JP2816805B2 - 洗浄方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、油脂、機械油、切削
油、グリース、ワックス、液晶、フラックス等の汚れが
付着した電子部品、精密部品又はこれらの組立、加工に
使用される治工具類等（以下、電子部品又は精密部品類
という）の洗浄方法に関し、さらに詳細には、洗浄工程
で出る洗浄後の洗浄液の処理性及び洗浄工程での洗浄性
の維持管理に優れた洗浄方法に関する。
油、グリース、ワックス、液晶、フラックス等の汚れが
付着した電子部品、精密部品又はこれらの組立、加工に
使用される治工具類等（以下、電子部品又は精密部品類
という）の洗浄方法に関し、さらに詳細には、洗浄工程
で出る洗浄後の洗浄液の処理性及び洗浄工程での洗浄性
の維持管理に優れた洗浄方法に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
精密部品、治工具等の固体表面に存在する油脂、機械
油、切削油、グリース、ワックス、液晶、フラックス等
の有機物を主体とする汚れの除去には、ケロシン、ベン
ゼン、キシレン等の炭化水素系溶剤；トリクロロエチレ
ン、テトラクロロエチレン等の塩素系溶剤；トリクロロ
トリフルオロエタン等のフロン系溶剤；界面活性剤やビ
ルダーを配合した水系の洗浄剤等が使用されている。特
に、電子、電気、機械等の部品には、その高洗浄性、難
燃性という特性を生かしてフロン系溶剤又は塩素系溶剤
が使用されてきた。
精密部品、治工具等の固体表面に存在する油脂、機械
油、切削油、グリース、ワックス、液晶、フラックス等
の有機物を主体とする汚れの除去には、ケロシン、ベン
ゼン、キシレン等の炭化水素系溶剤；トリクロロエチレ
ン、テトラクロロエチレン等の塩素系溶剤；トリクロロ
トリフルオロエタン等のフロン系溶剤；界面活性剤やビ
ルダーを配合した水系の洗浄剤等が使用されている。特
に、電子、電気、機械等の部品には、その高洗浄性、難
燃性という特性を生かしてフロン系溶剤又は塩素系溶剤
が使用されてきた。
【０００３】しかしながら、フロン系及び塩素系の溶剤
を用いる洗浄剤は、安全性、毒性、環境汚染性等に大き
な問題を有している。また、炭化水素系溶剤、特にベン
ゼン、キシレン等は毒性が高く、労働安全衛生法上の有
害物に指定されている化合物であり、これを取り扱う作
業の危険性及び煩雑さを考慮すると、洗浄剤として用い
ることは好ましくない。
を用いる洗浄剤は、安全性、毒性、環境汚染性等に大き
な問題を有している。また、炭化水素系溶剤、特にベン
ゼン、キシレン等は毒性が高く、労働安全衛生法上の有
害物に指定されている化合物であり、これを取り扱う作
業の危険性及び煩雑さを考慮すると、洗浄剤として用い
ることは好ましくない。
【０００４】一方、水系洗浄剤は、溶剤系洗浄剤に比較
して危険性や毒性が低く、界面活性剤やビルダー等の洗
浄剤構成成分を適宜選択することにより、優れた洗浄力
を併せ持たせることができる。しかし、この水系洗浄剤
では、水分を除いた洗浄剤成分が、例えば７０％以上に
て洗浄する場合、被洗浄剤に付着し、すすぎ工程に持ち
出される洗浄液量が大きくなり、過剰の洗浄剤の補給が
必要になるという欠点がある。また、水希釈して使用さ
れる時にも、一般に水への溶解性が良好なため、洗浄液
の洗浄性の維持、管理が容易ではなく、洗浄性確保のた
め過剰の洗浄剤の補給が必要となり、洗浄後の洗浄液の
排水処理も極めて悪いという欠点があった。そして、そ
の処理は、例えば凝集沈澱、加圧浮上、活性汚泥、活性
炭処理法等を用いて行うことができるが、いずれの処理
法も多大な費用及び設備が必要とされる。
して危険性や毒性が低く、界面活性剤やビルダー等の洗
浄剤構成成分を適宜選択することにより、優れた洗浄力
を併せ持たせることができる。しかし、この水系洗浄剤
では、水分を除いた洗浄剤成分が、例えば７０％以上に
て洗浄する場合、被洗浄剤に付着し、すすぎ工程に持ち
出される洗浄液量が大きくなり、過剰の洗浄剤の補給が
必要になるという欠点がある。また、水希釈して使用さ
れる時にも、一般に水への溶解性が良好なため、洗浄液
の洗浄性の維持、管理が容易ではなく、洗浄性確保のた
め過剰の洗浄剤の補給が必要となり、洗浄後の洗浄液の
排水処理も極めて悪いという欠点があった。そして、そ
の処理は、例えば凝集沈澱、加圧浮上、活性汚泥、活性
炭処理法等を用いて行うことができるが、いずれの処理
法も多大な費用及び設備が必要とされる。
【０００５】従って、このような多大な処理費用、設備
を必要とせず、かつ洗浄液の洗浄性の維持、管理が容易
で、洗浄剤使用量においても経済的に優れた、電子部品
又は精密部品等を洗浄する方法が望まれていた。
を必要とせず、かつ洗浄液の洗浄性の維持、管理が容易
で、洗浄剤使用量においても経済的に優れた、電子部品
又は精密部品等を洗浄する方法が望まれていた。
【０００６】
【課題を解決するための手段】かかる実情において本発
明らは鋭意研究を行った結果、特定の洗浄剤の水希釈液
を用い、２０〜１００℃の温度で機械力等を付加するこ
とにより相分離しない均一状態にて保てば充分な洗浄力
を有すると共に、洗浄後の洗浄液中の油状汚れ及び洗浄
剤中の活性成分等の有機物を容易に分離除去でき、その
結果、排水処理性が著しく改善され、分離除去された後
の洗浄液は再利用することができることを見出した。即
ち、洗浄後の洗浄液中の有機物を効率良く、高濃度に分
離除去することができることより、洗浄後の洗浄液から
分離除去される単位時間当たりの全有機物排出量を検出
