JP2003238492A

JP2003238492A - 液晶性ソルビン酸エステルおよびその重合体

Info

Publication number: JP2003238492A
Application number: JP2002042919A
Authority: JP
Inventors: Kazutoshi Miyazawa; 和利宮澤; Shinichi Saito; 伸一斉藤; Tatsuji Harufuji; 龍士春藤
Original assignee: Chisso Petrochemical Corp; Chisso Corp
Current assignee: JNC Corp; JNC Petrochemical Corp
Priority date: 2002-02-20
Filing date: 2002-02-20
Publication date: 2003-08-27
Anticipated expiration: 2022-02-20
Also published as: JP4016670B2

Abstract

(57)【要約】【課題】重合性かつ液晶性のソルビン酸エステル及び機
械的強度と耐熱性に優れたその重合体を提供する。【解決手段】式（１）の液晶性ソルビン酸エステル及び
その重合体。この式中のＲ^１はハロゲン、−ＣＮ、−Ｃ
≡Ｃ−ＣＮ、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＮ、−ＣＨ＝ＣＦ−Ｃ
Ｎ、−ＣＨ＝ＣＦ_２、−ＳＦ_５またはアルキルである。
Ｚ^１、Ｚ^２は単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−（ＣＨ_２）
_４−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＯ_２―、―ＯＣＯ―、―
ＣＦ_２Ｏ―、―ＯＣＦ_２―、―ＣＨ_２Ｏ―、―ＯＣＨ_２
−、−ＣＨ＝ＣＨ―、―Ｃ≡Ｃ−、−（ＣＨ_２）_２ＣＦ
_２Ｏ−または−ＯＣＦ_２（ＣＨ_２）_２−であり、Ｚ^３は
単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−である。
Ａ^１〜Ａ^３は１，４−シクロへキシレン、１，４−フェ
ニレンまたは１〜４個の水素がハロゲンで置き換えられ
た１，４−フェニレンであり、ｍ、ｎは０、１または２
であり、ｐは１〜２０の整数である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、重合性でかつ液晶
性の新規な化合物とその重合体に関する。更に、その重
合体からなる薄膜の用途に関する。なお、本発明におけ
る用語「液晶性」は、単に化合物が液晶相を示すという
意味に限定されない。この用語は、それ自体は液晶相を
示さないけれども、他の液晶化合物と混合したときに液
晶組成物の成分として使用できるような化合物にも用い
られる。

【０００２】

【従来の技術】近年、偏光板、位相差板などの光学異方
性体を製造するに当たって、重合性の液晶性化合物が利
用されている。この化合物は液晶状態において誘電率異
方性（Δε）、屈折率異方性（Δｎ）などを有するから
である。光学異方性体に必要な光学的特性は目的によっ
て異なるので、目的に合った特性を有する化合物が必要
である。この化合物は重合体に変換して成型することが
一般的である。このような目的に使用される化合物は、
前記の異方性に加えて重合に関する特性も重要である。
この特性は、重合速度、重合体の透明性、機械的強度、
塗布性などである。アクリレートは重合反応性が高く、
得られた重合体が高い透明性を有するので、このような
目的によく用いられる。アクリレートを用いた例は、特
開平７−１７９１０号、特開平８−３１１１号、特開平
９−３１６０３２号などに開示されている。しかし、こ
れらの例で用いられているアクリレートは、液晶性、そ
の他の化合物との相溶性、誘電率異方性、屈折率異方
性、機械的強度、塗布性などの特性を充分に満たすとは
言い難い。

