JPH02205054A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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Publication number
JPH02205054A
JPH02205054A JP1024576A JP2457689A JPH02205054A JP H02205054 A JPH02205054 A JP H02205054A JP 1024576 A JP1024576 A JP 1024576A JP 2457689 A JP2457689 A JP 2457689A JP H02205054 A JPH02205054 A JP H02205054A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
transmission lines
reference potential
transmission
lines
semiconductor device
Prior art date
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Pending
Application number
JP1024576A
Other languages
English (en)
Inventor
Chiyoshi Kamata
千代士 鎌田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Publication of JPH02205054A publication Critical patent/JPH02205054A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、半導体装置に適用して有効な技術に関するも
ので、例えば、マイクロ波信号により動作を行う半導体
装置に利用して有効な技術に関するものである。
[従来の技術] 従来、ICを封止するパッケージ内外の電気的信号(所
謂低周波信号)のやり取りは、該パッケージから突出す
る複数のピン(アウターリード)を介して行われ、この
ピンを介してパッケージ内に伝送された電気的信号は、
前記ピンに電気的に接続される伝送路(インナーリード
)を介してIC内に伝送されるようになっている。
ここで、近年においては、通信用のIC等においてマイ
クロ波信号(G Hz単位)が使用されるようになって
きている。このマイクロ波信号の波長は従来の低周波信
号に比べて非常に短く、しかもこのマイクロ波信号は該
マイクロ波信号の波長に比べて長い配線長を有する伝送
路(インナーリード)中を伝送されるので、従って、こ
の伝送路において該マイクロ波信号の反射減衰等の現象
が発生し、波形が乱れてしまうという問題点が生じてい
る。
そこで、最近においては、上記伝送路の研ぐ異ンビーダ
ンスをIC内の負荷インピーダンスに一致させる所謂イ
ンピーダンス整合をとるようにして、上記問題点に対処
していた。
このインピーダンス整合については、例えば、昭和60
年11月1日に日経マグロウヒル社から発行された「日
経マイクロデバイス」第111頁〜第117頁に記載さ
れている。
このインピーダンス整合を取るように構成された伝送路
の一例を示したのが第7図、第8図である。
第7図は所謂マイクロストリップライン、第8図は所謂
ストリップラインと称されるもので、符号1はマイクロ
波信号の伝送路を、2は誘電体を、3は基準電位(グラ
ンド電位)をそれぞれ示しており、両者共、伝送路1の
幅、厚さ、誘電体2の誘電率、厚さ等を変化させること
により伝送路1の特性インピーダンスをIC内の負荷イ
ンピーダンスに一致させようとするものである。
[発明が解決しようとする課題] しかしながら、上記マイクロストリップライン、ストリ
ップラインにおいては以下の問題点がある。
すなわち、上記伝送路1同士がある一定間隔以内に接近
してくるとインピーダンス値が設計値と一致しなくなり
、インピーダンスマツチングの設計が非常に難しくなっ
てしまうという問題である。
しかも、上記伝送路1同士がある一定間隔以内に近接し
てくると、伝送路1間においてクロストークノイズが発
生し、所謂アイソレーション特性が劣化するという問題
も生じる。
これら問題点は、最近の半導体装置の傾向としてパッケ
ージが多ピン化、すなわち伝送路が多本数化してきてお
り、しかも該半導体装置を高集積化するという要請から
上記伝送路1同士をかなり接近させなければならないの
で、極めて顕著となってきている。
ここで、上記問題点を回避するものとして、上記平面的
に並べられた伝送路1の間に基準電位線(グランド電位
線)を介在させるようにしてインピーダンス整合を取る
と共に、クロストークを防止するようにした半導体装置
が知られている。
しかしながら、この半導体装置においては、伝送路1が
平面的に並べられているために、高集積化が今−歩図れ
ず、しかも、伝送路が長くなってしまうことから伝送路
