JPWO2006001096A1

JPWO2006001096A1 - 重合性液晶化合物、液晶組成物、光学異方性材料、および光学素子

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Publication number: JPWO2006001096A1
Application number: JP2006528344A
Authority: JP
Inventors: 海田　由里子; 由里子海田; 裕道永山; 裕熊井
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 2004-06-23
Filing date: 2005-02-08
Publication date: 2008-04-17
Anticipated expiration: 2025-02-08
Also published as: CN1972895B; US20070104894A1; EP1760068A4; KR101158699B1; KR20070031336A; CN1972895A; EP1760068B1; ATE508105T1; WO2006001096A1; EP1760068A1; CN101863770B; US7442418B2; JP5012020B2; CN101863770A; DE602005027838D1

Abstract

光学異方性材料に要求される特性を満たし、青色レーザー光に対する耐久性に優れる新規化合物、該化合物を含む液晶組成物、該液晶組成物を用いた光学異方性材料および光学素子を提供する。下式（１）で表される化合物。ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＯＯ−（Ｌ）ｋ−Ｅ１−Ｅ２−Ｅ３−（Ｅ４）ｍ−（Ｅ５）ｎ−Ｒ２（１）ただし、式中の記号は以下の意味を示す。Ｒ１：水素原子またはメチル基。Ｒ２：炭素数１〜８のアルキル基。Ｌ：−（ＣＨ２）ｐＯ−、−（ＣＨ２）ｑ−、−Ｃｙ−ＣＯＯ−（Ｃｙはトランス−１，４−シクロヘキシレン基。）、−Ｃｙ−ＯＣＯ−、−Ｅ６−（ＣＨ２）２−、−Ｅ７−ＣＨ２Ｏ−、または−Ｅ８−Ｏ−（ただし、ｐおよびｑはそれぞれ独立に２〜８の整数。）。Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３、Ｅ４、Ｅ５、Ｅ６、Ｅ７、Ｅ８：それぞれ独立に１，４−フェニレン基またはトランス−１，４−シクロヘキシレン基（ただし、Ｅ１、Ｅ２、およびＥ３の少なくとも１つはトランス−１，４−シクロヘキシレン基であり、かつ、Ｌが−Ｃｙ−ＯＣＯ−である場合のＥ１はトランス−１，４−シクロヘキシレン基である）。ただし、前記の１，４−フェニレン基およびトランス−１，４−シクロヘキシレン基は、該基中の炭素原子に結合した水素原子がフッ素原子、塩素原子またはメチル基で置換されていてもよい。ｋ、ｍ、ｎ：それぞれ独立に０または１。ただし、ｋが１でありかつＬが−Ｃｙ−ＣＯＯ−、−Ｃｙ−ＯＣＯ−、−Ｅ６−（ＣＨ２）２−、−Ｅ７−ＣＨ２Ｏ−、または−Ｅ８−Ｏ−である場合、ｍおよびｎの少なくとも一方は０である。

Description

本発明は、新規な化合物、該化合物を含む液晶組成物、該液晶組成物を重合させてなる光学異方性材料、および光学素子に関する。

近年、光ディスクの大容量化を図るため、情報の書き込み、読み取りに使用されるレーザー光の短波長化が進んでいる。現在、ＣＤでは波長７８０ｎｍ、ＤＶＤでは波長６６０ｎｍのレーザー光が使用されているが、次世代光記録メディアでは、波長３００〜４５０ｎｍのレーザー光の使用が検討されている。これに伴い、波長３００〜４５０ｎｍのレーザー光（以下、青色レーザー光とも記す。）を変調する回折素子、位相板等の光学素子が必要となり、該波長帯のレーザー光に対応できる光学異方性材料が求められている。

一方、重合性官能基を有する液晶分子は、重合性モノマーとしての性質と液晶としての性質とを併有する。したがって、重合性官能基を有する液晶分子を配向させた後に重合反応を行うと、液晶分子の配向が固定された光学異方性材料が得られる。光学異方性材料は、メソゲン骨格に由来する屈折率異方性等の光学異方性を有し、該性質を利用して回折素子、位相板等に応用されている。

このような光学異方性材料としては、たとえば、下式（２）で表される化合物（ただし、式中のＱは、１，４−フェニレン基またはトランス−１，４−シクロヘキシレン基であり、Ｚはアルキル基である。）を含む液晶組成物を重合させてなる高分子液晶が報告されている（特開平１０−１９５１３８号公報参照。）。

また、一般に、回折素子や位相板用の光学異方性材料に求められる特性としては、以下の特性が挙げられる。
（１）光の吸収が少ないこと。
（２）面内光学特性（リタデーション値等）が均一なこと。
（３）素子を構成する他の材料と光学特性を合わせやすいこと。
（４）屈折率の波長分散が小さいこと。
（５）耐久性が良好なこと。

しかし、特開平１０−１９５１３８号公報に記載された高分子液晶等の、従来から知られた材料は、青色レーザー光に対する耐久性が不充分である問題があった。

本発明は、前記の問題点を解決するためになされたものであり、光学異方性材料、および光学素子に要求される特性を満たし、かつ青色レーザー光に対する耐久性が高い新規な化合物、該化合物を含む液晶組成物、該液晶組成物を重合してなる光学異方性材料、および光学素子を提供する。すなわち、本発明は以下の発明を提供する。

１．下式（１）で表される化合物。
ＣＨ_２＝ＣＲ^１−ＣＯＯ−（Ｌ）_ｋ−Ｅ^１−Ｅ^２−Ｅ^３−（Ｅ^４）_ｍ−（Ｅ^５）_ｎ−Ｒ^２（１）
ただし、式中の記号は以下の意味を示す。
Ｒ^１：水素原子またはメチル基。
Ｒ^２：炭素数１〜８のアルキル基。
Ｌ：−（ＣＨ_２）_ｐＯ−、−（ＣＨ_２）_ｑ−、−Ｃｙ−ＣＯＯ−（Ｃｙはトランス−１，４−シクロヘキシレン基。）、−Ｃｙ−ＯＣＯ−、−Ｅ^６−（ＣＨ_２）_２−、−Ｅ^７−ＣＨ_２Ｏ−、または−Ｅ^８−Ｏ−（ただし、ｐおよびｑはそれぞれ独立に２〜８の整数。）。
Ｅ^１、Ｅ^２、Ｅ^３、Ｅ^４、Ｅ^５、Ｅ^６、Ｅ^７、Ｅ^８：それぞれ独立に１，４−フェニレン基またはトランス−１，４−シクロヘキシレン基（ただし、Ｅ^１、Ｅ^２、およびＥ^３の少なくとも１つはトランス−１，４−シクロヘキシレン基であり、かつ、Ｌが−Ｃｙ−ＯＣＯ−である場合のＥ^１はトランス−１，４−シクロヘキシレン基である）。ただし、前記の１，４−フェニレン基およびトランス−１，４−シクロヘキシレン基は、該基中の炭素原子に結合した水素原子がフッ素原子、塩素原子またはメチル基で置換されていてもよい。
ｋ、ｍ、ｎ：それぞれ独立に０または１。ただし、ｋが１でありかつＬが−Ｃｙ−ＣＯＯ−、−Ｃｙ−ＯＣＯ−、−Ｅ^６−（ＣＨ_２）_２−、−Ｅ^７−ＣＨ_２Ｏ−、または−Ｅ^８−Ｏ−である場合、ｍおよびｎの少なくとも一方は０である。
２．上記１に記載の化合物から選ばれる２種以上の化合物を含むか、または、上記１に記載の化合物の１種以上と、上記１に記載の化合物以外の重合性液晶の１種以上とを含むことを特徴とする液晶組成物。
３．上記１に記載の化合物の量が、液晶組成物中の重合性液晶の合計量に対して５０〜１００質量％である上記２に記載の液晶組成物。
４.上記１に記載の化合物とそれ以外の重合性液晶との合計含有量が、液晶組成物に対して９０質量％以上である上記２に記載の液晶組成物。
５．液晶組成物中の全重合性液晶に対する上記１に記載の化合物の割合が２０モル％以上である、上記２〜４のいずれかに記載の液晶組成物。
６．上記２〜５のいずれかに記載の液晶組成物を、該液晶組成物が液晶相を示す状態で、かつ液晶が配向した状態で重合させてなることを特徴とする光学異方性材料。
７．光学異方性材料が波長３００〜４５０ｎｍのレーザー光を透過させて使用する光学異方性材料である、上記６に記載の光学異方性材料。
８．上記２〜５のいずれかに記載の液晶組成物を、１対の支持体間に挟持し、該液晶組成物が液晶相を示す状態で、かつ液晶が配向した状態で重合させてなることを特徴とする光学素子。
９．光学素子が波長３００〜４５０ｎｍのレーザー光を透過させて使用する光学素子である、上記８に記載の光学素子。
１０．上記８または９に記載の光学素子を用いてなる回折素子。
１１．上記８または９に記載の光学素子を用いてなる位相板。

本発明によれば、新規な化合物、該化合物を含む液晶組成物、該液晶組成物を重合させてなる光学異方性材料、および光学素子が得られる。該光学異方性材料、および光学素子は、青色レーザー光に対する耐久性に優れる。

本明細書においては、式（１）で表される化合物を化合物（１）とも記す。他の化合物についても同様に記す。「Ｐｈ」は１，４−フェニレン基を表し、「Ｃｙ」はトランス−１，４−シクロヘキシレン基を表す。これらの環基は非置換の基であってもよく、該基中の水素原子が該基中の炭素原子に結合した水素原子がフッ素原子、塩素原子またはメチル基で置換されていてもよく、それぞれ、非置換の基であることが好ましい。なお、環基が１，４−シクロヘキシレン基である場合、１位および４位の結合手はトランスの位置にある。また、アルキル基に構造異性の基が存在する場合はその全ての基を含み、直鎖アルキル基が好ましい。

