JPS6012623B2 - 光重合性乾燥膜ホトレジスト組成物 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

現在広く使用されている技術の例である減色性による印
刷回路板の製造においては、銅被覆積層品の表面に光重
合性膜の１表面を接着させ、上記腰の他面を膿支持物に
接着させる。 その後予め決めたパタンに従って光重合性層を露光し、
支持物を除去し、光重合性層の未露光区域を洗い去るこ
とによって銅層を露出させる。ついで露出鋼層を化学的
方法でエッチングし去る。別の有用な技術である加色法
においては、積層基体（銅被覆物であることができまた
は銅被覆物でなくてもよい）の表面に乾いた光重合性膜
の１表面を接着させ、他面を膜支持物に接着させる。 この後光重合性層を予め決めた光パタンに露出し、支持
物を除去し、光重合性層の未露光区域を洗い去ることに
よって基体を露出する。この点で、基体を適当な増感剤
および金属化溶液で処理して、金属、通常は銅の層を基
体に適用する。乾燥ホトレジスト膜は典型的にはかなり
淡色であり、上記万法で使われる基体は典型的には銅被
覆積層板である。この場合、露光後、上記層の未露光区
域の除去前に製品を検査して、光マスクが適当に置かれ
ているかを確かめることおよび露光した光重合性層にき
ずがないことを確かめることは著しく困難である。腹の
現像および銅被覆パネルのエッチングまたは露出基体上
への金属層の蓄積前にきずの検出が容易にできるように
、膜が露光した場所が目でわかる乾燥ホトレジスト膜を
もつことは極度に有用なことである。実質上大気汚染の
一因となる揮発性溶剤をすべて使用する通常のラッカー
、インキ、ワニス、塗料の代りに、液体光重合性組成物
が増々広く使われるようになった。 しかし、特に着色系を使う場合、液体光重合怪物質の使
用においては問題がある。簡単にいうと、着色はコーテ
ィングを通る化学線の浸透をさまたげるから、色が濃い
ほど使用できるコーティングは一層薄くなる。禾露光状
態では無色かまたは淡色であって、化学線にあてると橋
かけし濃色となる液体光重合性の系をもつことは極度に
重要である。オイゲン・ワイナー（ＥｕｇｅｎｅＷａｊ
ｎｅｒ）の米国特許第３０４２５１５号（１９６２王７
月３日）はプラスチック結合剤または塗膜形成要素、ア
リールアミン、および露光で遊離基を形成する有機ハロ
ゲン化物の組合せを記載している。 無色のアリールアミンはハロゲン遊離基と反応し有色の
反応生成物を生じる。米国特許第３０４２５１５号に記
載の発明の実施に伴う問題は、発明者自身がきずし、て
いるように当該組成物が溶液中で不安定なことである。 この不安定性はジェー・ジョージ・フイデルマン（Ｊ．
ＧｏｒｇｅＦｉｄｅｌｍａｎ）の米国特許第３１１４６
３５号により認められた。フイデルマンは、感光性組成
物から大部分の有機ハロゲン化物を除き、このハロゲン
化物を別のシートで与え、露光直前に上張として感光性
組成物と接触させておくことにより上記不安定問題を解
決するワィナーと同種の系を記載している。ャマダらは
その米国特許第３５４４３２０号において、過酸化物、
過塩素酸塩、または過ホウ酸塩を添加することにより不
安定性の問題を処理し、一方フオトランド（Ｆｏｔｌａ
ｎｄ）の米国特許第３５６０２１１号は膜を処理して分
子状酸素を除いている。スプラグ（Ｓｐｒａ籾ｅ）らの
米国特許第３１１３０２４号はロィコトリフェニルメタ
ン染料とハロゲン化スルホニルまたはスルフェニルに基
づく像形成系を記載しており、その米国特許第３１２１
６３２号‘まロィコトリフェニルメタン染料とアルキル
またはアリールケトンに基づく像形成系を記載している
。 公知のように、ロィコ染料は安定ではない。米国特許第
３４９５９８７号には、臭素含有化合物およびこの臭素
化合物のためのシアニン染料増感剤を含む光重合性組成
物が記載されている。この場合、上記染料は色は変える
のではなくて、むしろ光重合性組成物を赤および緑光に
対し増感する機能をもつ。すなわち種々の波長の光にあ
てるとき臭素含有化合物から臭素遊離基を遊離させる。
米国特許第３７６９０２３号はヒドロキシアルキルセル
ロース結合剤、Ｎ−ビニル単量体、感光性遊離基発生剤
、および不安定なことがわかっているロィコ染料を含む
発色剤の組合せを明らかにしている。この特許権者は、
ふつう液体のアクリル酸ェステルおよびメタクリル酸ェ
ステル単童体の酸素含有雰囲気中での使用は写真速度を
著しく遅くするから好ましくないと述べている。トムズ
（ｍｏｍｍｅｓ）らの米国特許第３４１８１１８号には
、連続トーン有色像を与える光重合性組成物が記載され
ている。 ここでも、遊離基生成剤による遊離基発生するのは、感
光される染料である。米国特許第３２５５００６号には
、光重合性組成物とケィ光染料の組合せが記載されてい
る。ケィ光の品質は化学線にあてると変化する。ケトン
イミン染料、またはトリアリールメタン染料のアミ／誘
導体、またはキサンテン染料のアミ／誘導体、またはア
クリジン染料のアミノ譲導体、またはメチンまたはポリ
メチン染料の遊離塩基が、化学線にあてるときハロゲン
遊離基を遊離する例えばハロゲン化脂肪族カルボン酸の
、常態では固体のアミドのような有機ハロゲン化物、遊
離基開始付加加重合性エチレン性不飽和単量体例えばア
クリルまたはメタクリル化合物、および上記単量体の光
開始剤の存在で安定なホトトロピー系を形成することが
見出された。 本発明は化学線にあてるときハロゲン遊離基を遊離する
上記有機ハロゲン化物と上記※料の遊離塩基からなるホ
トトロべ−染料系を乾燥ホトレジスト膜に合体すること
により、ホトレジスト膜の蕗出パタンを容易に決定でき
るという発見に関する。上記染料系は階色化または変色
して、ホトレジスト膜がイｂ学線にあたった場所が目で
わかる。 本発明のこの面での１具体化においては「

【ａ’遊離基
開始重合によって高重合体を形成できるアクリルまたは
メタクリル化合物の３０〜５の重量％、‘ｂ｝ 重合体
