JPS6344216B2 - - Google Patents

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JPS6344216B2
JPS6344216B2 JP55500104A JP50010479A JPS6344216B2 JP S6344216 B2 JPS6344216 B2 JP S6344216B2 JP 55500104 A JP55500104 A JP 55500104A JP 50010479 A JP50010479 A JP 50010479A JP S6344216 B2 JPS6344216 B2 JP S6344216B2
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JP
Japan
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dye
composition
copper
usually
photopolymerizable
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JP55500104A
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English (en)
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JPS56500054A (ja
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Jeninguzu Rii Jorii
Reo Ruusu
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Hercules LLC
Original Assignee
Hercules LLC
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Filing date
Publication date
Application filed by Hercules LLC filed Critical Hercules LLC
Publication of JPS56500054A publication Critical patent/JPS56500054A/ja
Publication of JPS6344216B2 publication Critical patent/JPS6344216B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/0266Marks, test patterns or identification means
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0073Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces
    • H05K3/0076Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces characterised by the composition of the mask
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/117Free radical
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
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  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
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Description

請求の範囲  ロむコトリアリヌルメタン染料ず化孊線光の
照射により該染料の着色圢態を生成するのに充分
な量の臭玠眮換シクロアルカンずを組合せお含
み、該眮換シクロアルカンの眮換基の個以䞊は
臭玠原子でないし個は塩玠原子である光重合
性組成物甚コントラスト着色剀組成物。  該染料察該眮換シクロアルカンのモル比が
0.2〜である特蚱請求の範囲第項蚘茉の組成
物。  該トリアリヌルメタンロむコ染料が少なくず
も個のアミノ眮換基を有しおいる特蚱請求の範
囲第たたは項蚘茉の組成物。  該ブロムシクロアルカンがゞ゚ム圢眮換以倖
の個の臭玠原子を有する員たたは員炭玠環
のシクロアルカンである特蚱請求の範囲第たた
は項蚘茉の組成物。  該染料が匏 匏䞭、は同䞀たたは異なり、氎玠、アミノ、
オキシ、ヒドロキシ、炭玠数もしくはのアル
コキシ、炭玠数もしくはのアルキルたたはハ
ロであるのトリアリヌルメタンロむコ染料であ
り、そしお該眮換シクロアルカンが匏 匏䞭、は同䞀たたは異なり、氎玠、臭玠たた
は塩玠であるが、少なくずも個のは臭玠であ
り、そしおはないしの敎数であるのブロ
ムシクロアルカンである特蚱請求の範囲第、
、たたは項蚘茉の組成物。 技術分野 本発明は光重合性組成物甚コントラスト着色剀
組成物に関する。 背景技術 枛色法によるプリント回路板の補造においお
は、銅を被着した積局板の衚面に光重合性フむル
ムを接着し、か぀その光重合性局を保護フむルム
たたは支持䜓で被芆する。予め定めたパタヌンに
埓぀お露光するず、光重合性局の露光された郚分
は耐溶剀性パタヌンを圢成し、䞀方未露光郚分は
容易に掗い流すこずができる。次いで露光した銅
局を゚ツチングたたはメツキに付す。 この也燥した光重合性ホトレゞストフむルムは
兞型的には色が薄く透明である。䞋にある銅衚面
に぀いお芳察しおも、フむルムの存圚たたは䞍存
圚すらわからず、回路暡様が正確に描かれおいる
かを確かめるこずは非垞に困難である。ホトレゞ
スト局の怜査を助けるために、倚数のいろいろな
染料系を光重合性局䞭に配合するこずは、既に知
られおいる。 染料系の遞択に圓぀おは、操䜜性及び実甚性䞡
者に関しお倚くの配慮事項がある。染料系は、銅
板ず接觊したずきに明瞭に確察しうる局を䞎える
ものでなければならない。曎に、染料系は露光に
