JPH08917B2 - 洗浄剤組成物 - Google Patents
洗浄剤組成物Info
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- JPH08917B2 JPH08917B2 JP2168897A JP16889790A JPH08917B2 JP H08917 B2 JPH08917 B2 JP H08917B2 JP 2168897 A JP2168897 A JP 2168897A JP 16889790 A JP16889790 A JP 16889790A JP H08917 B2 JPH08917 B2 JP H08917B2
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Description
の組立加工工程に使用される治工具類の固体表面に存在
する、油脂、機械油、切削油、グリース、液晶、ロジン
系フラックス等の汚れの除去性に優れ、かつすすぎ性に
優れた洗浄剤組成物に関する。
脂等の有機物を主体とする汚れの除去には、ケロシン、
ベンゼン、キシレン等の炭化水素系溶剤;トリクロロエ
チレン、テトラクロロエチレン等の塩素系溶剤;トリク
ロロトリフルオロエタン等のフロン系溶剤;オルソケイ
酸ソーダや苛性ソーダに界面活性剤やビルダーを配合し
た水系の洗浄剤等が使用されている。特に電子、電気、
機械等の部品にはその高洗浄性、難燃性という特性を生
かしてフロン系溶剤又は塩素系溶剤が使用されている。
浄剤は、安全性、毒性、環境汚染性等に大きな問題を有
している。また、炭化水素系溶剤、特にベンゼン、キシ
レン等は毒性が高く、労働安全衛生法上の有害物に指定
されている化合物であって、これを取り扱う作業の危険
性及び煩雑さを考慮すると、洗浄剤として用いることは
好ましくない。一方、水系洗浄剤は、溶剤系洗浄剤に比
較して危険性と毒性が低い点では好ましいが、洗浄力に
おいて数段劣っている。
浄剤として、米国特許第4,511,488号明細書、同第4,64
0,719号明細書、同第4,740,247号明細書等に見られるよ
うなリモネン、ピネン、ジペンテン等のテルペン類が提
案されている。これらリモネンに代表されるテルペン類
は、安全性と洗浄性を両立させ得る化合物であるが、引
火点が低く、使用時の設備が大がかりとなる。又、天然
物由来のために安定品質の物が得難く、供給量に限界が
あり、工業用洗浄剤として実際的ではない。
等に悪影響を与えることがああるため、洗浄後のすすぎ
性も問題となっている。
を改良した、洗浄性、安全性に優れ、かつ環境汚染がな
く、すすぎ性に優れている、精密部品又はその組立加工
工程に用いられる治工具類の固体表面に存在する油脂、
機械油、切削油、グリース、液晶、ロジン系フラックス
等の汚れ成分を除去するための洗浄剤組成物を提供する
ことにある。
く鋭意研究を行った結果、特定のアルキレンオキサイド
化合物にアミン系化合物と特定量の水を配合すれば前記
の条件を具備した洗浄剤組成物が得られることを見出
し、本発明を完成した。
(D) (A) 次の一般式(I)、(II)及び(III) R1−O−(R2O)m−(R3O)n−Y (I) R1−COO−(R2O)m−(R3O)n−Y (II) 〔式中、R1は炭素数1〜22の炭化水素残基を示し、R2
及びR3はそれぞれ炭素数2〜4のアルキレン基を示し、
Yは水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基若しくはア
シル基を示し、mは1〜15の整数を、n、l及びpはそ
れぞれ0〜15の整数を示す〕 で表わされる化合物からなる群より選ばれるアルキレン
オキサイド化合物 50重量%以上 (B) 窒素原子数が1〜5で分子量が50〜300の範囲
である(A)成分の(III)式の化合物以外のアミン系
化合物 0.05〜5重量% (D) 水 5〜45重量% を含有する精密部品又はこれに使用する治工具類用洗
浄剤組成物を提供するものである。
ンオキサイド化合物は前記一般式(I)、(II)又は
(III)で表わされる。
2の炭素水素残基であることが必要であるが、特に炭素
数4〜14の炭素水素残基であることが好ましい。R1が炭
化水素残基でなかった場合、フラックスや鉱油類等の有
機系汚れとの親和性が低下し、また、R1の炭化水素残基
の炭素数が22を超えると洗浄液中に固形分が析出しやす
くなり、洗浄液自体の粘度も上昇するため、作業性及び
洗浄性が低下する。
整数であることが必要である。m+nは1〜15の範囲で
あることが好ましく、特にm+n及びl+pがそれぞれ
1〜10の範囲のものが優れた効果を示す。
体例としては、メチルアルコール、エチルアルコール、