結合剤の４０〜７の重量％、【ｃ）化学線照射により活
性化される光開始剤の１〜１の重量％、‘ｄ’そのハロ
ゲン化物塩がその遊離塩基よりも一層濃色である染料の
遊離塩基の０．０１〜２重量％、および｛ｅ’化学線に
あてるとハロゲン化物遊離基を遊離するハロゲン化脂肪
族カルポン酸の、常態では固体のアミドの０．１〜４重
量％、からなる安定な光重合性乾燥膜ホトレジスト組成
物が提供される。 光重合性乾燥膜ホトレジスト組成物はアクリルまたはメ
タクリル化合物またはその譲導体を含み、光開始剤はア
シロィンェーテル、アルキル置換アントラキノン、ベン
ゾフェノン、またはアルキルアミノベンゾフェノンを含
み、染料はアミノトリアリールメタンまたはアミノキサ
ンテン染料の遊離塩基であり、ハロゲン含有化合物はハ
ロゲン化脂肪族カルボン酸の常態では固体のアミドであ
る。 本発明の組成物は、薄層形の上記の乾燥光像形成性組成
物、特に支持シートと上記乾燥光像形成性組成物層とか
らなる集合体に使用することができる。 ただし上記組成物層の１表面は支持シートに接着し、上
記組成物の他面には透明シートが接着している。別の具
体化においては、本発明は支持物上の上記光重合性組成
物に関する。 この臭体化の一面においては、支持物は導函性金属層で
あり、その１表面は絶縁層の共にのびている表面と接触
できる。上記のように、本発明は ‘ａー 遊離基開始重合によって高重合体を形成できる
アクリルまたはメタクリル化合物の３０〜５の重量％、
‘ｂ｝ 重合体結合剤の４０〜７の重量％、‘ｃー イ
ｂ学線照射により活性化される光開始剤の１〜１の重量
％、｛ｄ｝ そのハロゲン化物塩がその遊離塩基よりも
一層濃色である染料の遊離塩基の０．０１〜２重量％、
および【ｅ｝ 化学線にあてるとハロゲン化物遊離基を
遊離するハロゲン化脂肪族カルボン酸の、常態では固体
のアミドの０．１〜４重量％、からなる安定な光重合性
乾燥膜ホトレジスト組成物を含む。 染料の遊離塩基、さらに詳しくは ‘ａ）ケトンィミン染料、 【ｂ〕トリアリールメタン染料のアミノ誘導体、‘ｃ｝
キサンテン染料のアミノ誘導体、ｔｄ’アクリジン染
料のアミノ誘導体、 ｛ｅ）メチンまたはポリメチン染料の遊離塩基および化
学線にあてるときハロゲン化物遊離基を遊離するハロゲ
ン含有化合物が、遊離基開始付加重合により高重合体を
形成できる付加重合性エチレン性不飽和化合物および化
学線の影響下遊離基を発生する光開始剤の存在で安定な
ホトトロピ−系を形成するという発見から上記組成物が
開発された。 当該染料の遊離塩基はその染料のハロゲン化物塩よりも
色が淡くなければならない。ここで使う「ホトトロピー
」の用語は当該染料遊離塩基ーハロゲン化物系のような
系が化学線に応答し暗色化する能力をみわけるために意
図されており、この用語は光または車富射エネルギーを
示す「ホト」（ｐｈｏｔｏ）と、特定の刺戟に応答し特
定の方式で変化する、また変化する傾向の「トロピー」
（口ｏｐｙ）から誘導される。 ケトンィミン染料としては、オーラミン０およびオーラ
ミンＧ、すなわちカラー・インデックス（Ｃ．１．）４
１００船、４１００５の遊離塩基を使用できる。 その遊離塩基を使用できるアミノトリアリールメタン染
料は次の構造式で一般に表わせる。ここで〜，、〜２、
〜３は無置換の、または１〜３個の低級アルキル、低級
アルコキシ、低級アシル、カルボキシル、カルボ低級ア
ルコキシ、スルホ（そのアルカリ、アルカリ士類金属、
アンモニウム塩を含む）、ニトロ、ハ０／、ヒドロキシ
ル、式（ただしＲ′およびＲ′′は各々独立に水素、低
級アルキル、フェニル低級アルキレン、フェニル、スル
ホ低級アルキレン、低級アシル、ナフチルであり、また
上記フェニルおよびナフチル基は随時１〜３個のニトロ
、スルホヒドロキシル、低級アルコキシ、低級アルキル
、アミノ、スルフアミル、力ルボキシル、力ルノぐミル
、フェニルィミノ、ハロゲンで置換されている）の１つ
ないし３つで置換されている炭素環式アリール基であり
、ただし〜ｒ，、ルｒ２、Ａｒｒ３の少なくとも１つは
式で表わされるアミノ基少 なくとも１個を含み、さらにＡｒ３は随時置換したイン
ドリルであることができる。 ここでその遊離塩基が特に興味があるトリアリールメタ
ン染料は、さらに詳しくは次の構造式で表わすことがで
きる。 ただしＲは次の構造式 を有する炭素環式または複素環式アリールであり、Ｒ，
、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は各々独立に水素、ヒドロキシル、
または式のアミノ〔ただし Ｒ′およびＲ″は各々独立に水素、低級アルキル、低級
アシル、スルホ低級アルキレン、フェニル低級アルキレ
ン、フェニルまたはナフチルであり、上記フェニルまた
はナフチル基は無置換であることができまたは１〜３個
のニトロ、スルホ、ヒドロキシル、低級アルコキシ、低
級アルキル、アミノ、スルフアミル、力ルノぐミル、力
ルボキシル、低級アシル、カルボ低級アルコキシ、ハロ
ゲン、またはフェニルィミノ（このフェニル基も上記の
ように置換基をもつことができる）で置換されている〕
であり、Ｒ，、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４の少なくとも１つは式
のアミノであり、Ｒ，ｏ、Ｒ，．、Ｒ１２・Ｒ２０・Ｒ
２１・Ｒ２２・Ｒ柳、Ｒ３１・Ｒ班、Ｒ４０・Ｒ４，、
Ｒ４２、Ｒ５ｏ、Ｒ５，、Ｒ５２の各々は独立に水素、
低級アルキル、ヒドロキシル、カルボキシル・スルホ（
そのアンモニウム、アルカリ、またはアルカリ士類金属
塩を含む）、ニトロ、ハロ、フェニルアゾ、低級アルコ
キシ、低級アシル、カルボ低級アルコキシ、または式（
ただし Ｒ′、Ｒ″は上記の定義の通りである）のアミノであり
、Ｒ６は低級アルキルまたはフェニルであり、Ｒ７は水
素または低級アルキルである。 次の構造式のトリアリールメタン染料の遊離塩基が好ま
しい粗の染料である。ただし置換基はすべて上記で定義
