JP5155277B2 - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
パターン形成された放射ビームを基板の目標部分に投影するように構成され、基板にごく近接する要素を有する投影システムであって、該要素が、基板に実質的に平行な平面内で矩形の断面形状を有する投影システムと
を備えるリソグラフィ装置が提供される。
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
パターン形成された放射ビームを基板の目標部分に投影するように構成された投影システムと、
投影システムと基板との間に液体を含むように構成された空間を少なくとも部分的に画定する表面を有する液体閉込め構造とを備えるリソグラフィ装置であって、基板に最も近い位置で、基板に実質的に平行な平面内で、該空間が、目標部分と形状、面積、又はその両方が実質的に合致する断面を有するリソグラフィ装置が提供される。
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
パターン形成された放射ビームを基板の目標部分に投影するように構成された投影システムと、
基板と基板にごく近接する投影システムの要素との間に液体を含むように構成された空間を少なくとも部分的に画定する表面を有する液体閉込め構造とを備えるリソグラフィ装置であって、基板に実質的に平行な平面内で、該要素、該空間、又はその両方の断面の面積、形状、又はその両方が、目標部分と実質的に合致するリソグラフィ装置が提供される。
−放射ビームB(例えばUV放射又はDUV放射)を調整するように構成された照明システム(照明器)ILと、
−パターン形成デバイス(例えばマスク)MAを支持するように構築された支持構造であって、いくつかのパラメータに従ってパターン形成デバイスを正確に位置決めするように構成された第1の位置決め手段PMに接続された支持構造(例えばマスク・テーブル)MTと、
−基板(例えばレジスト被覆ウェハ)Wを保持するように構築された基板テーブルであって、いくつかのパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2の位置決め手段PWに接続された基板テーブル(例えばウェハ・テーブル)WTと、
−パターン形成デバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wの目標部分C(例えば、1つ又は複数のダイを備える)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズ・システム)PSと
を備える。
MA パターン形成デバイス、マスク
MT 支持構造、マスク・テーブル
PB 投影ビーム
PS、PL 投影システム
TP 目標部分
W 基板
WT 基板テーブル、ウェハ・テーブル
10 空間
11 液体
12 液体閉込め構造
20 壁
40 下側開口
60 上側開口
100 コーティング
Claims (9)
- 基板を保持する基板テーブルと、
パターン形成された放射ビームを前記基板の目標部分に投影する投影システムと、
前記投影システムと前記基板との間に液体を含むように構成された空間を少なくとも部分的に画定する表面を有する液体閉込め構造とを備えるリソグラフィ装置であって、
前記基板に最も近い位置で、前記基板に実質的に平行な平面内で、前記空間が、前記目標部分と形状、面積、又はその両方が実質的に合致する断面を有し、
前記液体閉込め構造の前記表面が、前記投影システムの最終要素の前記基板に最も近い底面を越えて延在し、
前記基板に実質的に平行であり、前記空間と前記投影システムの最終要素との両方に交差する平面内で、前記最終要素の断面の周縁が、前記空間の断面の周縁によって実質的に均等に取り囲まれる、リソグラフィ装置。 - 前記空間の断面が、前記目標部分の面積の1.5倍未満の面積を有する請求項1に記載の装置。
- 前記投影システムの最終要素が、前記基板に実質的に平行な平面内で、前記目標部分の形状、前記空間の断面、又はその両方に実質的に合致する形状の断面を有する請求項1又は2に記載の装置。
- 前記目標部分が実質的に長方形である請求項1乃至3のいずれかに記載の装置。
- 基板を保持する基板テーブルと、
パターン形成された放射ビームを前記基板の目標部分に投影する投影システムと、
前記基板と前記基板に近接する前記投影システムの要素との間に液体を含むように構成された空間を少なくとも部分的に画定する表面を有する液体閉込め構造とを備えるリソグラフィ装置であって、
前記基板に実質的に平行な平面内で、前記要素、前記空間、又はその両方の断面の面積、形状、又はその両方が、前記目標部分と実質的に合致し、
前記液体閉込め構造の前記表面が、前記投影システムの前記要素の前記基板に最も近い底面を越えて延在し、
前記基板に実質的に平行であり、前記空間と前記投影システムの前記要素との両方に交差する平面内で、前記要素の断面の周縁が、前記空間の断面の周縁によって実質的に均等に取り囲まれる、リソグラフィ装置。 - 前記空間が、前記基板に近づくにつれて前記基板に実質的に平行な平面内での前記空間の断面積が減少するようにテーパを付けられた請求項5に記載の装置。
- 前記基板に実質的に平行な平面内での前記空間の断面形状が、前記基板から最も遠い位置から前記基板に最も近い位置へ変化し、前記基板に最も近い位置で、前記断面形状が、前記目標部分の形状と実質的に同じである請求項5に記載の装置。
- 投影システムを使用して、パターン形成された放射のビームを基板の目標部分に投影することを含むデバイス製造方法であって、
前記投影システムと前記基板との間に液体で充填されるように構成された空間が、液体閉込め構造の表面によって少なくとも部分的に画定され、
前記基板に最も近い位置で、前記基板に実質的に平行な平面内で、前記空間が、前記目標部分と形状、面積、又はその両方が実質的に合致する断面を有し、
前記液体閉込め構造の前記表面が、前記投影システムの最終要素の前記基板に最も近い底面を越えて延在し、
前記基板に実質的に平行であり、前記空間と前記投影システムの最終要素との両方に交差する平面内で、前記最終要素の断面の周縁が、前記空間の断面の周縁によって実質的に均等に取り囲まれる、デバイス製造方法。 - 投影システムを使用して、パターン形成された放射のビームを基板の目標部分に投影することを含むデバイス製造方法であって、
前記投影システムと前記基板との間の空間内に液体が提供され、前記空間が、液体閉込め構造の表面によって少なくとも部分的に画定され、前記空間、前記基板に近接する前記投影システムの要素、又はその両方が、前記基板に実質的に平行な平面内で、前記目標部分とサイズ、形状、又はその両方が実質的に合致する断面を有し、
前記液体閉込め構造の前記表面が、前記投影システムの前記要素の前記基板に最も近い底面を越えて延在し、
前記基板に実質的に平行であり、前記空間と前記投影システムの前記要素との両方に交差する平面内で、前記要素の断面の周縁が、前記空間の断面の周縁によって実質的に均等に取り囲まれる、デバイス製造方法。
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GB1242527A (en) * | 1967-10-20 | 1971-08-11 | Kodak Ltd | Optical instruments |
US3573975A (en) * | 1968-07-10 | 1971-04-06 | Ibm | Photochemical fabrication process |
EP0023231B1 (de) | 1979-07-27 | 1982-08-11 | Tabarelli, Werner, Dr. | Optisches Lithographieverfahren und Einrichtung zum Kopieren eines Musters auf eine Halbleiterscheibe |
FR2474708B1 (fr) | 1980-01-24 | 1987-02-20 | Dme | Procede de microphotolithographie a haute resolution de traits |
JPS5754317A (en) * | 1980-09-19 | 1982-03-31 | Hitachi Ltd | Method and device for forming pattern |
US4346164A (en) * | 1980-10-06 | 1982-08-24 | Werner Tabarelli | Photolithographic method for the manufacture of integrated circuits |