液晶性と重合性とを併有する化合物を、以下、重合性液晶という。以下における波長の記載は、中心波長±２ｎｍの範囲にあることを意味する。また、屈折率異方性をΔｎと略記する。

本発明の化合物は、下式（１）で表される化合物である。この化合物（１）は、重合性と液晶性を併有する重合性液晶の一種である。
ＣＨ_２＝ＣＲ^１−ＣＯＯ−（Ｌ）_ｋ−Ｅ^１−Ｅ^２−Ｅ^３−（Ｅ^４）_ｍ−（Ｅ^５）_ｎ−Ｒ^２（１）
Ｒ^１は水素原子またはメチル基であり、水素原子が好ましい。Ｒ^１が水素原子である場合、後述する化合物（１）を含む液晶組成物を光重合させて光学異方性材料および光学素子を得る際に、重合反応が速やかに進行するので好ましい。また、光重合反応によって得られる光学異方性材料および光学素子の特性が外部環境（温度等）の影響を受けにくく、リタデーションの面内分布が小さい利点もある。

Ｒ^２は炭素数１〜８のアルキル基である。このことによって化合物（１）を含む液晶組成物の融点（Ｔ_ｍ）（すなわち、結晶相−ネマチック相相転移点）を低くできる。Ｒ^２としては、炭素数２〜６の該基が好ましい。また、化合物（１）が液晶性を示す温度範囲を広くできることから、Ｒ^２は直鎖構造であることが好ましい。

Ｌは、−（ＣＨ_２）_ｐＯ−、−（ＣＨ_２）_ｑ−、−Ｃｙ−ＣＯＯ−、−Ｃｙ−ＯＣＯ−、−Ｅ^６−（ＣＨ_２）_２−、−Ｅ^７−ＣＨ_２Ｏ−、または−Ｅ^８−Ｏ−である（ただし、ｐおよびｑはそれぞれ独立に２〜８の整数であり、４〜６の整数が好ましい。Ｅ^６、Ｅ^７、およびＥ^８は、１，４−フェニレン基またはトランス−１，４−シクロヘキシレン基であり、それぞれ非置換の基であることが好ましい。）。

Ｌとしては、−Ｃｙ−ＣＯＯ−、−Ｃｙ−ＯＣＯ−、−（ＣＨ_２）_ｐＯ−（好ましくは−（ＣＨ_２）_６Ｏ−）、および−Ｐｈ−（ＣＨ_２）_２Ｏ−が好ましい。

Ｌが−Ｃｙ−ＣＯＯ−である場合は、後述する重合反応を行って光学異方性材料および光学素子とした場合に、大きなΔｎを発現できる。他の重合性液晶との相溶性が良好であり、Ｔ_ｍを低くできる点ではＬが−Ｃｙ−ＯＣＯ−であることが好ましい。

また、一般に、重合性液晶を重合させると、重合反応の前後でΔｎの値が低下する傾向があるが、Ｌが−（ＣＨ_２）_ｐＯ−、−（ＣＨ_２）_ｑ−等のポリメチレン基を有する基である場合は、重合反応の前後における、Δｎ値の低下を抑えることができる。

ｋ、ｍ、およびｎ、はそれぞれ独立に０または１である。ただし、ｋが１でありかつＬが−Ｃｙ−ＣＯＯ−、−Ｃｙ−ＯＣＯ−、−Ｅ^６−（ＣＨ_２）_２−、−Ｅ^７−ＣＨ_２Ｏ−、または−Ｅ^８−Ｏ−である場合、ｍおよびｎの少なくとも一方は０である。

Ｅ^１、Ｅ^２、Ｅ^３、Ｅ^４、およびＥ^５は、それぞれ独立に１，４−フェニレン基またはトランス−１，４−シクロヘキシレン基である。化合物（１）が有する環基の数は３〜５個であり、Ｅ^１、Ｅ^２、およびＥ^３の少なくとも１つはＣｙであり、かつ、Ｌが−Ｃｙ−ＯＣＯ−である場合のＥ^１は、トランス−１，４−シクロヘキシレン基である。さらに、Ｅ^１、Ｅ^２、およびＥ^３の少なくとも１つはＰｈであることが好ましい。また、Ｐｈを複数個含む場合は、直接結合するＰｈの数は２個であることが好ましい。

「Ｅ^１−Ｅ^２−Ｅ^３」の構造としては、化合物（１）のΔｎを大きくできる点からは「Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ」が好ましい。このことにより大きなΔｎを示す液晶組成物の調製が容易になる。また、青色レーザー光の吸収を抑制できる点からは。「Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃｙ」が好ましい。

化合物（１）としては、下記化合物（１Ａ）および下記化合物（１Ｂ）が好ましい。

ＣＨ_２＝ＣＲ^１−ＣＯＯ−Ｌ−Ｅ^１−Ｅ^２−Ｅ^３−Ｒ^２；（１Ａ）
ＣＨ_２＝ＣＲ^１−ＣＯＯ−Ｅ^１−Ｅ^２−Ｅ^３−Ｒ^２；（１Ｂ）
化合物（１Ａ）としては下記化合物（１Ａａ１）〜（１Ａａ４）が好ましい。
ＣＨ_２＝ＣＲ^１−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｅ^１−Ｅ^２−Ｅ^３−Ｒ^２；（１Ａａ１）
ＣＨ_２＝ＣＲ^１−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｅ^１−Ｅ^２−Ｅ^３−Ｒ^２；（１Ａａ２）
ＣＨ_２＝ＣＲ^１−ＣＯＯ−（ＣＨ_２）_ｐＯ−Ｅ^１−Ｅ^２−Ｅ^３−Ｒ^２；（１Ａａ３）
ＣＨ_２＝ＣＲ^１−ＣＯＯ−Ｐｈ−（ＣＨ_２）_２−Ｅ^１−Ｅ^２−Ｅ^３−Ｒ^２；（１Ａａ４）
より具体的には下記化合物（１Ａａａ１）〜（１Ａａａ４）が好ましい
ＣＨ_２＝ＣＲ^１−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｒ^２；（１Ａａａ１）
ＣＨ_２＝ＣＲ^１−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｒ^２；（１Ａａａ２）
ＣＨ_２＝ＣＲ^１−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｒ^２；（１Ａａａ３）
ＣＨ_２＝ＣＲ^１−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｒ^２；（１Ａａａ４）
ＣＨ_２＝ＣＲ^１−ＣＯＯ−（ＣＨ_２）_ｐＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｒ^２；（１Ａａａ５）
ＣＨ_２＝ＣＲ^１−ＣＯＯ−Ｐｈ−（ＣＨ_２）_２−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｒ^２；（1Ａａａ６）

より具体的には、下記化合物が挙げられ、Ｒ^１が水素原子である化合物が好ましく、Ｒ２に相当する部分が炭素数２〜６の直鎖アルキル基である化合物が特に好ましい。化合物（１Ａａａ５１）〜（１Ａａａ５８）については、ｐが４〜６である化合物が好ましく、ｐが６である化合物が特に好ましい。
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−ＣＨ_３；（1Ａａａ11）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ_２Ｈ_５；（1Ａａａ12）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ_３Ｈ_７；（1Ａａａ13）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ_４Ｈ_９；（1Ａａａ14）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ_５Ｈ_１１；（1Ａａａ15）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ_６Ｈ_１３；（1Ａａａ16）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ_７Ｈ_１５；（1Ａａａ17）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ_８Ｈ_１７；（1Ａａａ18）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃｙ−ＣＨ_３；（１Ａａａ21）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ_２Ｈ_５；（1Ａａａ22）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ_３Ｈ_７；（1Ａａａ23）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ_４Ｈ_９；（1Ａａａ24）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ_５Ｈ₁₁ ；（1Ａａａ25）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ_６Ｈ₁₃ ；（1Ａａａ26）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ_７Ｈ₁₅ ；（1Ａａａ27）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ_８Ｈ₁₇ ；（1Ａａａ28）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−ＣＨ_３；（1Ａａａ31）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ_２Ｈ_５；（1Ａａａ32）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ_３Ｈ_７；（1Ａａａ33）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ_４Ｈ_９；（1Ａａａ34）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ_５Ｈ₁₁；（1Ａａａ35）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ_６Ｈ₁₃；（1Ａａａ36）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ_７Ｈ₁₅；（1Ａａａ37）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ_８Ｈ₁₇；（1Ａａａ38）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃｙ−ＣＨ_３；（1Ａａａ41）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ_２Ｈ_５；（1Ａａａ42）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ_３Ｈ_７；（1Ａａａ43）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ_４Ｈ_９；（1Ａａａ44）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ_５Ｈ₁₁；（1Ａａａ45）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ_６Ｈ₁₃；（1Ａａａ46）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ_７Ｈ₁₅；（１Ａａａ47）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ_８Ｈ₁₇；（１Ａａａ48）
ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−ＣＨ_３
ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ_２Ｈ_５
ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ_３Ｈ_７
ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ_４Ｈ_９
ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ_５Ｈ_１１
ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ_６Ｈ_１３
ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ_７Ｈ_１５
ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃ_８Ｈ_１７
ＣＨ_２＝ＣＲ^１−ＣＯＯ−（ＣＨ_２）_ｐＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−ＣＨ_３；（1Ａａａ51）
ＣＨ_２＝ＣＲ^１−ＣＯＯ−（ＣＨ_２）_ｐＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ_２Ｈ_５；（1Ａａａ52）
ＣＨ_２＝ＣＲ^１−ＣＯＯ−（ＣＨ_２）_ｐＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ_３Ｈ_７；（1Ａａａ53）
ＣＨ_２＝ＣＲ^１−ＣＯＯ−（ＣＨ_２）_ｐＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ_４Ｈ_９；（1Ａａａ54）
ＣＨ_２＝ＣＲ^１−ＣＯＯ−（ＣＨ_２）_ｐＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ_５Ｈ₁₁；{Ａａａ55}
ＣＨ_２＝ＣＲ^１−ＣＯＯ−（ＣＨ_２）_ｐＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ_６Ｈ₁₃；（1Ａａａ56）
ＣＨ_２＝ＣＲ^１−ＣＯＯ−（ＣＨ_２）_ｐＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ_７Ｈ₁₅；（1Ａａａ57）
ＣＨ_２＝ＣＲ^１−ＣＯＯ−（ＣＨ_２）_ｐＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ_８Ｈ₁₇；（1Ａａａ58）
ＣＨ_２＝ＣＲ^１−ＣＯＯ−Ｐｈ−（ＣＨ_２）_２−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−ＣＨ_３；(1Ａａａ61)
ＣＨ_２＝ＣＲ^１−ＣＯＯ−Ｐｈ−(ＣＨ_２)₂−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ_２Ｈ_５；(1Ａａａ62)
ＣＨ_２＝ＣＲ^１−ＣＯＯ−Ｐｈ−(ＣＨ_２)₂−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ_３Ｈ_７；(１Ａａａ63)
ＣＨ_２＝ＣＲ^１−ＣＯＯ−Ｐｈ−(ＣＨ_２)2−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ_４Ｈ_９；(1Ａａａ64)
ＣＨ_２＝ＣＲ^１−ＣＯＯ−Ｐｈ−(ＣＨ_２)₂−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ_５Ｈ₁₁；(１Ａａａ65)
ＣＨ_２＝ＣＲ^１−ＣＯＯ−Ｐｈ−(ＣＨ_２)₂−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ_６Ｈ₁₃；(１Ａａａ66)
ＣＨ_２＝ＣＲ^１−ＣＯＯ−Ｐｈ−(ＣＨ_２)₂−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ_７Ｈ₁₅；(1Ａａａ67)
ＣＨ_２＝ＣＲ^１−ＣＯＯ−Ｐｈ−(ＣＨ_２)₂−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ_８Ｈ₁₇；(1Ａａａ68）

