JPWO2008026482A1 - 不飽和脂肪酸エステル及びこれを用いた重合性液晶組成物、光学異方性材料、光学素子 - Google Patents

不飽和脂肪酸エステル及びこれを用いた重合性液晶組成物、光学異方性材料、光学素子 Download PDF

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正紀 澤口
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Abstract

膜厚むら及び配向乱れを同時に抑制し、室温に放置しても結晶が析出し難く、耐熱性を有する重合物を調製可能な新規不飽和脂肪酸エステル、これを用いた重合性液晶組成物、光学異方性材料及び光学素子を提供する。不飽和脂肪酸エステルは下式（１）で表され、これを含む重合性液晶組成物を調製し、重合して光学異方性材料及び光学素子が提供される。式中、ＲＦ：炭素数２〜１２のポリフルオロアルキレン基、又は-CF2-(OCF2CF2)x-OCF2-で表される基（ｘは１〜６の整数）。Ｒ１：水素原子又はメチル基。Ｒ２：炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシ基、フッ素原子、又はシアノ基。Ｅ１：１，４−フェニレン基。Ｅ２、Ｅ３、Ｅ４：各々独立に１，４−フェニレン基又はトランス−１，４−シクロヘキシレン基である。ｍ：１〜３の整数。ｎ：１〜３の整数。ｋ：０又は１。ｈ：０又は１。CH2=CR1-COO-(CH2)m-RF-(CH2)n-O-E1-(E2)k-(E3)h-E4-R2(1)

Description

本発明は、光学素子等の製造に用いられる重合性液晶組成物の構成成分として有用な新規な不飽和脂肪酸エステル及びこれを用いた重合性液晶組成物、並びに、この重合性液晶組成物を用いて調製される光学異方性材料及び光学素子に関する。
位相差フィルムの製造方法として、重合性液晶組成物を基板に塗布した後、重合させる方法が知られている。この製造方法において、重合性液晶組成物を塗布する際に発生する膜厚むらを解消することを目的として、重合性液晶組成物に界面活性剤又はレベリング剤を添加することが有効である（特許文献１及び２参照）。
特開平８−２３１９５８号公報 特開平１１−１４８０８０号公報
しかし、従来の界面活性剤及びレベリング剤は、液晶組成物に対する相溶性が低く、配向乱れを引き起こすという問題があった。
また、塗布による位相差フィルムの製造方法において、基板に重合性液晶組成物を塗布して室温に放置すると、結晶が析出し、透明なフィルムが得られないという問題があった。さらに、この結晶が析出する問題を克服するために、結果としてフィルムの高温での耐熱性を犠牲にする場合が多かった。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、膜厚むら及び配向乱れが抑制され、室温に放置しても結晶が析出しにくく、広い面積の基板に塗布するのに適した重合性液晶組成物、及び、これを調製するのに適した新規な不飽和脂肪酸エステルを提供することを課題とする。
また、本発明は、耐熱性に優れた重合物が得られる重合性液晶組成物、及び、これを用いて製造される光学異方性材料、光学素子を提供することを課題とする。
本発明の一態様によれば、不飽和脂肪酸エステルは、下式（１）で表されることを要旨とする。
CH2=CR1-COO-(CH2)m-RF-(CH2)n-O-E1-(E2)k-(E3)h-E4-R2 (1)
但し、式（１）中の記号は、以下の通りである。
ＲＦ：炭素数２〜１２のポリフルオロアルキレン基、又は-CF2-(OCF2CF2)x-OCF2-で表される基（ｘは１〜６の整数）。
Ｒ１：水素原子又はメチル基。
Ｒ２：炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシ基、フッ素原子、又はシアノ基。
Ｅ１：１，４−フェニレン基であり、該基中の炭素原子に結合した水素原子がフッ素原子、塩素原子又はメチル基に置換されていてもよい。
Ｅ２、Ｅ３、Ｅ４：各々、独立に、１，４−フェニレン基又はトランス−１，４−シクロヘキシレン基であり、該基中の炭素原子に結合した水素原子がフッ素原子、塩素原子又はメチル基に置換されていてもよい。
ｍ：１〜３の整数。
ｎ：１〜３の整数。
ｋ：０又は１。
ｈ：０又は１。
また、本発明の一態様によれば、重合性液晶組成物は、下式（１）で表される不飽和脂肪酸エステルと下式（１）に該当しない重合性液晶化合物とを含有することを要旨とする。
CH2=CR1-COO-(CH2)m-RF-(CH2)n-O-E1-(E2)k-(E3)h-E4-R2 (1)
但し、式（１）中の記号は、以下の通りである。
ＲＦ：炭素数２〜１２のポリフルオロアルキレン基、又は-CF2-(OCF2CF2)x-OCF2-で表される基（ｘは１〜６の整数）。
Ｒ１：水素原子又はメチル基。
Ｒ２：炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシ基、フッ素原子、又はシアノ基。
Ｅ１：１，４−フェニレン基であり、該基中の炭素原子に結合した水素原子がフッ素原子、塩素原子又はメチル基に置換されていてもよい。
Ｅ２、Ｅ３、Ｅ４：各々、独立に、１，４−フェニレン基又はトランス−１，４−シクロヘキシレン基であり、該基中の炭素原子に結合した水素原子がフッ素原子、塩素原子又はメチル基に置換されていてもよい。
ｍ：１〜３の整数。
ｎ：１〜３の整数。
ｋ：０又は１。
ｈ：０又は１。
前記式（１）で表される不飽和脂肪酸エステルは液晶性を有する重合性液晶化合物であると好ましい。
前記式（１）に該当しない重合性液晶化合物の少なくとも一部が下記式（２）で表される化合物であると好ましい。
CH2=CR3-COO-(CH2)t-(O)p-E5-w-E6-(E7)q-(E8)s-R4 (2)
但し、式（２）中の記号は、以下の通りである。
Ｒ３：水素原子又はメチル基。
Ｒ４：炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシ基、フッ素原子、又はシアノ基。
Ｅ５、Ｅ６、Ｅ７、Ｅ８：それぞれ独立に１，４−フェニレン基又はトランス−１，４−シクロヘキシレン基であり、該基中の炭素原子に結合した水素原子がフッ素原子、塩素原子又はメチル基に置換されていてもよい。
ｗ：−ＯＣＯ−又は単結合。
ｔ：０〜８の整数。
ｐ：ｔが０のとき０、ｔが１〜８のとき１。
ｑ：０又は１。
ｓ：ｑが０のとき０、ｑが１のとき０又は１。
前記式（１）で表される不飽和脂肪酸エステルと前記式（１）に該当しない重合性液晶化合物との合計量が、重合性液晶組成物に対して７０質量％以上であると好ましい。
前記式（１）で表される不飽和脂肪酸エステルの量が、当該式（１）で表される不飽和脂肪酸エステルと式（１）に該当しない重合性液晶化合物との合計量に対して５〜５０モル％であると好ましい。
本発明の光学異方性材料は、上記の重合性液晶組成物を、当該組成物中の重合性液晶化合物が液晶相を示しかつ配向した状態で重合して得られることを要旨とする。
本発明の光学素子は、上記の重合性液晶組成物を、当該組成物中の重合性液晶化合物が液晶相を示しかつ配向した状態で重合して得られる重合体と、該重合体を支持する支持体とを有することを要旨とする。
なお、上記の光学素子は、位相板として好適に用いられる。
本発明によれば、新規な不飽和脂肪酸エステルを用いることによって、調製される重合性液晶組成物は、基板に塗布した際に膜厚むら及び配向乱れが抑制され、室温に放置しても結晶が析出し難くなり、広い面積の基板に好適に塗布することができる。該重合性液晶組成物を重合して得られる光学異方性材料は、耐熱性に優れ、位相板等の光学素子を構成するのに有用である。
以下、本発明について詳細に説明するが、本願の記載において使用される用語は、下記に従って解釈するものとする。また、式で表される化合物は、その式の番号を付した化合物としても表記し、例えば、式（１）で表される化合物は、化合物（１）とも表記する。
「液晶化合物」とは、「単独で液晶相を示し得る化合物」を意味し、「重合性液晶化合物」とは、「重合性を有し、単独で液晶相を示し得る化合物」を意味する。「重合性液晶組成物」とは、「重合性を有し、液晶相を示し得る組成物」を意味する。
「（メタ）アクリロイル基」とは、「アクリロイル基又はメタクリロイル基」を意味し、「（メタ）アクリロイルオキシ基」とは、「アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基」を意味する。「Ｐｈ」とは１，４−フェニレン基を示し、該基中の炭素原子に結合した水素原子はフッ素原子、塩素原子又はメチル基に置換されたものを含み得るものとする。「Ｃｙ」とはトランス−１，４−シクロヘキシレン基を示し、該基中の炭素原子に結合した水素原子はフッ素原子、塩素原子又はメチル基に置換されたものを含み得るものとする。
「Δｎ」とは、「屈折率異方性」の略記である。尚、以下の記載における波長の値は、記載値±２ｎｍの範囲を含み得るものとする。
＜新規な化合物（１）及び重合性液晶化合物＞
本発明の重合性液晶組成物の調製に用いられる化合物は、下式（１）で表される化合物である。但し、式（１）中の記号Ｒ１、Ｒ２、Ｅ１〜Ｅ４、ｍ、ｎ、ｘ、ｋ、ｈは前記の規定と同じものを示す。この化合物（１）は、複数の６員環による液晶性骨格を含有する不飽和脂肪酸エステルであり、重合性と液晶性とを併有する。化合物（１）には、単独では液晶相を示すものも示さないものもあるが、他の成分との混合状態では液晶状態となり得て、液晶相を示す重合性液晶組成物の構成成分として利用可能である。
CH2=CR1-COO-(CH2)m-RF-(CH2)n-O-E1-(E2)k-(E3)h-E4-R2 (1)
化合物（１）は、分子のスペーサー部にポリフルオロアルキレン基又はポリフルオロアルキレンオキサイド基を有する構造であり、この基の作用によって、重合性液晶組成物（詳細は後述する）中に含まれる化合物（１）は重合の際に組成物膜の表面へ移行して最表面で硬化する。このため、重合性液晶組成物のレベリング性が向上し、膜厚ムラが解消される。重合性液晶組成物中においてフッ素原子を含まない成分との相溶性を低下させないために、ポリフルオロアルキレン基の炭素数は２〜１２とし、ポリフルオロアルキレンオキサイド基の数ｘは１〜６とする。レベリング性、相溶性の観点からポリフルオロアルキレン基の炭素数は２〜８が好ましく、ポリフルオロアルキレンオキサイド基の数ｘは１〜４が好ましい。また、非結晶性を奏することから、ポリフルオロアルキレン基の炭素数は２、４、６が特に好ましい。また、ポリフルオロアルキレン基は、その末端炭素原子にはフッ素原子が１個以上結合しているのが好ましく、ペルフルオロアルキレン基であるのがより好ましい。ポリフルオロアルキレン基は、ポリフルオロアルキレンオキサイド基より液晶性が良好である。
ポリフルオロアルキレン基として具体的には以下の基が挙げられる。
−（ＣＦ２）２−、−（ＣＦ２）４−、−（ＣＦ２）６−、−（ＣＦ２）８−、−（ＣＦ２）１０−、−（ＣＦ２）１２−、−ＣＦ２ＣＨＦ−、−ＣＦ２ＣＨＦ（ＣＦ２）２−、−ＣＦ２ＣＨＦ（ＣＦ２）４−、−ＣＦ２ＣＨＦ（ＣＦ２）２ＣＨＦＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＨＦ（ＣＦ２）４ＣＨＦ−、−ＣＦ２ＣＨ２（ＣＦ２）４ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＨＦ（ＣＦ２）４ＣＨＦＣＦ２−、−ＣＨＦ（ＣＦ２）６ＣＨＦ−、−ＣＦ２ＣＨ（ＣＦ２ＣＦ３）（ＣＦ２）２ＣＨ２−。
化合物（１）のＲ１は水素原子又はメチル基である。Ｒ１が水素原子（つまり化合物（１）はアクリル酸エステルである）である場合、化合物（１）を含む重合性液晶組成物を光重合させて光学異方性材料及び光学素子を得る際に重合反応が速やかに進行するので好ましい。また、光重合反応によって得られる光学異方性材料及び光学素子の特性が外部環境（温度等）の影響を受けにくく、リタデーションの面内分布が小さい利点もある。
化合物（１）は、Ｒ２としてアルキル基、アルコキシ基、フッ素原子又はシアノ基を有し、これによって、化合物（１）を含む重合性液晶組成物の液晶性を示す温度範囲が広くなる。Ｒ２がアルキル基又はアルコキシ基の場合、炭素数は２〜６が好ましく、３〜５がより好ましく、直鎖構造であると特に化合物（１）が液晶性を示す温度範囲を広くできるので好適である。
ｍ及びｎは、各々、１〜３の整数であり、１又は２が好ましい。また、ｍとｎが同じ値であると化合物（１）の製造容易性の点から好ましい。
化合物（１）の好ましい具体例として、下記化合物（１Ａ）〜（１Ｃ）が挙げられる。
CH2=CR1-COO-(CH2)m-RF-(CH2)n-O-Ph-Ph-R2 (1A)
CH2=CR1-COO-(CH2)m-RF-(CH2)n-O-Ph-Cy-Ph-R2 (1B)
CH2=CR1-COO-(CH2)m-RF-(CH2)n-O-Ph-Cy-Ph-Ph-R2 (1C)
但し、式（１Ａ）〜（１Ｃ）中の記号ＲＦ，Ｒ１，Ｒ２，ｍ，ｎは、各々、式毎に独立しており、前述の規定と同じである。また、Ｐｈ及びＣｙも、各々、式毎に独立して前述の規定と同じであり、一分子中における複数のＰｈも互いに独立して置換又は非置換のフェニレン基を示し得るものとする。
より具体的な例として、下記化合物（１Ａ０ａ）〜化合物（１Ａ０ａａ）、下記化合物（１Ｂ０ａ）〜化合物（１Ｂ０ａａ）、下記化合物（１Ｃ０ａ）〜化合物（１Ｃ０ａａ）、下記化合物（１Ａ５ａ）〜化合物（１Ａ５ｒ）、下記化合物（１Ｂ５ａ）〜化合物（１Ｂ５ｒ）、下記化合物（１Ｃ５ａ）〜化合物（１Ｃ５ｒ）が挙げられる。但し、下記式中の表記Ｐｈ、Ｃｙは、各々、式毎に独立して、前記の規定と同じであり、一分子中の複数のＰｈも互いに独立して置換又は非置換のフェニレン基を示し得るものとする。記号ｒは、式毎に独立して１〜８の整数を示す。
CH2=CH-COO-CH2-(CF2)2-CH2-O-Ph-Ph-CN (1A0a)
CH2=CH-COO-CH2-(CF2)4-CH2-O-Ph-Ph-CN (1A0b)
CH2=CH-COO-CH2-(CF2)6-CH2-O-Ph-Ph-CN (1A0c)
CH2=CH-COO-CH2-(CF2)8-CH2-O-Ph-Ph-CN (1A0d)
CH2=CH-COO-CH2-(CF2)10-CH2-O-Ph-Ph-CN (1A0e)
CH2=CH-COO-CH2-(CF2)12-CH2-O-Ph-Ph-CN (1A0f)
CH2=CH-COO-(CH2)2-(CF2)2-(CH2)2-O-Ph-Ph-CN (1A0g)
CH2=CH-COO-(CH2)3-(CF2)2-(CH2)3-O-Ph-Ph-CN (1A0h)
CH2=CH-COO-(CH2)2-(CF2)4-(CH2)2-O-Ph-Ph-CN (1A0i)
CH2=CH-COO-(CH2)3-(CF2)4-(CH2)3-O-Ph-Ph-CN (1A0j)
CH2=CH-COO-(CH2)2-(CF2)6-(CH2)2-O-Ph-Ph-CN (1A0k)
CH2=CH-COO-(CH2)3-(CF2)6-(CH2)3-O-Ph-Ph-CN (1A0l)
CH2=CH-COO-(CH2)2-(CF2)8-(CH2)2-O-Ph-Ph-CN (1A0m)
CH2=CH-COO-(CH2)3-(CF2)8-(CH2)3-O-Ph-Ph-CN (1A0n)
CH2=CH-COO-(CH2)2-(CF2)10-(CH2)2-O-Ph-Ph-CN (1A0o)
CH2=CH-COO-(CH2)3-(CF2)10-(CH2)3-O-Ph-Ph-CN (1A0p)
CH2=CH-COO-(CH2)2-(CF2)12-(CH2)2-O-Ph-Ph-CN (1A0q)
CH2=CH-COO-(CH2)3-(CF2)12-(CH2)3-O-Ph-Ph-CN (1A0r)
CH2=CH-COO-CH2-CF2CHF-CH2-O-Ph-Ph-CN (1A0s)
CH2=CH-COO-CH2-CF2CHF(CF2)2-CH2-O-Ph-Ph-CN (1A0t)
CH2=CH-COO-CH2-CF2CHF(CF2)4-CH2-O-Ph-Ph-CN (1A0u)
CH2=CH-COO-CH2-CF2CHF(CF2)2CHFCF2-CH2-O-Ph-Ph-CN (1A0v)
CH2=CH-COO-CH2-CF2CHF(CF2)4CHF-CH2-O-Ph-Ph-CN (1A0w)
CH2=CH-COO-CH2-CF2CH2(CF2)4CH2CF2-CH2-O-Ph-Ph-CN (1A0x)
CH2=CH-COO-CH2-CF2CHF(CF2)4CHFCF2-CH2-O-Ph-Ph-CN (1A0y)
CH2=CH-COO-CH2-CHF(CF2)6CHF-CH2-O-Ph-Ph-CN (1A0z)
CH2=CH-COO-CH2-CF2CH(CF2CF3)(CF2)2-CH2-O-Ph-Ph-CN (1A0aa)
CH2=CH-COO-CH2-(CF2)2-CH2-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B0a)
CH2=CH-COO-CH2-(CF2)4-CH2-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B0b)
CH2=CH-COO-CH2-(CF2)6-CH2-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B0c)
CH2=CH-COO-CH2-(CF2)8-CH2-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B0d)
CH2=CH-COO-CH2-(CF2)10-CH2-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B0e)
CH2=CH-COO-CH2-(CF2)12-CH2-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B0f)
CH2=CH-COO-(CH2)2-(CF2)2-(CH2)2-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B0g)