した通りである。 上記構造式で表わされる染料の組のなかでは、Ｒ，、Ｒ
２、Ｒ３が水素または（ただ しＲ、Ｒ′′は各々独立に水素、１〜４個の炭素原子の
アルキル、ベンジル、フェニル、スルホェチレンであり
、上言己フェニルおよびペンジルは無置換であるかまた
は芳香核に１〜３個のニトロ、スルホ、ヒドロキシル、
１〜４個の炭素原子のアルキル、１〜４個の炭素原子の
アルコキシ、アミノ、またはクロロを置換している）で
ある染料が好ましい。 上記染料のうちでは、Ｒ，およびＲ２が であり、Ｒ３が水素、ナトリウム スルホ、または であり、Ｒ′およ びＲ′′の各々が水素、メチル、エチル、フェニルまは
ナトリウムスルホフェニルである染料が特に好ましい。 特に好ましいものは次の構造式（ただしＲ３は水素また
はジメチルアミノである）をもつ染料の遊離塩基である
。 その遊離塩基がここで有用なキサンテン染料は下記一般
構造式で表わせる。 ここでＲ８は水素、または随時置換した炭素環式ァリー
ルであり、Ｒ６ｏはオキソ、低級アルコキシ、ヒドロキ
シル、まは（ただしＲ′、Ｒ″は上記で定義した通りで
ある）であり、ｍは１〜３の整数であり、Ｒ６，および
Ｒ６２はＲ，。 と同一群から選ばれ、またｍが２または３のときはその
置換基は同一であるかまは異なることができる。キサン
テン染料の好ましい群は次の構造式で表わされる。 ただしＲ６。 はであり、ｍは１ま たは２であり、Ｒ３ｏ、Ｒ３，、Ｒ３２は各々独立に水
素、スルフアミル、ナトリウムスルホ、ハロ、カルボキ
シル、カルポ低級アルコキシ、またはヒドロキシルであ
る。 この化合物の特に好ましい亜群は次の構造式を有する。 ただしＲ′およびＲ″は水素、低級アルキル、無置換の
、または低級アルキルまたは低級アルコキシで置換した
フェニルであり、Ｒ６２は低級アルキルであり、ｍは１
であり、Ｒ３２はカルポキシルまたはカルボ低級アルコ
キシであり、Ｒ３ｏ、Ｒ３１は各々独立に水素、クロロ
、カルボキシル、またはヒドロキシルである。その遊離
塩基をここで成功して使用できるアクリジン染料のアミ
ノ誘導体は次の一般構造式を有する。 ただし、Ｒ７ｏは水素または低級アルキルであり、Ｒ７
，は水素、低級アルキル、または無置換の、またはアミ
ノ、カルボキシル、またはジ（低級アルキル）アミノで
置換したフェニルであり、ｍは１、２、または３であり
、Ｒ？２およびＲ７３は各々独立に水素、低級アルキル
、またはハロゲンであり、Ｒ′およびＲ′′は水素また
は低級アルキルである。 その遊離塩基を使用できるメチンおよびポリメチン染料
はカラー・インデックス番号Ｃ．１．４８０１０〜４８
０８０を有するものである。 上記の染料は独立に当該技術で既知であり、たとえば有
用なトリァリールメタン染料のアミノ誘導体は示した構
造式を有しカラー・インデックス番号Ｃ．１．４２００
０〜Ｃ．１．４４５２０をもつものであり、キサンテン
染料の有用なアミノ誘導体は示した構造式を有しカラー
・インデックス番号Ｃ．１．４５０００〜Ｃ．１．４５
５０５をもつものであり、当該アクリジン染料はカラー
・インデックス番号Ｃ．１．４６０００〜Ｃ．１．４６
０８０をもつものである。 化学線にあてるときハロゲン化物遊離基を遊離するハロ
ゲン含有化合物として、次のものが含まれる。 ＣＣ１４・ ＣＢｒ４、 ＣＨ１３・ トリス（２・３−ジブロモプロピル）ホスフエイト、ポ
リ（ジブロモプロピル アクリレート）、メタクリル酸
メチルーアクリル酸ジブロモプロピル共重合体、クロロ
ワックス７０ーダイヤモンドアルカリ社、クリーブラン
ド、オハイオ販売の塩素化パラフィン・２・３−ジブロ
プロパノール、 トリクロロアセトアミド、 ヨウ化エチル・ トリクロロ酢酸、 Ｎ−クロロスクシンイミド、 ポリ（塩化ビニル）、 １・１・１ートリクロロー２・２ービス（Ｐ−クロロフ
エニル）エタン、へキサクロロエタン、 １・１・１ートリクロロー２ーメチルー２ープロ／ぐノ
ール、２・２・２−トリクロロエタノール、 ２・２・２ートリクロロエチルトリクロロアセテート、
トリクロロ酢酸ィソオクチル・トリクロロ酢酸ィソトリ
デシル、 ２ーメチルー２′・４ージクロロフエノキシエタノール
、２・４・６−トリクロロアニリン。 本発明に使用されるハロゲン含有物質は、ハロゲン化脂
肪族カルボン酸の、常態では固体のアミドからなる。 この化合物の多くは次の構造式で表わすことができる。
ただし、Ｘはクロロ、プロモ、またはヨードであり、Ｒ
は脂肪族カルボン酸の残りであって１〜６個の炭素原子
を含んでおり、ａは１〜４の整数である。 ａが１〜４の整数であるという条項では、テトラクロロ
アセトアミドおよびＢ・Ｂ・８ートリクロロブチルアミ
ドのような明らかに化学的に不可能な構造は除外される
。 そこで、ａが１〜４の整数であるという条項は、Ｒが１
個の炭素原子であるときはａは１〜３の整数であり、Ｒ
が２〜６個の炭素原子であるときはａは１〜４の整数で
あることを示す簡略法であることが意図されている、た
だし２つの他の炭素原子に結合した炭素原子は２個より
多いハロゲン原子を含まずまた１個の炭素原子に結合し
た炭素原子は３個より多いハロゲン原子を含まない。Ｒ
が１〜６個の炭素原子のアルキレンまたは２〜６個の炭
素原子のアルケニレンである当該化合物、特にＲがメチ
ル、エチル、プロピル、ブチル・ベンチル、ヘキシル（
その異性体を含む）、ビニル、アリル、イソプロベニル
、ブテニル、イソブテニル、またはペンテニルである化
合物が特に興味がある。これらの化合物は９０〜１５０
０Ｃの範囲で溶解するのが好ましい。 代表的化合物は次のものを含む。化合物
融点、℃ＢｒＣＨ２ＣＯＮ日２
９１ＣＩＣＨ２ＣＯＮ
日２ １２１Ｃ
Ｉ２ＣＨＣＯＮＨ２
９９．４１ＣＱＣＯＮＨ２
９５Ｂｒ２ＣＣＯＮ比
１２１．５ＣＩ３ＣＣＯＮ比
１４２ＢｒＣＨ２ＣＨ２ＣＯＮ日
２ １１１（ＣＨ３）
２ＣＢｒＣＯＮＨ２ １４８
Ｃ比ＣＨ２ＣＨＢｒＣＯＮＨ２
１１２．５（ＣＨ３）２ＣＨＣＨＢｒＣＯＮ比
１３３好ましい具体化では、常態では固