化合物（１Ｂ）としては、下記化合物（１Ｂａ）および下記化合物（１Ｂｂ）が好ましい。
ＣＨ_２＝ＣＲ^１−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｒ^２・・・（１Ｂａ）
ＣＨ_２＝ＣＲ^１−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｒ^２・・・（１Ｂｂ）

化合物（１Ｂａ）としては、下記化合物が挙げられる。これらのうち、Ｒ^１が水素原子である下記化合物（１Ｂａ−１）〜（１Ｂａ−８）が好ましく、下記化合物（１Ｂａ−２）〜（１Ｂａ−６）が特に好ましい。
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−ＣＨ_３；（１Ｂａ−１）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ_２Ｈ_５；（１Ｂａ−２）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ_３Ｈ_７；（１Ｂａ−３）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ_４Ｈ_９；（１Ｂａ−４）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ_５Ｈ_１１；（１Ｂａ−５）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ_６Ｈ_１３；（１Ｂａ−６）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ_７Ｈ_１５；（１Ｂａ−７）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ_８Ｈ_１７；（１Ｂａ−８）
ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−ＣＨ_３；（１Ｂａ−９）
ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ_２Ｈ_５；（１Ｂａ−１０）
ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ_３Ｈ_７；（１Ｂａ−１１）
ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ_４Ｈ_９；（１Ｂａ−１２）
ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ_５Ｈ_１１；（１Ｂａ−１３）
ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ_６Ｈ_１３；（１Ｂａ−１４）
ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ_７Ｈ_１５；（１Ｂａ−１５）
ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｃ_８Ｈ_１７；（１Ｂａ−１６）

化合物（１Ｂｂ）としては下記化合物が挙げられ、Ｒ^１が水素原子である下記化合物（１Ｂｂ−１）〜（１Ｂｂ−８）が好ましく、下記化合物（１Ｂｂ−２）〜（１Ｂｂ−６）が特に好ましい。
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−ＣＨ_３；（１Ｂ−１）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ_２Ｈ_５；（１Ｂ−２）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ_３Ｈ_７；（１Ｂ−３）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ_４Ｈ_９；（１Ｂ−４）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ_５Ｈ_１１；（１Ｂ−５）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ_６Ｈ_１３；（１Ｂ−６）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ_７Ｈ_１５；（１Ｂ−７）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ_８Ｈ_１７；（１Ｂ−８）
ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−ＣＨ_３；（１Ｂ−９）
ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ_２Ｈ_５；（１Ｂ−１０）
ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ_３Ｈ_７；（１Ｂ−１１）
ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ_４Ｈ_９；（１Ｂ−１２）
ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ_５Ｈ_１１；（１Ｂ−１３）
ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ_６Ｈ_１３；（１Ｂ−１４）
ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ_７Ｈ_１５；（１Ｂ−１５）
ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｃ_８Ｈ_１７；（１Ｂ−１６）。

本発明の化合物（１）の製造方法について、具体例を挙げて説明する（ただし、式中の記号は前記と同じ意味を示す。）。

＜製造方法１＞
式（１）において、Ｌが−Ｃｙ−ＯＣＯ−、Ｅ^１がＣｙ、Ｅ^２がＰｈである場合の化合物（１）の合成方法としては、以下に示す方法が挙げられる。すなわち、下記化合物（Ａ）と式ＣＨ_２＝ＣＲ^１−Ｃ（Ｏ）Ｃｌで表される化合物とを反応させて、化合物（Ｂ）を得て、次に該化合物（Ｂ）と化合物（Ｃ）とをエステル化反応させる方法が挙げられる。

＜製造方法２＞
式（１）においてＬが−Ｃｙ−ＣＯＯ−、Ｅ^１がＣｙ、Ｅ^２がＰｈである場合の化合物（１）の合成方法としては、以下に示す方法が挙げられる。すなわち、下記化合物（Ｄ）と式ＣＨ_２＝ＣＲ^１−Ｃ（Ｏ）Ｃｌで表される化合物とをエステル化反応させて、下記化合物（Ｅ）を得て、次に該化合物（Ｅ）と下記化合物（Ｆ）とを縮合反応させる方法が挙げられる。なお、ＤＣＣはジシクロヘキシルカルボジイミドを表す。

＜製造方法３＞
化合物（１Ｂａ）は下記化合物（Ｇ）と、下記化合物（Ｈ）およびマグネシウムから調製したグリニア試薬とを反応させて下記化合物（Ｉ）を得て、該化合物（Ｉ）の脱水反応を行って下記化合物（Ｊ）を得て、該化合物（Ｊ）を還元して下記化合物（Ｋ）得て、該化合物（Ｋ）の脱保護反応を行って下記化合物（Ｍ）を得て、該化合物（Ｍ）と式ＣＨ_２＝ＣＲ^１−Ｃ（Ｏ）Ｃｌで表される化合物とをエステル化反応させる方法によって得られる。

＜製造方法４＞
式（１）において、Ｌが−（ＣＨ_２）_ｐＯ−であり、ｍ＝ｎ＝０であり、Ｅ^１＝Ｅ^３＝Ｐｈであり、Ｅ^２＝Ｃｙである場合の化合物（１）の合成方法としては、以下に示す方法が挙げられる。すなわち、前記化合物（Ｍ）と式ＣＨ_２＝ＣＲ^１−ＣＯＯ−（ＣＨ_２）_ｐ−Ｂｒで表される化合物とを反応させることによって得ることができる。

＜製造方法５＞
化合物（１Ｂｂ）は、の製造方法下記化合物（Ｎ）と下記化合物（Ｐ）とを反応させて化合物（Ｑ）を得て、該化合物（Ｑ）の脱保護反応を行って下記化合物（Ｒ）を得て、つぎに該化合物（Ｒ）と式ＣＨ_２＝ＣＲ^１−Ｃ（Ｏ）Ｃｌで表される化合物とを反応させてる方法によって得ることができる。

＜製造方法６＞
式（１）において、Ｌが−Ｐｈ−（ＣＨ_２）_２−、ｍ＝ｎ＝０、Ｅ^１＝Ｅ^２＝Ｐｈ、Ｅ^３＝Ｃｙである場合の化合物（１）の合成方法としては、以下の方法が挙げられる。すなわち、下記化合物（Ｓ）と下記化合物（Ｔ）とをカップリング反応させて下記化合物（Ｕ）を得て、該化合物（Ｕ）の脱保護反応を行って下記化合物（Ｖ）を得て、該化合物（Ｖ）と式ＣＨ_２＝ＣＲ^１−Ｃ（Ｏ）Ｃｌで表される化合物をエステル化反応させる方法が挙げられる。

本発明の化合物（１）は、３個、４個、または５個の環基が直接結合した構造を有していることにより、青色レーザー光に対する耐久性が良好である。

また、−Ｐｈ−ＣＯ−構造を含まないこと、波長４００ｎｍ以下の短波長領域においても光吸収のない環式飽和炭化水素基である−Ｃｙ−を有することにより、青色レーザー光の吸収が小さい。さらに、−Ｐｈ−を有する場合（特に２個以上のＰｈを有する場合）には、Δｎを大きくできる。