し、その排出量に対して、洗浄液の洗浄性を少なくとも
保持するのに必要な全有機物中の活性成分比率に相当す
る量の活性成分を洗浄液に補給して分離処理後の水相を
循環使用することにより、洗浄液中の洗浄剤濃度を一定
に維持し、洗浄液の洗浄性を維持できることを見出し本
発明を完成した。
明らは鋭意研究を行った結果、特定の洗浄剤の水希釈液
を用い、２０〜１００℃の温度で機械力等を付加するこ
とにより相分離しない均一状態にて保てば充分な洗浄力
を有すると共に、洗浄後の洗浄液中の油状汚れ及び洗浄
剤中の活性成分等の有機物を容易に分離除去でき、その
結果、排水処理性が著しく改善され、分離除去された後
の洗浄液は再利用することができることを見出した。即
ち、洗浄後の洗浄液中の有機物を効率良く、高濃度に分
離除去することができることより、洗浄後の洗浄液から
分離除去される単位時間当たりの全有機物排出量を検出
し、その排出量に対して、洗浄液の洗浄性を少なくとも
保持するのに必要な全有機物中の活性成分比率に相当す
る量の活性成分を洗浄液に補給して分離処理後の水相を
循環使用することにより、洗浄液中の洗浄剤濃度を一定
に維持し、洗浄液の洗浄性を維持できることを見出し本
発明を完成した。
【０００７】すなわち、本発明の要旨は、 （１）電子部品又は精密部品類を洗浄剤で洗浄する洗浄
方法において、以下の活性成分と性質を有する洗浄剤の
水希釈液を用いて２０〜１００℃の温度で相分離しない
状態にて洗浄する工程（以下、洗浄工程と略す）、およ
び洗浄後の洗浄液を２０℃以上に保温しながら洗浄液中
の有機物を分離する工程（以下、分離工程と略す）を有
することを特徴とする電子部品又は精密部品類の洗浄方
法、 活性成分：非イオン性界面活性剤単独、または非イオ
ン性界面活性剤に加えて炭素数６〜３０の直鎖又は分岐
鎖の飽和又は不飽和の炭化水素化合物、炭素数６〜４０
のアルキルエステル類、及び炭素数６〜４０のアルキル
ケトン類からなる群より選ばれる１種以上の化合物との
併用 性質：該洗浄剤を水で希釈又は水を蒸発させて活性成
分の含有割合を１０重量％にした水溶液を２０〜１００
℃の温度で３０分間静置した際に、含有している活性成
分の３０重量％以上が水相から分離するという性質 （２）洗浄剤中の無機塩類が０．１％以下であることを
特徴とする（１）記載の洗浄方法、 （３）洗浄後の洗浄液から有機物を分離除去した残りの
水相を、洗浄剤の希釈用に再利用する事を特徴とする
（１）又は（２）記載の洗浄方法、 （４）洗浄後の洗浄液から分離除去される全有機物排出
量を検出し、洗浄液の洗浄性を少なくとも保持するのに
必要な該全有機物中の活性成分比率に相当する量の活性
成分を洗浄液に補給して分離処理後の水相を循環使用す
ることを特徴とする（３）の洗浄方法、 （５）油脂、機械油、切削油、グリース、ワックス、液
晶、フラックスの付着した電子部品又は精密部品類を洗
浄することを特徴とする（１）〜（４）のいずれかに記
載の洗浄方法、に関する。
方法において、以下の活性成分と性質を有する洗浄剤の
水希釈液を用いて２０〜１００℃の温度で相分離しない
状態にて洗浄する工程（以下、洗浄工程と略す）、およ
び洗浄後の洗浄液を２０℃以上に保温しながら洗浄液中
の有機物を分離する工程（以下、分離工程と略す）を有
することを特徴とする電子部品又は精密部品類の洗浄方
法、 活性成分：非イオン性界面活性剤単独、または非イオ
ン性界面活性剤に加えて炭素数６〜３０の直鎖又は分岐
鎖の飽和又は不飽和の炭化水素化合物、炭素数６〜４０
のアルキルエステル類、及び炭素数６〜４０のアルキル
ケトン類からなる群より選ばれる１種以上の化合物との
併用 性質：該洗浄剤を水で希釈又は水を蒸発させて活性成
分の含有割合を１０重量％にした水溶液を２０〜１００
℃の温度で３０分間静置した際に、含有している活性成
分の３０重量％以上が水相から分離するという性質 （２）洗浄剤中の無機塩類が０．１％以下であることを
特徴とする（１）記載の洗浄方法、 （３）洗浄後の洗浄液から有機物を分離除去した残りの
水相を、洗浄剤の希釈用に再利用する事を特徴とする
（１）又は（２）記載の洗浄方法、 （４）洗浄後の洗浄液から分離除去される全有機物排出
量を検出し、洗浄液の洗浄性を少なくとも保持するのに
必要な該全有機物中の活性成分比率に相当する量の活性
成分を洗浄液に補給して分離処理後の水相を循環使用す
ることを特徴とする（３）の洗浄方法、 （５）油脂、機械油、切削油、グリース、ワックス、液
晶、フラックスの付着した電子部品又は精密部品類を洗
浄することを特徴とする（１）〜（４）のいずれかに記
載の洗浄方法、に関する。
【０００８】本発明において洗浄工程で用いられる洗浄
剤は、次のような活性成分と性質を有する。 （１）活性成分：非イオン性界面活性剤、並びに炭素数
６〜３０の直鎖又は分岐鎖の飽和又は不飽和の炭化水素
化合物、炭素数６〜４０のアルキルエステル類、及び炭
素数６〜４０のアルキルケトン類からなる群より選ばれ
る１種以上の化合物 （２）性質：該洗浄剤を水で希釈又は水を蒸発させて活
性成分の含有割合を１０重量％にした水溶液を２０〜１
００℃の温度で３０分間静置した際に、含有している活
性成分の３０重量％以上が水相から分離するという性質
剤は、次のような活性成分と性質を有する。 （１）活性成分：非イオン性界面活性剤、並びに炭素数
６〜３０の直鎖又は分岐鎖の飽和又は不飽和の炭化水素
化合物、炭素数６〜４０のアルキルエステル類、及び炭
素数６〜４０のアルキルケトン類からなる群より選ばれ
る１種以上の化合物 （２）性質：該洗浄剤を水で希釈又は水を蒸発させて活
