JP4980644B2 - 塗布方法及び塗布装置 - Google Patents
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Description
51 ライン状塗布ユニット(LCT)
62 ステージ
64 インクジェット式レジストノズル(インクジェットノズル)
68 Yガイドレール
70 Xガイドレール
72 Y方向駆動部
74 キャリッジ
76 ライン状レジスト塗布膜
80 ステージ
82 長尺型レジストノズル(長尺ノズル)
84 塗布処理部
86 レジスト液供給機構
88 ノズル移動機構
100 面状レジスト塗布膜
102 温風ヒータ
110 先行レジスト塗布膜
112 面状レジスト塗布膜
114 合成レジスト塗布膜
G ガラス基板(被処理基板)
RE 塗布領域
Claims (9)
- 矩形の被処理基板の周縁部に処理液を塗布して前記基板の4辺に沿って延びるライン状の塗布膜を形成するライン状塗布工程と、
前記基板上の互いに対向する一対のライン状塗布膜間の距離に対応した長さのスリット状吐出口を有する長尺型の第1のノズルを前記基板の1辺に沿って延びる前記ライン状塗布膜の近傍に設定された塗布開始位置に着けて、前記スリット状吐出口より吐出させた着液用の処理液または予め前記スリット状吐出口に付着させた着液用の処理液を前記ライン状塗布膜と一体化させて前記第1のノズルと前記基板との間のギャップを塞ぐ着液工程と、
前記スリット状吐出口より処理液を帯状に吐出させながら前記第1のノズルをノズル長手方向と直交する水平方向に前記基板上で相対的に移動させて、前記基板上の前記ライン状塗布膜で囲まれた塗布領域内に広がって前記ライン状塗布膜と一体化する面状の塗布膜を形成する面状塗布工程と
を有する塗布方法。 - 前記ライン状塗布工程が、処理液を線状に吐出する第2のノズルを前記基板に対して相対的に移動させる工程を含む、請求項1に記載の塗布方法。
- 前記ライン状塗布工程によって形成されたライン状塗布膜を前記面状塗布工程の前に加熱して乾燥させる、請求項1または請求項2に記載の塗布方法。
- 矩形の被処理基板の周縁部に処理液を塗布して前記基板の4辺に沿って延びるライン状の塗布膜を形成するライン状塗布処理部と、
前記基板上の互いに対向する一対のライン状塗布膜間の距離に対応した長さのスリット状吐出口を有する長尺型の第1のノズルを前記基板の1辺に沿って延びる前記ライン状塗布膜の近傍に設定された塗布開始位置に着けて、前記スリット状吐出口より吐出させた着液用の処理液または予め前記スリット状吐出口に付着させた着液用の処理液を前記ライン状塗布膜と一体化させて前記第1のノズルと前記基板との間のギャップを塞ぐ着液部と、
前記スリット状吐出口より処理液を帯状に吐出させながら前記第1のノズルをノズル長手方向と直交する水平方向に前記基板上で相対的に移動させて、前記基板上の前記ライン状塗布膜で囲まれた塗布領域内に広がって前記ライン状塗布膜と一体化する面状の塗布膜を形成する面状塗布処理部と
を有する塗布装置。 - 前記ライン状塗布処理部が、
水平状態の前記基板に向けて上方から処理液を線状に吐出する第2のノズルと、
前記第2のノズルより前記基板上に吐出された処理液で前記ライン状塗布膜が形成されるように、前記第2のノズルを前記基板に対して相対的に移動させるライン状塗布走査部と
を有する請求項4に記載の塗布装置。 - 前記第2のノズルが、電気的な駆動信号に応じてノズル内の処理液を加圧し液滴として噴射するジェット方式のノズルからなる、請求項5に記載の塗布装置。
- 前記ライン状塗布処理部および前記面状塗布処理部が前記基板を水平状態に支持するためのそれぞれ独立した支持部を有する、請求項4〜6のいずれか一項に記載の塗布装置。
- 前記ライン状塗布処理部および前記面状塗布処理部が前記基板を水平状態に支持するための共通の支持部を有する、請求項4〜7のいずれか一項に記載の塗布装置。
- 前記ライン状塗布処理部により前記基板上に形成された前記ライン状塗布膜を加熱して乾燥させる乾燥手段を有する、請求項4〜8のいずれか一項に記載の塗布装置。
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