の所謂伝送特性が劣化してしまうという問題点がある。
また、第9図に示されるように、電話線等に利用されて
いる同軸ケーブル状に伝送路1の周囲を誘電体2を介し
て基準電位線(グランド電位線)3で囲むタイプも知ら
れている。これは、伝送路1を基準電位線3で完全に囲
むことからインピーダンス整合設計の簡易化及びクロス
トークの防止が図れることになるが、製造が難しく、半
導体IC用パッケージの配線としての実現性が乏しいと
いった問題点がある。
本発明は係る問題点に鑑みなされたものであって、イン
ピーダンス整合の設計が比較的簡易にできると共に、ア
イソレーション特性、伝送特性に優れ、しかも製造が容
易で、高集積化の図れる半導体装置を提供することを目
的としている。
[課題を解決するための手段] 本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を説明すれば、下記のとおりである。
すなわち、マイクロ波を伝送する伝送路を積層化すると
共に、該伝送路の上下左右方向に基準電位を有する配線
を離間配置したものである。
[作用] 上記した手段によれば、マイクロ波を伝送する伝送路を
積層化すると共に、該伝送路の上下左右方向に基準電位
を有する配線を離間配置するようにしたので、基準電位
を有する配線が、隣接する伝送路間のクロストークノイ
ズを抑えることができるという作用によりアイソレーシ
ョン特性を劣化させることなく伝送路を近接配置でき、
しかも伝送路が立体的に積層されるという作用により配
線密度が向上されると共に伝送路の配線長を短くでき、
従って、アイソレーション特性、伝送特性に優れ、高集
積化の図られた半導体装置を提供するという上記目的が
達成されることになる。
また、伝送路同士の間に基準電位を有する配線が配置さ
れるという作用により、伝送路同士を近接させた場合に
おけるインピーダンス整合の設計を簡易にできるという
上記目的が達成されることになる。
また、その構成は上記のように極めて簡易であるので、
上記半導体装置を容易に製造できるという上記目的が達
成されることになる。
[実施例] 以下、本発明の実施例を図面を参照しながら説明する。
第1図乃至第4図には本発明に係る半導体装置の第1実
施例が示されている。その概要を説明すれば次のとおり
である。
第4図は光通信、コンピュータ用に使用される超高速半
導体装置の縦断面図である。
同図において、この半導体装置の外郭はパッケージ部分
と、該パッケージから突出する50本以上のピン(アウ
ターリード)36とにより構成されている。パッケージ
部分は上部を形成するキャップ34と、側部を形成する
積層セラミック(アルミナ)12とにより封止された状
態になっており、この積層セラミック(アルミナ)12
間には上記ピン(アウターリード)36にそれぞれ接続
される伝送路(インナーリード)11が形成されている
(詳しくは後述)。
上記パッケージ内にはICベース31に載置されるIC
チップ30が配置されている。このICチップ30上に
はポンディングパッド32が多数形成されており、ポン
ディングパッド32にはボンディングワイヤ33の一端
が、このボンディングワイヤ33の他端側には上記伝送
路(インナーリード)11のパッケージ内端部がそれぞ
れ接続されている。この伝送路(インナーリード)11
は、上記ピン(アウターリード)36とICチップ30
との間におけるマイクロ波信号の伝送を行なうためのも
ので、本実施例においては約10GHzのマイクロ波信
号を伝送するようになっている。
この伝送路(インナーリード)11はタングステンより
なり、第1図に示されるように、アルミナよりなる誘電
体12上に並列的にそれぞれ配置され,互いに一定間隔
を持って離間配置されている。この伝送路(インナーリ
ード)11間士の間の中央には基準電位を有するタング
ステンよりなる配線(グランド線)15がそれぞれ配置
されている。上記伝送路(インナーリード)11及びグ
ランド線15がプリントされた誘電体12は階層状に積
層されており(本実施例においては2段)、上段の伝送
路(インナーリード)11の真下にはグランド線15が
、また上段のグランド線15の真下には伝送路11がそ
れぞれ配置される位置関係となるように積層されている
。これら積層部位の上下面には、基準電位層13が形成
されており、従って、マイクロ波信号を伝送する伝送路
(インナーリード)11の上下左右方向には基準電位部
分が離間配置された状態となっている。
上記各配線11、13、15及び誘電体12は、例えば
グリーンシート積層法等の周知の製造法により形成され
る。
なお、第4図における右半分は第1図のC−C矢視図、
左半分はD−D矢視図である。
このように、本実施例においては、伝送路(インナーリ
ード)11の上下左右方向に基準電位部位(グランド線
15、基準電位層13)を離間配置しているので、伝送
路(インナーリード)11間士を近接させた場合におけ
るインピーダンス整合の設計が非常に簡易にできる。
また、このように、伝送路(インナーリード)11を該