性成分の含有割合を１０重量％にした水溶液を２０〜１
００℃の温度で３０分間静置した際に、含有している活
性成分の３０重量％以上が水相から分離するという性質
【０００９】ここで用いられる洗浄剤としては、以上の
ような活性成分と性質を有しているものであれば特に限
定されものではない。即ち、活性成分としては非イオン
性界面活性剤を必須の成分とし、非イオン性界面活性剤
単独でもよいし、または非イオン性界面活性剤に加えて
炭素数６〜３０の直鎖又は分岐鎖の飽和又は不飽和の炭
化水素化合物、炭素数６〜４０のアルキルエステル類、
及び炭素数６〜４０のアルキルケトン類からなる群より
選ばれる１種以上の化合物との併用であってもよい。
ような活性成分と性質を有しているものであれば特に限
定されものではない。即ち、活性成分としては非イオン
性界面活性剤を必須の成分とし、非イオン性界面活性剤
単独でもよいし、または非イオン性界面活性剤に加えて
炭素数６〜３０の直鎖又は分岐鎖の飽和又は不飽和の炭
化水素化合物、炭素数６〜４０のアルキルエステル類、
及び炭素数６〜４０のアルキルケトン類からなる群より
選ばれる１種以上の化合物との併用であってもよい。
【００１０】例えば、曇点が１００℃以下を示す非イオ
ン性界面活性剤、並びに油性の汚れに対する洗浄性を改
良するために使用される炭化水素化合物、難水溶性のア
ルキルエステル類及びアルキルケトン類等の化合物を、
洗浄剤組成物中の有機成分の５０重量％以上含有する洗
浄剤が挙げられる。これらのうち、特に洗浄性を上げる
ため、これらの成分を洗浄剤組成物中の有機成分の７０
重量％以上含有するものがより好ましい。なお、ここで
曇点とは、イオン交換水で２０倍に希釈した洗浄剤組成
物１０〜３０ｍｌを試験管にとり、１℃／分の昇温速度
で温度を上げていったとき、液がにごり出す温度をい
い、この温度以上の温度に保持すると、水溶液中の非イ
オン性界面活性剤は水相から徐々に分離する。
ン性界面活性剤、並びに油性の汚れに対する洗浄性を改
良するために使用される炭化水素化合物、難水溶性のア
ルキルエステル類及びアルキルケトン類等の化合物を、
洗浄剤組成物中の有機成分の５０重量％以上含有する洗
浄剤が挙げられる。これらのうち、特に洗浄性を上げる
ため、これらの成分を洗浄剤組成物中の有機成分の７０
重量％以上含有するものがより好ましい。なお、ここで
曇点とは、イオン交換水で２０倍に希釈した洗浄剤組成
物１０〜３０ｍｌを試験管にとり、１℃／分の昇温速度
で温度を上げていったとき、液がにごり出す温度をい
い、この温度以上の温度に保持すると、水溶液中の非イ
オン性界面活性剤は水相から徐々に分離する。
【００１１】非イオン性界面活性剤としては、例えばア
ルキルエーテル型、アルキルアリルエーテル型、アルキ
ルチオエーテル型等のエーテル型；アルキルエステル
型、ソルビタンアルキルエステル型等のエステル型；ポ
リオキシアルキレンアルキルアミン等のアミンとの縮合
型；ポリオキシアルキレンアルキルアマイド等のアミド
との縮合型；ポリオキシエチレンとポリオキシプロピレ
ンをランダム又はブロック縮合させたプルロニック又は
テトロニック型；ポリエチレンイミン系等の界面活性剤
が挙げられる。これらのうち、特に炭素数４〜２２の炭
化水素基を有するものが好ましく、このような非イオン
性界面活性剤を含有する洗浄剤組成物は、油性汚れに対
する親和性が増大して洗浄力が向上するとともに、これ
が混入した洗浄後の洗浄液は明瞭な曇点を示しやすく、
排水処理性が特に良好である。
ルキルエーテル型、アルキルアリルエーテル型、アルキ
ルチオエーテル型等のエーテル型；アルキルエステル
型、ソルビタンアルキルエステル型等のエステル型；ポ
リオキシアルキレンアルキルアミン等のアミンとの縮合
型；ポリオキシアルキレンアルキルアマイド等のアミド
との縮合型；ポリオキシエチレンとポリオキシプロピレ
ンをランダム又はブロック縮合させたプルロニック又は
テトロニック型；ポリエチレンイミン系等の界面活性剤
が挙げられる。これらのうち、特に炭素数４〜２２の炭
化水素基を有するものが好ましく、このような非イオン
性界面活性剤を含有する洗浄剤組成物は、油性汚れに対
する親和性が増大して洗浄力が向上するとともに、これ
が混入した洗浄後の洗浄液は明瞭な曇点を示しやすく、
排水処理性が特に良好である。
【００１２】また、炭化水素化合物としては、例えば洗
浄工程の温度で液状である炭素数６〜３０の直鎖又は分
岐鎖の飽和又は不飽和結合を有するパラフィン類、オレ
フィン類、あるいは芳香族、脂環族を含む炭化水素化合
物が挙げられる。さらに、アルキルエステル類として
は、例えば洗浄工程の温度で液状である炭素数６〜４０
のモノエステル、ジエステル、トリエステルが挙げら
れ、特に炭素数６〜１８の高級脂肪酸と炭素数１〜１８
の高級アルコールのエステル；炭素数６〜１８の高級脂
肪酸と炭素数２〜８のジオール又はトリオールとのエス
テル；炭素数１〜１８の高級アルコールと炭素数２〜８
のジカルボン酸又はトリカルボン酸とのエステルが好ま
しい。アルキルケトン類としては、炭素数６〜４０のジ
アルキルケトンが好ましい。
浄工程の温度で液状である炭素数６〜３０の直鎖又は分
岐鎖の飽和又は不飽和結合を有するパラフィン類、オレ
フィン類、あるいは芳香族、脂環族を含む炭化水素化合
物が挙げられる。さらに、アルキルエステル類として
は、例えば洗浄工程の温度で液状である炭素数６〜４０
のモノエステル、ジエステル、トリエステルが挙げら
れ、特に炭素数６〜１８の高級脂肪酸と炭素数１〜１８
の高級アルコールのエステル；炭素数６〜１８の高級脂
