JP2662348B2 - 光学部品用洗浄剤組成物 - Google Patents
光学部品用洗浄剤組成物Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、洗浄剤組成物、詳しく
は、ガラス及びレンズ等の光学部品の製造工程におい
て、該光学部品の研磨面に存在する汚れ、あるいはその
製造工程に用いられる治工具類に付着した汚れ、例えば
指紋・研削油・ガラス固定用ピッチ・接着剤・保護膜・
研磨剤・塵あい等の汚れ物質の除去に用いられるすすぎ
性に優れた洗浄剤組成物に関する。
は、ガラス及びレンズ等の光学部品の製造工程におい
て、該光学部品の研磨面に存在する汚れ、あるいはその
製造工程に用いられる治工具類に付着した汚れ、例えば
指紋・研削油・ガラス固定用ピッチ・接着剤・保護膜・
研磨剤・塵あい等の汚れ物質の除去に用いられるすすぎ
性に優れた洗浄剤組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種の洗浄剤としては、フッ素
系溶剤を主成分とするフッ素系洗浄剤や、トリクロルエ
チレン、パークロルエチレン、トリクロルエタン、エチ
レンクロライド等の塩素系溶剤を主成分とする塩素系洗
浄剤が用いられている。
系溶剤を主成分とするフッ素系洗浄剤や、トリクロルエ
チレン、パークロルエチレン、トリクロルエタン、エチ
レンクロライド等の塩素系溶剤を主成分とする塩素系洗
浄剤が用いられている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、フッ素
系及び塩素系溶剤を用いる洗浄剤は、安全性、毒性、環
境汚染等に大きな問題を有している。また、光学部品用
洗浄剤においては、洗浄後、被洗浄物表面に洗浄剤が残
留すると次工程のコーティング等に悪影響を与えること
があるため、洗浄後のすすぎ性が問題となっている。
系及び塩素系溶剤を用いる洗浄剤は、安全性、毒性、環
境汚染等に大きな問題を有している。また、光学部品用
洗浄剤においては、洗浄後、被洗浄物表面に洗浄剤が残
留すると次工程のコーティング等に悪影響を与えること
があるため、洗浄後のすすぎ性が問題となっている。
【０００４】従って、本発明の目的は、ガラス及びレン
ズ等の光学部品の製造工程において、該光学部品の研磨
面に存在する汚れ、あるいはその製造工程に用いられる
治工具類に付着した汚れ、例えば指紋・研削油・ガラス
固定用ピッチ・接着剤・保護膜・研磨剤・塵あい等の汚
れ物質を除去するための洗浄剤組成物として、すすぎ性
に優れ、且つ環境汚染の惧れがなく、しかも安全性の高
い洗浄剤組成物を提供することにある。
ズ等の光学部品の製造工程において、該光学部品の研磨
面に存在する汚れ、あるいはその製造工程に用いられる
治工具類に付着した汚れ、例えば指紋・研削油・ガラス
固定用ピッチ・接着剤・保護膜・研磨剤・塵あい等の汚
れ物質を除去するための洗浄剤組成物として、すすぎ性
に優れ、且つ環境汚染の惧れがなく、しかも安全性の高
い洗浄剤組成物を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意研究
を行った結果、２種類の特定化合物を特定の比率で組合
わせて配合し、且つ特定の界面活性剤を配合した洗浄剤
組成物が、上記目的を達成するものであることを知見し
た。
を行った結果、２種類の特定化合物を特定の比率で組合
わせて配合し、且つ特定の界面活性剤を配合した洗浄剤
組成物が、上記目的を達成するものであることを知見し
た。
【０００６】本発明は、上記知見に基づきなされたもの
で、（Ａ）下記〔化３〕（〔化１〕と同じ）で表される
化合物、（Ｂ）下記〔化４〕（〔化２〕と同じ）で表さ
れる化合物及び（Ｃ）非イオン性界面活性剤０．５〜３
５重量％を含有し、上記（Ａ）成分と上記（Ｂ）成分と
の配合比率（重量比）が（Ａ）成分／（Ｂ）成分＝９０
／１０〜５／９５であることを特徴とする光学部品ある
いはその製造工程に用いられる治工具類用の洗浄剤組成
物を提供するものである。
で、（Ａ）下記〔化３〕（〔化１〕と同じ）で表される
化合物、（Ｂ）下記〔化４〕（〔化２〕と同じ）で表さ
れる化合物及び（Ｃ）非イオン性界面活性剤０．５〜３
５重量％を含有し、上記（Ａ）成分と上記（Ｂ）成分と
の配合比率（重量比）が（Ａ）成分／（Ｂ）成分＝９０