US4509852A (en) * | 1980-10-06 | 1985-04-09 | Werner Tabarelli | Apparatus for the photolithographic manufacture of integrated circuit elements |
US4390273A (en) * | 1981-02-17 | 1983-06-28 | Censor Patent-Und Versuchsanstalt | Projection mask as well as a method and apparatus for the embedding thereof and projection printing system |
JPS57153433A (en) * | 1981-03-18 | 1982-09-22 | Hitachi Ltd | Manufacturing device for semiconductor |
US4405701A (en) | 1981-07-29 | 1983-09-20 | Western Electric Co. | Methods of fabricating a photomask |
JPS58202448A (ja) | 1982-05-21 | 1983-11-25 | Hitachi Ltd | 露光装置 |
DD206607A1 (de) | 1982-06-16 | 1984-02-01 | Mikroelektronik Zt Forsch Tech | Verfahren und vorrichtung zur beseitigung von interferenzeffekten |
JPS5919912A (ja) | 1982-07-26 | 1984-02-01 | Hitachi Ltd | 液浸距離保持装置 |
DD242880A1 (de) | 1983-01-31 | 1987-02-11 | Kuch Karl Heinz | Einrichtung zur fotolithografischen strukturuebertragung |
DD221563A1 (de) | 1983-09-14 | 1985-04-24 | Mikroelektronik Zt Forsch Tech | Immersionsobjektiv fuer die schrittweise projektionsabbildung einer maskenstruktur |
DD224448A1 (de) | 1984-03-01 | 1985-07-03 | Zeiss Jena Veb Carl | Einrichtung zur fotolithografischen strukturuebertragung |
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JPS6265326A (ja) | 1985-09-18 | 1987-03-24 | Hitachi Ltd | 露光装置 |
JPS62121417A (ja) | 1985-11-22 | 1987-06-02 | Hitachi Ltd | 液浸対物レンズ装置 |
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US4747678A (en) | 1986-12-17 | 1988-05-31 | The Perkin-Elmer Corporation | Optical relay system with magnification |
JPS63157419A (ja) | 1986-12-22 | 1988-06-30 | Toshiba Corp | 微細パタ−ン転写装置 |
JPS63157419U (ja) | 1987-03-31 | 1988-10-14 | ||
US5040020A (en) * | 1988-03-31 | 1991-08-13 | Cornell Research Foundation, Inc. | Self-aligned, high resolution resonant dielectric lithography |
US4953960A (en) | 1988-07-15 | 1990-09-04 | Williamson David M | Optical reduction system |
JPH03209479A (ja) | 1989-09-06 | 1991-09-12 | Sanee Giken Kk | 露光方法 |
JPH04130710A (ja) | 1990-09-21 | 1992-05-01 | Hitachi Ltd | 露光装置 |
JPH04133414A (ja) | 1990-09-26 | 1992-05-07 | Nec Yamaguchi Ltd | 縮小投影露光装置 |
JP3084760B2 (ja) | 1991-02-28 | 2000-09-04 | 株式会社ニコン | 露光方法及び露光装置 |
US5121256A (en) * | 1991-03-14 | 1992-06-09 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Lithography system employing a solid immersion lens |
JPH04211110A (ja) | 1991-03-20 | 1992-08-03 | Hitachi Ltd | 投影式露光方法 |
JPH04305917A (ja) | 1991-04-02 | 1992-10-28 | Nikon Corp | 密着型露光装置 |
JPH04305915A (ja) | 1991-04-02 | 1992-10-28 | Nikon Corp | 密着型露光装置 |
JPH0545886A (ja) | 1991-08-12 | 1993-02-26 | Nikon Corp | 角形基板の露光装置 |
US5298939A (en) * | 1991-11-04 | 1994-03-29 | Swanson Paul A | Method and apparatus for transfer of a reticle pattern onto a substrate by scanning |
US5212593A (en) | 1992-02-06 | 1993-05-18 | Svg Lithography Systems, Inc. | Broad band optical reduction system using matched multiple refractive element materials |
JPH06124873A (ja) | 1992-10-09 | 1994-05-06 | Canon Inc | 液浸式投影露光装置 |
JP2753930B2 (ja) * | 1992-11-27 | 1998-05-20 | キヤノン株式会社 | 液浸式投影露光装置 |
JP2520833B2 (ja) | 1992-12-21 | 1996-07-31 | 東京エレクトロン株式会社 | 浸漬式の液処理装置 |
DE4344908A1 (de) | 1993-01-08 | 1994-07-14 | Nikon Corp | Kondensorlinsensystem |
US5537260A (en) | 1993-01-26 | 1996-07-16 | Svg Lithography Systems, Inc. | Catadioptric optical reduction system with high numerical aperture |
JP3747958B2 (ja) | 1995-04-07 | 2006-02-22 | 株式会社ニコン | 反射屈折光学系 |
JPH07122469A (ja) | 1993-10-20 | 1995-05-12 | Nikon Corp | 投影露光装置 |
JP3339144B2 (ja) | 1993-11-11 | 2002-10-28 | 株式会社ニコン | 走査型露光装置及び露光方法 |
JPH07220990A (ja) | 1994-01-28 | 1995-08-18 | Hitachi Ltd | パターン形成方法及びその露光装置 |
JPH0982626A (ja) | 1995-09-12 | 1997-03-28 | Nikon Corp | 投影露光装置 |
DE19535392A1 (de) | 1995-09-23 | 1997-03-27 | Zeiss Carl Fa | Radial polarisationsdrehende optische Anordnung und Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage damit |
