JP2003532282A - レチクル回折誘起バイアスのない光学縮小システム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 長共役端部近傍で動作する１つ以上の１／４波長板を有する、半導体デバイスのフォトリソグラフィー製造において用いるための光学縮小システム。レチクルの後にある１／４波長板（３１５）は、ビームスプリッター（３５０）においてまたはその近傍で直線偏光を提供する。レチクルの前にある１／４波長板（３０５）は、レチクルにおいて、またはレチクルの近傍で円偏光またはほぼ非偏光を提供する。さらなる１／４波長板を用いて、透過損および特徴部の配向からの非対称性をさらに低減する。光学縮小システムは、２６ｍｍ×５ｍｍの視野にわたって０．２５ミクロンよりも小さな特徴部をパターニングすることが可能な、０．７の比較的高い開口数を提供する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】 （発明の背景） （発明の分野） 本発明は、概して、半導体製造において使用される光学システムに関する。

【０００２】 （関連技術） 半導体デバイスは、一般に、さまざまなフォトリソグラフィ技術を用いて製造
される。半導体チップで使用される回路機構は、ウェハ上にレチクルから投射さ
れる。この投射は、しばしば、光学システムの使用で為される。これらの光学シ
ステムの設計は複雑なことが多く、半導体チップ上に配置される、サイズが小さ
くなる一方の構成要素を生成するために必要とされる所望な分解能を得ることは
困難である。したがって、０．２５ミクロンより小さい、極めて精細な構成要素
のフューチャを生成することが可能な光縮小システムを開発するために、多くの
労力が費やされてきた。極めて精細な構成要素のフューチャを生成することが可
能な光学システムを開発する必要性が、システムの性能を向上させるために必要
とされる。

【０００３】 従来の光学システムは、１９９６年７月１６日にＷｉｌｌｉａｍｓｏｎに発行
された、名称「Ｃａｔａｄｉｏｐｔｒｉｃ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｒｅｄｕｃｔｉｏ
ｎ Ｓｙｓｔｅｍ ｗｉｔｈ Ｈｉｇｈ Ｎｕｍｅｒｉｃａｌ Ａｐｅｒｔｕｒ
ｅ」の米国特許５，５３７，２６０号に開示される。この文献は、開口数０．３
５を有する光縮小システムを記載する。別の光学システムは、１９９０年９月４
日にＷｉｌｌｉａｍｓｏｎに発行された、名称「Ｏｐｔｉｃａｌ Ｒｅｄｕｃｔ
ｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍ」の米国特許４，９５３，９６０号に開示される。この文
献は、２４８ｎｍの範囲で動作し、開口数０．４５を有する光学システムを記載
する。

【０００４】 （発明の要旨） これらの光学システムは、それぞれの意図する目的を十分に実行するが、シス
テムの性能を向上することがさらに必要とされる。本発明者は、レチクルにおい
てバイアスによって生じる回折を取り除く必要性があることを特定した。さらに
、大きなスペクトル周波数帯に対するシステム性能に受容可能な低いレチクル回
折を有する光学システムが必要とされる。

【０００５】 レチクル回折は、直線偏光がレチクルのフューチャと相互作用する態様からの
結果によって生じる。レチクルのフューチャ配向は、投射される半導体デバイス
によって決定される。半導体デバイスのサイズを減らす必要性が存在し、半導体
デバイスの用途によってフューチャ配向が命令されるために、本発明者は、レチ
クル回折の取り扱いに焦点を当てる。

【０００６】 直線偏光は、一般には、特定のフォトリソグラフィ投射光学システムにおいて
使用される。回折は、レチクルにおける光およびフューチャの相互作用から生じ
る。直線偏光は、フューチャの配向に応じて異なって、レチクルを通過する。非
対称性が、この相互作用から生じる。非対称性またはプリントバイアスは、ウェ
ハ上の光学システムを通って投射される。プリントバイアスは、ウェハに投射さ
れる線の厚さを変更するのに十分である。ウェハの変動は半導体デバイスの性能
に影響し、ある場合、そのデバイスが必要とされる仕様で実行されることを防ぐ
。

【０００７】 レチクルにおける円偏光の使用により、フューチャ配向から生じる非対称性を
取り除き得る。この円偏光は、そのイメージングの挙動における非偏光から識別
不可能である。非偏光のイメージングの挙動は、投射されるフューチャの配向に
かかわらず等しく回折されるようなものである。したがって、プリントバイアス
は、光学システムにわたって縮小される。

【０００８】 しかし、透過損失などの他の要因は、光学システムにわたる円偏光の使用を防
ぐ。したがって、本発明は、位相器の使用に関する。位相器は、波長板、リタデ
ーション板などの形態を取り得、レチクルおよび光学システムの前の光の偏光を
選択的に変更する。

【０００９】 ある実施形態において、本発明は、半導体デバイスのフォトリソグラフィ製造
において使用される反射屈折光縮小システムであり、これは、長い共役端の近傍
で動作する１つ以上の１／４波長板を有する。レチクルの後の１／４波長板は、
ビームスプリッタで、または、ビームスプリッタの近傍で直線偏光を提供する。
レチクルの前の１／４波長板は、レチクルで、または、レチクルの近傍で円偏光
またはほぼ非偏光を提供する。さらなる１／４波長板を使用すると、透過損失お
よびフューチャ配向からの非対称性をさらに減らす。反射屈折光縮小システムは
、２６ｍｍ×５ｍｍフィールド上の０．２５ミクロンより小さいフューチャをパ
ターン化することができる０．７の比較的高い開口数を提供する。それにより、
光縮小システムは、ステップ、走査ミクロリソグラフィ露光ツールにうまく適応
される。幾つかの他の実施形態は、得られ得るスペクトル帯域幅を広げるために
、異なる屈折力の要素を組み合わせる。

【００１０】 別の実施形態において、本発明は、オブジェクトまたは長い共役端から縮小イ
メージまたは短い共役端まで、第１の１／４波長板、レチクル、第２の１／４波
長板、第１のレンズ群、第２のレンズ群、ビームスプリッタ立方、同心円凹面鏡
および第３のレンズ群を有する反射屈折縮小システムである。第１の１／４波長
板は、レチクルに通過した放射を円偏光するように動作する。第２の１／４波長
板は、第１のレンズ群の前のレチクルの後で、放射を直線偏光するように動作す
る。凹面鏡は、単位倍率近くで動作する。これは、その鏡によって導入される収
差およびビームスプリッタ立方に入力する放射の直径を減らす。凹面鏡の前の第
１のレンズ群および第２のレンズ群は、凹面鏡およびその近傍におけるアパーチ
ャストップで無限に入射瞳をイメージするのに十分な出力を提供する。凹面鏡の
後の第３のレンズ群は、オブジェクトから光学システムのイメージまでの縮小し
たかなりの部分、および、アパーチャストップの無限の射出瞳への投射を提供す
る。高次の収差は、非球面凹面鏡を用いることによって、縮小される。