よる局の硬化を著しく阻害しおはならない。だ
が、染料は、光を吞収するこずにより局䞭ぞの光
の透過を劚げたり、あるいはフリヌラゞカル重合
抑制剀ずしお䜜甚するこずによりフリヌラゞカル
ず反応しお鎖を停止するずいうような干枉をしお
もよい。曎に、染料系は凊理䞭及び貯蔵䞭の長期
間に亘り安定でいられるように熱、塩基たたは酞
にあたり敏感であ぀おはならない。さもなけれ
ば、もし染料がホトレゞストの硬化の前に過床の
分解を受けおしたうなら、芳察される色は匱くそ
しお容易に識別できないものずなろう。 埓来技術 米囜特蚱第3113024号はトリプニルメタン染
料のロむコ塩基に基づくフオト系に関し、ある皮
の掻性スルホニルハラむド基を有するかような染
料の熱感受性を教瀺する。 米囜特蚱第3525616号は少なくずも䞀皮のロむ
コトリアリヌルメタン染料ず、少なくずも䞀皮の
−ビニルカルバゟヌルず、そしお露光するずハ
ロゲンを離脱する少なくずも䞀皮のハロゲン化炭
化氎玠ずからなる耇補甚材料に関する。この特蚱
に蚘茉の系では、ハロゲン化炭化氎玠は色の圢成
のみならず−ビニルカルバゟヌルの光重合反応
をも掻性化する。加えお、この特蚱で甚いられお
いるハロゲン化炭化氎玠の倚くたずえばヘキサ
クロルシクロヘキサンは毒性が匷く、皮膚を通
しお吞収されか぀県を匷く刺戟する。さらに、あ
る皮のハロゲン化炭化氎玠は、銅箔ず反応しお干
枉䜜甚のあるコンプレツクスを圢成する。 米囜特蚱第3769023号は、(1)ヒドロキシアルキ
ルセルロヌス、(2)゚チレン型䞍飜和モノマヌ、奜
たしくは−ビニルモノマヌ、(3)露光するずフリ
ヌラゞカルを生成する少なくずも䞀皮の化合物、
(4)瞮合剀、酞化剀およびたたは酞ず接觊するず
着色する䞭間䜓矀から遞んだカラヌ圢成剀、(5)接
着を促進する有機むオり化合物および(6)産品の貯
蔵安定性改善剀からなる感光性の耇補甚材料に関
する。この特蚱に蚘茉の系では、フリヌラゞカル
生成剀はカラヌ圢成および光重合反応の䞡者を掻
性化する。奜たしい掻性化剀は少なくずも個の
ハロゲン原子が単䞀の炭玠原子に結合しおいる有
機ハロゲン化合物である。 米囜特蚱第4065315はフオトトロピヌ染料系に
関する。染料が広範に論じられ、トリアリヌルメ
タン染料の遊離塩基ず組合わせお、掻性光線に露
光されるずハロゲンフリヌラゞカルを遊離し埗る
有機ハラむドを䜿甚するこずが開瀺されおいる。
前蚘トリアリヌルメタン染料の遊離塩基は、次匏
で瀺される。 かような染料を甚いるこずの䞀぀の問題は、同
特蚱の19欄60〜62行に発明者らが認めおいる劂
く、染料の貯蔵安定性がよくないこずである。同
特蚱蚘茉の染料系を甚いるこずに付随する今䞀぀
の問題は、同特蚱で甚いられおいる有機ハラむド
のあるものの毒性が高いこずである。 発明の芁玄 本発明は、光重合性組成物甚の、特に銅衚面に
フオトレゞスト局を圢成するのに有甚なかような
組成物甚のプリントアりト染料系を提䟛する。本
発明のプリントアりト染料系は、ロむコ圢トリア
リヌルメタン染料ず、個以䞊の臭玠眮換分を有
するがゞ゚ム圢ハロゲン眮換は実質的にない熱的
に安定なポリハロ脂環化合物ずを組み合わせおな
る。このプリントアりト染料系は、重合䜓バむン
ダヌ、少なくずも䞀皮の付可重合性モノマヌ、少
なくずも䞀皮の光重合開始剀、通垞は少量の、ト
リアリヌルメタン染料の着色圢態ずコントラスト
をなす染料および少量のその他の添加剀からなる
光重合性組成物に配合する。掻性光線に露光する
ず、プリントアりト染料系は、露光区域に未露光
の光重合性組成物および銅䞋局から容易に識別で
きる顕著な着色局を発珟し、その局は珟像、メツ
キおよび゚ツチング凊理䞭安定である。 具䜓的態様 本発明は、トリアリヌルメタンロむコ染料ずポ
リハロゲン化脂環匏化合物ずを組合わせおなる新
芏なプリントアりト染料系を提䟛するものであ
り、埌者の化合物はゞ゚ム圢ハロゲン眮換をもた
ず、少なくずも個の臭玠を含有し、倧気圧䞋で
は非昇華性であ぀お沞点は200℃よりも高い。本
発明のプリントアりト染料系は、重合䜓バむンダ
ヌ、付加重合性の゚チレン型基を䞀個たたはそれ
以䞊有する少なくずも䞀皮の付加重合性モノマヌ
通垞は二皮以䞊のモノマヌ、光重合開始剀、本
発明のプリントアりト染料系のトリアリヌルメタ
ン染料の着色圢ず察照的な色を有する染料、溶剀
および少量のその他の添加剀からなる付加重合性
組成物に配合しお䜿甚するのが普通である。この
光重合性組成物は、どちらかずいえば、酞化剀た
ずえば過酞化物を含んでいおはならない。 フオトレゞスト調合物ずしおのこの組成物は、
通垞の貯蔵条件䞋で、たた、銅衚面ずの接觊䞋で
の貯蔵で、長期間安定であるこずが確認された。
加えお、この組成物は、氎性および非氎性珟像液
䞭での珟像の間も、たた、酞性およびアルカリ性
のメツキ条件䞋でも安定である。本発明のロむコ
染料プリントアりト系は、光重合反応に殆んで圱
響を及がすこずがなく、露光埌60秒以内で最倧濃
床に達する。 以䞋、プリントアりト系に぀いお先ず説明し、
次いで光重合系に぀いお詳述する。 プリントアりト系に甚いる化合物の遞択に圓぀
おは、次の芁件が満たされるように配慮しなけれ
ばならない。 (a) トリアリヌルメタンロむコ染料およびポリハ
ロゲン化脂環匏化合物は、掻性光線に露光した
際匷い色を発色するように、泚意深く遞択され
ねばならない。色は、匷いばかりでなく、未露
光被芆および銅基局に察し際立぀た色合いでな
ければならず、充分な期間耪色しおはならな
い。 (b) プリントアりト系に甚いる化合物は、充分に
非毒性でなければならず、皮膚を刺戟したり、
県を刺戟するような発煙をしおはならない。 (c) 甚いる化合物は、光重合性系の光重合を実質
的に干枉しおはならない。換蚀すれば、甚いる
化合物は、連鎖移動剀や連鎖生長剀ずしお䜜甚
し、䜎分子量の混合ポリマヌを圢成するこずに
より、硬化した光重合性系を脆匱にするような
ものであ぀おはならない、加えお、甚いる化合
物は、光重合性系の光重合速床を遅くしおはな
らない。 (d) 甚いる化合物がフリヌラゞカルの生成によ
り掻性化される波長範囲は、光重合性系䞭の
光重合開始剀の最倧吞収ず著るしく重耇しおは
ならない。甚いるポリハロゲン化脂環匏化合物
は、Dmaxが300nを超えるのが最も奜たし
い。 (e) 甚いる化合物は、銅ずコンプレツクスを圢成
したり、銅ずその他の系ずの接着促進剀ずしお