肪酸と炭素数２〜８のジオール又はトリオールとのエス
テル；炭素数１〜１８の高級アルコールと炭素数２〜８
のジカルボン酸又はトリカルボン酸とのエステルが好ま
しい。アルキルケトン類としては、炭素数６〜４０のジ
アルキルケトンが好ましい。
【００１３】洗浄剤組成物としては、これら成分のほ
か、必要に応じて陰イオン性等の界面活性剤、アルカノ
ールアミン等のアミン類、ビルダー、キレート剤、防錆
剤、消泡剤等を含有するものを使用することもできる。
か、必要に応じて陰イオン性等の界面活性剤、アルカノ
ールアミン等のアミン類、ビルダー、キレート剤、防錆
剤、消泡剤等を含有するものを使用することもできる。
【００１４】本発明における洗浄剤の前記のような性質
において、水相から分離する活性成分が３０重量％未満
では、洗浄後の洗浄液からの活性成分の分離が充分でな
く、その結果、油汚れ等の有機系汚れ成分も水相中に溶
解、乳化、分散されやすく、排水処理性が充分に改善さ
れない。また、分離処理後の水相を洗浄液の希釈液とし
て再利用しても油汚れ等の有機物含有量が多く、洗浄液
の再汚染等を引き起こし、洗浄性能の維持が著しく低下
する。このようなことから排水処理性をより有効に改善
し、かつ洗浄後の洗浄液の再利用を可能にするために
は、含有している活性成分の７０重量％以上が分離する
洗浄剤を用いるのが好ましい。ここで、水相から分離す
る活性成分の量は、ＣＯＤもしくはＴＯＣ（全有機炭
素）によって測定する。
において、水相から分離する活性成分が３０重量％未満
では、洗浄後の洗浄液からの活性成分の分離が充分でな
く、その結果、油汚れ等の有機系汚れ成分も水相中に溶
解、乳化、分散されやすく、排水処理性が充分に改善さ
れない。また、分離処理後の水相を洗浄液の希釈液とし
て再利用しても油汚れ等の有機物含有量が多く、洗浄液
の再汚染等を引き起こし、洗浄性能の維持が著しく低下
する。このようなことから排水処理性をより有効に改善
し、かつ洗浄後の洗浄液の再利用を可能にするために
は、含有している活性成分の７０重量％以上が分離する
洗浄剤を用いるのが好ましい。ここで、水相から分離す
る活性成分の量は、ＣＯＤもしくはＴＯＣ（全有機炭
素）によって測定する。
【００１５】 また、本発明において洗浄対象となる電
子部品又は精密部品類においては、部材に対する安全性
及び電気的信頼性等の観点から洗浄剤中に含まれるカセ
イソーダ、オルソケイ酸ソーダ、炭酸ソーダあるいはリ
ン酸ソーダ等の無機塩類を１％以下、好ましくは０．１
％以下とするのが望ましい。
子部品又は精密部品類においては、部材に対する安全性
及び電気的信頼性等の観点から洗浄剤中に含まれるカセ
イソーダ、オルソケイ酸ソーダ、炭酸ソーダあるいはリ
ン酸ソーダ等の無機塩類を１％以下、好ましくは０．１
％以下とするのが望ましい。
【００１６】本発明における洗浄工程は特に限定される
ものではないが、前記のような活性成分と性質を備えた
洗浄剤組成物を用いて、２０〜１００℃の温度、好まし
くは２０〜７０℃の温度範囲で洗浄液が相分離しない状
態に保持するために、例えば攪拌羽根又はポンプ等によ
り循環攪拌させて浸漬法、超音波洗浄法、揺動法、スプ
レー法等を単独又は組み合わせて行うことができる。
ものではないが、前記のような活性成分と性質を備えた
洗浄剤組成物を用いて、２０〜１００℃の温度、好まし
くは２０〜７０℃の温度範囲で洗浄液が相分離しない状
態に保持するために、例えば攪拌羽根又はポンプ等によ
り循環攪拌させて浸漬法、超音波洗浄法、揺動法、スプ
レー法等を単独又は組み合わせて行うことができる。
【００１７】洗浄後の洗浄液の分離工程においては、洗
浄後の洗浄液を、２０〜１００℃、好ましくは２０〜７
０℃に加熱又は冷却して、２０℃以上に保温しながら洗
浄液中の有機物を分離除去する。ここでいう有機物とは
分離されてくる洗浄剤中の活性成分および各種の有機系
の汚れ成分を含めたものをいう。洗浄液を１００℃以上
に加熱するには加圧等の設備が必要となるため、実用上
有益でなく、また、２０℃未満にするには夏場等におい
て冷却設備等を設置しなければならず、実用上有効では
ない。特に、用いる非イオン性界面活性剤の曇点以上の
温度に加温すると、より有効に分離が行われるので好ま
しい。すなわち、曇点以上の温度になると、非イオン性
界面活性剤は水溶性を失い、この結果、洗浄液中に可溶
化又は乳化していた油性汚れを水中で保持することがで
きず、油性汚れはその比重の大小により水に浮いたり沈
んだりして分離する。また、非イオン性界面活性剤自身
も水溶性を失って水中から分離する。
浄後の洗浄液を、２０〜１００℃、好ましくは２０〜７
０℃に加熱又は冷却して、２０℃以上に保温しながら洗
浄液中の有機物を分離除去する。ここでいう有機物とは
分離されてくる洗浄剤中の活性成分および各種の有機系
の汚れ成分を含めたものをいう。洗浄液を１００℃以上
に加熱するには加圧等の設備が必要となるため、実用上
有益でなく、また、２０℃未満にするには夏場等におい
て冷却設備等を設置しなければならず、実用上有効では
ない。特に、用いる非イオン性界面活性剤の曇点以上の
温度に加温すると、より有効に分離が行われるので好ま
しい。すなわち、曇点以上の温度になると、非イオン性
界面活性剤は水溶性を失い、この結果、洗浄液中に可溶
化又は乳化していた油性汚れを水中で保持することがで
きず、油性汚れはその比重の大小により水に浮いたり沈
んだりして分離する。また、非イオン性界面活性剤自身
も水溶性を失って水中から分離する。
【００１８】分離された有機物は、例えば非イオン性界