CH2=CH-COO-(CH2)3-(CF2)2-(CH2)3-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B0h)
CH2=CH-COO-(CH2)2-(CF2)4-(CH2)2-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B0i)
CH2=CH-COO-(CH2)3-(CF2)4-(CH2)3-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B0j)
CH2=CH-COO-(CH2)2-(CF2)6-(CH2)2-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B0k)
CH2=CH-COO-(CH2)3-(CF2)6-(CH2)3-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B0l)
CH2=CH-COO-(CH2)2-(CF2)8-(CH2)2-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B0m)
CH2=CH-COO-(CH2)3-(CF2)8-(CH2)3-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B0n)
CH2=CH-COO-(CH2)2-(CF2)10-(CH2)2-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B0o)
CH2=CH-COO-(CH2)3-(CF2)10-(CH2)3-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B0p)
CH2=CH-COO-(CH2)2-(CF2)12-(CH2)2-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B0q)
CH2=CH-COO-(CH2)3-(CF2)12-(CH2)3-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B0r)
CH2=CH-COO-CH2-CF2CHF-CH2-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B0s)
CH2=CH-COO-CH2-CF2CHF(CF2)2-CH2-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B0t)
CH2=CH-COO-CH2-CF2CHF(CF2)4-CH2-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B0u)
CH2=CH-COO-CH2-CF2CHF(CF2)2CHFCF2-CH2-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B0v)
CH2=CH-COO-CH2-CF2CHF(CF2)4CHF-CH2-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B0w)
CH2=CH-COO-CH2-CF2CH2(CF2)4CH2CF2-CH2-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B0x)
CH2=CH-COO-CH2-CF2CHF(CF2)4CHFCF2-CH2-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B0y)
CH2=CH-COO-CH2-CHF(CF2)6CHF-CH2-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B0z)
CH2=CH-COO-CH2-CF2CH(CF2CF3)(CF2)2-CH2-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B0aa)
CH2=CH-COO-CH2-(CF2)2-CH2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C0a)
CH2=CH-COO-CH2-(CF2)4-CH2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C0b)
CH2=CH-COO-CH2-(CF2)6-CH2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C0c)
CH2=CH-COO-CH2-(CF2)8-CH2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C0d)
CH2=CH-COO-CH2-(CF2)10-CH2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C0e)
CH2=CH-COO-CH2-(CF2)12-CH2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C0f)
CH2=CH-COO-(CH2)2-(CF2)2-(CH2)2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C0g)
CH2=CH-COO-(CH2)3-(CF2)2-(CH2)3-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C0h)
CH2=CH-COO-(CH2)2-(CF2)4-(CH2)2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C0i)
CH2=CH-COO-(CH2)3-(CF2)4-(CH2)3-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C0j)
CH2=CH-COO-(CH2)2-(CF2)6-(CH2)2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C0k)
CH2=CH-COO-(CH2)3-(CF2)6-(CH2)3-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C0l)
CH2=CH-COO-(CH2)2-(CF2)8-(CH2)2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C0m)
CH2=CH-COO-(CH2)3-(CF2)8-(CH2)3-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C0n)
CH2=CH-COO-(CH2)2-(CF2)10-(CH2)2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C0o)
CH2=CH-COO-(CH2)3-(CF2)10-(CH2)3-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C0p)
CH2=CH-COO-(CH2)2-(CF2)12-(CH2)2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C0q)
CH2=CH-COO-(CH2)3-(CF2)12-(CH2)3-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C0r)
CH2=CH-COO-CH2-CF2CHF-CH2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C0s)
CH2=CH-COO-CH2-CF2CHF(CF2)2-CH2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C0t)
CH2=CH-COO-CH2-CF2CHF(CF2)4-CH2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C0u)
CH2=CH-COO-CH2-CF2CHF(CF2)2CHFCF2-CH2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C0v)
CH2=CH-COO-CH2-CF2CHF(CF2)4CHF-CH2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C0w)
CH2=CH-COO-CH2-CF2CH2(CF2)4CH2CF2-CH2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C0x)
CH2=CH-COO-CH2-CF2CHF(CF2)4CHFCF2-CH2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C0y)
CH2=CH-COO-CH2-CHF(CF2)6CHF-CH2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C0z)
CH2=CH-COO-CH2-CF2CH(CF2CF3)(CF2)2-CH2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C0aa)
CH2=CH-COO-CH2-CF2-OCF2CF2-OCF2-CH2-O-Ph-Ph-CN (1A5a)
CH2=CH-COO-CH2-CF2-(OCF2CF2)2-OCF2-CH2-O-Ph-Ph-CN (1A5b)
CH2=CH-COO-CH2-CF2-(OCF2CF2)3-OCF2-CH2-O-Ph-Ph-CN (1A5c)
CH2=CH-COO-CH2-CF2-(OCF2CF2)4-OCF2-CH2-O-Ph-Ph-CN (1A5d)
CH2=CH-COO-CH2-CF2-(OCF2CF2)5-OCF2-CH2-O-Ph-Ph-CN (1A5e)
CH2=CH-COO-CH2-CF2-(OCF2CF2)6-OCF2-CH2-O-Ph-Ph-CN (1A5f)
CH2=CH-COO-(CH2)2-CF2-OCF2CF2-OCF2-(CH2)2-O-Ph-Ph-CN (1A5g)
CH2=CH-COO-(CH2)3-CF2-OCF2CF2-OCF2-(CH2)3-O-Ph-Ph-CN (1A5h)
CH2=CH-COO-(CH2)2-CF2-(OCF2CF2)2-OCF2-(CH2)2-O-Ph-Ph-CN (1A5i)
CH2=CH-COO-(CH2)3-CF2-(OCF2CF2)2-OCF2-(CH2)3-O-Ph-Ph-CN (1A5j)
CH2=CH-COO-(CH2)2-CF2-(OCF2CF2)3-OCF2-(CH2)2-O-Ph-Ph-CN (1A5k)
CH2=CH-COO-(CH2)3-CF2-(OCF2CF2)3-OCF2-(CH2)3-O-Ph-Ph-CN (1A5l)
CH2=CH-COO-(CH2)2-CF2-(OCF2CF2)4-OCF2-(CH2)2-O-Ph-Ph-CN (1A5m)
CH2=CH-COO-(CH2)3-CF2-(OCF2CF2)4-OCF2-(CH2)3-O-Ph-Ph-CN (1A5n)
CH2=CH-COO-(CH2)2-CF2-(OCF2CF2)5-OCF2-(CH2)2-O-Ph-Ph-CN (1A5o)
CH2=CH-COO-(CH2)3-CF2-(OCF2CF2)5-OCF2-(CH2)3-O-Ph-Ph-CN (1A5p)
CH2=CH-COO-(CH2)2-CF2-(OCF2CF2)6-OCF2-(CH2)2-O-Ph-Ph-CN (1A5q)
CH2=CH-COO-(CH2)3-CF2-(OCF2CF2)6-OCF2-(CH2)3-O-Ph-Ph-CN (1A5r)
CH2=CH-COO-CH2-CF2-OCF2CF2-OCF2-CH2-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B5a)
CH2=CH-COO-CH2-CF2-(OCF2CF2)2-OCF2-CH2-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B5b)
CH2=CH-COO-CH2-CF2-(OCF2CF2)3-OCF2-CH2-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B5c)
CH2=CH-COO-CH2-CF2-(OCF2CF2)4-OCF2-CH2-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B5d)
CH2=CH-COO-CH2-CF2-(OCF2CF2)5-OCF2-CH2-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B5e)
CH2=CH-COO-CH2-CF2-(OCF2CF2)6-OCF2-CH2-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B5f)
CH2=CH-COO-(CH2)2-CF2-OCF2CF2-OCF2-(CH2)2-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B5g)
CH2=CH-COO-(CH2)3-CF2-OCF2CF2-OCF2-(CH2)3-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B5h)
CH2=CH-COO-(CH2)2-CF2-(OCF2CF2)2-OCF2-(CH2)2-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B5i)
CH2=CH-COO-(CH2)3-CF2-(OCF2CF2)2-OCF2-(CH2)3-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B5j)
CH2=CH-COO-(CH2)2-CF2-(OCF2CF2)3-OCF2-(CH2)2-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B5k)
CH2=CH-COO-(CH2)3-CF2-(OCF2CF2)3-OCF2-(CH2)3-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B5l)
CH2=CH-COO-(CH2)2-CF2-(OCF2CF2)4-OCF2-(CH2)2-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B5m)
CH2=CH-COO-(CH2)3-CF2-(OCF2CF2)4-OCF2-(CH2)3-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B5n)
CH2=CH-COO-(CH2)2-CF2-(OCF2CF2)5-OCF2-(CH2)2-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B5o)
CH2=CH-COO-(CH2)3-CF2-(OCF2CF2)5-OCF2-(CH2)3-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B5p)
CH2=CH-COO-(CH2)2-CF2-(OCF2CF2)6-OCF2-(CH2)2-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B5q)
CH2=CH-COO-(CH2)3-CF2-(OCF2CF2)6-OCF2-(CH2)3-O-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (1B5r)
CH2=CH-COO-CH2-CF2-OCF2CF2-OCF2-CH2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C5a)
CH2=CH-COO-CH2-CF2-(OCF2CF2)2-OCF2-CH2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C5b)
CH2=CH-COO-CH2-CF2-(OCF2CF2)3-OCF2-CH2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C5c)
CH2=CH-COO-CH2-CF2-(OCF2CF2)4-OCF2-CH2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C5d)
CH2=CH-COO-CH2-CF2-(OCF2CF2)5-OCF2-CH2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C5e)
CH2=CH-COO-CH2-CF2-(OCF2CF2)6-OCF2-CH2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C5f)
CH2=CH-COO-(CH2)2-CF2-OCF2CF2-OCF2-(CH2)2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C5g)
CH2=CH-COO-(CH2)3-CF2-OCF2CF2-OCF2-(CH2)3-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C5h)
CH2=CH-COO-(CH2)2-CF2-(OCF2CF2)2-OCF2-(CH2)2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C5i)