【０００３】側鎖に種々の共役ジエングル−プを有する
ビフェニル化合物、例えば２，４−ヘキサジエノイルオ
キシ基を有するビフェニル化合物についても、塊状熱重
合または光重合の検討が行われている（Polymer, Vol.
36、No. 4、p 849, (1995)）。この報告は、一部のソル
ビン酸エステル化合物について、主にその重合挙動を明
らかにしているが、重合体の実用上の特性や有用性等に
ついては開示していないようである。またUSP 6,106,90
8は、２，４−ヘキサジエノイルオキシ基が末端の環状
基に結合している構造の液晶性化合物を開示している
が、その重合性および重合物については開示していな
い。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、広い
温度範囲の液晶相および他の化合物との優れた相溶性を
有し、さらに誘電率異方性、屈折率異方性、屈折率など
の必要な特性を有し、優れた重合性を有する液晶性化合
物を開発することであり、この化合物を含有する液晶組
成物を提供することである。更に、この液晶性化合物か
ら、透明性、機械的強度、塗布性などの特性に優れた重
合体を得て、それを表示素子の改善に利用することであ
る。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、ソルビン
酸エステル化合物について検討を進めたところ、末端に
ヒドロキシメチレン基を有する液晶性化合物のソルビン
酸エステルによって、前記の課題が解決されることを見
出し、本発明を完成するに至った。即ち、本発明は下記
の構成を有する。［１］式（１）で表される液晶性ソルビン酸エステル。（式中、Ｒ^１はハロゲン、−ＣＮ、−Ｃ≡Ｃ−ＣＮ、−
ＣＨ＝ＣＨ−ＣＮ、−ＣＨ＝ＣＦ−ＣＮ、−ＣＨ＝ＣＦ
_２、−ＳＦ_５、または炭素数１〜２０のアルキルであ
り、このアルキル中の任意の−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−
Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、―Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−Ｏ
ＣＯ−、または−ＣＯ−で置き換えられてもよく、また
このアルキル中の任意の水素はハロゲンで置き換えられ
てもよく；Ｚ ^１およびＺ^２はそれぞれ独立して、単結
合、―ＣＨ_２Ｏ―、―ＯＣＨ_２−、―ＣＦ_２Ｏ―、―Ｏ
ＣＦ_２―、−ＣＯ_２―、―ＯＣＯ―、−ＣＨ_２ＣＨ
_２−、−ＣＦ _２ＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ―、―Ｃ≡Ｃ
−、−（ＣＨ_２）_２ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２（ＣＨ_２）
_２−、または−（ＣＨ_２）_４−であり；Ｚ^３は単結合、
−Ｏ−、−ＣＯＯ−、または−ＯＣＯ−であり；Ａ^１、
Ａ^２およびＡ^３はそれぞれ独立して、１，４−シクロヘ
キシレン、任意の水素がフッ素で置き換えられた１，４
−シクロヘキシレン、シクロヘキセン−１，４−ジイ
ル、１，４−フェニレン、任意の水素がハロゲンで置き
換えられた１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジ
イル、ピリダジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，
５−ジイル、ジオキサン−２，５−ジイル、フルオレン
−２，７−ジイル、またはナフチレンであり；ｍおよび
ｎはそれぞれ独立して０、１または２であり；ｐは１〜
２０の整数である。但し、ｍが０、ｎが１、Ａ^２および
Ａ^３が１，４−フェニレン、Ｚ^３が−Ｏ−である場合に
は、Ｒ^１は−ＣＮではない。）［２］式（１）においてＺ^３が単結合である、［１］に
記載の液晶性ソルビン酸エステル。［３］式（１）においてＺ^３が−Ｏ−である、［１］に
記載の液晶性ソルビン酸エステル。［４］［１］に記載の式（１）においてｐが３〜６の整
数である、［２］に記載の液晶性ソルビン酸エステル。［５］［１］に記載の式（１）においてｐが３〜６の整
数である、［３］に記載の液晶性ソルビン酸エステル。［６］［１］に記載の式（１）で表される液晶性ソルビ
ン酸エステルの少なくとも１個と、重合性でない他の液
晶性化合物を含む液晶組成物。［７］［１］に記載の式（１）で表される液晶性ソルビ
ン酸エステルの少なくとも１個を含み、これと共重合可
能な化合物を含んでもよい組成物であって、組成物全量
に対する式（１）で表される液晶性ソルビン酸エステル
の割合が１〜１００モル％である重合性組成物。［８］［７］に記載の重合性組成物を重合して得られる
重合体。［９］式（２）および式（３）のそれぞれで表される繰
り返し単位を含み、式（２）で表される繰り返し単位の
個数と式（３）で表される繰り返し単位の個数の合計に
対する、式（２）で表される繰り返し単位の個数の比率
が０〜１である、［８］に記載の重合体。（これらの式中のＲ^１、Ａ^１〜Ａ^３、Ｚ^１〜Ｚ^３、ｍ、
ｎおよびｐの意味は、［１］に記載の式（１）における
場合と同じである。）［１０］［７］に記載の重合性組成物を重合させ、得ら
れた重合物に対して水素添加反応を行うことを特徴とす
る、［９］に記載の重合体の製造方法。［１１］重量平均分子量が４００〜９００，０００であ
る、［９］に記載の重合体。［１２］［９］に記載の重合体からなり、厚さが１００
０μｍ以下である薄膜。［１３］［１２］に記載の薄膜からなる光学異方性体。［１４］［１２］に記載の薄膜からなる液晶配向膜。［１５］位相差板としての機能を有する、［１３］に記
載の光学異方性体。［１６］偏光板としての機能を有する、［１３］に記載
の光学異方性体。［１７］［１４］に記載の液晶配向膜、［１５］に記載
の光学異方性体、および［１６］に記載の光学異方性体
のうちの少なくとも１種を有する表示素子。

【０００６】

【発明の実施の形態】本発明の液晶性ソルビン酸エステ
ルは、式（１）で表される。この式中の鎖状共役二重結
合は、トランス−トランス型の立体構造であることが好
ましい。しかしながら、これ以外の幾何異性体であって
もよい。以下の説明では、本発明の式（１）で表される
液晶性ソルビン酸エステルを、化合物（１）で表記する
ことがある。化合物（１）は、ｍおよびｎの値に応じて１〜５個の環
を有することができるが、２〜４環の化合物であること
が好ましい。ｐは１〜２０の整数であるが、好ましくは
３〜６である。

【０００７】Ｒ^１はハロゲン、−ＣＮ、−Ｃ≡Ｃ−Ｃ
Ｎ、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＮ、−ＣＨ＝ＣＦ−ＣＮ、−ＣＨ
＝ＣＦ_２、−ＳＦ_５、または炭素数１〜２０のアルキル
である。このアルキル中の任意の−ＣＨ_２−は、−Ｏ
−、−Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、―Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ
−、−ＯＣＯ−、または−ＣＯ−で置き換えられてもよ
い。本明細書において、化学式中の特定の基を示すのに
用いる「任意の」は、その基の位置だけでなく、個数に
ついても任意であることを示す。従って、このアルキル
中の複数の−ＣＨ_２−が、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ＝Ｃ
Ｈ−、―Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、および−
ＣＯ−から選ばれる２種以上の基で置き換えられてもよ
い。しかしながら、連続している複数の−ＣＨ_２−が、
これらの基で置き換えられることはない。また、このア
ルキル中の任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよ
い。ハロゲンとしては、塩素およびフッ素を挙げること
ができ、フッ素が好ましい。

【０００８】上記の基のうちで、Ｒ^１として好ましい基
は、直鎖アルキル、直鎖アルコキシ、直鎖のアルコキシ
アルキル、およびこれらの基の任意の水素がフッ素で置
き換えられた基である。Ｒ^１の具体例の一部として、メ
チル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシ
ル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、メトキシ、
エトキシ、プロピルオキシ、ブチルオキシ、ペンチルオ
キシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキ
シ、ノニルオキシ、デシルオキシ、メトキシメチル、メ
トキシエチル、およびれらの基の任意の水素がフッ素で
置き換えられた基を挙げることができる。

【０００９】式（１）中のＡ^１、Ａ^２およびＡ^３はそれ
ぞれ独立して、１，４−シクロヘキシレン、任意の水素
がフッ素で置き換えられた１，４−シクロヘキシレン、
シクロヘキセン−１，４−ジイル、１，４−フェニレ
ン、任意の水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フ
ェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、ピリダジン−
２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、ジオキ
サン−２，５−ジイル、フルオレン−２，７−ジイル、
またはナフチレンである。Ａ^１〜Ａ^３の好ましい例を次
に示す。