体のアミドは１つの炭素原子に１〜３個の塩素、臭素、
またはヨウ素が置換したアセトアミド、プロピレンアミ
ド、またはブチルアミドである。トリクロロアセトアミ
ドとトリブロモアセトアミド、特にトリク。〇アセトア
ミドが好ましい。上記アミドが特に好ましいのはその高
融点がほとんど揮発性のないことを意味するからであり
、またさらにアミド官能基は当該系の安定性を増すと考
えられているからである。 ハロゲン含有化合物の使用量は染料の遊離塩基１分子当
り１個のハロゲン遊離基を供聯合するのに十分であるべ
きである。 染料の遊離塩基１重量部当り０．０１〜雌重量部のハロ
ゲン含有化合物を使用できることがわかった。染料の遊
離塩基１重量部当り約０．１〜約２重量部のハロゲン含
有化合物が好ましく、染料の遊離塩基１重量部当り０．
５〜約１．５重量部のハロゲン含有化合物が特に好まし
い。前述のように、上記のホトトロピー染料系を処方し
て乾燥膜ホトレジスト組成物に合体できる。 上記組成物は定義したような１種またはそれ以上の付加
重合性エチレン性不飽和化合物約１０〜７の重量部、予
め形成した重合体結合剤３０〜９０重量部、通常の光開
始剤０．００１〜１広重量部、通常の熱付加重合抑制剤
０．００１〜５重量部を一般に含み、またさらに当該組
成物は光重合性乾燥膜ホトレジスト組成物の物理性と化
学性を増強するために必要かまたは望ましいときは可塑
剤、接着促進剤などのような他の添加剤を含むことがで
きる。当該付加重合性エチレン性不飽和化合物は、一般
に１〜４のまたはそれ以上の禾満エチレン基を、好まし
くは２またはそれ以上の末端エチレン基を有する。単独
でまたは組合せて使用できる適当な化合物は、２〜１３
固の炭素原子をもつァルキレングリコールまたは１〜１
の固のエーテル結合をもつポリアルキレンエーテルグリ
コールからつくったアルキレンおよびポリアルキレング
リコールジアクリレートを含む。エチレン性不飽和付加
重合性化合物は、低分子量重合物すなわちオリゴマーを
含めアクリルまたはメタクリル化合物またはその誘導体
である。 乾燥膜ホトレジスト組成物が、予め形成した硬化性また
は橋かけ性重合体またはオリゴマーとエチレン性不飽和
付加重合性化合物としてアクリルェステルとを含むとき
は、特に有用な結果が得られる。特に有用なアクリルェ
ステルは一般構造式またはのモノおよびポリアクリル化
合物である。 アクリル化合物が構造式 をもつ場合は、ＭはＨまたはＣＩであり、Ｍ′は５〜１
２個の炭素原子のシクロアルキル（たとえばシクロベン
チル、ジシクロベンチル、メチルシクロベンチル、ジメ
チルシクロベンチルなど）、５〜１２個の炭素原子のシ
クロアルケニル（たとえばシクロベンテニル、メチルシ
クロベンテニル、ジシクロベンテニル、ビシクロ〔２・
２・１〕一２ーヘプテニルなど）、一ＣＰＨ２ｐＭ″、
または（ＣｑＨ群○）ＳＣｑＨ２ｑ十，であり、ただし
ｐは１〜１０の整数であり、ｑは２〜４の整数であり、
ｓは０〜４の整数であり、Ｍ″は水素、ヒドロキシル、
フェノキシ、１〜８個の炭素原子のアルコキシである。 アクリル化合物が構造式 をも‐）場合 は、Ｇは式 一ＣＸＨ秋−ｙ （ただしｘは２〜８の整数であり、ｙは０〜２の整数で
ある）の多価アルキレン基（たとえばｙ＝０のとき２価
アルキレン基、たとえば一Ｃ２日５一、一Ｃ３比−、ｌ
ｓｏ−Ｃ３日６一、一Ｃ５日，。 一、ｎｅｏ−Ｃ６日，２−など；ｙ＝１のときは３価ア
ルキレン、たとえばまたはｙ＝２のときは ４価アルキレン、たとえば など）であり、ま たはＧは式 一（ＣｑＨ幻。 ）ｔＣｑＨ２ｑ一または −（ＣｑＨ幻ＣＯＯ）ｔＣｑＨ２ｑ− （ただしｔは１〜５の整数であり、ｑは２〜４の整数で
ある）の２価のエーテルまたはェステル基（たとえばオ
キシエチレン、オキシプロピレン、オキシブチレン、ポ
リオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシ
プチレンなど）であり、ｒはＧの原子価で２〜４である
ことができる。 特に好ましいアクリル化合物はトリェチレングリコール
ジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレ
ート、ベンタヱリトリトールトリアクリレート、トリメ
チロールプロパントリアクリレート、ベンタエリトリト
ールテトラアクリレートである。 予め形成した重合体結合剤として、ポリスチレン、ポリ
カーボネート、ポリウレタン、ポリホルムアルデヒド、
ポリビニルアセタール（ポリビニルプチラールを含む）
、ポリ塩化ビニルおよびその共重合体、ポリェーテル（
ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリ
テトラヒドロフランを含む）、ポリアクリレート（ポリ
メタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル、ポリア
クリル酸メチル、ポリアクリル酸エチルを含む）、ポリ
ビニルェステル（ポリ酢酸ビニル、ポＩＪ酢酸ビニル／
ァクリレートを含む）、セルロースェステル（酢酸セル
ロース、酢酸酪酸セルロースを含む）、セルロースエー
テル（メチルセルロース、エチルセルロースを含む）、
変性ポリオレフィン（エチレン／酢酸ビニル共重合体を
含む）、ポリ塩化ビニリデン（塩化ビニリデンとアクリ
ロニトリル、メタクリル酸メチル、酢酸ビニルとの共重
合体を含む）、ポリアミド（ポリカプロラクトン、ポリ
カプロラクタム、ポリへキサメチレンアジパミドを含む
）、ポリエステル（ポリエチレングリコールテレフタレ
ート、ポリへキサメチレンスクシネートを含む）を使用
できる。 本組成物で使う光開始剤は化学線により活性化され、１
８５３０またはそれ以下では熱的に不活性なものが好ま
しい。これらは置換または無置換の多核キノン、たとえ
ば９・１０−アントラキノン、１−クロロアントラキノ
ン、２−クロロアントラキノン、２−メチルアントラキ
ノン、２−エチルアントラキノン、２一企てｔーブチル
アントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１・４
ーナフトキノン、９・１０−フエナントラキノン、１・
２−ペンゾアントラキノン、２１３−ペンゾアントラキ
ノン、２ーメチルー１・４−ナフトキノン、２・３−ジ
クロロナフトキノン、１・４ージメチルアントラキノン
、２１３ージメチルアントラキノン、２−フエニルアン
トラキノン、２・３−ジフエニルアントラキノン、アン
トラキノン−Ｑ−スルホン酸ナトリウム塩、３−クロロ
ー２−メチルアントラキノン、レテンキノン、７１８・
９・１０−テトラヒドロナフタセンキノン、１・２・３
・４−テトラヒドロベンズ｛ａ】アントラセン−７・１
２−ジオンを含む。米国特許第２７６０８６３号に記載
の次の光開始剤も有用であが、その若干は８５００程度
の低温で熱的に活性なものがある。 ビシナルケタルドニル化合物たとえばジアセチル、ベン
ジル：Ｑ一ケタルドニルアルコールたとえばペンゾイン
、ピバロイン；アシロインエーブルたとえばペンゾイン
のメチルおよびエチルエーテル；Ｑ−炭化水素置換芳香
族シシロィン；Ｑ−メチルベンゾイン；はーアリルベソ
ゾイン、Ｑ−フエニルベンゾイン。 特定のペンゾィンヱーテルはペンゾィンメチルエーテル
、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフエニルエー
テル、メチルベンゾイン、エチルベンゾィンを含む。 過硫酸銀も化学線で活性化される光開始剤として有用で
ある。 ある種の芳香族ケトン、たとえばペンゾフエノン、４・
４′−ビスジアルキルアミノペンゾフェノンも有用であ
る。特定の化合物はペンゾフエノン、４・４−ビス（ジ
メチルアミノ）ペンゾフエノン、４・４ービス（ジエチ
ルアミノ）ペンゾフエノン、４ーヒドロキシー４′ージ
メチルアミノベンゾフエノン、４−ヒドロキシ−４′ー
ジエチルアミノベンゾフエノソ、４−アクリルオキシー
４′ージメチルアミノベンゾフヱノン、４−メトキシー
イージメチルアミノベンゾフエノンを含む。光開始剤は
ァシロィンェーテル、ァルキル置換アントラキノン（た
だし上記アルキル基が１〜４個の炭素原子を含む）、ベ
ンゾフェノン、またはアルキルアミノベンゾフェノンの
少なくとも１種を含むのが好ましい。 好ましい組成物においては熱量合抑制剤も存在させる。 これらはＰーメトキシフェノール、ヒドロキノン、ァル
キルおよびァ１′ール置換のヒドロキノンおよびキノン
、ｔｅｎーブチルカテコール、ピロガロール、樹脂酸銅
、ナフチルアミン、８ーナフトール、塩化鋼（１）、２
・６−ジーｔｅれ−ブチル−Ｐ−クレゾール、２・２−
メチレンビス（４−エチル−６一把ｒｔ−ブチルフエノ
ール）、フエノチアジン、ピリジン、ニトロベンゼン、
ジニトロベンゼン、Ｐートルキノン、クロラニル、亜リ
ン酸アリール、亜リン酸アリールアルキルを含む。典型
的な有用な乾燥膜ホトレジストは重合体結合剤約４０〜
７の重量％、１種またはそれ以上のアクリルまたはメタ
クリル化合物３０〜５の重量％、増感剤１〜１の重量％
、上記染料の遊離塩基０．０１〜２重量％、ハロゲン含
有化合物０．１〜４重量％を含む。 好ましい範囲は結合剤５０〜７の重量％、アクリルまた
はメタクリル化合物３０〜４の重量％、増感剤２〜５重
量％、染料の遊離塩基０．５〜１．５重量％、ハロゲン
含有化合物０．８〜２重量％である。本ホトレジスト組
成物はさらに酸化防止剤、接着促進剤のような他の成分
を含むことができる。使用にあたっては、光重合性乾燥
膜ホトレジスト組成物を化学線源にあてる。これはハー
フトーン像またはプロセス透明画、たとえばプロセスネ
ガまたはポジ、ステンシルまたはマスクを通して行なう
ことができる。連続トーン、ネガ、またはポジ像を通し
露出もできる。光重合性乾燥膜ホトレジスト組成物上に
カバーシートを有してまたは存在させないで接触法また
は投影法によって、またはカバーシートを使う投影によ
って、露出を行なえる。これらの操作は当業者には公知
である。ホトレジスト組成物は紫外線と組合せて一般に
使われ、鞠射線源は有効量の鍵射線を供給すべきであり
、点または広い車富射線源が有効である。上記鼠射線源
はカーボンア−ク、水銀蒸気アーク、紫外線放射けいり
ん光体を有するけし、光灯、アルゴングロー灯、電子フ
ラッシュ装置、写真フラッシュ灯を含む。このうち、水
銀蒸気アーク、特に太陽灯が最も適している。露出後の
乾燥膜ホトレジスト組成物は既知の方法で、たとえば麓
霧ジェットを衝突させることによって、かきまぜ浸潰し
レジスト膜の未露出部分を洗い去ることのできる有機溶
剤またはその混合物で望ましい像までブラシかけまたは
こすることによって、現像できる。 有用な溶剤は酢酸セロソルブ、酢酸エチル、メチルエチ
ルケトン、アセトン、トリクロロェチレン、四塩化炭素
、テトラクロロェチレン、１〜４個の炭素涼子のアルカ
ノール、ブチロセロソルブ、クロロベンゼン、ジメチル
ホルムアミドを含む。本発明を次の実施例に．より例示
する。 実施例 １ 次の組成物で染料−ハロゲン含有化合物の組合せを像お
よび安定化につき評価した。 重量部 ァクリロィドＡ−１０１‘ａ｝（固体基準） ４０
．０トリメチロールプロパントリアクリレート １３．
０テトラエチレングリコールジアクリレート ６．５
ペンゾフエノン ２．
２５４・４′ービス（ジメチルアミノ）ペンゾフエノン
０．３２．２′−メチレンビス（４ーエチルー６−ｔｅ
ｒｔーブチルフエノール） ０．
１２２ーメルカプトベンゾオキサゾール ０．
３３モダフロー（Ｍｏｄａｆｌｏｗ）（ｂ１
０．１０リン酸トリクレジル
２．８８メチルエチルケトン
１３０‘ａ’ ローム・アンド・ハース社から販売
されている有機溶剤中のアクリル酸ェステル重合体。 ｛ｂ｝ モンサント社から販売されている被覆流れ調節
剤（ｃｏａｔｉｎｇＨｏｗｃｏｎｔｒｏｌａｇｅｎｔ）
。化学構造不詳。染料およびハロゲン含有化合物を合体
後、溶液を２５．４ミクロン（１ミル）厚さのポリエス