伝送路(インナーリード)11の上下左右方向に配置さ
れる基準電位部位によりシールドするようにしているの
で、伝送路11同士を近接させても伝送路11間のクロ
ストークノイズを抑えることができる。すなわち、アイ
ソレーション特性を劣化させることなく伝送路を近接配
置できる。因に、上述の如く構成すると、第9図で説明
した伝送路周囲を完全に基準電位部分で囲む場合と略同
様な機能を発揮することができる。
上記伝送路(インナーリード)11は、第2図、第3図
にそれぞれ示されるように、直接ピン(アウターリード
)36にそれぞれ接続されており、一方グランド線15
及び基準電位層13は、第2図乃至第4図に示されるよ
うに、パッケージ内においてスルーホール19を介して
一括してグランド部分(基準電位部分)17に短絡して
いる。すなわち、このグランド線15は1本1本パッケ
ージ外に引き出されずにパッケージ内において一括して
グランド部分(基準電位部分)17に短絡しており、従
って、パッケージ外に引き出されるビン数はIC動作に
必要な伝送路(インナーリード)11の数だけであり、
不必要なピン数の増大はなく、伝送路(インナーリード
)11の近接配置化、積層化と相俟ってさらに高集積化
が図られるようになっている。
因に、上記伝送路11の特性インピーダンス値は50Ω
であり、このインピーダンス値となるように種々のパラ
メータが決定されている。
すなわち、グランド線15及び伝送路11の厚さM、N
をそれぞれ0.025mmに、グランド線15及び伝送
路11の@Xをそれぞれ0゜2mmに、グランド線15
と伝送路11との間の距離Yを0.15mmに、誘電体
12の厚さLを0.3mmにそれぞれ設定することによ
り伝送路11の特性インピーダンス値を50Ωとしてい
る。
なお、図が煩雑になるのを避けるために、第1図の矢視
部分は、第2図及び第3図においては断面部分のみに示
しである。
このように構成される半導体装置によれば次のような効
果を得ることができる。
すなわち、マイクロ波を伝送する伝送路(インナーリー
ド)11を積層化すると共に、該伝送路(インナーリー
ド)11の上下左右方向に基準電位部位(グランド線1
5、基準電位層13)を離間配置するようにしたので、
基準電位部位(グランド線15、基準電位層13)が、
隣接する伝送路11間のクロストークノイズを抑えるこ
とができるという作用によりアイソレーション特性を劣
化させることなく伝送路11を近接配置でき、しかも伝
送路11が立体的に積層されるという作用により配線密
度が向上されると共に伝送路の配線長を短くできる。
また、伝送路11同士の間に基準電位を有する配線が配
置されるという作用により、伝送路同士を近接させた場
合におけるインピーダンス整合の設計を簡易にでき、従
って、伝送路の特性インピーダンスを所望の値(本実施
例においては50Ω)に容易に設計できる。
また、その構成は、第9図に示されるような同軸ケーブ
ル状に伝送路1の周囲を誘電体2を介して基準電位線(
グランド電位線)3で囲むタイプに比べて極めて簡易で
あるので、上記半導体装置の製造は容易である。
第5図には本発明に係る半導体装置の第2実施例の要部
が示されている。
この第2実施例の半導体装置が第1実施例のそれと違う
点は、伝送路(インナーリード)11、グランド線15
及び誘電体12よりなる積層部位の上下面に形成される
基準電位層13を、基準電位を有する配線(グランド線
)23に代えた点である。このグランド線23は勿論伝
送路(インナーリード)11の真上または真下に来るよ
うに配置されている。
このように構成されても、マイクロ波信号を伝送する伝
送路(インナーリード)11の上下左右方向に基準電位
部分が離間配置されることには変わりないので、第1実
施例と同様な効果が発揮されるというのはいうまでもな
い。
第6図には本発明に係る半導体装置の第3実施例の要部
が示されている。
この半導体装置は、ピン(アウターリード)36がIC
ベース31の底面から多数突出する所謂ピングリッドア
レイタイプのものであり、伝送路(インナーリード)4
1も同様にICベース31の底面に向かって延びている
ものである。第6図は、このICベース31の底面に向
かって延在する伝送路(インナーリード)41の横断面
図(ICベース31の底面に並行な面で切断した図)で
あり、伝送路(インナーリード)41及びグランド線4
3は、製造しやすいように誘電体(アルミナ)42を円
形にくり抜いた中に充填されている。
このように構成されても、マイクロ波信号を伝送する伝
送路(インナーリード)41の上下左右方向に基準電位
部分が離間配置されることには変わりないので、第1実
施例と同様な効果が発揮されるというのはいうまでもな
い。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
例えば、上記実施例おいては、伝送路をインナーリード
としているが、インナーリードに限定されるものではな
く、IC内部のマイクロ波信号伝送路に対しても適用可
能である。
また、上記実施例においては、インピーダンス整合値を