【００１０】

【００１１】式（１）中のＺ^１およびＺ^２はそれぞれ独
立して、単結合、―ＣＨ_２Ｏ―、―ＯＣＨ_２−、―ＣＦ
_２Ｏ―、―ＯＣＦ_２―、−ＣＯ_２―、―ＯＣＯ―、−Ｃ
Ｈ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ―、―
Ｃ≡Ｃ−、−（ＣＨ_２）_２ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２（Ｃ
Ｈ_２）_２−、または−（ＣＨ_２）_４−である。Ｚ^３は単
結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、または−ＯＣＯ−である。
Ｚ^１およびＺ^２としては単結合、−ＣＯ_２―、−ＯＣＯ
−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、および−Ｃ≡Ｃ−が
好ましく、Ｚ^３としては単結合および−Ｏ−が好まし
い。これらの好ましい結合基を有する化合物は、比較的
低い粘性を示す。

【００１２】化合物（１）の具体例を次に示す。これら
の化合物におけるＲ^１、Ｚ^１〜Ｚ^３およびｐの意味は、
前記の通りである。

【００１３】

【００１４】

【００１５】

【００１６】

【００１７】

【００１８】

【００１９】

【００２０】化合物（１）は、以下の反応式によって製
造することができる。すなわち、末端にヒドロキシメチ
レン基を有する液晶性化合物（４）とソルビン酸とを脱
水縮合させる方法である。化合物（４）は、公知の文
献、例えばOrganic Reactions、Organic Synthese、Hou
ben-Wyle、Handbook of Liquid Crystals等に記載され
ている一般的な有機合成化学的方法を組み合わせること
により、容易に製造することができる。この方法によって製造される化合物（１）の具体例の一
部を以下に示す。

【００２１】

【００２２】

【００２３】

【００２４】

【００２５】

【００２６】

【００２７】化合物（１）は、主な特徴として良好な重
合性と良好な液晶性を有している。特に、液晶相の温度
範囲が広く、他の液晶性化合物との相溶性が良好であ
る。従って、化合物（１）の少なくとも１個と重合性で
ない液晶性化合物とを含有する液晶組成物は、表示素子
に用いることができる。特にネマチック液晶組成物とし
て用いることが好ましい。重合性でない液晶性化合物と
しては、それを加えた組成物が目的とする特性を示す範
囲内であれば、どのような化合物を用いてもよいし、そ
の含有割合についても制限されない。この液晶組成物
は、光学活性化合物や二色性色素などの添加物を含むこ
ともできる。本発明のもう一つの組成物は、化合物
（１）の少なくとも１個を含み、これと共重合可能な化
合物を含んでもよい重合性組成物である。この重合性組
成物に含まれる化合物（１）の割合は、組成物全量に対
して１〜１００モル％である。そして、この重合性組成
物は、液晶相を示す組成物であることが好ましい。この
重合性組成物には、重合反応を行うに際し、必要に応じ
て溶媒や触媒を加えることができる。

【００２８】化合物（１）と共重合可能な化合物の選択
条件は、化合物（１）との共重合によって得られる共重
合体に、皮膜形成性と機械的強度を付与することができ
ることのみであり、他に制限はない。化合物（１）と共
重合可能な化合物は、液晶性を示さない重合性化合物
と、重合性官能基を有する液晶性化合物とに分けること
ができる。以下の説明では、化合物（１）と共重合可能
な化合物のうち、液晶性を示さない重合性化合物を非液
晶性モノマーと表記し、重合性官能基を有する液晶性化
合物を他の液晶性モノマーと表記する。

【００２９】非液晶性モノマーとしては、ソルビン酸誘
導体、ビニル誘導体、スチレン誘導体、（メタ）アクリ
ル酸誘導体、フマル酸誘導体、およびイタコン酸誘導体
などがある。ソルビン酸誘導体としては、ソルビン酸ナ
トリウム、ソルビン酸カリウム、ソルビン酸リチウム、
ソルビン酸１−ナフチルメチルアンモニウム、ソルビン
酸ベンジルアンモニウム、ソルビン酸ドデシルアンモニ
ウム、ソルビン酸オクタデシルアンモニウム、ソルビン
酸メチル、ソルビン酸エチル、ソルビン酸プロピル、ソ
ルビン酸イソプロピル、ソルビン酸ブチル、ソルビン酸
ｔ−ブチル、ソルビン酸ヘキシル、ソルビン酸オクチ
ル、ソルビン酸オクタデシル、ソルビン酸シクロペンチ
ル、ソルビン酸シクロヘキシル、ソルビン酸ビニル、ソ
ルビン酸アリル、およびソルビン酸プロパギルなどが好
ましい。

【００３０】ビニル誘導体としては、塩化ビニル、フッ
化ビニル、酢酸ビニル、ピバリン酸ビニル、２，２−ジ
メチルブタン酸ビニル、２，２−ジメチルペンタン酸ビ
ニル、２−メチル−２−ブタン酸ビニル、プロピオン酸
ビニル、ステアリン酸ビニル、２−エチル−２−メチル
ブタン酸ビニル、Ｎ−ビニルアセトアミド、ｐ−ｔ−ブ
チル安息香酸ビニル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸
ビニル、安息香酸ビニル、エチルビニルエーテル、ヒド
ロキシブチルモノビニルエーテル、ｔ−アミルビニルエ
ーテル、シクロヘキサンジメタノールメチルビニルエー
テル、α、β−ビニルナフタレン、メチルビニルケト
ン、およびイソブチルビニルケトンなどが好ましい。ス
チレン誘導体としては、スチレン、ｏ−クロロスチレ
ン、ｍ−クロロスチレン、ｐ−クロロスチレン、ｏ−ク
ロロメチルスチレン、ｍ−クロロメチルスチレン、ｐ−
クロロメチルスチレン、およびα−メチルスチレンなど
が好ましい。

