JP2004172621A - リソグラフ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】リソグラフ装置およびデバイス製造方法を提供すること。
【解決手段】液浸リソグラフィ装置において、基板テーブルと投影レンズとの間に透明プレートが設けられ、それにより、基準フレームを歪ませることになる力を投影レンズに付与している液体の流れを回避している。透明プレートは、基準フレームに取り付けられた位置センサに応答するアクチュエータ・システムによって、基準フレームに対して静止した状態に維持される。透明プレートは、液体の屈折率と同じ屈折率を有している。
【選択図】図２

Description

本発明は、
−投影放射ビームを供給するための放射システムと、
−所望のパターンに従って投影ビームをパターン化するべく機能するパターン化手段を支持するための支持構造と、
−基板を保持するための基板テーブルと、
−パターン化されたビームを基板の目標部分に投射するための投影システムと、
−前記投影システムの最終エレメントと前記基板の間の空間に液体を充填するための液体供給システムと
を備えたリソグラフ投影装置に関する。

本明細書で使用されている「パターン化手段」という用語は、入射放射ビームに、基板の目標部分に生成すべきパターンに対応するパターン化された断面を付与するのに使用することができる手段を意味するものとして広義に解釈されたい。また、この文脈においては、「光バルブ」という用語が使用されている。一般的には、前記パターンは、目標部分に生成されるデバイス、たとえば集積回路または他のデバイス（以下を参照されたい）中の特定の機能層に対応している。このようなパターン化手段の例には、
−マスク：マスクの概念についてはリソグラフィにおいては良く知られており、バイナリ、交番移相および減衰移相などのマスク・タイプ、および様々なハイブリッド・マスク・タイプが知られている。このようなマスクを放射ビーム中に配置することにより、マスクに衝突する放射をマスクのパターンに従って選択的に透過（透過型マスクの場合）させ、あるいは選択的に反射（反射型マスクの場合）させている。マスクの場合、通常、支持構造がマスク・テーブルを構成しており、入射する放射ビーム中の所望の位置にマスクを確実に保持し、かつ、必要に応じてビームに対して移動させている。
−プログラム可能ミラー・アレイ：粘弾性制御層および反射表面を有するマトリックス・アドレス可能表面は、このようなデバイスの一例である。このような装置の基礎をなしている基本原理は、（例えば）反射表面のアドレス領域が入射光を回折光として反射し、一方、未アドレス領域が入射光を非回折光として反射することである。適切なフィルタを使用することにより、前記非回折光を反射ビームからフィルタ除去し、回折光のみを残すことができるため、この方法により、マトリックス・アドレス可能表面の処理パターンに従ってビームがパターン化される。プログラム可能ミラー・アレイの代替実施例には、マトリックス配列された微小ミラーが使用されている。微小ミラーの各々は、適切な局部電界を印加することによって、あるいは圧電駆動手段を使用することによって、軸線の周りに個々に傾斜させることができる。もう一度、アドレス・ミラーは入射する放射ビームを未アドレス・ミラーと異なる方向に反射し、この態様において、反射されたビームがマトリックス・アドレス可能ミラーのアドレス・パターンに従ってパターン化されるように、ミラーはマトリックス・アドレス可能である。必要なマトリックス・アドレス化は、適切な電子手段を使用して実行される。上で説明したいずれの状況においても、パターン化手段は、１つまたは複数のプログラム可能ミラー・アレイを備えている。上で参照したミラー・アレイに関する詳細な情報については、たとえば、いずれも参照により本明細書に援用される米国特許第５，２９６，８９１号および第５，５２３，１９３号、およびＰＣＴ特許出願ＷＯ９８／３８５９７号およびＷＯ９８／３３０９６号を参照されたい。プログラム可能ミラー・アレイの場合、前記支持構造は、たとえば、必要に応じて固定または移動させることができるフレームあるいはテーブルとして具体化されている。
−プログラム可能ＬＣＤアレイ：このような構成の一例は、参照により本明細書に援用される米国特許第５，２２９，８７２号に記載されている。この場合の支持構造は、上と同様、たとえば、必要に応じて固定または移動させることができるフレームあるいはテーブルとして具体化されてもよい。
簡単にするために、本明細書の以下の特定の部分、とりわけ実施例の部分にはマスクおよびマスク・テーブルが包含されているが、実施例の中で考察されている一般原理は、上で説明したパターン化手段のより広義の文脈の中で理解されたい。