US6270696B1 (en) | 1996-06-03 | 2001-08-07 | Terastor Corporation | Method of fabricating and integrating an optical assembly into a flying head |
JPH103039A (ja) | 1996-06-14 | 1998-01-06 | Nikon Corp | 反射屈折光学系 |
JPH1020195A (ja) | 1996-06-28 | 1998-01-23 | Nikon Corp | 反射屈折光学系 |
JPH1055713A (ja) | 1996-08-08 | 1998-02-24 | Ushio Inc | 紫外線照射装置 |
WO1998009278A1 (en) * | 1996-08-26 | 1998-03-05 | Digital Papyrus Technologies | Method and apparatus for coupling an optical lens to a disk through a coupling medium having a relatively high index of refraction |
JPH1092735A (ja) | 1996-09-13 | 1998-04-10 | Nikon Corp | 露光装置 |
JP2914315B2 (ja) | 1996-09-20 | 1999-06-28 | 日本電気株式会社 | 走査型縮小投影露光装置及びディストーション測定方法 |
US5825043A (en) * | 1996-10-07 | 1998-10-20 | Nikon Precision Inc. | Focusing and tilting adjustment system for lithography aligner, manufacturing apparatus or inspection apparatus |
JP3991166B2 (ja) | 1996-10-25 | 2007-10-17 | 株式会社ニコン | 照明光学装置および該照明光学装置を備えた露光装置 |
JP3612920B2 (ja) | 1997-02-14 | 2005-01-26 | ソニー株式会社 | 光学記録媒体の原盤作製用露光装置 |
JPH10255319A (ja) | 1997-03-12 | 1998-09-25 | Hitachi Maxell Ltd | 原盤露光装置及び方法 |
JP3747566B2 (ja) | 1997-04-23 | 2006-02-22 | 株式会社ニコン | 液浸型露光装置 |
JP3817836B2 (ja) | 1997-06-10 | 2006-09-06 | 株式会社ニコン | 露光装置及びその製造方法並びに露光方法及びデバイス製造方法 |
US5900354A (en) * | 1997-07-03 | 1999-05-04 | Batchelder; John Samuel | Method for optical inspection and lithography |
JPH11162831A (ja) | 1997-11-21 | 1999-06-18 | Nikon Corp | 投影露光装置及び投影露光方法 |
WO1999027568A1 (fr) | 1997-11-21 | 1999-06-03 | Nikon Corporation | Graveur de motifs a projection et procede de sensibilisation a projection |
JPH11283903A (ja) | 1998-03-30 | 1999-10-15 | Nikon Corp | 投影光学系検査装置及び同装置を備えた投影露光装置 |
JPH11176727A (ja) | 1997-12-11 | 1999-07-02 | Nikon Corp | 投影露光装置 |
WO1999031717A1 (fr) | 1997-12-12 | 1999-06-24 | Nikon Corporation | Procede d'exposition par projection et graveur a projection |
AU2747999A (en) | 1998-03-26 | 1999-10-18 | Nikon Corporation | Projection exposure method and system |
US6407884B1 (en) | 1998-04-28 | 2002-06-18 | Terastor Corporation | Optical head with solid immersion lens and varying cross section coil |
JP2000012453A (ja) | 1998-06-18 | 2000-01-14 | Nikon Corp | 露光装置及びその使用方法、露光方法、並びにマスクの製造方法 |
JP2000058436A (ja) | 1998-08-11 | 2000-02-25 | Nikon Corp | 投影露光装置及び露光方法 |
JP2000065929A (ja) | 1998-08-21 | 2000-03-03 | Olympus Optical Co Ltd | 距離測定方法及び距離測定装置 |
JP4065923B2 (ja) | 1998-09-29 | 2008-03-26 | 株式会社ニコン | 照明装置及び該照明装置を備えた投影露光装置、該照明装置による投影露光方法、及び該投影露光装置の調整方法 |
KR20010041257A (ko) | 1998-12-25 | 2001-05-15 | 오노 시게오 | 반사굴절 결상 광학계 및 그 광학계를 구비한 투영 노광장치 |
JP2000276805A (ja) | 1999-03-19 | 2000-10-06 | Fujitsu Ltd | 光学ヘッドおよびこれに用いるコイル組立体 |
TWI242111B (en) * | 1999-04-19 | 2005-10-21 | Asml Netherlands Bv | Gas bearings for use in vacuum chambers and their application in lithographic projection apparatus |
US6671246B1 (en) | 1999-04-28 | 2003-12-30 | Olympus Optical Co., Ltd. | Optical pickup |
JP2000003874A (ja) | 1999-06-15 | 2000-01-07 | Nikon Corp | 露光方法及び露光装置 |
JP4504479B2 (ja) | 1999-09-21 | 2010-07-14 | オリンパス株式会社 | 顕微鏡用液浸対物レンズ |
JP2001110707A (ja) | 1999-10-08 | 2001-04-20 | Orc Mfg Co Ltd | 周辺露光装置の光学系 |
US6600608B1 (en) | 1999-11-05 | 2003-07-29 | Carl-Zeiss-Stiftung | Catadioptric objective comprising two intermediate images |
JP2002118058A (ja) | 2000-01-13 | 2002-04-19 | Nikon Corp | 投影露光装置及び方法 |
TWI283798B (en) | 2000-01-20 | 2007-07-11 | Asml Netherlands Bv | A microlithography projection apparatus |
JP2005233979A (ja) | 2000-02-09 | 2005-09-02 | Nikon Corp | 反射屈折光学系 |
JP2001228401A (ja) | 2000-02-16 | 2001-08-24 | Canon Inc | 投影光学系、および該投影光学系による投影露光装置、デバイス製造方法 |
JP2002100561A (ja) | 2000-07-19 | 2002-04-05 | Nikon Corp | 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法 |