【００３１】（メタ）アクリル酸誘導体としては、メチ
ル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレー
ト、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル
（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレー
ト、１，４ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘ
キサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオー
ルジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、ジプロ
ピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリ
コールジアクリレート、テトラエチレングリコールジア
クリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、トリメチロールＥＯ付加トリアクリレート、ペンタ
エリストールトリアクリレート、トリスアクリロイルオ
キシエチルフォスフェート、ビスフェノールＡＥＯ付
加ジアクリレート、ビスフェノールＡグリジジルジアク
リレート（商品名：大阪有機化学株式会社製ビスコー
ト７００）、およびポリエチレングリコールジアクリレ
ートジメチルイタコネートなどが好ましい。

【００３２】イタコン酸誘導体としては、ジエチルイタ
コネート、ジブチルイタコネート、およびジイソプロピ
ルイタコネートなどが好ましい。フマル酸誘導体として
は、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジ
イソプロピル、フマル酸ジブチル、フマル酸ジシクロペ
ンチル、およびフマル酸ジシクロヘキシルなどが好まし
い。この他、ブタジエンやイソプレンなどを用いること
もできる。なお、上記の（メタ）アクリル酸はアクリル
酸とメタクリル酸の両方を示す総称であり、（メタ）ア
クリレートはアクリレートとメタクリレートの総称であ
る。本発明に用いる非液晶性モノマーは、上記の例によ
って制限されない。

【００３３】他の液晶性モノマーとしては、アクリル酸
誘導体およびフマル酸誘導体が特に好ましい。このよう
なアクリル酸誘導体およびフマル酸誘導体として以下の
ものを示すことができる。

【００３４】本発明の重合体は、前記の重合性組成物に
必要に応じて触媒や溶剤を加えて重合させることによっ
て得られる。この重合体は、化合物（１）の重合体また
は共重合体であるため、式（２）で表される繰り返し単
位を有する。以下の説明では、式（２）で表される繰り
返し単位を繰り返し単位（２）で表記する。（この式中のＲ^１、Ａ^１〜Ａ^３、Ｚ^１〜Ｚ^３、ｍ、ｎお
よびｐの意味は、前記の通りである。）また、この重合体の重量平均分子量は、４００〜９０
０，０００であることが好ましい。

【００３５】この重合体中の全繰り返し単位の個数に対
する繰り返し単位（２）の個数の割合は、原料である重
合性組成物中の化合物（１）の割合に応じて、０．０１
〜１である。即ち、化合物（１）の単独重合体か、また
は化合物（１）とこれと共重合可能な化合物との共重合
体である。化合物（１）と共重合可能な化合物には、前
記のように非液晶性モノマーおよび他の液晶性モノマー
があり、これらは混合して用いてもよい。ただ、化合物
（１）と共重合可能な化合物として、非液晶性モノマー
のみを用いたり、非液晶性モノマーの割合が多い場合に
は、得られる重合体の液晶性が損なわれないように配慮
する必要がある。共重合体は、ランダム共重合体、交互
共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体のいず
れであってもよい。

【００３６】本発明の重合性組成物を重合するときは、
用途に最適な方法を公知の方法から選択して採用するこ
とができる。例えば、位相差板、偏光板などに使用する
光学異方性体を製造するには、通常では熱重合法を用い
るが、液晶相を保持した状態で敏速に重合させることが
必要な場合には、紫外線または電子線等のエネルギーを
照射して、光ラジカル重合させてもよい。その際、重合
性組成物に光ラジカル重合開始剤、および必要に応じて
溶剤を加えて、重合原料組成物を調製する。

【００３７】光ラジカル重合開始剤として、２−ヒドロ
キシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン
（商品名：ダロキュアー１１７３）、１−ヒドロキシシ
クロヘキシルフェニルケトン（商品名：イルガキュアー
１８４）、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエ
タン−１−オン（商品名：イルガキュアー６５１）、イ
ルガキュアー５００、イルガキュアー２９５９、イルガ
キュアー９０７、イルガキュアー３６９、イルガキュア
ー１３００、イルガキュアー８１９、イルガキュアー１
７００、イルガキュアー１８００、イルガキュアー１８
５０、ダロキュアー４２６５、イルガキュアー７８４、
ｐ−メトキシフェニル−２，４−ビス（トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ブトキシスチリル）
−５−トリクロロメチル１，３，４−オキサジアゾー
ル、９−フェニルアクリジン、１−（４−イソプロピル
フェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１
−オン、ベンジルジメチルケタール、２−メチル−１−
［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロ
パン−１、および２，４−ジエチルキサントン／ｐ−ジ
メチルアミノ安息香酸メチル混合物などが挙げられる。

【００３８】重合反応の際に用いる溶剤としては、重合
反応を妨げず、沸点があまり高くないものであれば、ど
のような有機溶剤も使用できる。好ましい溶剤は、アニ
ソール、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチルイソ
ブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノ
ン、シクロペンタノン、２−ペンタノン、３−ペンタノ
ン、２−ヘキサノン、３−ヘキサノン、２−ヘプタノ
ン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、２，６−ジメチ
ル−４−ヘプタノン、ｎ−ブタノール、２−ブタノー
ル、シクロヘキサノール、イソプロピルアルコール、メ
チルセルソルブ、酢酸メチルセルソルブ、酢酸エチル、
酢酸ブチル、および酢酸メチル等である。

【００３９】本発明の重合体を熱重合法により製造する
場合には、前記の重合性組成物に必要に応じて溶剤とラ
ジカル重合開始剤を加え、０〜２００℃の反応温度で１
〜１００時間程度反応させる。溶剤としては上記の有機
溶剤を使用することができる。重合開始剤としては、過
酸化ベンゾイル、ジイソプロピルパーオキシジカーボネ
ート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエー
ト、ｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔ−ブチルパー
オキシジイソブチレート、ジ−ｔ−ブチルパーオキシド
（ＤＴＢＰＯ）、過酸化ラウロイル、２，２′−アゾビ
スイソ酪酸ジメチル（ＭＡＩＢ）、アゾビスイソブチロ
ニトリル（ＡＩＢＮ）またはアゾビスシクロヘキサンカ
ルボニトリル（ＡＣＮ）等を挙げることができる。