／１０〜５／９５であることを特徴とする光学部品ある
いはその製造工程に用いられる治工具類用の洗浄剤組成
物を提供するものである。
【０００７】
【化３】
【０００８】
【化４】
【０００９】以下、本発明の洗浄剤組成物について詳述
する。本発明の（Ａ）成分としては、例えば、次のよう
な化合物が挙げられる。
する。本発明の（Ａ）成分としては、例えば、次のよう
な化合物が挙げられる。
【００１０】上記〔化３〕中のＸが下記〔化５〕である
化合物としては、アルキルベンゼン、例えば、エチルベ
ンゼン、クメン、ｐ−シメン等；オレフィン、例えば、
オクテン、ドデセン、テトラセン、テトラプロピレン、
テトライソブチレン等；オレフィンの重合体；シクロヘ
キセン環を有する化合物、例えば、リモネン、ピネン等
が挙げられる。
化合物としては、アルキルベンゼン、例えば、エチルベ
ンゼン、クメン、ｐ−シメン等；オレフィン、例えば、
オクテン、ドデセン、テトラセン、テトラプロピレン、
テトライソブチレン等；オレフィンの重合体；シクロヘ
キセン環を有する化合物、例えば、リモネン、ピネン等
が挙げられる。
【００１１】
【化５】
【００１２】また、上記〔化３〕中のＸが−ＣＯＯ−で
ある化合物としては、ヤシ脂肪酸メチル、ミリスチン酸
イソプロピル、ステアリル酸２−エチルヘキシル、ラウ
リン酸メチル、オレイン酸メチル、オレイン酸イソブチ
ル等が挙げられ、更には、アクリル酸ブチルやアクリル
酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸ベンジル等も挙げ
られる。
ある化合物としては、ヤシ脂肪酸メチル、ミリスチン酸
イソプロピル、ステアリル酸２−エチルヘキシル、ラウ
リン酸メチル、オレイン酸メチル、オレイン酸イソブチ
ル等が挙げられ、更には、アクリル酸ブチルやアクリル
酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸ベンジル等も挙げ
られる。
【００１３】また、上記〔化３〕中のＸが−ＣＯ−であ
る化合物としては、例えば、ジイソブチルケトン、２，
６，８，トリメチル４−ノナンや、イソホロン等が挙げ
られ、また、上記〔化３〕中のＸが−Ｏ−である化合物
としては、例えば、ジヘキシルエーテルやジベンジルエ
ーテル等が挙げられる。
る化合物としては、例えば、ジイソブチルケトン、２，
６，８，トリメチル４−ノナンや、イソホロン等が挙げ
られ、また、上記〔化３〕中のＸが−Ｏ−である化合物
としては、例えば、ジヘキシルエーテルやジベンジルエ
ーテル等が挙げられる。
【００１４】また、上記〔化３〕中のＸが下記〔化６〕
である化合物としては、例えば、ジメチルラウリルアミ
ン、ジメチルミリスチルアミン、ジラウリルモノメチル
アミン、トリオクチルアミン等が挙げられ、また、上記
〔化３〕中のＸが下記〔化７〕である化合物としては、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアニリド等が挙げられる。
である化合物としては、例えば、ジメチルラウリルアミ
ン、ジメチルミリスチルアミン、ジラウリルモノメチル
アミン、トリオクチルアミン等が挙げられ、また、上記
〔化３〕中のＸが下記〔化７〕である化合物としては、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアニリド等が挙げられる。
【００１５】
【化６】
【００１６】
【化７】
【００１７】これらの化合物中、特に好ましいものは、
上記〔化３〕中のＸが上記〔化５〕である、炭化水素の
不飽和結合を有するアルキルベンゼン、オレフィン、シ
クロヘキセン環を有する化合物である。また、上記〔化
３〕中のＸが−ＣＯＯ−である、ラウリン酸メチル、オ
レイン酸メチル等の化合物も特に好ましい。
上記〔化３〕中のＸが上記〔化５〕である、炭化水素の
不飽和結合を有するアルキルベンゼン、オレフィン、シ
クロヘキセン環を有する化合物である。また、上記〔化
３〕中のＸが−ＣＯＯ−である、ラウリン酸メチル、オ
レイン酸メチル等の化合物も特に好ましい。
【００１８】上記（Ａ）成分は、２０℃の粘度が好まし
くは０．５〜１０cp、さらに好ましくは０．５〜８cp、
特に好ましくは０．５〜５cpである。２０℃の粘度が
０．５cp未満であると、洗浄剤組成物の引火性が高く、