US7301605B2 (en) | 2000-03-03 | 2007-11-27 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus and method, catadioptric optical system and manufacturing method of devices |
JP3514439B2 (ja) | 2000-04-20 | 2004-03-31 | キヤノン株式会社 | 光学要素の支持構造、および該支持構造を用いて構成された露光装置と、該装置によるデバイス等の製造方法 |
JP2003532282A (ja) | 2000-04-25 | 2003-10-28 | エーエスエムエル ユーエス,インコーポレイテッド | レチクル回折誘起バイアスのない光学縮小システム |
US6556364B2 (en) | 2000-04-25 | 2003-04-29 | Michael F. Meehan | Apparatus, system, and method for precision positioning and alignment of a lens in an optical system |
US6411426B1 (en) | 2000-04-25 | 2002-06-25 | Asml, Us, Inc. | Apparatus, system, and method for active compensation of aberrations in an optical system |
JP2003532281A (ja) | 2000-04-25 | 2003-10-28 | エーエスエムエル ユーエス,インコーポレイテッド | 照明偏光の制御を備えた光学縮小システム |
JP4258596B2 (ja) | 2000-05-30 | 2009-04-30 | 株式会社 畠中醤油 | 海水を用いた酒類の製造方法 |
JP2002057097A (ja) | 2000-05-31 | 2002-02-22 | Nikon Corp | 露光装置、及びマイクロデバイス並びにその製造方法 |
JP2001356263A (ja) | 2000-06-12 | 2001-12-26 | Pioneer Electronic Corp | 組み合わせ対物レンズ、光ピックアップ装置、光学式記録再生装置及び組み合わせ対物レンズ製造方法 |
US6486940B1 (en) | 2000-07-21 | 2002-11-26 | Svg Lithography Systems, Inc. | High numerical aperture catadioptric lens |
US7097111B2 (en) | 2000-07-21 | 2006-08-29 | Gun Valley Temperature Controls Llc | Environmental control system and method for storage buildings |
TW591653B (en) * | 2000-08-08 | 2004-06-11 | Koninkl Philips Electronics Nv | Method of manufacturing an optically scannable information carrier |
JP2002093690A (ja) | 2000-09-19 | 2002-03-29 | Hitachi Ltd | 半導体装置の製造方法 |
JP4245286B2 (ja) | 2000-10-23 | 2009-03-25 | 株式会社ニコン | 反射屈折光学系および該光学系を備えた露光装置 |
US20020089758A1 (en) | 2001-01-05 | 2002-07-11 | Nikon Corporation | Optical component thickness adjustment method, optical component, and position adjustment method for optical component |
JP2002236242A (ja) | 2001-02-09 | 2002-08-23 | Nikon Corp | 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにマイクロデバイスの製造方法 |
DE10113612A1 (de) | 2001-02-23 | 2002-09-05 | Zeiss Carl | Teilobjektiv in einem Beleuchtungssystem |
WO2002091558A1 (fr) | 2001-04-24 | 2002-11-14 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Systeme de controle d'un moteur synchronise |
WO2002091078A1 (en) * | 2001-05-07 | 2002-11-14 | Massachusetts Institute Of Technology | Methods and apparatus employing an index matching medium |
DE10124566A1 (de) | 2001-05-15 | 2002-11-21 | Zeiss Carl | Optisches Abbildungssystem mit Polarisationsmitteln und Quarzkristallplatte hierfür |
DE10128272A1 (de) | 2001-06-12 | 2002-12-19 | Perkin Elmer Bodenseewerk Zwei | Ofen |
JP2002373849A (ja) | 2001-06-15 | 2002-12-26 | Canon Inc | 露光装置 |
EP1280007B1 (en) | 2001-07-24 | 2008-06-18 | ASML Netherlands B.V. | Imaging apparatus |
JP2003059803A (ja) | 2001-08-14 | 2003-02-28 | Canon Inc | 露光装置 |
US6600547B2 (en) * | 2001-09-24 | 2003-07-29 | Nikon Corporation | Sliding seal |
JP2003114387A (ja) | 2001-10-04 | 2003-04-18 | Nikon Corp | 反射屈折光学系および該光学系を備える投影露光装置 |
US6897941B2 (en) * | 2001-11-07 | 2005-05-24 | Applied Materials, Inc. | Optical spot grid array printer |
DE10210899A1 (de) | 2002-03-08 | 2003-09-18 | Zeiss Carl Smt Ag | Refraktives Projektionsobjektiv für Immersions-Lithographie |
DE10229818A1 (de) * | 2002-06-28 | 2004-01-15 | Carl Zeiss Smt Ag | Verfahren zur Fokusdetektion und Abbildungssystem mit Fokusdetektionssystem |
JP2003303751A (ja) | 2002-04-05 | 2003-10-24 | Canon Inc | 投影光学系、該投影光学系を有する露光装置及び方法 |
JPWO2003085708A1 (ja) | 2002-04-09 | 2005-08-18 | 株式会社ニコン | 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 |
JP4292497B2 (ja) | 2002-04-17 | 2009-07-08 | 株式会社ニコン | 投影光学系、露光装置および露光方法 |
CN1669250A (zh) | 2002-07-19 | 2005-09-14 | 松下电器产业株式会社 | 脉冲串信号消光比控制电路及其集成电路、脉冲串信号消光比控制方法、计算机程序以及激光二极管驱动电路 |
KR20050035890A (ko) | 2002-08-23 | 2005-04-19 | 가부시키가이샤 니콘 | 투영 광학계, 포토리소그래피 방법, 노광 장치 및 그 이용방법 |