【００４０】本発明の重合体は、これを薄膜にすること
により各種の保護膜として使用することができる。ま
た、光学異方性体や液晶配向膜として使用することがで
きる。この光学異方性体は、位相差板や偏光板として使
用することができる。なお、この薄膜の厚みについては
特に制限はなく、厚みが約１０００μｍの膜として使用
することも可能である。液晶配向膜とする場合は、偏光
を用いることによりラビングを必要としない液晶配向膜
にすることもできる。光学異方性体は、単独で位相差板
として使用することができるし、他の位相差板と組み合
わせることにより偏光板、円偏光板、楕円偏光板、色補
償板、および視野角補償板などへの応用も可能である。

【００４１】繰り返し単位（２）中の脂肪族不飽和結合
は、重合体に対して水素添加反応を行うことによって、
飽和結合に変換することができる。水素添加反応は、熱
重合法によって得られた重合体溶液に水素添加触媒を添
加し、水素雰囲気下で一定時間攪拌することで行うこと
ができる。このとき、加圧下で反応を行うことが好まし
い。水素添加触媒としては、一般的に知られている接触
型触媒が使用できるが、パラジウム炭素、酸化白金、お
よびラネ−ニッケル等が好ましい。このときの水素添加
の割合を調節することにより、前記の繰り返し単位
（２）と下記の式（３）で表される繰り返し単位とを含
む重合体が得られる。以下の説明では、式（３）で表さ
れる繰り返し単位を、繰り返し単位（３）で表記する。（この式中のＲ^１、Ａ^１〜Ａ^３、Ｚ^１〜Ｚ^３、ｍ、ｎお
よびｐの意味は、前記の通りである。）

【００４２】水素添加反応を完全に遂行すれば、化合物
（１）に由来する繰り返し単位のすべてが、繰り返し単
位（３）である重合体が得られる。即ち、前記の重合性
組成物から得られる本発明の重合体は、繰り返し単位
（２）の個数と繰り返し単位（３）の個数の合計に対す
る、繰り返し単位（２）の個数の比率が０〜１である重
合体である。この比率は、重合性組成物の重合後に水素
添加反応を行わない場合は１であり、水素添加反応を完
全に行った場合は０となる。繰り返し単位（２）のみを
含む重合体は、比較的大きな屈折率を示し、繰り返し単
位（３）のみを含む重合体は、比較的小さな屈折率を示
す。従って、水素添加の度合いを調整することによっ
て、屈折率の値を目的に応じて最適化することができ
る。また、重合体中の繰り返し単位（２）の個数と繰り
返し単位（３）の個数の比率は、水素添加反応を行わな
い重合体と水素添加反応を完全に行った重合体とを混合
することによって調整してもよい。

【００４３】本発明の重合体を配向膜として利用するに
は、熱重合法により得られる重合体を用いることが好ま
しい。熱重合法により得られた重合体の溶液を、スピン
コート法、ラングミュアー・ブロージェット法、または
印刷法などを用いて透明基板に塗布し、加熱・乾燥して
配向膜を形成させる。熱重合法により得られる重合体
は、繰り返し単位（２）のみを有する重合体、この重合
体を更に水素添加して得られた、繰り返し単位（２）と
繰り返し単位（３）とを有する重合体、および繰り返し
単位（３）のみを有する重合体のうちから、目的に応じ
て選択すればよい。液晶の配向制御のためには、配向膜
の膜厚は１〜１００ｎｍであることが好ましい。なお、
偏光を用いてラビングを必要としない配向膜とするとき
は、光ラジカル重合法が好ましい。

【００４４】光学異方性体を製造するには、配向処理し
たガラス板を用いて作成したセルに、前記の重合性組成
物にラジカル重合開始剤を加えた熱重合用の原料組成物
を注入して配向状態とした後、熱重合させる。熱重合用
の原料組成物の代わりに、光重合開始剤を加えた光重合
用の原料組成物を注入して配向状態とした後、紫外線に
より重合（紫外線硬化）させてもよい。配向処理したト
リアセチルセルロースの薄膜に重合原料組成物を塗布し
て配向させ、紫外線硬化させてもよい。後者の方法の場
合は、塗布時のレベリング性や配向性を調整するため
に、前記の有機溶剤を加えた重合原料組成物を用い、塗
布した後溶剤を除去して紫外線硬化することもできる。

【００４５】塗布に際し均一な膜厚を得る方法として
は、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、ワ
イヤーバーコード法、デップコート法、スプレーコート
法またはメニスカスコート法等を挙げることができる。
光学異方性体の厚さは、所望する位相差値や光学異方性
体の複屈折率により一様でないが、好ましくは０．０５
〜５０μｍ、より好ましくは０．１〜２０μｍ、さらに
好ましくは０．５〜１０μｍ程度である。光学異方性体
はヘイズ値が１．５％以下、透過率で８０％以上である
ことが好ましく、より好ましくはヘイズ値が１．０％以
下、透過率で８５％以上である。この透過率は可視光領
域でこれらの条件を満たすことが好ましい。ヘイズ値が
上記以上では偏光性能に問題を生じる可能性があり、ま
た上記以下の透過率では、例えば液晶表示素子の明るさ
を損失させる可能性がある。

【００４６】式（１）の化合物は、強誘電性液晶または
反強誘電性液晶と混合して重合させることにより、高分
子安定化された強誘電性液晶複合体または反強誘電性液
晶複合体とすることができる。この場合の表示素子自体
の具体的な構築方法は、文献（J. of Photopoly. Sci.
Technol., 2000, 13(2), 295-300）等で公知である。