【００１１】 本発明のさらなる実施形態、特徴および利点は、本発明のさまざまな実施形態
の構造および動作と同様に、添付の図面を参照して、以下に詳細に記載される。

【００１２】 本明細書に組み込まれ、本明細書の一部分を形成する添付の図面は、本発明を
その記載とともに図示し、さらに、本発明の原理を説明する役割を果たし、当業
者が本発明を行なうこと、かつ、使用することを可能にする。

【００１３】 ここで、添付の図面を参照して、本発明を説明する。図面において、同じ参照
符号は、同じまたは機能的に類似な要素を示す。さらに、参照番号の最も左の番
号（単数または複数）は、その参照符号が始めに登場した図面を特定する。

【００１４】 （好適な実施形態の詳細な説明） Ｉ． 概説 Ａ． 従来の光学システム Ｂ． レチクル回折 Ｃ． 偏光および波長板 ＩＩ． 専門用語 ＩＩＩ． 例示のインプリメンテーション Ａ． レチクル回折誘導バイアスを削減した光学システム Ｂ． 別の実施形態 Ｃ． さらなる実施形態 ＩＶ． 別のインプリメンテーション Ｉ． 概説 Ａ． 従来の光学システム 図１は、従来の光縮小システムを図示する。レチクルが配置される長い共役端
からウェハが配置される短い共役端にまで、従来の光縮小システムは、第１の光
学要素群１２０と、ビームスプリッタ立方１５０と、第１の１／４波長板１４０
と、凹面鏡１３０と、第２の１／４波長板１６０と、第２の光学要素群１７０と
を有する。任意の光学システムのフューチャは、開口数のサイズおよびスペクト
ル放射の要件に相互依存する。イメージまたはウェハ平面１８０に効率的に照射
するために、直線偏光が使用され得る。上で紹介された直線偏光に限定して、以
下のセクションを説明する。

【００１５】 Ｂ． レチクル回折誘導バイアス 本発明者が認識したように、約０．５より大きい開口数における直線偏光の使
用により、イメージングにおいて、小さいが注目すべき非対称性が導入される。
イメージングにおけるこれらの非対称性は、特定のフューチャ配向における直線
偏光の回折によって少なくとも部分的に生じる。

【００１６】 図２Ａは、レチクル１１０における直線偏光の使用から生じる非対称性または
プリントバイアスを図示する。同様に、レチクル１１０は、直線偏光２０５およ
び円偏光２１０の両方の経路に配置される。２つのタイプの光は、分離器２１５
によって分離される。レチクルの後、光の強度は、分布曲線２２０、２２５によ
って示されるように、異なって分布される。その結果は、ウェハ１８０に示され
る。ここで、直線偏光２０５の使用から生じる投射イメージ２３０は、円偏光２
１０の使用から生じる投射イメージ２３５ほど明瞭またはシャープではない。

【００１７】 円偏光２１０は、イメージングの挙動において非偏光から識別不能である。非
偏光のイメージングの挙動は、投射されるフューチャの配向にかかわらず、等し
く回折される。投射光学要素は非偏光を受容することができないが、直線偏光を
必要とする場合、レチクルを照射するための円偏光を提供し、それにより、フュ
ーチャ配向バイアスを取り除くことができる。したがって、プリントバイアスが
減少する。

【００１８】 Ｃ． 偏光および波長板 波長板の特性を図２Ｂおよび図２Ｃに示す。図２Ｂは、１／４波長板の特性を
図示する。直線偏光入力２４０は、入力偏光平面２５５において波長板２４５に
入力する。光軸２５０および以下に詳細に記載されるほかの要因が、出力光の配
向を決定する。ここで、波長板２４５は、円偏光出力２６０を生成するように設
計される。

【００１９】 図２Ｃは、半波長板の特性を図示する。直線偏光入力２６５は、入力偏光平面
２８０において波長板２７０に入力する。光軸２７５および以下に詳細に記載さ
れるほかの要因が、出力光の配向を決定する。ここで、波長板２７０は、偏光リ
タデーション出力２８５の平面で直線偏光するように設計される。

【００２０】 波長板（リタデーション板または位相器）は、複屈折を示す材料から作製され
る。石英のような、複屈折材料は、ほぼ非等方性である。これは、電子雲におけ
る原子結合力が異なる方向で異なり、結果として、屈折率も同様に異なることを
意味する。

【００２１】 単軸複屈折結晶の場合、光学軸（図２Ｂおよび図２Ｃにおいて、要素２５０、
２７５として、それぞれ示される）として知られた１つの対称軸（実際には、１
つの方向）は、２つの異なる主屈折率を示す。これは、最大屈折率ｎ_o（遅軸）
と最小屈折率ｎ_e（速軸）である。これら２つの屈折率は、光軸に平行および垂
直な光フィールド発振に対応する。

【００２２】 最大屈折率は、その材料を通過する常光線の結果である。最小屈折率は、その
材料を通過する異常光線の結果である。複屈折材料を通る常光線および異常光線
の速度は、屈折率とともに激しく変化する。２つの光線を再び結合する場合、速
度の差は位相差を生じる。直線偏光光線を入射する場合、これは、

【００２３】

【数１】 によって与えられ、ここで、αは位相差、ｄは波長板の厚さ、ｎ_e、ｎ_oは異常光
および常光のそれぞれの屈折率、λは波長である。したがって、任意の特定の波
長において、位相差は、波長板の厚さによって統制される。

【００２４】 上述したように、図２Ｂは、１／４波長板の動作を図示する。１／４波長板の
厚さは、位相差が１／４波長の（ゼロ次）または１／４波長の数倍（多次）にな
るようなものである。入射する直線偏光光線の電場ベクトルと１／４波長板のリ
タデーション主断面との間の角度が４５度である場合、発生するビームは円偏光
される。

【００２５】 さらに、１／４波長板を２回通過すると、例えば、光がミラーによって反射さ
れて１／４波長板を２回通過すると、それは半波長板のように作用する。

【００２６】 入射光の波長の１／４を導入する複屈折材料の厚さは、１／４波長板を意味す
る。これは、半波長の整数倍に１／４波長を足したもの、または、１／４波長だ
け異なる位相リタデーションの材料の２つの厚さと比較される。それにより、入
射角度の大きな変動の悪影響は、ゼロ次の波長板の使用によって、かつ、入射平
面のフィールドサイズを制限することによって、高開口数において最小化される
。