CH2=CH-COO-(CH2)3-CF2-(OCF2CF2)2-OCF2-(CH2)3-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C5j)
CH2=CH-COO-(CH2)2-CF2-(OCF2CF2)3-OCF2-(CH2)2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C5k)
CH2=CH-COO-(CH2)3-CF2-(OCF2CF2)3-OCF2-(CH2)3-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C5l)
CH2=CH-COO-(CH2)2-CF2-(OCF2CF2)4-OCF2-(CH2)2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C5m)
CH2=CH-COO-(CH2)3-CF2-(OCF2CF2)4-OCF2-(CH2)3-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C5n)
CH2=CH-COO-(CH2)2-CF2-(OCF2CF2)5-OCF2-(CH2)2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C5o)
CH2=CH-COO-(CH2)3-CF2-(OCF2CF2)5-OCF2-(CH2)3-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C5p)
CH2=CH-COO-(CH2)2-CF2-(OCF2CF2)6-OCF2-(CH2)2-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C5q)
CH2=CH-COO-(CH2)3-CF2-(OCF2CF2)6-OCF2-(CH2)3-O-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (1C5r)
上記化合物において、ｒは２〜６の整数であると好ましく、３〜５であるとより好ましい。また、Ｐｈが非置換の１，４−フェニレン基又はメチル基置換された１，４−フェニレン基であり、Ｃｙが非置換のトランス−１，４−シクロヘキシレン基であると好ましい。上記化合物のなかでも特に、化合物（１Ａ０ａ）〜（１Ａ０ｃ）、化合物（１Ａ０ｊ）〜（１Ａ０ｌ）、化合物（１Ｂ０ａ）〜（１Ｂ０ｃ）、化合物（１Ｂ０ｊ）〜（１Ｂ０ｌ）、化合物（１Ｃ０ａ）〜（１Ｃ０ｃ）、化合物（１Ｃ０ｊ）〜（１Ｃ０ｌ）、化合物（１Ａ５ａ）〜（１Ａ５ｃ）、化合物（１Ａ５ｇ）〜（１Ａ５ｊ）、化合物（１Ｂ５ａ）〜（１Ｂ５ｃ）、化合物（１Ｂ５ｇ）〜（１Ｂ５ｊ）、化合物（１Ｃ５ａ）〜（１Ｃ５ｃ）、化合物（１Ｃ５ｇ）〜（１Ｃ５ｊ）が好ましい。
本発明の化合物（１）の合成方法について、具体例を挙げて説明する。前記化合物（１Ａ０ｂ）の合成方法としては、下記反応式に示す方法が挙げられる。但し、式中の記号は前記と同じ意味を示す。
まず、下記化合物（０１ｂ）と３，４−ジヒドロピランとをジクロロメタン中、ｐ−トルエンスルホン酸の存在下で反応させて、下記化合物（０２ｂ）を得る。次に、この化合物（０２ｂ）に、トリエチルアミン存在下でパーフルオロブタンスルホニルフルオライドを反応させ、これと下記化合物（１３Ａ）とをＤＭＦ中、炭酸セシウム存在下で反応させて、下記化合物（１４Ａ０ｂ）を得る。更に、この化合物（１４Ａ０ｂ）とｐ−トルエンスルホン酸とを反応させて下記化合物（１５Ａ０ｂ）を得る。この化合物（１５Ａ０ｂ）を、トリエチルアミン存在下でアクリル酸クロリドと反応させて、化合物（１Ａ０ｂ）を得る。
Figure 2008026482
上記化合物（１Ａ０ａ）は、上記化合物（１Ａ０ｂ）の合成方法における化合物（０１ｂ）を下記化合物（０１ａ）に換えることで合成できる。また、（１Ａ０ｃ）〜（１Ａ０ａａ）は、上記合成方法における化合物（０１ｂ）をそれぞれ下記化合物（０１ｃ）〜（０１ａａ）に換えることで合成できる。
HO-CH2-(CF2)2-CH2-OH (01a)
HO-CH2-(CF2)4-CH2-OH (01b)
HO-CH2-(CF2)6-CH2-OH (01c)
HO-CH2-(CF2)8-CH2-OH (01d)
HO-CH2-(CF2)10-CH2-OH (01e)
HO-CH2-(CF2)12-CH2-OH (01f)
HO-(CH2)2-(CF2)2-(CH2)2-OH (01g)
HO-(CH2)3-(CF2)2-(CH2)3-OH (01h)
HO-(CH2)2-(CF2)4-(CH2)2-OH (01i)
HO-(CH2)3-(CF2)4-(CH2)3-OH (01j)
HO-(CH2)2-(CF2)6-(CH2)2-OH (01k)
HO-(CH2)3-(CF2)6-(CH2)3-OH (01l)
HO-(CH2)2-(CF2)8-(CH2)2-OH (01m)
HO-(CH2)3-(CF2)8-(CH2)3-OH (01n)
HO-(CH2)2-(CF2)10-(CH2)2-OH (01o)
HO-(CH2)3-(CF2)10-(CH2)3-OH (01p)
HO-(CH2)2-(CF2)12-(CH2)2-OH (01q)
HO-(CH2)3-(CF2)12-(CH2)3-OH (01r)
HO-CH2-CF2CHF-CH2-OH (01s)
HO-CH2-CF2CHF(CF2)2-CH2-OH (01t)
HO-CH2-CF2CHF(CF2)4-CH2-OH (01u)
HO-CH2-CF2CHF(CF2)2CHFCF2-CH2-OH (01v)
HO-CH2-CF2CHF(CF2)4CHF-CH2-OH (01w)
HO-CH2-CF2CH2(CF2)4CH2CF2-CH2-OH (01x)
HO-CH2-CF2CHF(CF2)4CHFCF2-CH2-OH (01y)
HO-CH2-CHF(CF2)6CHF-CH2-OH (01z)
HO-CH2-CF2CH(CF2CF3)(CF2)2-CH2-OH (01aa)
また、前記化合物（１Ｂ０ｂ）は、上記化合物（１Ａ０ｂ）の合成方法における化合物（１３Ａ）を下記化合物（１３Ｂ）に換えることで同様に合成できる。また、（１Ｂ０ａ）、（１Ｂ０ｃ）〜（１Ｂ０ａａ）は、化合物（１３Ａ）を化合物（１３Ｂ）に変更し、さらに化合物（０１ｂ）をそれぞれ（０１ａ）、（０１ｃ）〜（０１ａａ）に変更することで同様に合成できる。
また、前記化合物（１Ｃ０ｂ）は、上記化合物（１Ａ０ｂ）の合成方法における化合物（１３Ａ）を下記化合物（１３Ｃ）に換えることで同様に合成できる。また、（１Ｃ０ａ）、（１Ｃ０ｃ）〜（１Ｃ０ａａ）は、化合物（１３Ａ）を化合物（１３Ｃ）に変更し、さらに化合物（０１ｂ）をそれぞれ（０１ａ）、（０１ｃ）〜（０１ａａ）に変更することで同様に合成できる。
尚、式中の記号は、各々、式毎に独立して、前記規定と同じものを示す。
HO-Ph-Ph-CN (13A)
HO-Ph-Cy-Ph-(CH2)rH (13B)
HO-Ph-Cy-Ph-Ph-(CH2)rH (13C)
前記化合物（１Ａ５ａ）の合成方法としては、下記反応式に従って合成する方法が挙げられる。尚、式中の記号の規定は前記と同じである。
まず、下記化合物（５１ａ）と３，４−ジヒドロピランとをジクロロメタン中、ｐ−トルエンスルホン酸の存在下で反応させて、下記化合物（５２ａ）を得る。次に、この化合物（５２ａ）に、トリエチルアミン存在下でパーフルオロブタンスルホニルフルオライドを反応させ、これと下記化合物（１３Ａ）とをＤＭＦ中、炭酸セシウム存在下で反応させて、下記化合物（１４Ａ５ａ）を得る。更に、この化合物（１４Ａ５ａ）とｐ−トルエンスルホン酸とを反応させて下記化合物（１５Ａ５ａ）を得る。この化合物（１５Ａ５ａ）を、トリエチルアミン存在下でアクリル酸クロリドと反応させて、化合物（１Ａ５ａ）を得る。
Figure 2008026482
上記化合物（１Ａ５ｂ）〜（１Ａ５ｒ）は、上記合成方法における化合物（５１ａ）をそれぞれ下記化合物（５１ｂ）〜（５１ｒ）に換えることで合成できる。
HO-CH2-CF2-OCF2CF2-OCF2-CH2-OH (51a)
HO-CH2-CF2-(OCF2CF2)2-OCF2-CH2-OH (51b)
HO-CH2-CF2-(OCF2CF2)3-OCF2-CH2-OH (51c)
HO-CH2-CF2-(OCF2CF2)4-OCF2-CH2-OH (51d)
HO-CH2-CF2-(OCF2CF2)5-OCF2-CH2-OH (51e)
HO-CH2-CF2-(OCF2CF2)6-OCF2-CH2-OH (51f)
HO-(CH2)2-CF2-OCF2CF2-OCF2-(CH2)2-OH (51g)
HO-(CH2)3-CF2-OCF2CF2-OCF2-(CH2)3-OH (51h)
HO-(CH2)2-CF2-(OCF2CF2)2-OCF2-(CH2)2-OH (51i)
HO-(CH2)3-CF2-(OCF2CF2)2-OCF2-(CH2)3-OH (51j)
HO-(CH2)2-CF2-(OCF2CF2)3-OCF2-(CH2)2-OH (51k)
HO-(CH2)3-CF2-(OCF2CF2)3-OCF2-(CH2)3-OH (51l)
HO-(CH2)2-CF2-(OCF2CF2)4-OCF2-(CH2)2-OH (51m)
HO-(CH2)3-CF2-(OCF2CF2)4-OCF2-(CH2)3-OH (51n)
HO-(CH2)2-CF2-(OCF2CF2)5-OCF2-(CH2)2-OH (51o)
HO-(CH2)3-CF2-(OCF2CF2)5-OCF2-(CH2)3-OH (51p)
HO-(CH2)2-CF2-(OCF2CF2)6-OCF2-(CH2)2-OH (51q)
HO-(CH2)3-CF2-(OCF2CF2)6-OCF2-(CH2)3-OH (51r)
また、前記化合物（１Ｂ５ａ）は、上記化合物（１Ａ５ａ）の合成方法における化合物（１３Ａ）を化合物（１３Ｂ）に換えることで同様に合成できる。また、化合物（１Ｂ５ｂ）〜（１Ｂ５ｒ）は、上記合成方法における化合物（１３Ａ）を化合物（１３Ｂ）に変更し、さらに化合物（５１ａ）をそれぞれ化合物（５１ｂ）〜（５１ｒ）に変更することで同様に合成できる。
また、前記化合物（１Ｃ５ａ）は、上記化合物（１Ａ５ａ）の合成方法における化合物（１３Ａ）を化合物（１３Ｃ）に換えることで同様に合成できる。また、化合物（１Ｃ５ｂ）〜（１Ｃ５ｒ）は、化合物（１３Ａ）を化合物（１３Ｃ）に変更し、さらに化合物（５１ａ）をそれぞれ化合物（５１ｂ）〜（５１ｒ）に変更することで同様に合成できる。
尚、式中の記号は、各々、式毎に独立して、前記規定と同じものを示す。
また、式（１）においてＲ１がメチル基である化合物についても、アクリル酸クロリドをメタクリル酸クロリドに変更することによって同様に合成できる。
＜重合性液晶組成物＞
本発明の化合物（１）は、不飽和結合による重合性基と複数の６員環による液晶性骨格とを含有し、高分子液晶を得るための重合性液晶組成物を構成する液晶成分、つまり、重合性液晶化合物としての使用が可能である。但し、重合性液晶組成物の調製においては、化合物（１）は、必ずしも単独で液晶相を示す必要性はなく、重合性液晶組成物に対し良好な相溶性を示し、過冷却状態を発現すればよい。つまり、化合物（１）と、式（１）に該当しない重合性液晶化合物とを組み合わせて重合性液晶組成物が構成できる（以下、化合物（１）の中で単独で液晶相を示すものを重合性液晶化合物（Ａ）と称し、式（１）に該当しない重合性液晶化合物を重合性液晶化合物（Ｂ）と称する）。
化合物（１）は、重合性液晶化合物（Ｂ）と組み合わせて重合性液晶組成物に調製すると、液晶相を示す温度範囲をより広くすることが可能である。また、融点（Ｔｍ）降下が生じるので、組成物の取り扱いが容易になる。従って、化合物（１）と重合性液晶化合物（Ｂ）とを含有する重合性液晶組成物を調製すると、高分子液晶を得るための重合性液晶組成物が低温域においても液晶性を示すことが可能になる。重合性液晶組成物の液晶相を構成する重合性液晶成分が、化合物（１）の１種以上と、重合性液晶化合物（Ｂ）の１種以上とからなると好適である。
本発明の化合物（１）は、スペーサー部にポリフルオロアルキレン基又はポリフルオロアルキレンオキサイド基を含む構造であるため、これを用いて重合性液晶組成物を調製すると、化合物（１）は重合過程において重合性液晶組成物の表面へ向かって移行して最表面で硬化し、組成物は優れたレベリング性を発現し得る。特にフッ素原子を含有しない重合性液晶化合物と組み合わせて調製した組成物において優れたレベリング性を発現する。これは、フッ素原子含有モノマーとフッ素原子を含有しないモノマーとで重合速度が異なり、重合の進行に従って相対的に相溶性が低下したフッ素原子含有モノマーが膜表面へ凝離するためと考えられる。つまり、フッ素原子がモノマーの重合反応性に差を生じさせることに起因する。従って、組み合わせた複数種のモノマー間でフッ素原子含有量の差が大きいほど、反応性の差が大きく高いレベリング性の発現が可能になる。但し、化合物（１）は、１分子中のフッ素原子の数が２８個以下と比較的少なく、特に、ポリフルオロアルキレン基又はポリフルオロアルキレンオキサイド基が分子内部に存在するので、重合性液晶組成物中でフッ素原子を含まない他の成分に対しても良好な相溶性を示す。また、化合物（１）は、他の液晶化合物を用いた重合性液晶組成物に添加すると、重合性液晶組成物の融点の低下によって、重合性液晶組成物を室温に放置した時の結晶析出を防ぐことができる。さらに、（メタ）アクリロイルオキシ基に−（ＣＨ２）ｍＲＦ（ＣＨ２）ｎ−が連結しているため、重合性液晶の重合反応の前後でしばしば観測されるΔｎ値の低下を抑制でき、重合物が高Δｎ値を示す。この性質はＲＦがポリフルオロアルキレン基の場合に顕著である。従って、化合物（１）を用いた重合性液晶組成物から重合物を調製することによって、低散乱で、位相差の面内分布均一性に優れる光学異方性材料及び光学素子を提供できる。
本発明の重合性液晶組成物は、非液晶性の成分や非重合性の液晶化合物を含んでいてもよいが、式（１）で表される不飽和脂肪酸エステル、つまり、化合物（１）と、重合性液晶化合物（Ｂ）との合計量は、重合性液晶組成物全量に対して７０質量％以上であることが好ましく、８０質量％であることがより好ましく、９０質量以上であることが特に好ましい。このような割合であると、重合性液晶組成物が広い温度領域で液晶性を確保でき、当該重合性液晶組成物を重合して得られる重合体が必要なΔｎを発現し、Δｎの温度による変化が少ないからである。
重合性液晶化合物（Ｂ）は、（メタ）アクリロイル基を有する化合物であることが好ましく、アクリロイル基を有する化合物がより好ましい。具体的には、重合性液晶化合物（Ｂ）としては、下式（２）で表される化合物が好ましい。但し、式（２）中の記号Ｒ３、Ｒ４、Ｅ５〜Ｅ８、ｔ、ｐ、ｑ、ｓ、ｗの規定は、前記と同じである。
CH2=CR3-COO-(CH2)t-(O)p-E5-w-E6-(E7)q-(E8)s-R4 (2)
化合物（２）のＲ３は水素原子又はメチル基であるが、Ｒ３が水素原子であると、重合性液晶組成物を光重合させて光学異方性材料及び光学素子を得る際に重合反応が速やかに進行するので好ましい。
化合物（２）は、Ｒ４としてアルキル基、アルコキシ基、フッ素原子又はシアノ基を有することによって、重合性液晶組成物の液晶性を示す温度範囲を広くすることができる。Ｒ４がアルキル基又はアルコキシ基の場合、炭素数は２〜６が好ましく、３〜５がより好ましく、Ｒ４が直鎖構造のアルキル基又はアルコキシ基であると、化合物（２）が液晶性を示す温度範囲を広くできるので好ましい。
化合物（２）の好ましい例として、具体的には下記式（２Ａ）〜（２Ｇ）の化合物が挙げられる。但し、式（２Ａ）〜（２Ｇ）中、Ｚ１〜Ｚ14は、各々、式毎に独立してＰｈ又はＣｙであるが、Ｚ９〜Ｚ11の少なくとも１つはＣｙであり、Ｚ９とＺ10は同時にＰｈにならない。また、Ｚ14がＰｈである場合はＺ13はＣｙであり、Ｚ12がＣｙである場合はＺ13はＰｈである。尚、式（２Ａ）〜（２Ｇ）中の記号Ｒ３、Ｒ４、ｔ、Ｐｈ及びＣｙは、各々、式毎に独立し、前記規定と同じである。
CH2=CR3-COO-Ph-OCO-Cy-Z1-R4 (2A)
CH2=CR3-COO-Ph-OCO-Z2-R4 (2B)
CH2=CR3-COO-Z3-Z4-R4 (2C)
CH2=CR3-COO-(CH2)t-O-Ph-Z5-R4 (2D)
CH2=CR3-COO-Z6-Z7-Z8-R4 (2E)
CH2=CR3-COO-(CH2)t-O-Z9-Z10-Z11-R4 (2F)
CH2=CR3-COO-(CH2)t-O-Ph-Z12-Z13-Z14-R4 (2G)
化合物（２）の好ましい例として、より具体的には、下記式（２Ａａ）、（２Ａｂ）、（２Ｂａ）、（２Ｂｂ）、（２Ｃａ）、（２Ｃｂ）、（２Ｄａ）、（２Ｄｂ）、（２Ｅａ）、（２Ｅｂ）、（２Ｆａ）、（２Ｇａ）の化合物が挙げられる。但し、式（２Ａａ）〜（２Ｇａ）中の記号Ｒ４、Ｐｈ及びＣｙは、各々、式毎に独立して前記規定と同じであり、一分子中の複数のＰｈ、複数のＣｙも、各々、独立して互いに異なる置換又は非置換のフェニレン基、異なる置換又は非置換のシクロヘキシレン基を示し得るものとする。式中の記号ｔは１〜８の整数であり、２〜６の整数であることが好ましい。
CH2=CH-COO-Ph-OCO-Cy-Ph-R4 (2Aa)
CH2=CH-COO-Ph-OCO-Cy-Cy-R4 (2Ab)
CH2=CH-COO-Ph-OCO-Cy-R4 (2Ba)
CH2=CH-COO-Ph-OCO-Ph-R4 (2Bb)
CH2=CH-COO-Cy-Cy-R4 (2Ca)
CH2=CH-COO-Ph-Cy-R4 (2Cb)
CH2=CH-COO-Ph-Ph-R4 (2Cc)
CH2=CH-COO-(CH2)t-O-Ph-Ph-R4 (2Da)
CH2=CH-COO-(CH2)t-O-Ph-Cy-R4 (2Db)
CH2=CH-COO-Ph-Ph-Cy-R4 (2Ea)
CH2=CH-COO-Ph-Cy-Ph-R4 (2Eb)
CH2=CH-COO-(CH2)t-O-Ph-Cy-Ph-R4 (2Fa)
CH2=CH-COO-(CH2)t-O-Ph-Cy-Ph-Ph-R4 (2Ga)