プロピルアルコール、ブチルアルコール、イソブチルア
ルコール、ヘキシルアルコール、オクチルアルコール、
ラウリルアルコール、オレイルアルコール、炭素数18の
ゲルベアルコール等の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を有
するアルコール類;フェノール、クレゾール、ノニルフ
ェノール、スチレン化フェノール等のフェノール類;シ
クロヘキサノール等の脂環族のアルコール類;酢酸、プ
ロピオン酸、ヘキサン酸、イソオクチル酸、ラウリン
酸、オレイン酸、ステアリン酸、炭素数22のゲルベ酸等
の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を有する脂肪酸;メタア
クリル酸、安息香酸等の有機カルボン酸;エチルアミ
ン、ジエチルアミン、ヘキシルアミン、ジブチルアミ
ン、オクチルアミン、ラウリルアミン、オレイルアミ
ン、ベンジルアミン、シクロヘキシルアミン等の直鎖、
分岐鎖、芳香族又は脂環族の炭化水素残基を有するアミ
ン類などにアルキレン(エチレン、プロピレン、ブチレ
ン)オキサイドの単独又は配合付加させたものが挙げら
れ、更に、これらのアルキレンオキサイド付加物の末端
水酸基をアルキルクロライド等によりメチル化、エチル
化又はブチル化したり、酢酸やプロピオン酸等でエステ
ル化した化合物が挙げられる。
独で又は2種以上を組み合わせて配合することができ、
洗浄性で維持し、かつその持続性を確保する目的で本発
明洗浄剤組成物中に50重量%(以下、単に「%」で示
す)以上配合される。
みでもある程度の洗浄力を有するが、(B)成分のアミ
ン系化合物を併用することにより、特に水分が混入した
際でも洗浄性が良好となる。
1〜5で分子量が50〜300の範囲のものが用いられる。
分子量が50未満では得られる洗浄剤組成物の臭いが強く
なりすぎ、また、分子量が300を超えると洗浄性改善効
果が少なくなる。
は、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリ
エタノールアミン、ジメチルエタノールアミン、ジブチ
ルエタノールアミン等のアルキロールアミン類;モルホ
リン、エチルモルホリン等のモルホリン類;ピペラジ
ン、トリエチルジアミン、ペンタメチルジエチレントリ
アミン、テトラメチルプロピレンジアミン等が挙げられ
る。
に0.05〜5%配合される。配合量が0.05%未満であると
洗浄性改善効果が充分ではなく、また配合量が5%を超
えると洗浄剤組成物が強アルカリ性になり過ぎるため、
アルミ等の材質に対する腐食やプラスチック等の材質に
対する物性劣化等の影響を及ぼす。
剤を配合することにより、水リンス性か向上し、更に洗
浄力が増大する。
剤、カチオン性活性剤、非イオン性活性剤、両イオン性
活性剤のいずれも使用することができる。より具体的に
は、脂肪酸塩類、高級アルコール硫酸エステル塩類、液
体脂肪油硫酸エステル塩類、脂肪族アミン及び脂肪族ア
マイドの硫酸塩類、脂肪アルコールリン酸エステル塩
類、二塩基性脂肪酸エステルのスルホン塩類、脂肪酸ア
ミドスルホン酸塩類、アルキルアリルスルホン酸塩類、
ホルマリン縮合のナフタリンスルホ酸塩類等のアニオン
性活性剤;脂肪族アミン塩類、第4級アンモニウム塩
類、アルキルピリジウム塩類等のカチオン性活性剤;ポ
リオキシアルキレンアルキルエーテル類、ポリオキシア
ルキレンアルキルフェノールエーテル類、ポリオキシア
ルキレンアルキルアミン類、ポリオキシアルキレンアル
キルエステル類、ソルビタンアルキルエステル類、ポリ
オキシソルビタンアルキルエステル類等の非イオン性活
性剤;あるいはアルキルベタイン、アルキルジメチルア
ミンオキサイド、アルキルアラニン等の両イオン性活性
剤等が主だった物として上げられる。尚、ここでポリオ
キシアルキレンとはエチレンオキサイド、プロピレンオ
キサイド又はブチレンオキサイドの重合体を示す。
中に0.01〜30%、特に0.5〜10%配合されることが好ま
しい。配合量が0.01%未満では界面活性剤を加えたこと
による特別の効果は発現せず、また配合量が30%を超え
てもそれ以上添加した効果は得られにくい。
り、有機性の汚れ以外のイオン化しやすい無機性の汚れ
等のより広範囲の汚れに対する洗浄性を示すようにな
る。
合されることが好ましい。配合量が5%未満では水の添
加による効果が得られにくく、また配合量が45%を超え
ると有機性の汚れに対する洗浄性が低下し好ましくな
い。
わない範囲で、必要に応じて更にヒドロキシエチルイミ
ノ2酢酸、エチレンジアミンテトラ酢酸等のアミノカル
ボン酸塩等のキレート力を持つ化合物や防腐剤、酸化防
止剤、防錆剤、アルコール類炭化水素系溶剤などを配合