【００２７】 同様に、図２Ｃは、半波長板の動作を図示する。半波長板の厚さは、位相差が
１／２波長（ゼロ次）または１／２波長の奇数倍（多次）であるようなものであ
る。半波長板に入射する直線偏光光線は、光軸に対する角度が入射光線の２倍の
角度であるように回転された直線偏光光線として、発せられる。

【００２８】 ＩＩ． 専門用語 本発明をより明らかに描写するために、可能な限り一貫して以下の用語規定に
忠実になるように明細書全体にわたって尽力されている。

【００２９】 用語「回路機構」は、半導体デバイスにおいて使用するために設計されたフュ
ーチャを指す。

【００３０】 用語「線量配向」は、投射に対してレチクルにプリントされたパターンを指す
。

【００３１】 用語「長い共役端」は、光学システムのオブジェクトまたはレチクル端におけ
る平面を指す。

【００３２】 用語「プリントバイアス」は、光学システムの非対称性によって生成されたウ
ェハ上の線における変動を指す。非対称性は、システムおよびレチクルのさまざ
まなステージでの回折によって生成される。

【００３３】 用語「半導体」は、電気的に変更され得る固体基板を指す。

【００３４】 用語「半導体チップ」は、任意の数のトランジスタまたは他の構成要素を有す
る半導体デバイスを指す。

【００３５】 用語「半導体デバイス」は、電子機器所有半導体チップまたは他の構成要素を
指す。

【００３６】 用語「短い共役端」は、光学システムのイメージまたはウェハ端における平面
を指す。

【００３７】 用語「波長板」は、複屈折を示す材料から作成されるリタデーション板または
位相器を指す。

【００３８】 （ＩＩＩ．例示的なインプリメンテーション） （Ａ．レチクル回折誘起バイアスのない光学システム） 本発明は、従来のシステムのレチクル回折誘起バイアスをなくすために円偏光
を用いる。図３は、このような非対称またはプリントバイアスをなくす本発明の
実施形態を示す。第１の１／４波長板３０５は、物体またはレチクル面１１０の
前に導入される。第１の１／４波長板３０５は、図２Ｂに示されるように直線偏
光を円偏光に変換する。上述されたように、円偏光は、結像挙動にいては非偏光
と区別することができない。非偏光の結像挙動は、特徴部（ここを通って投影さ
れる）の配向に関わらず、等しく回折される。従って、レチクル回折によって得
られるプリントバイアスは小さくなる。

【００３９】 残りの光学システムを通って生じる透過損を最小にするために、第２の１／４
波長板３１５が、光学構成要素群３２０の前に放射を直線偏光にするために挿入
される。

【００４０】 １／４波長板３０５、３１５、３４０および３６０に関して、１つの配向は入
射光の速い軸に平行な速い軸に向けられた第１の１／４波長板３０５を有する。
第２の１／４波長板３１５および第４の１／４波長板３６０は、平行な速い軸を
有するが、第３の１／４波長板３４０の速い軸に垂直である。

【００４１】 （Ｂ．別の実施形態） また、第２の１／４波長板３１５が、ビームスプリッター３５０の前であれば
システム内のどこにでも挿入することができることは当業者にとって明らかであ
る。この局面を図４に示す。図４では、第２の１／４波長板４２５が同じ機能を
果たす。光学構成要素群３２０内の円偏光を用いたことによって生じる透過損は
、第２の１／４波長板４２５の配置に影響を及ぼす。

【００４２】 具体的には、ビームスプリッターにおいて非偏光または円偏光を用いることに
よって５０％の透過損が生じる。非偏光ビームスプリッターを用いた場合、光の
７５％を損失することになる。従って、別の実施形態が可能であるが、適切にイ
ンプリメントすることができないかもしれない。

【００４３】 １／４波長板４０５、４２５、４４０および４６０に関して、１つの配向は、
入射光の速い軸に平行な速い軸に向けられた第１の１／４波長板４０５を有する
。第２の１／４波長板４２５および第４の１／４波長板４６０は、平行な速い軸
を有するが、第３の１／４波長板４４０の速い軸に垂直である。

【００４４】 （Ｃ．さらなる実施形態） 本発明は、種々の投影光学システムにおいて実現され得る。例えば、本発明は
、本明細書中に詳細に説明されるカタディオプトリックシステムならびに屈折シ
ステムおよび反射システムにおいて実現され得る。本明細書において提供される
教示内容に少なくとも基づけば、当業者であれば、本発明の実施形態が他の縮小
システムにも適用可能であることを理解する。本発明のさらなる詳細な実施形態
を以下に提供する。

【００４５】 図５は、本発明の光学縮小システムの１実施形態を示す。この光学縮小システ
ムは、図５の長共役端部から、第１の１／４波長板５０８、物体またはレチクル
面１１０、第２の１／４波長板５１１、第１のレンズ群ＬＧ１、折りたたみ式ミ
ラー５２０、第２のレンズ群ＬＧ２、ビームスプリッター立方５３０、第３の１
／４波長板５３２、凹面ミラー５３４、第２の１／４波長板５３８および第３の
レンズ群ＬＧ３を含む。画像は、画像面またはウェハ面１８０に形成される。第
１のレンズ群ＬＧ１は、シェル５１２、正レンズ５１４および負レンズ５１６を
含む間隔を空けて配置されるデュプレットおよび正レンズ５１８を含む。シェル
５１２は、ほぼ０の出力または０の出力レンズである。第２のレンズ群ＬＧ２は
、正レンズ５２２、正レンズ５２４および負レンズ５２６を含む間隔を空けて配
置されるデュプレットおよび負レンズ５２８を含む。第３のレンズ群ＬＧ３は、
強い正である２つの正レンズ５４０と５４２、および弱い正である２つの正レン
ズ５４６と５４８を含む。第１の１／４波長板５０８は、物体またはレチクル面
１１０に入射する円偏光を透過させる。折りたたみ式ミラー５２０は、本発明を
動作させるために必須ではない。しかしながら、折りたたみ式ミラーは、物体面
および画像面が平行となることを可能にする。このことは、本発明の光学システ
ムの１つの目的とするアプリケーションにとって都合がよい。このアプリケーシ
ョンは、ステップおよびスキャンシステムによるフォトリソグラフィーを用いた
半導体デバイスの製造である。