䜜甚しおはならない。 (f) 甚いる化合物は、メツキ济䞭に溶出したり、
メツキ济を汚染したり、爟埌の操䜜に有害であ
぀たりしおはならない。 (g) 甚いる化合物は、それらを䞀諞にした堎合、
充分な貯蔵安定性および熱安定性をもたねばな
らず、か぀掻性光線に露光前に発色しおはなら
ない。 (h) 甚いる化合物は、也燥および巻きずりサむク
ルの間に、たた貯蔵の間に昇華したり、蒞発し
たり、拡散したりしおはならない。 前蚘の諞芁件は、ロむコトリアリヌルメタン染
料ず、ゞ゚ム圢眮換ではない少なくずも個の臭
玠を含有するポリハロゲン化脂環匏化合物ずを組
合わせおなる本発明のプリントアりト系により充
足されるこずがわか぀た。 本発明の組成物に䜿甚するトリアリヌルメタン
染料ずハロゲン化脂環匏化合物ずのモル比は、ハ
ロゲン化脂環匏化合物の皮類によ぀お倉るが、䞀
般には玄0.2〜の範囲、特に0.2〜の範囲であ
る。重量郚で衚わすなら、染料重量郚圓り、ハ
ロゲン化脂環匏化合物は、通垞玄0.01〜より普
通には玄0.1〜、奜たしくは0.5〜重量郚であ
る。 ロむコトリアリヌルメタン染料は氎玠に結合し
た䞉玚炭玠原子を有し、各プニル環は眮換でも
非眮換でもよく、普通環個圓り玄個以䞋の眮
換基を有し、より普通には環個圓り玄個以䞋
の眮換基を有し、これらは通垞はオルトたたはパ
ラであり、より普通にはパラである。眮換基は結
合しおキサンテン、アクリゞン等のような重瞮合
系を圢成しおもよい。眮換基はアミノアルキル
基が〜、普通〜個の炭玠原子を有するモ
ノ及びゞアルキルアミノも含む、オキシ、ヒド
ロキシたたはアルコキシ、特に〜、普通〜
個の炭玠原子を有するアルコキシ、原子番号
〜80、普通〜35のハロゲン、〜、普通〜
個の炭玠原子を有するアルキル、非オキ゜カル
ボニル、ニトロ、スルホ、アシル等であるこずが
できる。眮換基は、奜䟿性、光重合性系ぞの干枉
がないこず、所望の色、䜿甚条件䞋における熱及
び酞化安定性ならびにその他の実甚性を考慮しお
遞択される。トリアリヌルメタンロむコ染料䞊の
眮換基の特定の遞択は本発明の範囲内で広く倉化
できる。 倧䜓、本発明のロむコ染料は䞋蚘の構造を有す
る。 匏䞭、Ra、RbおよびRcは、同䞀たたは異なり、
䞀般に氎玠、アルキル基が〜、普通〜個
の炭玠原子を有するモノ及びゞアルキルアミノも
含めたアミノ、ヒドロキシたたはアルコキシ、奜
たしくは〜、普通〜個の炭玠原子を有す
るアルコキシも含めたオキシ、〜、普通〜
個の炭玠原子を有する非オキ゜カルボニル、原
子番号〜80、普通〜53の、奜たしくは17〜53
のハロゲン、〜、普通〜、より普通には
〜個のアルキル、シアノ、ニトロ等であり、 R1、R2およびR3は、同䞀たたは異なりRa、Rb
およびRcず同䞀たたは異なり、普通には氎玠で
あるか、たたはR2に隣接アリヌル基ず䞀諞にな
぀お炭玠環たたはヘテロ原子、䟋えば、及び
を有する環を圢成する。 Ra、RbおよびRcずしお奜たしい基は、アミノ、
アルキルが〜、普通〜個の炭玠原子を有
するゞアルキルアミノ、〜、普通〜個の
炭玠原子を有するアルコキシたたはクロルであ
り、より奜たしくはそれらは、少なくずも、普
通には〜、より普通には〜個の、アルキ
ル及びゞアルキルアミノも含めたアミノ基であ
る。 ロむコ染料の䟋ずしおはクリスタルバむオレツ
ト、マラカむトグリヌン、ベヌシツクブルヌ、パ
ラロサニリン、ロサニリン、パテントブルヌた
たは等がある。 プリントアりト染料組成物のもう䞀方の構成員
であるハロゲン化脂環匏化合物はシクロアルカン
であり、倧気圧䞋で玄200℃を超す沞点を有し、
少なくずも個の臭玠原子を有するが、ヘテロ眮
換分はゞ゚ム圢でなくすなわち炭玠原子個に
個以䞊の眮換基が結合するこずはなく、凊理
条件䞋で安定であるが、光照射の間には結合開裂
をおこすこずができ、その他の点では光照射前安
定であり、か぀光重合に悪圱響を及がさない。 本発明で甚いるブロムシクロアルカンは、次匏
のものであるこずができる。 匏䞭、のうち少なくずも個は臭玠であり、
残りのは氎玠、臭玠たたは塩玠であり、そしお
はないしの敎数、最も奜たしくはであ
る。特に奜たしいポリハロゲン化脂環匏化合物
は、−ペンタブロム−−ク
ロルシクロヘキサンである。 さお、本発明のプリントアりト染料組成物を含
有する、付加重合性組成物、特にホトレゞスト組
成物を考えおみるず、この組成物は通垞、玄40〜
80重量の重合䜓バむンダヌ、玄15〜30重量の
皮以䞊のモノマヌ、玄0.001〜10重量の重合
フリヌラゞカル開始剀すなわち光重合開始剀、玄
0.01〜重量のロむコトリアリヌルメタン染
料、玄0.1〜重量のポリハロゲン化脂環匏化
合物、玄0.01〜重量の、ロむコ染料ずコント
ラストをなす着色した染料及び玄0.001〜重量
の各皮添加剀、䟋えば可塑化剀、酞化防止剀、
充填剀、チキ゜トロヌプ性均展剀及び接着促進剀
を有する。所望ならば、顔料を含有させおもよ
い。 重合䜓モノマヌ単量䜓は、〜、通垞〜
、奜たしくは〜個の付加重合性オレフむン
性基を有するこずができる。䞋蚘の付加重合性オ
レフむンが䜿甚できる重合性モノマヌの䟋であ
る。 単独たたは組合せお䜿甚できる適圓な重合性モ
ノマヌずしおは〜15個の炭玠原子を有するアル
キレングリコヌルたたは〜10個の゚ヌテル結合
を有するポリアルキレン゚ヌテルグリコヌルから
補造されたアルキレン及びポリアルキレングリコ
ヌルゞアクリレヌト類がある。顕著な物質ぱチ
レン性䞍飜和基、特に、ビニリデン基が゚ステル
たたはアミド構造ず共圹したものである。このよ
うな化合物の具䜓䟋ずしおは次のようなものがあ
る。ポリオヌルの䞍飜和゚ステル、特にα−メチ
レンカルボン酞の䞍飜和゚ステル、䟋えば゚チレ
ンゞアクリレヌト、ゞ゚チレングリコヌルゞアク
リレヌト、グリセロヌルゞアクリレヌト、グリセ
ロヌルトリアクリレヌト、゚チレンゞメタクリレ
ヌト、−プロパンゞオヌルゞメタクリレヌ
ト、−ブタントリオヌルトリメタクリ
レヌト、−ベンれンゞオヌルゞメタクリレ
ヌト、−シクロヘキサンゞオヌルゞアクリ
レヌト、ペンタ゚リスリトヌルトリ−及びテトラ
メタクリレヌト、ペンタ゚リスリトヌルテトラア
クリレヌト、−プロパンゞオヌルゞアクリ
レヌト、−ペンタンゞオヌルゞメタクリレ
ヌト分子量100〜1500のポリ゚チレングリコヌ
ル類のビスアクリレヌト類及びメタクリレヌト類