リソグラフ投影装置は、たとえば集積回路（ＩＣ）の製造に使用することができる。このような場合、パターン化手段が、ＩＣの個々の層に対応する回路パターンを生成し、このパターンが、放射感応材料（レジスト）の層で被覆された基板（シリコン・ウェハ）上の目標部分（たとえば１つまたは複数のダイからなる）に画像化される。通常、１枚のウェハには、投影システムを介して順次照射される目標部分に隣接する回路網全体が含まれている。現在、マスク・テーブル上のマスクによるパターン化を使用した装置には２種類の装置がある。第１の種類のリソグラフ投影装置では、マスク・パターン全体を１回の照射で目標部分に露光することによって目標部分の各々が照射される。このような装置は、一般にウェハ・ステッパと呼ばれている。一般にステップ・アンド・スキャン装置と呼ばれている代替装置では、マスク・パターンを投影ビームの下で所与の基準方向（「走査方向」）に連続的に走査し、かつ、基板テーブルを基準方向に平行に、あるいは非平行に同期走査することによって目標部分の各々が照射される。通常、投影システムは、倍率係数Ｍ（通常＜１）を有しているため、基板表面を走査する速度Ｖは、マスク・テーブルを走査する速度を係数Ｍ倍した速度になる。上で説明したリソグラフ・デバイスに関する詳細な情報は、たとえば、参照により本明細書に援用される米国特許第６，０４６，７９２号から収集され得る。

リソグラフ投影装置を使用した製造プロセスでは、パターン（たとえばマスクのパターン）が、少なくとも一部が放射感応材料（レジスト）の層で覆われた基板上に画像化される。この画像化ステップに先立って、プライミング、レジスト・コーティングおよびソフト・ベークなど、様々な処理手順が基板に加えられる。放射への露光後、露光後ベーク（ＰＥＢ）、現像、ハード・ベークおよび画像化されたフィーチャの測定／検査などの他の処理手順が基板に加えられる。この一連の処理手順は、たとえばＩＣなどのデバイスの個々の層をパターン化するための基本として使用されている。次に、パターン化されたこのような層に、エッチング、イオン注入（ドーピング）、メタライゼーション、酸化、化学機械研磨等、様々な処理が施される。これらの処理はすべて個々の層の仕上げを意図したものである。複数の層を必要とする場合、すべての処理手順またはそれらの変形手順を新しい層の各々に対して繰り返さなければならないが、最終的にはデバイスのアレイが基板（ウェハ）上に出現する。これらのデバイスは、次に、ダイシングまたはソーイングなどの技法を使用して互いに分割され、分割された個々のデバイスは、キャリアに取り付け、あるいはピンに接続することができる。このようなプロセスに関する詳細な情報は、たとえば、参照により本明細書に援用される著書「Ｍｉｃｒｏｃｈｉｐ Ｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎ：Ａ Ｐｒａｃｔｉｃａｌ Ｇｕｉｄｅ ｔｏ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ」（Ｐｅｔｅｒ ｖａｎ Ｚａｎｔ著、第３版、ＭｃＧｒａｗ Ｈｉｌｌ Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ Ｃｏ．、１９９７年、ＩＳＢＮ ０−０７−０６７２５０−４）から得られる。

単純化のために、以下、投影システムを「レンズ」と呼ぶが、この用語には、たとえば、屈折光学系、反射光学系およびカタディオプトリック系を始めとする様々なタイプの投影システムが包含されているものとして広義に解釈されたい。また、放射システムには、投影放射ビームを導き、整形し、かつ、制御するための任意の設計タイプに従って動作するコンポーネントが含まれており、以下、このようなコンポーネントについても、集合的あるいは個々に「レンズ」と呼ぶ。また、リソグラフ装置は、複数の基板テーブル（および／または複数のマスク・テーブル）を有するタイプの装置である。このような「多重ステージ」デバイスでは、追加テーブルが並列に使用されているか、あるいは１つまたは複数の他のテーブルが露光のために使用されている間、１つまたは複数のテーブルに対して予備ステップが実行されている。たとえば、参照により本明細書に援用される米国特許第５，９６９，４４１号およびＷＯ９８／４０７９１号に、二重ステージ・リソグラフ装置が記載されている。