【００４６】 放射が、長共役端部においてシステムに入り、第１のレンズ群ＬＧ１を通って
、折りたたみ式ミラー５２０で反射され、第２のレンズ群ＬＧ２を通る。放射は
、ビームスプリッター立方５３０に入って、表面５３６で反射され、１／４波長
板５３２を通過して凹面ミラー５３４で反射される。次いで、放射は、再度１／
４波長板５３２、ビームスプリッター立方５３０を通り、１／４波長板５３８、
レンズ群ＬＧ３を通って、画像またはウェハ面１８０で焦点を合わせられる。

【００４７】 ミラーのレンズ群上流ＬＧ１、ＬＧ２は、凹面ミラー５３４でまたは近傍での
アパーチャストップ５３１に無限遠における入射瞳を結像するのに十分な出力の
みを提供する。レンズ群ＬＧ１とＬＧ２とを組み合わせた出力は、わずかに負で
ある。シェル５１２および空隙デュプレット５１４と５１６は、非点収差、像面
湾曲およびディストーションを含む収差補正を助ける。凹面ミラー５３４の後に
あるレンズ群ＬＧ３は、物体から画像サイズへの縮小のほとんどを提供し、かつ
無限遠の出射瞳へとアパーチャストップを投影する。２つの強い正レンズ５４０
および５４２は、画像および無限遠での出射瞳における高い開口数を提供する。
シェル５４４はほとんど出力を有さない。２つの弱い正レンズ５４６および５４
８は、高次数の収差の補正を促進する。凹面ミラー５３４は、全体のシステムの
縮小率の１．６〜２．７倍の縮小率を提供し得る。

【００４８】 第２のレンズ群ＬＧ２における負レンズ５２４は、ビームスプリッター立方５
３０および凹面ミラー５３４に向けられた強い発散ビームを提供する。強い正レ
ンズ５２２は横方向の色補正を提供する。レンズ５２４および５２６を含む空隙
デュプレットは、球面収差およびコマ収差を補正するのを助ける。凹面ミラー５
３４は好ましくは非球面であり、従って高次の収差をさらに低減するのに役立つ
。

【００４９】 ビームスプリッター立方５３０によって生じる透過損は、線形な偏光によって
物体またはレチクルを照射し、ビームスプリッター立方５３０と凹面ミラー５３
４との間に１／４波長板５３２を含むことによって、最小化される。さらに、凹
面ミラー５３４およびビームスプリッター立方５３０の後にあるレンズ群ＬＧ３
の開口数を増やすことによって、これらのエレメントにおける最大角範囲がみら
れなくなる。

【００５０】 しかしながら、約０．５より大きな開口数の直線偏光を用いると、結像におい
て微小であるが、顕著な非対称性が生じる。本発明では、ビームスプリッター立
方５３０を最後に通った後別の１／４波長板５３８を導入して、直線偏光を円偏
光に変換することによって、上記のことは効果的になくなり得る。この円偏光は
、基本的には、その結像挙動において非偏光と区別不可能である。

【００５１】 図５に示される光学システムは、４対１の縮小率で動作するように設計されて
いる。従って、画像空間における開口数は、物体またはレチクル面１１０におい
て４〜０．１７５の因子によって０．７から減少される。すなわち、物体空間開
口数は０．１７５であり、画像空間開口数は０．７である。第１のレンズ群ＬＧ
１を離れると、開口数は０．１２まで減少し、その結果、無限遠での入射瞳を凹
面ミラー５３４の近傍にあるシステムのアパーチャストップに結像するのにレン
ズ群ＬＧ１に正出力が必要となる。第２のレンズ群ＬＧ２を離れた後、ビームス
プリッターに入ると、開口数は０．１９である。従って、第２のレンズ群ＬＧ２
からの出射開口数（０．１９）は、レンズ群ＬＧ１の入射、または物体空間開口
数（０．１７５）に比べて大きい。すなわち、第２のレンズ群ＬＧ２は、第１の
レンズ群ＬＧ１の入射開口数よりも大きな出射開口数を有する。これは、第２の
レンズ群ＬＧ２の負出力全体に起因して、物体空間開口数（０．１７５）と極め
て類似している。これは、ビームスプリッター立方に入ってくる開口数が典型的
には０に近い、すなわちほぼ平行化された従来のシステムと異なる。凹面ミラー
５３４はほぼコンセントリックであり、その凹面ミラー５３４から反射される放
射の開口数は、０．１９から０．３５へとわずかに増えるのみである。第３のレ
ンズ群ＬＧ３は、ウェハまたは画像面１８０において最終的な値０．７へと開口
数を効果的に２倍にする。

【００５２】 本発明は、負の第２のレンズ群ＬＧ２および強い正の第３のレンズ群ＬＧ３に
よってビームスプリッター立方のエッジが遮ることなく、比較的高い開口数を達
成する。板ビームスプリッターではなくてビームスプリッター立方５３０を用い
ることが本発明において重要である。なぜなら、約０．４５より大きな開口数で
、ビームスプリッター立方はより良好なパフォーマンスを提供するためである。
ガラスの屈折率により立方内の開口数が減少し、非平行なビームがチルトした板
ビームスプリッターに入射された際にその板ビームスプリッターによって生じる
収差はない。本発明による図５に示されるレンズシステムの構成データを以下の
表１に示す。

【００５３】

【表６】 凹面ミラー５３４は、以下の式に従う非球面屈折面を有する。

【００５４】

【数２】 ここで定数は以下のようになる。 ＣＵＲＶ＝−０．００２８９０５１ Ｋ＝０．００００００ Ａ＝６．０８９７５×１０^-11 Ｂ＝２．６４３７８×１０¹⁴ Ｃ＝９．８２２３７×１０^-19 Ｄ＝７．９８０５６×１０^-23 Ｅ＝−５．９６８０５×１０^-27 Ｆ＝４．８５１７９×１０^-31 表１の構成によるレンズは、中心が２４８．４ナノメートルの放射に対して最
適化されている。石英ガラスおよび屈折力の大部分をなす１つの屈折材料は、図
５に示す実施形態のスペクトル帯域幅を約１０ピコメートルすなわち０．０１ナ
ノメートルに制限する。このスペクトル帯域幅は、狭い線幅のフッ化クリプトン
エキシマレーザ光源に非常によく適している。図５に示す実施形態は、石英ガラ
スが適切に透過する任意の波長に対して最適化され得る。