洗浄時の安全性が問題となる場合がある。また、１０cp
超であると、狭い隙間部分の汚れ物質に対して洗浄性が
充分でなくなる場合がある。
くは０．５〜１０cp、さらに好ましくは０．５〜８cp、
特に好ましくは０．５〜５cpである。２０℃の粘度が
０．５cp未満であると、洗浄剤組成物の引火性が高く、
洗浄時の安全性が問題となる場合がある。また、１０cp
超であると、狭い隙間部分の汚れ物質に対して洗浄性が
充分でなくなる場合がある。
【００１９】また、上記（Ａ）成分は単独使用又は二種
以上併用され、その配合量は、洗浄剤組成物中に５〜８
０重量％が好ましい。
以上併用され、その配合量は、洗浄剤組成物中に５〜８
０重量％が好ましい。
【００２０】本発明の（Ａ）成分は、一般に良く知られ
た工業用薬品であり、市販品を用いても良い。
た工業用薬品であり、市販品を用いても良い。
【００２１】また、本発明の（Ｂ）成分は、炭素数１〜
８のアルコール、脂肪酸又はアミンに、苛性アルカリの
ような触媒の存在下、加熱しながら炭素数２〜４のアル
キレンオキシド（エチレンオキシド、プロピレンオキシ
ド、ブチレンオキシド等）を液状又は気体状で加えて反
応させることにより得られる。２種以上のアルキレンオ
キシドを混合して反応させるランダム付加重合、又はア
ルキレンオキシドを順次付加させるブロック付加重合を
行ってもよい。このようにして得られるポリアルキレン
エーテルは、精製して未反応物や触媒を除去して（Ｂ）
成分として使用される。また、該ポリアルキレンエーテ
ルの末端の水酸基をアルキルクロライド等によりメチル
化、エチル化又はブチル化した化合物も本発明の（Ｂ）
成分に含まれる。
８のアルコール、脂肪酸又はアミンに、苛性アルカリの
ような触媒の存在下、加熱しながら炭素数２〜４のアル
キレンオキシド（エチレンオキシド、プロピレンオキシ
ド、ブチレンオキシド等）を液状又は気体状で加えて反
応させることにより得られる。２種以上のアルキレンオ
キシドを混合して反応させるランダム付加重合、又はア
ルキレンオキシドを順次付加させるブロック付加重合を
行ってもよい。このようにして得られるポリアルキレン
エーテルは、精製して未反応物や触媒を除去して（Ｂ）
成分として使用される。また、該ポリアルキレンエーテ
ルの末端の水酸基をアルキルクロライド等によりメチル
化、エチル化又はブチル化した化合物も本発明の（Ｂ）
成分に含まれる。
【００２２】また、本発明の（Ｂ）成分の製造に用いら
れる上記炭素数１〜８のアルコールとしては、例えば、
メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ブタノー
ル、ヘキサノール、オクタノール、２−エチルヘキサノ
ール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール等が挙
げられる。また、上記炭素数１〜８の脂肪酸及びアミン
としては、これらアルコールに対応するものが挙げられ
る。
れる上記炭素数１〜８のアルコールとしては、例えば、
メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ブタノー
ル、ヘキサノール、オクタノール、２−エチルヘキサノ
ール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール等が挙
げられる。また、上記炭素数１〜８の脂肪酸及びアミン
としては、これらアルコールに対応するものが挙げられ
る。
【００２３】上記（Ｂ）成分の化合物のうちで特に好ま
しいものは、ジエチレングリコールモノブチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエ
チレングリコールモノ２−エチルヘキシルエーテル、ジ
プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレ
ングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコ
ールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチル
エーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル等
