JP2007013152A - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】投影システムと基板の間の空間に液体が供給され、また、空間を2つの部分に分割するためのプレート構造が提供される液浸リソグラフィ装置が開示される。プレート構造は、投影ビームの透過を可能にするための開口、プレートの存在による減衰効果を抑制するための貫通孔、及び任意選択で、プレートの開口の周りに様々な流れを提供するための1つ又は複数の入口及び出口を有している。
【選択図】図6
Description
− 放射ビームPB(たとえばUV放射又はDUV放射)を条件付けるように構成された照明システム(イルミネータ)IL
− パターニング・デバイス(たとえばマスク)MAを支持するように構築された、特定のパラメータに従って該パターニング・デバイスを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続された支持構造(たとえばマスク・テーブル)MT
− 基板(たとえばレジスト被覆ウェハ)Wを保持するように構築された、特定のパラメータに従って該基板を正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(たとえばウェハ・テーブル)WT
− パターニング・デバイスMAによって放射ビームBに付与されたパターンを基板Wの目標部分C(たとえば1つ又は複数のダイが含まれている)に投影するように構成された投影システム(たとえば屈折投影レンズ系)PL
を備えている。
1.ステップ・モード:マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTが基本的に静止状態に維持され、放射ビームに付与されたパターン全体が目標部分Cに1回で投影される(即ち単一静止露光)。次に、基板テーブルWTがX方向及び/又はY方向にシフトされ、異なる目標部分Cが露光される。ステップ・モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一静止露光で画像化される目標部分Cのサイズが制限される。
2.走査モード:放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影されている間、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTが同期走査される(即ち単一動的露光)。マスク・テーブルMTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPSの倍率(縮小率)及び画像反転特性によって決まる。走査モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一動的露光における目標部分の幅(非走査方向の幅)が制限され、また、走査運動の長さによって目標部分の高さ(走査方向の高さ)が決まる。
3.その他のモード:プログラム可能パターニング・デバイスを保持するべくマスク・テーブルMTが基本的に静止状態に維持され、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影されている間、基板テーブルWTが移動又は走査される。このモードでは、通常、パルス放射源が使用され、走査中、基板テーブルWTが移動する毎に、或いは連続する放射パルスと放射パルスの間に、必要に応じてプログラム可能パターニング・デバイスが更新される。この動作モードは、上で参照したタイプのプログラム可能ミラー・アレイなどのプログラム可能パターニング・デバイスを利用しているマスクレス・リソグラフィに容易に適用することができる。
B 放射ビーム
BD ビーム引渡しシステム
C 基板の目標部分
CO コンデンサ
EF 露光視野
IF 位置センサ
IL 照明システム(イルミネータ)
IN、15、91、381、481、491 入口
IN インテグレータ
MA パターニング・デバイス(マスク)
MT 支持構造(マスク・テーブル)
M1、M2 マスク・アラインメント・マーク
OUT、14、81、181、391 出口
PB 投影ビーム
PL、PS 投影システム
PM 第1のポジショナ
PW 第2のポジショナ
P1、P2 基板アラインメント・マーク
SO 放射源
W 基板
WT 基板テーブル
10 リザーバ
11 液浸液(空間)
12、21 液体拘束構造
16 ガス・シール
20 液浸フード
22 シール・デバイス(シール及び抽出デバイス)
23 ガス・ナイフ
24、224 プレート
24a プレートの窓(開口)
25 総液体供給量
30 開口
50 貫通孔
80、90、180、315、325、380、390、415、480、580、590 流路
120、310 上部プレート
122 上部プレートの内側端部の下に向かって展開している部分
124a 開口の側壁
130、330、430、530 下部プレート(底部プレート)
140、440、540 リップ
224a 開口の内部周囲
281 周辺液体入口
320、420、510 中間プレート
410、520 頂部プレート
511 中間プレートの下に向かって展開している部分
512 リップが展開しているT−部分
522 頂部プレートの下に向かって展開している壁
Claims (28)
- パターニング・デバイスから基板へ、前記基板に隣接する空間に拘束された液体を介してパターンを投影するように構成されたリソグラフィ投影装置であって、前記リソグラフィ投影装置が、装置前記空間を2つの部分に分割するための、前記基板に実質的に平行の第1のプレートを備え、前記第1のプレートが、前記基板へのパターンの透過を可能にする開口、及び前記プレートの上方の液体と前記プレートの下方の液体の間の流体連絡を可能にする複数の貫通孔を有するリソグラフィ投影装置。