化合物（１）及び化合物（２）を用いて本発明の重合性液晶組成物を調製する際に、化合物（１）の種類に応じて、例えば、相溶性、液晶温度範囲等を考慮して適宜化合物（２）を選択することによって好ましい組み合わせを決定するとよい。上記選択基準による好ましい例としては、前述の化合物（１Ａ）又は化合物（１Ｂ）と前記化合物（２Ｂｂ）又は前記化合物（２Ｄａ）とを含有する重合性液晶組成物、及び、前記化合物（１Ｃ）と前記化合物（２Ｅｂ）とを含有する重合性液晶組成物などが挙げられる。
また、本発明の重合性液晶組成物に配合される化合物（２）として、以下の化合物（２Ｈａ），（２Ｈｂ），（２Ｉａ），（２Ｉｂ），（２Ｊａ），（２Ｊｂ），（２Ｋａ），（２Ｋｂ）を用いてもよい。但し、式中の記号Ｒ４、Ｐｈ及びＣｙは、各々、式毎に独立して前記規定と同じであり、一分子中の複数のＰｈ、Ｃｙも、各々、独立して互いに異なる置換又は非置換のフェニレン基、互いに異なる置換又は非置換のシクロヘキシレン基を示し得るものとする。
CH2=CH-COO-Ph-Cy-COO-Cy-Ph-R4 (2Ha)
CH2=CH-COO-Ph-Cy-OCO-Cy-Ph-R4 (2Hb)
CH2=CH-COO-Cy-COO-Cy-Ph-R4 (2Ia)
CH2=CH-COO-Cy-OCO-Cy-Ph-R4 (2Ib)
CH2=CH-COO-Ph-Ph-C≡C-Ph-Cy-R4 (2Ja)
CH2=CH-COO-Cy-Ph-C≡C-Ph-Cy-R4 (2Jb)
CH2=CH-COO-Ph-C≡C-Ph-Ph-Cy-R4 (2Ka)
CH2=CH-COO-Ph-C≡C-Ph-Cy-Ph-R4 (2Kb)
化合物（１）の含量は、化合物（１）と重合性液晶化合物（Ｂ）の合計量に対して５〜５０モル％であるのが好ましく、８〜３０モル％がより好ましい。５モル％未満であると膜厚のむらが制御しにくい傾向にあり、５０モル％より多いと相分離によるドメインが形成され均一な膜が得られ難い傾向にある。
本発明の重合性液晶組成物に含まれていてもよい非液晶性の成分（以下、他の成分と記す。）としては、重合開始剤、カイラル剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、光安定剤、二色性色素等が挙げられる。
前述したように、重合性液晶組成物に含まれる化合物（１）及び重合性液晶化合物（Ｂ）（以下、これらを液晶性成分と称する）の好ましい割合は７０質量％以上となるが、実際には、上述のような非液晶性成分の配合割合が用途によって大きく変動することから、重合性液晶組成物中の液晶性成分及び他の成分の割合は、用途に応じて適宜調整される。
例えば、他の成分としてカイラル剤を使用する場合、カイラル剤の含量は、重合性液晶組成物の全量に対して５〜２９質量％が好ましく、５〜２０質量％が特に好ましい。従って、液晶性成分の量は、重合性液晶組成物の全量に対して７１〜９５質量％が好ましく、８０〜９５質量％が特に好ましい。
他の成分として二色性色素を使用する場合、二色性色素の量は、重合性液晶組成物の全量に対して１〜２０質量％が好ましく、３〜１８質量％が特に好ましい。従って、液晶性成分の量は、重合性液晶組成物の全量に対して８０〜９９質量％が好ましく、８２〜９７質量％が特に好ましい。
他の成分として、紫外線吸収剤、酸化防止剤、光安定剤等を使用する場合は、これらの成分の量は、重合性液晶組成物の全量に対して５質量％以下が好ましく、２質量％以下が特に好ましい。従って、この場合の液晶性成分の量は、重合性液晶組成物の全量に対して９５〜１００質量％が好ましく、９８〜１００質量％が特に好ましい。なお、重合開始剤の割合については後述する。
上述の非液晶性の成分として複数の機能成分を組み合わせて用いる場合は、重合性液晶化合物が不足しないように、各機能成分の含量の好ましい範囲内で各々の量を少なめに設定することが好ましい。各機能成分が複数種の化合物の組み合わせである場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜光学異方性材料及び光学素子＞
本発明の化合物（１）又はこれを用いた重合性液晶組成物が液晶相を示す環境において、化合物（１）又は重合性液晶組成物を液晶が配向した状態で重合させることによって得られる重合体は、光学異方性材料として利用できるものであり、光学素子の構成部材に適用することができる。特に重合性液晶組成物を用いて重合体を得ることが好ましい。
以下、重合性液晶組成物を用いた重合体の調製について説明する。
一般的に、液晶相の呈示に影響を及ぼす環境には、温度、圧力、電場、磁場、組成物の混合状態、組成物の界面の状態等があり、本発明において重合性液晶組成物が液晶相を示す状態に保つには、雰囲気温度をネマチック相−等方相相転移温度（Ｔｃ）以下に調節すればよい。但し、Ｔｃに近い温度では重合性液晶組成物のΔｎ値が極めて小さいので、雰囲気温度の上限は（Ｔｃ−１０）℃以下とすることが好ましい。
重合反応としては、光重合反応及び熱重合反応等が挙げられ、光重合反応が好ましい。光重合反応に用いる光としては、紫外線又は可視光線が好ましい。光重合反応を行う場合は光重合開始剤を用いることが好ましく、光重合開始剤は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ベンゾイン類、ベンジル類、ミヒラーケトン類、ベンゾインアルキルエーテル類、ベンジルジメチルケタール類及びチオキサントン類等から適宜選択することができ、１種又は２種以上を組み合わせて使用できる。光重合開始剤の量は、重合性液晶組成物の全量に対して０．１〜５質量％が好ましく、０．３〜２質量％が特に好ましい。複数種の光重合開始剤を用いる場合は、合計量が上記範囲であると好ましい。
本発明の重合体は、重合性液晶組成物を液晶成分が配向した状態で重合させて得られる。具体的には、重合性液晶組成物を、配向処理を施した基板に塗布して液晶を配向させ、重合成分を重合することによって、基板に支持された重合体が得られ、これをそのまま光学素子として利用することもできる。
基板としては、例えば、綿、羊毛、ナイロン、ポリエステル等の繊維等でラビング処理した基板、又は、表面に有機薄膜を形成して布等でラビング処理した基板、あるいは、ＳｉＯ２を斜方蒸着した配向膜を有する基板等を使用できる。このような配向処理を施した基板を用意して塗布することによって、基板上の塗膜は液晶成分が配向した状態になる。
上述のラビング処理やＳｉＯ２の斜方蒸着以外の手段を用いた配向処理として、重合性液晶組成物の流動配向や電場又は磁場を利用する方法等も利用可能である。これらの配向手段は、単独で用いても組み合わせて用いてもよい。また、ラビング処理の代わりに光配向法を配向処理方法として用いることもできる。この方法は、例えば、ポリビニルシンナメート等の分子内に光二量化反応する官能基を有する有機薄膜、光で異性化する官能基を有する有機薄膜、ポリイミド薄膜等の有機薄膜を形成し、これに、偏光した光、好ましくは偏光した紫外線を照射することによって配向膜を形成するものである。この光配向法において光マスクを適用することによって、配向のパターン化が容易に達成できるので、重合体内部の分子配向も精密に制御することが可能となる。
基板の形状としては、平板の他に、曲面を構成部分として有していてもよい。基板を構成する材料は、有機材料、無機材料を問わずに用いることができる。基板の材料となる有機材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリアリレート、ポリスルホン、トリアセチルセルロース、セルロース、ポリエーテルエーテルケトン等が挙げられ、また、無機材料としては、例えば、シリコン、ガラス、方解石等が挙げられる。
綿、羊毛、ナイロン、ポリエステル等の繊維等で基板をラビングすることでは適当な配向性を得られない場合には、公知の方法に従ってポリイミド薄膜又はポリビニルアルコール薄膜等の有機薄膜を基板表面に形成し、これを布等でラビングするとよい。また、通常のツイステッド・ネマチック（ＴＮ）素子又はスーパー・ツイステッド・ネマチック（ＳＴＮ）素子で使用されているプレチルト角を与えるポリイミド薄膜は、重合体内部の分子配向構造を更に精密に制御できるので、特に好ましい。
本発明の重合性液晶組成物を基板上に塗布する方法としては、スピンコーティング、ダイコーティング、エクストルージョンコーティング、ロールコーティング、ワイヤーバーコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティング、ディッピング、プリント法等を挙げることができる。塗布の際、塗布性を向上させる希釈剤として有機溶媒を重合性液晶組成物に添加して用いてもよく、この場合、有機溶媒は、基板に塗布した後に揮発させて除去する。有機溶媒としては、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、トルエン、ヘキサン、メタノール、エタノール、ジメチルホルムアミド、塩化メチレン、イソプロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、アセトニトリル、セロソルブ類等が挙げられる。溶媒は、単独でも複数種を組み合わせて用いてもよく、その蒸気圧と化合物（１）及び重合性液晶組成物の溶解性とを考慮して適宜選択すればよい。添加した有機溶媒を揮発させる方法としては、自然乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥、減圧加熱乾燥を用いることができる。
重合性液晶組成物の塗布性をさらに向上させるためには、基板上にポリイミド薄膜等の中間層を設けることも有効である。ポリイミド薄膜等の中間層は、重合体と基板との密着性が良くない場合に密着性を向上させる手段としても有効である。
本発明の重合性液晶組成物を重合させる方法としては、紫外線又は電子線等の活性エネルギー線を照射することによって重合させる方法が特に好ましい。紫外線を使用する場合、偏光光源を用いてもよく、非偏光光源を用いてもよい。また、重合性液晶組成物を２枚の基板間に挟持させた状態で重合を行う場合には、少なくとも照射面側の基板は活性エネルギー線に対して適切な透明性が与えられていなければならない。また、光照射時にマスクを用いて特定の部分のみを重合させた後、電場や磁場又は温度等の条件を変化させることにより、未重合部分の配向状態を変化させて、さらに活性エネルギー線を照射して重合させる手法を用いてもよい。光照射時の温度は、本発明の重合性液晶組成物の液晶状態が保持される温度範囲内であることが好ましい。活性エネルギー線の強度は、０．１〜２Ｗ／ｃｍ２が好ましく、０．５〜１．５Ｗ／ｃｍ２がより好ましい。強度が０．１ｍＷ／ｃｍ２以下の場合、光重合を完了させるのに多大な時間が必要になり、生産性が低下するおそれがある。強度が２Ｗ／ｃｍ２以上の場合、重合性液晶組成物が劣化するおそれがある。
重合反応によって調製される重合体は、更に、重合体の初期の特性変化を軽減して安定的な特性発現を図ることを目的として、熱処理を施すこともできる。熱処理の温度は５０〜２５０℃の範囲、好ましくは８０〜１８０℃であり、熱処理時間は３０秒〜１２時間の範囲が好ましい。
本発明の重合性液晶組成物を重合して得られる重合体の膜厚は、０．５〜８μｍが好ましく、０．７〜６μｍがより好ましい。薄すぎると、塗布むらが生じ、面内におけるリタデーションの均一性が低下するおそれがある。厚過ぎると、配向が乱れ、透過率が低下するおそれがある。
本発明においては、重合反応によって得られる重合体は、基板を支持体として、支持体に保持したまま利用してもよく、基板から剥離して用いてもよい。また、得られた重合体を積層したり、他の基板に貼り合わせて利用してもよい。本発明の重合体は、光学的に透明で、異方性を有するので、偏光を変調する機能を利用する用途に有用である。具体的には、偏光の位相状態及び／又は波面状態を変調する用途に使用される光学異方性材料として有用であり、光学異方性材料からなる部材を有する光学素子に好適に適用できる。例えば、本発明の重合体を位相板等として液晶ディスプレイや光ピックアップ装置に搭載して使用可能である。位相板として使用する具体的な形態としては、例えば、１／４波長板としてＬｃｏｓパネル前面に設置し、黒色表示時の光漏れを改善する形態が挙げられる。
［ヒドロキシル化合物（１３Ｂ−１）の合成］
下記の手順に従って、化合物（２１）から化合物（２２）、化合物（２４）、化合物（２５）及び化合物（２６）を経てヒドロキシル化合物（１３Ｂ−１）を合成した。
（１）化合物（２２）の合成
Figure 2008026482
還流装置、撹拌機、滴下装置を装備した５００ｍＬの４つ口フラスコに化合物（２１）（１３．００ｇ）を加え、これに２ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液（２５０ｍＬ）を加えた。これに、硫酸ジメチル（３４．４８ｇ）を、窒素気流下で反応容器の温度が６０℃を超えないように注意しながら１時間を要して滴下を行った。滴下終了後、３０分を要して反応容器中の温度を７０℃にまで上げ、１２時間撹拌、還流した。反応終了後、水及びジエチルエーテルを加えて分液し、有機層を回収した。回収した有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液（４０ｍＬ）で洗浄し、つぎに水洗し、再度有機層を回収した。
有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濾過によって無水硫酸マグネシウムを除去し、濾液を濃縮した。
この濾液をジクロロメタン／ヘキサン（５：５、容量比）を展開液としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製を行った後、目的物を含む画分を濃縮することにより粉末結晶を得た。この粉末結晶にジクロロメタンとヘキサンの混合溶媒（２００ｍＬ）を加えて再結晶を行い、化合物（２２）（１１．８ｇ）を得た。収率は８５％であった。
（２）化合物（２４）の合成
Figure 2008026482
還流装置、撹拌機、滴下装置を装備した５００ｍＬの４つ口フラスコに、マグネシウム（１．５３ｇ）を加え、化合物（２３）（１９．３ｇ）を脱水テトラヒドロフラン（５０ｍＬ）に溶解させたものを、窒素気流下にて３０分を要して滴下した。滴下終了後、７０℃で３時間撹拌、還流してグリニヤール試薬を調製した。次に、この４つ口フラスコを０℃に冷却し、化合物（２２）（１８．４ｇ）を脱水テトラヒドロフラン（１００ｍＬ）に溶解させたものを、窒素気流下にて３０分を要して滴下した。滴下終了後、７０℃で３時間撹拌、還流した後、１ｍｏｌ／Ｌの塩化アンモニウム水溶液（１００ｍＬ）を加えて反応を停止させた。
化合物（２２）の合成におけるのと同様の後処理を行って得られた濾液を酢酸エチル／ヘキサン（７：３、容量比）を展開液としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製を行い、化合物（２４）２１．５ｇを得た。収率は６８％であった。
（３）化合物（２５）の合成
Figure 2008026482
還流装置、撹拌機を装備した５００ｍＬのナス型フラスコに化合物（２４）（２１．１ｇ）、パラトルエンスルホン酸一水和物（０．６５ｇ）、トルエン（４００ｍＬ）を加え、これに、モレキュラーシーブ４Ａ（５０ｇ）の入った等圧滴下漏斗をつけ、１１０℃で４時間撹拌、還流した。反応終了後、化合物（２２）の合成におけるのと同様の後処理を行って化合物（２５）を１５．５ｇ得た。収率は７１％であった。
（４）化合物（２６）の合成
Figure 2008026482
５０００ｍＬの耐圧反応器に、化合物（２５）（１２．９ｇ）、テトラヒドロフラン（２００ｍＬ）、１０％パラジウム活性炭素（２．５ｇ）を添加し、化合物（２６）のシス−トランス混合物（１２．２ｇ）を得た。収率は９５％であった。
これにヘキサン（１００ｍＬ）を加えて再結晶を行い、式（２６）で表される化合物のトランス体（２．００ｇ）を得た。また濾液を濃縮したものを、５００ｍＬのナス型フラスコに移し、ｔ−ブトキシカリウム（２８．０ｇ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３００ｍＬ）を加え、１００℃で６時間撹拌、還流して式（２６）で表される化合物のシス体をトランス体に変換した。反応終了後、水（５００ｍＬ）を加えて反応を停止し、化合物（２２）の合成におけるのと同様の後処理を行った後、ヘキサン（１００ｍＬ）を加えて再結晶を行い、式（２６）で表される化合物のトランス体（２．０７ｇ）を得た。トランス体である化合物（２６）の全収量は４．２７ｇで、収率は３２％であった。
（５）ヒドロキシル化合物（１３Ｂ−１）の合成
Figure 2008026482
還流装置、撹拌機、滴下装置を装備した５００ｍＬの４つ口フラスコに化合物（２６）（４．０７ｇ）、ジクロロメタン（２００ｍＬ）を加えた。窒素気流下にて、三臭化ホウ素（１２．７４ｇ）を３０分かけて滴下した。滴下操作は、内温が１０℃を超えないように氷冷しながら行った。室温で３時間撹拌を続けた後、水を加えて反応の停止を行い、化合物（２２）の合成におけるのと同様の後処理を行った後、ジクロロメタンとヘキサンとの混合溶媒（１００ｍＬ）を用いて再結晶を行い、ヒドロキシル化合物（１３Ｂ−１）（３．６８ｇ）を得た。収率は９５％であった。
［ヒドロキシル化合物（１３Ｃ−１）の合成］
下記の手順に従って、化合物（３１）から化合物（３３）、化合物（３４）、化合物（３５）及び化合物（３６）を経てヒドロキシル化合物（１３Ｃ−１）を合成した。
（１）化合物（３３）の合成
Figure 2008026482
還流装置、撹拌機、滴下装置を装備した１０００ｍＬの４つ口フラスコに化合物（３１）（２３．５７ｇ）、化合物（３２）（１４．２５ｇ）、酢酸パラジウム（０．９０ｇ）、トリフェニルホスフィン（２．０７ｇ）を加えた。これに、窒素気流下でアセトン（２００ｍＬ）、２ｍｏｌ／Ｌの炭酸水素ナトリウム水溶液（２５０ｍＬ）を加え、６５℃で１８時間撹拌、還流した。反応終了後、合成例１の化合物（２２）の合成におけるのと同様の後処理及びシリカゲルカラムクロマトグラフィー精製を行い、化合物（３３）（１６．０ｇ）を得た。収率は７０％であった。
（２）化合物（３４）の合成
Figure 2008026482