【００５５】 より広いスペクトル帯域幅は、異なる分散を有する２つの光学材料を用いて達
成され得る。本発明の第２の実施形態を図６に示す。図６の長共役端部から、第
１の１／４波長板６０８、物体またはレチクル面１１０、第２の１／４波長板６
１１、レンズ群ＬＧ４、折りたたみ式ミラー６２２、レンズ群ＬＧ５、表面６３
８を有するビームスプリッター立方６３２、第３の１／４波長板６３４、凹面ミ
ラー６３６、第４の１／４波長板６４０およびレンズ群ＬＧ６を含む。画像は、
画像またはウェハ面１８０で形成される。レンズ群ＬＧ４は、負レンズ６１２と
正レンズ６１４とを含む間隔を空けて配置されるデュプレット、弱い正レンズ６
１６、正レンズ６１８およびシェル６２０を含む。レンズ群ＬＧ５は、正レンズ
６２４、負レンズ６２６、正レンズ６２８および負レンズ６３０を含む。レンズ
群ＬＧ６は、２つの正レンズ６４２、正レンズ６４４と負レンズ６４６とを含む
複合デュプレット、正レンズ６４８およびシェル６５０と正レンズ６５２とを含
む複合デュプレットを含む。

【００５６】 この第２の実施形態は、レンズ群ＬＧ４の個々の正レンズ、レンズ群ＬＧ５の
個々の負のレンズのうちの１つおよびレンズ群ＬＧ６の正のレンズのうち２つに
フッ化カルシウムを用いる。本発明の図６に示される第２の実施形態の構成デー
タを以下の表２に示す。

【００５７】

【表７】 ここで、表１の後の式に用いられた非球面ミラー６３４の定数は、以下のように
なる。 ＣＵＲＶ＝−０．００２８６７４４ Ｋ＝０．００００００ Ａ＝−１．９２０１３×１０^-09 Ｂ＝−３．５０８４０×１０^-14 Ｃ＝２．９５９３４×１０^-19 Ｄ＝−１．１０４９５×１０^-22 Ｅ＝９．０３４３９×１０^-27 Ｆ＝−１．３９４９４×１０^-31 この第２の実施形態は、中心が１９３．３ナノメートルの放射に対して最適化
されており、約２００ピコメートル、すなわち０．２ナノメートルのスペクトル
帯域幅を有する。わずかに狭い線幅のフッ化アルゴンエキシマレーザが適切な光
源である。さらに、この設計は、両方の屈折材料が適切に透過する任意の波長に
対して最適化され得る。材料の分散が小さくなるにつれて、帯域幅は一般に、よ
り長い波長に対して増加する。例えば、このような２つの材料設計は、２４８．
４ナノメートル付近では、少なくとも４００ピコメートル（０．４ナノメートル
）の帯域幅にわたって動作する。

【００５８】 ３６０ナノメートルよりも長い波長では、光学ガラスのより広い範囲で適切に
透過し始める。図７に示される第３の実施形態は、このガラスの広い選択範囲を
利用して、さらに分散を減少させる。第３の実施形態は、図７の長共役端部から
、第１の１／４波長板７０８、物体またはレチクル面１１０、第２の１／４波長
板７１１、レンズ群ＬＧ７、折りたたみ式ミラー７２２、レンズ群ＬＧ８、表面
７３８を有するビームスプリッター立方７３２、第３の１／４波長板７３４、凹
面ミラー７３６、第４の１／４波長板７４０およびレンズ群ＬＧ９を含む。画像
は、画像またはウェハ面１８０で形成される。レンズ群ＬＧ７は、負レンズ７１
２と正レンズ７１４とを含む間隔を空けて配置されるデュプレット、正レンズ７
１６と負レンズ７１８とを含む間隔を空けて配置されるデュプレットおよび正レ
ンズ７２０を含む。レンズ群ＬＧ８は、正レンズ７２４、負レンズ７２６、正レ
ンズ７２８および負レンズ７３０を含む。レンズＬＧ９は、正レンズ７４２、正
レンズ７４４と負レンズ７４６とを含む複合デュプレット、正レンズ７４８およ
びシェル７５０と正レンズ７５２とを含む複合デュプレットを含む。

【００５９】 図７に示す第３の実施形態の構成データを以下の表３に示す。

【００６０】

【表８】 ここで、表１の後の式に用いられた非球面ミラー７３６の定数は、以下のように
なる。 ＣＵＲＶ＝−０．００２９１６４８ Ｋ＝０．００００００ Ａ＝−１．２７２８５×１０^-09 Ｂ＝−１．９２８６５×１０^-14 Ｃ＝６．２１８１３×１０^-19 Ｄ＝−６．８０９７５×１０²³ Ｅ＝６．０４２３３×１０^-27 Ｆ＝３．６４４７９×１０^-32 この第３の実施形態は、中心が３６５．５ナノメートルで８ナノメートルのス
ペクトル帯域幅にわたって動作する。このスペクトル帯域幅の放射は、Ｉライン
周波帯においてフィルタリングされた水銀アークランプによって提供され得る。
この第３の実施形態において用いられる石英ガラス以外の光学ガラスは、一般に
はＩラインガラスとして知られている。これらの光学ガラスは、水銀Ｉライン波
長において少なくとも吸収またはソラリゼーション効果を有する。

【００６１】 図８は、本発明の光学縮小システムの第４の実施形態を示す。この実施形態は
０．６３の開口数を有し、中心が２４８．４ナノメートルにおいて３００ピコメ
ートル（好ましくは１００ピコメートル）のスペクトル帯域幅で動作し得る。図
８の長共役端部から、光学縮小システムは、第１の１／４波長板８０８、物体ま
たはレチクル面１１０、第２の１／４波長板８１１、第１のレンズ群ＬＧ１、折
りたたみ式ミラー８２０、第２のレンズ群ＬＧ２、ビームスプリッター立方８３
０、第１の１／４波長板８３２、凹面ミラー８３４、第２の１／４波長板８３８
および第３のレンズ群ＬＧ３を含む。画像は画像またはウェハ面１８０に形成さ
れる。

【００６２】 第１のレンズ群ＬＧ１は、シェル８１２、正レンズ８１４と負レンズ８１６と
を含む間隔を空けて配置されるデュプレットおよび正レンズ８１８を含む。第２
のレンズ群ＬＧ２は、正レンズ８２２、負レンズ８２４と正レンズ８２６とを含
む間隔を空けて配置されるデュプレットおよび負レンズ８２８を含む。第３のレ
ンズ群ＬＧ３は、２つの正レンズ８４０と８４２、シェル８４４および２つの正
レンズ８４６と８４８を含む。ここでもやはり、図５に示される実施形態と同様
に、図８の折りたたみ式ミラー８２０は、本発明の動作に必須ではないものの、
物体１１０および画像面１８０を互いに平行にすることができる。このことは、
フォトリソグラフィーを用いて半導体デバイスを製造するのに都合がよい。

