JP5578377B2 - 基板処理装置及び方法 - Google Patents
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Description
100 基板支持ユニット
200 ガントリーユニット
300 第1処理液供給ユニット
400 第2処理液供給ユニット
500 ビジョン検査ユニット
600 ノズル洗浄ユニット
Claims (8)
- 基板を支持する基板支持ユニットと、
前記基板に第1処理液を吐出するインクジェットノズルと、
前記基板に第1処理液と異なる第2処理液を吐出するコーティングノズルと、
前記基板支持ユニットに対して前記インクジェットノズルと前記コーティングノズルの位置が変更されるように前記インクジェットノズルと前記コーティングノズルとを第1方向に直線移動させるガントリーユニットと、を含み、
前記ガントリーユニットは、
前記インクジェットノズルを支持し、前記基板支持ユニットの上部を横切って前記基板支持ユニットの一側から他側へと前記第1方向に直線移動する第1ガントリーと、
前記コーティングノズルを支持し、前記基板支持ユニットの上部を横切って前記基板支持ユニットの一側から他側へと前記第1方向に直線移動する第2ガントリーと、
上部からみたとき、前記第1方向と垂直になる第2方向に対して前記第1ガントリーの長さ方向が所定角度だけ傾いて配置されるように前記第1ガントリーを回転させるガントリー駆動部と、を含むことを特徴とする基板処理装置。 - 前記第1ガントリーと前記第2ガントリーとは、前記基板支持ユニットの両側に互いに対向して前記第1方向に長く配置された一対のガイドレールに沿って直線移動することを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記コーティングノズルは、上部からみたとき、前記第1方向と垂直になる第2方向にその長さ方向が配置され、底面には前記第2処理液を吐出するスリットホールが前記第2方向に長く形成されたことを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記第1ガントリーには前記インクジェットノズルが複数個装着され、
前記インクジェットノズルは、上部からみたとき、前記第1方向と垂直になる第2方向に配列され、
前記第1ガントリーに対する前記インクジェットノズルの相対位置が変更されるように前記インクジェットノズルを前記第2方向に直線移動させるインクジェットノズル移動部をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記インクジェットノズルは複数個が前記第2方向に配列されて1つの列を形成し、
前記インクジェットノズルの列は少なくとも2つ以上設けられることを特徴とする請求項4に記載の基板処理装置。 - 前記ガントリー駆動部は、
前記第1ガントリーの一端を回転中心として前記第1ガントリーの他端を回転させることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。 - 基板を支持する基板支持ユニットと、
前記基板に第1処理液を吐出するインクジェットノズルと、
前記基板に第1処理液と異なる第2処理液を吐出するコーティングノズルと、
前記基板支持ユニットに対して前記インクジェットノズルと前記コーティングノズルの位置が変更されるように前記インクジェットノズルと前記コーティングノズルとを第1方向に直線移動させるガントリーユニットと、を含み、
前記ガントリーユニットは、
前記コーティングノズルを支持し、前記基板支持ユニットの上部を横切って前記基板支持ユニットの一側から他側へと前記第1方向に直線移動するガントリーを含み、
前記コーティングノズルは、上部からみたとき、前記第1方向と垂直になる第2方向にその長さ方向が配置され、底面には前記第2処理液を吐出するスリットホールが前記第2方向に長く形成され、
前記第1方向に沿って前記コーティングノズルの前方と後方の各々の位置に、複数個の前記インクジェットノズルが前記第2方向に配列されることを特徴とする基板処理装置。 - 基板支持ユニットの上部をインクジェットノズルが第1方向に直線移動し、第1処理液を前記基板支持ユニットに支持された基板に吐出する第1処理液吐出段階と、
前記基板支持ユニットの上部をコーティングノズルが第1方向に直線移動し、前記第1処理液と異なる第2処理液を前記基板に吐出する第2処理液吐出段階と、を含み、
前記第1処理液吐出段階と前記第2処理液吐出段階とは順次的に、且つ連続的に行われ、
前記インクジェットノズルは、前記第1方向に直線移動できる第1ガントリーに支持されて移動し、
前記コーティングノズルは、前記第1ガントリーと並んで配置され、前記第1方向に直線移動できる第2ガントリーに支持されて移動し、
前記インクジェットノズルは、上部からみたとき、前記第1方向と垂直になる第2方向に沿って複数個が一列に配列され、隣接する前記インクジェットノズルの間隔が固定され、
前記第1ガントリーを所定角度回転させることで、前記第2方向の前記インクジェットノズルの間隔を変更させることを特徴とする基板処理方法。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR20110075771 | 2011-07-29 | ||
KR10-2011-0075771 | 2011-07-29 | ||
KR10-2011-0104761 | 2011-10-13 | ||
KR1020110104761A KR101223037B1 (ko) | 2011-07-29 | 2011-10-13 | 기판 처리 장치 및 방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013031840A JP2013031840A (ja) | 2013-02-14 |
JP5578377B2 true JP5578377B2 (ja) | 2014-08-27 |
Family
ID=47570560
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012166684A Active JP5578377B2 (ja) | 2011-07-29 | 2012-07-27 | 基板処理装置及び方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5578377B2 (ja) |
CN (1) | CN102898032B (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104722444B (zh) * | 2013-12-23 | 2017-03-29 | 昆山国显光电有限公司 | 一种涂布装置 |
CN109116596B (zh) * | 2018-09-06 | 2024-04-05 | 武汉精测电子集团股份有限公司 | 用于连接显示面板上t-fpc和主fpc的半自动反折工装及设备 |
CN109759278B (zh) * | 2019-01-29 | 2021-02-26 | 苏州威格尔纳米科技有限公司 | 一种挤压式狭缝涂布封装设备 |
CN115921168B (zh) * | 2023-02-10 | 2023-10-03 | 东莞市华纬涂装设备有限公司 | 一种多工位喷涂机械手 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3236703B2 (ja) * | 1993-05-31 | 2001-12-10 | 平田機工株式会社 | 流体塗布装置 |
DE10224128A1 (de) * | 2002-05-29 | 2003-12-18 | Schmid Rhyner Ag Adliswil | Verfahren zum Auftrag von Beschichtungen auf Oberflächen |
JP4679895B2 (ja) * | 2003-12-17 | 2011-05-11 | 大日本印刷株式会社 | パターン形成装置、ヘッドユニット |
JP4573645B2 (ja) * | 2004-12-27 | 2010-11-04 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 塗布装置 |
JP4980644B2 (ja) * | 2005-05-30 | 2012-07-18 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布方法及び塗布装置 |
KR100889308B1 (ko) * | 2007-11-21 | 2009-03-18 | 세메스 주식회사 | 스크라이빙 장치 및 방법 및 이를 이용한 기판 절단 장치 |
JP5417186B2 (ja) * | 2010-01-08 | 2014-02-12 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
-
2012
- 2012-07-27 JP JP2012166684A patent/JP5578377B2/ja active Active
- 2012-07-30 CN CN201210265320.0A patent/CN102898032B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013031840A (ja) | 2013-02-14 |
CN102898032B (zh) | 2016-04-27 |
CN102898032A (zh) | 2013-01-30 |
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Date | Code | Title | Description |
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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