還流装置、撹拌機、滴下装置を装備した５００ｍＬの４つ口フラスコに、マグネシウム（１．５３ｇ）を加え、化合物（３３）（１６．５ｇ）を脱水テトラヒドロフラン（５０ｍＬ）に溶解させたものを、窒素気流下にて３０分を要して滴下した。滴下終了後、７０℃で３時間撹拌、還流してグリニヤール試薬を調製した。次に、この４つ口フラスコを０℃に冷却し、合成例１で得た化合物（２２）（１１．７ｇ）を脱水テトラヒドロフラン（１００ｍＬ）に溶解させたものを、窒素気流下にて３０分を要して滴下した。滴下終了後、７０℃で３時間撹拌、還流した後、１ｍｏｌ／Ｌの塩化アンモニウム水溶液（１００ｍＬ）を加えて反応を停止させた。
前述の化合物（２２）の合成におけるのと同様の後処理を行って得られた濾液を酢酸エチル／ヘキサン（７：３、容量比）を展開液としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製を行い、化合物（３４）１３．６ｇを得た。収率は６０％であった。
（３）化合物（３５）の合成
Figure 2008026482
還流装置、撹拌機を装備した５００ｍＬのナス型フラスコに化合物（３４）（１３．６ｇ）、パラトルエンスルホン酸一水和物（０．３２ｇ）、トルエン（２００ｍＬ）を加え、これに、モレキュラーシーブ４Ａ（２０ｇ）の入った等圧滴下漏斗をつけ、１１０℃で４時間撹拌、還流した。反応終了後、合成例１の化合物（２２）の合成におけるのと同様の後処理を行って化合物（３５）を１２．８ｇ得た。収率は９５％であった。
（４）化合物（３６）の合成
Figure 2008026482
５０００ｍＬの耐圧反応器に、化合物（３５）（１２．８０ｇ）、テトラヒドロフラン（２００ｍＬ）、１０％パラジウム活性炭素（２．５ｇ）を添加し、合成例１の化合物（２２）の合成におけるのと同様にして式（３６）で表される化合物のシス−トランス混合物（１２．１ｇ）を得た。収率は９５％であった。
これにヘキサン（１００ｍＬ）を加えて再結晶を行い、化合物（３６）のトランス体（２．００ｇ）を得た。また濾液を濃縮したものを、５００ｍＬのナス型フラスコに移し、ｔ−ブトキシカリウム（２８．０ｇ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３００ｍＬ）を加え、１００℃で６時間撹拌、還流して化合物（２８ｄ）のシス体をトランス体に変換した。反応終了後、水（５００ｍＬ）を加えて反応を停止し、合成例１の化合物（２２）の合成におけるのと同様の後処理を行った後、ヘキサン（１００ｍＬ）を加えて再結晶を行い、式（３６）で表される化合物のトランス体（１．８８ｇ）を得た。トランス体である化合物（３６）の全収量は３．８８ｇで、収率は３０％であった。
（５）ヒドロキシル化合物（１３Ｃ−１）の合成
Figure 2008026482
還流装置、撹拌機、滴下装置を装備した５００ｍＬの４つ口フラスコに化合物（３６）（３．７０ｇ）、ジクロロメタン（２００ｍＬ）を加えた。窒素気流下にて、三臭化ホウ素（１２．７４ｇ）を３０分かけて滴下した。滴下操作は、内温が１０℃を超えないように氷冷しながら行った。室温で３時間撹拌を続けた後、水を加えて反応の停止を行い、合成例１の化合物（２２）の合成におけるのと同様の後処理を行った後、ジクロロメタンとヘキサンとの混合溶媒（１００ｍＬ）を用いて再結晶を行い、ヒドロキシル化合物（１３Ｃ−１）（３．４０ｇ）を得た。収率は９５％であった。
［ジオール化合物（５１ａ）の合成］
国際公開第０２／００４３９７号パンフレットの第３９頁に記載された例４において、ＨＯ（ＣＨ２）２Ｏ（ＣＨ２）２ＯＨをＨＯ（ＣＨ２）２Ｏ（ＣＨ２）２Ｏ（ＣＨ２）２ＯＨに変更した以外は同様にして、ＦＣＯＣＦ２Ｏ（ＣＦ２）２ＯＣＦ２ＣＯＦを得た。
特開２００６−４５１５９号公報の第２２頁に記載された例１−４ａにおいて、化合物（Ｅ１）をＦＣＯＣＦ２Ｏ（ＣＦ２）２ＯＣＦ２ＣＯＦに変更した以外は同様にして、ＣＨ３ＯＣＯＣＦ２Ｏ（ＣＦ２）２ＯＣＦ２ＣＯ２ＣＨ３を得た。さらに、第２３頁に記載された例１−５において、化合物（Ｇ１−１）をＣＨ３ＯＣＯＣＦ２Ｏ（ＣＦ２）２ＯＣＦ２ＣＯ２ＣＨ３に変更した以外は同様にして、ＨＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２）２ＯＣＦ２ＣＨ２ＯＨ（ジオール化合物（５１ａ））を得た。
［例１］不飽和脂肪酸エステル（１Ａ０ｂ−１）の合成
下記に示す合成ルートに従って、不飽和脂肪酸エステル（１Ａ０ｂ−１）を合成した。以下にその詳細を記載する。
Figure 2008026482
（１）化合物（０２ｂ）の合成
化合物（０１ｂ）（２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロ−１，６−ヘキサンジオール、東京化成社製、１７．３ｇ）及び３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン（３．１０ｇ）をジクロロメタン（５００ｍＬ）に溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物（１８０ｍｇ）を加えて室温で１５時間撹拌した。トリエチルアミン（１０１ｍｇ）を加えて減圧下溶媒を留去して粗精製物（２５．１ｇ）を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル：旭硝子エスアイテック社製 Ｍ．Ｓ．ＧＥＬ Ｄ−７５−１２０Ａ，５００ｇ，溶出液：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）により、標題化合物（１０．７ｇ，収率４７％）を得た。
化合物（０２ｂ）のスペクトルデータ；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．５７−１．８４（ｍ，６Ｈ，ＣＨ２），３．５７（ｍ，１Ｈ），３．７９−４．２１（ｍ，５Ｈ），４．７５（ｍ，１Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＣＦＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−１２０．６（ｍ，２Ｆ），−１２３．１（ｍ，２Ｆ），−１２４．２（ｍ，２Ｆ），−１２４．５（ｍ，２Ｆ）。
（２）化合物（１４Ａ０ｂ−１）の合成
化合物（０２ｂ）（５．３０ｇ）をエーテル（８０ｍＬ）に溶解し、トリエチルアミン（３．８８ｍＬ）を加えた。０℃に冷却した後、１，１，２，２，３，３，４，４，４−ノナフルオロブタンスルホニルフルオリド（５．５５ｇ）を加え、徐々に室温に上げて、４０時間撹拌した。水（１００ｍＬ）、ｔ−ブチルメチルエーテル（１００ｍＬ）を加えて、有機層を飽和食塩水で洗浄し、乾燥後、溶媒を除いて１，１，２，２，３，３，４，４，４−ノナフルオロブタンスルホン酸２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロ−６−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）ヘキシルの粗精製物（９．３３ｇ）を得た。この粗精製物及び化合物（１３Ａ−１）（４−シアノ−４’−ヒドロキシ−ビフェニル、ＳＹＮＴＨＯＮ社製、３．５９ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（８０ｍＬ）に溶解し、炭酸セシウム（１７．９６ｇ）を加えて、８０℃で１時間撹拌した。水（１００ｍＬ）を加え、ｔ−ブチルメチルエーテル（８０ｍＬ×３回）で抽出した。得られた有機層を飽和食塩水（１００ｍＬ）で洗浄した後、溶媒を除いて化合物（１４Ａ０ｂ−１）の粗精製物（９．４２ｇ）を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル：旭硝子エスアイテック社製ＭＳ−ＧＥＬ Ｄ５０−６０−Ａ（Ｎ）３００ｇ，溶出液：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）により精製し、標題化合物（６．４２ｇ，収率６２％）を得た。
化合物（１４Ａ０ｂ−１）のスペクトルデータ；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．５３−１．９２（ｍ，６Ｈ，ＣＨ２），３．５８（ｍ，１Ｈ），３．８３（ｍ，１Ｈ），３．９６（ｑ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ，１Ｈ），４．１６（ｑ，Ｊ＝１４．０Ｈｚ，１Ｈ），４．５２（ｔ，Ｊ＝１３．０Ｈｚ，２Ｈ），４．７５（ｔ，Ｊ＝３．０Ｈｚ，１Ｈ），７．０６（ｍ，２Ｈ），７．５６（ｍ，２Ｈ），７．６６（ｍ，２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＣＦＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−１２０．１（ｍ，２Ｆ），−１２０．４（ｍ，２Ｆ），−１２４．０（ｍ，４Ｆ）。
（３）化合物（１５Ａ０ｂ−１）の合成
化合物（１４Ａ０ｂ−１）（６．１１ｇ）をメタノール（３００ｍＬ）に溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物（２６６ｍｇ）を加えて室温で３時間撹拌した。トリエチルアミン（０．１９５ｍＬ）を加え、減圧下溶媒を留去して粗精製物を得た。
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル：旭硝子エスアイテック社製ＭＳ−ＧＥＬ Ｄ７５−１２０−Ａ ４００ｇ，溶出液：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）により精製し、標題化合物（４．８３ｇ，収率９４％）を得た。
化合物（１５Ａ０ｂ−１）のスペクトルデータ；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：４．１１（ｍ，２Ｈ），４．５２（ｔ，Ｊ＝１３．０Ｈｚ，２Ｈ），７．０６（ｍ，２Ｈ），７．５６（ｍ，２Ｈ），７．６８（ｍ，４Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＣＦＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−１２０．１（ｍ，２Ｆ），−１２３．０（ｍ，２Ｆ），−１２４．１（ｍ，２Ｆ），−１２４．３（ｍ，２Ｆ）。
（４）不飽和脂肪酸エステル（１Ａ０ｂ−１）の合成
化合物（１５Ａ０ｂ−１）（４．８３ｇ）をジクロロメタン（１００ｍＬ）に溶解し、トリエチルアミン（２．３０ｍＬ）を加えて０℃に冷却した。アクリル酸クロリド（１．３５ｍＬ）を加え、室温まで徐々に上げて１５時間撹拌した。減圧下溶媒を留去し、得られた粗精製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル：旭硝子エスアイテック社製ＭＳ−ＧＥＬ Ｄ５０−６０−Ａ（Ｎ）４００ｇ，溶出液：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）により精製し、標題化合物（５．１４ｇ，収率９６％）を得た。
化合物（１Ａ０ｂ−１）のスペクトルデータ；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：４．５２（ｔ，Ｊ＝１３．０Ｈｚ，２Ｈ），４．６８（ｔ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ，２Ｈ），５．９７（ｄｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，１０．０Ｈｚ，１Ｈ），６．１９（ｄｄ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．０Ｈｚ，１Ｈ），６．５３（ｄｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，１７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．０６（ｍ，２Ｈ），７．５５−７．７２（ｍ，６Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＣＦＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−１２０．１（ｍ，４Ｆ），−１２３．９（ｍ，２Ｆ），−１２４．２（ｍ，２Ｆ）。
［例２］不飽和脂肪酸エステル（１Ｂ０ｂ−１）の合成
上記で合成したヒドロキシル化合物（１３Ｂ−１）を用い、下記に示す合成ルートにより不飽和脂肪酸エステル（１Ｂ０ｂ−１）を合成した。以下にその詳細を記載する。
Figure 2008026482
（１）化合物（１４Ｂ０ｂ−１）の合成
例１に記載の方法と同様にして得た化合物（０２ｂ）（２．８４ｇ）をエーテル（４０ｍＬ）に溶解し、トリエチルアミン（２．０７ｍＬ）を加えた。０℃に冷却した後、１，１，２，２，３，３，４，４，４−ノナフルオロブタンスルホニルフルオリド（１．７６ｇ）を加え、徐々に室温に上げて、４０時間撹拌した。水（１００ｍＬ）、ｔ−ブチルメチルエーテル（５０ｍＬ）を加えて、有機層を飽和食塩水で洗浄し、乾燥後、溶媒を除いて１，１，２，２，３，３，４，４，４−ノナフルオロブタンスルホン酸２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロ−６−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）ヘキシルの粗精製物（４．８６ｇ）を得た。
この粗精製物と、前述のヒドロキシル化合物（１３Ｂ−１）（２．９９ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（４０ｍＬ）に溶解し、炭酸セシウム（９．３３ｇ）を加えて、８０℃で１時間撹拌した。水（５０ｍＬ）を加え、ｔ−ブチルメチルエーテル（５０ｍＬ×３回）で抽出した。得られた有機層を飽和食塩水（５０ｍＬ）で洗浄した後、溶媒を除いて化合物（１４Ｂｂ−１）の粗精製物（９．４２ｇ）を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル：旭硝子エスアイテック社製ＭＳ−ＧＥＬ Ｄ５０−６０−Ａ（Ｎ）１５０ｇ，溶出液：ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１）により精製し、標題化合物（４．７７ｇ，収率９５％）を得た。
化合物（１４Ｂ０ｂ−１）のスペクトルデータ；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：０．８８（ｍ，３Ｈ），１．３１−２．０４（ｍ，２０Ｈ），２．５８（ｍ，４Ｈ），３．５８（ｍ，１Ｈ），３．７９−４．２１（ｍ，３Ｈ），４．４４（ｔ，Ｊ＝１３．０Ｈｚ，２Ｈ），４．７５（ｍ，１Ｈ），６．９０（ｍ，２Ｈ），７．１１−７．２１（ｍ，６Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＣＦＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−１２０．４（ｍ，４Ｆ），−１２４．２（ｍ，４Ｆ）。
（２）化合物（１５Ｂ０ｂ−１）の合成
化合物（１４Ｂ０ｂ−１）（４．７７ｇ）を、メタノール（１００ｍＬ）及びテトラヒドロフラン（１００ｍＬ）の混合溶媒に溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物（１３６ｍｇ）を加えて室温で３時間撹拌した。トリエチルアミン（０．１００ｍＬ）を加え、減圧下溶媒を留去して粗精製物を得た。
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル：旭硝子エスアイテック社製ＭＳ−ＧＥＬ Ｄ７５−１２０−Ａ ４００ｇ，溶出液：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）により精製し、標題化合物（３．９６ｇ，収率９５％）を得た。
化合物（１５Ｂ０ｂ−１）のスペクトルデータ；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：０．９０（ｍ，３Ｈ），１．３３（ｍ，４Ｈ），１．５９（ｍ，６Ｈ），２．０１（ｍ，４Ｈ），２．５８（ｍ，４Ｈ），４．０８（ｍ，２Ｈ），４．４４（ｔ，Ｊ＝１３．０Ｈｚ，２Ｈ），６．９０（ｍ，２Ｈ），７．１１−７．２１（ｍ，６Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＣＦＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−１２０．３（ｍ，２Ｆ），−１２３．０（ｍ，２Ｆ），−１２４．１（ｍ，２Ｆ），−１２４．５（ｍ，２Ｆ）。
（３）不飽和脂肪酸エステル（１Ｂ０ｂ−１）の合成
化合物（１５Ｂ０ｂ−１）（３．９６ｇ）をジクロロメタン（８０ｍＬ）に溶解し、トリエチルアミン（１．４６ｍＬ）を加えて０℃に冷却した。アクリル酸クロリド（０．８５２ｍＬ）を加え、室温まで徐々に上げて１４時間撹拌した。減圧下溶媒を留去し、得られた粗精製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル：旭硝子エスアイテック社製ＭＳ−ＧＥＬ Ｄ５０−６０−Ａ（Ｎ）５０ｇ，溶出液：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）により精製し、標題化合物（３．２７ｇ，収率７２％）を得た。
化合物（１Ｂ０ｂ−１）のスペクトルデータ；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：０．９０（ｍ，３Ｈ），１．３３（ｍ，４Ｈ），１．６０（ｍ，６Ｈ），２．０１（ｍ，４Ｈ），２．５８（ｍ，４Ｈ），４．４４（ｔ，Ｊ＝１３．０Ｈｚ，２Ｈ），４．６７（ｔ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ，２Ｈ），５．９７（ｄｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，１０．５Ｈｚ，１Ｈ），６．１９（ｄｄ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ，１Ｈ），６．５３（ｍ，１Ｈ），６．９０（ｍ，２Ｈ），７．１４−７．２１（ｍ，６Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＣＦＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−１２０．２（ｍ，４Ｆ），−１２４．１（ｍ，２Ｆ）。