化合物（１Ａａａ１）〜（１Ａａａ４）のように、電子吸引性のアクリロイル基またはメタクリロイル基に対して、電子供与性の−Ｃｙ−が直結している場合は、エステル結合の安定化も耐久性の改善に寄与していると考えられる。また、一般に重合性液晶を重合させると、重合反応の前後でΔｎの値が低下する傾向があるが、化合物（１Ａａａ５）のようにアクリロイル基またはメタクリロイル基にポリメチレン基を有する構造が結合している場合は、Δｎ値の低下を抑制できる。

また、化合物（１Ｂａ）のように、ＰｈとＣｙとが交互に結合しており、共役が不連続となっている場合、該構造が青色レーザー光の吸収抑制に寄与していると考えられる。そして、該構造をとることによって、化合物（１）の融点（Ｔ_ｍ）を低くでき、他の化合物との相溶性も改善できる。

したがって、化合物（１）を用いることにより、青色レーザー光に対して充分な耐久性を有し、位相差等の特性にも優れる光学異方性材料および光学素子を提供できる。

本発明の化合物（１）は、高分子液晶を得るための液晶組成物の一成分として使用されることが好ましい。この場合、本発明の化合物（１）は、単独で充分広い液晶温度範囲を有し、特に液晶相を示す温度範囲が高温側に広い特徴を有する。高分子液晶を得るための液晶組成物が低温側においても液晶性を示すように、この液晶組成物は化合物（１）から選ばれる２種以上の化合物を含む液晶組成物、または化合物（１）と化合物（１）以外の重合性液晶とを含む液晶組成物であることが好ましい。このような液晶組成物とすることによって、液晶相を示す温度範囲をより広くできる。また、融点（Ｔ_ｍ）降下が生じるため、その取り扱いが容易になる。

液晶組成物が、化合物（１）から選ばれる２種以上の化合物を含む場合、相溶性を良好とするため、Ｒ^２部分以外は同一構造であり、Ｒ^２部分の炭素数が異なる化合物の２種以上を含むことが好ましい。具体的には、Ｒ^２が炭素数２〜４の直鎖アルキル基である化合物から選ばれる少なくとも１種と、Ｒ^２が炭素数５〜８の直鎖アルキル基である化合物から選ばれる少なくとも１種とを含有することが好ましく、Ｒ^２がｎ−プロピル基である化合物と、Ｒ^２がｎ−ペンチル基である化合物とを含有することが特に好ましい。また、メソゲン構造が同一である場合の化合物の２種以上を含むことも好ましい。

液晶組成物が、化合物（１）と化合物（１）以外の重合性液晶とを含む場合、化合物（１）以外の重合性液晶としては、アクリロイル基またはメタクリロイル基を有する化合物が好ましく、アクリロイル基を有する化合物が特に好ましい。また、この重合性液晶としては、青色レーザー光に対する耐久性が高いことが好ましいことより、そのメソゲン構造中に、−Ｐｈ−ＣＯ−構造を含まないことが好ましい。

化合物（１）以外の重合性液晶としては、下記化合物（３Ａ）〜（３Ｃ）が好ましい。以下、これらを総称して化合物（３）ともいう。
ＣＨ_２＝ＣＲ^３−ＣＯＯ−Ｐｈ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｚ^２−Ｒ^４・・・（３Ａ）
ＣＨ_２＝ＣＲ^５−ＣＯＯ−Ｚ^３−Ｚ^４−Ｒ^６・・・（３Ｂ）
ＣＨ_２＝ＣＲ^７−ＣＯＯ−（ＣＨ_２）_ｖ−Ｏ−Ｐｈ−Ｚ^５−Ｒ^８・・・（３Ｃ）

ただし、式中のＰｈおよびＣｙは前記と同じ意味を示し、その他の記号は以下の意味を示す。
Ｒ^３、Ｒ^５、Ｒ^７：それぞれ独立に水素原子またはメチル基。
Ｒ^４、Ｒ^６、Ｒ^８：それぞれ独立に炭素数１〜８のアルキル基。
Ｚ^２、Ｚ^３、Ｚ^４、Ｚ^５：それぞれ独立に１，４−フェニレン基またはトランス−１，４−シクロヘキシレン基。
ｖ：１〜８の整数。

化合物（３Ａ）〜化合物（３Ｃ）の具体例としては、下記化合物（３Ａａ）、下記化合物（３Ａｂ）、下記化合物（３Ｂｃ）、下記化合物（３Ｂｄ）、下記化合物（３Ｂｅ）、下記化合物（３Ｃｆ）、および下記化合物（３Ｃｇ）が挙げられる（ただし、式中のＰｈおよびＣｙは前記と同じ意味を示す。ｖ１およびｖ２はそれぞれ独立に１〜８の整数を示す。ａ〜ｇはそれぞれ独立に１〜８の整数を示し、２〜６の整数が好ましく、３または５が特に好ましい。）。これらの化合物は１種または２種以上を用いることができる。
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−（ＣＨ_２）_ａＨ（３Ａａ）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−ＯＣＯ−Ｃｙ−Ｃｙ−（ＣＨ_２）_ｂＨ（３Ａｂ）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｃｙ−（ＣＨ_２）_ｃＨ（３Ｂｃ）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−（ＣＨ_２）_ｄＨ（３Ｂｄ）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−（ＣＨ_２）_ｅＨ（３Ｂｅ）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−（ＣＨ_２）_ｖ１−Ｏ−Ｐｈ−Ｃｙ−（ＣＨ_２）_ｆＨ（３Ｃｆ）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−（ＣＨ_２）_ｖ２−Ｏ−Ｐｈ−Ｐｈ−（ＣＨ_２）_ｇＨ（３Ｃｇ）

液晶組成物を調製する場合の好ましい組み合わせは、化合物（１）の種類に応じて適宜選択され、たとえば、以下に示す組み合わせが好ましい。
（１）下記化合物（１Ａａａ１）と下記化合物（３Ｂｃ）とを含む液晶組成物、
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｒ^２（１Ａａａ１）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｃｙ−（ＣＨ_２）_ｃＨ（３Ｂｃ）
（２）下記化合物（１Ｂａ）と下記化合物（３Ｂｃ）とを含む液晶組成物、
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｒ^２（１Ｂａ）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｃｙ−（ＣＨ_２）_ｃＨ（３Ｂｃ）
（３）下記化合物（１Ｂａ）と下記化合物（３Ｂｄ）とを含む液晶組成物、
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｒ^２（１Ｂａ）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−（ＣＨ_２）_ｄＨ（３Ｂｄ）
（４）下記化合物（１Ｂｂ−３）、下記化合物（１Ｂｂ−５）、下記化合物（３Ｂｃ３）、および下記化合物（３Ｂｃ５）を含む液晶組成物。
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−（ＣＨ_２）_３Ｈ（１Ｂｂ−３）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−（ＣＨ_２）_５Ｈ（１Ｂｂ−５）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｃｙ−（ＣＨ_２）_３Ｈ（３Ｂｃ３）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｃｙ−Ｃｙ−（ＣＨ_２）_５Ｈ（３Ｂｃ５）。
（５）下記化合物（１Ａａａ５）と下記化合物（Ｂａ）とを含む液晶組成物。
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−（ＣＨ_２）_ｐＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｒ^２；（1Ａａａ５）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｒ^２；（１Ｂａ）
（６）下記化合物（１Ａａａ６）と下記化合物（３Ｂｃ）とを含む液晶組成物。
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−（ＣＨ_２）_２−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｒ^２；（1Ａａａ６）
ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−Ｐｈ−Ｃｙ−Ｐｈ−Ｒ^２；（１Ｂａ）

高分子液晶を製造するための液晶組成物としては、重合性液晶を７５質量％以上含む液晶組成物であり、９０質量％以上含む液晶組成物が好ましい。この液晶組成物は、非液晶性の重合性化合物や非重合性の液晶化合物を含んでもよい。液晶組成物としては、非液晶性重合性化合物や非重合性液晶化合物を実質的に含まず、重合性液晶を９０質量％以上、特に９５質量％以上、含む液晶組成物が好ましい。本発明において、高分子液晶を製造するための液晶組成物としては、液晶組成物中の全重合性液晶に対して化合物（１）を少なくとも５質量％含む液晶組成物が好ましい。

本発明において高分子液晶を製造するために適した液晶組成物は、前記のように化合物（１）の２種以上を含有する液晶組成物、および、化合物（１）の１種以上と化合物（３）の１種以上とを含有する液晶組成物である。これらの液晶組成物における化合物（１）と化合物（３）の合計量は、液晶組成物中の全重合性液晶に対して５０〜１００質量％であることが好ましく、８０〜１００質量％であることが特に好ましい。

さらに、液晶組成物中の重合性液晶が実質的に化合物（１）のみからなるか、または化合物（１）と化合物（３）のみからなる液晶組成物がとりわけ好ましい。化合物（１）と化合物（３）とが併用される場合は、両者の合計量に対する化合物（１）の割合は２０モル％以上であることが好ましい。特に液晶相を示す温度範囲を拡げること等を目的として化合物（３）を併用する場合、その効果をより発揮させるためには両者の合計に対する化合物（１Ａ）の割合は２０〜７０モル％が好ましく、化合物（１Ｂａ）の割合は２０〜９０モル％が好ましく、化合物（１Ｂｂ）の割合は２０〜７０モル％が好ましい。

本発明の液晶組成物は、化合物（１）および化合物（３）等の重合性液晶以外の成分（以下、他の成分と記す。）を含んでいてもよい。他の成分としては、重合開始剤、重合禁止剤、カイラル剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、光安定剤、二色性色素等が挙げられる。