等䞍飜和アミド類、特にα−メチレンカルボン
酞のもの、そしお特にアルフア、オメガゞアミン
類及び酞玠で䞭断されおいるオメガゞアミン類、
䟋えばメチレンビスアクリルアミド、メチレンビ
ス−メタクリルアミド、−ヘキサメチレン
ビスアクリルアミド、ゞ゚チレントリアミントリ
ス−メタクリルアミド、ビスメタクリルアミド
プロポキシ゚タン、β−メタクリルアミド゚チ
ルメタクリレヌト及び−〔β−ヒドロキシ゚チ
ルオキシ゚チル〕アクリルアミド。 奜たしい実斜態様では、゚チレン型䞍飜和付加
重合性化合物はアクリリルたたはメタクリリル化
合物たたはその誘導䜓、䟋えば䜎分子量のダむマ
ヌ、トリマヌ等、すなわちオリゎマヌである。特
に有甚な結果は也燥フむルムホトレゞスト組成物
が奜たしい硬化性たたは架橋性重合䜓たたはオリ
ゎマヌず、゚チレン型䞍飜和重合性化合物ずしお
アクリリル゚ステルを含有しおいるずき埗られ
る。特に有甚なアクリリル゚ステルは䞋蚘䞀般匏
で衚わされるモノ−及びポリアクリリル化合物で
ある。
【匏】たたは
【匏】アクリリル化合物が
【匏】の堎合、 はたたはCH3であり、 M′は〜12個の炭玠原子を有するシクロアル
キル䟋えばシクロペンチル、ゞシクロペンチ
ル、メチルシクロペンチル、ゞメチルシクロペン
チル等、 〜12個の炭玠原子を有するシクロアルケニル
䟋えば、シクロペンテニル、メチルシクロペン
テニル、ゞシクロペンテニル、ビシクロ〔
〕ヘプト−−゚ン−むル等、 −CpH2qM″ たたは CqH2qsCqH2q+s 匏䞭、 は〜10の敎数であり、 は〜の敎数であり、 は〜の敎数であり、 M″は氎玠、ヒドロキシル、プノキシ、炭玠
原子〜個のアルコキシ基であるである。 たた、アクリリル化合物が 匏
【匏】 の堎合、 は匏 −C2H2x-y− 〔匏䞭、 は〜の敎数であり、 は〜の敎数である。 䟋えばのずきは−C2H4−、−C3H6−、−
む゜−C3H6−、−C5H10−、−ネオ−C6H12−等の
ような䟡のアルキレン、のずきは
【匏】
【匏】
【匏】等 のような䟡のアルキレン、たたは のずきは
【匏】
〔匏䞭、は〜の敎数であり、は〜の敎数であり䟋えば、オキシ゚チレン、オキシプロピレン、オキシブチレン、ポリオキシ゚チレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレン等、そしおはの原子䟡であり〜でありうる〕
で衚わされる䟡の゚ヌテルたたぱステル基で
ある。 特に奜たしいアクリリル化合物はトリ゚チレン
グリコヌルゞアクリレヌト、テトラ゚チレングリ
コヌルゞアクリレヌト、ペンタ゚リスリトヌルト
リアクリレヌト、トリメチロヌルプロパントリア
クリレヌト及びペンタ゚リスリトヌルテトラアク
リレヌトである。 代衚的な重合䜓バむンダヌずしおは、ポリスチ
レン、ポリカヌボネヌト、ポリりレタン、ポリホ
ルムアルデヒド、ポリビニルアセタヌル䟋え
ば、ポリビニルブチラヌル、ポリ塩化ビニル及
び共重合䜓、ポリ゚ヌテル類䟋えば、ポリ゚チ
レンオキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリテ
トラヒドロフラン、ポリアクリレヌト類䟋え
ばポリメチルメタクリレヌト、ポリ゚チルメタク
リレヌト、ポリメチルアクリレヌト及びポリ゚チ
ルアクリレヌトポリビニル゚ステル類䟋え
ば、ポリ酢酞ビニル及びポリ酢酞ビニルアクリ
ル酞゚ステル、セルロヌス゚ステル類䟋えば
酢酞セルロヌス及び酢酞酪酞セルロヌス、セル
ロヌス゚ヌテル類䟋えば、メチルセルロヌス及
び゚チルセルロヌス、倉性ポリオレフむン類
䟋えば、゚チレン酢酞ビニル共重合䜓、ポリ
塩化ビニリデン塩化ビニリデンずアクリルニト
リル、メチルメタクリレヌト及び酢酞ビニルの共
重合䜓を含む、ポリアミド類䟋えば、ポリカ
プロラクトン、ポリカプロラクタム及びポリヘキ
サメチレンアゞパミド及びポリ゚ステル類䟋
えば、ポリ゚チレングリコヌルテレフタレヌト及
びポリヘキサメチレンスクシネヌトがある。 光重合性組成物に䜿甚する光重合性開始剀は化
孊線光で掻性化され、185℃以䞋で熱的に安定で
あるものが奜たしい。かような開始剀ずしおは、
眮換たたは非眮換倚栞キノン類、䟋えば10−
アントラキノン、−クロルアントラキノン、
−シクロアントラキノン、−メチルアントラキ
ノン、−゚チルアントラキノン、−tert−ブ
チルアントラキノン、オクタメチルアントラキノ
ン、−ナフトキノン、10−プナント
ラキノン、−ベンゟアントラキノン、
−ベンゟアントラキノン、−メチル−
−ナフトキノン、−ゞクロルナフトキノ
ン、−ゞメチルアントラキノン、−
ゞメチルアントラキノン、−プニルアントラ
キノン、−ゞプニルアントラキノン、
−クロル−−メチルアントラキノン、レテンキ
ノン、10−テトラヒドロナフタセン
キノン、−テトラヒドロベンズ(a)
−アントラセン−12−ゞオンがある。 米囜特蚱第2760863号に蚘茉された䞋蚘の光重
合開始剀もたた、掻性であるが、有甚である。そ
のうちあるものは85℃ずいう䜎い枩床でも熱的に
安定である。ビシナルケタルドニル化合物、䟋え
ばゞアセチル及びベンゞルアルフアケタルドニ
ルアルコヌル類、䟋えばベンゟむン及びピバロむ
ンアクロむン゚ヌテル類、䟋えばベンゟむンメ
チル及び゚チル゚ヌテルα−炭化氎玠眮換芳銙
族アシロむン、α−メチルベンゟむンα−アリ
ルベンゟむン及びα−プニルベンゟむン。 ベンゟむン゚ヌテル類の具䜓䟋ずしおは、ベン
ゟむンメチル゚ヌテル、ベンゟむン゚チル゚ヌテ
ル、ベンゟむルプニル゚ヌテル、メチルベンゟ
むン及び゚チルベンゟむンがある。 ある皮の芳銙族ケトン、䟋えばベンゟプノン
及び4′−ビス−ゞアルキルアミノベンゟ
プノンも有甚である。その具䜓䟋ずしおはベン
ゟプノン、4′−ビスゞメチルアミノベ
ンゟプノン、4′−ビスゞ゚チルアミノ
ベンゟプノン、−ヒドロキシ−4′ゞ゚チルア
ミノベンゟプノン、−ヒドロキシ−4′−ゞメ
チルアミノベンゟプノン、−アクリルオキシ
−4′−ゞメチルアミノベンゟプノン、及び−
メトキシ−4′−ゞメチルアミノベンゟプノンが
ある。 重合開始剀はアシロむン゚ヌテル、アルキル基
が〜個の炭玠原子を含有しおいるアルキル眮
換アントラキノン、ベンゟプノンたたはアルキ
ルアミノベンゟプノンの少なくずも䞀皮を含有
するのが奜たしい。 奜たしい光重合性組成物には、熱重合抑制剀を
添加する。熱重合抑制剀の䟋ずしおは、−メト