［例３］不飽和脂肪酸エステル（１Ｃ０ｂ−１）の合成
上記で合成したヒドロキシル化合物（１３Ｃ−１）を用い、下記に示す合成ルートにより化合物（１Ｃ０ｂ−１）を合成した。以下にその詳細を記載する。
Figure 2008026482
（１）化合物（１４Ｃ０ｂ−１）の合成
化合物（０２ｂ）（２．４２ｇ）をエーテル（５０ｍＬ）に溶解し、トリエチルアミン（１．７５ｍＬ）を加えた。０℃に冷却した後、１，１，２，２，３，３，４，４，４−ノナフルオロブタンスルホニルフルオリド（１．４９ｍＬ）を加え、徐々に室温に上げて、４０時間撹拌した。水（５０ｍＬ）、ｔ−ブチルメチルエーテル（３０ｍＬ）を加えて、有機層を飽和食塩水で洗浄し、乾燥後、溶媒を除いて１，１，２，２，３，３，４，４，４−ノナフルオロブタンスルホン酸２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロ−６−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）ヘキシルの粗精製物（４．２８ｇ）を得た。
この粗精製物及び前述のヒドロキシル化合物（１３Ｃ−１）（２．９９ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３０ｍＬ）に溶解し、炭酸セシウム（１７．９６ｇ）を加えて、８０℃で０．５時間撹拌した。水（４０ｍＬ）を加え、ｔ−ブチルメチルエーテル（４０ｍＬ×３回）で抽出した。得られた有機層を飽和食塩水（５０ｍＬ）で洗浄した後、溶媒を除いて化合物（１４Ｃ０ｂ−１）の粗精製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル：旭硝子エスアイテック社製ＭＳ−ＧＥＬ Ｄ５０−６０−Ａ（Ｎ）１００ｇ，溶出液：ヘキサン／酢酸エチル＝１５／１）により精製し、標題化合物（２．２９ｇ，収率８２％）を得た。
化合物（１４Ｃ０ｂ−１）のスペクトルデータ；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：０．９９（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，３Ｈ），１．５４−２．０７（ｍ，１６Ｈ），２．２９（ｓ，３Ｈ），２．６３（ｍ，４Ｈ），３．５９（ｍ，１Ｈ），３．７８−４．２２（ｍ，３Ｈ），４．４５（ｔ，Ｊ＝１３．０Ｈｚ，２Ｈ），４．７６（ｍ，１Ｈ），６．９１（ｍ，２Ｈ），７．１１−７．２３（ｍ，９Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＣＦＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−１２０．４（ｍ，４Ｆ），−１２４．１（ｍ，４Ｆ）。
（２）化合物（１５Ｃ０ｂ−１）の合成
化合物（１４Ｃ０ｂ−１）（２．２９ｇ）を、メタノール（５０ｍＬ）及びテトラヒドロフラン（５０ｍＬ）の混合溶媒に溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物（７３ｍｇ）を加えて室温で３時間撹拌した。トリエチルアミン（０．０５４ｍＬ）を加え、減圧下溶媒を留去して粗精製物を得た。
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル：旭硝子エスアイテック社製ＭＳ−ＧＥＬ Ｄ５０−６０−Ａ（Ｎ） １００ｇ，溶出液：ヘキサン／酢酸エチル＝６／１）により精製し、標題化合物（１．８８ｇ，収率９３％）を得た。
化合物（１５Ｃ０ｂ−１）のスペクトルデータ；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：０．９９（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，３Ｈ），１．５６−２．０７（ｍ，１０Ｈ），２．２９（ｓ，３Ｈ），２．６３（ｍ，４Ｈ），４．１０（ｍ，２Ｈ），４．４５（ｔ，Ｊ＝１３．０Ｈｚ，２Ｈ），６．９１（ｍ，２Ｈ），７．１１−７．２５（ｍ，９Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＣＦＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−１２０．３（ｍ，２Ｆ），−１２３．１（ｍ，２Ｆ），−１２４．１（ｍ，２Ｆ），−１２４．４（ｍ，２Ｆ）。
（３）不飽和脂肪酸エステル（１Ｃ０ｂ−１）の合成
化合物（１５Ｃ０ｂ−１）（１．８７ｇ）をジクロロメタン（４０ｍＬ）に溶解し、トリエチルアミン（０．６２２ｍＬ）を加えて０℃に冷却した。アクリル酸クロリド（０．３６３ｍＬ）を加え、室温まで徐々に上げて１４時間撹拌した。減圧下溶媒を留去し、得られた粗精製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル：旭硝子エスアイテック社製ＭＳ−ＧＥＬ Ｄ５０−６０−Ａ（Ｎ）１００ｇ，溶出液：ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１）により精製し、標題化合物（１．４６ｇ，収率７２％）を得た。
化合物（１Ｃ０ｂ−１）のスペクトルデータ；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：０．９９（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，３Ｈ），１．５６−２．０７（ｍ，１０Ｈ），２．２９（ｓ，３Ｈ），２．６３（ｍ，４Ｈ），４．４５（ｔ，Ｊ＝１３．０Ｈｚ，２Ｈ），４．６７（ｔ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ，２Ｈ），５．９７（ｄｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，１０．５Ｈｚ，１Ｈ），６．１９（ｄｄ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．０Ｈｚ，１Ｈ），６．５３（ｄｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，１７．５Ｈｚ，１Ｈ），６．９１（ｍ，２Ｈ），７．１０−７．２３（ｍ，９Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＣＦＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−１２０．２（ｍ，４Ｆ），−１２４．０（ｍ，２Ｆ），−１２４．２（ｍ，２Ｆ）。
［例４］不飽和脂肪酸エステル（１Ｃ０ａ−１）の合成
化合物（０１ｂ）を化合物（０１ａ）（２，２，３，３−テトラフルオロ−１，４−ブタンジオール：東京化成社製）２．９５ｇに換えた以外は例３と同様にして、化合物（１Ｃ０ａ−１）を合成し、標題化合物（３．３８ｇ，収率９５％）を得た。
Figure 2008026482
化合物（１Ｃ０ａ−１）のスペクトルデータ；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：０．９０（ｍ，３Ｈ），１．３３（ｍ，４Ｈ），１．６０（ｍ，６Ｈ），２．０１（ｍ，４Ｈ），２．５８（ｍ，４Ｈ），４．４４（ｔ，Ｊ＝１３．０Ｈｚ，２Ｈ），４．６７（ｔ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ，２Ｈ），５．９７（ｄｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，１０．５Ｈｚ，１Ｈ），６．１９（ｄｄ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ，１Ｈ），６．５３（ｍ，１Ｈ），６．９０（ｍ，２Ｈ），７．１４−７．２１（ｍ，６Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＣＦＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−１２０．２（ｍ，２Ｆ），−１２４．１（ｍ，２Ｆ）。
不飽和脂肪酸エステル（１Ｃ０ａ−１）の結晶相からネマチック相への相転移温度は１２１℃であった。また、不飽和脂肪酸エステル（１Ｃ０ａ−１）の６０℃における波長５８９ｎｍのレーザー光に対するΔｎは０．１２７８（外挿値）であった。
［例５］不飽和脂肪酸エステル（１Ｃ０ｃ−１）の合成
化合物（０１ｂ）を化合物（０１ｃ）（２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７−ドデカフルオロ−１，８−オクタンジオール：東京化成社製）６．５９ｇに換えた以外は例３と同様にして化合物（１Ｃ０ｃ−１）を合成し、標題化合物（４．５４ｇ，収率９５％）を得た。
Figure 2008026482
化合物（１Ｃ０ｃ−１）のスペクトルデータ；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：０．９０（ｍ，３Ｈ），１．３３（ｍ，４Ｈ），１．６０（ｍ，６Ｈ），２．０１（ｍ，４Ｈ），２．５８（ｍ，４Ｈ），４．４４（ｔ，Ｊ＝１３．０Ｈｚ，２Ｈ），４．６７（ｔ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ，２Ｈ），５．９７（ｄｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，１０．５Ｈｚ，１Ｈ），６．１９（ｄｄ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．５Ｈｚ，１Ｈ），６．５３（ｍ，１Ｈ），６．９０（ｍ，２Ｈ），７．１４−７．２１（ｍ，６Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＣＦＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−１２０．２（ｍ，６Ｆ），−１２４．１（ｍ，２Ｆ）。
不飽和脂肪酸エステル（１Ｃ０ｃ−１）の結晶相からネマチック相への相転移温度は１４７℃であった。また、不飽和脂肪酸エステル（１Ｃ０ｃ−１）の６０℃における波長５８９ｎｍのレーザー光に対するΔｎは０．１３６７（外挿値）であった。
［例６］不飽和脂肪酸エステル（１Ａ５ａ−１）の合成
上記で合成したジオール化合物（５１ａ）を用い、下記に示す合成ルートに従って、不飽和脂肪酸エステル（１Ａ５ａ−１）を合成した。以下にその詳細を記載する。
Figure 2008026482
（１）化合物（５２ａ）の合成
化合物（５１ａ）（１９．８５ｇ）及び、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン（２．５３ｇ）をジクロロメタン（１４００ｍＬ）に溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物（１．０３ｇ）を加えて４０℃で２４時間撹拌した。トリエチルアミン（０．８５３ｍＬ）を加えて減圧下溶媒を留去して粗精製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル：旭硝子エスアイテック社製 Ｍ．Ｓ．ＧＥＬ Ｄ−７５−１２０Ａ，５００ｇ，溶出液：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１〜１／１）により、標題化合物（１０．８ｇ，収率４７％）を得た。
化合物（５２ａ）のスペクトルデータ；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．５３−１．８６（ｍ，６Ｈ），２．６８（ｍ，１Ｈ），３．５８（ｍ，１Ｈ），３．７８−４．０５（ｍ，５Ｈ），４．７７（ｍ，１Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＣＦＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−７８．２（ｍ，２Ｆ），−８１．０（ｍ，２Ｆ），−８９．３（ｍ，４Ｆ）。
（２）化合物（１４Ａ５ａ−１）の合成
化合物（５２ａ）（３．００ｇ）をエーテル（６０ｍＬ）に溶解し、トリエチルアミン（３．９３ｍＬ）を加えた。０℃に冷却した後、１，１，２，２，３，３，４，４，４−ノナフルオロブタンスルホニルフルオリド（３．３０ｍＬ）を加え、徐々に室温に上げて、１４時間撹拌した。水（１００ｍＬ）、ｔ−ブチルメチルエーテル（６０ｍＬ）を加えて、有機層を飽和食塩水で洗浄し、乾燥後、溶媒を除いて１，１，２，２，３，３，４，４，４−ノナフルオロブタンスルホン酸２−（２−（１，１−ジフルオロ−２−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）エトキシ）−１，１，２，２−テトラフルオロエトキシ）−２，２−ジフルオロエチルの粗精製物（６．２９ｇ）を得た。この粗精製物及び化合物（１３Ａ−１）（４−シアノ−４’−ヒドロキシ−ビフェニル、ＳＹＮＴＨＯＮ社製、１．８６ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（６０ｍＬ）に溶解し、炭酸セシウム（９．３０ｇ）を加えて、８０℃で１時間撹拌した。水（８０ｍＬ）を加え、ｔ−ブチルメチルエーテル（６０ｍＬ×３回）で抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄した後、溶媒を除いて化合物（１４Ａ５ａ−１）の粗精製物（８．７０ｇ）を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル：旭硝子エスアイテック社製ＭＳ−ＧＥＬ Ｄ５０−６０−Ａ（Ｎ）２００ｇ，溶出液：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）により精製し、標題化合物（４．２７ｇ，収率９７％）を得た。
化合物（１４Ａ５ａ−１）のスペクトルデータ；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．５７−１．８０（ｍ，６Ｈ，ＣＨ２），３．５６（ｍ，１Ｈ），３．７６−４．０４（ｍ，３Ｈ），４．４１（ｔ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２Ｈ），４．７５（ｍ，１Ｈ），７．０６（ｍ，２Ｈ），７．５６（ｄｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，６．５Ｈｚ，２Ｈ），７．６８（ｍ，４Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＣＦＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−７７．８（ｍ，２Ｆ），−７８．２（ｍ，２Ｆ），−８９．２（ｍ，４Ｆ）。
（３）化合物（１５Ａ５ａ−１）の合成
化合物（１４Ａ５ａ−１）（４．２７ｇ）をメタノール（１００ｍＬ）に溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物（８０ｍｇ）を加えて室温で１５時間撹拌した。トリエチルアミン（０．１２９ｍＬ）を加え、減圧下溶媒を留去して粗精製物（３．８３ｇ）を得た。
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル：旭硝子エスアイテック社製ＭＳ−ＧＥＬ Ｄ５０−６０−Ａ（Ｎ） ６０ｇ，溶出液：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）により精製し、標題化合物（３．５６ｇ，収率９８％）を得た。
化合物（１５Ａ５ａ−１）のスペクトルデータ；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３．９３（ｔ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，２Ｈ），４．４２（ｔ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２Ｈ），７．０６（ｍ，２Ｈ），７．５６（ｍ，２Ｈ），７．６７（ｍ，４Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＣＦＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−７７．８（ｍ，２Ｆ），−８０．９（ｍ，２Ｆ），−８９．２（ｍ，４Ｆ）。
（４）不飽和脂肪酸エステル（１Ａ５ａ−１）の合成
化合物（１５Ａ５ａ−１）（３．５５ｇ）をジクロロメタン（４０ｍＬ）に溶解し、トリエチルアミン（１．５７ｍＬ）を加えて０℃に冷却した。アクリル酸クロリド（０．９１７ｍＬ）を加え、室温まで徐々に上げて１５時間撹拌した。減圧下溶媒を留去し、得られた粗精製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル：旭硝子エスアイテック社製ＭＳ−ＧＥＬ Ｄ５０−６０−Ａ（Ｎ）１００ｇ，溶出液：ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）により精製し、不飽和脂肪酸エステル（１Ａａ−１）３．２６ｇ（収率８２％）を得た。