テルフィルムに被覆し、風乾した。 感光層の乾燥厚乳ま２５．４〜５０．８ミクロン（１〜
２ミル）であった。この乾いた層を２５．４ミクロン（
１ミル）厚さのポリエチレンフイルムでカバーした。ポ
リエチレンフィルムを除去し、光重合性乾燥膜ホトレジ
スト組成物を銅被覆パネルに積層し、この集合体の上に
光マスクを置き、この組合せ物を水銀蒸気灯に３硯砂露
出しホトトロピー能力を目でしらべた。 −１０〜１０の尺度を使い直ちに像を読んだ。 零は無像を意味し、負の等級は染料系が光変色（すなわ
ち退色）性であり、正の等級は系がホトトロピー性であ
ることを示す。安定性は、４がｏで２週間貯蔵後の液体
組成物がホトトロピー像形成膜を与える能力を測定した
。 表失 メルカブトベンゾオキサゾールの代りにペンゾト
リアゾール染料１ ロイコ・ブルー ２ ０ーダミンＦ斑 ３ ロイコ・グリーン ４ Ｎ・Ｎ−ジメチル−Ｐ−フエニレンジアミン５ １
ーナフチルアミン６ ４・４−メチレンビス（Ｎ・Ｎ−
ジメチルアニリン）７ ブリリアント・ベーシック・ロ
イコ・ブルー８ ベーシック・ロイコ・フルー９ ヘク
ト・フル− １０ マラカイト・グリーン １１ローダミン Ｂ ベース １２ クリスタル・バイオレット １３ マラカイト・グリーンベース １４ オイル・ソリユフル・フルー０ １５ メチル・ノゞイオレツト ハロゲン化物 Ａ ２・３一ジブロモプロパノール Ｂトリクロロアセトアミド Ｃ へキサクロロベンゼン Ｄ１・１・１ートリクロロ−２・２−ビス（Ｐークロロ
フエニル）ヱタンＥ １・１・１−トリクロロー２ーメ
チルー２、フ。 ロ／ぐノールＦ ２・２・２ートリク。 ロエタノールＧ トリゴナル（Ｔｒｉ籾ｎａｌ） Ｐ−
１【ａ｝Ｈトリクロロエチルトリクロロアセテート１
トリクロｏ酢酸イソオクチル Ｊ トリクロロ酢酸ィソトリデシル Ｋトリクロロエチルトリクロロアセタミド‘ａー アク
ゾ−・ヘミー社から販売されているｐ−第三ブチル−Ｑ
・Ｑ・Ｑートリクロロアセトフエノン上記から、ポジ像
を与えるのに種々の染料ーハロゲン化物の組合せが有効
であるが、安定系を与えるのは染料の遊離塩基だけであ
ることがわかる。 この高温に耐える能力は実際的重要性をもつ。液体光重
合性乾燥膜ホトレジスト組成物はコーティング操作中９
３．３ｏｏ（２０００Ｆ）程度の温度にさらされ、一方
乾燥膜は積層工程中１２１．１℃（２５００Ｆ）および
それ以上の程度の温度にさらされる。有用なホトトロピ
−の組成物はこの温度で影響を受けてはならない。さら
に、支持物上に被覆し、支持物と支持物に接着した光重
合性乾燥膜ホトレジスト組成物と光重合性乾燥膜ホトレ
ジスト組成物の頂部に接着した透明シートからなる集合
体に形成する前に、液体組成物は混合されて数日ないし
数週間の間ドラムの中に貯蔵される。前記のように、ハ
ロゲン化脂肪族カルボン酸の常態では固体のアミドで、
像と安定性に関し最上の結果が得られる。 実施例 ２ 乾燥膜形成のため実施例１の方法を使い、次の組成物を
使って種々の染料ーハロゲン化物の組合せの像と速度を
評価した。 速度は３現妙露出で得られる線の寸法を測定して決めた
。 ネガの寸法は９．８８側であった。３岬砂での一層大き
い寸法線は一層速い系を示し、３ｑ砂での一層４・さし
、寸法線は一層遅い系を示している。 染料番号とハロゲン化物の文字は実施例１を合参照のこ
と。この場合も、上記ホトトロピー系が良好な像形成特
性と良好な速度を有していた。 重量部 ポリ（メタクリル酸メチル） ５７．４２ト
リメチロールプロパントリアクリレート ２３．９３テ
トラエチレングリコールジアクリレート １１．９６ペ
ンゾフエノン ３．２
３４・４ービス（ジメチルアミノ）ペンゾフエノン０．
４３２．２−メチレンビス（４−エチル一６−ｔｅｒｔ
−ブチルフエノール） ０．１７
ペンゾトリアゾール ０．１
７トリルトリアゾール ０．
０６トリクロロアセトアミド １．
４４モダフロー
０．２２メチルエチルケトン
１５０表実施例 ３ 染料の遊離塩基とハロゲン化化合物の種々の組合せを評
価するのに有用なホトレジスト組成物を、次の成分から
つくった。 重合部 ポリ（メタクリル酸メチル）【１’ ６１．１２
ペンタエリトリトールアクリレート ３２．０９
ペンゾフエノン ３．
０６４・４ービス（ジメチルアミノ）ペンゾフエノン０
．１５２．２ーメチレンビス（４ーエチルー６一にｒｔ
ーブチルフエノール） ０．９２
ペンゾトリアゾール ０．２
３メチルエチルケトン １５
０．００染料の遊離塩基 ０
．９２ハロゲン含有化合物 １．
５３○｝ェバサィト２０１０の商標名でＥ．Ｉ．デュポ
ン社、ウイルミントン、デラウエアから入手できる中分
子量物質。 低なし、し中等速度のふつうの装置を使ってメタクリル
酸メチル重合体をメチルエチルケトンに溶かし、ついで
単量体を加え、さらに増感剤と他の成分を加えて組成物
をつくった。 この溶液を２５４ミクロン（１ミル）厚さのポリエステ
ルフィルムに被覆し、風乾した。 光重合性乾燥膜ホトレジスト組成物の乾燥厚さは２５．
４〜５０．８ミクロン（１〜２ミル）であった。この乾
いた層を２５．４ミクロン（１ミル）厚さのポリエチレ
ンフィルムでカバーした。次表は染料、ハロゲン含有化
合物、現像した色、４６ｑＣでの安定性を示すものであ
る。 蓮事 岳 ＊ 卸 雲 篭 ○ 有機ョゥ化物と臭化物は染料に一層強い着色を生じる傾
向があり、一方有機塩化物は一層安定な系を生じる頭向
があることがわかる。 トリクロロアセトアミドが最上の結果を与えた。フクシ
ンの遊離塩基、Ｃ．１．ソルベント・レッド４１を使う
と、匹敵した結果が得られ、この遊離塩基は露光で帯赤
紫色に濃くなる安定系を与えた。 クリスタル・バイオレットの遊離塩基、Ｃ．１．ソルベ
ント・バイオレット９は、露光で色が濃くなる安定系を
同様に形成した。次の染料の遊離塩基は上記すべてのハ
ロゲン含有化合物で安定系を生成した。 染料 現像した角 Ｃ．１．ソルベント・ブルー２ 赤−青Ｃ．
１．ソルベント・ブルー５ 赤−青Ｃ．１．