JP2004145269A (ja) | 2002-08-30 | 2004-05-20 | Nikon Corp | 投影光学系、反射屈折型投影光学系、走査型露光装置及び露光方法 |
US6788477B2 (en) * | 2002-10-22 | 2004-09-07 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Apparatus for method for immersion lithography |
CN101424881B (zh) * | 2002-11-12 | 2011-11-30 | Asml荷兰有限公司 | 光刻投射装置 |
DE60335595D1 (de) | 2002-11-12 | 2011-02-17 | Asml Netherlands Bv | Lithographischer Apparat mit Immersion und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung |
SG121822A1 (en) * | 2002-11-12 | 2006-05-26 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7372541B2 (en) | 2002-11-12 | 2008-05-13 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
EP2495613B1 (en) | 2002-11-12 | 2013-07-31 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus |
SG2010050110A (en) * | 2002-11-12 | 2014-06-27 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
CN100568101C (zh) * | 2002-11-12 | 2009-12-09 | Asml荷兰有限公司 | 光刻装置和器件制造方法 |
EP1420300B1 (en) | 2002-11-12 | 2015-07-29 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
SG131766A1 (en) * | 2002-11-18 | 2007-05-28 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
AU2003297669A1 (en) | 2002-12-06 | 2004-06-30 | Newport Corporation | High resolution objective lens assembly |
JP4352874B2 (ja) | 2002-12-10 | 2009-10-28 | 株式会社ニコン | 露光装置及びデバイス製造方法 |
KR101037057B1 (ko) | 2002-12-10 | 2011-05-26 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 |
AU2003289237A1 (en) | 2002-12-10 | 2004-06-30 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and method for manufacturing device |
AU2003289272A1 (en) | 2002-12-10 | 2004-06-30 | Nikon Corporation | Surface position detection apparatus, exposure method, and device porducing method |
JP4595320B2 (ja) | 2002-12-10 | 2010-12-08 | 株式会社ニコン | 露光装置、及びデバイス製造方法 |
AU2003302830A1 (en) | 2002-12-10 | 2004-06-30 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and method for manufacturing device |
CN1723539B (zh) | 2002-12-10 | 2010-05-26 | 株式会社尼康 | 曝光装置和曝光方法以及器件制造方法 |
US7242455B2 (en) * | 2002-12-10 | 2007-07-10 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and method for producing device |
AU2003302831A1 (en) | 2002-12-10 | 2004-06-30 | Nikon Corporation | Exposure method, exposure apparatus and method for manufacturing device |
EP1571695A4 (en) | 2002-12-10 | 2008-10-15 | Nikon Corp | EXPOSURE APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME |
JP4232449B2 (ja) | 2002-12-10 | 2009-03-04 | 株式会社ニコン | 露光方法、露光装置、及びデバイス製造方法 |
KR20050085026A (ko) | 2002-12-10 | 2005-08-29 | 가부시키가이샤 니콘 | 광학 소자 및 그 광학 소자를 사용한 투영 노광 장치 |
AU2003289239A1 (en) | 2002-12-10 | 2004-06-30 | Nikon Corporation | Exposure system and device producing method |
DE10257766A1 (de) | 2002-12-10 | 2004-07-15 | Carl Zeiss Smt Ag | Verfahren zur Einstellung einer gewünschten optischen Eigenschaft eines Projektionsobjektivs sowie mikrolithografische Projektionsbelichtungsanlage |
AU2003276569A1 (en) | 2002-12-13 | 2004-07-09 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Liquid removal in a method and device for irradiating spots on a layer |
AU2003295177A1 (en) | 2002-12-19 | 2004-07-14 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Method and device for irradiating spots on a layer |
ES2268450T3 (es) | 2002-12-19 | 2007-03-16 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Metodo y dispositivo para irradiar puntos en una capa. |
JP2004205698A (ja) | 2002-12-24 | 2004-07-22 | Nikon Corp | 投影光学系、露光装置および露光方法 |
US6781670B2 (en) * | 2002-12-30 | 2004-08-24 | Intel Corporation | Immersion lithography |
JP2004228497A (ja) | 2003-01-27 | 2004-08-12 | Nikon Corp | 露光装置及び電子デバイスの製造方法 |
JP4604452B2 (ja) | 2003-02-26 | 2011-01-05 | 株式会社ニコン | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
SG2012087615A (en) | 2003-02-26 | 2015-08-28 | Nippon Kogaku Kk | Exposure apparatus, exposure method, and method for producing device |