投影レンズの最終エレメントと基板の間の空間を充填するべく、リソグラフ投影装置内の基板を、比較的屈折率の大きい液体、たとえば水に浸す方法が提案されている。この方法のポイントは、液体中では露光放射の波長が短くなるため、より小さいフィーチャを画像化することができることである。（また、液体の効果は、システムの有効ＮＡが増加することにあると見なすことができる。）

しかし、たとえば走査露光において、基板テーブルが液体中を移動すると、液体の粘性によって投影レンズに力が付与され、それゆえ、装置内のあらゆる位置センサが取り付けられている基準フレームに力が付与されることになる。基板およびマスク・ステージの正確な位置決めを可能にするためには、基準フレームは、基準フレームに取り付けられる様々なセンサに、極端に剛直で、かつ、安定した基準を提供しなければならない。液体を介して基準フレームに付与される力は、基準フレームに基づく様々な位置の測値を無効にするだけの十分な歪みを基準フレームにもたらしている。

本発明の目的は、基板と投影システムの間の空間が液体で充填され、かつ、基準フレームが基板ステージの移動による妨害から有効に分離されたリソグラフ投影装置を提供することである。

この目的およびその他の目的は、本発明による、冒頭で明記したリソグラフ装置において、
−前記投影システムと前記基板テーブルの間に設けられ、かつ、前記投影システムから機械的に分離された透明プレートと、
−前記透明プレートを前記投影システムに対して実質的に静止した状態に維持するための手段とを特徴とするリソグラフ装置によって達成される。

投影システムと基板テーブルの間の透明プレートは、投影システムと基板テーブルを分離し、投影レンズへの、故に、基準フレームへの液体を介した力の伝達を防止している。したがって、基板テーブルが移動することによって、基準フレームおよび基準フレームに取り付けられているセンサが妨害されることはない。

透明プレートの投影ビームの波長における屈折率は、投影ビームの波長における液体の屈折率と実質的に同じであることが好ましく、それにより、透明プレートによるあらゆる不要な光効果の導入が回避される。

透明プレートは、液体が、１つは投影レンズと透明プレートの間に、もう１つは透明プレートと基板テーブルの間の２つの部分に分割されるように、形状化され、かつ、位置決めされることが好ましく、また、その２つの部分の間に液体連絡がないことが好ましい。この構造により、基板テーブルと投影レンズの間の完全な分離が保証される。

透明プレートを静止状態に維持するための手段は、透明プレートの投影システムに対する位置を測定するための位置センサ、および前記位置センサに結合された、前記透明プレートを前記投影システムに対して所定の位置に維持するためのアクチュエータ手段を備えたアクチュエータ・システムを備えていることが好ましい。位置センサは、基準フレームに取り付けられることが好ましく、また、アクチュエータ手段は、基準フレームとは機械的に分離されたベース・フレームに取り付けられることが好ましい。また、アクチュエータ手段は、位置センサを介したフィードバック制御に加えて、あるいは、位置センサを介したフィードバック制御に代わって、フィードフォワード制御を提供するべく、基板テーブルのための位置決め手段に提供される位置決め命令に応答可能であってもよい。

本発明の他の態様によれば、
−少なくとも一部が放射感応材料の層で覆われた基板を提供するステップと、
−放射システムを使用して投影放射ビームを提供するステップと、
−投影ビームの断面をパターン化するべくパターン化手段を使用するステップと、
−パターン化された放射ビームを放射感応材料の層の目標部分に投射するステップと、
−基板と前記投射ステップで使用される投影システムの最終エレメントとの間の空間を充填するべく液体を提供するステップとを含み、
−前記基板と前記投影システムの前記最終エレメントの間に、前記投影システムから機械的に分離された透明プレートを提供するステップと、前記透明プレートを前記投影システムに対して実質的に静止した状態に維持するステップとを特徴とするデバイス製造方法が提供される。