面活性剤、炭化水素化合物等の活性成分と油性の汚れ成
分等からなるが、このような有機物の除去は、洗浄後の
洗浄液の受槽又は分離のための専用槽内で、２０℃以
上、好ましくは２０〜７０℃に保ちながら、スキミング
法、分離膜を利用する方法、遠心分離法、電気的分離法
等を単独又は二つ以上を併用して行うことができる。
面活性剤、炭化水素化合物等の活性成分と油性の汚れ成
分等からなるが、このような有機物の除去は、洗浄後の
洗浄液の受槽又は分離のための専用槽内で、２０℃以
上、好ましくは２０〜７０℃に保ちながら、スキミング
法、分離膜を利用する方法、遠心分離法、電気的分離法
等を単独又は二つ以上を併用して行うことができる。
【００１９】このように有機物の分離を効率良く行うこ
とにより、洗浄後の洗浄液は清浄化されるので、洗浄液
から有機物を分離除去した残りの水相を、洗浄剤の希釈
用として再利用することができる。再利用にあたって
は、必要により洗浄液中の水溶性イオンや界面活性剤等
の有機物の除去のため、イオン交換処理や活性炭による
吸着処理を行ってもよい。
とにより、洗浄後の洗浄液は清浄化されるので、洗浄液
から有機物を分離除去した残りの水相を、洗浄剤の希釈
用として再利用することができる。再利用にあたって
は、必要により洗浄液中の水溶性イオンや界面活性剤等
の有機物の除去のため、イオン交換処理や活性炭による
吸着処理を行ってもよい。
【００２０】また、本発明においては、このように有機
物の分離を効率よく高濃度にて行うことができるため、
洗浄後の洗浄液全てを一括してバッチ方式で分離処理し
て再利用することができる。あるいは、洗浄後の洗浄液
の一部を分離処理し、洗浄液から分離除去される全有機
物排出量を検出し、洗浄液の洗浄性を少なくとも保持す
るのに必要な該全有機物中の活性成分比率に相当する量
の活性成分を洗浄液に補給して分離処理後の水相を循環
使用することにより、洗浄液の洗浄性を連続して維持す
ることもできる。ここで、全有機物排出量とは、分離さ
れてくる洗浄剤中の活性成分および各種の有機系の汚れ
成分を含めた全ての有機物の排出量をいう。この排出量
の測定は、重量又は容積測定により行うことができる。
また、洗浄液の洗浄性を少なくとも保持するのに必要な
全有機物中の活性成分比率とは、汚れ成分および活性成
分の重量又は容積に対する、洗浄性を維持するのに必要
最小限の活性成分の重量又は容積の比率を意味する。
物の分離を効率よく高濃度にて行うことができるため、
洗浄後の洗浄液全てを一括してバッチ方式で分離処理し
て再利用することができる。あるいは、洗浄後の洗浄液
の一部を分離処理し、洗浄液から分離除去される全有機
物排出量を検出し、洗浄液の洗浄性を少なくとも保持す
るのに必要な該全有機物中の活性成分比率に相当する量
の活性成分を洗浄液に補給して分離処理後の水相を循環
使用することにより、洗浄液の洗浄性を連続して維持す
ることもできる。ここで、全有機物排出量とは、分離さ
れてくる洗浄剤中の活性成分および各種の有機系の汚れ
成分を含めた全ての有機物の排出量をいう。この排出量
の測定は、重量又は容積測定により行うことができる。
また、洗浄液の洗浄性を少なくとも保持するのに必要な
全有機物中の活性成分比率とは、汚れ成分および活性成
分の重量又は容積に対する、洗浄性を維持するのに必要
最小限の活性成分の重量又は容積の比率を意味する。
【００２１】さらに、必要に応じ、本方式を二個以上組
み合わせて使用しても良く、又通常行われているその他
の洗浄方式と組み合わせて使用してもよい。また、すす
ぎ洗い（リンス）工程を必要に応じ併設しても良く、特
開平４−１２４８０号公報、特開平５−９６２５５号公
報に記載のリンス方法等がその例として挙げられる。
み合わせて使用しても良く、又通常行われているその他
の洗浄方式と組み合わせて使用してもよい。また、すす
ぎ洗い（リンス）工程を必要に応じ併設しても良く、特
開平４−１２４８０号公報、特開平５−９６２５５号公
報に記載のリンス方法等がその例として挙げられる。
【００２２】本発明の洗浄方法は、精密部品及びその組
立加工工程に使用される治工具類等の洗浄時に特に優れ
た効果を有するが、ここで精密部品とは、例えば電子部
品、電機部品、精密機械部品、樹脂加工部品、光学部品
等をいう。電子部品とは、例えば電算機及びその周辺機
器、家電機器、通信機器、ＯＡ機器、その他電子応用機
器等に用いられるプリント配線基板；ＩＣリードフレー
ム、抵抗器、コンデンサー、リレー等接点部材に用いら
れるフープ材；ＯＡ機器、時計、電算機器、玩具、家電
機器等に用いられる液晶表示器；映像・音声記録／再生
部品、その関連部品等に用いられる磁気記録部品；シリ
コンやセラミックスのウェハ等の半導体材料；水晶振動
子等の電歪用部品；ＣＤ、ＰＤ、複写機器、光記録機器
等に用いられる光電変換部品などをいう。電機部品と
は、例えばブラシ、ロータ、ステータ、ハウジング等の
電動機部品；販売機や各種機器に用いられる発券用部
品；販売機、キャッシュディスペンサ等に用いられる貨
幣検査用部品などをいう。精密機器部品とは、例えば精
密駆動機器、ビデオレコーダー等に用いられるベアリン
グ；超硬チップ等の加工用部品などをいう。樹脂加工部
品とは、例えばカメラ、自動車等に用いられる精密樹脂
加工部品などをいう。さらに、光学部品とは、例えばカ
メラ、眼鏡、光学機器等に用いられるレンズなどをい
い、その他の部品として、例えばメガネフレーム、時計
ケース、時計ベルト等が挙げられる。また、組立加工工
程に使用される治工具類とは、上述の各種部品例で示し