50Ωにしているが、50Ωに限定されるものではなく
、インピーダンス値を決定するパラメータM、N、X、
Y、Lも上記値に限定されるものではない。また、マイ
クロ波信号の周波数も約10GHzに限定されるもので
はない。
また、上記実施例においては、伝送路(インナーリード
)及びグランド線がプリントされた誘電体は2段に積層
されているが2段以上に積層することも可能である。そ
の場合には上記実施例と同様に、伝送路の上下左右方向
に基準電位を有する配線が離間配置されるよう積層しな
ければならないというのはいうまでもない。
なお、本発明は数GHz以上のマイクロ波信号により動
作する高速IC用の多ピンパツケージに適用するのが特
に有効である。
[発明の効果] 本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば下記のとおりである
すなわち、マイクロ波を伝送する伝送路を積層化すると
共に、該伝送路の上下左右方向に基準電位を有する配線
を離間配置するようにしたので、基準電位を有する配線
が、隣接する伝送路間のクロストークノイズを抑えるこ
とができることとなり、アイソレーション特性を劣化さ
せることなく伝送路を近接配置でき、しかも伝送路が立
体的に積層されることから、配線密度が向上されると共
に伝送路の配線長を短くできる。その結果、アイソレー
ション特性、伝送特性に優れ、高集積化の図られた半導
体装置となる。
また、伝送路同士の間に基準電位を有する配線が配置さ
れるので、伝送路同士を近接させた場合におけるインピ
ーダンス整合の設計を簡易にすることが可能となる また、その構成は上記のように極めて簡易であるので、
上記半導体装置を容易に製造することが可能となる。
【図面の簡単な説明】 第1図は本発明に係る半導体装置の第1実施例の要部の
縦断面図、 第2図は同上装置のA−A矢視図、 第3図は同上装置のB−B矢視図、 第4図は第1図の縦断面図、 第5図は本発明に係る半導体装置の第2実施例の要部の
縦断面図、 第6図は本発明に係る半導体装置の第3実施例の要部の
横断面図、 第7図乃至第9図は従来技術に係る半導体装置の要部の
各斜視図である。 11.41・・・・伝送路、 13゜ 15゜ 23゜ 43・・・・基準電位を有する配線。 36・・・・ピ ン。 しく しの ば) 手続補正帯 (自発) 1、事件の表示 平成 1手持許願第24576号 2、発明の名称 半導体装置 3、補正をする者 事件との関係  特許出願人 住 所 〒101東京都千代田区神田駿河台四丁目6番
地名称(510)株式会社日立製作所 4、代理人 居 所  〒162東京都新宿区市谷本村町3番20号
6、補正の内容

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.パッケージから突出する複数のピンを有し、このピ
    ンを介して該パッケージ内へのマイクロ波信号の授受を
    行うと共に、このパッケージ内の該マイクロ波信号の伝
    送を前記ピンに電気的に接続される伝送路によりそれぞ
    れ行うようにした半導体装置において、前記伝送路を積
    層化すると共に、該伝送路の上下左右方向に基準電位を
    有する配線を離間配置したことを特徴とする半導体装置
  2. 2.前記伝送路と前記基準電位を有する配線との間には
    アルミナが介在していることを特徴とする特許請求の範
    囲第1項記載の半導体装置。
  3. 3.前記基準電位を有する配線は前記パッケージ内にお
    いて一括して基準電位に短絡していることを特徴とする
    特許請求の範囲第1項または第2項記載の半導体装置。
JP1024576A 1989-02-02 1989-02-02 半導体装置 Pending JPH02205054A (ja)

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JP1024576A JPH02205054A (ja) 1989-02-02 1989-02-02 半導体装置

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JP (1) JPH02205054A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08330474A (ja) * 1995-03-31 1996-12-13 Toshiba Corp 半導体用パッケージ
JP2012114215A (ja) * 2010-11-24 2012-06-14 Elpida Memory Inc 半導体装置及びそのレイアウト方法

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08330474A (ja) * 1995-03-31 1996-12-13 Toshiba Corp 半導体用パッケージ
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