本明細書においては、本発明による装置の、とりわけＩＣの製造における使用が言及されているが、本発明による装置は、他の多くの応用可能性を有していることを明確に理解されたい。たとえば、本発明による装置は、集積光学系、磁気領域メモリのための誘導および検出パターン、液晶表示パネル、薄膜磁気ヘッド等の製造に使用することができる。このような代替応用の文脈においては、本明細書における「レチクル」、「ウェハ」あるいは「ダイ」という用語の使用はすべて、それぞれより一般的な「マスク」、「基板」および「目標部分」という用語に置換されているものと見なすべきであることは、当分野の技術者には理解されよう。

本明細書においては、「放射」および「ビーム」という用語は、紫外線放射（たとえば、波長が３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍまたは１２６ｎｍ）およびＥＵＶ（波長の範囲がたとえば５〜２０ｎｍの極紫外線放射）を含むあらゆるタイプの電磁放射を包含するべく使用されている。

次に、本発明の実施例について、単なる実施例に過ぎないが、添付の略図に照らして説明する。

図において、対応する参照記号は、対応する部品を表している。

図１は、本発明の特定の実施例によるリソグラフ投影装置を略図で示したものである。この装置は、
−投影放射ビームＰＢ（たとえばＤＵＶ放射）を供給するための放射システムＥｘ、ＩＬ（この特定の実施例の場合、放射システムにはさらに放射源ＬＡが含まれている）と、
−マスクＭＡ（たとえばレチクル）を保持するためのマスク・ホルダを備えた、アイテムＰＬに対してマスクを正確に位置決めするための第１の位置決め手段に接続された第１の対物テーブル（マスク・テーブル）ＭＴと、
−基板Ｗ（たとえばレジスト被覆シリコン・ウェハ）を保持するための基板ホルダを備えた、アイテムＰＬに対して基板を正確に位置決めするための第２の位置決め手段に接続された第２の対物テーブル（基板テーブル）ＷＴと、
−マスクＭＡの照射部分を基板Ｗの目標部分Ｃ（たとえば１つまたは複数のダイからなっている）に結像させるための投影システム（「レンズ」）ＰＬ（たとえば屈折レンズ系）とを備えている。図に示すように、この装置は透過型（たとえば透過型マスクを有する）装置であるが、一般的にはたとえば反射型（たとえば反射型マスクを備えた）装置であっても良い。別法としては、この装置は、たとえば上で参照したプログラム可能ミラー・アレイ・タイプなど、他の種類のパターン化手段を使用することもできる。

放射源ＬＡ（たとえばエキシマ・レーザ）は放射ビームを生成している。この放射ビームは、照明システム（イルミネータ）ＩＬに直接供給され、あるいは、たとえばビーム拡大器Ｅｘなどの調整手段を通して供給される。イルミネータＩＬは、ビーム内の強度分布の外部および／または内部ラジアル・エクステント（一般に、それぞれσ−アウターおよびσ−インナーと呼ばれている）を設定するための調整手段ＡＭを備えている。また、イルミネータＩＬは、通常、積分器ＩＮおよびコンデンサＣＯなど、他の様々なコンポーネントを備えている。この方法により、マスクＭＡに衝突するビームＰＢの断面に、所望する一様な強度分布を持たせることができる。

図１に関して、放射源ＬＡをリソグラフ投影装置のハウジング内に配置し（放射源ＬＡがたとえば水銀灯の場合にしばしば見られるように）、かつリソグラフ投影装置から離して配置することにより、放射源ＬＡが生成する放射ビームをリソグラフ投影装置に供給する（たとえば適切な誘導ミラーを使用することによって）ことができることに留意されたい。この後者のシナリオは、放射源ＬＡがエキシマ・レーザの場合にしばしば見られるシナリオである。本発明および特許請求の範囲の各請求項には、これらのシナリオの両方が包含されている。

次に、ビームＰＢが、マスク・テーブルＭＴ上に保持されているマスクＭＡによって遮断される。マスクＭＡを通過したビームＰＢは、ビームＰＢを基板Ｗの目標部分Ｃに集束させるレンズＰＬを通過する。第２の位置決め手段（および干渉測定手段ＩＦ）を使用することにより、たとえば異なる目標部分ＣをビームＰＢの光路中に配置するべく、基板テーブルＷＴを正確に移動させることができる。同様に、第１の位置決め手段を使用して、たとえばマスク・ライブラリからマスクＭＡを機械的に検索した後、あるいは走査中に、マスクＭＡをビームＰＢの光路に対して正確に配置することができる。通常、対物テーブルＭＴおよびＷＴの移動は、図１には明確に示されていないが、長ストローク・モジュール（粗位置決め）および短ストローク・モジュール（精密位置決め）を使用して実現されている。しかし、ウェハ・ステッパ（ステップ・アンド・スキャン装置ではなく）の場合、マスク・テーブルＭＴは、短ストローク・アクチュエータに接続するだけで良く、あるいは固定することもできる。