不飽和脂肪酸エステル（１Ａ５ａ−１）のスペクトルデータ；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：４．４２（ｔ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２Ｈ），４．５４（ｔ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，２Ｈ），５．９５（ｄｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，１０．５Ｈｚ，１Ｈ），６．１６（ｄｄ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．０Ｈｚ，１Ｈ），６．５０（ｍ，１Ｈ），７．０６（ｍ，２Ｈ），７．５６（ｍ，２Ｈ），７．６７（ｍ，４Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＣＦＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−７７．８（ｍ，４Ｆ），−８９．２（ｍ，４Ｆ）。
［例７］不飽和脂肪酸エステル（１Ｂ５ａ−１）の合成
上記で合成した化合物（５２ａ）及びヒドロキシル化合物（１３Ｂ−１）を用い、下記に示す合成ルートに従って不飽和脂肪酸エステル（１Ｂ５ａ−１）を合成した。以下にその詳細を記載する。
Figure 2008026482
（１）化合物（１４Ｂ５ａ−１）の合成
化合物（５２ａ）（３．００ｇ）をエーテル（６０ｍＬ）に溶解し、トリエチルアミン（２．３２ｍＬ）を加えた。０℃に冷却した後、１，１，２，２，３，３，４，４，４−ノナフルオロブタンスルホニルフルオリド（１．９７ｍＬ）を加え、徐々に室温に上げて、２０時間撹拌した。水（１００ｍＬ）、ｔ−ブチルメチルエーテル（６０ｍＬ）を加えて、有機層を飽和食塩水で洗浄し、乾燥後、溶媒を除いて１，１，２，２，３，３，４，４，４−ノナフルオロブタンスルホン酸２−（２−（１，１−ジフルオロ−２−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）エトキシ）−１，１，２，２−テトラフルオロエトキシ）−２，２−ジフルオロエチルの粗精製物（５．３９ｇ）を得た。
この粗精製物と、前述のヒドロキシル化合物（１３Ｂ−１）（３．０７ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（４０ｍＬ）に溶解し、炭酸セシウム（９．５６ｇ）を加えて、８０℃で１時間撹拌した。水（５０ｍＬ）を加え、ｔ−ブチルメチルエーテル（５０ｍＬ×３回）で抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄した後、溶媒を除いて２−（２−（２−（１，１−ジフルオロ−２−（４−（（１Ｓ，４Ｓ）−４−（４−ペンチルフェニル）シクロヘキシル）フェノキシ）エトキシ）−１，１，２，２−テトラフルオロエトキシ）−２，２−ジフルオロエトキシ）−テトラヒドロ−２Ｈ−ピランの粗精製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル：旭硝子エスアイテック社製ＭＳ−ＧＥＬ Ｄ５０−６０−Ａ（Ｎ）１５０ｇ，溶出液：ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１）により精製し、標題化合物（３．７２ｇ、収率６９％）を得た。
化合物（１４Ｂ５ａ−１）のスペクトルデータ；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：０．９０（ｍ，３Ｈ），１．３３−２．０１（ｍ，２０Ｈ），２．５８（ｍ，４Ｈ），３．５６（ｍ，１Ｈ），３．８１−４．０１（ｍ，３Ｈ），４．３３（ｍ，２Ｈ），４．７６（ｍ，１Ｈ），６．８９（ｍ，２Ｈ），７．１１−７．２１（ｍ，６Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＣＦＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−７８．０（ｍ，２Ｆ），−７８．２（ｍ，２Ｆ），−８９．２（ｍ，４Ｆ）。
（２）化合物（１５Ｂ５ａ−１）の合成
化合物（１４Ｂ５ａ−１）（３．７２ｇ）をメタノール（５０ｍＬ）、テトラヒドロフラン（５０ｍＬ）の混合溶媒に溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物（５３ｍｇ）を加えて室温で３時間撹拌した。トリエチルアミン（０．０９３ｍＬ）を加え、減圧下溶媒を留去して粗精製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル：旭硝子エスアイテック社製ＭＳ−ＧＥＬ Ｄ５０−６０−Ａ（Ｎ）２００ｇ，溶出液：ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）により精製し、標題化合物（２．４９ｇ，収率７５％）を得た。
化合物（１５Ｂ５ｂ−１）のスペクトルデータ；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：０．９０（ｍ，３Ｈ），１．３３（ｍ，４Ｈ），１．５９（ｍ，６Ｈ），２．０１（ｍ，４Ｈ），２．５８（ｍ，４Ｈ），４．０８（ｍ，２Ｈ），４．４４（ｔ，Ｊ＝１３．０Ｈｚ，２Ｈ），６．９０（ｍ，２Ｈ），７．１１−７．２１（ｍ，６Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＣＦＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−１２０．３（ｍ，２Ｆ），−１２３．０（ｍ，２Ｆ），−１２４．１（ｍ，２Ｆ），−１２４．５（ｍ，２Ｆ）。
（３）不飽和脂肪酸エステル（１Ｂ５ａ−１）の合成
化合物（１５Ｂ５ａ−１）（２．４８ｇ）をジクロロメタン（４０ｍＬ）に溶解し、トリエチルアミン（０．８６８ｍＬ）を加えて０℃に冷却した。アクリル酸クロリド（０．４９４ｍＬ）を加え、室温まで徐々に上げて１５時間撹拌した。減圧下溶媒を留去し、得られた粗精製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル：旭硝子エスアイテック社製ＭＳ−ＧＥＬ Ｄ５０−６０−Ａ（Ｎ）３００ｇ，溶出液：ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１）により精製し、標題化合物（２．５５ｇ、収率９４％）を得た。
不飽和脂肪酸エステル（１Ｂ５ａ−１）のスペクトルデータ；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：０．９０（ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，３Ｈ），１．３３（ｍ，４Ｈ），１．６０（ｍ，６Ｈ），２．０１（ｍ，４Ｈ），２．５８（ｍ，４Ｈ），４．３３（ｔ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，２Ｈ），４．５３（ｔ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，２Ｈ），５．９４（ｍ，１Ｈ），６．１６（ｄｄ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．０Ｈｚ，１Ｈ），６．５１（ｍ，１Ｈ），６．８９（ｍ，２Ｈ），７．１１−７．２１（ｍ，６Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＣＦＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−７７．８（ｍ，２Ｆ），−７８．０（ｍ，２Ｆ），−８９．２（ｍ，４Ｆ）。
［例８］不飽和脂肪酸エステル（１Ｃ５ａ−１）の合成
上記で合成した化合物（５２ａ）及びヒドロキシル化合物（１３Ｃ−１）を用い、下記に示す合成ルートに従って不飽和脂肪酸エステル（１Ｃ５ａ−１）を合成した。以下にその詳細を記載する。
Figure 2008026482
（１）化合物（１４Ｃ５ａ−１）の合成
化合物（５２ａ）（２．２２ｇ）をエーテル（５０ｍＬ）に溶解し、トリエチルアミン（２．４５ｍＬ）を加えた。０℃に冷却した後、１，１，２，２，３，３，４，４，４−ノナフルオロブタンスルホニルフルオリド（２．０８ｍＬ）を加え、徐々に室温に上げて、４０時間撹拌した。水（１００ｍＬ）、ｔ−ブチルメチルエーテル（８０ｍＬ）を加えて、有機層を飽和食塩水で洗浄し、乾燥後、溶媒を除いて１，１，２，２，３，３，４，４，４−ノナフルオロブタンスルホン酸２−（２−（１，１−ジフルオロ−２−（４−（（１Ｓ，４Ｓ）−４−（２−メチル−４’−プロピルビフェニル−４−イル）シクロヘキシル）フェノキシ）エトキシ）−１，１，２，２−テトラフルオロエトキシ）−２，２−ジフルオロエチルの粗精製物（４．５３ｇ）を得た。
この粗精製物及び前述のヒドロキシル化合物（１３Ｃ−１）（１．３５ｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５０ｍＬ）に溶解し、炭酸セシウム（３．４４ｇ）を加えて、８０℃で２時間撹拌した。水（４０ｍＬ）を加え、ｔ−ブチルメチルエーテル（４０ｍＬ×３回）で抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄した後、溶媒を除いて２−（２−（２−（１，１−ジフルオロ−２−（４−（（１Ｓ，４Ｓ）−４−（２−メチル−４’−プロピルビフェニル−４−イル）シクロヘキシル）フェノキシ）エトキシ）−１，１，２，２−テトラフルオロエトキシ）−２，２−ジフルオロエトキシ）−テトラヒドロ−２Ｈ−ピランの粗精製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル：旭硝子エスアイテック社製ＭＳ−ＧＥＬ Ｄ５０−６０−Ａ（Ｎ）３００ｇ，溶出液：ヘキサン／酢酸エチル＝４０／１〜２０／１）により精製し、標題化合物（１．２８ｇ、収率４７％）を得た。
化合物（１４Ｃ５ａ−１）のスペクトルデータ；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：０．９９（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），１．５２−２．０９（ｍ，１６Ｈ），２．２９（ｓ，３Ｈ），２．６３（ｍ，４Ｈ），３．５７（ｍ，１Ｈ），３．７８−４．０５（ｍ，３Ｈ），４．３４（ｔ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２Ｈ），４．７６（ｍ，１Ｈ），６．９０（ｍ，２Ｈ），７．１１−７．２３（ｍ，９Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＣＦＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−７８．０（ｍ，２Ｆ），−７８．２（ｍ，２Ｆ），−８９．２（ｍ，４Ｆ）。
（２）化合物（１５Ｃ５ａ−１）の合成
化合物（１４Ｃ５ａ−１）（１．２８ｇ）をメタノール（３０ｍＬ）、テトラヒドロフラン（２０ｍＬ）の混合溶媒に溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物（３４ｍｇ）を加えて室温で１５時間撹拌した。トリエチルアミン（０．０２５ｍＬ）を加え、減圧下溶媒を留去して粗精製物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル：旭硝子エスアイテック社製ＭＳ−ＧＥＬ Ｄ５０−６０−Ａ（Ｎ）６０ｇ，溶出液：ヘキサン／酢酸エチル＝８／１）により精製し、標題化合物（０．８６２ｇ，収率７６％）を得た。
化合物（１５Ｃ５ａ−１）のスペクトルデータ；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：０．９９（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，３Ｈ），１．５６−２．１３（ｍ，１０Ｈ），２．２９（ｓ，３Ｈ），２．６３（ｍ，４Ｈ），３．９２（ｍ，２Ｈ），４．３５（ｔ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２Ｈ），６．９１（ｍ，２Ｈ），７．１１−７．２３（ｍ，９Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＣＦＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−７７．９（ｍ，２Ｆ），−８１．０（ｍ，２Ｆ），−８９．２（ｍ，４Ｆ）。
（３）不飽和脂肪酸エステル（１Ｃ５ａ−１）の合成
化合物（１５Ｃ５ａ−１）（０．８６２ｇ）をジクロロメタン（４０ｍＬ）に溶解し、トリエチルアミン（０．２８９ｍＬ）を加えて０℃に冷却した。アクリル酸クロリド（０．１７１ｍＬ）を加え、室温まで徐々に上げて１５時間撹拌した。減圧下溶媒を留去し、得られた粗精製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル：旭硝子エスアイテック社製ＭＳ−ＧＥＬ Ｄ５０−６０−Ａ（Ｎ）１００ｇ，溶出液：ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１）により精製し、標題化合物（０．９１５ｇ、収率９８％）を得た。
不飽和脂肪酸エステル（１Ｃ５ａ−１）のスペクトルデータ；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：０．９９（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，３Ｈ），１．５５−２．０５（ｍ，１０Ｈ），２．２９（ｓ，３Ｈ），２．６３（ｍ，４Ｈ），４．３４（ｔ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，２Ｈ），４．５４（ｔ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，２Ｈ），５．９５（ｄ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１Ｈ），６．１７（ｄｄ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ，１７．０Ｈｚ，１Ｈ），６．５１（ｄ，Ｊ＝１７．５Ｈｚ，１Ｈ），６．９０（ｍ，２Ｈ），７．１０−７．２２（ｍ，９Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ，溶媒：ＣＤＣｌ３，基準：ＣＦＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：−７７．８（ｍ，２Ｆ），−７８．０（ｍ，２Ｆ），−８９．２（ｍ，４Ｆ）。
不飽和脂肪酸エステル（１Ｃ５ａ−１）の結晶相からネマチック相への相転移温度は１３０℃であった。また、不飽和脂肪酸エステル（１Ｃ５ａ−１）の６０℃における波長５８９ｎｍのレーザー光に対するΔｎは０．１３２７（外挿値）であった。
［例９］重合性液晶組成物Ａ，Ａ１の調製
例１で得た不飽和脂肪酸エステル（１Ａ０ｂ−１）、下記化合物（２Ｂｂ−３）、下記化合物（２Ｂｂ−５）、下記化合物（２Ｃｃ−ＣＮ）及び下記化合物（２Ｄａ−３−ＣＮ）を１１：２１：２０：２７：２１（モル比）で混合して、重合性液晶組成物Ａを得た。
Figure 2008026482
重合性液晶組成物Ａは４２℃でネマチック相を示した。またネマチック相から等方相への相転移温度は６１℃であった。また、一度、等方性液体まで加熱してから冷却した際に発現するネマチック相は室温において２時間以上、保持された。
つぎに、重合性液晶組成物Ａに対して２質量％の光重合開始剤（商品名：イルガキュア９０７、チバスペシャリティケミカルズ社製）を添加し、重合性液晶組成物Ａ１を得た。
［例１０］重合性液晶組成物Ｂ，Ｂ１の調製
例２で得た不飽和脂肪酸エステル（１Ｂ０ｂ−１）、上記化合物（２Ｂｂ−３）、上記化合物（２Ｂｂ−５）、上記化合物（２Ｃｃ−ＣＮ）及び上記化合物（２Ｄａ−３−ＣＮ）を９：２２：２０：２７：２２（モル比）で混合し重合性液晶組成物Ｂを得た。
重合性液晶組成物Ｂは４５℃でネマチック相を示した。またネマチック相から等方相への相転移温度は６６℃であった。また、一度、等方性液体まで加熱してから冷却した際に発現するネマチック相は室温において２時間以上、保持された。
つぎに、重合性液晶組成物Ｂに対して２質量％の光重合開始剤（商品名：イルガキュア９０７、チバスペシャリティケミカルズ社製）を添加し、重合性液晶組成物Ｂ１を得た。
［例１１］重合性液晶組成物Ｃ，Ｃ１の調製
例３で得た化合物（１Ｃ０ｂ−１）、上記化合物（２Ｂｂ−３）、上記化合物（２Ｂｂ−５）、上記化合物（２Ｃｃ−ＣＮ）及び上記化合物（２Ｄａ−３−ＣＮ）を９：２２：２０：２７：２２（モル比）で混合し重合性液晶組成物Ｃを得た。
重合性液晶組成物Ｃは３９℃でネマチック相を示した。またネマチック相から等方相への相転移温度は６８℃であった。また、一度、等方性液体まで加熱してから冷却した際に発現するネマチック相は室温において２時間以上、保持された。
つぎに、重合性液晶組成物Ｃに対して２質量％の光重合開始剤（商品名：イルガキュア９０７、チバスペシャリティケミカルズ社製）を添加し、重合性液晶組成物Ｃ１を得た。
［例１２］重合性液晶組成物Ｄ，Ｄ１の調製
例３で得た化合物（１Ｃ０ｂ−１）、下記化合物（２Ｅｂ−３）、及び下記化合物（２Ｅｂ−５）を２：１：１（モル比）で混合し重合性液晶組成物Ｄを得た。
重合性液晶組成物Ｄは６８℃でネマチック相を示した。またネマチック相から等方相への相転移温度は１２４℃以上であった。また、一度、等方性液体まで加熱してから冷却した際に発現するネマチック相は室温において２時間以上、保持された。
つぎに、重合性液晶組成物Ｄに対して２質量％の光重合開始剤（商品名：イルガキュア９０７、チバスペシャリティケミカルズ社製）を添加し、重合性液晶組成物Ｄ１を得た。
Figure 2008026482
［例１３］重合性液晶組成物Ｅ，Ｅ１の調製
例４で得た化合物（１Ｃ０ａ−１）、上記化合物（２Ｅｂ−３）、及び上記化合物（２Ｅｂ−５）を２：１：１（モル比）で混合し重合性液晶組成物Ｅを得た。