【００４７】

【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明す
る。化合物の構造は核磁気共鳴スペクトル、質量スペク
トルなどで同定した。核磁気共鳴スペクトルにおいて、
ｄはダブレット、ｄｄはダブル・ダブレット、ｔはトリ
プレット、ｍはマルチプレット、quintはクインテット
を示す。相転移温度の単位は℃であり、Ｃは結晶、Ｎは
ネマチック相、ＳｍＡはスメクチックＡ相、ＳｍＸは未
同定のスメクチック相、Ｉは等方性液体、Ｔｇはガラス
転移温度、Ｔｍは重合体の融点を示す。重量平均分子量
と数平均分子量の測定には、島津製作所製の島津ＬＣ−
９Ａ型ゲル浸透クロマトグラフ、昭和電工製のカラムＳ
ｈｏｄｅｘＧＦ−７ＭＨＱ（展開溶媒はＤＭＦ）を
用いた。鉛筆硬度はＪＩＳ規格「ＪＩＳ−Ｋ−５４００
８．４鉛筆引掻試験」の方法に従って求めた。なお、
割合を示す％は、すべて重量％を意味する。

【００４８】実施例１＜化合物（１−５７）の製造＞（第１段）４−（４−プロピルシクロヘキシル）安息香
酸（２．５８ｇ、１０．４７ｍｍｏｌ）、４−（３−テ
トラヒドロピラニルオキシ）フェノール（２．５２ｇ、
９．９８ｍｍｏｌ）、ジシクロヘキシルカルボジイミド
（２．２７ｇ、１１ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピ
リジン（１３４ｍｇ、１．１０ｍｍｏｌ）、および塩化
メチレン（４０ｍＬ）の混合物を室温で３時間攪拌し
た。析出した白色の固体を濾別し、得られた濾液を濃縮
した。残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル：
３００ｍＬ、溶出液：トルエン／酢酸エチル（９／
１）、Ｒ_ｆ：０．５８）で精製して、４−（３−テトラ
ヒドロピラニルオキシプロピルオキシ）フェニル４−
（４−プロピルシクロヘキシル）ベンゾアートを得た
（収量３．４２ｇ、収率７１％、無色結晶）。

【００４９】（第２段）第１段で得られた化合物（３．
２０ｇ）、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジン錯体（０．
５３ｇ）、メタノール（１００ｍＬ）の混合物を５５℃
で５時間攪拌した。室温に戻したのち、反応混合物を減
圧下で濃縮し、残渣をカラムクロマトグラフィー（シリ
カゲル：５００ｍＬ、溶出液：トルエン／酢酸エチル
（１／１）、Ｒ_ｆ：０．４６）で精製して、４−（３−
ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル４−（４−プロ
ピルシクロヘキシル）ベンゾアートを得た（収量２．６
０ｇ、収率９９％、無色結晶）。¹ H NMR (500 MHz) d (ppm): 0.93 (t, J = 7.3 Hz, 3
H), 1.06-1.13 (m, 2 H),1.23-1.31 (m, 2 H), 1.34-1.
42 (m, 3 H), 1.47-1.55 (m, 2 H), 1.90-1.95 (m, 4
H), 2.08 (quint, J = 6.0 Hz, 2 H), 2.55-2.61 (m, 1
H), 3.90 (t, J =5.8 Hz, 2 H), 4.16 (t, J = 5.8 H
z, 2 H), 6.96 (d, J = 9.0 Hz, 2 H), 7.12 (d, J =
9.0 Hz, 2 H), 7.36 (d, J = 8.3 Hz, 2 H), 8.13 (d,
J = 8.3 Hz,2 H).

【００５０】（第３段）第２段で得られた化合物（５０
０ｍｇ、１．２７ｍｍｏｌ）、ソルビン酸（１４２ｍ
ｇ、１．２７ｍｍｏｌ）、ジシクロヘキシルカルボジイ
ミド（２６２ｍｇ、１．２７ｍｍｏｌ）、４−ジメチル
アミノピリジン（１５．５ｍｇ、０．１２７ｍｍｏ
ｌ）、塩化メチレン（１５ｍＬ）の混合物を室温で３時
間攪拌した。反応混合物から減圧下で溶媒を除去し、残
渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル：１００ｍ
Ｌ、溶出液：トルエン／酢酸エチル（９／１）、Ｒ_ｆ：
０．７８）で精製して、目的化合物を得た（収量４８５
ｍｇ、収率７８％、無色結晶）。相転移温度：Ｃ１３３．８Ｎ１８８．８Ｉ．¹ H NMR (500 MHz) d (ppm): 0.93 (t, J = 7.4 Hz, 3
H), 1.05-1.08 (m, 2 H),1.20-1.27 (m, 2 H), 1.31-1.
40 (m, 3 H), 1.42-1.50 (m, 2 H), 1.88 (d, J= 5.8 H
z, 3 H), 1.90-1.96 (m, 4 H), 2.16-2.20 (m, 2 H),
2.55-2.61 (m, 1H), 4.09 (t, J = 6.0 Hz, 2 H), 4.37
(t, J = 6.2 Hz, 2 H), 5.80 (d, J = 15.4 Hz, 1 H),
6.13-6.25 (m, 2 H), 6.95 (d, J = 9.0 Hz, 2 H), 7.
12 (d, J= 9.0 Hz, 2 H), 7.28 (dd, J = 15.4, 10.2 H
z, 1 H), 7.36 (d, J = 8.3 Hz,2 H), 8.13 (d, J = 8.
3 Hz, 2 H).

【００５１】実施例２＜化合物（１−９）の製造＞（第１段）４−（４−プロピルシクロヘキシル）フェノ
ール（３０ｇ、０．１３７ｍｏｌ）、６−ブロモヘキサ
ノール（２７ｇ、０．１５ｍｏｌ）、炭酸カリウム（４
０ｇ、０．３３ｍｏｌ）をジメチルホルムアミド（３０
０ｍＬ）に加え、９０℃で３時間攪拌した。３Ｎの塩酸
（１Ｌ）に反応混合物を注ぎ、析出した無色結晶を濾過
により分離した。結晶を水でよく洗浄した後、乾燥して
（６−ヒドロキシヘキシルオキシ）−４−（４−プロピ
ルシクロヘキシル）ベンゼンを得た（収量３５ｇ、収率
８０％）。相転移温度：Ｃ６１ＳｍＸ６９Ｉ．