たような精密部品を製造、成形、加工、組立、仕上げ等
の各種工程において取り扱う治具、工具の他、これらの
精密部品を取り扱う各種機器、その部品等をいう。
立加工工程に使用される治工具類等の洗浄時に特に優れ
た効果を有するが、ここで精密部品とは、例えば電子部
品、電機部品、精密機械部品、樹脂加工部品、光学部品
等をいう。電子部品とは、例えば電算機及びその周辺機
器、家電機器、通信機器、ＯＡ機器、その他電子応用機
器等に用いられるプリント配線基板；ＩＣリードフレー
ム、抵抗器、コンデンサー、リレー等接点部材に用いら
れるフープ材；ＯＡ機器、時計、電算機器、玩具、家電
機器等に用いられる液晶表示器；映像・音声記録／再生
部品、その関連部品等に用いられる磁気記録部品；シリ
コンやセラミックスのウェハ等の半導体材料；水晶振動
子等の電歪用部品；ＣＤ、ＰＤ、複写機器、光記録機器
等に用いられる光電変換部品などをいう。電機部品と
は、例えばブラシ、ロータ、ステータ、ハウジング等の
電動機部品；販売機や各種機器に用いられる発券用部
品；販売機、キャッシュディスペンサ等に用いられる貨
幣検査用部品などをいう。精密機器部品とは、例えば精
密駆動機器、ビデオレコーダー等に用いられるベアリン
グ；超硬チップ等の加工用部品などをいう。樹脂加工部
品とは、例えばカメラ、自動車等に用いられる精密樹脂
加工部品などをいう。さらに、光学部品とは、例えばカ
メラ、眼鏡、光学機器等に用いられるレンズなどをい
い、その他の部品として、例えばメガネフレーム、時計
ケース、時計ベルト等が挙げられる。また、組立加工工
程に使用される治工具類とは、上述の各種部品例で示し
たような精密部品を製造、成形、加工、組立、仕上げ等
の各種工程において取り扱う治具、工具の他、これらの
精密部品を取り扱う各種機器、その部品等をいう。
【００２３】本発明の洗浄方法は、特に上述のうち、フ
ラックスの残存したプリント配線基板、ガラス基板に付
着した液晶あるいはロジンを含有する固着在等のワック
スの洗浄時に好適な性能を発揮するが、本発明の対象と
なる精密部品類及び治工具類は、これらの例に限定され
るものではなく、組立加工工程において各種の加工油や
フラックス等の後工程の妨害物質、又は製品の特性を低
下させる各種の油性汚染物質が付着している一定形状の
固体表面を有する精密部品類及び治工具類であれば、本
発明の洗浄方法を適用することができる。これらの汚染
物質が、例えば油脂、機械油、切削油、グリース、液
晶、ロジン系フラックス等の、主として有機油分の汚れ
である場合、本発明の洗浄方法の特徴が特に発揮され
る。さらに、これらに金属粉、無機物粉等が混入した汚
れであっても有効である。
ラックスの残存したプリント配線基板、ガラス基板に付
着した液晶あるいはロジンを含有する固着在等のワック
スの洗浄時に好適な性能を発揮するが、本発明の対象と
なる精密部品類及び治工具類は、これらの例に限定され
るものではなく、組立加工工程において各種の加工油や
フラックス等の後工程の妨害物質、又は製品の特性を低
下させる各種の油性汚染物質が付着している一定形状の
固体表面を有する精密部品類及び治工具類であれば、本
発明の洗浄方法を適用することができる。これらの汚染
物質が、例えば油脂、機械油、切削油、グリース、液
晶、ロジン系フラックス等の、主として有機油分の汚れ
である場合、本発明の洗浄方法の特徴が特に発揮され
る。さらに、これらに金属粉、無機物粉等が混入した汚
れであっても有効である。
【００２４】
【実施例】次に、実施例を挙げて、本発明を更に詳細に
説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。
説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。
【００２５】実施例１ 表１に示す組成の洗浄剤組成物を調製し、これらをイオ
ン交換水で活性成分含有量が１０重量％になるよう希釈
し、その洗浄剤水溶液を２０〜１００℃の温度で３０分
間静置した。その結果、洗浄剤組成物Ｎｏ．１〜４はい
ずれも、含有している活性成分の３０重量％以上が水相
から分離することが確認された（それぞれ、８５、７
３、７０、８０％）。一方、洗浄剤組成物５、６では０
％、１０％。なお、活性成分の水相から分離量の測定
は、ＣＯＤにより行った。
ン交換水で活性成分含有量が１０重量％になるよう希釈
し、その洗浄剤水溶液を２０〜１００℃の温度で３０分
間静置した。その結果、洗浄剤組成物Ｎｏ．１〜４はい
ずれも、含有している活性成分の３０重量％以上が水相
から分離することが確認された（それぞれ、８５、７
３、７０、８０％）。一方、洗浄剤組成物５、６では０
％、１０％。なお、活性成分の水相から分離量の測定
は、ＣＯＤにより行った。
【００２６】次いで、表１に示す洗浄剤組成物の１０倍
水希釈液を用い、ロジン系のフラックスで処理したプリ
ント基板（１０ｃｍ×１５ｃｍ）〔テスト材１〕、ナフ
テン系鉱油（４０℃、３５０ｃＳｔ）を塗布（１ｇ／ｍ
2 ）した鋼製テストピース（１０ｃｍ×１５ｃｍ）〔テ
スト材２〕及び液晶を塗布（５ｇ／ｍ2 ）したガラス基
板（１０ｃｍ×１０ｃｍ）〔テスト材３〕を洗浄した。
洗浄は５０℃にて、攪拌羽根にて相分離しないよう攪拌
しながら、３分間の超音波洗浄を行った。洗浄後の各被
洗浄板（テスト材１〜３）の各々を４０℃のイオン交換
水に浸漬し、１分間超音波をあてながらすすぎ洗い（リ
ンス）した。リンス後の被洗浄板（テスト材１〜３）の
外観はいずれも良好であった。