【００６３】 図８に示す第４の実施形態の構成データを以下の表４に示す。

【００６４】

【表９】 ここで、表１の後の式に用いられた非球面ミラー８３４の定数は、以下のように
なる。 ＣＵＲＶ＝−０．００３３２６１４ Ｋ＝０．００００００ Ａ＝−４．３２２６１Ｅ−１０ Ｂ＝３．５０２２８Ｅ−１４ Ｃ＝７．１３２６４Ｅ−１９ Ｄ＝２．７３５８７Ｅ−２２ この第４の実施形態は、中心が２４８．４ｎｍの放射に対して最適化されてい
る。石英ガラスおよび屈折力の大部分をなす１つの屈折材料は、図８に示される
実施形態のスペクトル帯域幅を制限する。しかしながら、第４の実施形態は、最
初の３つの実施形態と同様に最大開口数０．７ではなくて最大開口数０．６３を
有するので、第４の実施形態は、スペクトルの半波高全幅値３００ピコメートル
（または好ましくは、１００ピコメートル）にわたって許容され得る結像を提供
する。従って、前者では狭くない、後者では狭いエキシマレーザが光源に採用さ
れ得る。

【００６５】 第４の実施形態は、以下の点で最初の３つの実施形態と異なる。すなわち、第
４の実施形態のＬＧ１およびＬＧ２の正味の出力は、最初の３つの実施形態にお
けるように弱い負ではなくて弱い正である。さらに、このことは、ＬＧ１とＬＧ
２とを合わせた全体の集光力は、正または負の何れかであり得、やはり無限遠に
て入射瞳を凹面ミラー８３４でまたはその付近で結像することを可能にすること
を示す。

【００６６】 図９は、本発明の光学縮小システムの第５の実施形態を示す。好ましくは、こ
の実施形態は、開口数０．６０を有し、中心が２４８．４ナノメートルにおいて
３００ピコメートルのスペクトル帯域幅で動作する。この光学縮小システムは、
図９の長共役端部から、第１の１／４波長板９０８、物体またはレチクル面１１
０、第２の１／４波長板９１１、第１のレンズ群ＬＧ１、折りたたみ式ミラー９
２０、第２のレンズ群ＬＧ２、ビームスプリッター立方９３０、第３の１／４波
長板９３２、凹面ミラー９３４、第４の１／４波長板９３８および第３のレンズ
群ＬＧ３を含む。画像は、画像またはウェハ面１８０に形成される。

【００６７】 第１のレンズ群ＬＧ１は、シェル９１２、正レンズ９１４と負レンズ９１６と
を含む間隔を空けて配置されるデュプレットおよび正レンズ９１８を含む。第２
のレンズ群ＬＧ２は、正レンズ９２２、負レンズ９２４と正レンズ９２６とを含
む間隔を空けて配置されるデュプレットおよび負レンズ９２８を含む。第３のレ
ンズ群ＬＧ３は、２つの正レンズ９４０と９４２、シェル９４４および２つの正
レンズ９４６と９４８を含む。ここでもやはり、図５に示される実施形態と同様
に、図９の折りたたみ式ミラー９２０は、本発明の動作に必須ではないものの、
物体および画像面を互いに平行にすることができる。このことは、フォトリソグ
ラフィーを用いて半導体デバイスを製造するのに都合がよい。

【００６８】 図９に示す第５の実施形態の構成データを以下の表４に示す。

【００６９】

【表１０】 ここで、表１の後の式に用いられた非球面ミラー９３４の定数は、以下のように
なる。 ＣＵＲＶ＝−０．００３２５９９５ Ｋ＝０．００００００ Ａ＝−６．９１７９９Ｅ−１０ Ｂ＝５．２６９５２Ｅ−１５ Ｃ＝６．１００４６Ｅ−１９ Ｄ＝１．５９４２９Ｅ−２２ この第５の実施形態は、中心が２４８．４ｎｍの放射に対して最適化されてい
る。石英ガラスおよび屈折力の大部分をなす１つの屈折材料は、図９に示される
実施形態のスペクトル帯域幅を制限する。しかしながら、第５の実施形態は、最
初の３つの実施形態と同様に最大開口数０．７ではなくて最大開口数０．６を有
するので、第５の実施形態は、スペクトルの半波高全幅値３００ピコメートルに
わたって許容され得る結像を提供する。従って、狭くないエキシマレーザが光源
に採用され得る。第５の実施形態は、以下の点で最初の３つの実施形態と異なる
。すなわち、第５の実施形態のＬＧ１およびＬＧ２の正味の出力は、最初の３つ
の実施形態におけるように弱い負ではなくて弱い正である。さらに、このことは
、ＬＧ１とＬＧ２とを合わせた全体の集光力は、正または負の何れかであり得、
やはり無限遠にて入射瞳を凹面ミラー９３４でまたはその付近で結像することを
可能にすることを示す。

【００７０】 （ＩＶ．別のインプリメンテーション） 上記のどの実施形態においても第１の１／４波長板の使用は、長共役端部に入
射する放射の初期偏光に依存することが当業者には明らかである。従って、光の
偏光が、長共役端部の前で円偏光または非偏光である場合には、直線偏光を円偏
光に変換するために用いられる第１の１／４波長板を省くことができる。

【００７１】 このようなインプリメンテーションは、図３から第１の１／４波長板３０５お
よび／または図４から第１の１／４波長板４０５を省くことによって示され得る
。上述の他の実施形態におけるこの構成のさらなるインプリメンテーションは、
当業者に明らかである。

【００７２】 （結論） 本発明の特定の実施形態を上述してきたが、これらは単なる例示として示され
たものであって、制限するものではないことを理解されたい。当業者であれば、
上掲の特許請求の範囲に規定される本発明の意図および範囲を逸脱することなく
、本明細書中において形態および細部における種々の変更を為し得ることを理解
する。従って、本発明の広さおよび範囲は、上述の例示的な実施形態のいずれに
よっても制限されるのではなく、上掲の特許請求の範囲およびその均等物によお
ってのみ規定されるべきである。