【００５２】（第２段）第１段の工程で得られた化合物
（３．７６ｇ、１１．８ｍｍｏｌ）、ソルビン酸（１．
３１ｇ、１１．７ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（１００ｍ
Ｌ）に溶かし５℃まで冷やし、そこへジメチルアミノピ
リジン（０．０５ｇ）、１−エチル−３−（３−ジメチ
ルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（２．４７
ｇ）を加え室温で１２時間攪拌した。得られた反応混合
物に水（５０ｍＬ）を加え、分液した有機層を無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して得られた残査
をクロマトグラフィー（シリカゲル）で精製し、エタノ
ールから再結晶して、ソルビン酸６−[４−（４−プ
ロピルシクロヘキシル）フェニルオキシ]ヘキシルエ
ステルを得た（収量２ｇ、収率４１％、無色結晶）。こ
の化合物の融点は５８℃であった。¹ H-NMR(CDCl₃, 90MHz):δ(ppm);0.89(t, 6H), 1.1―2.0
(m, 21H), 3.93(t, J=6.3Hz, 2H), 4.14(t, J=6.3Hz, 2
H), 4.69(m, 1H), 5.74(d, J=14Hz, 1H), 6.13(m, 2H),
7.23(m, 1H), 6.80(d, J=9.0Hz, 2H), 7.11(d, J=9.0H
z, 2H)

【００５３】実施例３＜液晶性ソルビン酸エステル重合体の製造＞実施例１で
製造した化合物（１−５７）（０．４６ｇ）、およびジ
ｔ−ブチルパーオキシド（０．０１４ｇ）をアンプルに
とり、−６０℃に冷却して真空ポンプで十分脱気を行っ
た後、封管した。このアンプルを１４０℃で５時間加熱
した。反応混合物をテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に
溶解し、メタノール（２００ｍＬ）に注いで沈殿物を得
た。この操作を３回行った後、メタノールで十分洗浄
し、減圧下で乾燥させ０．４ｇの重合体を得た（収率８
７％）。この重合体をＰ１とする。相転移温度：Ｔｇ３０．７Ｔｍ１００Ｎ２２
９．８Ｉ．屈折率：１．４５２重量平均分子量（Ｍ_Ｗ）：１５，０００多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）：１．４２

【００５４】実施例４実施例３で製造したＰ１（０．５ｇ）をＮＭＰ（Ｎ−メ
チルピロリドン、１０ｍＬ）に溶解し、十分に洗浄した
２枚のガラス板上に塗布し、スピンコート法により均一
な厚さにした。これらのガラス板を１５０℃で３０分加
熱し、溶媒を除去して薄膜を形成させた。得られたガラ
ス板の薄膜面を、ラビング布を装着したローラーで一方
向にこすり、配向処理した。配向膜のラビング方向が１
８０度となるように２枚のガラス板を組み合わせ、セル
間隔が１０μｍの空のセルを製造した。このセルに、メ
ルクＡＧ製の液晶組成物ＺＬＩ−１１３２を、毛細管現
象を利用して室温で注入し、液晶セルを製造した。セル
中の液晶が良好なホモジニアス配向していることを、偏
光顕微鏡により確認した。

【００５５】実施例５前記の化合物（１−５７）を用いて、以下の組成を持つ
重合性組成物を調製した。

【００５６】ラビング処理を施したポリイミド配向膜を
有する２枚のガラス板を、配向膜のラビング方向が１８
０度となるように対向させ、セル間隔が５μｍのガラス
セルを作成した。このセルに、上記組成物（１００ｍ
ｇ）に前記のラジカル重合開始剤ＤＴＢＰＯ（１５ｍ
ｇ）を加えた重合原料組成物を注入し、１２０℃で１時
間加熱した。セルを室温に戻し、ガラスを剥離して光学
異方性フィルムを得た。このフィルムを偏光顕微鏡によ
り観察したところ、良好なホモジニアス配向であり、配
向状態にムラがなかった。鉛筆硬度試験の結果は３Ｈで
あり、十分な機械的強度を有していた。

【００５７】実施例６前記の化合物（１−５７）を用いて、以下の重合性組成
物を調製した。

【００５８】この組成物（１００ｍｇ）に、ＤＴＢＰＯ
（１５ｍｇ）を加えた重合原料組成物を、実施例５で用
いたものと同様のセルに注入した。良好なツイステッド
ネマチック配向であることを、偏光顕微鏡観察により確
認した。このセルを１２０℃において１時間熱した。そ
の後セルを室温に戻し、ガラスを剥離して位相差フィル
ムを得た。このフィルムを偏光顕微鏡により観察したと
ころ、ツイステッドネマチック配向が均一に固定されて
おり、配向状態にムラがなかった。鉛筆硬度試験の結果
は３Ｈであり、十分な機械的強度を有していた。

【００５９】実施例７実施例３で製造したＰ１（０．５ｇ）、塩化メチレン
（１０ｍＬ）、５％パラジウム炭素（１．０ｇ）の混合
物を、圧力５０７ｋＰａの水素雰囲気下で、２０時間攪
拌した。触媒を除去した後、溶媒を除去し水素添加され
た重合体０．４９ｇを得た。この重合体について^１Ｈ−
ＮＭＲにより分析した結果、Ｐ１において観察された
６．２８ｐｐｍ（ポリマー主鎖の二重結合に由来する）
におけるシグナルが完全に消失していることを確認し
た。また、ＩＲによる分析結果でも、Ｐ１において観察
された１６４０ｃｍ^−１のシグナル（Ｃ＝Ｃ伸縮振動）
が完全に消失していることを確認した。即ち、この重合
体の繰り返し単位は下記の式で表される。また、この重
合体はＰ１に比べて屈折率が小さかった。屈折率：１．４３１重量平均分子量（Ｍ_Ｗ）：１５，５００多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）：１．４６

