れた部分との間で推力を発生することを特徴とする請求
項２２記載のステージ装置。 - 【請求項２４】 前記推力付与手段は、前記固定部の振
動を減衰させる力を発生することを特徴とする請求項２
２または２３記載のステージ装置。 - 【請求項２５】 前記推力付与手段は、前記固定部の速
度、位置または加速度を検出し、これに基づいて、前記
固定部の位置が一定になるように前記固定部に推力を付
与することを特徴とする請求項２２〜２４いずれかに記
載のステージ装置。 - 【請求項２６】 前記推力付与手段は、前記固定部に付
与される推力の予測値に基づいてフィードフォワードで
駆動を制御することを特徴とする請求項２２〜２５いず
れかに記載のステージ装置。 - 【請求項２７】 前記推力付与手段は、非接触型のアク
チュエータであることを特徴とする請求項２２〜２６い
ずれかに記載のステージ装置。 - 【請求項２８】 前記推力付与手段は、リニアモータで
あることを特徴とする請求項２２〜２７いずれかに記載
のステージ装置。 - 【請求項２９】 前記推力付与手段は、ＶＣＭモータで
あることを特徴とする請求項２２〜２７いずれかに記載
のステージ装置。 - 【請求項３０】 請求項２２〜２７のいずれかに記載の
ステージ装置をレチクルステージとして備えたことを特
徴とする露光装置。 - 【請求項３１】 照明光学系からの照明光により原版の
パターンの一部を投影光学系を介して基板上に投影し、
前記投影光学系に対して前記原版と基板を移動させて共
に走査することにより前記原版のパターンの所定の露光
領域を前記基板上に走査露光する走査露光手段を有する
露光装置において、 該走査露光手段は、 前記原版の露光領域を画定するためのマスキングブレー
ドと、 前記マスキングブレードを駆動するリニアモータと、 前記投影光学系を支持する鏡筒定盤と別個に配置され、
前記リニアモータの反力を受ける支持手段とを備えたこ
とを特徴とする露光装置。 - 【請求項３２】 前記マスキングブレードは、前記照明
光学系における、原版と共役な位置に設けられているこ
とを特徴とする請求項３１記載の露光装置。 - 【請求項３３】 前記原版を移動させるときに固定部に
発生する反力を受けるために前記鏡筒定盤と別個に配置
された支持手段と、前記リニアモータの反力を受ける支
持手段とを共通にすることを特徴とする請求項３１また
は３２記載の露光装置。 - 【請求項３４】 請求項３０〜３３いずれかに記載の露
光装置を用いて、前記原版のパターンを前記基板上に走
査露光することを特徴とするデバイス製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21904096A JP3266515B2 (ja) | 1996-08-02 | 1996-08-02 | 露光装置、デバイス製造方法およびステージ装置 |
| US08/904,305 US5909272A (en) | 1996-08-02 | 1997-07-31 | Stage and exposure apparatus using same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21904096A JP3266515B2 (ja) | 1996-08-02 | 1996-08-02 | 露光装置、デバイス製造方法およびステージ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1050586A JPH1050586A (ja) | 1998-02-20 |
| JP3266515B2 true JP3266515B2 (ja) | 2002-03-18 |
Family
ID=16729324
Family Applications (1)
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