のグリコールエーテル類である。
しいものは、ジエチレングリコールモノブチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエ
チレングリコールモノ２−エチルヘキシルエーテル、ジ
プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレ
ングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコ
ールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチル
エーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル等
のグリコールエーテル類である。
【００２４】上記（Ｂ）成分を配合することにより、組
成物の粘度が低減し、洗浄性が向上し、また親水性が良
好となり、リンスが容易になる。
成物の粘度が低減し、洗浄性が向上し、また親水性が良
好となり、リンスが容易になる。
【００２５】また、上記（Ｂ）成分は、上記〔化４〕中
のｍあるいはｎが２０を超えると、粘度が上昇し、洗浄
液からリンス槽への持ち出し量が多くなり好ましくな
い。ｍあるいはｎは１〜５が好ましい。また、上記〔化
４〕中のＲの炭素数が８を超えると、粘度が高くなり、
また洗浄力及び水リンス性が低下する。Ｒの炭素数は１
〜６が好ましい。
のｍあるいはｎが２０を超えると、粘度が上昇し、洗浄
液からリンス槽への持ち出し量が多くなり好ましくな
い。ｍあるいはｎは１〜５が好ましい。また、上記〔化
４〕中のＲの炭素数が８を超えると、粘度が高くなり、
また洗浄力及び水リンス性が低下する。Ｒの炭素数は１
〜６が好ましい。
【００２６】また、上記（Ｂ）成分は単独使用又は二種
以上併用され、その配合量は、洗浄剤組成物中に１０〜
９０重量％が好ましい。
以上併用され、その配合量は、洗浄剤組成物中に１０〜
９０重量％が好ましい。
【００２７】上記の（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を含有す
る本発明の洗浄剤組成物は、その粘度が４０℃で好まし
くは０．５〜２０cp、さらに好ましくは１〜１５cpであ
る。上記粘度が０．５cp未満であると、洗浄剤組成物の
引火性が高く、洗浄時の安全性が問題となる場合があ
る。また、２０cp超であると、狭い隙間部分の汚れ物質
に対して洗浄性が劣る場合がある。尚、本発明でいう粘
度とはＪＩＳ−Ｋ２２８３に準じて測定を行ったもので
ある。
る本発明の洗浄剤組成物は、その粘度が４０℃で好まし
くは０．５〜２０cp、さらに好ましくは１〜１５cpであ
る。上記粘度が０．５cp未満であると、洗浄剤組成物の
引火性が高く、洗浄時の安全性が問題となる場合があ
る。また、２０cp超であると、狭い隙間部分の汚れ物質
に対して洗浄性が劣る場合がある。尚、本発明でいう粘
度とはＪＩＳ−Ｋ２２８３に準じて測定を行ったもので
ある。
【００２８】また、本発明の洗浄剤組成物は、上記
（Ａ）成分と上記（Ｂ）成分との配合比率（重量比）が
（Ａ）成分／（Ｂ）成分＝９０／１０〜５／９５、好ま
しくは７０／３０〜５／９５である。配合比率が上記範
囲外であると、水リンス性あるいは洗浄性のいずれかが
損なわれる。
（Ａ）成分と上記（Ｂ）成分との配合比率（重量比）が
（Ａ）成分／（Ｂ）成分＝９０／１０〜５／９５、好ま
しくは７０／３０〜５／９５である。配合比率が上記範
囲外であると、水リンス性あるいは洗浄性のいずれかが
損なわれる。
【００２９】上記の（Ａ）成分及び（Ｂ）成分からなる
混合物は、有機系の汚れ物質に対する溶解性に優れてい
るが、（Ａ）成分が多くなると水に対する溶解性が低く
なるため、水によるリンス時にリンス不良を生じること
がある。また、上記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分からなる
混合物は、水を含む場合、水に対する溶解性が低いこと
により、製品安定性が不良となることがある。このよう
な問題を改善すべく、本発明の（Ｃ）成分である非イオ
ン性界面活性剤が配合される。
混合物は、有機系の汚れ物質に対する溶解性に優れてい
るが、（Ａ）成分が多くなると水に対する溶解性が低く
なるため、水によるリンス時にリンス不良を生じること