することができる。
用される治工具類の洗浄に特に優れた効果を有するが、
ここで精密部品とは、例えば電子部品、電機部品、精密
機械部品、樹脂加工部品、光学部品等をいう。ここで、
電子部品とは、例えば電算機及びその周辺機器、家電機
器、通信機器、OA機器、その他電子応用機器等に用いら
れるプリント配線基板;ICリードフレーム、抵抗器、コ
ンデンサー、リレー等接点部材に用いられるフープ材;O
A機器、時計、演算機器、玩具、家電機器等に用いられ
る液晶表示器;映像・音声記録/再生部品、その関連部
品等に用いられる磁気記録部品;シリコンやセラミック
スのウェハ等の半導体:水晶振動子等の電歪用部品;C
D、PD、複写機器、光記録機器等に用いられる光電変換
部品などをいう。電機部品とは例えばブラシ、ロータ、
ステータ、ハウジング等の電動機部品;販売機や各種機
器に用いられる発券用部品;販売機、キャッシュディス
ペンサ等に用いられる紙幣検査用部品などをいう。精密
機械部品とは、例えば精密駆動機器、ビデオレコーダー
等に用いられるベアリング;超硬チップ等の加工用部品
などをいう。樹脂加工部品とは、例えばカメラ、自動車
等に用いられる精密樹脂加工部品などをいう。更に、光
学部品としては、カメラ、眼鏡、光学機器等に用いられ
るレンズがあり、また、その他部品としてメガネフレー
ム、時計ケース、時計ベルト等が例示される。
とは、上述の各種部品例で示したような精密部品を製
造、成形、加工、組立、仕上げ等の各種工程において取
り扱う治具、工具の他、これらの精密部品を取り扱う各
種機器、この部品等をいう。
スの残存したプリント配線基板に対し好適な性能を発揮
するが、本発明の対象となる精密部品及び治工具類は、
これらの例に限られるものではなく、組立加工工程にお
いて各種の加工油やフラックス等の後工程の妨害物質、
又は製品の特性を低下させる各種の油性汚染物質を付着
している一定形状の固定表面を持つ精密部品類及び治工
具であれば、本発明洗浄剤組成物が適用できる。
ース、液晶、ロジン系フラックス等の、主として有機油
分の汚れである場合、本発明の洗浄剤組成物が特に有効
であり、これに金属粉、無機物粉、水分等が混入した汚
れも充分洗浄除去することができる。
動法、スプレー法、蒸気洗浄法、手拭法、水置換乾燥法
等の各種の洗浄方法において使用でき、かつ好ましい結
果を得ることができる。
ント配線基板の洗浄工程に用いる場合、例えば、本発明
洗浄剤組成物をいれた超音波洗浄槽を用いて超音波洗浄
を行えばよい。
去することができる。
はこれらに限定されるものではない。
及びフラックス除去性を評価した。結果を表1に示す。
ナフテン系鉱油(40℃,350cst)を塗布する。このテス
トピースを、40℃に保った洗浄液に浸漬し、超音波で5
分間洗浄した。次いで30℃のイオン交換水に10秒浸漬
し、乾燥後、目視によりその洗浄性を評価した。
し、続いてハンダ処理してテストピースとした。このテ
ストピースを50℃に保った洗浄液に浸漬し、3分間超音
波洗浄後、30℃のイオン交換水でリンスし、乾燥後、プ
リント配線板からのフラックスの除去性を目視で評価す
ると共に、MIL−P−28809法でプリント配線板上に残存
したイオン性汚れの除去性を評価した。
ーム以上であれば合格である。
性、耐劣化性を有すると共に安全性がよく環境汚染の心
配もないので、精密部品又はその組立加工工程に用いら
れる治工具類用の洗浄剤として有利に使用できるもので
ある。
Claims (2)
- 【請求項1】次の成分(A)、(B)及び(D) (A) 次の一般式(I)、(II)及び(III) R1−O−(R2O)m−(R3O)n−Y (I) R1−COO−(R2O)m−(R3O)n−Y (II) 〔式中、R1は炭素数1〜22の炭化水素残基を示し、R2及
びR3はそれぞれ炭素数2〜4のアルキレン基を示し、Y
は水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基若しくはアシ
ル基を示し、mは1〜15の整数を、n、l及びpはそれ
ぞれ0〜15の整数を示す〕 で表わされる化合物からなる群より選ばれるアルキレン
オキサイド化合物 50重量%以上 (B) 窒素原子数が1〜5で分子量が50〜300の範囲
である(A)成分の(III)式の化合物以外のアミン系
化合物 0.05〜5重量% (D) 水 5〜45重量% を含有する精密部品又はこれに使用する治工具類用洗浄
剤組成物。 - 【請求項2】更に、次の成分(C) (C) 界面活性剤 0.01〜30重量% を含有する請求項1記載の洗浄剤組成物。
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