液晶組成物に含まれる化合物（１）および化合物（３）等の重合性液晶の総量（以下、「液晶の総量」と記す。）、および、他の成分の割合は用途によって調整することが好ましい。たとえば、他の成分としてカイラル剤を使用する場合、液晶の総量は、液晶組成物に対して２０〜９５質量％が好ましく、５０〜９５質量％が特に好ましい。カイラル剤の量は、液晶組成物に対して５〜８０質量％が好ましく、５〜５０質量％が特に好ましい。

他の成分として二色性色素を使用する場合、液晶の総量は、液晶組成物に対して８０〜９９質量％が好ましく、８２〜９７質量％が特に好ましい。二色性色素の量は、液晶組成物に対して１〜２０質量％が好ましく、３〜１８質量％が特に好ましい。

他の成分として、紫外線吸収剤、酸化防止剤、光安定剤等を使用する場合は、これらの成分の量は液晶組成物に対して５質量％以下が好ましく、２質量％以下が特に好ましい。この場合の液晶の総量は、液晶組成物に対して９５〜１００質量％が好ましく、９８〜１００質量％が特に好ましい。重合開始剤の割合については後述する。

つぎに、本発明の光学異方性材料について説明する。本発明の光学異方性材料は、前記液晶組成物を、該液晶組成物が液晶相を示す状態でかつ液晶が配向した状態で重合反応を行うことによって得られる。

液晶組成物が液晶相を示す状態に保つためには、雰囲気温度をネマチック相−等方相相転移温度（Ｔ_ｃ）以下にすればよいが、Ｔ_ｃに近い温度では液晶組成物のΔｎがきわめて小さいので、雰囲気温度の上限は（Ｔ_ｃ−１０）℃以下とすることが好ましい。

重合反応としては、光重合反応および熱重合反応等が挙げられ、光重合反応が好ましい。光重合反応に用いる光としては、紫外線または可視光線が好ましい。光重合反応を行う場合は光重合開始剤を用いることが好ましく、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ベンゾイン類、ベンジル類、ミヒラーケトン類、ベンゾインアルキルエーテル類、ベンジルジメチルケタール類、およびチオキサントン類等から適宜選択される。光重合開始剤は１種または２種以上を使用できる。光重合開始剤の量は、液晶組成物の全体量に対して０．１〜５質量％が好ましく、０．３〜２質量％が特に好ましい。

つぎに本発明の光学素子について説明する。本発明の光学素子は、配向処理が施された１対の支持体間に前記液晶組成物を挟持し、該液晶組成物が液晶相を示す状態でかつ液晶が配向した状態で重合反応を行うことによって得られる。

支持体としては、ガラス製または樹脂製の透明基板に配向処理を施した支持体が好ましい。配向処理は、綿、羊毛、ナイロン、ポリエステル等の繊維で透明基板表面を直接ラビングする方法、透明基板表面にポリイミド配向膜を積層した後に該配向膜表面を上記繊維等でラビングする方法、透明基板表面に無機材料を斜方蒸着する方法等によって行うことが好ましい。

つぎに、配向処理が施された面にガラスビーズなどのスペーサを配置し、複数枚の支持体を所望の間隔に制御して対向させ、支持体間に液晶組成物を挟持した後に重合反応を行う。重合反応は、前記光学異方性材料を作製する場合の重合反応と同様に行うことができる。重合反応によって得られた光学素子は、支持体に挟持したまま用いてもよく、支持体から剥離して用いてもよい。

本発明の光学異方性材料および光学素子は、青色レーザー光に対して良好な耐久性を示すので、該レーザー光を透過させて使用する光学異方性材料および光学素子として有用である。特に、該レーザー光の位相状態および／または波面状態を変調する用途に使用される光学異方性材料や該光学異方性材料からなる部材を有する光学素子として有用である。たとえば、偏光ホログラム等の回折素子、位相板等として光ヘッド装置に搭載して使用される。偏光ホログラムとしては、レーザー光源からの出射光が光ディスクの情報記録面によって反射されて発生する信号光を分離し、受光素子へ導光する例が挙げられる。位相板としては、１／２波長板として使用し、レーザー光源からの出射光の位相差制御を行う例、１／４波長板として光路中に設置し、レーザー光源の出力を安定化する例が挙げられる。

以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されない。ただし、例１〜例２０は実施例であり、例２１は比較例である。なお、以下の例における光重合開始剤は、チバスペシャリティーケミカルズ社製のイルガキュアー９０７を用いた。

［例１］化合物（１Ａａａ１３）の合成例
［例１−１］化合物（Ｅ−１）の合成例

滴下装置、撹拌機を装備した３つ口フラスコ中に化合物（Ｄ−１）（２５ｇ）、トリエチルアミン（２１．７ｇ）、ＴＨＦ（３００ｍＬ）を加えた。そこにアクリル酸クロリド（１８．８ｇ）を、反応温度が２０℃を超えないように氷冷しながら滴下した。滴下終了後、室温で２４時間撹拌を行い、濃塩酸（２ｍＬ）、水（２００ｍＬ）およびジエチルエーテル（２００ｍＬ）を反応液に添加して分液した後、有機層を回収した。回収した有機層を水洗した後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無水硫酸マグネシウムをろ別した後、溶媒を留去することによって化合物（Ｅ−１）を含む粗生成物（３１ｇ）を得た。

［例１−２］化合物（１Ａａａ１３）の合成例

撹拌機を装備した３つ口フラスコ中に、例１−１で得た化合物（Ｅ−１）を含む粗生成物（９．３ｇ）、化合物（Ｆ−１）（１４．４ｇ）、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）（１６．７ｇ）、ジメチルアミノピリジン（１．８ｇ）、ジクロロメタン（３００ｍＬ）を加え、室温で２４時間撹拌した。

撹拌終了後、不溶物をろ過し、ろ液に１ｍｏｌ／ＬのＨＣｌ水溶液（１００ｍＬ）を加えて分液した後、有機層を回収した。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムを加えて乾燥した。無水硫酸マグネシウムをろ過後、溶媒を留去して粗結晶を得た。粗結晶をジクロロメタン（３０ｍＬ）に溶解し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開液：ヘキサン／酢酸エチル＝６／４、容量比）により精製し、目的物を含む分画を得た。該分画を濃縮して得られた白色粉末結晶を、ヘキサン／ジクロロメタン（８／２、容量比）（２００ｍＬ）から再結晶して化合物（１Ａａａ１３）（１０．６ｇ）を得た。収率は４８％であった。

化合物（１Ａａａ１３）の結晶からネマチック相への相転移温度は１３４℃、ネマチック相から等方相への相転移温度は２９９．６℃（外挿値）であった。また、化合物（１Ａａａ１３）の６０℃における波長５８９ｎｍのレーザー光に対するΔｎは０．１８６３（外挿値）であった。

化合物（１Ａａａ１３）の^１ＨＮＭＲスペクトルの結果は以下の通りであった。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、内部標準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：０．９７（ｔ、３Ｈ）、１．４〜１．８（ｍ、１２Ｈ）、２．０〜２．４（ｍ、７Ｈ）、２．６〜２．７（ｍ、３Ｈ）、４．８１（ｍ、２Ｈ）、５．８〜６．７（ｍ、３Ｈ）、７．２〜７．４（ｄｄ、８Ｈ）。

［例２］化合物（１Ａａａ５３−６）の合成例

化合物（Ｍ−１）（５．００ｇ、０．０１７モル）、式ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯ−（ＣＨ_２）_６−Ｂｒで表される化合物（３．３７ｇ、０．０１９モル）、炭酸カリウム（４．２２ｇ、０．０３１モル）、ヨウ化カリウム（０．４０ｇ、０．００２モル）、および脱水アセトン（２００ｍＬ）の混合物を、２４時間加熱還流した。ジエチルエーテル（１００ｍＬ）、水（２００ｍL）を加えて分液し、有機層を回収した。有機層を１Ｍ塩酸（１００ｍＬ）で洗浄し、つぎに飽和塩化ナトリウム溶液（２００ｍＬ）で洗浄した後、再度有機層を回収した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濾過によって無水硫酸マグネシウムを除去した。減圧下に溶媒を留去し、得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（展開液：ジクロロメタン／ヘキサン＝５／５、容量比）により精製し、目的物を含む分画を得た。該分画を濃縮することによって粉末結晶を得た。この粉末結晶にヘキサン（１００ｍＬ）を加えて再結晶を行い、化合物（１Ａａａ５３−６）（５．６４ｇ）を得た。収率は７４％であった。

化合物（１Ａａａ５３−６）の結晶相からネマチック相への相転移温度は１１０℃、ネマチック相から等方相への相転移温度は２００℃（外挿値）であった。また、化合物（１Ａａａ５３−６）の８０℃における波長５８９ｎｍのレーザー光に対するΔｎは０．０９０３であった。

化合物（１Ａａａ５３−６）のＮＭＲスペクトル；
¹ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、内部標準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）０．９（ｔ、３Ｈ）、１．３〜１．８（ｍ、１８Ｈ）、２．３（ｔ、２Ｈ）、２．５〜２．７（ｍ、２Ｈ）、３．９（ｔ、２Ｈ）、４．２（ｔ、２Ｈ）、５．８〜６．４（ｄｄ、３Ｈ）、７．０〜７．２（ｍ、８Ｈ）。