がある。また、上記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分からなる
混合物は、水を含む場合、水に対する溶解性が低いこと
により、製品安定性が不良となることがある。このよう
な問題を改善すべく、本発明の（Ｃ）成分である非イオ
ン性界面活性剤が配合される。
【００３０】上記非イオン性界面活性剤としては、ポリ
オキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキ
レンアルキルフェノールエーテル、ポリオキシアルキレ
ンアルキル脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンアリ
ルフェノールエーテル、ポリオキシアルキレンソルビタ
ン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンアルキルアミ
ン、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレン
等が好ましく用いられ、これらの中でも平均ＨＬＢ４〜
１５のものが特に優れた効果を発現する。ここで、ポリ
オキシアルキレンとは、エチレンオキサイド、プロピレ
ンオキサイド又はブチレンオキサイドのいずれか一種あ
るいはこれらの混合物の重合体のことをいう。尚、本発
明でいうＨＬＢとはグリフィンのＨＬＢ理論に基づいて
算定したものである。
オキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキ
レンアルキルフェノールエーテル、ポリオキシアルキレ
ンアルキル脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンアリ
ルフェノールエーテル、ポリオキシアルキレンソルビタ
ン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンアルキルアミ
ン、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレン
等が好ましく用いられ、これらの中でも平均ＨＬＢ４〜
１５のものが特に優れた効果を発現する。ここで、ポリ
オキシアルキレンとは、エチレンオキサイド、プロピレ
ンオキサイド又はブチレンオキサイドのいずれか一種あ
るいはこれらの混合物の重合体のことをいう。尚、本発
明でいうＨＬＢとはグリフィンのＨＬＢ理論に基づいて
算定したものである。
【００３１】上記非イオン性界面活性剤の配合量は、洗
浄剤組成物に対して０．５〜３５％（重量％、以下同
じ）、好ましくは３〜３０％である。配合量が０．５％
未満であると、配合効果が認められず、また３５％超で
あると、組成物の粘度が高くなる。
浄剤組成物に対して０．５〜３５％（重量％、以下同
じ）、好ましくは３〜３０％である。配合量が０．５％
未満であると、配合効果が認められず、また３５％超で
あると、組成物の粘度が高くなる。
【００３２】本発明の洗浄剤組成物には、安全性及び作
業性等の観点から適宜水を含有させることができる。水
の配合量は、洗浄剤組成物中に５〜５０％が好ましい。
配合量が５％未満であると、洗浄剤組成物の引火性が高
く、洗浄時の安全性が問題となる場合があり、また５０
％超であると、洗浄性が十分でなくなる場合がある。
業性等の観点から適宜水を含有させることができる。水
の配合量は、洗浄剤組成物中に５〜５０％が好ましい。
配合量が５％未満であると、洗浄剤組成物の引火性が高
く、洗浄時の安全性が問題となる場合があり、また５０
％超であると、洗浄性が十分でなくなる場合がある。
【００３３】また、本発明の洗浄剤組成物には、その効
果を損なわない範囲で必要に応じて、他の界面活性剤、
シリコン等の消泡剤、アルカノールアミン等の防錆剤等
を配合してもよい。
果を損なわない範囲で必要に応じて、他の界面活性剤、
シリコン等の消泡剤、アルカノールアミン等の防錆剤等
を配合してもよい。
【００３４】本発明の洗浄剤組成物は、上記の（Ａ）成
分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分等の配合成分を常法によ
り混合して製造することができる。