キシプノヌル、ハむドロキノン、アルキル及び
アリヌル眮換ハむドロキノン及びキノン類、−
ブチルカテコヌル、ピロガロヌル、ロゞン酞銅、
ナフチルアミン類、β−ナフトヌル、−ゞ
−tert−ブチル−クレゟヌル、2′−メチレ
ン−ビス−−゚チル−−−ブチルプノ
ヌル、ピリゞン、ニトロベンれン、ゞニトロベ
ンれン、−トルキノン、クロラニル、亜燐酞ア
リヌル及び亜燐酞アリヌルアルキルがある。 フオトレゞスト組成物ずしお甚いる光重合性組
成物は、通垞適圓な溶媒、普通には有機溶媒、䟋
えば〜個の炭玠原子を有するケトン単独䞭に
たたはかようなケトンず〜個の炭玠原子を有
するアルカノヌルずの混液䞭に凊方され、その䞭
の固圢分癟分率は通垞玄10〜50重量である。 フオトレゞスト組成物は、銅シヌト䞊に、通垞
は䞊面銅局を有する積局板に未硬化フオトレゞス
ト局が銅局ず接觊するように適甚する。フオトレ
ゞスト局甚保護フむルムを曎に蚭けるこずによ
り、保護フむルム、未硬化フオトレゞスト局及び
銅局のサンドむツチずするこずができる。フオト
レゞスト局は玄0.00635〜0.127mm0.25〜ミ
ル、通垞は玄0.019〜0.10mm0.75〜ミルの
厚さの也燥膜厚を有する。保護局は通垞玄0.0127
〜0.127mm0.5〜ミル厚さでよく、䞍掻性の
付加たたは瞮合重合䜓、䟋えばポリプロピレンの
ような〜個の炭玠原子を有するポリオレフむ
ン、ポリ゚チレンテレフタレヌト等であ぀およ
い。 䜿甚に圓぀おは、光重合性也燥フむルムを掻性
光線光源に露光するが、これは䞭間調画像たたは
プロセス透明画、䟋えばプロセスネガたたはポ
ゞ、ステンシルたたはマスクを通しお行える。露
光はたた連続階調ネガたたはポゞ画像を通しおも
よい。露光は重合性局䞊にカバヌシヌトを蚭けお
たたは蚭けずに密着たたは投射法により、あるい
はカバヌシヌトを甚いお投射法により行なうこず
ができる。これらの方法はこの分野で圓業者によ
く知られおいる。フオトレゞスト組成物の露光に
は、䞀般に玫倖線が䜿甚されるが、線源は効果的
量の玫倖線を䞎えるものでなければならない。点
たたはブロヌド攟射線源が効果的である。このよ
うな線源ずしおは、カヌボンアヌク、氎銀蒞気ア
ヌク、玫倖線攟射性燐光䜓を含む蛍光灯、アルゎ
ングロヌ灯、電気せん光装眮及び写真甚投光灯が
ある。これらのうち、氎銀蒞気アヌク、特に倪陜
灯が最も奜適である。 也燥フむルムフオトレゞスト組成物は露光埌公
知の方法で、䟋えばレゞストフむルムの未露光郚
分を掗い流すこずができる有機溶媒たたはその混
合物で、撹拌浞挬ブラシ掗浄を甚いる、所望の画
像ぞのスプレヌゞ゚ツト流の吹付けにより珟像で
きる。有甚な溶媒ずしおは酢酞セルロヌス、酢酞
゚チル、メチル゚チルケトン、アセトン、テトラ
クロル゚チレン、〜個の炭玠原子を有するア
ルカノヌル類、ブチルセロ゜ルプ、クロルベンれ
ン及びゞメチルホルムアミドたたはこれらは少量
の有機添加物を含有しおいおもよい氎たたは匱ア
ルカリ性溶液がある。 フオトレゞスト組成物䞭に甚いる以倖に、前蚘
の光重合性組成物は、玫倖線硬化性コヌデむング
及び印刷組成物䞭にも䜿甚できる。これらの組成
物は倧䜓フリヌラゞカル付加重合性モノマヌ、光
重合開始剀及び本発明のプリントアりト染料組成
物を、既に蚘茉した他の特定した添加剀に加え、
含有する。これらの組成物は䞀般に玄0.1〜、
より普通には玄0.2〜重量の本発明のプリン
トアりト染料組成物を含有する。 䞊述した゚チレン型䞍飜和化合物が有甚である
が、アクリリル化合物、殊に䞊述したようにアク
リリルオリゎマヌ及び゚ステルの圢のものが特に
有甚である。 有甚な他の䞀矀のオリゎマヌは次のようにしお
埗られる。すなわち、有機ポリ゚ヌテルポリオヌ
ルたたはポリ゚ステルポリオヌルをゞむ゜シアネ
ヌトず反応させるこずにより、む゜シアネヌト末
端プレポリマヌを埗る。この生成物を䞍飜和アル
コヌル、䟋えばヒドロキシルアルキルアクリレヌ
トず反応させ、それ単独たたは他の䞍飜和モノマ
ヌず組合せお、フリヌラゞカルの圱響䞋で重合
し、硬質匷靭粘着性フむルムを圢成する物質ずす
る。 䞊蚘のものの倉圢ずしお、トリメチロヌルトリ
スチオグリコレヌト、トリメチロヌルプロパ
ントリスメルカプトプロピオネヌト、ペンタ
゚リスリトヌルテトラキスチオグリコレヌト、
ペンタ゚リスリトヌルテトラキスメルカプトプ
ロピオネヌト等のような重合䜓カプト゚ステル
をゞむ゜シアネヌトず反応させるこずによりポリ
チオりレタン䞭間䜓を埗、この䞭間䜓を䞍飜和ア
ルコヌル、䟋えばヒドロキシアルキルアクリレヌ
トず反応させ、単独たたは他の䞍飜和モノマヌず
組合せお、架橋埌優れた皮膜特性を有するフリヌ
ラゞカル重合性物質ずする。 有甚なオリゎマヌの他の䟋はヒドロキシ末端ポ
リカプロラクトンをゞむ゜シアネヌトず反応さ
せ、次いでむ゜シアネヌト末端䞭間䜓を䟋えばヒ
ドロキシアルキルアクリレヌトのような䞍飜和ア
ルコヌルず反応させるこずにより埗られたアクリ
レヌト末端付加ポリカプロラクトンポリりレタン
である。 曎に他の有甚な䞀矀のオリゎマヌぱポキシ暹
脂をアクリル酞ず反応させお、゚ポキシゞアクリ
レヌトずするこずにより埗られる。䟋えば、゚ピ
クロルヒドリンビスプノヌル型゚ポキシ暹
脂を化孊量論的量のアクリル酞ず反応させるこず
ができる。このような生成物は商暙“Epocryl”
ずしおShell Chemical Companyから垂販されお
いるものである。別のものずしおは、Union
Carbide CompanyからのUcar−80がある。この
ような物質は各皮のアクリル系゚ステル、䟋えば
ネオペンチルグリコヌルゞアクリレヌト、ヒドロ
キシ゚チルアクリレヌト及びゞシクロペンチルア
クリレヌト、及び他のポリオヌルの䞍飜和゚ステ
ル、䟋えばメチレンカルボン酞゚ステル䟋え
ば、゚チレンゞアクリレヌト、ゞ゚チレングリコ
ヌルゞアクリレヌト、グリセロヌルゞアクリレヌ
ト、グリセロヌルトリアクリレヌト、゚チレンゞ
メタクリレヌト、−プロピレンゞメタクリ
レヌト、−ブタントリオヌルトリメタ
クリレヌト、−ベンれンゞオヌルゞメタク
リレヌト、ペンタ゚リスリトヌルテトラメタクリ
レヌト、−プロパンゞオヌルゞアクリレヌ
ト、−ヘキサンゞオヌルゞアクリレヌト、
分子量200〜500のポリ゚チレングリコヌルのビス
アクリレヌト及びメタクリレヌト、トリメチロヌ