図に示す装置は、２つの異なるモードで使用することができる。
−ステップ・モードでは、マスク・テーブルＭＴは、基本的に静止状態に維持され、マスク画像全体が目標部分Ｃに１回の照射（すなわち単一「フラッシュ」で）投影される。次に、基板テーブルＷＴがｘおよび／またはｙ方向にシフトされ、異なる目標部分ＣがビームＰＢによって照射される。
−走査モードでは、所与の目標部分Ｃが単一「フラッシュ」に露光されない点を除き、ステップ・モードと基本的に同じシナリオが適用される。走査モードではマスク・テーブルＭＴを所与の方向（いわゆる「走査方向」、たとえばｙ方向）に速度νで移動させることができるため、投影ビームＰＢでマスク画像を走査し、かつ、基板テーブルＷＴを同時に同じ方向または逆方向に、速度Ｖ＝Ｍνで移動させることができる。ＭはレンズＰＬの倍率である（通常、Ｍ＝１／４またはＭ＝１／５）。この方法によれば、解像度を犠牲にすることなく、比較的大きい目標部分Ｃを露光させることができる。

図２は、基板ステージをより詳細に示したものである。基板テーブルＷＴは、液体供給システム１５によって供給される、たとえば水などの比較的屈折率の大きい液体１０に浸されている。液体は、液体中における投影ビームの放射波長を、空気中または真空中における波長より短くする効果を有しており、より小さいフィーチャの解像を可能にしている。投影システムにおける解像限界は、とりわけ投影ビームの波長およびシステムの開口数によって決まることは良く知られている。また、液体の存在は、有効開口数の増加と見なすことができる。

投影システムＰＬと基板テーブルＷＴの間に透明プレートすなわち皿１２が配置され、同じく液体１１が充填されている。液体１１は、液体１０と同じ液体であることが好ましい。したがって、投影システムＰＬと基板Ｗの間の全空間には液体が充填され、かつ、透明プレート１２と投影システムＰＬの間の液体１１と、透明プレート１２と基板Ｗの間の液体１０とは分離されている。

透明プレート１２の屈折率は、少なくとも、透明プレートを透過する、たとえば、レンズ・アラインメント系を通過する投影ビームおよびあらゆるセンサ・ビームの波長における液体１０および１１の屈折率と同じであることが好ましく、それにより、さもなければ特性化し、かつ、補償しなければならない光学的副作用が回避される。当然のことではあるが、プレート全体を透明にする必要はなく、透明部分は、ビームを通過させなければならない部分のみで良い。

基板テーブルＷＴは、たとえば走査露光を実行するべく、第２の位置決め手段ＰＷによって、たとえば矢印ｖで示す方向に移動する。基板テーブルが移動すると、液体１０中に流れが生じ、それにより透明プレート１２に力が付与される。投影システムＰＬおよび基準フレームＲＦへの力のさらなる伝搬を回避するべく、透明プレート１２は、アクチュエータ・システムによって、投影レンズＰＬに対して静止した状態に維持される。透明プレート１２が静止しているため、液体１１による妨害がなく、したがって投影システムＰＬに伝搬する力は存在しない。

透明プレート１２を静止した状態に維持するためのアクチュエータ・システムは、基準フレームＲＦに取り付けられた位置センサ１４によって測定される透明プレート１２の位置に応答してフィードバック・ループで制御され、かつ／または第２の位置決め手段ＰＷに送られる位置決め命令に基づくフィードフォワード・ループで制御されるアクチュエータ１３を備えている。アクチュエータ・システムのための制御システムには、雑音防止手段を組み込むことができる。位置センサには、干渉計、容量センサおよびエンコーダを使用することができ、また、アクチュエータには、ローレンツ・モータあるいはボイス・コイル・モータを使用することができる。