［例３］化合物（１Ａａａ６３）の合成例
［例３−１］化合物（Ｕ−１）の合成例

還流装置、撹拌機を装備した１Ｌの４つ口フラスコに、既報（Ｊ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，ＰａｒｔＡ,２７,４５３（１９８９））にしたがって合成した化合物（Ｓ−１）（１８．８ｇ、０．０６５モル）、化合物（Ｔ−１）（１５．８ｇ、０．０６４ｇ）、Ｐｄ［Ｐ（Ｃ_６Ｈ_５）_３］_４（５．５５ｇ）、２０％炭酸ナトリウム水溶液（４００ｍＬ）、脱水テトラヒドロフラン（６００ｍＬ）を加え、窒素気流下、７０℃にて２４時間加熱撹拌を行った。反応終了後、ジエチルエーテル（２００ｍＬ）、水（２００ｍＬ）を加えて、有機層を回収した。有機層を１Ｍ塩酸（１００ｍＬ）、飽和食塩水（１００ｍＬ）で洗浄した後、再度有機層を回収した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濾過によって無水硫酸マグネシウムを除去した。溶媒を減圧下に留去し、得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（展開液：ジクロロメタン／ヘキサン＝５／５、容量比）により精製し、目的物を含む分画を得た。該分画を濃縮することによって粉末結晶を得た。この粉末結晶にヘキサン（１００ｍＬ）を加えて再結晶を行い、化合物（Ｕ−１）（１７．２ｇ）を得た。収率は６５％であった。

［例３−２］化合物（Ｖ−１）の合成例

例３−１で得た化合物（Ｕ−１）（１０．０ｇ、０．０６４モル）と脱水ジクロロメタン（２００ｍＬ）との混合物中に、三臭化ホウ素（２．７５ｇ、０．０６４モル）を滴下した。滴下操作は、反応液の温度が１０℃を超えないよう、氷冷しながら行った。室温で４時間撹拌を続けた後、水およびジエチルエーテルを加えて分液し、有機層を回収した。回収した有機層を飽和炭酸ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムを加えて乾燥した。減圧濾過によって無水硫酸マグネシウムを除去し、濾液を濃縮することによって粉末結晶を得た。ジクロロメタンとヘキサンとの混合溶媒（９０ｍＬ）を用いて再結晶を行い、化合物（Ｖ−１）（９．２７ｇ）を得た。収率は９６％であった。

［例３−３］化合物（１Ａａａ６３）の合成例

還流装置、撹拌機、滴下装置を装備した５００ｍＬの４つ口フラスコに例３−２で得た化合物（Ｖ−１）（８．０ｇ、０．０２モル）、トリエチルアミン（３．１２ｇ、０．０３モル）、テトラヒドロフラン（２００ｍＬ）を加えた。窒素気流下で、内温が２０℃を超えないように氷冷しながら、アクリル酸クロリド（２．８８ｇ、０．０３モル）を滴下した。２４時間撹拌した後、濃塩酸（２ｍＬ）、氷（２０ｇ）、および水（３０ｍＬ）の混合物を添加して分液し、有機層を回収した。例３−１と同様に後処理および再結晶を行い、化合物（１Ａａａ６３）（７．０５ｇ）を得た。収率は７８％であった。

化合物（１Ａａａ６３）の結晶相からネマチック相への相転移温度は２００℃、ネマチック相から等方相への相転移温度は３７０℃（外挿値）であった。また、化合物（１Ａａａ６３）の６０℃における波長５８９ｎｍのレーザー光に対するΔｎは０．２４４３（外挿値）であった。

化合物（１Ａａａ６３）のＮＭＲスペクトル;
¹ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、内部標準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）０．９６（ｔ、３Ｈ）、１．１〜１．４（ｍ、９Ｈ）、１．９１（ｍ、４Ｈ）、２．５１（ｍ、１Ｈ）、２．８８（ｔ、４Ｈ）、５．９〜６．７(ｍ、３Ｈ)、７．０〜７．２（ｄｄ、４Ｈ）、７．４〜７．６（ｄｄ、８Ｈ）。

［例４］化合物（１Ｂａ−３）の合成例

化合物（Ｍ−１）（３．０ｇ、０．０１０モル）、テトラヒドロフラン（７０ｍＬ）、およびトリエチルアミン（１．２７ｇ、０．０１２モル）の混合物に、アクリル酸クロリド（１．１０ｇ、０．０１２モル）を添加した。滴下操作は、反応液の温度が２０℃を超えないよう、氷冷しながら行った。２４時間撹拌した後、濃塩酸（２ｍＬ）、氷（２０ｇ）および水（３０ｍＬ）の混合物を加えて分液し、有機層を回収した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液（４０ｍＬ）で洗浄し、つぎに水洗した後、再度有機層を回収した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濾過によって無水硫酸マグネシウムを除去した。濾液をカラムクロマトグラフィー（展開液：ジクロロメタン／ヘキサン＝５／５、容量比）により精製し、目的物を含む分画を得た。該分画を濃縮することによって粉末結晶を得た。この粉末結晶にジクロロメタンとヘキサンとの混合溶媒（９０ｍＬ）を加えて再結晶を行い、化合物（１Ｂａ−３）（２．７ｇ）を得た。収率は７６％であった。

化合物（１Ｂａ−３）の結晶相からネマチック相への相転移温度は１２４℃、ネマチック相から等方相への相転移温度は２００℃（外挿値）であった。また、化合物（１Ｂａ−３）の５０℃における波長５８９ｎｍのレーザー光に対するΔｎは０．０８（外挿値）であった。

化合物（１Ｂａ−３）の^１ＨＮＭＲスペクトルを以下に示す。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ_３、内部標準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）０．９（ｔ、３Ｈ）、１．４〜１．８（ｍ、１０Ｈ）、２．５〜２．７（ｍ、４Ｈ）、６．０〜６．６（ｄｄ、３Ｈ）、７．０〜７．２（ｓ、８Ｈ）。

［例５］化合物（１Ｂｂ−３）の合成例
［例５−１］化合物（Ｑ−１）の合成例

還流装置、撹拌機を装備した１Ｌの４つ口フラスコに化合物（Ｎ−１）（１８．２ｇ、０．０６４モル）、化合物（Ｐ）（９．７５ｇ、０．０６４モル）、Ｐｄ［Ｐ（Ｃ_６Ｈ_５）_３］_４（５．５５ｇ、０．００４８モル）、２０％炭酸ナトリウム水溶液（４００ｍＬ）、テトラヒドロフラン（６４０ｍＬ）を加え、窒素気流下、７０℃にて２４時間反応を行った。反応終了後、水およびジエチルエーテルを加えて分液し、有機層を回収した。回収した有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液（４０ｍＬ）で洗浄し、つぎに水洗し、再度有機層を回収した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濾過によって無水硫酸マグネシウムを除去した。濾液をカラムクロマトグラフィー（展開液：ジクロロメタン／ヘキサン＝５／５、容量比）により精製して目的物を含む分画を得た。該分画を濃縮することによって粉末結晶を得た。この粉末結晶にジクロロメタンとヘキサンとの混合溶媒（９０ｍＬ）を加えて再結晶を行い、化合物（Ｑ−１）（１７．４ｇ）を得た。収率は８６％であった。

［例５−２］化合物（Ｒ−１）の合成例

還流装置、撹拌機、滴下装置を装備した５００ｍＬの４つ口フラスコに例５−１で得た化合物（Ｑ−１）（１０ｇ、０．０３２モル）、ジクロロメタン（３００ｍＬ）を加えた。窒素気流下にて、１ｍｏｌ／Ｌの三臭化ホウ素−ジクロロメタン溶液（３４ｍＬ）を３０分かけて滴下した。滴下操作は、内温が１０℃を超えないように氷冷しながら行った。室温で２時間撹拌を続けた後、水およびジエチルエーテルを加えて分液し、有機層を回収した。回収した有機層を飽和炭酸ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムを加えて乾燥した。減圧濾過によって無水硫酸マグネシウムを除去し、濾液を濃縮することによって粉末結晶を得た。ジクロロメタンとヘキサンとの混合溶媒（９０ｍＬ）を用いて再結晶を行い、化合物（Ｒ−１）（８．９３ｇ）を得た。収率は９４％であった。

［例５−３］化合物（１Ｂｂ−３）の合成例

還流装置、撹拌機、滴下装置を装備した５００ｍＬの４つ口フラスコに例５−２で得た化合物（Ｒ−１）（８．０ｇ、０．０２７モル）、トリエチルアミン（３．４０ｇ、０．０３３モル）、テトラヒドロフラン（３００ｍＬ）を加えた。窒素気流下で、内温が２０℃を超えないように氷冷しながら、アクリル酸クロリド（２．９４ｇ、０．０３３モル）を滴下した。２４時間撹拌した後、濃塩酸（２ｍＬ）、氷（２０ｇ）、および水（３０ｍＬ）の混合物を添加して分液し、有機層を回収した。例１−１と同様に後処理および再結晶を行い、化合物（１Ｂｂ−３）（８．１ｇ）を得た。収率は８６％であった。

化合物（１Ｂｂ−３）の結晶相からネマチック相への相転移温度は１６０℃、ネマチック相から等方相への相転移温度は１９８℃（外挿値）であった。また、化合物（１Ｂｂ−３）の５０℃における波長５８９ｎｍのレーザー光に対するΔｎは０．１８（外挿値）であった。