ルプロパントリアクリレヌト、ペンタ゚リスリト
ヌルトリアクリレヌト及び他の゚チレン型䞍飜
和化合物ず組合せおフリヌラゞカルの圱響䞋で重
合でき、優れた接着性及び匷靭性を有するフむル
ムが埗られる。 他の組成物は末端䞍飜和りレタン組成物ポリ
゚ン及びポリチオヌルの組合せで、化孊線光の
䜜甚により光重合開始剀䞊に生成したフリヌラゞ
カルの圱響䞋で重合されうるものを含む。 塗垃及び印刷むンク組成物は䞻芁量の膜圢成性
物質及び感光剀及び比范的少量のロむコ染料及び
ハロゲン化合物を含有する。䟋えば、兞型的な組
成物は15〜70重量の䞊述した゚チレン型䞍飜和
化合物、10〜50重量の皮以䞊の䞍飜和モノマ
ヌたたは予め別途補造した重合䜓バむンダヌ、
0.1〜15重量の光重合開始剀、0.01〜重量
の䞊述したロむコ染料及び0.1ないし重量の
ハロゲン含有化合物を含有しおいる。曎に狭い範
囲は玄40〜55の゚チレン型䞍飜和化合物、30〜
45のモノマヌたたは重合䜓バむンダヌ、0.5〜
15の党開始剀、0.5〜の染料基剀及び0.8〜
のハロゲン化合物党お重量を含有する
であろう。 フオトレゞスト組成物は、しばしば枚の剥離
可胜な重合䜓フむルム間にフオトレゞスト局を挟
んだ積局物サンドむツチずしお提䟛される。フむ
ルムの䞀方は掻性光線に察しお実質的に透明でな
ければならない。フむルムは通垞玄0.00635〜
0.254mm0.25〜10ミルの厚さであろう。 以䞋、本発明を䟋瀺するため実斜䟋を瀺すが、
これらは本発明を制限するものではない。 実斜䟋  䞋蚘の光重合性組成物を補造した。 アクリル系重合䜓56アクリル酞゚チル、 37メタクリル酞メチル及び アクリル酞、メチル゚チルケトン䞭 30℃における固有粘床0.458 12.63 スチレン−無氎マレむン酞共重合䜓、䞀郚゚ステ
ル化、 酞䟡270及び分子量1700 12.63 トリ゚チレングリコヌルゞメタクリレヌト6.67 ベンゟプノン 1.30 4′−ビスゞメチルアミノベンゟプノン
0.067 ブリリアントグリヌン染料C.I.42040 0.0027 ロむコクリスタルバむオレツト 0.39 −ペンタブロム−−クロル
シクロヘキサン 0.63 メチル゚チルケトン 100.00 溶液は玄25の固圢分を含有しおおり、これを
二軞延䌞し、ヒヌトセツトしたポリ゚チレンテレ
フタレヌトフむルム䞊にドクタヌナむフで0.023
mm0.00092むンチの厚さに塗垃した。塗膜を
颚也するこずにより也燥膜厚0.033mm0.00130ã‚€
ンチの極薄緑色のフむルムを埗た。銅を被着し
た゚ポキシ−ガラス繊維板枚をSomaca
Model SBC−12掗浄噚を甚いお掗浄、也燥した。
この鋌板をXidex積局機を甚いお115℃で0.9〜1.2
〜フむヌト分の速床で也燥光重合性
組成物ず積局した。埗られたポリ゚ステルフむル
ム、光重合性組成物及び銅からなる耇合物は黄色
光䞋で、いかなる露出した銅ず識別するにも充分
なコントラストを有するわずかに緑色を有しおい
る。銅サンドむツチ䜓をColight 1200watt
DMVL−玫倖線露光源を甚いお、透明画に10
分間露光する。露光盎埌、匷い玫色画像が、薄緑
色背景ず優れたコントラストを有する露光郚分䞭
に圢成される。この板をDEA Americana2401珟
象液䞭で76.2cm30″の噎霧宀を甚いお珟像す
る。この党䜓的に氎性の珟像液は0.75重量の炭
酞ナトリりム−氎和物を26.7〜29.4℃80〜85
〓で含有しおいる。1.41Kgcm220psiの噎
霧圧力及び1.053.5フむヌト分の走行速
床を甚いお、板を珟像液䞭に通す。掗浄及び也燥
埌、残存する露光画像は露光から実質的に䞍倉化
で残぀おいる匷い色を有しおいる。板を分間20
過硫酞アンモニりム溶液に浞挬し、倧量の氎で
掗浄し、20HCl溶液に分間浞挬し、再床氎掗
し、次いで45分間酞性硫酞銅济䞭で900cm2平
方フむヌト圓り25アンペアで呚囲枩床でメツキ
する。メツキ埌、レゞスト画像の識別できる色倉
化は䜕ら起きなか぀た。次いで、板を再び掗浄
し、分間15フルオロ硌酞に浞挬し、次いで
PbSnメツキ济䞭で900cm2平方フむヌト圓
り15アンペアを甚いお呚囲枩床で30分間メツキし
た。前のように、䜕ら識別できる色倉化は芳察さ
れなか぀た。玫色レゞスト画像は3.0重量KOH
溶液䞭40℃で40秒間浞挬するこずによりストリツ
ピングした。掗浄埌、板をFeCl3溶液䞭で゚ツチ
ングし、これにより保護されおいない銅が党お陀
去され、䜿甚可胜な電気回路板が埗られた。 実斜䟋  甚いたプリントアりト染料が等量のロむコマラ
カむトグリヌン及び他の染料、等量のパラロサリ
ニンアセテヌトC.I.42500であ぀た以倖は実
斜䟋の組成物を甚いた。塗垃埌、組成物は露光
埌埗られる暗緑色のプリントアりト画像に察しお
黄色光䞋で良奜なコントラストを瀺すわずかな赀
色をしおいた。板を同䞀条件䞋で珟像したが、露
光した銅はAc−Cu guard゚ツチング溶液を含有
するDEA゚ツチング液䞭でPH8.7及び枩床45℃で
゚ツチングした。板を1.8フむヌト゚ツ
チング宀に1.8フむヌト分の速床で通
した。レゞストはわずかに曇぀たが、色は実質䞊
倉化しなか぀た。 実斜䟋  䞋蚘の光重合性組成物を補造した。 ポリメタクリル酞メチル、メチル゚チル ケトン䞭30℃の固有粘床0.380 9.36 トリメチロヌルプロパントリアクリレヌト2.50 テトラ゚チレングリコヌルゞメタクリレヌト
2.50 フタル酞ゞオクチル 0.10 ベンゟプノン 0.85 4′−ビスゞメチルアミノベンゟプノン
0.030 −メチル−−ゞ−−ブチルプノヌル
0.002 ブリリアントグリヌン染料C.I.420400.002 −メルカプトベンゟチアゟヌル 0.010 −ペンタブロム−−クロル
シクロヘキサン 0.255 ロむコパラロサニリン 0.175 メチル゚チルケトン 33.0 溶液を0.023mm0.00092むンチ厚のポリ゚ス
テルフむルム䞊に0.038mm1.5ミルの也燥膜厚
に塗垃した。次いで、これを実斜䟋におけるよ
うに枅浄な銅を被着した積局物に積局した。フむ
ルムを15秒間DMVL−䞭で露光するこずによ
り緑色の背景䞊に匷い赀色プリントアりトを埗
た。露光板を宀枩条件で15分間保持し、次いで
−トリクロル゚タン䞭で2.1フ
むヌト分で20.0℃68〓で珟像した。也燥
埌、板を実斜䟋におけるようにメツキ前枅浄し