水希釈液を用い、ロジン系のフラックスで処理したプリ
ント基板（１０ｃｍ×１５ｃｍ）〔テスト材１〕、ナフ
テン系鉱油（４０℃、３５０ｃＳｔ）を塗布（１ｇ／ｍ
2 ）した鋼製テストピース（１０ｃｍ×１５ｃｍ）〔テ
スト材２〕及び液晶を塗布（５ｇ／ｍ2 ）したガラス基
板（１０ｃｍ×１０ｃｍ）〔テスト材３〕を洗浄した。
洗浄は５０℃にて、攪拌羽根にて相分離しないよう攪拌
しながら、３分間の超音波洗浄を行った。洗浄後の各被
洗浄板（テスト材１〜３）の各々を４０℃のイオン交換
水に浸漬し、１分間超音波をあてながらすすぎ洗い（リ
ンス）した。リンス後の被洗浄板（テスト材１〜３）の
外観はいずれも良好であった。
【００２７】次いで、使用後の洗浄液をビーカーに採
り、５０℃に保温、上記洗浄と同条件で相分離しないよ
う攪拌しながら、２Ｌ／Ｍにて静置分離槽（断面積３６
６ｃｍ2 ）に送り下層液を再度ビーカーに戻し３０分間
循環処理後の洗浄液をサンプリングしてそのＣＯＤ（化
学的酸素要求量）を測定し（Ａ値）、前記処理前の洗浄
液のＣＯＤ（Ｂ値）と比較し、有機物の分離率（（Ｂ値
−Ａ値）÷Ｂ値）×１００を算出した。次いで、３０分
間循環処理後の水相を用い、各洗浄剤組成物を１０倍希
釈し、上記同条件にて、洗浄とすすぎ洗いをし、その際
の汚れ物質の除去性を評価した。結果を表１に示す。汚
れ物質の除去性の評価基準は次の通りである。
り、５０℃に保温、上記洗浄と同条件で相分離しないよ
う攪拌しながら、２Ｌ／Ｍにて静置分離槽（断面積３６
６ｃｍ2 ）に送り下層液を再度ビーカーに戻し３０分間
循環処理後の洗浄液をサンプリングしてそのＣＯＤ（化
学的酸素要求量）を測定し（Ａ値）、前記処理前の洗浄
液のＣＯＤ（Ｂ値）と比較し、有機物の分離率（（Ｂ値
−Ａ値）÷Ｂ値）×１００を算出した。次いで、３０分
間循環処理後の水相を用い、各洗浄剤組成物を１０倍希
釈し、上記同条件にて、洗浄とすすぎ洗いをし、その際
の汚れ物質の除去性を評価した。結果を表１に示す。汚
れ物質の除去性の評価基準は次の通りである。
【００２８】汚れ物質の除去性の評価基準： ◎；汚れ物質（フラックス、ナフテン系鉱油又は液晶）
の残着がなく、非常に良好。 ○；汚れ物質の残着がほとんどなく、良好。 △；汚れ物質の残着がわずかにあり、やや悪い。
の残着がなく、非常に良好。 ○；汚れ物質の残着がほとんどなく、良好。 △；汚れ物質の残着がわずかにあり、やや悪い。
【００２９】
【表１】
【００３０】表１の結果から明かなように、良好な洗浄
性を有する撹拌条件のもとでも、洗浄剤組成物１〜４で
は、有機物の分離率が高く、また分離して得られた洗浄
液はＣＯＤが低いことから、有機物が少ない事が認めら
れた。なお、分離率５０％以上のもの（洗浄剤組成物１
〜４）はその水相を洗浄剤希釈用として再利用しても良
好な洗浄性を示し、特に分離率８０％以上のもの（洗浄
剤組成物Ｎｏ．１、２および４）は優れていた。
性を有する撹拌条件のもとでも、洗浄剤組成物１〜４で
は、有機物の分離率が高く、また分離して得られた洗浄
液はＣＯＤが低いことから、有機物が少ない事が認めら
れた。なお、分離率５０％以上のもの（洗浄剤組成物１
〜４）はその水相を洗浄剤希釈用として再利用しても良
好な洗浄性を示し、特に分離率８０％以上のもの（洗浄
剤組成物Ｎｏ．１、２および４）は優れていた。
【００３１】
【発明の効果】本発明によれば、洗浄後の洗浄液中の有
機物を効率よく高濃度に分離除去することができ、後の
排水処理工程が簡素化できるため、特に油脂、機械油、
切削油、グリース、ワックス、液晶、フラックス等の汚
れが付着した電子部品又は精密部品類を工業的に有利に
洗浄することができる。さらに、本発明により分離処理
した水相は、再び洗浄剤の希釈用に使用することがで
き、洗浄剤の希釈に使用する水の量を大幅に低減できる
と共に、分離除去された全有機物排出量に対して一定割
合の活性成分を補給することにより、洗浄液の洗浄性を
維持でき、洗浄剤使用量も低減することができ、経済的
にも優れている。
機物を効率よく高濃度に分離除去することができ、後の
排水処理工程が簡素化できるため、特に油脂、機械油、
切削油、グリース、ワックス、液晶、フラックス等の汚
れが付着した電子部品又は精密部品類を工業的に有利に
洗浄することができる。さらに、本発明により分離処理
した水相は、再び洗浄剤の希釈用に使用することがで
き、洗浄剤の希釈に使用する水の量を大幅に低減できる
と共に、分離除去された全有機物排出量に対して一定割
合の活性成分を補給することにより、洗浄液の洗浄性を
維持でき、洗浄剤使用量も低減することができ、経済的
にも優れている。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭50−650（ＪＰ，Ａ) 特開 昭48−5256（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−122480（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−68097（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−63503（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−210004（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−34182（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−47104（ＪＰ，Ａ) 特開 昭52−135844（ＪＰ，Ａ) 特開 昭50−56744（ＪＰ，Ａ) 特公 平７−22650（ＪＰ，Ｂ２) 特公 昭56−15792（ＪＰ，Ｂ２) 特許2610552（ＪＰ，Ｂ２) 特許2539284（ＪＰ，Ｂ２) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B08B 3/00 - 3/12 C23G 5/00 - 5/04 B01D 17/06 C01F 1/46