化合物（１Ｂｂ−３）の¹ＨＮＭＲスペクトルを以下に示す。
¹ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ₃、内部標準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：０．９１（ｔ、３Ｈ）、１．０９(ｍ、２Ｈ)、１．１〜１．４（ｍ、５Ｈ）、１．５０（ｍ、２Ｈ）、１．９１（ｔ、４Ｈ）、２．５１（ｍ、１Ｈ）、５．９〜６．７(ｍ、３Ｈ)、７．０〜７．３（ｄｄ、４Ｈ）、７．４〜７．６（ｄｄ、４Ｈ）。

［例６］化合物（１Ｂｂ−５）の合成例
［例６−１］化合物（Ｑ−２）の合成例

化合物（Ｎ−１）（１８．２ｇ、０．０６４モル）を化合物（Ｎ−２）（２０．１ｇ、０．０６４モル）に変更する以外は、例５−１と同様の操作を行い、化合物（Ｑ−２）（１８．７ｇ）を得た。収率は８７％であった。

［例６−２］化合物（Ｒ−２）の合成例

化合物（Ｑ−１）（１０ｇ、０．０３２モル）を例６−１で合成した化合物（Ｑ−２）（１０．９ｇ、０．０３２モル）に変更する以外は例５−２と同様にして化合物（Ｒ−２）（１９．７ｇ）を得た。収率は８２％であった。

［例６−３］化合物（１Ｂｂ−５）の合成例

化合物（Ｒ−１）（８．０ｇ、０．０２７モル）を例６−２で得た化合物（Ｒ−２）（８．８ｇ、０．０２７モル）に変更する以外は、例５−３と同様にして化合物（１Ｂｂ−５）（８．０ｇ）を得た。収率は８２％であった。

化合物（１Ｂｂ−５）の結晶相からネマチック相への相転移温度は１６０℃、ネマチック相から等方相への相転移温度は１９８℃（外挿値）であった。また、化合物（１Ｂｂ−５）の５０℃における波長５８９ｎｍのレーザー光に対するΔｎは０．１８（外挿値）であった。

化合物（１Ｂｂ−５）の¹ＨＮＭＲスペクトルを以下に示す。
¹ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ₃、内部標準：ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：０．９１(ｔ、３Ｈ)、１．０９(ｍ、２Ｈ)、１．１〜１．４（ｍ、９Ｈ）、１．５０（ｍ、２Ｈ）、１．９１（ｔ、４Ｈ）、２．５１（ｍ、１Ｈ）、５．９〜６．７(ｍ、３Ｈ)、７．０〜７．３（ｄｄ、４Ｈ）、７．４〜７．６（ｄｄ、４Ｈ）。

［例７］液晶組成物の調製例（その１）
例１で合成した化合物（１Ａａａ１３）と、下記化合物（３Ｂｃ３）とを１：１の割合（モル比）で混合して液晶組成物Ａを得た。液晶組成物Ａは４３．４℃で結晶化した。また、ネマチック相から等方相への相転移温度は１２５℃以上であった。つぎに、液晶組成物Ａに光重合開始剤を液晶組成物Ｂに対して０．５質量％添加し、液晶組成物Ａ１を得た。

［例８］液晶組成物Ｂの調製例（その２）
例２で得た化合物（１Ａａａ５３−６）と例４で得た化合物（１Ｂａ−３）とを、１：１（モル比）で混合して液晶組成物Ａを得た。液晶組成物Ｂは５９．０℃〜１１６．６℃の間でネマチック相を示した。つぎに、液晶組成物Ｂに光重合開始剤を液晶組成物Ａに対して０．５質量％添加し、液晶組成物Ｂ１を得た。

［例９］液晶組成物の調製例（その３）
例３で得た化合物（１Ａａａ６３）と下記化合物（３Ｂｃ３）と下記化合物（３Ｂｃ５）を、２：１：１（モル比）で混合して液晶組成物Ｃを得た。液晶組成物Ｃは５０．０℃〜１２０．６℃の間でネマチック相を示した。つぎに、液晶組成物Ｃに光重合開始剤を液晶組成物Ｃに対して０．５質量％添加し、液晶組成物Ｃ１を得た。

［例１０］液晶組成物の調製例（その４）
例４で得た化合物（１Ｂａ−３）と前記化合物（３Ｂｃ５）とを、１：１（モル比）で混合して液晶組成物Ｄを得た。液晶組成物Ａは４５．４℃〜９２．１℃の間でネマチック相を示した。つぎに、液晶組成物Ｄに光重合開始剤を液晶組成物Ｄに対して０．５質量％添加し、液晶組成物Ｄ１を得た。

［例１１］液晶組成物の調製例（その５）
例４で得た化合物（１Ｂａ−３）と下記化合物（３Ｂｄ−３）とを、１：１（モル比）で混合して液晶組成物Ｅを得た。液晶組成物Ｅは４３．７℃〜９０．８℃の間でネマチック相を示した。つぎに、液晶組成物Ｅに、光重合開始剤を液晶組成物Ｅに対して０．５質量％添加し、液晶組成物Ｅ１を得た。

［例１２］液晶組成物の調製例（その６）
例５で得た化合物（１Ｂｂ−３）、例６で得た化合物（１Ｂｂ−５）、前記化合物（３Ｂｃ３）、および前記化合物（３Ｂｃ５）をモル比で１：１：１：１で混合して、液晶組成物Ｆを得た。液晶組成物Ｆは７７℃以上でネマチック相を示した。またネマチック相から等方相への相転移温度は１２４℃以上であった。つぎに、液晶組成物Ｆに光重合開始剤を液晶組成物Ｆに対して、それぞれ０．５質量％、１．０質量％添加し、液晶組成物Ｆ１、液晶組成物Ｆ２を得た。

［例１３］液晶組成物の調製例（その７）
例１２と同様の化合物を使用し、混合比を変更して液晶組成物Ｇを得た。化合物（１Ｂｂ−３）、化合物（１Ｂｂ−５）、化合物（３Ｂｃ３）、化合物（３Ｂｃ５）の混合比は７：７：１８：１８（モル比）とした。
液晶組成物Ｇは３０℃以上でネマチック相を示した。またネマチック相から等方相への相転移温度は１２４℃以上であった。
つぎに、液晶組成物Ｇに光重合開始剤を液晶組成物Ｇに対して、０．５質量％添加し、液晶組成物Ｇ１を得た。

[例１４]光学素子Ａの作製および評価例
縦５ｃｍ、横５ｃｍ、厚さ０．５ｍｍのガラス基板にポリイミド溶液をスピンコータで塗布して乾燥した後、ナイロンクロスで一定方向にラビング処理して支持体を作製した。
配向処理を施した面が向かい合うように２枚の支持体を接着剤を用いて貼り合わせてセルを作製した。接着剤には、直径４μｍのガラスビーズを添加し、支持体の間隔が４μｍになるように調整した。

つぎに、前記セル内に、例７で得た液晶組成物Ａ１を１００℃で注入した。８０℃において、強度８０ｍＷ／ｃｍ^２の紫外線を積算光量が５３００ｍＪ／ｃｍ^２となるよう照射して光重合反応を行い、光学素子Ａを得た。光学素子Ａはラビング方向に沿って水平配向していた。光学素子Ａの波長５８９ｎｍのレーザー光に対するΔｎは０．０４６であった。また、光学素子Ａは可視光領域で透明であり、散乱も認められなかった。

また、光学素子ＡにＫｒレーザー（波長４０７ｎｍ、４１３ｎｍのマルチモード）を照射し、青色レーザー光曝露加速試験を行った。照射条件は、温度２５℃、積算曝露エネルギー１５Ｗ×ｈｏｕｒ／ｍｍ^２とした。加速試験前のΔｎに対する試験後のΔｎの低下率は１％未満であり、波長４０５ｎｍのレーザー光の透過率の低下率は１％未満であったことから、光学素子Ａは青色レーザー光に対する耐久性に優れることを確認した。

［例１５］光学素子Ｂの作製例および評価例
液晶組成物Ａ１を、例８で得た液晶組成物Ｂ１に変更する以外は、例１４と同様の方法で光学素子Ｂを得た。光学素子Ｂはラビング方向に沿って水平配向していた。光学素子Ｂの波長５８９ｎｍのレーザー光に対するΔｎは０．１１９であった。また、光学素子Ｂは可視光領域で透明であり、散乱も認められなかった。

光学素子Ｂに対して、例１４と同様の方法で青色レーザー光曝露加速試験を行った。加速試験前のΔｎに対する試験後のΔｎの低下率は１％未満であり、波長４０５ｎｍのレーザー光の透過率の低下率は１％未満であったことから、光学素子Ｂは青色レーザー光に対する耐久性に優れることを確認した。

［例１６］光学素子Ｃの作製例および評価例
液晶組成物Ａ１を、例９で得た液晶組成物Ｃ１に変更する以外は、例１４と同様の方法で光学素子Ｃを得た。光学素子Ｃはラビング方向に沿って水平配向していた。光学素子Ｃの波長５８９ｎｍのレーザー光に対するΔｎは０．０６８であった。また、光学素子Ｃは可視光領域で透明であり、散乱も認められなかった。

光学素子Ｃに対して、例１４と同様の方法で青色レーザー光曝露加速試験を行った。加速試験前のΔｎに対する試験後のΔｎの低下率は１％未満であり、波長４０５ｎｍのレーザー光の透過率の低下率は１％未満であったことから、光学素子Ｃは青色レーザー光に対する耐久性に優れることを確認した。

［例１７］光学素子Ｄの作製例および評価例
液晶組成物Ａ１を、例１０で得た液晶組成物Ｄ１に変更する以外は、例１４と同様の方法で光学素子Ｄを得た。光学素子Ｄはラビング方向に沿って水平配向していた。光学素子Ｄの波長５８９ｎｍのレーザー光に対するΔｎは０．０５５であった。また、光学素子Ｄは可視光領域で透明であり、散乱も認められなかった。