た。次いで、これを51.7℃125〓でピロ燐酞
銅メツキ济䞭で45分間900cm2平方フむヌト
圓り25アンペアを甚いおメツキした。メツキ埌、
板を色損倱に぀いお怜査したずころ、䜕ら損倱は
芳察されなか぀た。−メルカプトベンゟチアゟ
ヌルを甚いなか぀た第二の凊方では、メツキ埌レ
ゞストの接着性が乏しか぀た以倖は同様な結果が
埗られた。 実斜䟋  䞋蚘の光重合性組成物を補造した。 アクリル系重合䜓、メチル゚チルケトン äž­30℃の固有粘床0.11、酞䟡55−60 21.00 トリメチロヌルプロパントリアクリレヌト3.30 トリ゚チレングリコヌルゞメタクリレヌト3.30 ベンゟプノン 1.75 4′−ビスゞメチルアミノベンゟプノン
0.092 −メチル−−ゞ−−ブチルプノヌル
0.0014 ベヌシツクブル−26C.I.44045 0.0040 ブリリアントグリヌン 0.0008 ロむコクリスタルバむオレツト 0.300 −ペンタブロム−−クロル
シクロヘキサン 0.50 メチル゚チルケトン 50.00 メタノヌル 2.00 溶液を前ず同様に厚さ0.023mm0.00092むン
チのポリ゚ステル支持䜓に0.038mm0.00150ã‚€
ンチの也燥膜厚に塗垃した。也燥埌、枚の詊
隓片は、88.9cm35″×15.2cm6″の28.4
オンスの銅を被着した枚の゚ポキシ−ガ
ラス繊維板にそれぞれ積局した。枚目の詊隓片
は、厚さ0.025mm0.0010むンチのポリ゚チレ
ンに積局した。このフむルム片を埌で䜿甚するた
め壁ぞテヌプで取り぀けた。枚の銅板は、35〜
38℃のBlue 炉䞭に日間眮いた。枚目の銅
板は呚囲枩床の匕出しの䞭に入れ、第䞉の銅板は
実斜䟋におけるように露光し珟像した。暙準階
段光厚くさび板䞊で√階段の写真速床の暗玫
色のプリントアりト画像が埗られた。ハロゲン化
シクロヘキサンを0.32の四臭化炭玠により代え
た以倖は、同様の組成物を補造した。露光及び珟
像埌、同様な玫色画像が埗られたが、10√階段
であ぀た。炉䞭で日間たたは宀枩で週間埌
銅䞊及びポリ゚チレン内積局詊料共、臭玠化シ
クロヘキサン誘導䜓を甚いた写真速床たたはプリ
ントアりト画像濃床に䜕ら倉化なか぀た。
Perkin Elmer402玫倖線分光光床蚈により枬定し
たフむルムの色は暗化しなか぀た。ハロゲン化シ
クロヘキセンの代りに四臭化炭玠を甚いた凊方に
おいおは、䞋蚘のこずが起きた。すなわち、炉内
の詊料は完党に玫色に倉化し、露光しおも䜕らプ
リントアりト画像が圢成されなか぀た。写真速床
は√階段䜎䞋した。匕出し䞭に保存した銅板
䞊の詊料はより暗い背景䞊にかすかなプリントア
りト画像を䞎えたが、写真速床の損倱は同様であ
぀た。ポリ゚チレンず積局した詊料は背景濃床に
おいお2.5係数増加し、写真速床の損倱は√
階段であ぀た。2′3′4′−トリクロルアセトフ
゚ノン、−クロルスクシンむミドたたはペヌド
ホルムを甚いたずき、同様の結果が埗られた。 実斜䟋  塗垃組成物を䞋蚘の成分から補造した。 Actomer −80Union Carbide補゚ポキシ化
倧豆油 30.00 トリメチロヌルプロパントリアクリレヌト
20.00 ペンタ゚リスリトヌルトリアクリレヌト 10.00 酢酞ビニル 20.00 ベンゟプノン 12.00 4′−ビスゞメチルアミノベンゟプノン
1.0 −ペンタブロム−−クロル
シクロヘキサン 1.5 ロむコクリスタルバむオレツト 1.0 溶液を0.25mm10ミルのドクタヌナむフで
枚の厚玙に塗垃した。次いでこの粘着性塗膜を高
匷床玫倖線源に60秒間DMVL−、1200ワツ
ト電球に露光した。暗色に着色した匷靭な耐匕
掻性フむルムが埗られ、これはメタノヌルたたは
−トリクロル゚タンに察し耐性であ぀
た。 産業䞊の利甚可胜性 䞊蚘の結果により立蚌されるように、本発明の
プリントアりト染料組成物を甚いるず、光重合性
組成物の補造においお、優れた結果が埗られる。
染料は重合䜓の光硬化を干枉しないので、安定な
塗膜が埗られる。曎に、組成物は塗垃甚組成物ず
しおも未硬化フむルムずしおも、長期間保存で
き、組成物の性質に悪圱響はみられない。曎に、
このプリントアりト染料組成物は凊理䞭有害なた
たは危険な煙を生成せず、たた䜕ら催涙性䜜甚の
城候はない。最埌に、所望の色は保持され、埌続
の凊理䞭必芁なコントラストを䞎える。
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Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3324642A1 (de) * 1983-07-08 1985-01-17 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Verfahren zur stabilisierung von photopolymerisierbaren mischungen
JPS6057340A (ja) * 1983-09-08 1985-04-03 Fuji Photo Film Co Ltd 焌出し性組成物
US4572886A (en) * 1983-11-03 1986-02-25 Texas Instruments Incorporated Optical method for integrated circuit bar identification
GB8702732D0 (en) * 1987-02-06 1987-03-11 Hercules Inc Photopolymerisable composition
DE3717038A1 (de) * 1987-05-21 1988-12-08 Basf Ag Photopolymerisierbare aufzeichnungsmaterialien sowie photoresistschichten und flachdruckplatten auf basis dieser aufzeichnungsmaterialien
DE3717036A1 (de) * 1987-05-21 1988-12-08 Basf Ag Photopolymerisierbare aufzeichnungsmaterialien sowie photoresistschichten und flachdruckplatten auf basis dieser aufzeichnungsmaterialien