【００６０】

【発明の効果】本発明の液晶性ソルビン酸エステルは、
従来の液晶性モノマーよりも格段に重合反応性が高く、
高分子量の重合体が高収率で得られる。この液晶性ソル
ビン酸エステルを液晶状態で重合することにより、均一
でムラがなく機械的強度と耐熱性に優れた光学異方性薄
膜が得られる。本発明の重合体は、液晶表示素子の位相
差板、配向膜、偏光板の材料として有用である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｃ０８Ｊ 5/18 ＣＥＲＣ０８Ｊ 5/18 ＣＥＲＧ０２Ｆ 1/13 ５００Ｇ０２Ｆ 1/13 ５００ 1/1335 ５１０ 1/1335 ５１０ 1/13363 1/13363 1/1337 1/1337 // Ｃ０８Ｌ 47:00 Ｃ０８Ｌ 47:00 (72)発明者春藤龍士千葉県市原市五井海岸５番地の１チッソ石油化学株式会社機能材料研究所内Ｆターム(参考） 2H090 HB07Y HC05 HC13 KA14 KA15 LA06 LA09 2H091 FA08 FA11 FB02 FC12 FC23 HA12 LA12 4F071 AA12 AA78 AF35 AH12 BB02 BB10 BC01 BC12 4H006 AA01 AA03 AB64 BJ20 BJ50 BP30 KC14 KC30 4J100 AB02Q AB07Q AC03Q AC23Q AE04Q AG02Q AG04Q AJ08Q AL03Q AL36Q AS06P AS09P BA02P BA10P BA16Q BA20P BA40P BB07P BB12P BC04P BC43P BC44P BC49P BC58P BC69P BC73P CA01 CA04 CA31 DA66 HA04 HB02 HD22 JA39

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】式（１）で表される液晶性ソルビン酸エス
テル。（式中、Ｒ^１はハロゲン、−ＣＮ、−Ｃ≡Ｃ−ＣＮ、−
ＣＨ＝ＣＨ−ＣＮ、−ＣＨ＝ＣＦ−ＣＮ、−ＣＨ＝ＣＦ
_２、−ＳＦ_５、または炭素数１〜２０のアルキルであ
り、このアルキル中の任意の−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−
Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、―Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−Ｏ
ＣＯ−、または−ＣＯ−で置き換えられてもよく、また
このアルキル中の任意の水素はハロゲンで置き換えられ
てもよく；Ｚ ^１およびＺ^２はそれぞれ独立して、単結
合、―ＣＨ_２Ｏ―、―ＯＣＨ_２−、―ＣＦ_２Ｏ―、―Ｏ
ＣＦ_２―、−ＣＯ_２―、―ＯＣＯ―、−ＣＨ_２ＣＨ
_２−、−ＣＦ _２ＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ―、―Ｃ≡Ｃ
−、−（ＣＨ_２）_２ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２（ＣＨ_２）
_２−、または−（ＣＨ_２）_４−であり；Ｚ^３は単結合、
−Ｏ−、−ＣＯＯ−、または−ＯＣＯ−であり；Ａ^１、
Ａ^２およびＡ^３はそれぞれ独立して、１，４−シクロヘ
キシレン、任意の水素がフッ素で置き換えられた１，４
−シクロヘキシレン、シクロヘキセン−１，４−ジイ
ル、１，４−フェニレン、任意の水素がハロゲンで置き
換えられた１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジ
イル、ピリダジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，
５−ジイル、ジオキサン−２，５−ジイル、フルオレン
−２，７−ジイル、またはナフチレンであり；ｍおよび
ｎはそれぞれ独立して０、１または２であり；ｐは１〜
２０の整数である。但し、ｍが０、ｎが１、Ａ^２および
Ａ^３が１，４−フェニレン、Ｚ^３が−Ｏ−である場合に
は、Ｒ^１は−ＣＮではない。）
【請求項２】式（１）においてＺ^３が単結合である、請
求項１に記載の液晶性ソルビン酸エステル。
【請求項３】式（１）においてＺ^３が−Ｏ−である、請
求項１に記載の液晶性ソルビン酸エステル。
【請求項４】請求項１に記載の式（１）においてｐが３
〜６の整数である、請求項２に記載の液晶性ソルビン酸
エステル。
【請求項５】請求項１に記載の式（１）においてｐが３
〜６の整数である、請求項３に記載の液晶性ソルビン酸
エステル。
【請求項６】請求項１に記載の式（１）で表される液晶
性ソルビン酸エステルの少なくとも１個と、重合性でな
い他の液晶性ソルビン酸エステルを含む液晶組成物。
【請求項７】請求項１に記載の式（１）で表される液晶
性ソルビン酸エステルの少なくとも１個を含み、これと
共重合可能な化合物を含んでもよい組成物であって、組
成物全量に対する式（１）で表される液晶性ソルビン酸
エステルの割合が１〜１００モル％である重合性組成
物。
【請求項８】請求項７に記載の重合性組成物から得られ
る重合体。
【請求項９】式（２）および式（３）のそれぞれで表さ
れる繰り返し単位を含み、式（２）で表される繰り返し
単位の個数と式（３）で表される繰り返し単位の個数の
合計に対する、式（２）で表される繰り返し単位の個数
の比率が０〜１である、請求項８に記載の重合体。（これらの式中のＲ^１、Ａ^１〜Ａ^３、Ｚ^１〜Ｚ^３、ｍ、
ｎおよびｐの意味は、請求項１に記載の式（１）におけ
る場合と同じである。）
【請求項１０】請求項７に記載の重合性組成物を重合さ
せ、得られた重合物に対して水素添加反応を行うことを
特徴とする、請求項９に記載の重合体の製造方法。
【請求項１１】重量平均分子量が４００〜９００，００
０である、請求項９に記載の重合体。
【請求項１２】請求項９に記載の重合体からなり、厚さ
が１０００μｍ以下である薄膜。
【請求項１３】請求項１２に記載の薄膜からなる光学異
方性体。
【請求項１４】請求項１２に記載の薄膜からなる液晶配
向膜。
【請求項１５】位相差板としての機能を有する、請求項
１３に記載の光学異方性体。
【請求項１６】偏光板としての機能を有する、請求項１
３に記載の光学異方性体。
【請求項１７】請求項１４に記載の液晶配向膜、請求項
１５に記載の光学異方性体、および請求項１６に記載の
光学異方性体のうちの少なくとも１種を有する表示素
子。