ソルベント・レッド４９ 赤−紫Ｃ．１．ソ
ルベント・バイオレット１０ 赤−紫Ｃ．１．４
２５１船 赤−紫Ｃ．１．４
２５３母 音−紫Ｃ．１．
４２６００ 青−紫Ｃ．１．
４４５２０ 紫Ｃ．１
．４５００６ 赤Ｃ．１
．４５０１５ 赤Ｃ．１
．４５３１０ 赤Ｃ．
１．４６０２５ 黄
Ｃ．１．４６０５５
燈Ｃ．１．４８０１３
赤−紫上記処方物でふるい分けるとき、次の２化合物は
、液体処方物を放置すると徐々に晴色化する点で不安定
なことがわかった。 ロイコ・クリスタル・バイオレット、 ロイコ・マラカイト・グリーン。 実施例１の処方物でふるい分けるとき、次の化合物はホ
トトロピー性でなかった、すなわち像は零であった。 Ｎ・ＮージメチルーＰーフエニレンジアミン、Ｎーメチ
ルジフエニルアミン、１−ナフチルアミン、 ４・４′−メチレンビス（Ｎ・ＮージメチルアニＩＪン
）、マラカイト・グリン・ハウダー、乾燥砧品。 実施例 ４次の溶液を２５．４ミクロン（１ミル）厚さ
のポリエステルフアルムに被覆し、約０．０２払側（０
．００１インチ）の厚さとし、鼠乾した。この乾燥膜を
２５．４ミクロン（１ミル）厚さのポリエチレンフィル
ムでカバーした。成分
重量部スチレン７５％とメタクリル酸２５％の共重
合体：メチルエチルケトン４０％溶液の粘度は１０、３
６比ｐｓである。 ５６９３トリメチ
ロールプロパントリアクリレート ２４．６４テトラエ
チレングリコールジアクリレート１２．３２ペンゾフエ
ノン ３．９７４・４
′ービス（ジメチルアミノ）ペンゾフエノン０．５３Ｃ
．１．ソルベント・レッド４９（Ｃ．１．４５１７雌）
０．８トリクロロアセトアミド
１．５ペンゾトリアゾール
０．３７メチルエチルケトン
１６０鋼被覆ェポキシーガラス繊維板片を研磨クリー
ナーですりみがき、ふきとり、水で十分ゆすいだ。 これを希塩酸溶液（水２容量と濃塩酸１容量）に２の砂
浸潰し、水で第２のゆすぎをし、空気ジェットで乾かし
た。ポリエチレンカバーフィルムを上記のはさんだホト
レジスト乾燥膜の部分から除去した。 ポリエステル支持物を有するむき出いこなったレジスト
コーティングを、ホトレジスト表面を銅表面に接着させ
て清浄鋼に積層した。６０．９６伽／分（２フィート／
分）の速度のニップで長さ２５．４柳（１インチ）当り
１．３６ｋ９（３ポンド）の圧力で１２１．１００（２
５００Ｆ）で稼働するゴムカバーしたローラーの助けで
上記積層を行なった。得られたポリエステルフィルムに
より保護された増感鋼被覆板は望むときは後で使うため
に保存できる。導電性パタンが乳白のバックグラウンド
上の透明区域としてみえる高コントラスト透明像を通し
露光した。増感鋼被覆板（ポリエステルフィルムがまだ
そのままの）と透明画を写真プリントフレームに入れて
露出を行なった。０．３０４８の（１２インチ）の距離
で４００ワット、５００アンペア蒸気灯に９０秒露出し
た。 露光されたレジストの区域は階赤色にかなり脂色化し、
レジスト禾露光部と実質上コントラストが違った。ポリ
エチレンテレフタレート支持フィルムをはがし、板を水
中２％のリン酸三ナトリウムを含む槽中で２分かきまぜ
て露出したレジスト層を現像し、ついで水でゆすいだ。
得られた板は露出透明画のきれいな区域の濃色レジスト
パタンを含み、ついでゆすぎ、乾燥した。７０００の水
酸化ナトリウム３％水溶液に２分浸債することによって
、残存銅からしジストを除いた。 高品位の印刷回路板が得られた。別の具体化では、板を
２０％週硫酸アンモニウム俗に３硯砂浸潰し、水でよく
洗い、２０％塩酸水溶液に３の砂浸潰し、水でゆすぎ、
板を空気ジェットで乾かすことによって、現像後の露出
鋼面をさらにきれいにした。 このきれいにした板を５５マ０のピロリン酸銅めつき裕
中で３２２．９アンペア／で（３０アンペア／平方フィ
ート）で４５分めつきした。実施例 ５ェポキシーガラ
ス繊維板の銅被覆片を実施例４に記載のように清浄にし
た。 この清浄にした乾燥板の表面上に次の溶液を流して増感
した。重量部 スチレン３７％とマレィン酸モノブチル６３％の共重合
体、平均分子量２００００、アンモニウム塩の１０％水
溶液の粘度＝１５比ｐｓ ５９．７５
ペンタエリトリトールテトラアクリレート ３４．３５
ペンゾフエノン ２．２
４４・４ービス（ジメチルアミノ）ペンゾフエノン０．
３ペンゾトリアゾール ０．
２２２．２ーメチレンピス（４ーエチル−６一ｔｅｒｔ
−ブチルフエノール） ０．９
Ｃ．１．ソルベント・レツド４９（Ｃ．１．４５１７０
Ｂ） １．４４トリクロロアセトアミド
１．４４メチルエチルケトン
１５０過剰の溶液を室温で２分上記板から流
し去った。 ６０ｑｏの強制空気炉で５分加熱してコーティングを更
に乾燥した。 冷却後、被覆した板を実施例４に記載のように露光し、
板の露光した場所に禾露光部分とは著しく対照的な階赤
色が見えた。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ （ａ） 遊離基開始重合によって高重合体を形成で
   きるアクリルまたはメタクリル化合物の３０〜５０重量
   ％、（ｂ） 重合体結合剤の４０〜７０重量％、（ｃ）
   化学線照射により活性化される光開始剤の１〜１０重
   量％、（ｄ） そのハロゲン化物塩がその遊離塩基より
   も一層濃色である燃料の遊離塩基の０．０１〜２重量％
   、および（ｅ） 化学線にあてるとハロゲン化物遊離基
   を遊離するハロゲン化脂肪族カルボン酸の、常態では固
   体のアミドの０．１〜４重量％、からなることを特徴と
   する、安定な光重合性乾燥膜ホトレジスト組成物。 ２ 光重合性乾燥膜ホトレジスト組成物が成分（ａ）と
   してアクリルエステルを含んでいる特許請求の範囲第１
   項記載の組成物。 ３ 光重合性乾燥膜ホトレジスト組成物が成分（ａ）と
   して次の構造式▲数式、化学式、表等があります▼ または ▲数式、化学式、表等があります▼ （ただしＭはＨまたはＣｌであり、Ｍ′は５〜１２個の