光学素子Ｄに対し、例１４と同様の方法で青色レーザー光曝露加速試験を行った。加速試験前のΔｎに対する試験後のΔｎの低下率は１％未満であり、波長４０５ｎｍのレーザー光の透過率の低下率は１％未満であったことから、光学素子Ｄは青色レーザー光に対する耐久性に優れることを確認した。

［例１８］光学素子Ｅの作製例および評価例
液晶組成物Ａ１を、例１１で得た液晶組成物Ｅ１に変更する以外は、例１４と同様の方法で光学素子Ｅを得た。光学素子Ｅは基板のラビング方向に水平配向していた。波長５８９ｎｍのレーザー光に対するΔｎは０．０５８であった。また、光学素子Ｅは可視光領域で透明であり、散乱も認められなかった。

光学素子Ｅに対して例１４と同様の方法で青色レーザー光曝露加速試験を行った。加速試験前のΔｎに対する試験後のΔｎの低下率は１％未満であり、波長４０５ｎｍのレーザー光の透過率の低下率は１．７％であったことから、光学素子Ｅは青色レーザー光に対する耐久性に優れることを確認した。

［例１９］光学素子の作製例（その１）
［例１９−１ａ］光学素子Ｆの作製例
液晶組成物Ａ１を、例１２で得た液晶組成物調製した液晶組成物Ｆ１に変更し、注入温度を１１０℃とし、重合温度を９０℃とする以外は、例１４と同様の方法で光学素子Ｆ１を得た。光学素子Ｆ１は基板のラビング方向に水平配向していた。光学素子Ｆ１は可視域で透明であり、散乱も認められなかった。また、波長５８９ｎｍのレーザー光に対するΔｎは０．０６４であった。

［例１９−１ｂ］光学素子Ｆ１の評価例
光学素子Ｆ１に対し、例１４と同様の方法で青色レーザー光曝露加速試験を行った。加速試験前のΔｎに対する試験後のΔｎの低下率は１％未満であり、波長４０５ｎｍのレーザー光の透過率の低下率は１％未満であったことから、光学素子Ｆ１は青色レーザー光に対する耐久性に優れることを確認した。

［例１９−２］偏光ホログラムの作製例
ピッチ９μｍ、深さ３μｍの矩形格子をもつガラス基板上に、配向剤としてポリイミドをスピンコータで塗布し、熱処理した。つぎにナイロンクロスで格子と平行方向にラビング処理を行って支持体を作製した。前記の支持体を２枚準備し、配向処理が施された面が対向するように接着剤を用いて貼り合わせてセルを作製した。その際、配向方向が平行になるようにした。

このセル内に、例１２で得た液晶組成物Ｆ２を１００℃で注入した。つぎに、９０℃において、強度４０ｍＷ／ｃｍ^２の紫外線を３分間照射して光重合反応を行い、光学素子Ｆ２を得た。光学素子Ａ２の片面に１／４波長板を積層し、偏光ホログラムビームスプリッタを作製した。この偏光ホログラムビームスプリッタを光ヘッド装置に搭載したところ、波長６５０ｎｍのレーザー光に対して２７％の光利用効率を得た。

［例２０］光学素子の作製例
［例２０−１］光学素子Ｇの作製例
液晶組成物Ａ１を例１３で得た液晶組成物Ｇ１とする以外は例１４と同様の方法で光学素子Ｇを得た。光学素子Ｇは基板のラビング方向に水平配向していた。光学素子Ｇは可視域で透明であり、散乱も認められなかった。また、波長５８９ｎｍのレーザー光に対するΔｎは０．０３９であった。

［例２０−２］光学素子Ｇの評価例
光学素子Ｇに対して、例１４と同様の方法で青色レーザー光曝露加速試験を行った。加速試験前のΔｎに対する試験後のΔｎの低下率は１％未満であり、また、波長４０５ｎｍのレーザー光に対する透過率の低下率は１％未満であったことから、光学素子Ｇは青色レーザー光に対する耐久性に優れることを確認した。

［例２１］
［例２１−１］液晶組成物の調製例（その８）
下記化合物（４ａ）、下記化合物（４ｂ）、下記化合物（４ｃ）、下記化合物（４ｄ）を１：１：１：１（質量比）で混合し、液晶組成物Ｈを調製した。つぎに、液晶組成物Ｈに光重合開始剤を液晶組成物Ｈに対して０．５質量％添加し、液晶組成物Ｈ１を得た。

［例２１−２］光学素子Ｈの作製・評価例
液晶組成物Ａ１を、例２１−１で得た液晶組成物Ｈ１に変更する以外は、例１４と同様の方法で光学素子Ｈを得た。波長５８９ｎｍのレーザー光に対するΔｎは０．０４６であった。また、光学素子Ｈは可視光領域で透明であり、散乱も認められなかった。

光学素子Ｈに対して例１４と同様の方法で青色レーザー光曝露加速試験を行った。加速試験前のΔｎに対する試験後のΔｎの低下率は３０％であった。また、試験後の波長４０５ｎｍのレーザー光の透過率は試験前の６０％に低下していた。

本発明の新規化合物は、光学異方性材料に要求される特性を満たし、かつ青色レーザー光に対する耐久性に優れた化合物である。本発明の新規化合物を含む液晶組成物を重合してなる光学異方性材料、および光学素子は青色レーザー光に対する耐久性に優れることから、青色レーザー光を変調する回折素子および位相板等の材料として有効に用いうる。

なお、本出願の優先権主張の基礎となる、日本特許願２００４−１８５０９０号（２００４年６月２３日に日本特許庁に出願）、日本特許願２００４−１８７７８８号（２００４年６月２５日に日本特許庁に出願）および日本特許願２００４−１８７７９５号（２００４年６月２５日に日本特許庁に出願）の全明細書の内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。

Claims

下式（１）で表される化合物。
ＣＨ_２＝ＣＲ^１−ＣＯＯ−（Ｌ）_ｋ−Ｅ^１−Ｅ^２−Ｅ^３−（Ｅ^４）_ｍ−（Ｅ^５）_ｎ−Ｒ^２（１）
ただし、式中の記号は以下の意味を示す。
Ｒ^１：水素原子またはメチル基。
Ｒ^２：炭素数１〜８のアルキル基。
Ｌ：−（ＣＨ_２）_ｐＯ−、−（ＣＨ_２）_ｑ−、−Ｃｙ−ＣＯＯ−（Ｃｙはトランス−１，４−シクロヘキシレン基。）、−Ｃｙ−ＯＣＯ−、−Ｅ^６−（ＣＨ_２）_２−、−Ｅ^７−ＣＨ_２Ｏ−、または−Ｅ^８−Ｏ−（ただし、ｐおよびｑはそれぞれ独立に２〜８の整数。）。
Ｅ^１、Ｅ^２、Ｅ^３、Ｅ^４、Ｅ^５、Ｅ^６、Ｅ^７、Ｅ^８：それぞれ独立に１，４−フェニレン基またはトランス−１，４−シクロヘキシレン基（ただし、Ｅ^１、Ｅ^２、およびＥ^３の少なくとも１つはトランス−１，４−シクロヘキシレン基であり、かつ、Ｌが−Ｃｙ−ＯＣＯ−である場合のＥ^１はトランス−１，４−シクロヘキシレン基である）。ただし、前記の１，４−フェニレン基およびトランス−１，４−シクロヘキシレン基は、該基中の炭素原子に結合した水素原子がフッ素原子、塩素原子またはメチル基で置換されていてもよい。
ｋ、ｍ、ｎ：それぞれ独立に０または１。ただし、ｋが１でありかつＬが−Ｃｙ−ＣＯＯ−、−Ｃｙ−ＯＣＯ−、−Ｅ^６−（ＣＨ_２）_２−、−Ｅ^７−ＣＨ_２Ｏ−、または−Ｅ^８−Ｏ−である場合、ｍおよびｎの少なくとも一方は０である。
請求項１に記載の化合物から選ばれる２種以上の化合物を含むか、または、請求項１に記載の化合物の１種以上と、請求項１に記載の化合物以外の重合性液晶の１種以上とを含むことを特徴とする液晶組成物。
請求項１に記載の化合物の量が、液晶組成物中の重合性液晶の合計量に対して５０〜１００質量％である請求項２に記載の液晶組成物。
請求項１に記載の化合物とそれ以外の重合性液晶との合計含有量が、液晶組成物に対して９０質量％以上である請求項２に記載の液晶組成物。
液晶組成物中の全重合性液晶に対する請求項１に記載の化合物の割合が２０モル％以上である、請求項２〜４のいずれかに記載の液晶組成物。
請求項２〜５のいずれかに記載の液晶組成物を、該液晶組成物が液晶相を示す状態で、かつ液晶が配向した状態で重合させてなることを特徴とする光学異方性材料。
光学異方性材料が波長３００〜４５０ｎｍのレーザー光を透過させて使用する光学異方性材料である、請求項６に記載の光学異方性材料。
請求項２〜５のいずれかに記載の液晶組成物を、１対の支持体間に挟持し、該液晶組成物が液晶相を示す状態で、かつ液晶が配向した状態で重合させてなることを特徴とする光学素子。
光学素子が波長３００〜４５０ｎｍのレーザー光を透過させて使用する光学素子である、請求項８に記載の光学素子。
請求項８または９に記載の光学素子を用いてなる回折素子。
請求項８または９に記載の光学素子を用いてなる位相板。