分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分等の配合成分を常法によ
り混合して製造することができる。
【００３５】本発明の洗浄剤組成物を用いて洗浄を行う
方法は特に限定されないが、例えば本発明の洗浄剤組成
物を用いて超音波洗浄又は浸漬洗浄し、最後に溶剤又は
温水でリンスする等の方法を連続的に行う方法が、効率
良い洗浄法として挙げられる。また、振動法、スプレー
法等の各種の洗浄方法によってもよい。
方法は特に限定されないが、例えば本発明の洗浄剤組成
物を用いて超音波洗浄又は浸漬洗浄し、最後に溶剤又は
温水でリンスする等の方法を連続的に行う方法が、効率
良い洗浄法として挙げられる。また、振動法、スプレー
法等の各種の洗浄方法によってもよい。
【００３６】
【作用】本発明の洗浄剤組成物は、ガラス及びレンズ等
の光学部品の製造工程において、該光学部品の研磨面に
存在する汚れ、あるいはその製造工程に用いられる治工
具類に付着した汚れを洗浄するのに用いられ、その際、
（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分の作用により被
洗浄物表面に存在する汚れ物質を除去する。また、洗浄
後、被洗浄物表面に残留する本発明の洗浄剤組成物は、
被洗浄物を水等でリンスすることにより流失する。
の光学部品の製造工程において、該光学部品の研磨面に
存在する汚れ、あるいはその製造工程に用いられる治工
具類に付着した汚れを洗浄するのに用いられ、その際、
（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分の作用により被
洗浄物表面に存在する汚れ物質を除去する。また、洗浄
後、被洗浄物表面に残留する本発明の洗浄剤組成物は、
被洗浄物を水等でリンスすることにより流失する。
【００３７】
【実施例】以下、実施例及び比較例を挙げて本発明を更
に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定さ
れるものではない。
に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定さ
れるものではない。
【００３８】実施例１〜８及び比較例１〜９ 下記の〔表１〕及び〔表２〕に示す組成の洗浄剤組成物
をそれぞれ調製し、各洗浄剤組成物について、汚れ物質
の除去性（洗浄力）、リンス性（すすぎ性）及び製品安
定性を次のようにして評価した。その結果を下記の〔表
１〕及び〔表２〕に示す。
をそれぞれ調製し、各洗浄剤組成物について、汚れ物質
の除去性（洗浄力）、リンス性（すすぎ性）及び製品安
定性を次のようにして評価した。その結果を下記の〔表
１〕及び〔表２〕に示す。
【００３９】（汚れ物質の除去性及びリンス性の評価方
法）各洗浄剤組成物に、研削油やピッチが塗布された直
径４０mm、厚さ７mmの球面レンズをそれぞれ５枚ずつ浸
漬し、６０℃で３分間超音波をあてながら洗浄を行い、
その際の汚れ物質の除去性を目視にて評価した。次い
で、洗浄剤組成物で洗浄した上記の球面レンズを２０℃
のイオン交換水でリンス処理を行い、リンス性の良し悪
しを目視にて評価した。汚れ物質の除去性及びリンス性
の評価基準は次の通りである。
法）各洗浄剤組成物に、研削油やピッチが塗布された直
径４０mm、厚さ７mmの球面レンズをそれぞれ５枚ずつ浸
漬し、６０℃で３分間超音波をあてながら洗浄を行い、
その際の汚れ物質の除去性を目視にて評価した。次い
で、洗浄剤組成物で洗浄した上記の球面レンズを２０℃
のイオン交換水でリンス処理を行い、リンス性の良し悪
しを目視にて評価した。汚れ物質の除去性及びリンス性
の評価基準は次の通りである。
【００４０】汚れ物質の除去性の評価基準 ◎；汚れ物質（研削油又はピッチ）の残着がなく、非常
に良好。 ○；汚れ物質の残着がほとんどなく、良好。 △；汚れ物質の残着がわずかにあり、やや悪い。 ×；汚れ物質が残着し、悪い。
に良好。 ○；汚れ物質の残着がほとんどなく、良好。 △；汚れ物質の残着がわずかにあり、やや悪い。 ×；汚れ物質が残着し、悪い。
【００４１】リンス性の評価基準 ◎；非常に良好。 ○；良好。 △；やや劣る。 ×；悪い。
【００４２】（製品安定性の評価方法）各洗浄剤組成物
の外観を下記評価基準により室温にて目視にて評価し
た。