JP4353179B2 (ja) | 2003-03-25 | 2009-10-28 | 株式会社ニコン | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
JP4265257B2 (ja) | 2003-03-28 | 2009-05-20 | 株式会社ニコン | 露光装置及び露光方法、フィルム構造体 |
AU2003236283A1 (en) | 2003-03-28 | 2004-10-25 | Fujitsu Limited | Light irradiation head and information storage device |
WO2004090956A1 (ja) | 2003-04-07 | 2004-10-21 | Nikon Corporation | 露光装置及びデバイス製造方法 |
KR101177331B1 (ko) | 2003-04-09 | 2012-08-30 | 가부시키가이샤 니콘 | 액침 리소그래피 유체 제어 시스템 |
EP2921905B1 (en) | 2003-04-10 | 2017-12-27 | Nikon Corporation | Run-off path to collect liquid for an immersion lithography apparatus |
KR20140139139A (ko) | 2003-04-10 | 2014-12-04 | 가부시키가이샤 니콘 | 액침 리소그래피 장치용 운반 영역을 포함하는 환경 시스템 |
JP4656057B2 (ja) | 2003-04-10 | 2011-03-23 | 株式会社ニコン | 液浸リソグラフィ装置用電気浸透素子 |
CN105700301B (zh) | 2003-04-10 | 2018-05-25 | 株式会社尼康 | 包括用于沉浸光刻装置的真空清除的环境*** |
WO2004092830A2 (en) | 2003-04-11 | 2004-10-28 | Nikon Corporation | Liquid jet and recovery system for immersion lithography |
SG185136A1 (en) | 2003-04-11 | 2012-11-29 | Nikon Corp | Cleanup method for optics in immersion lithography |
SG139736A1 (en) | 2003-04-11 | 2008-02-29 | Nikon Corp | Apparatus having an immersion fluid system configured to maintain immersion fluid in a gap adjacent an optical assembly |
ATE542167T1 (de) | 2003-04-17 | 2012-02-15 | Nikon Corp | Lithographisches immersionsgerät |
TWI237307B (en) | 2003-05-01 | 2005-08-01 | Nikon Corp | Optical projection system, light exposing apparatus and light exposing method |
KR101521407B1 (ko) | 2003-05-06 | 2015-05-18 | 가부시키가이샤 니콘 | 투영 광학계, 노광 장치 및 노광 방법 |
JP2004333761A (ja) | 2003-05-06 | 2004-11-25 | Nikon Corp | 反射屈折型の投影光学系、露光装置、および露光方法 |
JP2005115127A (ja) | 2003-10-09 | 2005-04-28 | Nikon Corp | 反射屈折投影光学系、露光装置及び露光方法 |
TWI295414B (en) * | 2003-05-13 | 2008-04-01 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
EP1477856A1 (en) | 2003-05-13 | 2004-11-17 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
TWI424470B (zh) | 2003-05-23 | 2014-01-21 | 尼康股份有限公司 | A method of manufacturing an exposure apparatus and an element |
TWI614794B (zh) | 2003-05-23 | 2018-02-11 | Nikon Corp | 曝光方法及曝光裝置以及元件製造方法 |
TWI282487B (en) | 2003-05-23 | 2007-06-11 | Canon Kk | Projection optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method |
JP2004356205A (ja) | 2003-05-27 | 2004-12-16 | Tadahiro Omi | スキャン型露光装置および露光方法 |
US7274472B2 (en) * | 2003-05-28 | 2007-09-25 | Timbre Technologies, Inc. | Resolution enhanced optical metrology |
KR101618419B1 (ko) | 2003-05-28 | 2016-05-04 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 방법, 노광 장치, 및 디바이스 제조 방법 |
DE10324477A1 (de) | 2003-05-30 | 2004-12-30 | Carl Zeiss Smt Ag | Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage |
EP2261742A3 (en) * | 2003-06-11 | 2011-05-25 | ASML Netherlands BV | Lithographic apparatus and device manufacturing method. |
KR101289979B1 (ko) | 2003-06-19 | 2013-07-26 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 장치 및 디바이스 제조방법 |
US6867844B2 (en) | 2003-06-19 | 2005-03-15 | Asml Holding N.V. | Immersion photolithography system and method using microchannel nozzles |
JP4343597B2 (ja) * | 2003-06-25 | 2009-10-14 | キヤノン株式会社 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2005019616A (ja) * | 2003-06-25 | 2005-01-20 | Canon Inc | 液浸式露光装置 |
EP1494079B1 (en) | 2003-06-27 | 2008-01-02 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic Apparatus |
EP1498778A1 (en) * | 2003-06-27 | 2005-01-19 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP3862678B2 (ja) * | 2003-06-27 | 2006-12-27 | キヤノン株式会社 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
US6809794B1 (en) * | 2003-06-27 | 2004-10-26 | Asml Holding N.V. | Immersion photolithography system and method using inverted wafer-projection optics interface |
JP4697138B2 (ja) | 2003-07-08 | 2011-06-08 | 株式会社ニコン | 液浸リソグラフィ装置、液浸リソグラフィ方法、デバイス製造方法 |
