JP2011205121A - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】液浸露光装置が開示される。投影系と基板との間に液体を供給する液体供給システムの少なくとも一部が走査中に基板上面に実質的に平行な面内に移動可能である。この一部は、この一部と基板との間の相対速度を低減させるよう運動する。これにより投影系に対する基板の速度を増加させることができる。
【選択図】図6
Description
投影系と、
前記投影系により像が形成される基板を保持するテーブルと、
前記投影系と基板との間の空間に液体を供給する液体供給システムと、を備え、
前記液体供給システムの少なくとも一部は、前記投影系及び基板に独立して前記投影系及び基板に対して基板上面に実質的に平行な少なくとも1つの方向に移動可能である露光装置が提供される。
投影系と、
前記投影系により像が形成される基板を保持するテーブルと、
前記投影系を取り巻き、前記投影系と基板との間の空間を含む容積に液体を少なくとも部分的に保持するバリア部材を備える液体供給システムと、を備え、
前記バリア部材は、基板上面に実質的に平行な面内で第1の方向に基板に独立して移動可能であり、
前記バリア部材は、露光装置のスリット長さに等しい距離を前記第1の方向に少なくとも移動可能であるような大きさ及び形状とされている露光装置が提供される。
投影系と、
前記投影系により像が形成される基板を保持するテーブルと、
前記投影系と基板との間の空間に液体を供給する液体供給システムと、
使用時には液体中において前記投影系の周囲に位置しており、前記液体供給システムから液体を通じての前記投影系への力の伝達を少なくとも低減する力分離部材と、を備える露光装置が提供される。
液体供給システムの一部と基板との間にシールを形成する液体供給システムを用いて投影系と基板との間に液体を供給し、
パターンが付与された放射ビームを基板に投影する投影系を使用し、
前記投影系の下方で基板を移動し、
基板の移動中に、基板と液体供給システムの一部との相対速度を低減させるような速度及び方向に液体供給システムの当該一部を移動するデバイス製造方法が提供される。
Claims (7)
- 投影系と基板との間の空間を包囲して該空間において少なくとも部分的に液体を拘束し、移動可能表面を備え、使用時に該液体のメニスカスが前記空間において該表面と基板との間に延在するよう構成されているバリア部材と、
基板が移動している間の少なくとも一部において投影系に対して基板移動方向と実質的に同方向の成分を有する方向に基板速度の2倍以下の速度で前記移動可能表面の移動を制御する制御部と、を備えることを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記移動可能表面は、バリア部材に対して移動可能であることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記制御部は、基板が最高速度であるときに基板と実質的に同方向に前記移動可能表面を移動させることを特徴とする請求項1または2に記載の装置。
- 前記制御部は、基板が低速に移動している間の少なくとも一部において基板移動方向とは逆方向に前記移動可能表面を移動させ、または、基板が実質的に静止している時間の一部において基板が実質的に静止している方向に前記移動可能表面を移動させることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の装置。
- 投影系と基板との間の空間を包囲し、該空間において少なくとも部分的に液体を拘束するバリア部材であって、基板上面に実質的に平行な面内に移動可能であり、中立位置に向けて付勢され、該液体のメニスカスが使用時に前記空間において基板との間に延在するよう構成されているプレートを備えるバリア部材を備えることを特徴とするリソグラフィ装置。
- 基板から液体を通じて前記プレートに伝達される力が基板の高速移動中にバリア部材に対して前記プレートを移動させるように付勢がなされていることを特徴とする請求項5に記載の装置。
- 投影系と基板との間の空間にバリア部材を使用して液体を拘束し、
投影系に対して基板を移動させ、
基板が移動している間の少なくとも一部において、バリア部材の表面と基板との間の液体メニスカスに作用する力が該表面の移動がない場合よりも低減されるように、基板移動方向と実質的に同方向の成分を有する方向に基板速度の2倍以下の速度でバリア部材の表面を移動させ、
パターニングデバイスからのパターンを基板に転写することを含むことを特徴とするデバイス製造方法。
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