重合性液晶組成物Ｅは５７℃でネマチック相を示した。またネマチック相から等方相への相転移温度は１２４℃以上であった。また、一度、等方性液体まで加熱してから冷却した際に発現するネマチック相は室温において２時間以上、保持された。
つぎに、重合性液晶組成物Ｅに対して２質量％の光重合開始剤（商品名：イルガキュア９０７、チバスペシャリティケミカルズ社製）を添加し、重合性液晶組成物Ｅ１を得た。
［例１４］重合性液晶組成物Ｆ，Ｆ１の調製
例５で得た化合物（１Ｃ０ｃ−１）、上記化合物（２Ｅｂ−３）、及び上記化合物（２Ｅｂ−５）を２：１：１（モル比）で混合し重合性液晶組成物Ｆを得た。
重合性液晶組成物Ｆは８１℃でネマチック相を示した。またネマチック相から等方相への相転移温度は１２４℃以上であった。また、一度、等方性液体まで加熱してから冷却した際に発現するネマチック相は室温において２時間以上、保持された。
つぎに、重合性液晶組成物Ｆに対して２質量％の光重合開始剤（商品名：イルガキュア９０７、チバスペシャリティケミカルズ社製）を添加し、重合性液晶組成物Ｆ１を得た。
［例１５］重合性液晶組成物Ｇ，Ｇ１の調製
例６で得た不飽和脂肪酸エステル（１Ａ５ａ−１）、上記化合物（２Ｂｂ−３）、上記化合物（２Ｂｂ−５）、上記化合物（２Ｃｃ−ＣＮ）及び上記化合物（２Ｄａ−３−ＣＮ）を１１：２１：２０：２７：２１（モル比）で混合して、重合性液晶組成物Ｇを得た。
重合性液晶組成物Ｇは３２℃でネマチック相を示した。またネマチック相から等方相への相転移温度は６１℃であった。また、一度、等方性液体まで加熱してから冷却した際に発現するネマチック相は室温において２時間以上、保持された。
つぎに、重合性液晶組成物Ｇに対して２質量％の光重合開始剤（商品名：イルガキュア９０７、チバスペシャリティケミカルズ社製）を添加し、重合性液晶組成物Ｇ１を得た。
［例１６］重合性液晶組成物Ｈ，Ｈ１の調製
例７で得た不飽和脂肪酸エステル（１Ｂ５ａ−１）、上記化合物（２Ｂｂ−３）、上記化合物（２Ｂｂ−５）、上記化合物（２Ｃｃ−ＣＮ）及び上記化合物（２Ｄａ−３−ＣＮ）を５：２３：２１：２８：２３（モル比）で混合して重合性液晶組成物Ｈを得た。
重合性液晶組成物Ｈは３７℃でネマチック相を示した。またネマチック相から等方相への相転移温度は６４℃であった。また、一度、等方性液体まで加熱してから冷却した際に発現するネマチック相は室温において２時間以上、保持された。
つぎに、重合性液晶組成物Ｈに対して２質量％の光重合開始剤（商品名：イルガキュア９０７、チバスペシャリティケミカルズ社製）を添加し、重合性液晶組成物Ｈ１を得た。
［例１７］重合性液晶組成物Ｉ，Ｉ１の調製
例８で得た不飽和脂肪酸エステル（１Ｃ５ａ−１）、上記化合物（２Ｂｂ−３）、上記化合物（２Ｂｂ−５）、上記化合物（２Ｃｃ−ＣＮ）及び上記化合物（２Ｄａ−３−ＣＮ）を９：２２：２０：２７：２２（モル比）で混合して重合性液晶組成物Ｉを得た。
重合性液晶組成物Ｉは３４℃でネマチック相を示した。またネマチック相から等方相への相転移温度は５２℃であった。また、一度、等方性液体まで加熱してから冷却した際に発現するネマチック相は室温において２時間以上、保持された。
つぎに、重合性液晶組成物Ｉに対して２質量％の光重合開始剤（商品名：イルガキュア９０７、チバスペシャリティケミカルズ社製）を添加し、重合性液晶組成物Ｉ１を得た。
［例１８］重合性液晶組成物Ｊ，Ｊ１の調製
例８で得た不飽和脂肪酸エステル（１Ｃ５ａ−１）、上記化合物（２Ｅｂ−３）及び上記化合物（３Ｅｂ−５）を２：１：１（モル比）で混合して重合性液晶組成物Ｊを得た。
重合性液晶組成物Ｊは２８℃でネマチック相を示した。またネマチック相から等方相への相転移温度は７８℃であった。また、一度、等方性液体まで加熱してから冷却した際に発現するネマチック相は室温において２時間以上、保持された。
つぎに、重合性液晶組成物Ｊに対して２質量％の光重合開始剤（商品名：イルガキュア９０７、チバスペシャリティケミカルズ社製）を添加し、重合性液晶組成物Ｊ１を得た。
［例１９］光学素子Ａの作製
縦２０ｃｍ、横２０ｃｍ、厚さ０．５ｍｍのガラス基板にポリイミド溶液をスピンコータで塗布して乾燥した後、ナイロンクロスで一定方向にラビング処理して支持体を作製した。
つぎに、前記ガラス基板上に、例９で調製した重合性液晶組成物Ａ１を濃度５０質量％になるようにキシレンに溶解し、このキシレン溶液をスピンコーター（３０００ｒｐｍ、３０秒）にて室温で塗布した。８０℃のホットプレート上で３分アニールした。塗布状態は均一であり、偏光顕微鏡で観察したところドメインの発生もなく均一な配向状態が得られていることが確認できた。３０℃において、強度８０ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を積算光量が５３００ｍＪ／ｃｍ２となるよう照射して光重合反応を行い光学素子Ａを得た。重合体の膜厚は約１μｍであった。光学素子Ａは基板のラビング方向に水平配向していた。光学素子Ａは可視域で透明であり、散乱も認められなかった。また、２５℃における波長５８９ｎｍのレーザー光に対するΔｎは０．１１４２であった。また、１５０℃、１０時間加熱してもΔｎの変化は見られず耐熱性に優れることを確認した。
［例２０］光学素子Ｂの作製
重合性液晶組成物Ａ１のかわりに、例１０で調製した重合性液晶組成物Ｂ１を用いた以外は例１９と同様にして光学素子Ｂを得た。
紫外線照射前において、塗布状態は均一であり、偏光顕微鏡で観察したところドメインの発生もなく均一な配向状態が得られていることが確認できた。重合体の膜厚は約１.５μｍであった。光学素子Ｂは可視域で透明であり、散乱も認められなかった。また、２５℃における波長５８９ｎｍのレーザー光に対するΔｎは０．１０９３であった。また、１５０℃、１０時間加熱してもΔｎの変化は見られず耐熱性に優れることを確認した。
［例２１］光学素子Ｃの作製
重合性液晶組成物Ａ１のかわりに、例１１で調製した重合性液晶組成物Ｃ１を用いた以外は例１９と同様にして光学素子Ｃを得た。
紫外線照射前において、塗布状態は均一であり、偏光顕微鏡で観察したところドメインの発生もなく均一な配向状態が得られていることが確認できた。重合体の膜厚は約１μｍであった。光学素子Ｃは可視域で透明であり、散乱も認められなかった。また、２５℃における波長５８９ｎｍのレーザー光に対するΔｎは０．１２３１であった。また、１５０℃、１０時間加熱してもΔｎの変化は見られず耐熱性に優れることを確認した。
［例２２］光学素子Ｄの作製
重合性液晶組成物Ａ１のかわりに、例１２で調製した重合性液晶組成物Ｄ１を用いた以外は例１９と同様にして光学素子Ｄを得た。
紫外線照射前において、塗布状態は均一であり、偏光顕微鏡で観察したところドメインの発生もなく均一な配向状態が得られていることが確認できた。重合体の膜厚は約０．８μｍであった。光学素子Ｄは可視域で透明であり、散乱も認められなかった。また、２５℃における波長５８９ｎｍのレーザー光に対するΔｎは０．０９８２であった。また、１５０℃、１０時間加熱してもΔｎの変化は見られず耐熱性に優れることを確認した。
［例２３］光学素子Ｅの作製
重合性液晶組成物Ａ１のかわりに、例１３で調製した重合性液晶組成物Ｅ１を用いた以外は例１９と同様にして光学素子Ｅを得た。
紫外線照射前において、塗布状態は均一であり、偏光顕微鏡で観察したところドメインの発生もなく均一な配向状態が得られていることが確認できた。重合体の膜厚は約１.５μｍであった。光学素子Ｅは可視域で透明であり、散乱も認められなかった。また、波長５８９ｎｍのレーザー光に対するΔｎは０．０９８９であった。また、１５０℃、１０時間加熱してもΔｎの変化は見られず耐熱性に優れることを確認した。
［例２４］光学素子Ｆの作製
重合性液晶組成物Ａ１のかわりに、例１４で調製した重合性液晶組成物Ｆ１を用いた以外は例１９と同様にして光学素子Ｆを得た。
紫外線照射前において、塗布状態は均一であり、偏光顕微鏡で観察したところドメインの発生もなく均一な配向状態が得られていることが確認できた。重合体の膜厚は約１.５μｍであった。光学素子Ｆは可視域で透明であり、散乱も認められなかった。また、２５℃における波長５８９ｎｍのレーザー光に対するΔｎは０．１４７３であった。また、１５０℃、１０時間加熱してもΔｎの変化は見られず耐熱性に優れることを確認した。
［例２５］光学素子Ｇの作製
縦２０ｃｍ、横２０ｃｍ、厚さ０．５ｍｍのガラス基板にポリイミド溶液をスピンコータで塗布して乾燥した後、ナイロンクロスで一定方向にラビング処理して支持体を作製した。
つぎに、前記ガラス基板上に、例１５で得た重合性液晶組成物Ｇ１を濃度５０質量％になるようにキシレンに溶解し、このキシレン溶液をスピンコーター（３０００ｒｐｍ、３０秒）にて室温で塗布した。８０℃のホットプレート上で３分アニールした。塗布状態は均一であり、偏光顕微鏡で観察したところドメインの発生もなく均一な配向状態が得られていることが確認できた。３０℃において、強度８０ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を積算光量が５３００ｍＪ／ｃｍ２となるよう照射して光重合反応を行い、光学素子Ｇを得た。重合体の膜厚は約１μｍであった。光学素子Ｇは基板のラビング方向に水平配向していた。光学素子Ａは可視域で透明であり、散乱も認められなかった。また、２５℃における波長５８９ｎｍのレーザー光に対するΔｎは０．０８７であった。
また、１５０℃、１０時間加熱してもΔｎの変化は見られず耐熱性に優れることを確認した。
［例２６］光学素子Ｈの作製
重合性液晶組成物Ｇ１のかわりに、例１６で得た重合性液晶組成物Ｈ１を用いた以外は例２５と同様にして光学素子Ｈを得た。
紫外線照射前において、塗布状態は均一であり、偏光顕微鏡で観察したところドメインの発生もなく均一な配向状態が得られていることが確認できた。重合体の膜厚は約１.５μｍであった。光学素子Ｈは可視域で透明であり、散乱も認められなかった。また、２５℃における波長５８９ｎｍのレーザー光に対するΔｎは０．１０９３であった。また、１５０℃、１０時間加熱してもΔｎの変化は見られず耐熱性に優れることを確認した。
［例２７］光学素子Ｉの作製
重合性液晶組成物Ｇ１のかわりに、例１７で得た重合性液晶組成物Ｉ１を用いた以外は例２５と同様にして光学素子Ｉを得た。
紫外線照射前において、塗布状態は均一であり、偏光顕微鏡で観察したところドメインの発生もなく均一な配向状態が得られていることが確認できた。重合体の膜厚は約１μｍであった。光学素子Ｉは可視域で透明であり、散乱も認められなかった。また、２５℃における波長５８９ｎｍのレーザー光に対するΔｎは０．０６５であった。また、１５０℃、１０時間加熱してもΔｎの変化は見られず耐熱性に優れることを確認した。
［例２８］光学素子Ｊの作製
重合性液晶組成物Ｇ１のかわりに、例１８で得た重合性液晶組成物Ｊ１を用いた以外は例２５と同様にして光学素子Ｊを得た。
紫外線照射前において、塗布状態は均一であり、偏光顕微鏡で観察したところドメインの発生もなく均一な配向状態が得られていることが確認できた。重合体の膜厚は約０.８μｍであった。光学素子Ｊは可視域で透明であり、散乱も認められなかった。また、２５℃における波長５８９ｎｍのレーザー光に対するΔｎは０．０４７であった。また、１５０℃、１０時間加熱してもΔｎの変化は見られず耐熱性に優れることを確認した。
［例２９］重合性液晶組成物Ｋ，Ｋ１の調製
上記化合物（２Ｂｂ−３）、上記化合物（２Ｂｂ−５）、上記化合物（２Ｃｃ−ＣＮ）及び上記化合物（２Ｄａ−３−ＣＮ）を２４：２２：３０：２４（モル比）で混合して、重合性液晶組成物Ｋを調製した。つぎに、重合性液晶組成物Ｋに対して２質量％の光重合開始剤（商品名：イルガキュア９０７、チバスペシャリティケミカルズ社製）を添加し、重合性液晶組成物Ｋ１を得た。
［例３０］
重合性液晶組成物Ａ１を、例２９で得た重合性液晶組成物Ｋ１に変更した以外は例１９と同様の方法で、ガラス基板上に塗布を行った。膜厚みは約１μｍであったが、偏光顕微鏡で観察したところ、ドメインが発生しており均一な配向状態が得られていなかった。塗布後、例１９と同様にして紫外線照射を行ったところ、重合性液晶組成物Ｋ１は硬化してポリマーが得られたが、散乱が激しく、透明な光学素子は得られなかった。
［例３１］重合性液晶組成物Ｌ，Ｌ１の調製
上記化合物（２Ｅｂ−３）、上記化合物（２Ｅｂ−５）、下記化合物（２Ｇａ−６−Ｍｅ）を２７．５：２７．５：４５（モル比）で混合して、重合性液晶組成物Ｌを調製した。つぎに、重合性液晶組成物Ｌに対して２質量％の光重合開始剤（商品名：イルガキュア９０７、チバスペシャリティケミカルズ社製）を添加し、重合性液晶組成物Ｌ１を得た。
Figure 2008026482
［例３２］
重合性液晶組成物Ａ１を、例３１で得た重合性液晶組成物Ｌ１に変更した以外は例１９と同様の方法で、ガラス基板上に塗布を行った。膜厚みは約１μｍであったが、偏光顕微鏡で観察したところ、ドメインが発生しており均一な配向状態が得られていなかった。塗布後、例１９と同様にして紫外線照射を行ったところ、重合性液晶組成物Ｌ１は硬化してポリマーが得られたが、散乱が激しく、透明な光学素子は得られなかった。
本発明の不飽和脂肪酸エステルを用いて調製される重合性液晶組成物は、膜厚むら及び配向乱れが同時に抑制されて広い面積への塗布に適し、室温に放置しても結晶が析出し難いので、重合物フィルムの製造が容易になる。また、透明性及び耐熱性に優れた光学異方性材料が製造され、偏光を変調する位相板等の材料として有効に利用できる。

なお、２００６年８月２９日に出願された日本特許出願２００６−２３２１２０号及び２００６年１２月２２日に出願された日本特許出願２００６−３４６６１７号の明細書、特許請求の範囲、及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。

Claims (9)

  1. 下式（１）で表される不飽和脂肪酸エステル。
    CH2=CR1-COO-(CH2)m-RF-(CH2)n-O-E1-(E2)k-(E3)h-E4-R2 (1)
    但し、式（１）中の記号は、以下の通りである。
    ＲＦ：炭素数２〜１２のポリフルオロアルキレン基、又は-CF2-(OCF2CF2)x-OCF2-で表される基（ｘは１〜６の整数）。
    Ｒ１：水素原子又はメチル基。
    Ｒ２：炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシ基、フッ素原子、又はシアノ基。
    Ｅ１：１，４−フェニレン基であり、該基中の炭素原子に結合した水素原子がフッ素原子、塩素原子又はメチル基に置換されていてもよい。
    Ｅ２、Ｅ３、Ｅ４：各々、独立に、１，４−フェニレン基又はトランス−１，４−シクロヘキシレン基であり、該基中の炭素原子に結合した水素原子がフッ素原子、塩素原子又はメチル基に置換されていてもよい。
    ｍ：１〜３の整数。
    ｎ：１〜３の整数。
    ｋ：０又は１。
    ｈ：０又は１。
  2. 下式（１）で表される不飽和脂肪酸エステルと下式（１）に該当しない重合性液晶化合物とを含有することを特徴とする重合性液晶組成物。
    CH2=CR1-COO-(CH2)m-RF-(CH2)n-O-E1-(E2)k-(E3)h-E4-R2 (1)
    但し、式（１）中の記号は、以下の通りである。
    ＲＦ：炭素数２〜１２のポリフルオロアルキレン基、又は-CF2-(OCF2CF2)x-OCF2-で表される基（ｘは１〜６の整数）。
    Ｒ１：水素原子又はメチル基。
    Ｒ２：炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシ基、フッ素原子、又はシアノ基。
    Ｅ１：１，４−フェニレン基であり、該基中の炭素原子に結合した水素原子がフッ素原子、塩素原子又はメチル基に置換されていてもよい。
    Ｅ２、Ｅ３、Ｅ４：各々、独立に、１，４−フェニレン基又はトランス−１，４−シクロヘキシレン基であり、該基中の炭素原子に結合した水素原子がフッ素原子、塩素原子又はメチル基に置換されていてもよい。
    ｍ：１〜３の整数。
    ｎ：１〜３の整数。
    ｋ：０又は１。
    ｈ：０又は１。
  3. 式（１）で表される不飽和脂肪酸エステルが液晶性を有する重合性液晶化合物である請求項２に記載の重合性液晶組成物。
  4. 前記式（１）に該当しない重合性液晶化合物の少なくとも一部が下式（２）で表される化合物である請求項２又は３記載の重合性液晶組成物。
    CH2=CR3-COO-(CH2)t-(O)p-E5-w-E6-(E7)q-(E8)s-R4 (2)
    但し、式（２）中の記号は、以下の通りである。
    Ｒ３：水素原子又はメチル基。
    Ｒ４：炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシ基、フッ素原子、又はシアノ基。
    Ｅ５、Ｅ６、Ｅ７、Ｅ８：各々、独立に、１，４−フェニレン基又はトランス−１，４−シクロヘキシレン基であり、該基中の炭素原子に結合した水素原子がフッ素原子、塩素原子又はメチル基に置換されていてもよい。
    ｗ：−ＯＣＯ−又は単結合。
    ｔ：０〜８の整数。
    ｐ：ｔが０のとき０、ｔが１〜８のとき１。
    ｑ：０又は１。
    ｓ：ｑが０のとき０、ｑが１のとき０又は１。
  5. 式（１）で表される不飽和脂肪酸エステルと前記式（１）に該当しない重合性液晶化合物との合計量が、重合性液晶組成物に対して７０質量％以上である請求項２〜４のいずれかに記載の重合性液晶組成物。
  6. 式（１）で表される不飽和脂肪酸エステルの量が、当該式（１）で表される不飽和脂肪酸エステルと式（１）に該当しない重合性液晶化合物との合計量に対して５〜５０モル％である請求項２〜５のいずれかに記載の重合性液晶組成物。
  7. 請求項２〜６のいずれかに記載の重合性液晶組成物を、当該組成物中の重合性液晶化合物が液晶相を示しかつ配向した状態で重合して得られる光学異方性材料。
  8. 請求項２〜６のいずれかに記載の重合性液晶組成物を、当該組成物中の重合性液晶化合物が液晶相を示しかつ配向した状態で重合して得られる重合体と、該重合体を支持する支持体とを有する光学素子。
  9. 位相板として用いられる請求項８に記載の光学素子。
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