- 前記貫通孔が、前記プレートの下方の液体から前記プレートの上方の液体へ衝撃を伝達するように成形され、且つ/又は分布され、且つ/又は寸法決定された、請求項1に記載の装置。
- 前記第1のプレートに実質的に平行の第2のプレートを前記空間にさらに備えた、請求項1に記載の装置。
- 前記第2のプレートが、液体の流れを可能にする複数の貫通孔を有する、請求項3に記載の装置。
- 液体の流れを可能にする、前記基板に実質的に平行の流路が、前記第1のプレート中又は前記第1のプレートに隣接して存在している、請求項1に記載の装置。
- 前記流路が、前記空間の他の領域の液体中の気泡の前記開口への移動を実質的に防止し、前記プレートの下にトラップされた気泡を除去し、或いはその両方のために、前記開口中に液体の流れを生成し、且つ、前記開口に隣接する液体の流れを生成するように構成された、請求項5に記載の装置。
- 前記空間の前記他の領域が、前記第1のプレート、前記第2のプレート又はその両方と前記基板の間の領域である、請求項6に記載の装置。
- 前記流路が、前記基板に平行ではない方向に液体を導くように構成された前記空間への出口を有する、請求項5に記載の装置。
- 前記プレートの下方の液体中の気泡を前記貫通孔を介して実質的に除去するために、前記流路に低圧を印加するように構成された低圧源をさらに備えた、請求項5に記載の装置。
- 前記第1及び第2のプレートに実質的に平行の第3のプレートを前記空間に備えた、請求項3に記載の装置。
- パターニング・デバイスから基板へ、前記基板に隣接する空間に拘束された液体を介してパターンを投影するように構成されたリソグラフィ投影装置であって、前記リソグラフィ投影装置が、前記空間を2つの部分に分割するための、前記基板に実質的に平行の構造を備え、前記構造が、パターンの透過を可能にする開口、前記空間に液体を提供するための入口、及び前記空間から液体を除去するための出口を有するリソグラフィ投影装置。
- 前記入口及び出口が、前記開口を横切る液体流を促進するように構成された、請求項11に記載の装置。
- 前記入口が前記開口の周りに閉ループを形成し、前記出口が前記開口の周りに閉ループを形成し、或いは前記入口及び出口の両方が前記開口の周りに閉ループを形成している、請求項11に記載の装置。
- 前記入口が前記出口の内側に半径方向に配置された、請求項11に記載の装置。
- 前記入口が前記出口の外側に半径方向に配置された、請求項11に記載の装置。
- 前記基板からの位置が前記出口より前記入口の方が遠い、請求項11に記載の装置。
- 前記入口、前記出口又はその両方が前記基板に向かって方向付けられた、請求項11に記載の装置。
- 前記構造が、前記開口の最も狭い部分を形成しているリップを備え、前記開口の残りの部分がより広い、請求項11に記載の装置。
- パターニング・デバイスから基板へ、前記基板に隣接する空間に拘束された液体を介してパターンを投影するように構成されたリソグラフィ投影装置であって、前記リソグラフィ投影装置が、前記空間を2つの部分に分割するための、前記基板に実質的に平行の構造を備え、前記構造がパターンの透過を可能にする開口を有し、且つ、3つのプレートを備え、前記プレートの間に、入口、出口又はその両方が配置されたリソグラフィ投影装置。
- 前記入口、前記出口又はその両方が、前記開口を横切る液体流を促進するように構成された、請求項19に記載の装置。
- 前記入口が前記開口の周りに閉ループを形成し、前記出口が前記開口の周りに閉ループを形成し、或いは前記入口及び出口の両方が前記開口の周りに閉ループを形成している、請求項19に記載の装置。
- 前記入口、前記出口又はその両方が前記基板に向かって方向付けられた、請求項19に記載の装置。
- 前記構造が、前記開口の最も狭い部分を形成しているリップを備え、前記開口の残りの部分がより広い、請求項19に記載の装置。
- パターニング・デバイスから基板へ、前記基板に隣接する空間に拘束された液体を介してパターンを投影するように構成されたリソグラフィ投影装置であって、前記リソグラフィ投影装置が、前記空間を2つの部分に分割するための、前記基板に実質的に平行の構造を備え、前記構造が、パターンの透過を可能にする開口、及び前記空間に液体を提供するための入口、前記空間から液体を除去するための出口又はその両方を有し、前記入口、前記出口又はその両方が前記基板に向かって方向付けられたリソグラフィ投影装置。
- 前記構造が、前記開口の最も狭い部分を形成しているリップを備え、前記開口の残りの部分がより広い、請求項24に記載の装置。
- パターン化された放射のビームを開口及び基板に隣接する空間に提供された液体を介して前記基板に投射するステップを含むデバイス製造方法であって、前記基板に実質的に平行の第1のプレートが前記空間を2つの部分に分割し、前記第1のプレートが、前記開口及び前記プレートの上方の液体と前記プレートの下方の液体の間の流体連絡を可能にする複数の貫通孔を有する方法。
- 第2のプレートが前記空間の前記第1のプレートに実質的に平行である、請求項26に記載の方法。
- パターン化された放射のビームを開口及び基板に隣接する空間に提供された液体を介して前記基板に投射するステップを含むデバイス製造方法であって、前記基板に実質的に平行の構造が前記空間を2つの部分に分割し、前記構造が、前記開口、前記空間に液体を提供するための入口、及び前記空間から液体を除去するための出口を有する方法。
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