DE3717037A1 (de) * 1987-05-21 1988-12-08 Basf Ag Photopolymerisierbare aufzeichnungsmaterialien sowie photoresistschichten und flachdruckplatten auf basis dieser aufzeichnungsmaterialien
DE3717034A1 (de) * 1987-05-21 1988-12-08 Basf Ag Photopolymerisierbare aufzeichnungsmaterialien sowie photoresistschichten und flachdruckplatten auf basis dieser aufzeichnungsmaterialien, sowie neue chinazolon-4-verbindungen
EP0360255B1 (en) * 1988-09-22 1995-02-22 Toray Industries, Inc. Photosensitive relief printing plate and photosensitive intaglio printing plate
US5698373A (en) * 1988-09-22 1997-12-16 Toray Industries, Incorporated Photosensitive relief printing plate and photosensitive intaglio printing plate
DE4116045A1 (de) * 1991-05-16 1992-11-19 Chen Ron Hon Entwicklungsverfahren mit indikationseffekt
CA2076727A1 (en) * 1991-08-30 1993-03-01 Richard T. Mayes Alkaline-etch resistant dry film photoresist
US5407783A (en) * 1993-07-22 1995-04-18 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photoimageable compositions containing substituted 1, 2 dihalogenated ethanes for enhanced printout image
CA2158915A1 (en) 1994-09-30 1996-03-31 Dekai Loo Liquid photoimageable resist
US7582390B2 (en) * 2003-05-23 2009-09-01 Fujifilm Corporation Two-photon absorbing polymerization method, two-photon absorbing optical recording material and two-photon absorbing optical recording method
CN100555078C (zh) * 2003-06-02 2009-10-28 䞜䞜株匏䌚瀟 感光树脂组合物及甚其制倇的电子元件和星瀺装眮
EP1510862A3 (en) * 2003-08-25 2006-08-09 Fuji Photo Film Co., Ltd. Hologram recording method and hologram recording material
CN107108773B (zh) 2014-11-04 2019-05-17 䞉键有限公叞 光固化性树脂组合物及其固化物、以及固化物的制造方法
CN113137836B (zh) * 2021-04-23 2023-04-07 柳州䞜风容泰化工股仜有限公叞 䞀种制倇邻氯苯腈的干燥方法及***

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3113024A (en) * 1962-05-15 1963-12-03 Horizons Inc Photosensitive composition containing leuco dye and method for producing visible images using said composition
DE1447747A1 (de) * 1964-12-10 1969-01-09 Kalle Ag Negativ arbeitendes Kopiermaterial
US3712817A (en) * 1971-03-01 1973-01-23 Horizons Inc Dry working photosensitive compositions comprising organic halogen compounds,ethylene compounds and carbinol compounds
US3769023A (en) * 1971-05-07 1973-10-30 Horizons Inc Light sensitive reproduction and electron beam sensitive material
US4065315A (en) * 1976-04-26 1977-12-27 Dynachem Corporation Phototropic dye system and photosensitive compositions containing the same

Also Published As

Publication number Publication date
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US4297435A (en) 1981-10-27
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EP0024391A1 (en) 1981-03-11

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