EP2264532B1 (en) | 2003-07-09 | 2012-10-31 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and device manufacturing method |
EP1646074A4 (en) | 2003-07-09 | 2007-10-03 | Nikon Corp | EXPOSURE DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURE |
KR101296501B1 (ko) | 2003-07-09 | 2013-08-13 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 |
US7738074B2 (en) * | 2003-07-16 | 2010-06-15 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
EP1500982A1 (en) | 2003-07-24 | 2005-01-26 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP4492600B2 (ja) | 2003-07-28 | 2010-06-30 | 株式会社ニコン | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
US8149381B2 (en) | 2003-08-26 | 2012-04-03 | Nikon Corporation | Optical element and exposure apparatus |
TW200513805A (en) | 2003-08-26 | 2005-04-16 | Nippon Kogaku Kk | Optical device and exposure apparatus |
US7070915B2 (en) * | 2003-08-29 | 2006-07-04 | Tokyo Electron Limited | Method and system for drying a substrate |
US6954256B2 (en) | 2003-08-29 | 2005-10-11 | Asml Netherlands B.V. | Gradient immersion lithography |
TWI263859B (en) | 2003-08-29 | 2006-10-11 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
EP1659620A4 (en) | 2003-08-29 | 2008-01-30 | Nikon Corp | LIQUID RECOVERY DEVICE, EXPOSURE DEVICE, EXPOSURE METHOD, AND CORRESPONDING PRODUCTION DEVICE |
EP2261740B1 (en) | 2003-08-29 | 2014-07-09 | ASML Netherlands BV | Lithographic apparatus |
TWI245163B (en) | 2003-08-29 | 2005-12-11 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
KR101590686B1 (ko) | 2003-09-03 | 2016-02-01 | 가부시키가이샤 니콘 | 액침 리소그래피용 유체를 제공하기 위한 장치 및 방법 |
JP4378136B2 (ja) * | 2003-09-04 | 2009-12-02 | キヤノン株式会社 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP3870182B2 (ja) * | 2003-09-09 | 2007-01-17 | キヤノン株式会社 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP4218475B2 (ja) | 2003-09-11 | 2009-02-04 | 株式会社ニコン | 極端紫外線光学系及び露光装置 |
WO2005029559A1 (ja) | 2003-09-19 | 2005-03-31 | Nikon Corporation | 露光装置及びデバイス製造方法 |
US6961186B2 (en) * | 2003-09-26 | 2005-11-01 | Takumi Technology Corp. | Contact printing using a magnified mask image |
EP1519230A1 (en) * | 2003-09-29 | 2005-03-30 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP4470433B2 (ja) | 2003-10-02 | 2010-06-02 | 株式会社ニコン | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
US7369217B2 (en) | 2003-10-03 | 2008-05-06 | Micronic Laser Systems Ab | Method and device for immersion lithography |
EP1524558A1 (en) * | 2003-10-15 | 2005-04-20 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7411653B2 (en) * | 2003-10-28 | 2008-08-12 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus |
JP4605014B2 (ja) | 2003-10-28 | 2011-01-05 | 株式会社ニコン | 露光装置、露光方法、デバイスの製造方法 |
JP2005159322A (ja) * | 2003-10-31 | 2005-06-16 | Nikon Corp | 定盤、ステージ装置及び露光装置並びに露光方法 |
JP3984950B2 (ja) * | 2003-11-12 | 2007-10-03 | キヤノン株式会社 | 照明光学系及びそれを有する露光装置 |
JP4295712B2 (ja) | 2003-11-14 | 2009-07-15 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置及び装置製造方法 |
JP2005175016A (ja) * | 2003-12-08 | 2005-06-30 | Canon Inc | 基板保持装置およびそれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法 |
JP2005175034A (ja) * | 2003-12-09 | 2005-06-30 | Canon Inc | 露光装置 |
JP2005175176A (ja) | 2003-12-11 | 2005-06-30 | Nikon Corp | 露光方法及びデバイス製造方法 |
US7589818B2 (en) * | 2003-12-23 | 2009-09-15 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, alignment apparatus, device manufacturing method, and a method of converting an apparatus |
JP2005191381A (ja) | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Canon Inc | 露光方法及び装置 |
JP2005191393A (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Canon Inc | 露光方法及び装置 |
US7088422B2 (en) | 2003-12-31 | 2006-08-08 | International Business Machines Corporation | Moving lens for immersion optical lithography |
ATE467902T1 (de) | 2004-01-05 | 2010-05-15 | Nikon Corp | Belichtungsvorrichtung, belichtungsverfahren und bauelementeherstellungsverfahren |