   炭素原子のシクロアルキル、５〜１２個の炭素原子のシ
   クロアルケニル、または 式 ＣｐＨ＿２＿ｐＭ″または（ＣｑＨ＿２＿ｐＯ）ｓＣｑ
   Ｈ＿２＿ｑ＿＋＿１であり、ただしｐは１〜１０の整数
   であり、ｑは２〜４の整数であり、ｓは０〜４の整数で
   あり、Ｍ″は水素、ヒドロキシル、フエノキシ、または
   １〜８個の炭素原子のアルコキシであり、Ｇは式−Ｃｘ
   Ｈ＿２＿ｘ＿−＿ｙ−の多価アルキレンであり、ただし
   ｘは２〜８の整数であり、ｙは０〜２の整数であり、ま
   たは Ｇは式 −（ＣｑＨ＿２＿ｑＯ）ｔＣｑＨ＿２＿ｑ−または−（
   ＣｑＨ＿２＿ｑＣＯＯ）ｔＣｑＨ＿２＿ｑ−の２価のエ
   ーテルまたはエステルであり、ただしｔは１〜５の整数
   であり、ｑは上で定義した通りであり、ｒはＧの原子価
   であって２〜４である）のアクリルエステルを含んでい
   る特許請求の範囲第１項記載の組成物。 ４ 光重合性乾燥膜ホトレジスト組成物がトリエチレン
   グリコールジアクリレート、テトラエチレングリコール
   ジアクリレート、ペンタエリトリトールトリアクリレー
   ト、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタ
   エリトリトールテトラアクリレートおよびその混合物の
   少なくとも１種を含んでいる特許請求の範囲第１項記載
   の組成物。 ５ 光重合性乾燥膜ホトレジスト組成物がアシロインエ
   ーテル、アルキル置換アントラキノン、ベンゾフエノン
   、またはアルキルアミノベンゾフエノンの少なくとも１
   種を含んでいる特許請求の範囲第１項記載の組成物。 ６ 成分（ｄ）がケトンイミン、アミノトリアリールメ
   タン、アミノキサンテン、アミノアクリジン、またはメ
   チンまたはポリメチン染料の遊離塩基である特許請求の
   範囲第１項記載の組成物。 ７ 成分（ｅ）が構造式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （ただしＸはＣｌ、Ｂｒ、またはＩであり、ａは１〜４
   の整数であり、Ｒは脂肪族カルボン酸の残基であって１
   〜６個の炭素原子を含んでいる）を有する特許請求の範
   囲第１項記載の組成物。 ８ Ｒが１〜６個の炭素原子のアルキレンまたは２〜６
   個の炭素原子のアルケニレンである特許請求の範囲第７
   項記載の組成物。 ９ Ｒがメチン、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル
   、ヘキシル、ビニル、アリル、イソペンテニル、ブテニ
   ル、イソブテニル、またはペンテニルである特許請求の
   範囲第７項記載の組成物。 １０ 常態では固体のアミドが約９０〜１５０℃で融解
   するものである特許請求の範囲第１項記載の組成物。 １１ 常態では固体のアミドが１つの炭素原子に１〜３
   個のクロロ、ブロモ、またはヨードが置換しているアセ
   トアミド、プロピオンアミド、またはブチルアミドであ
   る特許請求の範囲第１項記載の組成物。 １２ 成分（ｅ）がトリクロロアセトアミドまたはトリ
   ブロモアセトアミドである特許請求の範囲第１項記載の
   組成物。 １３ 光重合性乾燥膜ホトレジスト組成物が（ａ） ア
   クリルエステル、（ｃ） アシロインエーテル、アルキ
   ル置換アントラキノン、ベンゾフエノン、またはアルキ
   ルアミノベンゾフエノン、（ｄ） アミノトリアリール
   メタン染料、アミノキサンテン染料、またはアミノアク
   リジン染料の遊離塩基を含んでいる特許請求の範囲第１
   項記載の組成物。 １４ 光重合性乾燥膜ホトレジスト組成物が（ａ） ア
   クリルエステル、（ｃ） アシロインエーテル、アルキ
   ル置換アントラキノン、ベンゾフエノン、またはアルキ
   ルアミノベンゾフエノン、（ｄ） アミノトリアリール
   メタンまたはアミノキサンテン染料の遊離塩基、（ｅ）
   約９０〜１５０℃で融解するハロゲン化脂肪族カルボ
   ン酸の、常態では固体のアミドを含んでいる特許請求の
   範囲第１項記載の組成物。 １５ 光重合性乾燥膜ホトレジスト組成物が（ａ） ト
   リエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレン
   グリコールジアクリレート、ペンタエリトリトールトリ
   アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
   ト、ペンタエリトリトールテトラアクリレート、または
   その混合物、（ｃ） アシロインエーテル、アルキル置
   換アントラキノン、ベンゾフエノン、またはアルキルア
   ミノベンゾフエノン、（ｄ） アミノトリアリールメタ
   ンまたはアミノキサンテン染料の遊離塩基を含んでいる
   特許請求の範囲第１項記載の組成物。 １６ 光重合性乾燥膜ホトレジスト組成物が染料として
   マラカイト・グリーンベース（Ｃ．Ｉ．ソルベント・グ
   リーン１）、マゼンタベース（Ｃ．Ｉ．ソルベント・レ
   ツド４１）、メチル・バイオレツトベース（Ｃ．Ｉ．ソ
   ルベント・バイオレツト８）、クリスタル・バイオレツ
   トベース（Ｃ．Ｉ．ソルベツト・バイオレツト９）、ま
   はローダミンＢベース（Ｃ．Ｉ．ソルベント・レツド４
   ９）を含んでいる特許請求の範囲第１５項記載の組成物
   。 １７ 光重合性乾燥膜ホトレジスト組成物が１つの炭素
   原子に１〜３個のＣｌ、Ｂｒ、またはＩが置換している
   アセトアミド、プロピオンアミド、ブチルアミドを含で
   いる特許請求の範囲第１６項記載の組成物。 １８ 光重合性乾燥膜ホトレジスト組成物がトリクロロ
   アセトアミドを含んでいる特許請求の範囲第１７項記載
   の組成物。 １９ 光重合性乾燥膜ホトレジスト組成物が薄層の形で
   ある特許請求の範囲第１３項記載の組成物。