Claims (5)
- 【請求項１】 電子部品又は精密部品類を洗浄剤で洗浄
する洗浄方法において、以下の活性成分と性質を有する
洗浄剤の水希釈液を用いて２０〜１００℃の温度で相分
離しない状態にて洗浄する工程、および洗浄後の洗浄液
を２０℃以上に保温しながら洗浄液中の有機物を分離す
る工程を有することを特徴とする電子部品又は精密部品
類の洗浄方法。 活性成分：非イオン性界面活性剤単独、または非イオ
ン性界面活性剤に加えて炭素数６〜３０の直鎖又は分岐
鎖の飽和又は不飽和の炭化水素化合物、炭素数６〜４０
のアルキルエステル類、及び炭素数６〜４０のアルキル
ケトン類からなる群より選ばれる１種以上の化合物との
併用 性質：該洗浄剤を水で希釈又は水を蒸発させて活性成
分の含有割合を１０重量％にした水溶液を２０〜１００
℃の温度で３０分間静置した際に、含有している活性成
分の３０重量％以上が水相から分離するという性質 - 【請求項２】 洗浄剤中の無機塩類が０．１％以下であ
ることを特徴とする請求項１記載の洗浄方法。 - 【請求項３】 洗浄後の洗浄液から有機物を分離除去し
た残りの水相を、洗浄剤の希釈用に再利用する事を特徴
とする請求項１又は２記載の洗浄方法。 - 【請求項４】 洗浄後の洗浄液から分離除去される全有
機物排出量を検出し、洗浄液の洗浄性を少なくとも保持
するのに必要な該全有機物中の活性成分比率に相当する
量の活性成分を洗浄液に補給して分離処理後の水相を循
環使用することを特徴とする請求項３記載の洗浄方法。 - 【請求項５】 油脂、機械油、切削油、グリース、ワッ
クス、液晶、フラックスの付着した電子部品又は精密部
品類を洗浄することを特徴とする請求項１〜４のいずれ
かに記載の洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35093393A JP2816805B2 (ja) | 1993-12-29 | 1993-12-29 | 洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35093393A JP2816805B2 (ja) | 1993-12-29 | 1993-12-29 | 洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07195044A JPH07195044A (ja) | 1995-08-01 |
| JP2816805B2 true JP2816805B2 (ja) | 1998-10-27 |
Family
ID=18413902
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35093393A Expired - Fee Related JP2816805B2 (ja) | 1993-12-29 | 1993-12-29 | 洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2816805B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3523955B2 (ja) * | 1996-02-13 | 2004-04-26 | ライオン株式会社 | 洗浄剤組成物及びそれを用いた洗浄方法 |
| JP3361939B2 (ja) * | 1996-09-30 | 2003-01-07 | トヨタ自動車株式会社 | 水溶性洗浄剤 |
| JP5221050B2 (ja) * | 2007-03-02 | 2013-06-26 | 花王株式会社 | 硬質表面の洗浄方法 |
| JP5725721B2 (ja) * | 2010-02-22 | 2015-05-27 | 花王株式会社 | 液体洗浄剤組成物 |
| JP6202678B2 (ja) * | 2014-02-03 | 2017-09-27 | 花王株式会社 | 半田フラックス残渣除去用洗浄剤組成物 |
| JP6226144B2 (ja) * | 2014-02-27 | 2017-11-08 | 荒川化学工業株式会社 | 洗浄剤組成物原液、洗浄剤組成物および洗浄方法 |
| JP6345512B2 (ja) * | 2014-06-30 | 2018-06-20 | 花王株式会社 | 半田フラックス残渣除去用洗浄剤組成物 |
| GB2569115B (en) * | 2017-12-05 | 2020-01-08 | Safe Solvents Europe Ltd | Parts-washing method |
-
1993
- 1993-12-29 JP JP35093393A patent/JP2816805B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07195044A (ja) | 1995-08-01 |
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