槽中の液体の体積を過度に増加させることなく、画像化後における基板テーブルＷＴからの基板の取外しを容易に実行するため、基板テーブルＷＴが浸漬される槽に対しては、固定接続ではなく、アクチュエータが使用されることが好ましい。

透明プレート１２に付与される力Ｆ_dは、液体１０を介した力の伝達の乱れおよび遅延のため、必ずしも基板テーブルＷＴの運動ｖと平行であるとは限らず、あるいは基板テーブルＷＴの運動ｖに対して必ずしも直線的ではないことは理解されよう。この非平行性あるいは非直線性が、フィードフォワード制御の有用性を制限しているが、透明プレート１２に付与される力Ｆ_aが、液体１０を介して伝達される力Ｆ_dと十分に対抗し、それにより液体１１中における妨害が十分に小さい状態に維持され、しいては投影レンズに伝達される力が許容範囲内に維持されることが重要なポイントである。

状況によっては、たとえば基板テーブルの移動速度が比較的遅く、かつ、液体の粘性が小さい場合、透明プレート１２を静止状態に維持するためのアクチュエータ・システムを必ずしも使用する必要はなく、その代わりに、透明プレート１２をたとえばベース・フレームあるいは基準フレームから分離された他の静止部品に固定することができることに留意されたい。

以上、本発明の特定の実施例について説明したが、説明した以外の方法で本発明を実践することができることは理解されよう。以上の説明は、本発明を制限することを意図したものではない。

本発明の一実施例によるリソグラフ投影装置を示す図である。 本発明の実施例による基板テーブルの液浸および投影レンズの分離構造を示す図である。

Claims (10)

1. 投影放射ビームを供給するための放射システムと、
   所望のパターンに従って投影ビームをパターン化するべく機能するパターン化手段を支持するための支持構造と、
   基板を保持するための基板テーブルと、
   パターン化されたビームを基板の目標部分に投射するための投影システムと、
   前記投影システムの最終エレメントと前記基板との間の空間に液体を充填するための液体供給システムとを備えたリソグラフ投影装置において、
   前記投影システムと前記基板テーブルとの間に設けられ、かつ、前記投影システムから機械的に分離された透明プレートと、
   前記透明プレートを前記投影システムに対して実質的に静止した状態に維持するための手段とを特徴とする装置。
2. 前記透明プレートの投影ビームの波長における屈折率が、投影ビームの波長における液体の屈折率と実質的に同じである、請求項１に記載の装置。
3. 前記透明プレートが、液体が、１つは投影レンズと透明プレートとの間に、もう１つは透明プレートと基板テーブルとの間の２つの部分に分割されるように、形状化され、かつ、位置決めされ、その２つの部分の間に液体連絡がない、請求項１または請求項２に記載の装置。
4. 前記透明プレートを実質的に静止した状態に維持するための前記手段がアクチュエータ・システムからなる、請求項１、請求項２または請求項３に記載の装置。
5. 前記アクチュエータ・システムが、透明プレートの投影システムに対する位置を測定するための位置センサ、および前記位置センサに結合されたアクチュエータ手段を備えた、請求項４に記載の装置。
6. 前記位置センサが、同じく前記投影システムを支えている基準フレームに取り付けられた、請求項５に記載の装置。
7. 前記アクチュエータ手段が、基準フレームから機械的に分離されたベース・フレームに取り付けられた、請求項６に記載の装置。
8. 前記アクチュエータ・システムがフィードバック方式で制御される、請求項４から請求項７までのいずれか一項に記載の装置。
9. 前記アクチュエータ・システムがフィードフォワード方式で制御される、請求項４から請求項７までのいずれか一項に記載の装置。
10. 少なくとも一部が放射感応材料の層で覆われた基板を提供するステップと、
    放射システムを使用して投影放射ビームを提供するステップと、
    投影ビームの断面をパターン化するべくパターン化手段を使用するステップと、
    パターン化された放射ビームを放射感応材料の層の目標部分に投射するステップと、
    基板と前記投射ステップで使用される投影システムの最終エレメントとの間の空間を充填するべく液体を提供するステップとを含んだデバイス製造方法において、
    前記基板と前記投影システムの前記最終エレメントとの間に、前記投影システムから機械的に分離された透明プレートを提供するステップと、
    前記透明プレートを前記投影システムに対して実質的に静止した状態に維持するステップとを特徴とする方法。

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