JP4429023B2 (ja) * | 2004-01-07 | 2010-03-10 | キヤノン株式会社 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2005209769A (ja) | 2004-01-21 | 2005-08-04 | Canon Inc | 露光装置 |
JP4018647B2 (ja) * | 2004-02-09 | 2007-12-05 | キヤノン株式会社 | 投影露光装置およびデバイス製造方法 |
CN100592210C (zh) | 2004-02-13 | 2010-02-24 | 卡尔蔡司Smt股份公司 | 微平版印刷投影曝光装置的投影物镜 |
JP4370992B2 (ja) | 2004-02-18 | 2009-11-25 | 株式会社ニコン | 光学素子及び露光装置 |
JP2005257740A (ja) | 2004-03-09 | 2005-09-22 | Nikon Corp | 投影光学系、露光装置、および露光方法 |
JP4577023B2 (ja) | 2004-03-15 | 2010-11-10 | ソニー株式会社 | ソリッドイマージョンレンズ、集光レンズ、光学ピックアップ装置、光記録再生装置及びソリッドイマージョンレンズの形成方法 |
JP2005268700A (ja) | 2004-03-22 | 2005-09-29 | Nikon Corp | ステージ装置及び露光装置 |
JP4510494B2 (ja) * | 2004-03-29 | 2010-07-21 | キヤノン株式会社 | 露光装置 |
JP2005286068A (ja) * | 2004-03-29 | 2005-10-13 | Canon Inc | 露光装置及び方法 |
DE102004018659A1 (de) | 2004-04-13 | 2005-11-03 | Carl Zeiss Smt Ag | Abschlussmodul für eine optische Anordnung |
JP4474979B2 (ja) | 2004-04-15 | 2010-06-09 | 株式会社ニコン | ステージ装置及び露光装置 |
US8488099B2 (en) | 2004-04-19 | 2013-07-16 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and device manufacturing method |
US20060244938A1 (en) * | 2004-05-04 | 2006-11-02 | Karl-Heinz Schuster | Microlitographic projection exposure apparatus and immersion liquid therefore |
JP4444743B2 (ja) | 2004-07-07 | 2010-03-31 | キヤノン株式会社 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2006024819A (ja) | 2004-07-09 | 2006-01-26 | Renesas Technology Corp | 液浸露光装置、及び電子デバイスの製造方法 |
JP2006032750A (ja) | 2004-07-20 | 2006-02-02 | Canon Inc | 液浸型投影露光装置、及びデバイス製造方法 |
JP4599936B2 (ja) | 2004-08-17 | 2010-12-15 | 株式会社ニコン | 照明光学装置、照明光学装置の調整方法、露光装置、および露光方法 |
JP4779973B2 (ja) | 2004-09-01 | 2011-09-28 | 株式会社ニコン | 基板ホルダ及びステージ装置並びに露光装置 |
JP2006114196A (ja) | 2004-09-14 | 2006-04-27 | Sony Corp | ソリッドイマージョンレンズとこれを用いた集光レンズ、光学ピックアップ装置、光記録再生装置及びソリッドイマージョンレンズの形成方法 |
JP2006114195A (ja) | 2004-09-14 | 2006-04-27 | Sony Corp | レンズ保持体とこれを用いた集光レンズ、光学ピックアップ装置及び光記録再生装置 |
CN101487981A (zh) | 2004-10-13 | 2009-07-22 | 株式会社尼康 | 曝光装置、曝光方法及组件制造方法 |
JP4961709B2 (ja) | 2004-10-13 | 2012-06-27 | 株式会社ニコン | 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
JP2006114839A (ja) | 2004-10-18 | 2006-04-27 | Nikon Corp | 投影光学系、露光装置、および露光方法 |
JP2006128192A (ja) | 2004-10-26 | 2006-05-18 | Nikon Corp | 保持装置、鏡筒、及び露光装置、並びにデバイス製造方法 |
US7423720B2 (en) | 2004-11-12 | 2008-09-09 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7623218B2 (en) | 2004-11-24 | 2009-11-24 | Carl Zeiss Smt Ag | Method of manufacturing a miniaturized device |
JP2006222222A (ja) | 2005-02-09 | 2006-08-24 | Canon Inc | 投影光学系及びそれを有する露光装置 |
US7324185B2 (en) | 2005-03-04 | 2008-01-29 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP2007019463A (ja) | 2005-03-31 | 2007-01-25 | Nikon Corp | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
US7411654B2 (en) | 2005-04-05 | 2008-08-12 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US8248577B2 (en) * | 2005-05-03 | 2012-08-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
EP1881521B1 (en) | 2005-05-12 | 2014-07-23 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus and exposure method |
WO2007055373A1 (ja) | 2005-11-14 | 2007-05-18 | Nikon Corporation | 液体回収部材、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
WO2007132862A1 (ja) | 2006-05-16 | 2007-11-22 | Nikon Corporation | 投影光学系、露光方法、露光装置、及びデバイス製造方法 |
WO2008031576A1 (en) | 2006-09-12 | 2008-03-20 | Carl Zeiss Smt Ag | Optical arrangement for immersion lithography with a hydrophobic coating and projection exposure apparatus comprising the same |
KR100968459B1 (ko) | 2008-11-10 | 2010-07-07 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 메모리 장치 |
US8864601B1 (en) | 2013-03-08 | 2014-10-21 | Callaway Golf Company | Golf club head with improved aerodynamic characteristics |
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