の外観を下記評価基準により室温にて目視にて評価し
た。
【００４３】製品安定性の評価基準 ○；均一透明。 △；若干の分離又は濁り。 ×；完全に分離。
【００４４】
【表１】
【００４５】
【表２】
【００４６】
【発明の効果】本発明の洗浄剤組成物は、ガラス及びレ
ンズ等の光学部品あるいはその製造工程に用いられる治
工具類用の洗浄剤組成物として、優れたすすぎ性を有
し、且つフロン等を用いないため環境を汚染せず安全性
の高いものである。また、本発明の洗浄剤組成物は、そ
の粘度を２０ｃｐ（４０℃）以下にコントロールするこ
とにより、洗浄力をさらに高めることもできる。
ンズ等の光学部品あるいはその製造工程に用いられる治
工具類用の洗浄剤組成物として、優れたすすぎ性を有
し、且つフロン等を用いないため環境を汚染せず安全性
の高いものである。また、本発明の洗浄剤組成物は、そ
の粘度を２０ｃｐ（４０℃）以下にコントロールするこ
とにより、洗浄力をさらに高めることもできる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｋ 5/20 Ｃ０８Ｋ 5/20 Ｃ０８Ｌ 71/02 ＬＱＣ Ｃ０８Ｌ 71/02 ＬＱＣ //(Ｃ１１Ｄ 7/60 7:26 7:32）
Claims (2)
- 【請求項１】 （Ａ）下記〔化１〕で表される化合物、
（Ｂ）下記〔化２〕で表される化合物及び（Ｃ）非イオ
ン性界面活性剤０．５〜３５重量％を含有し、上記
（Ａ）成分と上記（Ｂ）成分との配合比率（重量比）が
（Ａ）成分／（Ｂ）成分＝９０／１０〜５／９５である
ことを特徴とする光学部品あるいはその製造工程に用い
られる治工具類用の洗浄剤組成物。 【化１】 【化２】 - 【請求項２】 水を５〜５０重量％含有する請求項１記
載の洗浄剤組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4244832A JP2662348B2 (ja) | 1992-09-14 | 1992-09-14 | 光学部品用洗浄剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4244832A JP2662348B2 (ja) | 1992-09-14 | 1992-09-14 | 光学部品用洗浄剤組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0693295A JPH0693295A (ja) | 1994-04-05 |
| JP2662348B2 true JP2662348B2 (ja) | 1997-10-08 |
Family
ID=17124627
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4244832A Expired - Fee Related JP2662348B2 (ja) | 1992-09-14 | 1992-09-14 | 光学部品用洗浄剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2662348B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2185308C (en) * | 1995-10-05 | 2009-08-11 | Charles J. Good | Ester-based cleaning compositions |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0436395A (ja) * | 1990-05-31 | 1992-02-06 | Nippon Baazu Kk | 洗浄剤組成物 |
| JPH08917B2 (ja) * | 1990-06-27 | 1996-01-10 | 花王株式会社 | 洗浄剤組成物 |
-
1992
- 1992-09-14 JP JP4244832A patent/JP2662348B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0693295A (ja) | 1994-04-05 |
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