【図面の簡単な説明】

【図１】 図１は、従来の光学投射システムの模式図である。

【図２Ａ】 図２Ａは、レチクルにおける回折を示す図である。

【図２Ｂ】 図２Ｂは、１／４波長板の特性を示す図である。

【図２Ｃ】 図２Ｃは、半波長板の特性を示す図である。

【図３】 図３は、２つより１／４波長板を用いた、本発明の模式図である。

【図４】 図４は、別の実施形態の模式図である。

【図５】 図５は、単屈折材料を用いた本発明のある実施形態の模式図である。

【図６】 図６は、２つの異なる屈折材料を用いた本発明の別の実施形態である。

【図７】 図７は、２つより多くの異なる屈折材料を用いた本発明の別の実施形態である
。

【図８】 図８は、本発明の別の実施形態である。

【図９】 図９は、本発明のさらに別の実施形態である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ，ＴＲ)，ＯＡ(ＢＦ ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ， ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，Ｇ Ｍ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＭＺ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ， ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＧ，ＡＬ，ＡＭ， ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，Ｂ Ｚ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＯ，ＣＲ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ ，ＤＫ，ＤＭ，ＤＺ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ， ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，Ｉ Ｓ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＡ，ＭＤ，ＭＧ， ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＭＺ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，Ｐ Ｔ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＺ， ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ Ｆターム(参考） 2H087 KA21 NA02 NA04 RA32 RA41 RA42 RA43 TA01 TA03 TA04 TA06 UA03 UA04 5F046 BA04 BA05 CB03 CB05 CB10 CB11 CB12 CB17 CB23 CB25

Claims (27)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 物体空間開口数を有する光学縮小システムであって、 １／４波長位相差を提供する第１の位相シフト手段と、 投影された画像を提供する物体手段であって、該第１の位相シフト手段の位相
   差は円偏光を提供し、該物体手段から投影された画像は、同じ円偏光を用いて画
   像の細部を提供する、物体手段と、 １／４波長位相差を提供する第２の位相シフト手段と を備える、光学縮小システム。
2. 【請求項２】 前記物体空間開口数よりも大きな入射開口数を備えた負の出
   力を提供する第１のレンズ手段と、 ビームスプリッターと、 凹面ミラーと、 正の出力を提供する第２のレンズ手段と をさらに備え、前記位相シフト手段の位相差は直線偏光を提供し、該第１のレ
   ンズ手段の該負の出力は、無限遠において前記システムの入射瞳を該ミラーにお
   けるまたは該ミラーの近傍のアパーチャストップへ結像するのに十分な出力を提
   供し、該第２のレンズ手段の該正の出力は、該システムの出力の実質的に全てを
   提供し、かつ該システムの出射瞳を無限遠へと結像する、請求項１に記載の光学
   縮小システム。
3. 【請求項３】 長共役端部から短共役端部の光学縮小システムであって、 第１の１／４波長板と、 物体面と、 第２の１／４波長板と、 入射開口数を有する正の出力の第１のレンズ群と、 負の出力の第２のレンズ群であって、該第２のレンズ群は、第１のレンズ群か
   ら隔てられ、該第１のレンズ群の該入射開口数よりも大きな出射開口数を有する
   、第２のレンズ群と、 ビームスプリッターと、 １／４波長板と、 凹面ミラーと、 正の出力の第３のレンズ群と を備え、該第１のレンズ群の該正の出力は、無限遠において該システムの入射
   瞳を該第２のレンズ群を通して該ミラーにおけるまたは該ミラーの近傍における
   アパーチャストップへ結像するの十分な出力を提供し、該第２のレンズ群の該負
   の出力は、該凹面ミラーに必要な共役を提供し、該第３のレンズ群の該正の出力
   は、システム全体の出力の残りを提供し、該システムの出射瞳を無限遠に結像す
   る、光学縮小システム。
4. 【請求項４】 前記第２の１／４波長板は、前記ビームスプリッターの前の
   任意の場所に配置することが可能である、請求項３に記載の光学縮小システム。
5. 【請求項５】 前記ビームスプリッターと前記凹面ミラーとの間に配置され
   る第３の１／４波長板をさらに備える、請求項４に記載の光学縮小システム。
6. 【請求項６】 前記ビームスプリッターと前記第３のレンズ群との間に配置
   される第４の１／４波長板をさらに備える、請求項５に記載の光学縮小システム
   。
7. 【請求項７】 長共役端部から短共役端部の光学縮小システムであって、 第１の１／４波長板と、 正の出力の第１のレンズ群と、 負の出力の第２のレンズ群と、 ビームスプリッターと、 第２の１／４波長板と、 凹面ミラーと、 正の出力の第３のレンズ群と を備え、該第１のレンズ群は、 少なくとも１つの正の出力のレンズと、 実質的に０の出力の第１のレンズと、 第１のデュプレットと を含み、該実質的に０の出力の第１のレンズおよび該第１のデュプレットは、
   非点収差のような収差、視野曲率、歪みを補正するのを助け、 該第２のレンズ群は、 少なくとも１つの負の出力のレンズと、 正のレンズと、 第２のデュプレットと を含み、該少なくとも１つの負の出力のレンズは、該ビームスプリッターおよ
   び該ミラーに発散ビームを提供し、該正のレンズは、横方向の色補正を提供し、
   該第２のデュプレットは、球面収差およびコマ収差を補正するのを助け、 該第１のレンズ群の該正の出力は、無限遠において該システムの入射瞳を、該
   第２のレンズ群を介して該ミラーにおけるまたは該ミラー近傍のアパーチャスト
   ップへと結像するのに十分な出力を提供し、該第２のレンズ群の該負の出力は、
   該凹面ミラーに必要な共役を提供し、該第３のレンズ群の該正の出力は、システ
   ム全体の出力の残りを提供し、該システムの出射瞳を無限遠に結像する、光学縮
   小システム。
8. 【請求項８】 前記ビームスプリッターと前記第３のレンズ群との間に配置
   される第３の１／４波長板をさらに備える、請求項７に記載の光学縮小システム
   。
9. 【請求項９】 前記光学縮小システムの前に配置される第４の１／４波長板
   をさらに備え、それにより該システムに入射する直線偏光が円偏光にされる、請
   求項８に記載の光学縮小システム。
10. 【請求項１０】 以下の構成データによる構成を備える光学縮小システム。 【表１】
11. 【請求項１１】 比較的高い開口数を有する、長共役端部から短共役端部の
    光学縮小システムであって、 物体面と、 第１の１／４波長板と、 第１のデュプレットと、 第１の正のレンズと、 第２の正のレンズと、 シェルと、 折りたたみ式ミラーと、 第３の正のレンズと、 第１の負のレンズと、 第４の正のレンズと、 第２の負のレンズと、 ビームスプリッター立方と、 第２の１／４波長板と、 凹面ミラーと、 第３の１／４波長板と、 第５の正のレンズと、 第２のデュプレットと、 第６の正のレンズと、 第３のデュプレットと を備え、該システムに入射する放射が、該物体面、該第１の１／４波長板と、
    該第１のデュプレット、該第１の正のレンズ、該第２の正のレンズ、該シェル、
    該折りたたみ式ミラー、該第３の正のレンズ、該第１の負のレンズ、該第２の負
    のレンズ、該ビームスプリッター立方、該第２の１／４波長板を通って、該凹面
    ミラーで反射されて、再度該第２の１／４波長板と該ビームスプリッター立方を
    通り、該第３の１／４波長板、該第５の正のレンズ、該第２のデュプレット、第
    ６の正のレンズおよび第３のデュプレットを通るように配列される、光学縮小シ
    ステム。
12. 【請求項１２】 前記第１の１／４波長板は前記ビームスプリッターの前の
    任意の場所に配置することが可能である、請求項１１に記載の光学縮小システム
    。
13. 【請求項１３】 前記物体面の前に第４の１／４波長板をさらに備える、請
    求項１２に記載の光学縮小システム。
14. 【請求項１４】 以下の構成データによる構成を有する、請求項１３に記載
    の光学縮小システム。 【表２】
15. 【請求項１５】 比較的高い開口数を有する、長共役端部から短共役端部の
    光学縮小システムであって、 物体面と、 第１の１／４波長板と、 第１のデュプレットと、 第２のデュプレットと、 第１の正のレンズと、 折りたたみ式ミラーと、 第２の正のレンズと、 第１の負のレンズと、 第３の正のレンズと、 第２の負のレンズと、 ビームスプリッター立方と、 第２の１／４波長板と、 凹面ミラーと、 第３の１／４波長板と、 第４の正のレンズと、 第３のデュプレットと、 第５の正のレンズと、 シェルと、 第６の正のレンズと を備え、該システムに入射する放射が、該物体面、該第１の１／４波長板と、
    該第１のデュプレット、該第２のデュプレット、該第１の正のレンズ、該折りた
    たみ式ミラー、該第２の正のレンズ、該第１の負のレンズ、該第３の正のレンズ
    、該第２の負のレンズ、該ビームスプリッター立方、該第２の１／４波長板を通
    って、該凹面ミラーで反射されて、再度該第２の１／４波長板と該ビームスプリ
    ッター立方を通り、該第３の１／４波長板、該第４の正のレンズ、該第３のデュ
    プレット、第５の正のレンズ、該シェルおよび第６の正のレンズを通るように配
    列される、光学縮小システム。
16. 【請求項１６】 前記第１の１／４波長板は前記ビームスプリッターの前の
    任意の場所に配置することが可能である、請求項１５に記載の光学縮小システム
    。
17. 【請求項１７】 前記物体面の前に第４の１／４波長板をさらに備える、請
    求項１６に記載の光学縮小システム。
18. 【請求項１８】 以下の構成データによる構成を有する、請求項１７に記載
    の光学縮小システム。 【表３】
19. 【請求項１９】 比較的高い開口数を有する、長共役端部から短共役端部の
    光学縮小システムであって、 物体面と、 正の出力の第１のレンズ群と、 負の出力の第２のレンズ群と、 ビームスプリッターと、 凹面ミラーと、 正の出力の第３のレンズ群と、 該物体面の前に配置される第１の１／４波長板と、 該物体面と該第１のレンズ群との間に配置される第２の１／４波長板と、 該ビームスプリッターと該凹面ミラーとの間に配置される第３の１／４波長板
    と、 該ビームスプリッターと該第３のレンズ群との間に配置される第４のビームス
    プリッターと を備え、該第１の１／４波長板の特性は、該システムに入射する直線偏光した
    放射を円偏光させ、該第２の１／４波長板の特性は、該物体面を離れる楕円偏光
    した放射を直線偏光させる、光学縮小システム。
20. 【請求項２０】 前記第１の１／４波長板は０次の１／４波長板である、請
    求項１９に記載の光学縮小システム。
21. 【請求項２１】 前記第２の１／４波長板は０次の１／４波長板である、請
    求項１９に記載の光学縮小システム。
22. 【請求項２２】 比較的高い開口数を有する、長共役端部から短共役端部の
    光学縮小システムであって、 第１の１／４波長板と、 物体面と、 第２の１／４波長板と、 正の出力の第１のレンズ群と、 負の出力の第２のレンズ群であって、該第１のレンズ群および該第２のレンズ
    群は正味の出力を有する、第２のレンズ群と、 ビームスプリッターであって、該第１のレンズ群および該第２のレンズ群の正
    味の出力により、該第１のレンズ群および該第２のレンズ群から該ビームスプリ
    ッターに非平行ビームで入ってくる、ビームスプリッターと、 第３の１／４波長板と、 凹面ミラーであって、該第１のレンズ群および該第２のレンズ群の正味の出力
    が、無限遠において該システムの入射瞳を該凹面ミラーにおけるまたは該凹面ミ
    ラー近傍のアパーチャストップへと結像するのに十分な出力のみを提供する、凹
    面ミラーと、 第４の１／４波長板と、 正の出力の第３のレンズ群と を備え、該システムに入射する放射が、該第１のレンズ群、該第２のレンズ群
    、該ビームスプリッターを通って、該凹面ミラーで反射されて再度該ビームスプ
    リッターを通り、該第３のレンズ群を通るように配列される、光学縮小システム
    。
23. 【請求項２３】 前記第１の１／４波長板は入射光に向けられており、前記
    第２の１／４波長板および前記第４の１／４波長板は互いに平行に配置され、前
    記第３の１／４波長板は、該第２の１／４波長板に垂直に配置される、請求項２
    ２に記載の光学縮小システム。
24. 【請求項２４】 以下のデータによる構成を有する、請求項２３に記載の光
    学縮小システム。 【表４】
25. 【請求項２５】 以下のデータによる構成を有する、請求項２３に記載の光
    学縮小システム。 【表５】
26. 【請求項２６】 画像空間開口数および物体空間開口数を有する、長共役端
    部から短共役端部の光学縮小システムであって、 正の出力の第１のレンズ群と、 負の出力の第２のレンズ群であって、該第２のレンズ群は該物体空間開口数に
    実質的に同じ入射開口数を有する、第２のレンズ群と、 ビームスプリッターと、 凹面ミラーと、 正の出力の第３のレンズ群と を備え、該システムに入射する放射が、該第１のレンズ群、該第２のレンズ群
    、該ビームスプリッターを通り、該凹面ミラーで反射されて再度該ビームスプリ
    ッターを通り、該第３のレンズ群を通るように配列される、光学縮小システム。
27. 【請求項２７】 前記入射開口数は前記物体空間開口数よりもわずかに大き
    い、請求項２６に記載の光学縮小システム。